JPH09113707A - 光反射板およびその製造方法 - Google Patents
光反射板およびその製造方法Info
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- JPH09113707A JPH09113707A JP27134795A JP27134795A JPH09113707A JP H09113707 A JPH09113707 A JP H09113707A JP 27134795 A JP27134795 A JP 27134795A JP 27134795 A JP27134795 A JP 27134795A JP H09113707 A JPH09113707 A JP H09113707A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単に製造することができ、光反射性と光拡
散性に優れた光反射板を提供する。 【解決手段】 基板１１が真空室内に配置され、金属ま
たは金属化合物を主成分とする蒸着源から基板１１に対
して真空蒸着が行われ、基板１１上に金属層１２が設け
られる。真空蒸着工程において、真空室内に導入ガスが
導入され、真空度が低下することにより、金属層１２の
表面に微細凹凸１２ａが形成される。
散性に優れた光反射板を提供する。 【解決手段】 基板１１が真空室内に配置され、金属ま
たは金属化合物を主成分とする蒸着源から基板１１に対
して真空蒸着が行われ、基板１１上に金属層１２が設け
られる。真空蒸着工程において、真空室内に導入ガスが
導入され、真空度が低下することにより、金属層１２の
表面に微細凹凸１２ａが形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種ディスプレイ
あるいは証明器具に使われる光反射板およびその製造方
法に係り、とりわけ反射率が高くかつ光の拡散性能を有
する光反射板及びその製造方法に関する。
あるいは証明器具に使われる光反射板およびその製造方
法に係り、とりわけ反射率が高くかつ光の拡散性能を有
する光反射板及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種ディスプレイあるいは照明器具は、
外光あるいは光源の光を拡散反射し視認性を高める為に
光反射板１０を有している（図６乃至図８）。特に反射
型液晶ディスプレイは、外光を利用するため、高反射で
かつ視角を狭めない拡散性を有する光反射板１０を備え
ている。
外光あるいは光源の光を拡散反射し視認性を高める為に
光反射板１０を有している（図６乃至図８）。特に反射
型液晶ディスプレイは、外光を利用するため、高反射で
かつ視角を狭めない拡散性を有する光反射板１０を備え
ている。
【０００３】従来の反射型液晶ディスプレイ用の光反射
板１０は、光拡散性を得るために、図６に示すように表
面をヘアライン加工、サンドブラスト加工、エッチング
加工して荒らした金属製基板１１を有している。また光
反射板１０として図７に示すように、基板１１上にフィ
ラー、ビーズ等の粒状物３１を含有した樹脂層３１をコ
ーティングし、この樹脂層３１上に金属３２を成膜した
ものがある。また光反射板１０として、図８に示すよう
に基板１１上の樹脂層３１表面を賦型し、この樹脂層３
１上に金属３２を成膜したもの等が知られている。
板１０は、光拡散性を得るために、図６に示すように表
面をヘアライン加工、サンドブラスト加工、エッチング
加工して荒らした金属製基板１１を有している。また光
反射板１０として図７に示すように、基板１１上にフィ
ラー、ビーズ等の粒状物３１を含有した樹脂層３１をコ
ーティングし、この樹脂層３１上に金属３２を成膜した
ものがある。また光反射板１０として、図８に示すよう
に基板１１上の樹脂層３１表面を賦型し、この樹脂層３
１上に金属３２を成膜したもの等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来技術
の光反射板１０としては、金属製基板１１の表面を加工
したり（図６参照）、金属３２を真空コーティング法で
成膜したもの（図７および図８参照）のいづれかが使用
