JPH09113220A - 微細加工製品の検査ポイントマーキング方法、自動寸法検査方法及び自動寸法検査装置 - Google Patents

微細加工製品の検査ポイントマーキング方法、自動寸法検査方法及び自動寸法検査装置

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JPH09113220A
JPH09113220A JP7268302A JP26830295A JPH09113220A JP H09113220 A JPH09113220 A JP H09113220A JP 7268302 A JP7268302 A JP 7268302A JP 26830295 A JP26830295 A JP 26830295A JP H09113220 A JPH09113220 A JP H09113220A
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章 高倉
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輝明 飯沼
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山地  正高
Satoshi Watanabe
智 渡辺
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    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
    • G01B11/005—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates coordinate measuring machines

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 CADデータを利用し、能率良く、しかも高
精度で微細パターンのポイント計測を行う。 【解決手段】 製品設計寸法パターンのCADデータに
基づいて加工された製品(リードフレーム)の現物パタ
ーンの一部を光学的に撮り込んで寸法検査する際に、該
現物パターンの検査ポイントP2を特定するための検査
ポイントマーカを、例えば、インナリード先端のCAD
データ上に1〜4の点で設定すると共に、設定した検査
ポイントマーカ1〜4で特定される現物パターンの検査
ポイントP2に画像入力手段の視野を一致させ、該現物
パターンの一部を光学的に撮り込む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレーム等
のCADを用いて2次元パターンを設計し、その設計デ
ータに基づいてエッチング加工やプレス加工を行って製
造した製品の微細パターンを寸法計測する際に適用して
好適で、試作品の寸法検査や出荷品の抜き取り寸法検査
等に有効に利用できる、微細加工製品の検査ポイントマ
ーキング方法、自動寸法検査方法及び自動寸法検査装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】CAD(Computer Aided Design )
を用いて設計し、製造する2次元の微細パターンを有す
るものにエッチング製品があり、このエッチング製品と
しては、搭載するIC(集積回路)チップと電気的に接
続するために用いるリードフレームがある。
【0003】図22は、一方の面から見た1チップ分の
リードフレームの一例を示したもので、中心にはチップ
(図示せず)を取り付けるためのダイパッド(アイラン
ド)10が位置し、該ダイパッド10は、外枠12にタ
ブ吊りバー14を介して支持されており、その周囲には
インナリード16が先端をダイパッド10に近接させて
配置されていると共に、該インナリード16に連続する
アウタリード18がダムバー20等を介して上記外枠1
2に支持されている。又、上記インナリード16には、
該リード16の変形を防止するためにプラスチックから
なる固定用テープ22が貼り付けられている。なお、図
中破線はモールドラインである。
【0004】上記リードフレームを例に、エッチング製
品の設計から製品完成までの工程の概略を示すと、図2
3のようになる。
【0005】上記のようにリードフレームのパターン設
計はCADを用いて行われ、まずCAD1の製品パター
ン設計工程で目標とする製品の寸法と同一の(A)製品
寸法CADデータを作成し、次いでCAD2のエッチン
グ補正工程で、実際のエッチング工程でレジストパター
ンの幅より余分に削られてしまうサイドエッチング分の
補正代を、上記(A)製品寸法CADデータに加算して
レジストパターンの原型となる(B)加工寸法CADデ
ータを作成し、次のパターン製造工程でこの加工寸法C
ADデータをレーザプロッタでガラス乾板に描画して
(C)ガラス原版パターンを作成する。この原版パター
ンは、リードフレームの表裏両面についてそれぞれ作成
される。
【0006】その後、上記ガラス原版をマスクとして用
いて、リードフレームの基材である銅板等の金属材料に
コーティングされているレジストを露光(焼付け)し、
現像し、バーニング(硬化)して(D)製版パターン
(レジストパターン)を作成し、次いで露出部分の金属
材料を除去するエッチングを行い、その後付着している
レジストを剥離することにより、最終的にリードフレー
ム、即ち(E)製品パターンが得られる。
【0007】上記リードフレームの製造工程では、
(E)製品パターンは、設計パターンである(A)製品
寸法CADデータと同一になることが望ましい。そのた
めにこの(A)に補正代を加えて設計される(B)加工
寸法CADデータ(これは(C)ガラス原版パターン、
(D)製版パターンと基本的に同一寸法パターンであ
る)と上記(E)との寸法差は大きく、通常数十μmの
差がある。
【0008】同様に微細加工される他のエッチング製品
として、カラーテレビ用のシャドウマスクがあるが、こ
れに比較してリードフレームは形状が不規則である上
に、エッチング終了後に行う後工程が複雑であるという
特徴を有している。
【0009】又、リードフレームの特徴として、チップ
が取り付けられるアイランド10とワイヤボンディング
されるインナリードの先端との間にギャップ(エッチン
グ除去される空間)があり、そこにエッチング液が入り
易いために、インナリードの先端部のエッチングが進み
易く、先細りになり易い反面、ワイヤボンディングのた
めには十分な先端幅の寸法が要求される。
【0010】このように加工が難しいリードフレームを
エッチングする際のマスクとなる(D)の製版パターン
を作成するための(B)加工寸法CADデータは、上述
した如くレジストパターンより余分にサイドエッチング
される寸法を、補正代として(A)の製品寸法CADデ
ータに加算する補正を行って作成される。従来は、上記
エッチング補正に使用する補正代は、経験に基づいて設
定されていた。
【0011】又、実際に作成された製品について、例え
