JPH09115191A - Optical information recording medium and its production - Google Patents
Optical information recording medium and its productionInfo
- Publication number
- JPH09115191A JPH09115191A JP7292013A JP29201395A JPH09115191A JP H09115191 A JPH09115191 A JP H09115191A JP 7292013 A JP7292013 A JP 7292013A JP 29201395 A JP29201395 A JP 29201395A JP H09115191 A JPH09115191 A JP H09115191A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- curable resin
- information recording
- radiation curable
- substrate
- stamper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 162
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 162
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 71
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 57
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 claims description 15
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000003847 radiation curing Methods 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 111
- 239000010408 film Substances 0.000 description 67
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 6
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000002355 dual-layer Substances 0.000 description 1
- 238000001227 electron beam curing Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学的情報記録媒
体及びその製造方法に係り、特に、光透過性材料から成
る基板上に放射線硬化樹脂層を有し、この放射線硬化樹
脂層に凹凸形状を形成して情報記録面とする光学的情報
記録媒体及びその製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information recording medium and a method for manufacturing the same, and in particular, it has a radiation curable resin layer on a substrate made of a light transmissive material, and the radiation curable resin layer has an uneven shape. The present invention relates to an optical information recording medium having an information recording surface by forming a film and a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、光学的に読取り可能な情報が
記録され、レーザ光スポットを用いて記録された情報を
読み出させる光学的情報記録媒体があり、特に、近年に
おいては、コンパクトディスク(以下、CDと記載す
る)や、CD−ROMをはじめとする光ディスクの普及
がめざましいものとなっている。上記CD−ROMは、
コンピュータ用のみならず、最近は多機能ゲーム用CD
−ROMも登場し、コンピュータ、ゲーム共磁気ディス
ク(フロッピーディスク)やROMカートリッジからC
Dへの乗り換えが進んでいる。2. Description of the Related Art Conventionally, there is an optical information recording medium in which optically readable information is recorded, and the recorded information is read out by using a laser beam spot. Optical discs such as CD-ROMs) and CD-ROMs have been remarkably spread. The above CD-ROM is
Not only for computer but recently for multi-function game CD
-ROM has also been introduced, and it can be used for magnetic disks (floppy disks) and ROM cartridges for computers and games.
The transfer to D is progressing.
【0003】また、CDよりも小さなピットをトラック
ピッチを詰めて記録することで情報を高密度に記録した
高密度型光ディスクも提案されており、映画以外にマル
チメディアへの利用もささやかれている。更に、上記C
Dが基板上のある一面にのみ信号が記録されている単層
の情報記録面を有しているのに対し、基板上に放射線硬
化樹脂より成る透明樹脂層を積層することで基板の厚さ
方向に複数の情報記録面を有する多層構造の光ディスク
が提案されている。Further, a high-density optical disc in which information is recorded at a high density by recording pits smaller than a CD with a track pitch narrowed has been proposed, and it is whispered not only to movies but also to multimedia. . Furthermore, the above C
While D has a single-layer information recording surface on which a signal is recorded only on one surface of the substrate, the thickness of the substrate can be increased by stacking a transparent resin layer made of a radiation curable resin on the substrate. A multi-layered optical disc having a plurality of information recording surfaces in the direction has been proposed.
【0004】以下、図1を用いて上記多層構造の光ディ
スクについて説明する。図1は、多層構造の光ディスク
の構造を示す図である。なお、同図は光ディスクのトラ
ック方向の断面図の一部を示している。また、説明を簡
単にするため、以下に説明する多層構造の光ディスクに
ついては、情報記録面を2面有するものについて説明す
る。The optical disc having the above-mentioned multilayer structure will be described below with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram showing a structure of an optical disc having a multilayer structure. The figure shows a part of a sectional view of the optical disc in the track direction. Further, for the sake of simplicity, the optical disc having a multilayer structure described below will be described as one having two information recording surfaces.
【0005】同図に示すように、従来の多層構造の光デ
ィスク(以下、単に光ディスクと記載する)1は、光透
過性基板4上に、第1の反射層5、透明樹脂層6、第2
の反射層7、保護膜8がこの順に積層されて構成されて
いる。上記基板4上には情報に応じた凹凸ピット4Aが
形成され、また上記透明樹脂層6上には情報に応じた凹
凸ピット4Bが形成されている。即ち、上記光ディスク
1は、基板4の厚さ方向に2面の情報記録層を有してお
り、上記光透過性基板4のピット4A形成面が第1の情
報記録面2であり、上記透明樹脂層6のピット4B形成
面が第2の情報記録面3である。As shown in FIG. 1, a conventional multi-layered optical disc (hereinafter, simply referred to as an optical disc) 1 has a first reflective layer 5, a transparent resin layer 6 and a second transparent layer 4 on a light transmissive substrate 4.
The reflective layer 7 and the protective film 8 are laminated in this order. An uneven pit 4A corresponding to information is formed on the substrate 4, and an uneven pit 4B corresponding to information is formed on the transparent resin layer 6. That is, the optical disc 1 has two information recording layers in the thickness direction of the substrate 4, and the pit 4A forming surface of the light transmissive substrate 4 is the first information recording surface 2 and the transparent The surface of the resin layer 6 on which the pits 4B are formed is the second information recording surface 3.
【0006】また、第1の情報記録面2と第2の情報記
録面3との間に形成される第1の反射層5は、第2の情
報記録面3への光の入射や反射が行えるようある程度の
光透過率を有する材料で構成される。なお、以下、この
第1の反射層5を半透明反射層5と記載し、第2の反射
層7を反射層7と記載する。そして、3面以上の情報記
録面を形成する場合には、上記透明樹脂層6上の反射層
7上に第2の透明樹脂層を形成し、この第2の透明樹脂
層上にピットを形成して第3の情報記録面とし、更に第
4の情報記録面以降も同様に構成される。Further, the first reflective layer 5 formed between the first information recording surface 2 and the second information recording surface 3 prevents the incidence and reflection of light on the second information recording surface 3. It is made of a material having a certain degree of light transmittance so that it can be performed. Hereinafter, the first reflective layer 5 will be referred to as a semitransparent reflective layer 5, and the second reflective layer 7 will be referred to as a reflective layer 7. Then, when forming three or more information recording surfaces, a second transparent resin layer is formed on the reflective layer 7 on the transparent resin layer 6, and pits are formed on the second transparent resin layer. Then, the third information recording surface is formed, and the fourth information recording surface and the subsequent layers are similarly configured.
【0007】上記各情報記録面に記録された情報を読み
出すための再生用レーザ光は、上記基板4の下側から入
射される。ここで、上記光ディスク1における各情報記
録面の間隔は数十ミクロンと狭いが、再生装置の光ピッ
クアップはその間隔を正しく認識して、所望の情報記録
面に焦点を結ぶことで、各情報記録面の情報が読み出さ
れるようになっている。以上のように光ディスクの構造
を基板4の厚さ方向に2面以上の情報記録面を設けて多
層構造とすることで、従来の単層構造の光ディスクより
も大量の情報を記録することが可能になるのである。Reproducing laser light for reading the information recorded on each information recording surface is incident from the lower side of the substrate 4. Here, although the distance between the information recording surfaces of the optical disc 1 is as narrow as several tens of microns, the optical pickup of the reproducing apparatus correctly recognizes the distance and focuses on the desired information recording surface to record each information. The surface information is read out. As described above, by providing the information recording surface of two or more surfaces in the thickness direction of the substrate 4 to form a multilayer structure, it is possible to record a larger amount of information than the conventional single-layer structure optical disk. It becomes.
【0008】次に、以上のような構成の光ディスク1の
従来の製造方法を図6を用いて説明する。なお、説明の
簡略化のために2層ディスクとして説明する。まず、同
図(A)に示すように、第1の情報記録面のピット4A
の逆パターンを有するスタンパ(図示せず)により、例
えば射出成形によってピット4Aを表面に有する光ディ
スク基板4を成形する。次に、同図(B)に示すよう
に、基板4のピット4Aが形成された表面に半透明反射
層5をスパッタリング、イオンプレーティング、CV
D、真空蒸着法、スピンコートなどの成膜方法によって
形成する。なお、この半透明反射層5は前述のようにあ
る程度の光透過率を有する反射層である。Next, a conventional manufacturing method of the optical disc 1 having the above-mentioned structure will be described with reference to FIG. In addition, in order to simplify the description, a two-layer disc will be described. First, as shown in FIG. 3A, the pit 4A on the first information recording surface
The optical disk substrate 4 having the pits 4A on its surface is formed by, for example, injection molding using a stamper (not shown) having a reverse pattern of. Next, as shown in FIG. 3B, a semitransparent reflective layer 5 is formed on the surface of the substrate 4 on which the pits 4A are formed by sputtering, ion plating, and CV.