されているが、金属製基板１１を加工するものの場合、
反射率が加工方法で異なり均一性に問題がある。また金
属３２を成膜する方法では、金属３２表面の凹凸形状を
他の方法により作製しなくてはならず工程が煩雑にな
る。
の光反射板１０としては、金属製基板１１の表面を加工
したり（図６参照）、金属３２を真空コーティング法で
成膜したもの（図７および図８参照）のいづれかが使用
されているが、金属製基板１１を加工するものの場合、
反射率が加工方法で異なり均一性に問題がある。また金
属３２を成膜する方法では、金属３２表面の凹凸形状を
他の方法により作製しなくてはならず工程が煩雑にな
る。
【０００５】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、煩雑な工程を経ずに均一で良好な拡散反射
性を有する光反射板およびその製造方法を提供する。
ものであり、煩雑な工程を経ずに均一で良好な拡散反射
性を有する光反射板およびその製造方法を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、この基板上に
設けられた金属又は金属化合物層とを備え、前記金属又
は金属化合物層は、その表面に平均粒子径０．１〜１．
０μｍの粒子が連続して粒塊となって形成された微細凹
凸を有することを特徴とする光反射板基板と、および基
板を真空室内に配置する工程と、金属または金属化合物
を主成分とする蒸着源から基板に対して真空蒸着して基
板上に金属層を設ける工程とを備え、真空蒸着工程にお
いて、真空室内に導入ガスを導入して真空室内の真空度
を調整したことを特徴とする光反射板の製造方法であ
る。
設けられた金属又は金属化合物層とを備え、前記金属又
は金属化合物層は、その表面に平均粒子径０．１〜１．
０μｍの粒子が連続して粒塊となって形成された微細凹
凸を有することを特徴とする光反射板基板と、および基
板を真空室内に配置する工程と、金属または金属化合物
を主成分とする蒸着源から基板に対して真空蒸着して基
板上に金属層を設ける工程とを備え、真空蒸着工程にお
いて、真空室内に導入ガスを導入して真空室内の真空度
を調整したことを特徴とする光反射板の製造方法であ
る。
【０００７】本発明によれば、光反射性と光拡散性に優
れた光反射板を煩雑な工程によらずに得ることができ
る。
れた光反射板を煩雑な工程によらずに得ることができ
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１乃至図５および図９は
本発明の実施の形態を示す図である。
施の形態について説明する。図１乃至図５および図９は
本発明の実施の形態を示す図である。
【０００９】図１は、本発明による光反射板の基本的な
層構成を示している。図１に示すように、光反射板１０
は基板１１と、この基板１１上に真空蒸着により設けら
れた金属層１２とを備えている。このうち基板１１はガ
ラス、高分子フィルム等からなるが、真空コーティング
法あるいはメッキ等の湿式コーティング法に使用可能な
基板であれば特に限定されるものではない。また基板１
１の表面に、密着が良好となるような表面処理を行って
も良い。金属層１２は、金属あるいは金属化合物からな
る反射層となっており、その表面に金属層１２の粒塊に
より微細な凹凸１２ａが形成されている。
層構成を示している。図１に示すように、光反射板１０
は基板１１と、この基板１１上に真空蒸着により設けら
れた金属層１２とを備えている。このうち基板１１はガ
ラス、高分子フィルム等からなるが、真空コーティング
法あるいはメッキ等の湿式コーティング法に使用可能な
基板であれば特に限定されるものではない。また基板１
１の表面に、密着が良好となるような表面処理を行って
も良い。金属層１２は、金属あるいは金属化合物からな
る反射層となっており、その表面に金属層１２の粒塊に
より微細な凹凸１２ａが形成されている。
【００１０】図２および図３は、偏光板を使用しない反
射型液晶ディスプレイおよび光反射板を各々示してい
る。
射型液晶ディスプレイおよび光反射板を各々示してい
る。
【００１１】図２に示すように、反射型液晶ディスプレ
イ２０は、基板１と金属層１２とからなる光反射板１０
