JPH09115689A - ほぼ軸対称の一般的構造を有するプラズマトーチ - Google Patents
ほぼ軸対称の一般的構造を有するプラズマトーチInfo
- Publication number
- JPH09115689A JPH09115689A JP8182838A JP18283896A JPH09115689A JP H09115689 A JPH09115689 A JP H09115689A JP 8182838 A JP8182838 A JP 8182838A JP 18283896 A JP18283896 A JP 18283896A JP H09115689 A JPH09115689 A JP H09115689A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- torch
- casing
- electrode
- plasma
- upstream
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 46
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 16
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 9
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 9
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 3
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 3
- 238000004017 vitrification Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N (r)-(6-ethoxyquinolin-4-yl)-[(2s,4s,5r)-5-ethyl-1-azabicyclo[2.2.2]octan-2-yl]methanol;hydrochloride Chemical compound Cl.C([C@H]([C@H](C1)CC)C2)CN1[C@@H]2[C@H](O)C1=CC=NC2=CC=C(OCC)C=C21 QNRATNLHPGXHMA-XZHTYLCXSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/40—Details, e.g. electrodes, nozzles using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/28—Cooling arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3489—Means for contact starting
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3431—Coaxial cylindrical electrodes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
チに関する。 【解決手段】 裸トーチ1とその近位端で一体の、流体
と前記トーチの外部と連結する電気的連結具を入れる外
部構造部材2を備え、前記裸トーチが、少くとも部分的
に重複し、前記外部構造部材2と一体の3つの同軸ケー
シング、すなわち1つは金属製外部ケーシング、2つは
前記外部ケーシングによって電極の冷却流体の帰りの回
路を形成する中間金属製ケーシング、3つは前記中間ケ
ーシングによってプラズマジーン気体を噴射手段に入
れ、またその内面を介し前記冷却流体の流入流れを上流
電極、磁界コイル、可能であれば下流電極の方向にも流
路をつける内部ケーシングからなる。
Description
述すれば、限定的ではないが非プラズマアークトーチに
関するものである。
チは2つの同軸チューブ状電極を備え、その片方が他方
に伸び、そして各々をそれを取囲む支持材に配置する。
前記両電極の間に電気アークを始動させる手段ならびに
プラズマジーン(plasmagene)気体、例えば空気の噴射
手段も設ける。前記電極の冷却用手段も各々の電極支持
材に配設する。
電気アークのロッキングフート(locking foot)を前記
上流電極上に移動させる。前記上流電極の支持材を取囲
む電磁コイルにより構成された手段を配設する。
の始動を、前記スタータジャックによって前記上流電極
を前記下流電極に接触させる一時的移動により両電極間
に作られた一時的短絡により行うプラズマトーチに適用
できる。
に詳細に示すため、フランス国特許第FR−A−2,6
54,294号の図6の実施例に言及する。
的とする縮小した空間必要条件を伴う小型プラズマトー
チに関するものである。
流電極だけでなくプラズマジーン気体の噴射装置、前記
電極冷却装置、前記上流電極を移動して始動させるジャ
ック装置ならびに前記アーク足部を移動させる磁界コイ
ルを収容するチューブ状ケーシングからなる。
クに接続して、前記チューブ状ケーシングと後部接続部
分の間の連結点の高さにあるフランジ装置により炉壁に
固定させるトーチの外側部分との流体ならびに電気的連
結を確実にする。前記チューブ状ケーシングの部分、い
わゆる裸トーチは前記炉中に係合している。
ーチの設計は複雑で様々の長さの裸トーチを容易に設計
して特定の工業上の必要条件を満すことはできない。
ものではなく、冷却回路の複雑性は結果として著しい圧
力降下をもたらし、例えば約12バールの高圧力の使用
に対する依存が避けられなくなる。
始動させるジャックの制御に必要な圧力に影響を及ぼ