It is formed by a film forming method such as D, a vacuum vapor deposition method, or spin coating. The semitransparent reflective layer 5 is a reflective layer having a certain degree of light transmittance as described above.
【0009】次に、上記半透明反射層5の上に上記第2
の情報記録面3を形成する。第2の情報記録面3は従来
より周知の2P工法により形成する。即ち、同図(C)
に示すように、第2の情報記録面3のピット4Bの逆パ
ターンの凹凸形状21Aを有するスタンパ21を用意
し、上記基板4の半透明反射層5上に紫外線硬化樹脂2
2を滴下し、続いてスタンパ21の信号面を紫外線硬化
樹脂22が滴下された基板4上に押圧して紫外線硬化樹
脂22を均一な厚みに延ばす。このスタンパ21の押圧
時、同図(D)に示すように、基板4の外周部からオー
バーフローした樹脂はノズル23で吸い取る。そして、
同図(E)に示すように、基板4側から紫外線(放射
線)を照射して上記紫外線硬化樹脂22を硬化させてス
タンパ21を剥離すると、同図(F)に示すように第2
の情報記録面3となるピット4Bが形成された光ディス
ク基板が得られる。最後に第2の情報記録面3上に、ア
ルミニウムや金等をスパッタリングや真空蒸着等の真空
成膜で成膜することによって、反射層7を形成し、更に
この反射層7上に保護膜8を形成し、保護膜8上にレー
ベル(図示せず)を印刷することにより、同図(G)に
示すような多層構造の光ディスクが完成する。Next, the second transparent layer 5 is formed on the semitransparent reflective layer 5.
The information recording surface 3 is formed. The second information recording surface 3 is formed by the conventionally known 2P method. That is, the same figure (C)
As shown in FIG. 3, a stamper 21 having a concavo-convex shape 21A having an inverse pattern of the pits 4B on the second information recording surface 3 is prepared, and the ultraviolet curable resin 2 is formed on the semitransparent reflection layer 5 of the substrate 4.
2 is dropped, and then the signal surface of the stamper 21 is pressed onto the substrate 4 onto which the ultraviolet curable resin 22 has been dropped to spread the ultraviolet curable resin 22 to a uniform thickness. When the stamper 21 is pressed, the resin overflowing from the outer peripheral portion of the substrate 4 is sucked by the nozzle 23 as shown in FIG. And
As shown in FIG. 6E, when ultraviolet rays (radiation) is irradiated from the substrate 4 side to cure the ultraviolet curable resin 22 and the stamper 21 is peeled off, as shown in FIG.
As a result, an optical disk substrate having pits 4B which will become the information recording surface 3 is obtained. Finally, a reflective layer 7 is formed on the second information recording surface 3 by vacuum deposition such as sputtering or vacuum vapor deposition of aluminum or gold, and the protective film 8 is further formed on the reflective layer 7. And a label (not shown) is printed on the protective film 8 to complete an optical disc having a multilayer structure as shown in FIG.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な多層構造の光ディスクは再生原理上の制約により、各
情報記録面の間隔を非常に厳密に管理する必要がある。
例えば40μmの透明樹脂層の膜厚に対し、±3μmく
らいの膜厚変動しか許容されない。しかし上述の2P工
法では装置の精度を向上させても±5μmくらいにする
のが限度である。更に、上記2P工法は、生産性が悪
く、第2の情報記録面以降の情報記録面の成形に1面当
たり2分くらい要してしまう。成形速度を上げることは
押圧を大きくする、或いは樹脂滴下量を多くすることで
可能であるが、膜厚の精度が下がったり、気泡を巻き込
んで欠陥を生じたり、オーバーフローの吸い取りが不充
分となる等の問題が生じる。即ち、従来より知られてい
る製造方法を用いて上述のような多層構造の光ディスク
を製造しようとすると、精度と生産性に二律背反の問題
が生じてしまうのである。By the way, in the above-mentioned optical disc having a multi-layered structure, it is necessary to control the distance between the respective information recording surfaces very strictly due to the restriction on the reproducing principle.
For example, with respect to the film thickness of the transparent resin layer of 40 μm, only a film thickness variation of about ± 3 μm is allowed. However, in the above-mentioned 2P method, even if the accuracy of the device is improved, the limit is about ± 5 μm. Further, the above-mentioned 2P construction method is poor in productivity, and it takes about 2 minutes per surface to mold the information recording surface after the second information recording surface. It is possible to increase the molding speed by increasing the pressing force or increasing the resin dropping amount, but the accuracy of the film thickness decreases, air bubbles are trapped and defects occur, and overflow is insufficiently absorbed. Problems such as occur. That is, if an attempt is made to manufacture an optical disc having a multilayer structure as described above by using a conventionally known manufacturing method, there arises a trade-off between accuracy and productivity.
【0011】また、上述のような製造方法の場合、半透
明反射層5の材料としてシリコン酸化膜(SiOx)、
シリコン酸化膜系合金、シリコン窒化膜(SiNx)、
シリコン窒化膜系合金等を用いるのが一般的であるが、
これらの材料は紫外線硬化樹脂からなる透明樹脂層6と
の密着力が悪く、環境負荷テスト時にクラックが入った
り、甚だしき場合には剥離してしまったりするという問
題もあった。樹脂に接着力を持たせるため特殊な官能基
を導入することは容易であるが、半透明反射層5に接着
力を持つように設計すると、スタンパ(材質ニッケル)
に対しても接着力が発生し、剥離が困難になるという欠
点が新たに発生してしまう。また、半透明反射層5には
接着し、ニッケルには接着しないような理想的な樹脂は
設計が非常に困難で、現実的には存在していない。In the case of the above manufacturing method, a silicon oxide film (SiOx) is used as the material of the semitransparent reflective layer 5.
Silicon oxide film-based alloy, silicon nitride film (SiNx),
It is common to use a silicon nitride film-based alloy, etc.
These materials have poor adhesion to the transparent resin layer 6 made of an ultraviolet curable resin, and there is a problem that they may crack during an environmental load test or may be peeled off if they are extremely heavy. It is easy to introduce a special functional group in order to give the resin adhesive strength, but if the semi-transparent reflective layer 5 is designed to have adhesive strength, a stamper (material nickel) is used.
However, there is a new defect that the adhesive force is generated and peeling becomes difficult. Further, an ideal resin that adheres to the semitransparent reflective layer 5 and does not adhere to nickel is very difficult to design, and does not actually exist.
【0012】そこで、本発明は上記の点に着目してなさ
れたものであり、精度と生産性、そして信頼性に優れた
多層構造の光ディスクとその製造方法を提供することを
目的とするものである。Therefore, the present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to provide an optical disc having a multilayer structure excellent in accuracy, productivity and reliability, and a manufacturing method thereof. is there.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するための手段として、「光透過性材料から成る基板
上に放射線硬化樹脂層を積層して成り、前記放射線硬化
樹脂層上に案内溝又はピットによる凹凸形状を形成して
情報を記録するための情報記録面とした光学的情報記録
媒体の製造方法において、前記放射線硬化樹脂層の凹凸
形状を形成するためのスタンパの表面又は前記基板上に
放射線硬化樹脂を滴下する工程と、この滴下した放射線
硬化樹脂を挟んで前記基板と前記スタンパとを対向して
重ね合わせる工程と、前記基板と前記スタンパとを重ね
合わせた状態で高速回転させる工程と、放射線を照射し
て前記放射線硬化樹脂を硬化させる工程とをこの順に有
することを特徴とする光学的情報記録媒体の製造方法」
を提供しようとするものである。Means for Solving the Problems As a means for achieving the above-mentioned object, the present invention provides a method in which a radiation-curable resin layer is laminated on a substrate made of a light-transmissive material, and the radiation-curable resin layer is formed on the substrate. In a method of manufacturing an optical information recording medium which is used as an information recording surface for recording information by forming an uneven shape by a guide groove or a pit, a surface of a stamper for forming the uneven shape of the radiation curable resin layer or the above A step of dropping a radiation curable resin on a substrate, a step of overlapping the substrate and the stamper so as to sandwich the dropped radiation curable resin, and a high-speed rotation in a state where the substrate and the stamper are superposed on each other. And a step of irradiating with radiation to cure the radiation-curable resin in this order.
It is intended to provide.