と、液晶層２１と、透明導電膜２２と、基板２２とを順
次積層して構成されている。図２において、光反射板１
０は電極を兼ねているため、光反射板１０のいづれか一
つの層は、導電性を有するものでなくてはならない。こ
のため図２において、光反射板１０の金属層１２は導電
性を有している。
イ２０は、基板１と金属層１２とからなる光反射板１０
と、液晶層２１と、透明導電膜２２と、基板２２とを順
次積層して構成されている。図２において、光反射板１
０は電極を兼ねているため、光反射板１０のいづれか一
つの層は、導電性を有するものでなくてはならない。こ
のため図２において、光反射板１０の金属層１２は導電
性を有している。
【００１２】なお、光反射板１０の金属層１２が導電性
を有さない場合には、反射型液晶ディスプレイ２０の金
属層１２と液晶層２１の間に透明導電膜が必要となる。
を有さない場合には、反射型液晶ディスプレイ２０の金
属層１２と液晶層２１の間に透明導電膜が必要となる。
【００１３】図２に示す光反射板１０に対し、図３に示
すように基板１１と金属層１２との間にバリア層１３と
アンカーコート層１４を設けるとともに、金属層１２の
表面にオーバーコート層１５を設けてもよい。バリア層
１３としては、ＳｉＯｘやＥＶＯＨを用いることがで
き、アンカーコート層１４およびオーバーコート層１５
としては、エポキシやアクリル形樹脂を用いることがで
きる。また透明導電膜２２としては、ＩＴＯを各種のコ
ーティング方法をコーティングしたものを設けることが
できる。
すように基板１１と金属層１２との間にバリア層１３と
アンカーコート層１４を設けるとともに、金属層１２の
表面にオーバーコート層１５を設けてもよい。バリア層
１３としては、ＳｉＯｘやＥＶＯＨを用いることがで
き、アンカーコート層１４およびオーバーコート層１５
としては、エポキシやアクリル形樹脂を用いることがで
きる。また透明導電膜２２としては、ＩＴＯを各種のコ
ーティング方法をコーティングしたものを設けることが
できる。
【００１４】次に図４および図５により、ツイストネマ
ティック等の偏光板を使用するタイプの反射型液晶ディ
スプレイ、およびその反射型液晶ディスプレイに用いら
れる光反射板について説明する。
ティック等の偏光板を使用するタイプの反射型液晶ディ
スプレイ、およびその反射型液晶ディスプレイに用いら
れる光反射板について説明する。
【００１５】図４において、反射型液晶ディスプレイ２
０は、基板１１と金属層１２とからなる光反射板１０
と、この光反射板１０に偏光板２９を介して積層された
基板２５および透明導電膜２６と、この透明導電膜２６
に積層された液晶層２１、透明導電膜２２、基板２３お
よび偏光板２８とを備えている。
０は、基板１１と金属層１２とからなる光反射板１０
と、この光反射板１０に偏光板２９を介して積層された
基板２５および透明導電膜２６と、この透明導電膜２６
に積層された液晶層２１、透明導電膜２２、基板２３お
よび偏光板２８とを備えている。
【００１６】なお、図４において、反射型液晶ディスプ
レイ２０の光反射板１０は、導電性を有する必要はな
い。また、図４に示す光反射板１０は、金属層１２上に
接着層１６を有していてもよい（図５参照）。この接着
層１６としては、熱硬化型、熱可変型または紫外線硬化
型の各種接着剤を用いることができる。
レイ２０の光反射板１０は、導電性を有する必要はな
い。また、図４に示す光反射板１０は、金属層１２上に
接着層１６を有していてもよい（図５参照）。この接着
層１６としては、熱硬化型、熱可変型または紫外線硬化
型の各種接着剤を用いることができる。
【００１７】次に基板１１上に金属層１２を設けるとと
もに、この金属層１２上に微細凹凸１２ａを形成してな
る光反射板１０の製造方法について説明する。すなわち
光反射板の製造方法としては、まず真空室３５（図９参
照）内の支持台３７上に基板１１を配置する。次に金属
あるいは金属化合物を主成分とする蒸着源３６を用い、
必要に応じて真空室３５内に導入孔３８からガスを導入
し、基板１１上に金属、金属化合物、あるいは導入した
ガスとの金属化合物を主成分とする金属層１２を真空蒸
着する。この場合、蒸着源３６としては、特にアルミニ