す。それは前記上流電極の始動に続く収縮の間、前記ジ
ャックが冷却流体による上流電極に加えられる下流トラ
ストに打ち勝つ必要があるからである。これが前記ジャ
ックを作動させる約160バールの圧力を必要とする理
由である。
用部品(上流ならびに下流電極)に対し、またその制
御、例えばスタータジャックの位置や変位に対する制御
実施の満足できる容易性を提供しない。事実、実際問題
として、トーチの完璧な分解が必要である。
ズマトーチの上述の様々な欠点の軽減、さらに一般的に
は用いられる始動装置のいかんにかかわらず、簡略化さ
れた全体構成、すなわちほとんど全体的にほぼ軸対称
で、従ってトーチの製造ならびにその保管の双方を容易
にするトーチを提案することで、非プラズマアークある
いはアークプラズマアーク型トーチの探求にある。
造のもので、 ・単一の上流電極もしくは上流および下流の同軸の円筒
状をなし、適当な冷却回路により冷却される電極と、ア
ーク足部を移動させる磁界コイルと、前記上流電極の下
流もしくは上流電極と下流電極の間にプラズマジーン気
体を噴射させ、そのうえトーチの始動を確実にさせるた
め配設された手段を収容するチューブ状部分、いわゆる
裸トーチと; ・前記裸トーチとその近位端で一体で、前記冷却流体と
トーチの外部との電気的連結をグループ分けした外部構
造部材と;を備える形式をなし、前記裸トーチが3つの
同軸ケーシングで、互いが部分的に重複してなり、前記
外部構造部材と一体をなし、すなわち、1つは外部金属
製ケーシング、2つに前記外部ケーシングによって前記
電極とコイルの冷却流体帰り回路を形成する金属製中間
ケーシングと、そして3つは前記中間ケーシングによっ
て前記プラズマジーン気体を前記噴射手段に入れ、また
その内面を介して前記冷却流体の流入流れを前記上流電
極、前記磁界コイル、可能ならば下流電極の方向にも流
路をつける回路を形成する内部ケーシングとからなるこ
とを特徴とする。
と、詳述すれば後者に連続するケーシング、すなわちそ
の長さに関係なく標準的内部素子、すなわち電極と、磁
界コイルと、プラズマジーン気体噴射装置、冷却回路の
セパレーターならびに始動手段を収容する裸トーチの長
さに関して必要とされる長さを与えることができる。
極に一時的により接近させるスタータジャックからなる
始動装置を配設した非プラズマアークトーチに対する本
発明の1つの特定の応用によれば、前記スタータジャッ
クが前記外部構造部材の本体の外部に配置され、そして
前記ジャックを真直に横切る棒からなり;上流電極に前
記外部構造部材の本体に、また前記内部ケーシングに延
長する連結棒により接続され;また前記冷却流体の流入
流れを働かせ前記ジャック棒に前記冷却流体の上流電極
上の圧力を釣合わせる反対圧力を加えることができる断
面をもつ一方、前記ジャックの棒の外端にこの棒の変位
制御の手段を配設する。
却回路の圧力降下より明らかに小さい降下を示す冷却回
路をかなり単純化し、従って対等の冷却能力で冷却流体
により必要とされる圧力を、例えば12から6バール
へ、非プラズマアークトーチならびにスタータトーチの
場合、スタータジャックの作動に必要な圧力に比例した
減圧による間接的な有利な結果を伴う著しい圧力の減少
を可能にする。
プラズマトーチの実施例の記述と、実施例と添付図面を
参照して示される記述の解釈からさらに容易に見えてく
るに違いない。
化炉での使用ができかつ2つの主部、すなわち外部構造
部材で形成された前部がほぼ円筒状になった裸トーチ部
分1と後部接続部分2で形成され、冷却流体とトーチの
外部との電気的連結を確実にし、またトーチの輸送と取
扱いを可能にするプラズマトーチを示す。
た遠位端もしくはノーズ3を備える一方、前記裸トーチ
1を壁に設けられた適当な開口部により後者に導入され
た時、炉の外部に残ったままになるので外部構造部材と
して周知の構造部材2を、前記裸トーチ1と同軸のチュ
ーブ状本体4として、その端部に2つの菱形フランジ5
を設け、その端部ジャーナル6で支承して前記トーチを
吊上げビーム(図示せず)まで吊上げできるよう形成す
る。
チ1は3つの部分的に重複する同軸ケーシング、すなわ
ち1つは外部金属製ケーシング7、2つは中間金属製ケ
ーシング8および3つは非導電性材料製の内部ケーシン
グ9で形成された支承構造部材(図2、3と4)からな
る。
裸トーチ1の全長に亘って伸び、その近位端で前記外部
構造部材2のチューブ状本体4に環状連結部品10を用
いて接続される。
ーシング7のほぼ全長に亘り最も大きい直径を備えて伸
び、それをほぼ中心領域でねじ込み頭頂部11により防
水性をもたせて固定する本体4の内部に入る。
本体4とケーシング8の間に形成される環状空間13と
連絡する環状空間12が設けられる。
れ、また図2、3と4で同じ参照番号で表され、トーチ
の熱い部分の冷却流体(この場合、脱イオン水)を戻ら
せる帰り管(図示せず)を備える通路により連絡する。
いて、遠位端をトーチのノーズに固定した従来の電極で
ある下流電極の冷却回路の環状セパレーター15を支持
させる。
るように、前記プラズマジーン気体噴射装置17と、こ
れも前記下流電極16のような従来の同軸環状電極とを
前記トーチの軸19に固定するために用いる。
位端と、前記本体4の前記ねじ込み頭頂部20により固
定させることにより、前記部品11の僅かな後方で本体
4の位置とのほぼ間に伸びる円筒状チューブである。
状空間22と連絡し、また図1の参照番号23で示さ
れ、また図2、3と4の同じ参照番号により単に示され
た通路を介して取入れ管(図示せず)と連絡して、この
場合空気であるプラズマジーン流体を流入させる環状空
間21が前記チューブ9により形成される。
電極18の冷却回路の環状セパレーター24の端部とシ
ールに接触させる。
いる磁界コイル25として周知の従来の電磁チューブ状