【0014】また、本発明は、上記目的を達成するため
の手段として、「光透過性材料から成る基板上に半透明
反射層、放射線硬化樹脂層を順次積層して成り、前記放
射線硬化樹脂層上に案内溝又はピットによる凹凸形状を
形成して情報を記録するための情報記録面とした光学的
情報記録媒体において、前記半透明反射層と放射線硬化
樹脂層との間にプライマー膜を形成したことを特徴とす
る光学的情報記録媒体」を提供しようとするものであ
る。As a means for achieving the above-mentioned object, the present invention comprises "a semitransparent reflective layer and a radiation-curable resin layer are sequentially laminated on a substrate made of a light-transmissive material. In an optical information recording medium having an uneven shape formed by guide grooves or pits as an information recording surface for recording information, a primer film is formed between the semitransparent reflective layer and the radiation curable resin layer. An optical information recording medium characterized by the above.
【0015】[0015]
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の一実施例を説明する。なお、以下の説明では、図1で
示した2面の情報記録面を有する多層構造の光ディスク
1を製造する場合について説明するものとする。図2
は、本発明の光学的情報記録媒体の製造方法の第1の実
施例を説明するための図である。射出成形などの成形方
法によって表面にピット4Aが刻まれたディスク基板4
を用意し、この基板4のピット形成表面に半透明反射層
5をスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティン
グ、CVD、スピンコート法などによって成膜し(光透
過性材料から成る基板)、基板4の半透明反射層5の表
面または上記スタンパ21のいずれか、あるいは両表面
に放射線硬化樹脂を塗布し、スタンパ21と半透明反射
層5とを重ね合わせる工程(同図(A))までは、上記
従来の多層構造の光ディスクの製造方法と同じである
が、本実施例では、以下の工程が異なる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the following description, the case of manufacturing the multi-layered optical disc 1 having the two information recording surfaces shown in FIG. 1 will be described. FIG.
FIG. 4 is a diagram for explaining the first embodiment of the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention. Disk substrate 4 having pits 4A engraved on its surface by a molding method such as injection molding
Of the substrate 4, a semitransparent reflective layer 5 is formed on the surface of the substrate 4 on which pits are formed by sputtering, vacuum deposition, ion plating, CVD, spin coating, or the like (a substrate made of a light transmissive material). Up to the step of applying a radiation curable resin to the surface of the semitransparent reflective layer 5 or the stamper 21, or both surfaces, and superposing the stamper 21 and the semitransparent reflective layer 5 (FIG. (A)). This is the same as the conventional method for manufacturing an optical disc having a multilayer structure, but in the present embodiment, the following steps are different.
【0016】即ち、同図(B)に示すように、放射線硬
化樹脂22を挟んで基板4とスタンパ21とを重ね合わ
せた後、基板4とスタンパ21とを同図中一点鎖線で示
す中心線を中心に水平方向に高速回転させる。すると、
同図に示すように、中央部分に塗布した放射線硬化樹脂
22が回転の遠心力により外周部へ広がり、更に、同図
(C)に示すように余剰の放射線硬化樹脂22が基板4
とスタンパ21の端面から外側へ振り切られて除去され
る。即ち、従来は、スタンパ21の押圧力や押圧時間で
透明樹脂層6の膜厚を制御し、また、押圧の際の余剰の
放射線硬化樹脂22はノズルで吸い取っていたが、本実
施例では、高速回転による遠心力により透明樹脂層6の
膜厚が均一に制御されると共に余剰な放射線硬化樹脂2
2が除去されるのである。That is, as shown in FIG. 1B, after the substrate 4 and the stamper 21 are overlapped with each other with the radiation curable resin 22 sandwiched therebetween, the substrate 4 and the stamper 21 are centered by a chain line in the figure. Rotate horizontally at high speed. Then
As shown in the figure, the radiation curable resin 22 applied to the central portion spreads to the outer peripheral portion due to the centrifugal force of rotation, and as shown in FIG.
Then, the stamper 21 is shaken off from the end face to the outside and removed. That is, conventionally, the film thickness of the transparent resin layer 6 was controlled by the pressing force and the pressing time of the stamper 21, and the surplus radiation curable resin 22 at the time of pressing was sucked by the nozzle, but in this embodiment, The film thickness of the transparent resin layer 6 is uniformly controlled by the centrifugal force generated by the high speed rotation, and the excess radiation curable resin 2
2 is removed.
【0017】そして、余剰な放射線硬化樹脂22を取り
除いた後、重ね合わせた基板4及びスタンパ21の回転
を減じまたは停止し、同図(D)に示すように基板4側
から放射線を照射して放射線硬化樹脂22を硬化させて
から、スタンパ21を剥離すると表面にピット4Bが形
成された透明樹脂層6を形成することができる(同図
(E))。そして、最後に反射層7や保護膜8を順次成
膜して、同図(F)に示すような二層ディスクを作製す
ることができる。Then, after removing the surplus radiation-curable resin 22, the rotation of the substrate 4 and the stamper 21 which are superposed on each other is reduced or stopped, and radiation is irradiated from the substrate 4 side as shown in FIG. After the radiation curable resin 22 is cured, the stamper 21 is peeled off to form the transparent resin layer 6 having the pits 4B formed on the surface thereof ((E) in the same figure). Then, finally, the reflection layer 7 and the protective film 8 are sequentially formed to manufacture a two-layer disc as shown in FIG.
【0018】以上のように、従来方法がスタンパ21を
基板面に対して垂直に押しつけていたのに対し、本実施
例では、基板4とスタンパ21をその中心に対して共に
高速回転させる。ここで、透明樹脂層6の膜厚は、従来
法がスタンパ21を押しつける圧力、押しつける時間、
樹脂粘度に大きく依存していたのに対し、本実施例では
高速回転の回転数、樹脂粘度に大きく依存する。即ち、
本実施例ではスタンパ21と基板とを押しつける圧力や
押しつける時間は共にほとんどゼロであるため、圧力む
らや押しつけ時間の誤差による膜厚ばらつきの要因がな
いのである。また、本実施例による方法では、遠心力に
よる水平方向の均一な外向力が、放射線硬化樹脂22の
膜厚を均一に減じさせるので、均一な膜厚が得やすい。
更に、基板4とスタンパ21とを重ね合わせるときに発
生する気泡は、高速回転により、内周から外周へ、そし
てディスクの外側へと排出されるので粘度が適正であれ
ば気泡欠陥の問題も発生しない。更に、従来法に比べて
処理時間が短く、1面あたり30秒から1分程度で作る
ことができる。As described above, the conventional method presses the stamper 21 perpendicularly to the substrate surface, but in the present embodiment, both the substrate 4 and the stamper 21 are rotated at high speed about their centers. Here, the film thickness of the transparent resin layer 6 depends on the pressure for pressing the stamper 21 by the conventional method, the pressing time,
While it largely depends on the resin viscosity, in the present embodiment, it largely depends on the rotational speed of the high speed rotation and the resin viscosity. That is,
In this embodiment, since the pressure and the pressing time for pressing the stamper 21 and the substrate are almost zero, there is no factor of film thickness variation due to pressure unevenness and pressing time error. Further, in the method according to the present embodiment, the uniform outward force in the horizontal direction due to the centrifugal force reduces the film thickness of the radiation curable resin 22 uniformly, so that it is easy to obtain a uniform film thickness.
Furthermore, the bubbles generated when the substrate 4 and the stamper 21 are superposed are discharged from the inner circumference to the outer circumference and to the outside of the disk by high-speed rotation, so that the problem of bubble defects also occurs if the viscosity is appropriate. do not do. Further, the processing time is shorter than that of the conventional method, and it can be made in about 30 seconds to 1 minute per surface.
【0019】また、樹脂の余剰分はスピンアウトされる
ので、端面に溜まる樹脂量が上述の従来の製造方法に比
べて大幅に軽減できる。つまり吸い取り等の端面処理は
ずっと簡単でよくなる。また、高速回転後の端面処理
は、基板4と同じ外径のスタンパ21を用いた場合に必
要であるが、各種径のスタンパ21を用いて実験を試み
たところ、端面処理を一切不要にすることも可能である
ことが分かった。それはスタンパ21の外径を、基板4
の外径と同じか、もしくは僅かに小さくした場合であ
る。このようなスタンパ21を用いた場合には樹脂が端
面で溜まることがないため、放射線硬化樹脂の硬化時に
バリが発生せず、滑らかな端面を持つディスクを得るこ
とができる。したがって、このようなスタンパを用いれ
ば、光ディスクの生産性が著しく向上できる。更に、上
述したような高速回転による放射線硬化樹脂の振り切り
は、平坦な基板上に透明樹脂層を直接積層し、この透明
樹脂層表面にピットや案内溝による凹凸形状を形成する
場合でも使用可能である。即ち、平坦な基板上に透明樹
脂層を積層して透明樹脂層表面を第1の情報記録面とし
た多層構造の光ディスクや単層構造の光ディスクの製造
方法としても使用可能である。Further, since the surplus resin is spun out, the amount of resin accumulated on the end face can be greatly reduced as compared with the conventional manufacturing method described above. In other words, edge treatment such as sucking is much easier and better. Further, the end surface treatment after the high speed rotation is necessary when the stamper 21 having the same outer diameter as the substrate 4 is used, but when the experiment is attempted using the stamper 21 having various diameters, the end surface treatment is completely unnecessary. It turns out that it is also possible. It is the outer diameter of the stamper 21, the substrate 4
It is the same as or slightly smaller than the outer diameter of. When such a stamper 21 is used, the resin does not accumulate on the end surface, so that burr does not occur during curing of the radiation curable resin, and a disk having a smooth end surface can be obtained. Therefore, by using such a stamper, the productivity of the optical disc can be significantly improved. Furthermore, the radiation curable resin can be shaken off by high-speed rotation as described above even when a transparent resin layer is directly laminated on a flat substrate and an uneven shape is formed by pits or guide grooves on the surface of this transparent resin layer. is there. That is, it can also be used as a method of manufacturing a multi-layered optical disc or a single-layered optical disc in which a transparent resin layer is laminated on a flat substrate and the surface of the transparent resin layer is the first information recording surface.