ばインナリード先端部の寸法が、公差(目標値からの許
容範囲)内であることを認証する等のために寸法測定を
行う必要がある。この場合、従来は一部のリードについ
て行う局所的な寸法計測を行うことが多かったが、中に
は全リードについての要望もある。
【0012】リードフレーム等のエッチング製品の微細
パターンの寸法計測には、手動測定であるアナログ方式
の(1)拡大投影機による測定方法、(2)スケール付
光学顕微鏡による測定方法、それに自動測定が可能なデ
ィジタル方式の(3)測定顕微鏡(光学自動寸法測定
機)による測定方法が知られている。
【0013】具体的には、上記(1)は、実際の現物パ
ターンを透過光で拡大投影し、その投影図に定規を当て
て寸法を計測する方法で、上記(2)は、スケールが付
設されている光学顕微鏡と簡単な画像処理を組合せ、パ
ターン像を拡大しながら計測する方法である。又、上記
(3)は、光学顕微鏡とXYステージとが連動し、且つ
撮り込んだ拡大画像を画像処理してディジタル計測を行
う方法で、撮り込み領域を予めティーチングしておくこ
とにより、目標の領域を画像計測できるようになってい
る。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記
(1)、(2)のアナログ計測方式の場合は、測定精度
が悪い上に、オペレータが試料を手作業でセットし、移
動させて視野を目標位置に一致させなければならないた
め、作業効率が悪く、208ピン等の多ピンリードフレ
ームについて全ピン計測を行うとなると1日仕事になっ
てしまう。
【0015】又、前記(3)の光学自動寸法測定機は、
測定したい点を指示してティーチングしてやれば、自動
的に計測できるが、そのためには予め、プログラミング
する必要があり、このプログラミングが非常に難しいた
め、自動測定は十分に機能していないのが現状である。
又、上記検査に加えて、計測データと設計寸法のCAD
図面とを重ね合せる照合を行い、各リードの計測データ
が公差(許容寸法)内に入っているか否かの良否判定を
手作業で行わなければならないため、作業負荷が極めて
大きいという問題もある。
【0016】本発明は、前記従来の問題点を解決するべ
くなされたもので、能率良く、しかも高精度で微細パタ
ーンの寸法計測を行うことができる、微細加工製品の検
査ポイントマーキング方法、それを利用した自動寸法検
査方法及びその方法に使用できる自動寸法検査装置を提
供することを課題とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は、請求項1のよ
うに、製品設計寸法パターンのCADデータに基づいて
加工された製品の現物パターンの一部を光学的に撮り込
んで寸法検査する際に、該現物パターンの検査ポイント
を特定するための検査ポイントマーカを、上記CADデ
ータ上に1以上の点で設定することを特徴とする微細加
工製品の検査ポイントマーキング方法を提供することに
より、前記課題を解決したものである。
【0018】本発明は、又、請求項3のように、製品設
計寸法パターンのCADデータに基づいて加工された製
品の現物パターンの一部を光学的に撮り込んで寸法検査
する際に、該現物パターンの検査ポイントを特定するた
めの検査ポイントマーカを、上記CADデータ上に1以
上の点で設定すると共に、設定した検査ポイントマーカ
で特定される現物パターンの検査ポイントに基づいて、
該現物パターンの一部を光学的に撮り込み、CADデー
タ上に設定された検査ポイントマーカと、画像入力され
た現物パターン上のマーカ対応点とに基づいて寸法検査
すること特徴とする微細加工製品の自動寸法検査方法を
提供することにより、同様に前記課題を解決したもので
ある。
【0019】本発明は、更に、請求項4のように、製品
設計寸法パターンのCADデータに基づいて加工された
製品の現物パターンを画像入力する画像入力手段と、入
力された現物パターンの画像データを上記CADデータ
に重ね合せて照合する現物照合手段と、を備えている微
細加工製品の自動寸法検査装置であって、CADデータ
に規定されている基準点に対応する現物パターンの基準
点を算出する手段と、現物パターンの検査ポイントを特
定するための検査ポイントマーカを、上記CADデータ
上に1以上の点で設定する手段と、上記両基準点を参照
しながら、設定された上記検査ポイントマーカで特定さ
れる現物パターンの検査ポイントを撮り込める位置に、
画像入力手段の視野を移動させるナビゲーション手段
と、ナビゲーション手段により移動させた上記視野を、
検査ポイントを撮り込める位置に固定して現物パターン
を画像入力し、その入力画像を画像処理して現物パター
ンの寸法計測を行う画像計測手段と、を備えた構成とす
ることにより、同様に前記課題を解決したものである。
【0020】即ち、前記請求項1の検査ポイントマーキ
ング方法においては、現物(製品)パターンの一部を光
学的に撮り込んで寸法検査する際に、その現物パターン
の設計データであるCADデータ上に、現物について検
査を希望する検査ポイント(検査箇所)を特定するため
の検査ポイントマーカを設定するようにしたので、該マ
ーカが設定されたCADデータを現物パターンを寸法検
査するために撮り込む際の案内役として使用することが
可能となる。
【0021】従って、このようにCADデータ上に検査
ポイントマーカを設定することにより、このデータをフ
ォーマット変換等の簡単な処理を施すだけで、前記
(3)に示した従来の光学自動寸法測定機等の既存の測
定装置の自動化用のティーチングデータとして利用する
ことが可能となるため、従来のような自動化のための面
倒なプログラミング作業を不要とすることが可能とな
る。
【0022】又、前記請求項3の自動寸法検査方法にお
いては、請求項1の発明の方法で検査ポイントマーカを
設定したCADデータを、現物パターンの検査箇所を光
学的に撮り込む際のナビゲータに利用できるため、希望
する箇所だけを自動的に寸法検査することが可能とな
る。
【0023】更に、前記請求項6の自動寸法検査装置に
おいては、上記請求項3の自動寸法検査方法を確実に実
行することができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態を詳細に説明する。
【0025】図1は、本発明に係る一実施形態のCAD
システム(自動寸法検査装置)の概略構成を示すブロッ
ク図である。
【0026】上記CADシステムは、サンプル(現物)
を装着するサンプル装着装置30と、該装着装置30に
セットされたサンプルを拡大する光学顕微鏡32と、該
顕微鏡32による観察像を受光してカラーのビデオ信号
に変換するCCDカメラ34と、該CCDカメラ34か
らのカラービデオ信号を処理する画像処理装置36と、
該画像処理装置36で処理した画像データをカラー表示
できるTVモニタ38と、通常の作図機能の他に上記画
像処理装置36から入力される画像データからCADデ
ータを生成させるためのラスタ・ベクタ変換機能や、2
以上のCADデータの重ね合せや、それらの相互の位置