ウム、亜鉛、インジウム、スズ、銀が用いられ、また導
入ガスとしては、酸素、窒素ないし不活性ガスが用いら
れるが、特にこれらに限定されるものではない。金属層
１２の表面に微細凹凸１２ａを金属あるいは金属化合物
の粒塊により形成するには、真空蒸着時の真空度を調整
することによって得られる。
もに、この金属層１２上に微細凹凸１２ａを形成してな
る光反射板１０の製造方法について説明する。すなわち
光反射板の製造方法としては、まず真空室３５（図９参
照）内の支持台３７上に基板１１を配置する。次に金属
あるいは金属化合物を主成分とする蒸着源３６を用い、
必要に応じて真空室３５内に導入孔３８からガスを導入
し、基板１１上に金属、金属化合物、あるいは導入した
ガスとの金属化合物を主成分とする金属層１２を真空蒸
着する。この場合、蒸着源３６としては、特にアルミニ
ウム、亜鉛、インジウム、スズ、銀が用いられ、また導
入ガスとしては、酸素、窒素ないし不活性ガスが用いら
れるが、特にこれらに限定されるものではない。金属層
１２の表面に微細凹凸１２ａを金属あるいは金属化合物
の粒塊により形成するには、真空蒸着時の真空度を調整
することによって得られる。
【００１８】例えば蒸着源３６としてインジウムを用
い、導入ガスに酸素を用いた場合は、真空蒸着時の真空
度を１×１０-4Ｔｏｒｒ以上でかつ１×１０-3Ｔｏｒｒ
以下の範囲に保持する。この場合、金属層１２の表面の
酸素／インジウムの比は０．５以上でかつ１．５以下と
なり、金属膜１２の内部にいくに従って酸素／インジウ
ムの比が小さくなる。酸素／インジウムの比が０．５以
下であると、導電性は良好であるが金属層１２の膜表面
は金属光沢が強くなり、拡散反射率が低下してしまう傾
向にある。なお金属層１２の表面の酸素／インジウムの
比は、化学量論比から本発明の場合、１．５以下とな
る。
い、導入ガスに酸素を用いた場合は、真空蒸着時の真空
度を１×１０-4Ｔｏｒｒ以上でかつ１×１０-3Ｔｏｒｒ
以下の範囲に保持する。この場合、金属層１２の表面の
酸素／インジウムの比は０．５以上でかつ１．５以下と
なり、金属膜１２の内部にいくに従って酸素／インジウ
ムの比が小さくなる。酸素／インジウムの比が０．５以
下であると、導電性は良好であるが金属層１２の膜表面
は金属光沢が強くなり、拡散反射率が低下してしまう傾
向にある。なお金属層１２の表面の酸素／インジウムの
比は、化学量論比から本発明の場合、１．５以下とな
る。
【００１９】上記の真空度範囲では、表面の酸化インジ
ウムの粒子の直径は約０．４〜０．８μｍであり、真空
蒸着時の上述した真空度範囲（１×１０-4〜１×１０-3
Ｔｏｒｒ）内において真空度の違いにより金属層１２に
表面の粒子の凹凸に違いが生じ、抵抗率および拡散反射
率が変化する。使用する蒸着源３６の材料により異なる
が上記の真空度範囲で真空蒸着した場合、表面の金属又
は金属化合物の平均粒子径は０．１〜１．０μｍとな
る。
ウムの粒子の直径は約０．４〜０．８μｍであり、真空
蒸着時の上述した真空度範囲（１×１０-4〜１×１０-3
Ｔｏｒｒ）内において真空度の違いにより金属層１２に
表面の粒子の凹凸に違いが生じ、抵抗率および拡散反射
率が変化する。使用する蒸着源３６の材料により異なる
が上記の真空度範囲で真空蒸着した場合、表面の金属又
は金属化合物の平均粒子径は０．１〜１．０μｍとな
る。
【００２０】本発明における金属層１２の組成比はＥＳ
ＣＡにより測定することができ、また金属層１２の表面
の粒子形状はＳＥＭで測定することができる。
ＣＡにより測定することができ、また金属層１２の表面
の粒子形状はＳＥＭで測定することができる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。実施例１ インジウム（Ｉｎ）の粒を蒸発源として、蒸着装置を下
記の条件で操作して基板（７０５９板ガラス、コーニン
グ社製）上に金属層（光反射層）（膜厚５０００Ａ）を
成膜した。 操作条件 成膜真空度 ５×１０-4Ｔｏｒｒ 基板温度 室温
記の条件で操作して基板（７０５９板ガラス、コーニン
グ社製）上に金属層（光反射層）（膜厚５０００Ａ）を
成膜した。 操作条件 成膜真空度 ５×１０-4Ｔｏｒｒ 基板温度 室温
