JPH0912301A - 水素ガス製造装置 - Google Patents

水素ガス製造装置

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Publication number
JPH0912301A
JPH0912301A JP18624295A JP18624295A JPH0912301A JP H0912301 A JPH0912301 A JP H0912301A JP 18624295 A JP18624295 A JP 18624295A JP 18624295 A JP18624295 A JP 18624295A JP H0912301 A JPH0912301 A JP H0912301A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
endothermic
hydrogen
hydrogen gas
permeable
Prior art date
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Pending
Application number
JP18624295A
Other languages
English (en)
Inventor
Masatomo Nakamura
雅知 中村
Kenji Kawate
賢治 川手
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daido Steel Co Ltd filed Critical Daido Steel Co Ltd
Priority to JP18624295A priority Critical patent/JPH0912301A/ja
Publication of JPH0912301A publication Critical patent/JPH0912301A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成により水素ガスを低コストで製造
できる水素ガス製造装置を提供する。 【解決手段】 炭化水素系ガスを原料とし燃料ガスの燃
焼熱により吸熱形ガスを生成する吸熱形ガス発生装置1
00と、芳香族ポリイミドを素材とする透過膜により水
素ガスを選択透過させる水素セパレータ200とからな
り、前記吸熱形ガス発生装置100で生成された吸熱形
ガス中の水素ガスを該水素セパレータ200を通して分
離回収する。また、透過膜の非透過ガスを吸熱形ガス発
生装置100の燃料ガスとして使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱処理炉等に用い
る水素ガスを製造する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般にステンレス鋼板の光輝焼鈍炉にお
いては、雰囲気ガスとして水素ガスが使用され、従来は
この水素ガスは製造工場からタンクローリー車によって
輸送されたものを貯蔵タンクに受け入れて使用していた
が、コストの低減化および交通障害等により円滑な炉の
操業が阻害されないようにするために自家製造すること
が望まれていた。しかし従来の水素ガス製造工場の製造
設備は、炭化水素のリフオーミング炉形式のものであっ
て、スチーム発生用のボイラを必要とするなど、大型で
複雑な大規模プラントであり、設備費および維持費がか
さむものであった。このため中小規模の水素ガス製造に
は不向であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題点を解決しようとするもので、簡単な構成により水素
ガスを低コストで製造できる水素ガス製造装置を提供し
ようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】そのために本発明の水素
ガス製造装置は、炭化水素系ガスを原料とし燃料ガスの
燃焼熱により吸熱形ガスを生成する吸熱形ガス発生装置
と、芳香族ポリイミドを素材とする透過膜により水素ガ
スを選択透過させる水素セパレータとからなり、前記吸
熱形ガス発生装置で生成された吸熱形ガス中の水素ガス
を該水素セパレータを通して分離回収するようにしたこ
とを特徴とする。水素ガス等の分子量が小さいガスは芳
香族ポリイミドを素材とする透過膜(高分子膜)の分子
間の空隙を透過し、その他の分子量の大きいガスは該透
過膜により遮断される。このため吸熱形ガス中から水素
ガスを効率よく分離でき、熱処理炉等に使用できる。な
お、炭化水素系ガスとしては、メタン,エタン,プロパ
ン,ブタン,天然ガス等を用いることができる。
【0005】また、本発明は上記水素ガス製造装置にお
いて、透過膜の非透過ガスを吸熱形ガス発生装置の燃料
ガスとしたことにより、燃料ガスを節減でき、ランニン
グコストを軽減させる。
【0006】
【発明の実施の形態】次に本発明の具体例を図1に従い
説明する。図中、100は吸熱形ガス発生装置、200
は水素セパレータである。吸熱形ガス発生装置100は
一側壁にガスバーナ101が設けられた炉殻102内に
レトルト103が配設され、給ガス口104に供給され
る炭化水素(CnHm)系ガスと、フィルタ105を通
して供給される空気とを夫々調節バルブ111,112
を介して空気比1以下の所定の割合で混合して、ブロワ
106によりレトルト103中にその一端より送給する
と共に、ガスバーナ101に燃料ガス(この実施例では
天然ガス)と空気とを夫々燃料ガス供給路107に設け
られた調節バルブ108および燃焼用空気供給路109
に設けられた調節バルブ110を介して空気比1以上の
割合で供給して炉殻102内で燃焼させることにより、
レトルト103をその燃焼熱により加熱し、レトルト1
03内にて吸熱反応にて炭化水素を分解させ、H2 ,C
O,N2 の各ガスを主成分とし微量のCO2 ,H2Oを
含んだ吸熱形ガスを生成させる。
【0007】また、水素セパレータ200は、円筒形ケ
ース201内に芳香族ポリイミドを素材とする透過膜か
らなる中空糸膜202が多数本内蔵され、該円筒形ケー
ス201の一側に開設された原料ガス入口203にレト
ルト103の他端をコンプレッサ10を介して連結して
レトルト103より排出される吸熱形ガスを円筒形ケー
ス201内に圧送すると共に、円筒形ケース201の一
端部に各中空糸膜202内と連通するヘッダ204を形
成し、該ヘッダ204に透過ガス出口205を設け、各
中空糸膜202の他端部206は閉塞させ該円筒形ケー
ス201の他端部には非透過ガス出口207を設ける。
そして透過ガス出口205に配管11を介してコンプレ
ッサ12を設けると共に該コンプレッサ12の二次側の
配管13に開閉バルブ14,15およびガスタンク16
を設ける。また、非透過ガス出口207には配管17を
介してコンプレッサ18を設け該コンプレッサ18の二
次側の配管19に開閉バルブ20,21およびガスタン
ク22を設け、該配管19を前記燃料ガス供給路107
に接続する。なお、24は配管19に分岐状に配管23
を設け該配管23に設けられた開閉バルブである。
【0008】しかしてこの装置では吸熱形ガス発生装置
100により生成された吸熱形ガスがコンプレッサ10
により円筒形ケース201内に導入されると該吸熱形ガ
ス中の分子量の小さい水素ガスが中空糸膜202の透過
膜を透過しヘッダ204を通り透過ガス出口205に排
出され、さらにコンプレッサ12により加圧されてガス
タンク16に回収貯留される。このため必要に応じ開閉
バルブ15を開くことにより光輝燃鈍炉等の熱処理炉の
雰囲気ガスとしてこの水素ガスを主成分とするガスを使
用することができる。また、分子量の大きい非透過ガス
は非透過ガス出口207に排出されコンプレッサ18に
より加圧されてガスタンク22に一時貯留される。そし
てこの非透過ガスは開閉バルブ21を開くことにより前
記燃料ガス供給路107に供給され、燃料ガスとともに
調節バルブ110を通ってガスバーナ101に供給され
燃焼する。この非透過ガス中には残存H2 ,CO、或い
は未反応の炭化水素系ガス等の可燃性ガスが含まれてい
るので、ガスバーナ101において充分な燃焼用空気と
混って燃焼し得る。なお、開閉バルブ24を開くことに
よりこの非透過性ガスを燃鈍炉等の熱処理炉の雰囲気ガ
スとして使用することもできる。
【0009】
【実施例】次に上記水素ガス製造装置におけるガス生成
例を説明する。原料の炭化水素系ガスとしてプロパンガ
スを15.6kg/Hの割合で給ガス口104に供給
し、吸熱形ガス発生装置100により、H2 :39%,
CO:20%,CO2 :0.2%,H2O:0.8%,
2:残り(ただし容量%)の組成の吸熱形ガスを10
0Nm3/H生成し、この吸熱形ガスをコンプレッサ1
0によって8kg/cm2のゲージ圧力で吸熱形ガス発
生装置100に送給した。その結果、透過ガス出口20
5にH2:83%,CO:7.0%,CO2:0.4%,
2O:2.0%,N2:7.6%の組成からなる透過ガ
スを40Nm3 /H得ることができた。また、非透過ガ
ス出口207にはH2:10%,CO:30%,CO2
0.2%,H2O:0.1%,N2:59.7%の組成か
らなる非透過ガスが60Nm3/H得られた。そしてこ
の非透過ガスを燃料ガス供給路107に合流させガスバ
ーナ101にてレトルト103の加熱用燃料として燃焼
させたところ吸熱形ガスを生成させるのに充分な熱量が
得られ、燃料ガスとしての天然ガスは殆んど消費するこ
となく吸熱形ガス発生装置100を運転することができ
た。水素セパレータ200は構造が簡単で駆動部がな
く、メンテナンスも容易であることからランニングコス
トが軽減される。
【0010】
【発明の効果】このように本発明の水素ガス製造装置
は、吸熱形ガスを透過膜により分離させて水素ガスを簡
易に製造することができ、設備費,維持費がかさまない
ので中小規模の熱処理工場において水素ガスを自家製造
するのに好適であり、コスト低減と円滑な操業に寄与で
きる有益な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る水素ガス製造装置の実施の形態を
示した配管系統図である。
【符号の説明】
100 吸熱形ガス発生装置 101 ガスバーナ 102 炉殻 103 レトルト 104 給ガス口 107 燃料ガス供給路 109 燃焼用空気供給路 200 水素セパレータ 201 円筒形ケース 202 中空糸膜 203 原料ガス入口 205 透過ガス出口 207 非透過ガス出口 10 コンプレッサ 12 コンプレッサ 16 ガスタンク 18 コンプレッサ 22 ガスタンク