移動(シフト)、寸法測定等の機能を有するCAD装置
を構成するエンジニアリングワークステーション(EW
S)40とを備えている。
【0027】又、上記CADシステムでは、サンプル装
着装置30が、サンプル装着部(図示せず)を有する手
動の回転ステージ42と、サンプルを平面方向に移動さ
せるXYステージ44と、サンプルを垂直方向に移動さ
せるZステージ46で構成され、XYステージ44及び
Zステージ46は、ワークステーション40からインタ
フェイスRS232Cを介して指令を受けて作動するX
Yステージコントローラ48及びオートフォーカスコン
トローラ50によりそれぞれ駆動制御されるようになっ
ている。又、上記XYステージ44にはレーザ位置検出
器が取り付けられ、そのXY方向の位置計測が同じくワ
ークステーション40からの指令により作動するレーザ
スケールカウンタ52により行われ、その実測値がワー
クステーション40にフィードバックされ、XYステー
ジコントローラ48によるXYステージ44の位置計測
値の修正が行われるようになっている。
【0028】又、上記オートフォーカスコントローラ5
0には、CCDカメラ34からオートフォーカスに使用
する画像信号が直に入力されるようになっており、顕微
鏡32を介して取り込まれた画像を別に設けてあるオー
トフォーカス用モニタ(図示せず)で直接見ることがで
きるようになっていると共に、該オートフォーカスコン
トローラ50からTVモニタ38にもモノクロ(B/
W)のビデオ信号が入力されるようになっている。
【0029】図2は、上記装着装置30、光学顕微鏡3
2及びCCDカメラ34の外観を示した斜視図であり、
前記図1に示したXYステージ44は、Xステージ44
AとYステージ44Bからなり、それぞれ前記ステージ
コントローラ48に接続されているX駆動モータ54
A、Y駆動モータ54BによりX方向、Y方向に移動可
能になされ、Yステージ44Bの上にはサンプルを装着
する回転ステージ42が取り付けられ、手動で回転でき
るようになっている。
【0030】又、Xステージ44A及びYステージ44
Bの側面には、それぞれ微細回折格子からなるスケール
パターン56A、56Bが付設され、且つ上記X駆動モ
ータ54A、Y駆動モータ54Bで移動された両ステー
ジ44A、44Bの位置をレーザ光をスケールパターン
56A、56Bに照射して検出するためのX位置検出器
58Aと、Y位置検出器58Bとが設置され、これら両
検出器58A、58Bは前記レーザスケールカウンタ5
2に接続されている。
【0031】又、上記Xステージ44Aの下には、前記
Zステージ46が配置され、該Zステージ46はZ駆動
モータ54Cにより垂直方向に進退動可能になってお
り、該Z駆動モータ54Cは前記オートフォーカスコン
トローラ50に接続され、該コントローラ50からの制
御信号に基づいて光学顕微鏡32の対物レンズ32Aと
サンプルとの間の距離を増減して、該顕微鏡32に対す
るオートフォーカスが行われるようになっている。
【0032】又、上記Zステージ46の下には支持台を
兼ねた透過光源ユニット60が配置され、該ユニット6
0には顕微鏡32に対して下から投光する透過光源(図
示せず)が内蔵され、且つその側壁には透過光源スイッ
チ60Aと光量調整ボリューム60Bとが付設されてい
る。
【0033】更に、前記顕微鏡32には落射光源ユニッ
ト62が取り付けられ、該ユニット62には落射光源
(図示せず)が内蔵され、該ユニット62の側壁には落
射光源スイッチ62Aと光量調整ボリューム62Bとが
付設されている。
【0034】従って、サンプルの顕微鏡画像をCCDカ
メラ34で取り込む際には、透過及び落射の少なくとも
一方の光源を使用することが可能になっている。
【0035】次に、図3を用いて前記画像処理装置36
の構成の特徴と処理機能について説明する。なお、この
処理装置36としては、画像入力・処理・2値化の処理
機能を有する、例えば、セイコー電子工業(株)製のS
V−2110(商品名)を利用することができる。
【0036】この画像処理装置36は、CCDカメラ3
4から入力されるR(赤)、G(緑)、B(青)の各信
号を1画面毎に記憶することができる、それぞれ四角形
で囲んで示すR画像、G画像、B画像用の3つのフレー
ムメモリと、Y(輝度)信号を記憶するモノクロのB/
W画像用の1つのフレームメモリと、前記R、G、B信
号を3×3マトリックス演算部で処理して得られるH
(色相)、S(彩度)、V(輝度)のそれぞれの画像デ
ータを記憶するH、S、Vの各画像用の3つのフレーム
メモリと、R信号とB信号を画像算術演算部で処理して
得た両者の差分画像データを記憶するR−B差分画像用
フレームメモリの、合計8個のフレームメモリを備えて
いる。
【0037】このように異なる色信号を採用する理由
は、図4の表に示すように、現物試料(現物パターン)
によって使用されている材料や要求される画像の種類が
異なることがあるため、使用に適した光源の種類や最適
な色信号が異なることにある。
【0038】即ち、原版パターンは、リードフレームの
表用と裏用の2種類あり、いずれもガラス乾板(ガラス
板に不透明なフィルムでパターンが形成されている)で
あるため、白黒の透過像が良好なコントラストで得られ
ることから、B/W画像のフレームメモリが最適プレー
ンである。
【0039】又、製版パターンは、リードフレームの表
面及び裏面に形成されるレジストパターンであるため、
金属材料及びレジストの種類によって異なると共に、落
射光源を使用して反射像を受光する必要がある。
【0040】レジストとしてカゼインを使用している場
合には、現像後の加熱硬化の段階でレジストが赤系統の
色になっているため、材料が銀白色の42アロイでは最
適プレーンとしてB画像のフレームメモリを使用できる
が、銅(Cu)材ではそれ自体が赤系統の色であるた
め、B画像ではその差が明瞭でないため、V画像のフレ
ームメモリが最適のプレーンとなる。
【0041】又、レジストとしてブルー系のドライフィ
ルムを使用する場合は、42アロイではR画像が最適で
あるが、銅材ではR−B差分画像のフレームメモリが最
適プレーンとなる。
【0042】エッチングが終了し、レジスト膜を除去し
た後の製品パターンの場合は、貫通形状の透過像と表裏
両面それぞれの反射像とを受光することができ、透過像
は前述した如く黒白のB/W画像が、反射像の場合はH
(色相)画像が最適プレーンとなる。
【0043】又、製品パターンの中でも、前記図22に
示したようにインナリードにポリイミド樹脂からなる固
定用テープ22(表にはTPと記す)が貼り付けられて
いる場合には、テープは赤系統で透明度が高いため、テ
ープが画像入力されない完全透過像を得るためには、B
/W画像が最適プレーンとなる。但し、後述する2値化
の閾値を適切に設定する必要がある。
【0044】逆に、テープを含めた透過像を撮り込むた
めには、テープに対しても不透過のブルーが好適である
ため、B画像が最適プレーンとなる。
【0045】更に、テープ部分のみを撮り込みたい場合