コイルがこの電極を外部から覆う。前記セパレーター2
4のこの遠位端を前記中間ケーシング8の遠位端に、前
記プラズマジーン気体噴射装置の支持材である非導電材
料製の環状連結素子26を介して接続する。
製で前記両電極16、18の間の間隙に、また素子26
に囲繞された均質化室28を配設した外面に配置した孔
あき環状グリッド27を備える。
を介して前記空間21と連絡する。前記孔29(この場
合6つ…前記素子2lの全断面の斜視図を示す図6参
照)を規則正しく分布させ、それらの軸30は前記素子
26の軸を切断せずに、空気が前記孔29を通って前記
均質化室28に入る時、渦効果を生ずるようにする。
に平行な、すなわち前記トーチの軸19に平行な一連の
孔31によって穿設されており、前記冷却回路、上流電
極18、磁界コイル25、そして下流電極16の連続性
を逐次確保している。
パレーター24と、適当な距離をとって前記磁界コイル
25を取囲むセパレーターチューブ33の間に形成され
る環状空間32と、前記セパレーター15と前記下流電
極16の間に範囲を形成された環状空間とを連絡させる
ことを示している。
16の近位端に点火ピンとして周知のストップピン35
を固定する。
は、フランジ39の内腔38に滑動的に取付けられた非
導電性伝達軸の端部に固定した金属銅棒36の端部に固
定され、該スランジ39は大きい断面を有しかつその端
部を前記本体4の外端に取付けられている。
外部のフランジ39に固定されたスタータジャック42
の中空棒41の内部に延長する棒40と一体である。
に横切って、その外端でナットと逆ナットの対43によ
り前記棒40と一体となっている。その他端で、棒41
がダンパーばね45により前記棒40と一体の座金44
に接して支えられている。
止め46が、前記ジャック42の端部に関し、その距離
の修正により前記ジャック棒の変位を制御できる。
に滑動的に取付けられ、それと一体で、前記コイルの巻
きの上で接続された金属ブッシュを支える。
49は、前記内部チューブ状ケーシング9の反対側に延
長する軸19に平行しかつ材料が非導電材料であるフラ
ンジ39に固定される前記本体4を横切る電気接続棒5
0の端部に固定される。
接続するが、接続端子52で構成された一極は金属製本
体4に接続される。
0、素子49、直列に取付けた磁界コイル25、素子4
7、棒36、上流電極18、下流電極16、トーチノー
ズ、外部ケーシング7ならびに本体4を備える。
前記本体4により、また前記棒36と37が延長する軸
内にまで形成される空間53と接触する。
れ、また図2で同じ参照番号によりただ示された通路を
介して取入管(図示せず)と連絡し、接続して前記トー
チの冷却水を入れることができる。
れかつ前記上流電極18の端片48cと前記コイル25
と一体のベンチュリ素子を形成しかつ水の流路を前記上
流電極18と,電界コイル25の間の空間の方に向ける
環状の偏向板48dとの間に配設された環状空間48b
に備えられた孔48aを介して連絡する空間53により
構成する。その後、前記水は前記コイル25とチューブ
33の間の空間に、次に空間32に(前記チューブ33
の近位端の孔55を経由)、さらに空間34に、そして
その後空間12に、最後に空間13の中に入って通過す
る。このようにして、この回路は完全に、またできる限
り直接に非導電部分50、49、47と、上流端片48
Cと、そしてその後、上流電極18の外面と、前記磁界
コイル25の2つの面と、噴射装置17と、下流電極1
6の外面と最後に裸トーチのその全長に亘る外面をスイ
ープする。
と構造的に比較的単純である。それは前記トーチの熱い
部分ならびにその外部ケーシング7のどれもの冷却を最
大限にし、前記トーチをガラス化炉に存在するしばしば
1600℃を超え、時には2000℃に達する温度に安
全に耐えさせる。
記トーチの冷却水源の使用圧力の減圧を可能にする従来
の回路の圧力降下に関するよりも低下する。これが本出
願人の非プラズマアークトーチに対する冷却水の圧力を
12から6バールに低下させた理由である。
界コイル)を支え、それを接続ブロック2に接続する構
造部材の同軸チューブ状ケーシング7、8と9の形にす
る設計が前記裸トーチ1の長さを自由自在に決められる
といえることが大切である。
ーチの前記棒36の高さにおける領域を関係させること
は、裸トーチの長さの修正が、前記ケーシング7、8、
9と棒36、37、50の長さに影響を簡単に及ぼす可
能性のあることを立証するだけで十分である。
(電極、噴射器、磁界コイル、セパレーター、電気結合
素子など)を内部に設置できるはずであり、流体(空気
と水)の循環を様々なケーシング7、8、9の間に設け
られた空間により同様に保証できる。
水にトーチ入口で浸漬された大きい断面の接続棒37を
備える本体4の完全に外部にスタータジャックを特別に
取付けると、前記ジャックの変位を先ず制御することを
可能にし、保管を容易にすることと、第2に前記ジャッ
ク42を標準スタータジャックに関し減圧した流体を用
いて制御できる。
部で冷却し、水圧が電極に著しい下向きスラストを起こ
させる。
42により始動でストップピン35と接触するようにな
る。
を避けるため十分な持続時間を必要とする。そのため、
スタータジャックに適当な力を与えて、冷却水によりも
たらされる前記下向きスラストを克服して上流電極を引
込めさせる必要がある。
い断面を与えることで、前記スラストを下向きに補正し
て、それによりジャック42からの力が少くてすむよう
にする。
の替わりに、前記ジャック42には基本的には単に2分
の1以下の圧力で供給できる。
に、例えば7バールにまで十分に減圧できる場合、前記
トーチの冷却水を用いて前記ジャックを作動させること
ができる。
軸の構造部材が外部のケーシング7を置いて前記電極も
しくはその他の素子の取替え、あるいはどのような種類