【0020】ところで、本発明に使用する放射線硬化樹
脂21は、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂など、放射
線によって硬化するものであれば良いが、本発明の製造
方法で効果を充分に発揮するためには樹脂粘度というも
のが重要になる。次に、この樹脂粘度について図3を用
いて説明する。図3は、本発明の光学的情報記録媒体の
製造方法で使用する放射線硬化樹脂の樹脂粘度を説明す
るための図である。具体的には、上述した本発明の製造
方法において種々の粘度の放射線硬化樹脂を用いた場
合、形成される透明樹脂層6の膜厚が高速回転の回転数
に応じてどのように変化するのかを示している。上述の
多層構造の光ディスクは信号再生上、透明樹脂層6の厚
みが35〜50μm程度が良いとされているが、同図に
よれば、放射線硬化樹脂の粘度と樹脂振り切りのための
回転数が、比較的広い範囲から選ぶことができることを
示している。一方、形成された放射線硬化樹脂6の膜厚
分布に着目すると、樹脂粘度と回転数の範囲はある程度
限定される。例えば、形成される透明樹脂層6の厚みが
約40μmとなるような条件下での膜厚分布を調べると
以下の表1のようになる。By the way, the radiation curable resin 21 used in the present invention may be any resin curable by radiation, such as an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin. However, the effect is sufficiently exhibited by the manufacturing method of the present invention. The resin viscosity is important for this. Next, this resin viscosity will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a diagram for explaining the resin viscosity of the radiation curable resin used in the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention. Specifically, when radiation-curing resins having various viscosities are used in the above-described manufacturing method of the present invention, how the film thickness of the transparent resin layer 6 formed changes according to the rotation speed of high-speed rotation. Is shown. It is said that the thickness of the transparent resin layer 6 of the above-mentioned optical disc having a multilayer structure is about 35 to 50 μm in terms of signal reproduction, but according to the figure, the viscosity of the radiation curable resin and the number of rotations for shaking off the resin are good. , Shows that you can choose from a relatively wide range. On the other hand, focusing on the film thickness distribution of the formed radiation curable resin 6, the range of resin viscosity and rotation speed is limited to some extent. For example, when the thickness distribution of the formed transparent resin layer 6 is examined to be about 40 μm, the film thickness distribution is as shown in Table 1 below.
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】上述のように透明樹脂層6の膜厚分布は再
生信号の出力変動につながるので、±3μm以下に抑え
る必要がある。このような観点で適切な樹脂粘度と回転
数を上記表1から判断すると、樹脂粘度80〜1100
cP、回転数750〜1500rpmの範囲が適当であ
ることが分かる。ここで、形成された透明樹脂層6の膜
厚分布が樹脂粘度や回転数の条件によって変わる理由は
明らかになっていないが、樹脂のレオロジーや高速回転
時の基板の定常的振動が関係しているものと思われる。As described above, the film thickness distribution of the transparent resin layer 6 leads to fluctuations in the output of the reproduction signal, so it must be suppressed to ± 3 μm or less. When the appropriate resin viscosity and the number of rotations are judged from the above Table 1 from such a viewpoint, the resin viscosity is 80 to 1100.
It can be seen that the range of cP and the rotation speed of 750 to 1500 rpm is suitable. Here, the reason why the film thickness distribution of the formed transparent resin layer 6 changes depending on the conditions of the resin viscosity and the number of revolutions is not clear, but it is related to the rheology of the resin and the steady vibration of the substrate during high-speed rotation. It seems that there is.
【0023】一方、信頼性の問題であるが、これは基板
4に表面処理を行うことで解決をはかるべく、鋭意検討
を行ったところ、適切なプライマー処理を行うことで解
決できることが判明した。以下、この光ディスクの信頼
性向上に関する本発明の第2の実施例について説明す
る。図4は、本発明の光学的情報記録媒体の一実施例の
構造を示す図である。同図に示すように、光ディスク1
0は、上記光ディスク1の半透明反射層5と透明樹脂層
6との間にカップリング剤をダイレクトに、またはカッ
プリング剤を含む樹脂を薄膜状に形成したプライマー膜
9を有する構造になっている。On the other hand, regarding the problem of reliability, as a result of intensive studies aimed at solving the problem by subjecting the substrate 4 to a surface treatment, it was found that it can be solved by performing an appropriate primer treatment. The second embodiment of the present invention relating to the improvement of the reliability of this optical disc will be described below. FIG. 4 is a diagram showing the structure of an embodiment of the optical information recording medium of the present invention. As shown in FIG.
No. 0 has a structure in which the coupling film is directly formed between the semitransparent reflection layer 5 and the transparent resin layer 6 of the optical disc 1 or the resin containing the coupling agent is formed into a thin film in a primer film 9. There is.
【0024】即ち、上記半透明反射層5は、一般的には
シリコン酸化膜(SiOx)、シリコン酸化膜系合金、
シリコン窒化膜(SiNx)、シリコン窒化膜系合金等
で構成され、上記透明樹脂層6は紫外線硬化樹脂等の樹
脂で構成されるというように、半透明反射層5と透明樹
脂層6とが異なる材料で構成されるため密着性が悪く、
環境負荷テスト時に透明樹脂層6にクラックが入った
り、透明樹脂層6が剥離してしまったりした。そこで、
上記光ディスク10では、異なる材料間の密着性を高め
るようなプライマー膜9を半透明反射層5と透明樹脂層
6との間に形成して、透明樹脂層6の密着性を改善して
いる。また、このようなプライマー膜9を設ければ、透
明樹脂層6を構成する樹脂自体には接着力はそれほど必
要とせず、接着力の低い樹脂を使用することも可能であ
る。したがって、このように接着力の低い樹脂を用いて
透明樹脂層6を形成すれば、形成の際にスタンパとの密
着性が小さくなるので、スタンパの剥離が容易になると
いう利点もある。That is, the semi-transparent reflection layer 5 is generally made of silicon oxide film (SiOx), silicon oxide film alloy,
The semi-transparent reflection layer 5 and the transparent resin layer 6 are different from each other in that the transparent resin layer 6 is made of a resin such as an ultraviolet curable resin and is made of a silicon nitride film (SiNx), a silicon nitride film-based alloy or the like. Adhesion is poor because it is composed of materials,
During the environmental load test, the transparent resin layer 6 was cracked or the transparent resin layer 6 was peeled off. Therefore,
In the optical disc 10, a primer film 9 that enhances the adhesiveness between different materials is formed between the semitransparent reflective layer 5 and the transparent resin layer 6 to improve the adhesiveness of the transparent resin layer 6. Further, when such a primer film 9 is provided, the resin itself that constitutes the transparent resin layer 6 does not need to have a high adhesive force, and a resin having a low adhesive force can be used. Therefore, when the transparent resin layer 6 is formed by using a resin having such a low adhesive force, the adhesiveness with the stamper becomes small at the time of formation, which is also advantageous in that the stamper can be easily peeled off.
【0025】また、上記プライマー膜9のカップリング
剤は、具体的にはシランカップリング剤、チタネートカ
ップリング剤、アルミネートカップリング剤から選ば
れ、硬化性樹脂は紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱
硬化樹脂などから選ばれる。プライマー膜9の膜厚は単
分子(数オングストローム)〜数μmの範囲が適当であ
る。プライマー膜9の塗布方法は、ベーパー塗布法やス
ピンコート法により行う。The coupling agent of the primer film 9 is specifically selected from a silane coupling agent, a titanate coupling agent and an aluminate coupling agent, and the curable resin is an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin. , Thermosetting resin, etc. The film thickness of the primer film 9 is appropriately in the range of a single molecule (several angstroms) to several μm. The primer film 9 is applied by a vapor coating method or a spin coating method.