【００２２】形成された金属層の抵抗率は、１．８×１
０-2Ω・ｃｍであった。また６００ｎｍ（Ｒ）、５５０
ｎｍ（Ｇ）、４８０ｎｍ（Ｂ）での拡散反射率／全反射
率は、各々０．８８、０．８６、０．８４であった。
０-2Ω・ｃｍであった。また６００ｎｍ（Ｒ）、５５０
ｎｍ（Ｇ）、４８０ｎｍ（Ｂ）での拡散反射率／全反射
率は、各々０．８８、０．８６、０．８４であった。
【００２３】この金属層をＥＳＣＡにより分析したとこ
ろ、表面の酸素／インジウムの比は１．４であった。さ
らに層の内部についてもＥＳＣＡで分析したところ酸素
／インジウムの比は０．５であり、抵抗率は５×１０-3
Ω・ｃｍであったが、金属光沢を示した。
ろ、表面の酸素／インジウムの比は１．４であった。さ
らに層の内部についてもＥＳＣＡで分析したところ酸素
／インジウムの比は０．５であり、抵抗率は５×１０-3
Ω・ｃｍであったが、金属光沢を示した。
【００２４】実施例２ 実施例１において、成膜真空度を１×１０-3Ｔｏｒｒと
した。これ以外の操作条件を実施例１と同様にして金属
層を形成した。
した。これ以外の操作条件を実施例１と同様にして金属
層を形成した。
【００２５】形成された金属層の抵抗率は、５×１０2
Ω・ｃｍ以上であった。また６００ｎｍ（Ｒ）、５５０
ｎｍ（Ｇ）、４８０ｎｍ（Ｂ）での拡散反射率／全反射
率は、各々０．７０、０．７６、０．８３であり、光拡
散能は実施例１とほとんど同一であるが、導電率は著し
く悪化した。
Ω・ｃｍ以上であった。また６００ｎｍ（Ｒ）、５５０
ｎｍ（Ｇ）、４８０ｎｍ（Ｂ）での拡散反射率／全反射
率は、各々０．７０、０．７６、０．８３であり、光拡
散能は実施例１とほとんど同一であるが、導電率は著し
く悪化した。
【００２６】実施例３ 実施例１において、成膜真空度を１×４０-4Ｔｏｒｒと
した。これ以外の操作条件を実施例１と同様にして金属
層を形成した。
した。これ以外の操作条件を実施例１と同様にして金属
層を形成した。
【００２７】形成された金属層の抵抗率は、１×１０-5
Ω・ｃｍ以上であった。また６００ｎｍ（Ｒ）、５５０
ｎｍ（Ｇ）、４８０ｎｍ（Ｂ）での拡散反射率／全反射
率は、各々０．５７、０．５９、０．６１であり、導電
率は良好であるが実施例１に比べて光拡散能は著しく悪
化し金属光沢を示した。
Ω・ｃｍ以上であった。また６００ｎｍ（Ｒ）、５５０
ｎｍ（Ｇ）、４８０ｎｍ（Ｂ）での拡散反射率／全反射
率は、各々０．５７、０．５９、０．６１であり、導電
率は良好であるが実施例１に比べて光拡散能は著しく悪
化し金属光沢を示した。
【００２８】実施例４ 実施例１及び２で作成した光反射板を、ツイストネマテ
ィック型の液晶ディスプレイの光反射板として用いた。
この結果、従来の光反射板のものと比較して良好な明る
さを持つ反射型液晶ディスプレイが得られることを確認
した。
ィック型の液晶ディスプレイの光反射板として用いた。
この結果、従来の光反射板のものと比較して良好な明る
さを持つ反射型液晶ディスプレイが得られることを確認
した。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光反射性と光拡散性に優れた光反射板を煩雑な工程によ
らずに得ることができる。このため、この光反射板を用
いて精度の良い反射型液晶ディスプレイを作製すること
ができる。
光反射性と光拡散性に優れた光反射板を煩雑な工程によ
らずに得ることができる。このため、この光反射板を用
いて精度の良い反射型液晶ディスプレイを作製すること
ができる。
【図１】本発明による光反射板を示す断面図。
【図２】本発明による光反射板を用いた反射型液晶ディ
スプレイを示す断面図。
スプレイを示す断面図。
【図３】他の光反射板を示す断面図。
【図４】偏光板を有する反射型液晶ディスプレイを示す
断面図。
断面図。
【図５】他の光反射板を示す断面図。
【図６】従来の光反射板を示す断面図。
【図７】従来の光反射板を示す断面図。
【図８】従来の光反射板を示す断面図。
【図９】本発明による光反射板の製造方法を示す図。
１０ 光反射板 １１ 基板 １２ 金属層 １２ａ 微細凹凸 １３ バリア層 １４ アンカーコート層 １５ オーバーコート層 ２０ 反射型液晶ディスプレイ ２１ 液晶層