は、落射光源を用いる反射像に対してH画像が最適プレ
ーンとなる。
【0046】上述した如く、画像として撮り込む対象に
応じて最適な使用プレーンを選択すると、前記8個のフ
レームメモリの中から対応する画像信号が2値化処理部
に入力される。この2値化処理部で入力された画像デー
タについて2値化処理を行う。その際に設定する閾値
は、例えば0から255の階調値の中から任意に設定す
ることができる。
【0047】上記2値化処理部で2値化された画像デー
タに対して、現物パターンの表面の微細な粗さ等が原因
で生じる画像上の黒スポット又は白スポットを除去する
ためのモフォロジー処理を行う。但し、透過像の場合は
このようなスポットは発生しないので行う必要はない。
【0048】除去する対象のスポットが白又は黒のいず
れであるかを設定し、所定のモフォロジー回数を設定し
て、その回数の画像の膨脹・収縮処理を行ってスポット
の除去を行う。
【0049】次いで、上記処理を行って得られた2値画
像は、CAD装置として機能するワークステーション4
0に入力され、ここで該2値画像をラスタ・ベクタ変換
部で処理してCADデータに変換する。このワークステ
ーション40としては、通常のCADソフト(例えばコ
ンピュータビジョン社のCADソフトMedusa (商品
名))と現物照合CADソフト(特願平7−5340で
提案)が稼働する、例えばサンマイクロシステムズ社の
Sparc Station10(商品名)を利用することができ
る。
【0050】上記ラスタ・ベクタ変換部には、一般的な
アウトラインのCADデータに変換する方式と、詳細説
明は省略するが、白又は黒の領域の画像データを台形エ
リアのCADデータに変換する方式とがある。このラス
タ・ベクタ変換部で信号の変換処理を行う場合には、直
線近似の精度を決めるためのRV頂点間引係数を設定す
る。この係数が小さい程アウトラインの場合は、線のギ
ザギザが少なく、台形エリアの場合は抽出される台形を
細かくすることができる。
【0051】又、上記2つの変換方式のいずれかを選定
すると共に、台形エリア変換方式を選定する場合には、
白又は黒のいずれかを選定し、台形エリア処理の対象領
域を決めてやる必要がある。
【0052】又、本実施形態のCADシステムは、前述
した如く、前記図1、図2に示したハード機構からな
る、製品設計寸法パターンのCADデータに基づいて加
工された製品の現物パターンを高精度で画像入力する画
像入力手段と、入力された現物パターンの画像データを
上記CADデータに重ね合せて照合する現物照合手段
と、を備えていると共に、ワークステーション40に
は、現物パターンの検査ポイントを特定するための検査
ポイントマーカを、上記CADデータ上に1以上の点で
設定する手段と、上記両基準点を参照しながら、設定さ
れた上記検査ポイントマーカで特定される現物パターン
の検査ポイントを撮り込める位置に、画像入力手段の視
野を移動させるナビゲーション手段と、ナビゲーション
手段により移動させた上記視野を、検査ポイントを撮り
込める位置に固定して現物パターンを画像入力し、その
入力画像を画像処理して現物パターンの寸法計測を行う
画像計測手段とが構築されている。
【0053】又、本実施形態では、前記ワークステーシ
ョン40に構築されているナビゲーション手段が、画像
入力手段の視野中心を、複数の検査ポイントマーカの重
心に一致させる機能を有していると共に、画像計測手段
が、CADデータ上に設定されている検査ポイントマー
カが有するCAD座標系のマーカ座標を、画像入力手段
の視野中心を基準とした視野座標系に変換する手段と、
視野中心が検査ポイントマーカの重心に一致している状
態で、画像入力した視野内の現物パターンの画像を2値
画像に変換する手段と、変換された2値画像中に存在す
る現物に相当する閉領域の中から、視野中心に最も近い
閉領域を選択する手段と、選択された閉領域の輪郭を抽
出すると共に、視野座標系に変換された前記マーカ座標
に対応する該輪郭上のマーカ対応点を算出する手段と、
視野座標系の上記マーカ対応点の座標を、CAD座標系
に逆変換する手段と、CADデータ上に設定した前記マ
ーカ座標と、CAD座標系に逆変換した上記マーカ対応
点の座標とを対比して寸法計測を実行する手段とを備え
ている。
【0054】又、本実施形態では、上記ナビゲーション
手段が画像入力手段の視野中心を移動させ、該視野中心
を複数の検査ポイントマーカの重心に一致させる際、物
理的移動量の実測値に基づいて、視野座標系に変換する
前記マーカ座標を補正することができるようになってい
る。
【0055】次に、本実施形態の作用を、全体の流れを
大まかに示した図5のフローチャート等を参照しながら
説明する。
【0056】まず、具体的な操作を開始する前に、シス
テムの機能の基本的な設定と調整とを行っておく。特
に、顕微鏡32のレンズやカメラ34を交換したときに
は、カメラ34とXYステージ44の直交調整を行う必
要がある。これはカメラマウント部を手動で回転させて
行う。この直交調整は、図6にモニタ画面を模式的に示
すように、サンプル装着部にある、×印で示す微小なマ
ーク(微小なゴミでもよい)を基準点とし、これがモニ
タ画面から外れない範囲で左右のX方向に水平移動させ
た場合に、モニタ上の基準線(水平線)から上記基準点
がズレなければOKとすることで行うことができる。
【0057】又、画像計測機能を与えるために、1画素
当りの寸法と、画面送りピッチを測定しておく必要があ
る。これは、1画面サイズ(本実施形態では、512×
480画素)に対応するステージ送り値を測定すること
にあたり、具体的には、モニタ38の画面を示した図7
に示すように、×印で示す基準点を、画面上のX方向及
びY方向のいずれにも1/4、3/4の位置にある基準
線上の4ポイントに動かし、そのときのX方向、Y方向
のステージ移動距離を、前記レーザスケールカウンタ5
2によるカウント値を用いることにより高精度に測定す
ることができる。この場合、1画素当りの寸法はXs/
256、Ys/240となり、X方向、Y方向それぞれ
の画面送りピッチは2Xa、2Ysとして計算される。
なお、上記寸法、ピッチの測定には、レーザスケールカ
ウンタを使用せずに、XYステージの駆動モータ(ステ
ップモータ)による送り量(最小単位は、例えば1μ
m)を使用してもよい。
【0058】以上の準備操作が完了していることを前提
に、前記図5のフローチャートに従って以下の処理を実
行する。
【0059】まず、ステップS10で画像処理条件の設
定を行う。ここでは、(1)資料セッティング、直交補
正、(2)アイランド中心測定、(3)AF条件、画像
処理条件設定等の操作を実行し、その結果を設定ファイ
ルXY、SV、AFにそれぞれ格納する。
【0060】次いで、ステップS20で、検査個所のマ
ーキングを行う。ここでは、リードフレームの設計図に
あたる製品設計寸法パターンのCADデータ(以下、単
にCADデータともいう)上で、各検査ポイント毎に4
つの点を検査ポイントマーカとして設定し、その座標を
設定ファイルPNTに格納する。