の保管あるいは修理作業が容易に実施できる。
続棒50の端部を前記連結素子49により前記コイル2
5とセパレーター24と一体の接続乃至心合せピン56
に簡単に差込めることである。
9の遠位端は前記セパレーター24と一体ではなく、前
記ケーシング9だけのトーチの外部への抜出しを可能に
し、前記中間ケーシング8の固定装置11に接近でき
る。
めを案内ピン57により確実にすることができる。
に限定されないばかりでなく、逆にあらゆる可能性のあ
る変形、特にプラズマジーン気体噴射装置の配置、磁界
コイル25、上流電極の始動での移動制御手段の配置あ
るいは外部構造部材2の配置に関するものである。
非プラズマアークトーチに始動装置のいかんにかかわら
ず、またあらゆる形式のプラズマアークトーチにも応用
できるものである。
る。
る。
ある。
き半截図である。
るトーチ部分の斜視断面半截図である。
チの斜視断面半截図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 ・いわゆる裸トーチ部分(1)で、その
中に円筒状で適当な冷却回路により冷却される単一上流
電極もしくは一対の同軸上流(18)ならびに下流(1
6)電極と;アークの足部を移動させる磁界コイルと;
前記上流電極の下流にもしくは前記上流電極(18)と
下流電極(16)との間にプラズマジーン気体を噴射さ
せ、さらに前記トーチの始動を確実にするため配設され
た手段(17)を備えるチューブ状部分と; ・前記裸トーチ(1)とその近位端で一体で、前記流体
と前記トーチの外部と連絡する電気的連結具を入れた外
部構造部材(2)と;を備える形式のプラズマトーチで
あって、 ・前記構造部材(2)と少くとも部分的に重複しかつ一
体となっている3つの同軸ケーシングで形成された構造
体からなる金属製外部ケーシング(7)と;前記外部ケ
ーシング(7)により前記電極(18、16)の冷却液
の帰り用回路と前記磁界コイル(25)を形成する中間
金属製ケーシング(8)と;前記中間ケーシング(8)
により前記プラズマジーン気体を前記噴射手段(17)
に入れるための回路を形成し、またその内面を介して前
記冷却流体の流入流れを前記上流電極(18)と、前記
磁界コイル(25)と、また可能なら前記下流電極(1
6)の方向に流路をつける内部ケーシング(9)と;か
らなることを特徴とするほぼ軸対称の一般的構造を有す
るプラズマトーチ。 - 【請求項2】 前記トーチが非プラズマアークトーチ形
式であり、前記上流電極(18)に作用して、それを前
記下流電極(16)に接近させるスタータジャック(4
2)からなる始動装置を設けることと、前記スタータジ
ャック(42)を前記外部構造部材の本体(4)の外部
に配置し、また前記ジャックを通って真直に横切り、前
記外部構造部材の本体(4)と、前記内部ケーシング
(9)に延長し、前記冷却流体の流入流れが前記ジャッ
ク棒(41)に反対圧力を加えて前記上流電極(18)
にかかる前記冷却流体の圧力を釣合わせる断面を有する
棒(41)で構成させる一方、前記ジャックの棒(4
1)の外端に前記棒(41)の変位制御用の手段を設け
ることを特徴とする請求項1記載のトーチ。 - 【請求項3】 前記磁界コイル(25)がその外側で前
記上流電極(18)を取囲み、その内および外面で冷却
され、また先ずプラグで接続できるリンク(49、5
6)により前記内部ケーシング(9)の内部に配置さ
れ、またその他端で前記外部構造部材(2)の電気端子
(51)と接続された電気的接続棒(50)と、次に上
流電極(18)に前記スタータジャック(42)と前記
上流電極(18)の間の連絡棒(36、37)との滑動
的接触による接続により前記上流電極(18)に電気的
に連絡されることを特徴とする請求項1もしくは2記載
のトーチ。 - 【請求項4】 前記外部ケーシング(7)と前記中間ケ
ーシング(8)の間、前記中間ケーシングと前記内部ケ
ーシング(9)の間と、前記内部ケーシング(9)の内
部の範囲をそれぞれ限定した空間がそれぞれ第1の環状
空間(13)、第2の環状空間(22)と第3の空間
(53)とそれぞれ連絡し、これら3つの空間全部が前
記外部構造部材(2)に設けられ、前記第3と第1の空
間(53、13)がそれぞれトーチ冷却液取入口(5
4)と出口(14)と連絡する一方、前記第2の空間
(22)がプラズマジーン気体原料(23)と連絡する
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の
トーチ。 - 【請求項5】 前記プラズマジーン気体噴射手段(1
7)を前記中間ケーシングの内部に配置し、前記素子
(26)の内面に配置された均質化室(28)の方向に
通路(29)と、またトーチの軸(19)と同軸に、前
記上流(18)と下流(16)の両電極の外面の冷却回
路の連続性を確保する通路(31)とを有する環状素子
(26)を形成し、前記均質化室(28)の反対側にあ
り、前記両電極(18、16)の間の間隙に配置された
孔あき噴射グリッド(27)を設けたことを特徴とする
請求項2乃至4のいずれか1項記載のトーチ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9507790 | 1995-06-23 | ||
| FR9507790A FR2735940B1 (fr) | 1995-06-23 | 1995-06-23 | Torche a plasma a structure generale sensiblement axi-symetrique |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09115689A true JPH09115689A (ja) | 1997-05-02 |