Claims (3)
- 【請求項１】基板と、 この基板上に設けられた金属又は金属化合物層とを備
え、 前記金属又は金属化合物層は、その表面に平均粒子径
０．１〜１．０μｍの粒子が連続して粒塊となって形成
された微細凹凸を有することを特徴とする光反射板。 - 【請求項２】金属層は導電性を有することを特徴とする
請求項１記載の光反射板。 - 【請求項３】基板を真空室内に配置する工程と、 金属または金属化合物を主成分とする蒸着源から基板に
対して真空蒸着して基板上に金属層を設ける工程とを備
え、 真空蒸着工程において、真空室内に導入ガスを導入して
真空室内の真空度を調整したことを特徴とする光反射板
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27134795A JPH09113707A (ja) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | 光反射板およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27134795A JPH09113707A (ja) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | 光反射板およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09113707A true JPH09113707A (ja) | 1997-05-02 |
Family
ID=17498803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27134795A Pending JPH09113707A (ja) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | 光反射板およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09113707A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001090787A1 (fr) * | 2000-05-23 | 2001-11-29 | Saint-Gobain Glass France | Couche diffusante |
| KR100469308B1 (ko) * | 1997-08-01 | 2005-08-31 | 주식회사 새 한 | 난반사시트의제조방법 |
| JP5202623B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2013-06-05 | 株式会社アルバック | 成膜方法 |
-
1995
- 1995-10-19 JP JP27134795A patent/JPH09113707A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100469308B1 (ko) * | 1997-08-01 | 2005-08-31 | 주식회사 새 한 | 난반사시트의제조방법 |
| WO2001090787A1 (fr) * | 2000-05-23 | 2001-11-29 | Saint-Gobain Glass France | Couche diffusante |
| FR2809496A1 (fr) * | 2000-05-23 | 2001-11-30 | Saint Gobain Vitrage | Couche diffusante |
| US7105222B2 (en) | 2000-05-23 | 2006-09-12 | Saint-Gobain Glass France | Diffusing coating |
| JP5202623B2 (ja) * | 2008-04-25 | 2013-06-05 | 株式会社アルバック | 成膜方法 |
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