【0061】その後、ステップS30で自動寸法検査を
行う。ここでは、前記ステップS20で設定したマーカ
から特定される検査ポイントを目標位置としてカメラ視
野をナビゲーションし、その画像を入力しながら、各検
査ポイント毎の寸法検査を自動的に実行し、その結果を
設定ファイルINSに格納すると共に、表やグラフとし
て出力する。
【0062】上記ステップS10〜S30の処理を更に
詳述すると、ステップS10の画像処理条件の設定は、
図8に示したステップS1〜S6のフローチャートに従
って実行される。
【0063】即ち、ステップS1でサンプルのセッティ
ングを行う。具体的には、前記図2に示したように、回
転ステージ42の所定位置にサンプル(リードフレー
ム)を装着し、オペレータがモニタ38に表示されてい
るカメラ34から撮り込まれたサンプルの画像を見なが
ら、上記回転ステージ42を操作して、サンプルの直交
調整を行う。
【0064】上述したXYステージ44との直交調整が
既に終了しているCCDカメラ34により入力されたサ
ンプルの水平エッジを表示したモニタ画面が、図9のよ
うであるとすれば、XYステージ44をX軸方向に大き
く動かした場合でも水平基準線から上記エッジがズレな
いような位置に、回転ステージ42を手動で回転させ、
サンプルとXYステージ44との間の直交調整を行う。
【0065】次いで、ステップS2で、使用光源の選択
と、その光量調整を行う。即ち、スイッチ60A又は6
2Aのいずれかをオンにすることにより、透過光源又は
落射光源を選択する。希望する光源を選択し、オートフ
ォーカス装置のモニタを見て輝度信号が規定範囲に入る
ように60B又は62Bの光量ボリュームにより、光量
の調整を行う。なお、場合によっては上記両光源を同時
に使用することもできる。
【0066】次いで、ステップS3で、実測値に基づい
て更に正確な補正をするために、試料の直交度測定を行
う。ここでは、次に説明するアイランド中心測定と同様
に、水平と思われる2点と、垂直と思われる2点の座標
を測定する。
【0067】図10は、上記各2点の測定点H1、H
2、V1、V2と、各点の画像を撮り込んでいるときの
CCDカメラ34の視野を示し、斜線部分がフレーム
(現物)にあたる。ここでは、水平方向の2点H1、H
2としてフレームのエッジ上の点を、垂直方向の2点V
1、V2として、エッチングを促進するために設けられ
ている縦溝のエッジ上の点を利用している。このステッ
プでは、資料の直交度が、ステップS31で回転ステー
ジ等を操作して既にできる限り合わせてあることが前提
になる。即ち、H1の点で視野の中央付近に見えていた
エッジが、ステージを水平方向に移動させてH2の点に
視野を移したときにも、そのほぼ中央に見え、上下に僅
かに動く程度に抑えておく。補正するとは言え、視野か
ら外れる位に直交がズレているのは好ましくない。
【0068】以上の条件の下で測定された、上記4点の
座標が、 H1(XH1,YH1),H2(XH2,YH2) V1(XV1,YV1),V2(XV2,YV2) であり、次に求めるアイランド中心の座標を、(Xc,
Yc)とすると、図10中にPで表わした点の測定座標
(x,y)は、次の(1)、(2)式で補正された
(x′,y′)として得られる。
【0069】 x′=−{(XV2−XV1)/(YV2−YV1)}×(y−Yc)+x…(1) y′=−{(YH2−YH1)/(XH2−XH1)}×(x−Xc)+y…(2)
【0070】上述したステップS33の直交補正のため
の測定が終わった後、ステップS4でアイランド中心指
定、ステップS5でAF条件設定、ステップS6で画像
処理条件設定をそれぞれ実行する。
【0071】このステップS4からS6までは、例えば
図11〜図13に模式的に示したような、モニタ画面に
表示されるメニュー画面(それぞれ同一画面にウィンド
ウ表示することもできる)でメニューを選択することに
より実行される。
【0072】まず、ステップS4で、本実施形態の装置
が有する原点算出機能を用いて、画像として取り込まれ
たアイランド(ダイパッド)の中心指定(原点算出)を
行う。
【0073】本実施形態では、図14にアイランド10
を拡大して示すと共に、その右側にモニタ画面を示すよ
うに、該アイランド10の上端の点PT 、及び下端の点
PBをそれぞれカメラ入力画面のY軸方向中心に一致さ
せて入力することにより、それぞれのY座標値YT 、Y
B が算出され、左側端の点PL 及び右側端の点PR をそ
れぞれ画面のX方向中心に一致させて入力することによ
り、それぞれX座標値XL 、XR が算出されるようにな
っている。従って、これら4箇所の白黒(黒の部分は斜
線で示した)の境界にあたるエッジ位置の座標値から、
位置合せ原点となるアイランド中心の座標(Xc、Y
c)が次式で算出される。
【0074】 Xc=(XR +XL )/2, Yc=(YT +YB )/2 …(3)
【0075】なお、本実施形態のCADシステムにはエ
ッジ検出機能があり、エッジの自動認識が可能であるた
め、上述のように左右上下の白黒の境界のエッジを、画
面上のX座標、Y座標の中心に一致させなくとも、単に
各エッジ部分を画面内に取り込むだけで、各エッジの座
標値を検出し、自動的に上記式により計算が実行され、
同様の中心指定を行うことができる。このように入力画
像のアイランドの中心を特定することにより、該中心を
CADデータの設計パターンのアイランドの中心に一致
させる位置合せを行うことにより重ね合せ表示を正確に
行うことが可能となる。
【0076】通常1チップ分のリードフレームは、アイ
ランドの中心を原点として、基本的には左右上下対称に
設計されるため、CADデータはアイランド中心を原点
として記述(設計)されているか、原点の座標がデータ
内に明示されているので、前述した方法で算出された原
点を、CAD装置上でCADデータのアイランド中心に
一致させることにより、寸法差が大きい、例えば加工寸
法パターンとエッチングパターンでも、自動的に正確に
位置合せを行うことが可能となる。
【0077】以上のステップS3、S4で指定された画
像上のアイランドの中心と撮り込みエリアに関する情報
は、設定ファイルXYに格納される。
【0078】次いで、ステップS5でオートフォーカス
(AF)の条件設定を行う。ここでは、モードを選択
し、リミット値を設定する。このモードには、平坦なサ
ンプルに適用するZ軸方向に1つの基準点(位置)を決
め、その点から上下にZステージ46を微小移動させな
がら合焦させる2WAY方式と、凹凸の大きい表面に適
用する、合焦点を越える所定の下方位置迄Zステージ4
6を下降させた状態から、該ステージ46を徐々に上昇
させてサンプルをレンズに近付けて合焦させる1WAY
方式と、対物レンズ(本実施形態では5種類)の中から
の使用レンズの選択とがある。
【0079】リミットは、オートフォーカス時にレンズ
とサンプルとの衝突を防止するために設定する接近限界
距離である。なお、ここでは、モードとして凹凸の激し
い製品サンプルでは1WAYを、激しくない場合は2W
AYを選択する、レンズとして分解能1μm/1画素で
取り込むために20倍対物レンズを用い、そのためのフ
ォーカスパラメータ設定ファイルを使用する、リミット
値として原点より2mm、フォーカス作動距離の最大値
をリミットの1/2にする、等の通常デフォルト値を設
定する。このステップで設定した条件は、設定ファイル
AFに格納される。
【0080】AFモードとして2WAY方式を選択する
場合、試料のエッジ部分(平坦部分)が画面に入るよう
にし、オートフォーカスを起動するか、あるいはマニュ
アルでZステージ46を移動するかして、フォーカス原
点(基準点のZ座標値)も設定する。オートフォーカス
は、上述の如くこの位置を基準にZステージ46を上下
微小移動して実行される。
【0081】次のステップS6では、画像処理の条件を
設定する。その内容は、使用する色が異なる前記図3に
示した8種類の画像フレームメモリの中から使用する入
力プレーンの選択と、2値画像を作成する際の2値化閾
値の設定、白又は黒の不要な点を画像データから除くた
めに行うモフォロジー条件である。このステップで設定
した条件は、設定ファイルSVに格納される。
【0082】次いで、ステップS20で実行する検査箇
所(検査ポイント)のマーキングを、図15を用いて説
明する。この図15は、リードフレームの設計CADデ
ータを拡大表示したCAD画面であり、図中P1、P2
は、CADデータ上のインナーリード先端部にある検査
ポイントを示している。
【0083】本実施形態では、インナーリード先端部の
みを検査ポイントとし、その検査ポイントを特定するた
めに1〜4で示した4点の検査ポイントマーカを設定す
る。この作業を必要なピン数だけ行う。
【0084】インナーリードの場合は、点1、2の先端
2点は、CADデータ上の頂点データをそのまま使用で
きる。点3、4は、両者の中心にあるボンディング位置
(BP)を通り、且つ点1、2を通る先端辺に平行な直
線とリードの両エッジとの交点である。ボンディング位
置は、CAD図面上で特定されている既知情報であるた
め、上記点3、4の各点は簡単に求めることができる。
従って、リード先端部の上記4点のマーキングは自動的
に行うことができる。
【0085】次に、上述したマーキングが終了した後に
行うステップS30の自動寸法検査について、検査ポイ
ントが図15に示したP2である場合を例に説明する。
なお、以下の説明では、x,yは、アイランド中心を原
点としたCAD座標系、X,YはXYステージ上のステ
ージ座標系、U,Vはカメラの視野の水平方向と垂直方
向のそれぞれの寸法、u,vはカメラの視野中心を原点
とする視野座標系をそれぞれ表わしている。
【0086】まず、CAD座標系で、検査ポイントマー
カとして設定した前記1〜4の各点の座標(x1 ,
y1 )、(x2 ,y2 )、(x3 ,y3 )、(x4 ,y
4 )から検査ポイントの重心(xG ,yG )を次の
(4)、(5)式で求める。
【0087】 xG =(x1 +x2 +x3 +x4 )/4 …(4) yG =(y1 +y2 +y3 +y4 )/4 …(5)
【0088】次いで、上記重心(xG ,yG )にカメラ
34の視野中心が一致するように、XYステージを移動
させるナビゲーションを実行し、両者が一致した状態で
現物パターンの画像入力を行う。これにより、マーカ1
〜4の全てを画面内に確実に入れることができる。
【0089】図16は、上記重心(xG ,yG )に視野
中心が一致した状態で画像入力した現物パターンであ
り、カメラの視野寸法はU×Vである。このときの視野
中心にあたるステージ移動座標(X,Y)は、アイラン
ド中心座標(Xc,Yc)を用いて、次の(6)式で与
えられる。
【0090】 X=Xc+xG ,Y=Yc+yG …(6)
【0091】次いで、CAD座標系の前記1〜4の各点
のマーカ座標をカメラの視野中心を原点として設定され
る視野座標系に変換する。1〜4の各点の視野座標系の
座標を、(u1 ,v1 )、(u2 ,v2 ),(u3 ,v
3 )、(u4 ,v4 )とする。
【0092】なお、実際の座標変換にあたっては、ステ
ージを移動させたときに誤差が生じている場合には、そ
の補正も同時に行われるようにする。即ち、ステージ移
動後、前記レーザースケールカウンタ52で座標計測
し、直交補正を行った結果、図17に示すように、前記
(6)式に示したステージ上の中心座標(X,Y)が実
際には(X′,Y′)であったとすると、CAD座標系
の上記1の点のマーカ座標(x1 ,y1 )は、視野座標
系には、次の(7)、(8)式で変換することにより、
同時に補正することができる。なお、Mはカメラ34の
水平方向の画素数、Nは垂直方向の画素数で、ここでは
M=512、N=480、V=496mm、V=464
mmである。
【0093】 u1 =(M/U){x1 −xG −(X′−X)}+M/2 …(7) v1 =−(N/V){y1 −yG −(Y′−Y)}+N/2 …(8) (Y軸上下反転) (u2 ,v2 )、(u3 ,v3 )、(u4 ,v4 )の各
座標は、上記(7)、(8)と同様の式により求めるこ
とができる。
【0094】なお、上記(8)式のY軸上下反転は、一
般に、カメラでは画素系で上が原点であるのに、CAD
座標系では下が原点にとってあるため、Y軸方向には−
1倍して反転させていることを表わしている。
【0095】次いで、入力画像を2値画像(図示せず)
に変換し、且つその2値画像の中から視野中心に最も近
い重心を持つ閉領域(現物パターンの非孔部)のみを選
択し、上記図17中に一部が表示されている上方と下方
にある現物パターンを除去し、選択された中央部の閉領
域についてのみ輪郭抽出を実行する。図18は、このよ
うにして抽出された閉領域の輪郭を示したものである。
【0096】なお、上記閉領域の重心は、画像処理装置
36が有する重心計算用プロセッサを用いて、該閉領域
を構成する全ての黒点の平均値として算出される。但
し、輪郭線が求まっていれば、その線上の点の平均とし
て求めてもよい。
【0097】次いで、CADデータ上のマーカに相当す
る視野座標系の1〜4の4点からの距離が最小となる輪
郭上の1′〜4′をマーカ対応点として求め、各座標を
(u 1 ′,v1 ′),(u2 ′,v2 ′)、(u3 ′,
v3 ′),(u4 ′,v4 ′)とする。この計算は、画
像処理により自動的に実行することができる。
【0098】次いで、上記1′〜4′の各マーカ対応点
の座標を、視野座標系からCAD座標系へ逆変換する。
この逆変換は、(u1 ′,v1 ′)を(x1 ′,
y1 ′)に変換する場合であれば、前記(7)、(8)
を変形した式に相当する次の(9)、(10)式で行う
ことができる。他の(u2 ′,v2 ′)〜(u4 ′,v
4 ′)も同様の式で逆変換し、対応する(x2 ′,
y2 ′)〜(x4 ′,y4 ′)の各座標を求めることが
できる。
【0099】 x1 ′=(U/M)(u1 ′−M/2)+xG +X′−X−Xc…(9) y1 ′=(V/N)(N/2−v1 ′)+yG +Y′−Y−Yc…(10)
【0100】図19は、(x1 ′,y1 ′)〜
(x4 ′,y4 ′)の各座標を有する1′〜4′の各マ
ーカ対応点を、(x1 ,y1 )〜(x4 ,y4 )の各座
標を有する1〜4のマーカ座標と共に示した、前記図1
5に相当するCAD画面である。
【0101】このようにCAD座標上で、それぞれ座標
が求められたら、各マーカ1〜4とマーカ対応点1′〜
4′との間の距離L1 〜L4 を算出する。L1 は、次の
(11)式で、又L2 〜L4 も同様の式で算出すること
ができる。
【0102】 L1 ={(x1 ′−x1 )2 +(y1 ′−y1 )2 }1/2 …(11)
【0103】以上のようにL1 〜L4 の算出が終了した
ら、検査ポイントNo2について、次の表1のような測
定データを作成し、これをファイルに出力する。なお、
表中、Z値は、画像入力時に実行したオートフォーカス
で求められる、アイランド中心を基準にしたZ座標値で
ある。
【0104】
【表1】
【0105】予め指定してある他の検査ポイントについ
ても、前述した方法で順次寸法検査を実行し、それぞれ
検査結果を出力する。検査項目としては、以下のものを
挙げることができる。
【0106】(1)ボンディング位置 CAD:{(x3 +x4 )/2,(y3 +y4 )/
2} 現物:{(x3 ′+x4 ′)/2,(y3 ′+y4 ′)
/2} 誤差:(1/2){(x3 +x4 −x3 ′−x4 ′)2
+(y3 +y4 −y3 ′−y4 ′)2 }1/2 (2)先端幅 CAD:{(x3 −x4 )2 +(y3 −y4 )2 }1/2 現物:{(x3 ′−x4 ′)2 +(y3 ′−
y4 ′)2 }1/2 誤差:上記両者の差 (3)先端R {(x1 ′−x1 )2 +(y1 ′−y1 )2 }1/2 {(x2 ′−x2 )2 +(y2 ′−y2 )2 }1/2 (4)先端トップ位置 CAD:{(x1 +x2 )/2,(y1 +y2 )/2} 現物:{(x1 ′+x2 ′)/2,(y1 ′+y2 ′)
/2} 誤差:{(x1 +x2 −x1 ′−x2 ′)2+(y1 +
y2 −y1 ′−y2 ′)2 }1/2 (5)リード先端の浮き アイランド中心を基準としたZ座標
【0107】又、前記(1)ボンディング位置について
は、この誤差を全ピンについて、横軸にピン番号をとっ
た図20のグラフや、ピン番号を360°の放射状にと
って表現した図21のグラフで出力することができる。
このように、全ピンについて実際のボンディング位置の
設計図上の位置からの誤差(ズレ)が表示できるように
する場合には、その誤差が自動ワイヤボンディング可能
許容値以内の位置精度であるか否かを正確に判定でき
る。
【0108】ボンディング位置精度は、従来1ピン毎に
画像処理しながら行っているワイヤボンディング作業の
負荷に影響し、精度が良い場合には画像処理を省略する
ことが可能となるため、自動位置決めによる作業の完全
自動化を行うことが可能となる。従って、全ピンについ
て精度が保証できる場合には、ボンディング作業の能率
を大幅に向上することが可能となる。
【0109】以上詳述した如く、本実施形態において
は、CADと連動して画像処理が行える環境を実現し、
リードフレームの場合はアイランド中心を基準にCAD
データと現物パターンの位置決めを行い、CAD上で検
査ポイントをティーチングして画像入力できるように
し、しかも検査ポイントを選択的に画像処理し、CAD
データとポイント間照合しながら検査データを出力でき
るようにした。
【0110】従って、本実施形態によれば、CADによ
る検査ポイントのティーチングを行うことができると共
に、CADデータと画像入力した検査ポイントとの比較
を行うことができるため、ティーチング作業の効率向上
と、検査結果から製品の良否判定を速やかに行うことが
できる。
【0111】又、画像処理を検査に必要なポイントのみ
に選択的に行うことができることから、エリア指定して
画像入力し、1視野分全体を画像処理する場合に比べ、
大幅に能率向上を図ることができる。
【0112】又、画像処理は視野内の全てのパターン
(閉領域)に対して行うのではなく、検査に必要な領域
のみを選択して行うことから、処理時間を大幅に短縮す
ることができる。
【0113】又、CADデータ上で設定した検査ポイン
トマーカからなるティーチングデータは、例えば既存の
前記光学自動寸法測定器向けにフォーマット変換するこ
とにより、既存機の稼働率を向上することもできる。
【0114】以上、本発明について具体的に説明した
が、本発明は、前記実施形態に示したものに限られるも
のでなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能で
ある。
【0115】例えば、製品としては、リードフレームに
限らず、CADで2次元パターンを設計して製造される
製品であれば、特に制限されない。
【0116】又、マーカ対応点は、検査ポイントマーカ
から最短距離にある輪郭上の点に限らず、マーカを通る
直線が直交する点として求めてもよい。
【0117】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
CADデータ上に設定した検査ポイントマーカを、必要
な検査ポイントを画像入力するためのティーチング情報
として利用することができるため、ポイント計測を能率
良く、正確に、しかも自動的に行うことができる。
【0118】又、CADデータに設定した検査ポイント
マーカと画像入力した対応する検査ポイントの現物パタ
ーンとの比較に基づいて正確に寸法測定が可能であるた
め、設計上の目標値からの正確な誤差情報を元に検査デ
ータを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る一実施形態のCADシステムの概
略構成を示すブロック図
【図2】CADシステムのサンプル装着装置、顕微鏡、
CCDカメラを示す斜示図
【図3】CADシステムの画像処理装置が有するフレー
ムメモリと、処理機能を示すブロック図
【図4】サンプル別の最適入力プレーンを求めて示す図
表
【図5】実施形態の作用全体の流れを示すフローチャー
ト
【図6】カメラとXYステージの直交調整時のモニタ画
面を示す説明図
【図7】画素当りの寸法と画面送りピッチの算出時のモ
ニタ画面を示す説明図
【図8】画像処理条件の設定の処理手順を示すフローチ
ャート
【図9】サンプルとXYステージの直交調整時のモニタ
画面を示す説明図
【図10】試料の直交補正方法を示す説明図
【図11】CADシステムのメニュー画面を例示する説
明図
【図12】CADシステムのメニュー画面を例示する他
の説明図
【図13】CADシステムのメニュー画面を例示する更
に他の説明図
【図14】アイランドの中心指定の方法の一例を示す説
明図
【図15】検査ポイントマーカの設定方法を示す説明図
【図16】検査ポイントを画像入力した状態を示す説明
図
【図17】CAD座標系を視野座標系に変換する方法を
示す説明図
【図18】閉領域の選択と最短距離点の決定方法を示す
説明図
【図19】最短距離点のCAD座標系への逆変換した状
態を示す説明図
【図20】ボンディング位置ズレのグラフ表示例を示す
説明図
【図21】ボンディング位置ズレのグラフ表示例を示す
他の説明図
【図22】リードフレームの一例を示す平面図
【図23】リードフレームの製造過程を概念的に示す説
明図
【符号の説明】
30…サンプル装着装置 32…光学顕微鏡 34…CCDカメラ 36…画像処理装置 38…TVモニタ 40…ワークステーション(EWS) 42…回転ステージ 44…XYステージ 44A…Xステージ 44B…Yステージ 46…Zステージ 48…XYステージコントローラ 50…オートフォーカスコントローラ 52…レーザスケールカウンタ 54A…X駆動モータ 54B…Y駆動モータ 54C…Z駆動モータ 56A、56B…スケールパターン 58A…X位置検出器 58B…Y位置検出器 60…透過光源ユニット 60A…透過光源スイッチ 60B…光量調整ボリューム 62…落射光源ユニット 62A…落射光源スイッチ 62B…光量調整ボリューム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯沼 輝明 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 山地 正高 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 渡辺 智 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】製品設計寸法パターンのCADデータに基
    づいて加工された製品の現物パターンの一部を光学的に
    撮り込んで寸法検査する際に、該現物パターンの検査ポ
    イントを特定するための検査ポイントマーカを、上記C
    ADデータ上に1以上の点で設定することを特徴とする
    微細加工製品の検査ポイントマーキング方法。
  2. 【請求項2】請求項1において、 製品がリードフレームで、検査箇所がインナリード先端
    部である場合、検査ポイントマーカを、CADデータ上
    の先端の2つの頂点と、ボンディング位置を通る、先端
    辺に平行な直線が両エッジと交差する2つの交点との計
    4点で設定することを特徴とする微細加工製品の検査ポ
    イントマーキング方法。
  3. 【請求項3】製品設計寸法パターンのCADデータに基
    づいて加工された製品の現物パターンの一部を光学的に
    撮り込んで寸法検査する際に、該現物パターンの検査ポ
    イントを特定するための検査ポイントマーカを、上記C
    ADデータ上に1以上の点で設定すると共に、設定した
    検査ポイントマーカで特定される現物パターンの検査ポ
    イントに基づいて、該現物パターンの一部を光学的に撮
    り込み、CADデータ上に設定された検査ポイントマー
    カと、画像入力された現物パターン上のマーカ対応点と
    に基づいて寸法検査すること特徴とする微細加工製品の
    自動寸法検査方法。
  4. 【請求項4】製品設計寸法パターンのCADデータに基
    づいて加工された製品の現物パターンを画像入力する画
    像入力手段と、 入力された現物パターンの画像データを上記CADデー
    タに重ね合せて照合する現物照合手段と、を備えている
    微細加工製品の自動寸法検査装置であって、 CADデータに規定されている基準点に対応する現物パ
    ターンの基準点を算出する手段と、 現物パターンの検査ポイントを特定するための検査ポイ
    ントマーカを、上記CADデータ上に1以上の点で設定
    する手段と、 上記両基準点を参照しながら、設定された上記検査ポイ
    ントマーカで特定される現物パターンの検査ポイントを
    撮り込める位置に、画像入力手段の視野を移動させるナ
    ビゲーション手段と、 ナビゲーション手段により移動させた上記視野を、検査
    ポイントを撮り込める位置に固定して現物パターンを画
    像入力し、その入力画像を画像処理して現物パターンの
    寸法計測を行う画像計測手段と、を備えていることを特
    徴とする微細加工製品の自動寸法検査装置。
  5. 【請求項5】請求項4において、 ナビゲーション手段が、画像入力手段の視野中心を、複
    数の検査ポイントマーカの重心に一致させる機能を有し
    ていると共に、 画像計測手段が、 CADデータ上に設定されている検査ポイントマーカが
    有するCAD座標系のマーカ座標を、画像入力手段の視
    野中心を基準とした視野座標系に変換する手段と、 視野中心が検査ポイントマーカの重心に一致している状
    態で、画像入力した視野内の現物パターンの画像を2値
    画像に変換する手段と、 変換された2値画像中に存在する現物に相当する閉領域
    の中から、視野中心に最も近い閉領域を選択する手段
    と、 選択された閉領域の輪郭を抽出すると共に、視野座標系
    に変換された前記マーカ座標に対応する該輪郭上のマー
    カ対応点を算出する手段と、 視野座標系の上記マーカ対応点の座標を、CAD座標系
    に逆変換する手段と、 CADデータ上に設定した前記マーカ座標と、CAD座
    標系に逆変換した上記マーカ対応点の座標とを対比して
    寸法計測を実行する手段と、を備えていることを特徴と
    する微細加工製品の自動寸法検査装置。
  6. 【請求項6】請求項5において、 ナビゲーション手段が画像入力手段の視野中心を移動さ
    せ、該視野中心を複数の検査ポイントマーカの重心に一
    致させる際、物理的移動量の実測値に基づいて、視野座
    標系に変換する前記マーカ座標を補正する手段を備えて
    いることを特徴とする微細加工製品の自動寸法検査装
    置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004509346A (ja) * 2000-09-22 2004-03-25 ベルス・メステヒニーク・ゲーエムベーハー 座標測定装置によって測定対象物の幾何学的形状を測定する方法。
JP2011099864A (ja) * 2010-12-03 2011-05-19 Hitachi High-Technologies Corp パターンマッチング装置およびそれを用いた半導体検査システム
CN110724627A (zh) * 2019-11-15 2020-01-24 长春长光辰英生物科学仪器有限公司 单细胞分选仪的样品菌落定位装置与定位方法
CN114623781B (zh) * 2022-04-28 2024-05-10 农业农村部南京农业机械化研究所 基于图像的绿肥等农作物种子外形尺寸测量方法及测量系统

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