【0026】上記ベーパー塗布法によりプライマー膜9
を形成する方法としては、例えば図5に示すように、半
透明反射層5を形成した基板4を、カップリング剤31
がいれられた密閉容器32内に半透明反射層5が下側に
なるようにカップリング剤31から距離を隔てて水平に
保持する。そして、所定時間放置するとカップリング剤
31の蒸気が半透明反射層5表面に被着される。このよ
うにしてプライマー膜9を形成する。一方、上記スピン
コート法を用いる場合は、カップリング剤そのものまた
はカップリング剤を含む樹脂を、回転させた半透明反射
層付きの基板4上に滴下し、所定の厚さに塗布し、必要
に応じて硬化させて形成する。The primer film 9 is formed by the above vapor coating method.
For example, as shown in FIG. 5, the substrate 4 on which the semitransparent reflective layer 5 is formed may be formed by the coupling agent 31.
The semi-transparent reflective layer 5 is held horizontally in the sealed container 32 with a distance from the coupling agent 31 so that the reflective layer 5 is on the lower side. Then, when left for a predetermined time, the vapor of the coupling agent 31 adheres to the surface of the semitransparent reflective layer 5. In this way, the primer film 9 is formed. On the other hand, when the spin coating method is used, the coupling agent itself or the resin containing the coupling agent is dropped on the rotated substrate 4 having the semitransparent reflection layer, and applied to a predetermined thickness, if necessary. Accordingly, it is cured and formed.
【0027】そして、このように半透明反射層5の上に
プライマー膜9を形成した後に、例えば、上述の第1の
実施例で説明した光ディスクの製造方法(図2参照)を
用いて、プライマー膜9上にピットや案内溝による凹凸
形状を有する上記透明樹脂層6を形成する。After forming the primer film 9 on the semitransparent reflective layer 5 as described above, the primer film 9 is formed by using, for example, the optical disc manufacturing method described in the first embodiment (see FIG. 2). The transparent resin layer 6 having an uneven shape due to pits and guide grooves is formed on the film 9.
【0028】なお、上記プライマー膜9は、シリコン酸
化膜、シリコン酸化膜系合金、シリコン窒化膜(SiN
x)、シリコン窒化膜系合金等と放射線樹脂との間の密
着性を高めるために設けているが、単層ディスクのよう
に基板4と透明樹脂層6とを直接密着させる場合の密着
性を高めるために設けても良い。The primer film 9 is made of a silicon oxide film, a silicon oxide film-based alloy, a silicon nitride film (SiN).
x), it is provided in order to improve the adhesion between the silicon nitride film-based alloy and the like and the radiation resin. However, the adhesion in the case of directly adhering the substrate 4 and the transparent resin layer 6 like a single-layer disc, You may provide in order to raise.
【0029】次に、具体的な実施例により本発明を更に
詳述する。 <実施例1>最短ピット長0.451μm、トラックピ
ッチ0.84μmで形成されたスタンパを2枚用意し
た。1枚めのスタンパ(射出成形用)は内径を35.6
mm、外径を128mmとし、2枚めのスタンパ(2P
成形用)は内径を30mm、外径を120mmに加工し
た。1枚めのスタンパを用いポリカーボネートの射出成
形で1.2mm厚の基板4を製作した。続いてこれにシ
リコン酸化膜(SiOx)からなる半透明反射層5(膜
厚500オングストローム)をスパッタリングで成膜し
た。Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. <Example 1> Two stampers having a shortest pit length of 0.451 µm and a track pitch of 0.84 µm were prepared. The inner diameter of the first stamper (for injection molding) is 35.6.
mm, outer diameter 128 mm, second stamper (2P
(For molding) had an inner diameter of 30 mm and an outer diameter of 120 mm. A 1.2 mm thick substrate 4 was manufactured by injection molding of polycarbonate using the first stamper. Subsequently, a semitransparent reflective layer 5 (film thickness 500 angstrom) made of a silicon oxide film (SiOx) was formed on this by sputtering.
【0030】次に、直径300mm、高さ50mmのフ
タ付き密閉容器を用意し、図5に示すようにシランカッ
プリング剤OAP(東京応化工業(株)製)を約1cm
の深さに満たしておく。なお、上記シランカップリング
剤OAPの構造式を以下の構造式1に示す。Next, an airtight container with a lid having a diameter of 300 mm and a height of 50 mm was prepared, and as shown in FIG. 5, a silane coupling agent OAP (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was added to about 1 cm.
To the depth of. The structural formula of the silane coupling agent OAP is shown in Structural Formula 1 below.
【0031】[0031]
【化1】 Embedded image
【0032】そして、シランカップリング剤OAPの液
面から3cmの空間を隔てて半透明反射層5が下になる
ようにして基板4を放置し、OAPの蒸気に5分間暴露
した。この処理によって半透明反射層5の表面にはプラ
イマー膜9が単分子層被着した。Then, the substrate 4 was left with the space of 3 cm from the liquid surface of the silane coupling agent OAP so that the semitransparent reflective layer 5 was on the lower side, and exposed to the vapor of OAP for 5 minutes. By this treatment, a monolayer of primer film 9 was deposited on the surface of the semitransparent reflective layer 5.
【0033】続いて外径120mmの平坦なターンテー
ブルを有するスピナーを用意し、2枚めのスタンパをこ
のターンテーブルに対しフラットになるよう取り付け
た。一方、2官能アクリレートR684(日本化薬
(株)製)を97部、光重合開始剤としてDarocu
r1173(メルクジャパン(株)製)3部から成る紫
外線硬化樹脂組成物を用意した。この紫外線硬化樹脂組
成物は23℃において、粘度が146cPであった。な
お、上記アクリレートR684の構造式を以下の構造式
2に、上記Darocur1173の構造式を以下の構
造式3に示す。Subsequently, a spinner having a flat turntable with an outer diameter of 120 mm was prepared, and a second stamper was attached to the turntable so as to be flat. On the other hand, 97 parts of bifunctional acrylate R684 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Darocu as a photopolymerization initiator
An ultraviolet curable resin composition consisting of 3 parts of r1173 (manufactured by Merck Japan Ltd.) was prepared. The viscosity of this ultraviolet curable resin composition was 146 cP at 23 ° C. The structural formula of the acrylate R684 is shown in the structural formula 2 below, and the structural formula of the Darocur 1173 is shown in the structural formula 3 below.
【0034】[0034]
【化2】 Embedded image
【0035】[0035]
【化3】 Embedded image
【0036】次に、ターンテーブルを30rpmで回転
させながら、この紫外線硬化樹脂組成物をスタンパ表面
上に直径80mmの位置に5秒間かけて滴下し、樹脂を
リング状に塗布した。次に、プライマー膜9を形成した
基板4をプライマー膜9と回転しているリング状樹脂が
対向するように落とし、ただちに回転数を1000rp
mに上げて15秒間保持した。この高速回転によって余
剰な紫外線硬化樹脂と、紫外線硬化樹脂中に混入した気
泡とが併せてスピンアウトした。続いて、ターンテーブ
ルの回転を100rpmに減じ、紫外線を大気中で10
秒間照射し、紫外線硬化樹脂を硬化させた。そして、ス
タンパから基板を剥離すると、透明樹脂層6を有する基
板が得られた。この得られた基板には気泡がなく、また
外周部のバリもなかった。また、形成した透明樹脂層6
の膜厚を測定したところ、38μm±2μmと均一であ
った。一方、剥離後のスタンパの方も外周部のバリはな
く、そのまま再使用ができる表面状態であった。Next, while rotating the turntable at 30 rpm, this ultraviolet curable resin composition was dropped onto the surface of the stamper at a position having a diameter of 80 mm for 5 seconds to apply the resin in a ring shape. Next, the substrate 4 on which the primer film 9 is formed is dropped so that the primer film 9 and the rotating ring-shaped resin face each other, and the rotation speed is immediately increased to 1000 rp.
It was raised to m and held for 15 seconds. By this high speed rotation, the surplus UV curable resin and the air bubbles mixed in the UV curable resin were spun out together. Subsequently, the turntable rotation was reduced to 100 rpm, and the ultraviolet light was changed to 10 rpm in the atmosphere.
It was irradiated for 2 seconds to cure the ultraviolet curable resin. Then, when the substrate was peeled off from the stamper, a substrate having the transparent resin layer 6 was obtained. The obtained substrate had no bubbles and no burr on the outer peripheral portion. In addition, the formed transparent resin layer 6
The film thickness was measured and found to be 38 μm ± 2 μm, which was uniform. On the other hand, the stamper after peeling did not have burrs on the outer peripheral portion and was in a surface state that could be reused as it was.