| JPH09115689A5 JPH09115689A5 (ja) | 2007-12-20 |
| JP4108775B2 JP4108775B2 (ja) | 2008-06-25 |
Family
ID=9480482
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18283896A Expired - Fee Related JP4108775B2 (ja) | 1995-06-23 | 1996-06-24 | ほぼ軸対称の一般的構造を有するプラズマトーチ |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5695664A (ja) |
| EP (1) | EP0750450B1 (ja) |
| JP (1) | JP4108775B2 (ja) |
| CA (1) | CA2179655C (ja) |
| DE (1) | DE69610464T2 (ja) |
| FR (1) | FR2735940B1 (ja) |
| ZA (1) | ZA965303B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003197397A (ja) * | 2001-10-15 | 2003-07-11 | Sekisui Chem Co Ltd | プラズマ処理装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19842074B4 (de) * | 1998-09-15 | 2004-06-03 | Castolin S.A. | Anode für Plasmaauftragsbrenner |
| WO2011073170A1 (en) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | Danmarks Tekniske Universitet | An apparatus and a method and a system for treating a surface with at least one gliding arc source |
| CN119342673B (zh) * | 2024-10-21 | 2025-10-14 | 上海科技大学 | 一种兼容近常压光电子能谱的等离子体喷枪装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4668853A (en) * | 1985-10-31 | 1987-05-26 | Westinghouse Electric Corp. | Arc-heated plasma lance |
| US4791268A (en) * | 1987-01-30 | 1988-12-13 | Hypertherm, Inc. | Arc plasma torch and method using contact starting |
| FR2654295B1 (fr) * | 1989-11-08 | 1992-02-14 | Aerospatiale | Torche a plasma pourvue d'une bobine electromagnetique de rotation de pieds d'arc. |
| FR2654294B1 (fr) * | 1989-11-08 | 1992-02-14 | Aerospatiale | Torche a plasma a amorcage par court-circuit. |
| US5362939A (en) * | 1993-12-01 | 1994-11-08 | Fluidyne Engineering Corporation | Convertible plasma arc torch and method of use |
-
1995
- 1995-06-23 FR FR9507790A patent/FR2735940B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-06-19 EP EP96450016A patent/EP0750450B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-19 DE DE69610464T patent/DE69610464T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-19 US US08/666,790 patent/US5695664A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-20 CA CA002179655A patent/CA2179655C/fr not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-21 ZA ZA965303A patent/ZA965303B/xx unknown
- 1996-06-24 JP JP18283896A patent/JP4108775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003197397A (ja) * | 2001-10-15 | 2003-07-11 | Sekisui Chem Co Ltd | プラズマ処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA965303B (en) | 1997-04-14 |
| CA2179655C (fr) | 2007-08-21 |