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炭化水素系ガスを原料とし燃料ガスの燃
    焼熱により吸熱形ガスを生成する吸熱形ガス発生装置
    と、芳香族ポリイミドを素材とする透過膜により水素ガ
    スを選択透過させる水素セパレータとからなり、前記吸
    熱形ガス発生装置で生成された吸熱形ガス中の水素ガス
    を該水素セパレータを通して分離回収するようにしたこ
    とを特徴とする水素ガス製造装置。
  2. 【請求項2】 透過膜の非透過ガスを吸熱形ガス発生装
    置の燃料ガスとして使用するようにした請求項1に記載
    の水素ガス製造装置。
JP18624295A 1995-06-28 1995-06-28 水素ガス製造装置 Pending JPH0912301A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18624295A JPH0912301A (ja) 1995-06-28 1995-06-28 水素ガス製造装置

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JP18624295A JPH0912301A (ja) 1995-06-28 1995-06-28 水素ガス製造装置

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JPH0912301A true JPH0912301A (ja) 1997-01-14

Family

ID=16184844

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JP18624295A Pending JPH0912301A (ja) 1995-06-28 1995-06-28 水素ガス製造装置

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JP (1) JPH0912301A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002243100A (ja) * 2001-02-14 2002-08-28 Tokyo Gas Co Ltd 都市ガス供給方法及びシステム
JP2018162195A (ja) * 2017-03-27 2018-10-18 東京瓦斯株式会社 水素製造装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002243100A (ja) * 2001-02-14 2002-08-28 Tokyo Gas Co Ltd 都市ガス供給方法及びシステム
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