【0037】最後に透明樹脂層表面に第2の反射層7と
してアルミニウムをスパッタリングで700オングスト
ローム成膜した。そして保護膜8としてSD−1700
(大日本インキ製)をスピンコートで10μm成膜し、
図1に示す二層ディスク1を完成させた。Finally, 700 angstrom of aluminum was formed as a second reflective layer 7 on the surface of the transparent resin layer by sputtering. And SD-1700 is used as the protective film 8.
(Dai Nippon Ink Co., Ltd.) is spin coated to form a film of 10 μm,
The dual layer disc 1 shown in FIG. 1 was completed.
【0038】この光ディスクをレーザー波長635n
m、対物レンズ開口数NA0.52を有するディスク評
価機にて再生評価した。ピックアップのフォーカス位置
を変えて、各情報記録面2,3の信号を別々に観察する
ことができた。このとき両情報記録面2,3の相互干渉
は見いだせず、両情報記録面2,3ともアイパターンは
きれいに開いており、安定した再生が可能であった。イ
コライザー通過後の再生ジッターは第1の情報記録面2
が7.5%、第2の情報記録面3が6.8%で、充分実
用になるレベルであった。また、55℃、95%RH、
200時間の環境負荷試験で、ジッターはそれぞれ0.
6%と0.5%増加したが、透明樹脂層6のウキや膜剥
がれなどの問題は発生せず、信頼性の確認ができた。This optical disk is laser wavelength 635n
m, and reproduction evaluation was performed with a disk evaluation machine having an objective lens numerical aperture NA of 0.52. It was possible to observe the signals on the respective information recording surfaces 2 and 3 separately by changing the focus position of the pickup. At this time, mutual interference between the two information recording surfaces 2 and 3 was not found, and the eye pattern was opened neatly on both information recording surfaces 2 and 3, and stable reproduction was possible. The reproduction jitter after passing through the equalizer is the first information recording surface 2
Was 7.5%, and the second information recording surface 3 was 6.8%, which was at a practically sufficient level. Also, 55 ℃, 95% RH,
In the environmental load test for 200 hours, the jitter was 0.
Although it increased by 6% to 0.5%, the reliability could be confirmed without causing problems such as fluffing and film peeling of the transparent resin layer 6.
【0039】<実施例2>半透明反射層5(膜厚500
オングストローム)をスパッタリングで成膜するところ
までは実施例1と同様に作製した。次に、シランカップ
リング剤A−174(日本ユニカー(株)製)5部、2
官能アクリレートHDDA(日本化薬(株)製)92
部、光重合開始剤Darocur1173(メルクジャ
パン(株)製)3部から成るプライマー液を用意した。
なお、上記A−174の構造式を以下の構造式4に、上
記HDDAの構造式を以下の構造式5に示す。<Example 2> Semi-transparent reflective layer 5 (film thickness: 500)
The process was performed in the same manner as in Example 1 up to the process of forming a film by sputtering. Next, silane coupling agent A-174 (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 5 parts, 2
Functional acrylate HDDA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 92
Part, and a photopolymerization initiator Darocur1173 (manufactured by Merck Japan Ltd.) 3 parts were prepared.
The structural formula of A-174 is shown in Structural Formula 4 below, and the structural formula of HDDA is shown in Structural Formula 5 below.
【0040】[0040]
【化4】 Embedded image
【0041】[0041]
【化5】 Embedded image
【0042】スピナーを用いて上記プライマー溶液を半
透明反射層5に滴下し、2000rpmの高速回転で振
り切りを行った。続いて回転を100rpmに減じ、紫
外線を大気中で10秒間照射、硬化させプライマー膜9
を形成した(膜厚約1μm)。引き続きスピナーの回転
を30rpmに下げ、2官能アクリレートR551(日
本化薬(株)製)97部、光重合開始剤Darocur
1173(メルクジャパン(株)製)3部から成る紫外
線硬化樹脂組成物(23℃における樹脂粘度が1100
cP)を5秒間かけて直径70mmの位置にリング状に
塗布し、スピナーを停止させた。なお、上記R551の
構造式を以下の構造式6に示す。The above-mentioned primer solution was dropped on the semitransparent reflective layer 5 using a spinner and shaken off at a high speed of 2000 rpm. Then, the rotation is reduced to 100 rpm, ultraviolet rays are irradiated for 10 seconds in the atmosphere, and the primer film 9 is cured.
Was formed (film thickness of about 1 μm). Then, the rotation of the spinner was reduced to 30 rpm, 97 parts of a bifunctional acrylate R551 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and a photopolymerization initiator Darocur.
1173 (manufactured by Merck Japan Ltd.) 3 parts UV curable resin composition (resin viscosity at 23 ° C. is 1100
cP) was applied in a ring shape at a position having a diameter of 70 mm for 5 seconds, and the spinner was stopped. The structural formula of R551 is shown in Structural Formula 6 below.
【0043】[0043]
【化6】 [Chemical 6]
【0044】続いて、内径を25mm、外径を119m
mに加工した2枚めのスタンパを平坦に取り付けた外径
119mmのターンテーブルを有するスピナーを用意し
た。そして2枚目のスタンパ表面と上記基板上に塗布し
たリング状の樹脂面とが対向するように重ね合わせ、直
ちに1500rpmの高速回転を30秒行った。これに
よって余剰な紫外線硬化樹脂と混入した気泡が併せてス
ピンアウトした。そして最後に5000rpmの超高速
回転を1秒間行い、回転を停止させた。続いてこの一組
を窒素雰囲気に置き、紫外線を5秒間照射し、紫外線硬
化樹脂を硬化させた。そして、スタンパから基板を剥離
すると、ピット4Bが形成された透明樹脂層6を有する
基板4が得られた。そして、この形成された透明樹脂層
6を観察したところ、気泡がなく、また外周部のバリも
なかった。更に、透明樹脂層6の膜厚を測定したとこ
ろ、40μm±3μmと均一であった。一方、剥離後の
スタンパの方も外周部のバリはなく、そのまま再使用が
できる表面状態であった。最後に実施例1と同様に、反
射層7、保護膜8を成膜し、光ディスク1を完成させ
た。Subsequently, the inner diameter is 25 mm and the outer diameter is 119 m.
A spinner having a turntable with an outer diameter of 119 mm in which a second stamper machined to m was attached flat was prepared. Then, the surface of the second stamper and the ring-shaped resin surface coated on the substrate were superposed so as to face each other, and immediately subjected to high-speed rotation at 1500 rpm for 30 seconds. As a result, the surplus UV curable resin and the mixed air bubbles were also spun out. Finally, ultra-high speed rotation of 5000 rpm was performed for 1 second to stop the rotation. Subsequently, this set was placed in a nitrogen atmosphere and irradiated with ultraviolet rays for 5 seconds to cure the ultraviolet curable resin. Then, when the substrate was peeled from the stamper, the substrate 4 having the transparent resin layer 6 in which the pits 4B were formed was obtained. When the formed transparent resin layer 6 was observed, there were no bubbles and no burrs on the outer peripheral portion. Further, the film thickness of the transparent resin layer 6 was measured and found to be 40 μm ± 3 μm, which was uniform. On the other hand, the stamper after peeling did not have burrs on the outer peripheral portion and was in a surface state that could be reused as it was. Finally, in the same manner as in Example 1, the reflective layer 7 and the protective film 8 were formed to complete the optical disc 1.
【0045】なお、1500rpmの高速回転の後に5
000rpmの超高速回転を加えた理由としては、粘度
の高い樹脂は外周端部に樹脂が表面張力で盛り上がりや
すくなるためである。この表面張力による外周端部の盛
り上がりは、放射線硬化樹脂の硬化後にバリになる程の
量ではないが、スタンパの剥離時に離型力が余分に必要
となってしまう。そこで、4000〜10000rpm
の超高速回転をごく短時間加えて、端部盛り上がり樹脂
の振り切りを完全に行ったのである。また紫外線硬化を
窒素雰囲気で行った理由は、空気中の酸素を遮断して、
硬化速度を速めるためであるが、窒素に限らず、アルゴ
ン、二酸化炭素等でも同様の効果がえられる。After the high speed rotation of 1500 rpm, 5
The reason why the ultra-high speed rotation of 000 rpm is applied is that the resin having a high viscosity is likely to swell at the outer peripheral end due to the surface tension. The rise of the outer peripheral end portion due to the surface tension is not such an amount that it becomes a burr after the radiation curable resin is cured, but an extra mold releasing force is required when the stamper is peeled off. So 4000-10000 rpm
The ultra-high speed rotation was added for a very short time to completely shake off the resin that swelled up at the edges. The reason for UV curing in a nitrogen atmosphere is that oxygen in the air is shut off,
Although it is for increasing the curing speed, similar effects can be obtained not only with nitrogen but also with argon, carbon dioxide, or the like.
【0046】以上のように作製した光ディスクを、実施
例1と同様にレーザー波長635nm、対物レンズ開口
数NA0.52を有するディスク評価機にて再生評価し
たところ、実施例1と同様に安定して再生できた。ま
た、イコライザー通過後の再生ジッターは第1の情報記
録面2が7.7%、第2の情報記録面3が7.1%で、
充分実用になるレベルであった。また55℃、95%R
H、200時間の環境負荷試験で、ジッターはそれぞれ
0.8%、0.7%増加したが、透明樹脂層6のウキや
膜剥がれなどの問題は発生せず、信頼性の確認ができ
た。When the optical disk manufactured as described above was reproduced and evaluated by a disk evaluation machine having a laser wavelength of 635 nm and an objective lens numerical aperture NA of 0.52 as in Example 1, it was found to be stable as in Example 1. I was able to play it. The reproduction jitter after passing through the equalizer was 7.7% on the first information recording surface 2 and 7.1% on the second information recording surface 3,
It was at a level where it was practically used. Also 55 ℃, 95% R
In the environmental load test for H and 200 hours, the jitter increased by 0.8% and 0.7%, respectively, but there was no problem such as fluffing or film peeling of the transparent resin layer 6, and the reliability could be confirmed. .
【0047】以上、2つの実施例について説明したが、
本発明はこれら2例に限定されるものではない。例えば
上記実施例1,2では透明樹脂層6を形成する放射線硬
化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いたが、その組成物は
感応性不飽和樹脂と光重合開始剤に限定されるものでは
なく、重合促進剤、離形剤、黄変防止剤等の少量の添加
物を加えてもよい。また先述したように、電子線硬化樹
脂などでもよい。またプライマー膜9として塗布する樹
脂も紫外線硬化樹脂に限定されるものではなく、電子線
硬化樹脂や熱硬化性樹脂などが使用でき、必要に応じて
溶剤等で希釈して使用することもできる。またカップリ
ング材はシランカップリング剤以外に、チタネートカッ
プリング剤、アルミネートカップリング剤なども用いる
ことができる。更にプライマー膜9の塗布後、必要なら
ばベーキングを行って密着力を高めてもよい。The two embodiments have been described above.
The present invention is not limited to these two examples. For example, in Examples 1 and 2 described above, an ultraviolet curable resin was used as the radiation curable resin for forming the transparent resin layer 6, but the composition is not limited to the sensitive unsaturated resin and the photopolymerization initiator, and the polymerization is not limited. A small amount of additives such as an accelerator, a releasing agent and an anti-yellowing agent may be added. Further, as described above, an electron beam curing resin or the like may be used. Further, the resin applied as the primer film 9 is not limited to the ultraviolet curable resin, and an electron beam curable resin, a thermosetting resin or the like may be used, and may be diluted with a solvent or the like and used as necessary. In addition to the silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent, or the like can be used as the coupling material. Further, after applying the primer film 9, baking may be performed if necessary to enhance the adhesion.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上説明したように本発明の光学的情報
記録媒体の製造方法によれば、光透過性材料から成る基
板上に放射線硬化樹脂層を積層して成り、放射線硬化樹
脂層上に案内溝又はピットによる凹凸形状を形成して情
報を記録するための情報記録面とした光学的情報記録媒
体の製造方法において、放射線硬化樹脂を挟んで基板と
スタンパとを対向して重ね合わせ後に、基板とスタンパ
とを重ね合わせた状態で高速回転させるので、均一な膜
厚で気泡の混入がない放射線硬化樹脂層を短時間の製造
工程で形成することができる。As described above, according to the method for manufacturing an optical information recording medium of the present invention, a radiation curable resin layer is laminated on a substrate made of a light transmissive material, and the radiation curable resin layer is formed on the radiation curable resin layer. In a method for manufacturing an optical information recording medium which is used as an information recording surface for recording information by forming a concavo-convex shape by a guide groove or a pit, after a substrate and a stamper are superposed on each other with a radiation curable resin sandwiched therebetween, Since the substrate and the stamper are rotated at a high speed in a superposed state, it is possible to form a radiation curable resin layer having a uniform film thickness and containing no bubbles in a short manufacturing process.
【0049】また、光透過性材料から成る基板上に半透
明反射層、放射線硬化樹脂層を順次積層して成り、前記
放射線硬化樹脂層上に案内溝又はピットによる凹凸形状
を形成して情報を記録するための情報記録面とした光学
的情報記録媒体において、前記半透明反射層と放射線硬
化樹脂層との間にプライマー膜を形成したので、放射線
硬化樹脂層にクラックが入ったり、或いは放射線硬化樹
脂層が剥離することを防止でき光学的情報記録媒体の信
頼性を向上することができる。Further, a semi-transparent reflective layer and a radiation curable resin layer are sequentially laminated on a substrate made of a light transmissive material, and an uneven shape is formed on the radiation curable resin layer by a guide groove or a pit to provide information. In the optical information recording medium used as the information recording surface for recording, since the primer film is formed between the semitransparent reflection layer and the radiation curable resin layer, the radiation curable resin layer may be cracked or radiation cured. The resin layer can be prevented from peeling off, and the reliability of the optical information recording medium can be improved.
【図1】本発明及び従来の光学的情報記録媒体で製造し
た多層構造の光ディスクの構造の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of the structure of an optical disc having a multi-layered structure manufactured by the present invention and a conventional optical information recording medium.
【図2】本発明の光学的情報記録媒体の製造方法の第1
の実施例を説明するための図である。FIG. 2 is a first method of manufacturing an optical information recording medium of the present invention.
It is a figure for explaining the Example of.
【図3】本発明の光学的情報記録媒体の製造方法で使用
する放射線硬化樹脂の樹脂粘度を説明するための図であ
る。FIG. 3 is a diagram for explaining the resin viscosity of the radiation curable resin used in the method for producing an optical information recording medium of the present invention.
【図4】本発明の光学的情報記録媒体の一実施例の構造
を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the structure of an embodiment of the optical information recording medium of the present invention.
【図5】本発明の光学的情報記録媒体の製造方法の第2
の実施例を説明するための図である。FIG. 5 is a second manufacturing method of the optical information recording medium of the present invention.
It is a figure for explaining the Example of.
【図6】従来の光学的情報記録媒体の製造方法の一例を
示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an example of a conventional method for manufacturing an optical information recording medium.
1,10 光ディスク(光学的情報記録媒体) 2 第1の情報記録面 3 第2の情報記録面 4 光透過性基板 5 半透明反射層 6 透明樹脂層(放射線硬化樹脂層) 7 反射層 9 プライマー膜 21 スタンパ 22 放射線硬化樹脂 31 プライマー溶液 1, 10 Optical disc (optical information recording medium) 2 First information recording surface 3 Second information recording surface 4 Light transmissive substrate 5 Semitransparent reflective layer 6 Transparent resin layer (radiation curable resin layer) 7 Reflective layer 9 Primer Membrane 21 Stamper 22 Radiation curable resin 31 Primer solution
Claims (6)
樹脂層を積層して成り、前記放射線硬化樹脂層上に案内
溝又はピットによる凹凸形状を形成して情報を記録する
ための情報記録面とした光学的情報記録媒体の製造方法
において、 前記放射線硬化樹脂層の凹凸形状を形成するためのスタ
ンパの表面又は前記基板上に放射線硬化樹脂を滴下する
工程と、この滴下した放射線硬化樹脂を挟んで前記基板
と前記スタンパとを対向して重ね合わせる工程と、前記
基板と前記スタンパとを重ね合わせた状態で高速回転さ
せる工程と、放射線を照射して前記放射線硬化樹脂を硬
化させる工程とをこの順に有することを特徴とする光学
的情報記録媒体の製造方法。1. An information recording for recording information by laminating a radiation curable resin layer on a substrate made of a light transmissive material, and forming an uneven shape by guide grooves or pits on the radiation curable resin layer. In the method for producing an optical information recording medium having a surface, a step of dropping a radiation curable resin on the surface of the stamper or the substrate for forming the uneven shape of the radiation curable resin layer, and the dropped radiation curable resin A step of superposing the substrate and the stamper so as to face each other with the substrate sandwiched therebetween, a step of rotating the substrate and the stamper at high speed in a state of being superposed, and a step of irradiating radiation to cure the radiation curable resin. A method for manufacturing an optical information recording medium, characterized by having in this order.
方法において、 前記放射線硬化樹脂として粘度が80〜1100cPの
ものを使用することを特徴とする光学的情報記録媒体の
製造方法。2. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the radiation curable resin has a viscosity of 80 to 1100 cP.
記録媒体の製造方法において、 前記スタンパの外径を、前記基板の外径と同じか、又は
僅かに小さくしたことを特徴とする光学的情報記録媒体
の製造方法。3. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 1, wherein the outer diameter of the stamper is the same as or slightly smaller than the outer diameter of the substrate. Optical information recording medium manufacturing method.
層、放射線硬化樹脂層を順次積層して成り、前記放射線
硬化樹脂層上に案内溝又はピットによる凹凸形状を形成
して情報を記録するための情報記録面とした光学的情報
記録媒体において、 前記半透明反射層と放射線硬化樹脂層との間にプライマ
ー膜を形成したことを特徴とする光学的情報記録媒体。4. A semitransparent reflective layer and a radiation curable resin layer are sequentially laminated on a substrate made of a light transmissive material, and an uneven shape is formed on the radiation curable resin layer by a guide groove or a pit to provide information. An optical information recording medium used as an information recording surface for recording, wherein a primer film is formed between the semitransparent reflective layer and the radiation curable resin layer.
て、 前記プライマー膜は、シランカップリング剤、チタネー
トカップリング剤、アルミネートカップリング剤から選
ばれたカップリング剤もしくはそれを含む樹脂を塗布し
た膜であることを特徴とする光学的情報記録媒体。5. The optical information recording medium according to claim 4, wherein the primer film comprises a coupling agent selected from a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminate coupling agent, or a resin containing the coupling agent. An optical information recording medium, which is a coated film.
層、プライマー膜、放射線硬化樹脂層が順次積層されて
構成され、前記放射線硬化樹脂層上に案内溝又はピット
による凹凸形状が形成された光学的情報記録媒体の製造
方法であって、 前記基板上の半透明反射層上に前記プライマー膜を形成
する工程と、前記放射線硬化樹脂層の凹凸形状を形成す
るためのスタンパの表面又は前記プライマー膜上に放射
線硬化樹脂を滴下する工程と、前記基板と前記スタンパ
とを対向して重ね合わせて前記放射線硬化樹脂を硬化さ
せて前記放射線硬化樹脂層上の凹凸形状を形成する工程
とをこの順に有することを特徴とする光学的情報記録媒
体の製造方法。6. A translucent reflective layer, a primer film, and a radiation curable resin layer are sequentially laminated on a substrate made of a light transmissive material, and an uneven shape is formed on the radiation curable resin layer by guide grooves or pits. A method of manufacturing an optical information recording medium, comprising the step of forming the primer film on the semitransparent reflective layer on the substrate, and the surface of a stamper for forming the uneven shape of the radiation curable resin layer or A step of dropping a radiation curable resin on the primer film, and a step of forming the uneven shape on the radiation curable resin layer by facing and superposing the substrate and the stamper to cure the radiation curable resin. A method for manufacturing an optical information recording medium, characterized by having in this order.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7292013A JPH09115191A (en) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | Optical information recording medium and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7292013A JPH09115191A (en) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | Optical information recording medium and its production |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003316449A Division JP2004039250A (en) | 2003-09-09 | 2003-09-09 | Manufacturing method of optical information recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09115191A true JPH09115191A (en) | 1997-05-02 |
Family
ID=17776400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7292013A Pending JPH09115191A (en) | 1995-10-13 | 1995-10-13 | Optical information recording medium and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09115191A (en) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003032306A1 (en) * | 2001-10-04 | 2003-04-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing multilayer optical recording medium and multilayer optical recording medium |
| KR20030030875A (en) * | 2001-10-09 | 2003-04-18 | 린텍 가부시키가이샤 | Optical disk producing sheet |
| WO2003081584A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multi-layered optical information recording medium manufacturing method |
| US6692246B1 (en) * | 2000-10-31 | 2004-02-17 | Valdas Ltd. (A British Virgin Island Corp.) | Apparatus for uninterrupted multi-layer disc manufacturing |
| KR100469272B1 (en) * | 2002-11-19 | 2005-02-02 | 엘지전자 주식회사 | method for production cover layer in recording media of high density |
| WO2005114663A1 (en) * | 2004-05-21 | 2005-12-01 | Lintec Corporation | Sheet for production of optical recording medium |
| US7051347B2 (en) | 2001-06-14 | 2006-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing optical recording medium by transfer process using a stamper, and optical recording medium produced thereby |
| CN1324595C (en) * | 2004-07-19 | 2007-07-04 | 精碟科技股份有限公司 | Mold for manufacturing optical information storage medium and method for manufacturing optical information storage medium |
| US8454863B2 (en) * | 2002-05-10 | 2013-06-04 | Panasonic Corporation | Method of and apparatus for manufacturing multi-layer optical information recording medium |
| JP2015174421A (en) * | 2014-03-18 | 2015-10-05 | 株式会社東芝 | Laminated shaped article, manufacturing method thereof, and laminated shaped article manufacturing apparatus |
-
1995
- 1995-10-13 JP JP7292013A patent/JPH09115191A/en active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6692246B1 (en) * | 2000-10-31 | 2004-02-17 | Valdas Ltd. (A British Virgin Island Corp.) | Apparatus for uninterrupted multi-layer disc manufacturing |
| US7051347B2 (en) | 2001-06-14 | 2006-05-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of producing optical recording medium by transfer process using a stamper, and optical recording medium produced thereby |
| WO2003032306A1 (en) * | 2001-10-04 | 2003-04-17 | Tdk Corporation | Method of manufacturing multilayer optical recording medium and multilayer optical recording medium |
| KR20030030875A (en) * | 2001-10-09 | 2003-04-18 | 린텍 가부시키가이샤 | Optical disk producing sheet |
| WO2003081584A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multi-layered optical information recording medium manufacturing method |
| US7497916B2 (en) | 2002-03-27 | 2009-03-03 | Panasonic Corporation | Method of manufacturing multilayer optical information recording medium |
| US8454863B2 (en) * | 2002-05-10 | 2013-06-04 | Panasonic Corporation | Method of and apparatus for manufacturing multi-layer optical information recording medium |
| KR100469272B1 (en) * | 2002-11-19 | 2005-02-02 | 엘지전자 주식회사 | method for production cover layer in recording media of high density |
| WO2005114663A1 (en) * | 2004-05-21 | 2005-12-01 | Lintec Corporation | Sheet for production of optical recording medium |
| CN1324595C (en) * | 2004-07-19 | 2007-07-04 | 精碟科技股份有限公司 | Mold for manufacturing optical information storage medium and method for manufacturing optical information storage medium |
| JP2015174421A (en) * | 2014-03-18 | 2015-10-05 | 株式会社東芝 | Laminated shaped article, manufacturing method thereof, and laminated shaped article manufacturing apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100758076B1 (en) | Manufacturing method, manufacturing apparatus of optical information recording medium, and optical information recording medium | |
| JP3762759B2 (en) | Optical information recording medium and method for manufacturing optical information recording medium | |
| JP4258037B2 (en) | Optical recording medium and optical recording / reproducing apparatus using the same | |
| JPH09115191A (en) | Optical information recording medium and its production | |
| US8454863B2 (en) | Method of and apparatus for manufacturing multi-layer optical information recording medium | |
| TWI362664B (en) | Method of manufacturing optical information recording medium | |
| JPWO2005088629A1 (en) | Multilayer information recording medium and manufacturing method thereof | |
| JPWO2009066414A1 (en) | Information recording medium and manufacturing method thereof | |
| JPH10275362A (en) | Optical bonded disc and its molding die | |
| US20040184397A1 (en) | Optical recording medium, method of producing the same and protective film-forming resin | |
| JP3680057B2 (en) | Recording medium and manufacturing method thereof | |
| JP5485287B2 (en) | Information recording medium manufacturing method and information recording medium | |
| CN1515004A (en) | Optical recording medium and manufacturing method thereof | |
| JP4795339B2 (en) | Multilayer information recording medium and manufacturing method thereof | |
| JP4618111B2 (en) | Optical recording medium and manufacturing method thereof | |
| JP2004039250A (en) | Manufacturing method of optical information recording medium | |
| WO2008041526A1 (en) | Method and apparatus for manufacturing optical recording medium | |
| WO2009123353A2 (en) | Optical information recording medium and manufacturing method therefor | |
| JP4433632B2 (en) | Manufacturing method of optical recording medium | |
| WO2003012784A1 (en) | Optical recording medium, method of producing the same and protective film-forming resin | |
| JP4039131B2 (en) | Manufacturing method of multilayer optical disk | |
| JPH08212597A (en) | Optical information medium, optical information medium manufacturing method, and optical information medium manufacturing apparatus | |
| JP2001126318A (en) | Method for manufacturing optical information recording medium | |
| JP2002298441A (en) | Both side recording type bonded optical recording medium | |
| JP2003242694A (en) | Manufacturing method of optical recording medium |