| DE69610464D1 (de) | 2000-11-02 |
| EP0750450B1 (fr) | 2000-09-27 |
| DE69610464T2 (de) | 2001-07-19 |
| CA2179655A1 (fr) | 1996-12-24 |
| JP4108775B2 (ja) | 2008-06-25 |
| FR2735940B1 (fr) | 1997-09-19 |
| US5695664A (en) | 1997-12-09 |
| EP0750450A1 (fr) | 1996-12-27 |
| FR2735940A1 (fr) | 1996-12-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0786194B1 (en) | Plasma torch electrode structure | |
| EP0844434B1 (en) | Burner | |
| US6346685B2 (en) | Plasma arc torch | |
| US7411353B1 (en) | Alternating current multi-phase plasma gas generator with annular electrodes | |
| EP0178288B1 (de) | Plasmabrenner | |
| US4668853A (en) | Arc-heated plasma lance | |
| CN103079329A (zh) | 一种高压等离子点火装置 | |
| JPH08339893A (ja) | 直流アークプラズマトーチ | |
| JP3006719B2 (ja) | 短絡によりアークを開始するプラズマトーチ | |
| DE2633510C3 (de) | Plasmatron | |
| JPH09115689A (ja) | ほぼ軸対称の一般的構造を有するプラズマトーチ | |
| CN111457364B (zh) | 一种基于磁约束的火焰约束强化装置及方法、应用 | |
| KR101958278B1 (ko) | 산화제 과잉 예연소기용 핀틀 분사기 | |
| EP0446238A1 (de) | Flüssigkeitsgekühlter plasmabrenner mit übertragenem lichtbogen. | |
| WO2017186963A1 (en) | Heating device for metal products | |
| JP3006720B2 (ja) | アークの足を交替させる電磁コイルを有するプラズマトーチ | |
| JP2819281B2 (ja) | バーナー | |
| CN118089031A (zh) | 一种燃气等离子体复合燃烧器 | |
| JPH09115689A5 (ja) | ||
| US3424541A (en) | Fluid fuel burner | |
| CN214949194U (zh) | 分体式燃烧器火焰状态调节装置 | |
| JP2964228B2 (ja) | プラズマ炉 | |
| DE10337630A1 (de) | Brennstoff-Einspritzventil mit einer integrierten Zündkerze | |
| SU1250419A1 (ru) | Горелка дл сварки магнитоуправл емой дугой | |
| SU811564A1 (ru) | Форсунка |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060919 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060926 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20061207 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20061213 |
|
| A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20070326 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070326 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070529 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070723 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070820 |
|
| A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20071105 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080319 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080403 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120411 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130411 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140411 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |