JPH09124920A - 応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネート/absブレンド - Google Patents
応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネート/absブレンドInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い防炎性及び応力亀裂に対する耐性を有す
る、ポリカーボネート及びグラフトポリマーを基にした
成形組成物の提供。 【解決手段】 応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネ
ート/ABSブレンドであり、このポリカーボネートが
ハロブチルゴムブロックによって全体的に又は部分的に
改質されているブレンド。
る、ポリカーボネート及びグラフトポリマーを基にした
成形組成物の提供。 【解決手段】 応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネ
ート/ABSブレンドであり、このポリカーボネートが
ハロブチルゴムブロックによって全体的に又は部分的に
改質されているブレンド。
Description
【0001】本発明は、応力亀裂に耐える防炎加工ポリ
カーボネート/ABSブレンドであり、このポリカーボ
ネートがハロブチルゴムブロックによって全体的に又は
部分的に改質されているブレンドに関する。
カーボネート/ABSブレンドであり、このポリカーボ
ネートがハロブチルゴムブロックによって全体的に又は
部分的に改質されているブレンドに関する。
【0002】ポリカーボネート及びグラフトポリマーの
混合物は一般に知られている(例えば、DE 1 17
0 141)。これらの混合物の応力亀裂に対する防炎
性及び耐性は、多くの応用のためには不適切である。
混合物は一般に知られている(例えば、DE 1 17
0 141)。これらの混合物の応力亀裂に対する防炎
性及び耐性は、多くの応用のためには不適切である。
【0003】ポリイソブチレンによって改質されたポリ
カーボネートもまた知られている(例えば、EP−A
305,718、DE−OS 3,618,378(U
S−P 4,798,873と等しい)。
カーボネートもまた知られている(例えば、EP−A
305,718、DE−OS 3,618,378(U
S−P 4,798,873と等しい)。
【0004】本発明の目的は、高い防炎性及び応力亀裂
に対する耐性を有する、ポリカーボネート及びグラフト
ポリマーを基にした成形組成物の提供である。
に対する耐性を有する、ポリカーボネート及びグラフト
ポリマーを基にした成形組成物の提供である。
【0005】ハロブチルゴムによって改質されたポリカ
ーボネート、必要に未改質ポリカーボネート、グラフト
ポリマー、必要に応じてその他の熱可塑性ポリマー、防
炎添加剤例えば、ホスフェートエステル及び/又はテフ
ロンの混合物が、完全に防炎性を保留しながら応力亀裂
に対する驚くべき高い耐性を有することがここに見い出
された。
ーボネート、必要に未改質ポリカーボネート、グラフト
ポリマー、必要に応じてその他の熱可塑性ポリマー、防
炎添加剤例えば、ホスフェートエステル及び/又はテフ
ロンの混合物が、完全に防炎性を保留しながら応力亀裂
に対する驚くべき高い耐性を有することがここに見い出
された。
【0006】本発明は、 A)5〜90好ましくは30〜85重量部の、ポリカー
ボネートブロックからなるブロックコポリカーボネート
及び0.5〜30重量%好ましくは1〜25重量%特に
4〜20重量%(ブロックコポリカーボネートに対し
て)のポリイソブチレンα−ハロケトカルボン酸ブロッ
ク(PIBブロック)、[ここで、ポリイソブチレンα
−ハロケトカルボン酸ブロックは、500〜50,00
0の平均分子量Mn(数平均)、0.1〜15重量%の
(PIBブロックに対して)組み込みに先立ってのハロ
ゲン含量(塩素又は臭素)、及び2〜250mgKOH
/gの酸価を有する]、 B.) B.2)5〜95好ましくは20〜70重量部の、−1
0℃未満のガラス転移温度を有するジエン及び/又はア
ルキルアクリレートを基にしたポリマーの上の B1.1)50〜95好ましくは60〜90重量部のス
チレン、α−メチルスチレン、ハロゲン若しくはメチル
によって環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルア
クリレート特にメチルメタクリレート、又はこれらの化
合物の混合物、及び B1.2)5〜50好ましくは10〜40重量部のアク
リロニトリル、メタクリロニトリル、C1〜C8−アルキ
ルメタクリレート特にメチルメタクリレート、C1〜C8
−アルキルアクリレート特にメチルアクリレート、無水
マレイン酸、C1〜C4−アルキル−若しくはフェニル−
N−置換されたマレイミド又はこれらの化合物の混合物
の混合物の5〜95好ましくは8〜90特に8〜35重
量部のグラフトポリマー、 C)0〜20重量部のB)とは異なるゴム D)0〜70重量部の、 D.1)50〜98重量部のスチレン、α−メチルスチ
レン、環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルメタ
クリレート、C1〜C8−アルキルアクリレート又はこれ
らの混合物及び、 D.2)50〜2重量部のアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C1
〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、N−
置換されたマレイミド及びこれらの混合物のコポリマ
ー、 E)0〜80重量部の芳香族ポリカーボネート、 F)1〜20重量部の、250〜10,000g/モル
のモル/質量を有する、モノマー状又はオリゴマー状ホ
スフェートエステル又はホスホネートエステル、 G)0.05〜5、好ましくは0.1〜1重量部のフッ
素化ポリオレフィン[ここで、成分A+B+C+D+E
+F+Gの和が合計すると100である]を含む熱可塑
性成形組成物。
ボネートブロックからなるブロックコポリカーボネート
及び0.5〜30重量%好ましくは1〜25重量%特に
4〜20重量%(ブロックコポリカーボネートに対し
て)のポリイソブチレンα−ハロケトカルボン酸ブロッ
ク(PIBブロック)、[ここで、ポリイソブチレンα
−ハロケトカルボン酸ブロックは、500〜50,00
0の平均分子量Mn(数平均)、0.1〜15重量%の
(PIBブロックに対して)組み込みに先立ってのハロ
ゲン含量(塩素又は臭素)、及び2〜250mgKOH
/gの酸価を有する]、 B.) B.2)5〜95好ましくは20〜70重量部の、−1
0℃未満のガラス転移温度を有するジエン及び/又はア
ルキルアクリレートを基にしたポリマーの上の B1.1)50〜95好ましくは60〜90重量部のス
チレン、α−メチルスチレン、ハロゲン若しくはメチル
によって環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルア
クリレート特にメチルメタクリレート、又はこれらの化
合物の混合物、及び B1.2)5〜50好ましくは10〜40重量部のアク
リロニトリル、メタクリロニトリル、C1〜C8−アルキ
ルメタクリレート特にメチルメタクリレート、C1〜C8
−アルキルアクリレート特にメチルアクリレート、無水
マレイン酸、C1〜C4−アルキル−若しくはフェニル−
N−置換されたマレイミド又はこれらの化合物の混合物
の混合物の5〜95好ましくは8〜90特に8〜35重
量部のグラフトポリマー、 C)0〜20重量部のB)とは異なるゴム D)0〜70重量部の、 D.1)50〜98重量部のスチレン、α−メチルスチ
レン、環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルメタ
クリレート、C1〜C8−アルキルアクリレート又はこれ
らの混合物及び、 D.2)50〜2重量部のアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C1
〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、N−
置換されたマレイミド及びこれらの混合物のコポリマ
ー、 E)0〜80重量部の芳香族ポリカーボネート、 F)1〜20重量部の、250〜10,000g/モル
のモル/質量を有する、モノマー状又はオリゴマー状ホ
スフェートエステル又はホスホネートエステル、 G)0.05〜5、好ましくは0.1〜1重量部のフッ
素化ポリオレフィン[ここで、成分A+B+C+D+E
+F+Gの和が合計すると100である]を含む熱可塑
性成形組成物。
【0007】成分A 本発明によるブロックコポリカーボネートは、ポリブチ
レンα−ハロケトカルボン酸に重縮合反応、即ち、ジフ
ェノール、ホスゲン、連鎖停止剤及び必要に応じて分岐
剤からのポリカーボネートの製造のための反応を加える
ことによって製造される。
レンα−ハロケトカルボン酸に重縮合反応、即ち、ジフ
ェノール、ホスゲン、連鎖停止剤及び必要に応じて分岐
剤からのポリカーボネートの製造のための反応を加える
ことによって製造される。
【0008】相境界重縮合の間のポリマー連鎖中へのP
IBブロックの組み込みは、エステル結合を経由してそ
して付加的にはエーテル結合を経由するハロゲンの置換
を通して起きる。
IBブロックの組み込みは、エステル結合を経由してそ
して付加的にはエーテル結合を経由するハロゲンの置換
を通して起きる。
【0009】このようにして製造されたブロックコポリ
カーボネートの分子量Mw(重量平均、光散乱によって
測定される)は、一般に、8000〜150,000で
あるか、又はブロックコポリカーボネートは1.15〜
1.5の相対溶液粘度(25℃で塩化メチレン中の0.
5%溶液に関して測定して)を有する。
カーボネートの分子量Mw(重量平均、光散乱によって
測定される)は、一般に、8000〜150,000で
あるか、又はブロックコポリカーボネートは1.15〜
1.5の相対溶液粘度(25℃で塩化メチレン中の0.
5%溶液に関して測定して)を有する。
【0010】ポリブチレンα−ハロケトカルボン酸は、
既知の方法によって、例えば、酸化によるハロブチルゴ
ムの分解によって得ることができる。特に好ましい方法
においては、酸化による分解のためにオゾンを使用す
る。
既知の方法によって、例えば、酸化によるハロブチルゴ
ムの分解によって得ることができる。特に好ましい方法
においては、酸化による分解のためにオゾンを使用す
る。
【0011】この製造のために必要とされるハロブチル
ゴムは、イソブチレンと0.3〜15モル%のイソプレ
ンとの共重合及び引き続く元素状臭素又は塩素を使用す
るアルキル位置における注意深いハロゲン化によって溶
液中で得ることができる、商業的に入手できる高分子固
体ポリマーである。ここで、イソプレンは実質的に1,
4−位置に結合される。すべての商業的に入手できるブ
チルゴム中に存在しそして完全には抑制することができ
ない少ない割合の1,2−結合は、酸化生成物中の少な
い割合の側部のカルボキシル基を導く。ハロブチルゴム
中のハロゲン含量は、0.1〜15重量%、好ましくは
0.5〜5重量%である。ハロブチルゴムのムーニー粘
度は、30〜80(ML 1+8、125℃)であり、
そして平均分子量Mn(数平均、ゲル透過クロマトグラ
フィーによって測定して)は、20,000〜1,00
0,000、好ましくは100,000〜500,00
0である。適切なハロブチルゴムは、例えば、Ullm
ann’s Encyclopedia of Ind
ustrial Chemistry、A23巻(19
93)、314頁以降中で述べられている。イソプレン
以外のその他の1,3−ジエンもまた、コモノマーとし
て適切であるが、これらの製品は商業的に入手できな
い。適切なコモノマーは、例えば、H.Gueterb
ock,“Polyisobutylen und I
sobutylen−Mischpolymerisa
te”,Springer Verlag,Berli
n,1959中に述べられている。
ゴムは、イソブチレンと0.3〜15モル%のイソプレ
ンとの共重合及び引き続く元素状臭素又は塩素を使用す
るアルキル位置における注意深いハロゲン化によって溶
液中で得ることができる、商業的に入手できる高分子固
体ポリマーである。ここで、イソプレンは実質的に1,
4−位置に結合される。すべての商業的に入手できるブ
チルゴム中に存在しそして完全には抑制することができ
ない少ない割合の1,2−結合は、酸化生成物中の少な
い割合の側部のカルボキシル基を導く。ハロブチルゴム
中のハロゲン含量は、0.1〜15重量%、好ましくは
0.5〜5重量%である。ハロブチルゴムのムーニー粘
度は、30〜80(ML 1+8、125℃)であり、
そして平均分子量Mn(数平均、ゲル透過クロマトグラ
フィーによって測定して)は、20,000〜1,00
0,000、好ましくは100,000〜500,00
0である。適切なハロブチルゴムは、例えば、Ullm
ann’s Encyclopedia of Ind
ustrial Chemistry、A23巻(19
93)、314頁以降中で述べられている。イソプレン
以外のその他の1,3−ジエンもまた、コモノマーとし
て適切であるが、これらの製品は商業的に入手できな
い。適切なコモノマーは、例えば、H.Gueterb
ock,“Polyisobutylen und I
sobutylen−Mischpolymerisa
te”,Springer Verlag,Berli
n,1959中に述べられている。
【0012】オゾンを使用するハロブチルゴム溶液の酸
化によって、ハロブチルゴムは、カルボキシル−ケトン
基又はアルデヒド基の分子量及び生成の減少を伴ってな
お存在する二重結合において開裂される。
化によって、ハロブチルゴムは、カルボキシル−ケトン
基又はアルデヒド基の分子量及び生成の減少を伴ってな
お存在する二重結合において開裂される。
【0013】使用される出発ポリマーに依存して、塩素
又は臭素がカルボキシル又はカルボニル基中に存在す
る。
又は臭素がカルボキシル又はカルボニル基中に存在す
る。
【0014】このようにして得ることができるポリブチ
レンα−ハロケトカルボン酸の酸価及び分子量は、コポ
リマー中のイソプレン又はジエンの含量にそして選ばれ
た過剰のオゾンに依存する。酸価は、一般に2〜250
mgKOH/g、好ましくは2〜100mgKOH/
g、特に好ましくは2〜50mgKOH/gである。生
成物の分子量Mn(数平均、HPGPCによって測定さ
れた)、一般に500〜50,000、好ましくは1,
000〜10,000である。ハロゲン含量は、使用さ
れるハロブチルゴムのものに対応する。
レンα−ハロケトカルボン酸の酸価及び分子量は、コポ
リマー中のイソプレン又はジエンの含量にそして選ばれ
た過剰のオゾンに依存する。酸価は、一般に2〜250
mgKOH/g、好ましくは2〜100mgKOH/
g、特に好ましくは2〜50mgKOH/gである。生
成物の分子量Mn(数平均、HPGPCによって測定さ
れた)、一般に500〜50,000、好ましくは1,
000〜10,000である。ハロゲン含量は、使用さ
れるハロブチルゴムのものに対応する。
【0015】本発明によれば、適切な熱可塑性芳香族ポ
リカーボネートは、式(I)
リカーボネートは、式(I)
【0016】
【化2】
【0017】[式中、Aは、単結合、C1〜C5−アルキ
レン、C2〜C5−アルキリデン、C5〜C6−シクロアル
キリデン、−S−又は−SO2−を表し、Bは、塩素、
臭素を表し、xは、0、1若しくは2であり、そしてp
は、1若しくは0である]、又は式(II)
レン、C2〜C5−アルキリデン、C5〜C6−シクロアル
キリデン、−S−又は−SO2−を表し、Bは、塩素、
臭素を表し、xは、0、1若しくは2であり、そしてp
は、1若しくは0である]、又は式(II)
【0018】
【化3】
【0019】[式中、R1及びR2は、互いに独立に、水
素、ハロゲン、好ましくは塩素若しくは臭素、C1〜C8
−アルキル、C5〜C6−シクロアルキル、C6〜C10−
アリール、好ましくはフェニル、及びC7〜C12−アラ
ルキル、好ましくはフェニル−C1〜C4−アルキル、特
にベンジルを意味し、mは、4〜7、好ましくは4若し
くは5の整数であり、R3及びR4は、互いに独立に、各
々のZのために個別に選択可能な水素若しくはC1〜C6
−アルキルを意味し、そしてZは、少なくとも一個の原
子Zの上で、R3及びR4の上の炭素が両方ともアルキル
であるという条件下で炭素を意味する]のジフェノール
を基にしたものである。
素、ハロゲン、好ましくは塩素若しくは臭素、C1〜C8
−アルキル、C5〜C6−シクロアルキル、C6〜C10−
アリール、好ましくはフェニル、及びC7〜C12−アラ
ルキル、好ましくはフェニル−C1〜C4−アルキル、特
にベンジルを意味し、mは、4〜7、好ましくは4若し
くは5の整数であり、R3及びR4は、互いに独立に、各
々のZのために個別に選択可能な水素若しくはC1〜C6
−アルキルを意味し、そしてZは、少なくとも一個の原
子Zの上で、R3及びR4の上の炭素が両方ともアルキル
であるという条件下で炭素を意味する]のジフェノール
を基にしたものである。
【0020】述べて良い例は、ヒドロキノン、レゾルシ
ノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス(ヒドロキシフ
ェニル)アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)シクロ
アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビ
ス(ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒドロキシ
フェニル)ケトン、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホ
キシド、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン及びα,
α−ビス(ヒドロキシフェニル)ジイソプロピルベンゼ
ン並びに環アルキル化及び環ハロゲン化化合物である。
ノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス(ヒドロキシフ
ェニル)アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)シクロ
アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビ
ス(ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒドロキシ
フェニル)ケトン、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホ
キシド、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン及びα,
α−ビス(ヒドロキシフェニル)ジイソプロピルベンゼ
ン並びに環アルキル化及び環ハロゲン化化合物である。
【0021】適切なジフェノールは、例えば、米国特許
第3,028,365号、第2,999,835号、第
3,062,781号、第3,148,172号及び第
4,982,014号中に、ドイツ公開特許明細書第
1,570,703号及び第2,063,050号中
に、並びにH.Schnell,“ポリカーボネートの
化学及び物理”、Interscience Publ
ishers,New York,1964中に述べら
れている。
第3,028,365号、第2,999,835号、第
3,062,781号、第3,148,172号及び第
4,982,014号中に、ドイツ公開特許明細書第
1,570,703号及び第2,063,050号中
に、並びにH.Schnell,“ポリカーボネートの
化学及び物理”、Interscience Publ
ishers,New York,1964中に述べら
れている。
【0022】好ましいジフェノールは、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,4−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、α,α−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、2,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、α,α’−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルシクロ
ヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
4−メチルシクロヘキサン、2,2−ビス(3,5ジク
ロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン及び2,2−
ビス(3,5ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パンである。
ドロキシジフェニル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,4−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、α,α−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、2,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、α,α’−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルシクロ
ヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
4−メチルシクロヘキサン、2,2−ビス(3,5ジク
ロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン及び2,2−
ビス(3,5ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パンである。
【0023】特に好ましいジフェノールは、例えば、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、α,α’−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−メチルシクロヘキサン、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
−4−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−4−メチルシクロヘキサンである。
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、α,α’−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−メチルシクロヘキサン、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
−4−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−4−メチルシクロヘキサンである。
【0024】特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン及び1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンが好まし
い。
ル)プロパン及び1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンが好まし
い。
【0025】上で述べたジフェノールの任意の混合物も
また使用することができる。
また使用することができる。
【0026】流動挙動を改善する目的のために、小量、
好ましくは0.05〜2.0モル%(使用されるジフェ
ノールのモルに対して)の量の3官以上の化合物、特に
3以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物も
また、既知のやり方で付随して使用することができる。
3以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する幾つかの
使用可能な化合物の例は、1,3,5−トリ(4−ヒド
ロキシフェニル)ベンゼン、1,1,1−トリ(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、2,6−ビス(2−ヒドロ
キシ−5’−メチルベンジル)−4−メチルフェノー
ル、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−
ジヒドロキシフェニル)プロパン、ヘキサ(4−(4−
ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェニル)オルトテ
レフタレート、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン及び1,4−ビス(4’,4”−ジヒドロキシトリフ
ェニル)メチル)ベンゼンである。幾つかのその他の3
官能化合物は、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、トリメ
シン酸、塩化シアヌル及び3,3−ビス(4−ヒドロキ
シ−3−メチルフェニル)−2−オキソ−2,3−ジヒ
ドロインドールである。
好ましくは0.05〜2.0モル%(使用されるジフェ
ノールのモルに対して)の量の3官以上の化合物、特に
3以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物も
また、既知のやり方で付随して使用することができる。
3以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する幾つかの
使用可能な化合物の例は、1,3,5−トリ(4−ヒド
ロキシフェニル)ベンゼン、1,1,1−トリ(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、2,6−ビス(2−ヒドロ
キシ−5’−メチルベンジル)−4−メチルフェノー
ル、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−
ジヒドロキシフェニル)プロパン、ヘキサ(4−(4−
ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェニル)オルトテ
レフタレート、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン及び1,4−ビス(4’,4”−ジヒドロキシトリフ
ェニル)メチル)ベンゼンである。幾つかのその他の3
官能化合物は、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、トリメ
シン酸、塩化シアヌル及び3,3−ビス(4−ヒドロキ
シ−3−メチルフェニル)−2−オキソ−2,3−ジヒ
ドロインドールである。
【0027】本発明によるブロックポリカーボネートの
製造は、既知の溶液法(所謂2相界面法)(H.Sch
nell、“ポリカーボネートの化学及び物理”、ポリ
マーレビュー、IX巻、27頁以降、Intersci
ence Publ.1964参照)によって実質的に
分散相中で実施することができる、ここでは、使用され
るべきジフェノールは、水性アルカリ性相中に溶かされ
る。これに、本発明によるポリカーボネートの製造のた
めに必要とされる連鎖停止剤を、有機溶媒中溶かされた
又は固体の形のジフェノールに対して1〜20モル%の
量で添加する。次に、ホスゲンとの反応が、不活性の、
好ましくはポリカーボネート溶解性有機相の存在下で起
きる。反応温度は0℃〜40℃である。ポリイソブチレ
ンα−ハロケトカルボン酸は、純粋な物質として又は有
機相を形成する溶媒中に溶かして必要な量で反応に添加
する。
製造は、既知の溶液法(所謂2相界面法)(H.Sch
nell、“ポリカーボネートの化学及び物理”、ポリ
マーレビュー、IX巻、27頁以降、Intersci
ence Publ.1964参照)によって実質的に
分散相中で実施することができる、ここでは、使用され
るべきジフェノールは、水性アルカリ性相中に溶かされ
る。これに、本発明によるポリカーボネートの製造のた
めに必要とされる連鎖停止剤を、有機溶媒中溶かされた
又は固体の形のジフェノールに対して1〜20モル%の
量で添加する。次に、ホスゲンとの反応が、不活性の、
好ましくはポリカーボネート溶解性有機相の存在下で起
きる。反応温度は0℃〜40℃である。ポリイソブチレ
ンα−ハロケトカルボン酸は、純粋な物質として又は有
機相を形成する溶媒中に溶かして必要な量で反応に添加
する。
【0028】上で与えられた形態及び量において必要と
される連鎖停止剤の添加はまた、ホスゲン化の間に起き
ることもできる。
される連鎖停止剤の添加はまた、ホスゲン化の間に起き
ることもできる。
【0029】連鎖停止剤のための適切な有機溶媒は、例
えば、塩化メチレン、クロロベンゼン、塩化メチレン及
びクロロベンゼンの混合物、アセトン、アセトニトリ
ル、トルエンである。
えば、塩化メチレン、クロロベンゼン、塩化メチレン及
びクロロベンゼンの混合物、アセトン、アセトニトリ
ル、トルエンである。
【0030】前記反応は、触媒例えばトリブチルアミン
又はトリエチルアミンによって促進することができる。
連鎖停止剤の組み込みを促進するために、オニウム塩例
えば、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを、相移
動触媒として付随して使用することができる。
又はトリエチルアミンによって促進することができる。
連鎖停止剤の組み込みを促進するために、オニウム塩例
えば、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを、相移
動触媒として付随して使用することができる。
【0031】付随して分岐剤を使用する場合には、それ
らはホスゲンとの反応に先立って又はホスゲン化の間に
添加することができる。
らはホスゲンとの反応に先立って又はホスゲン化の間に
添加することができる。
【0032】ジフェノールに加えて又はそれらの代わり
に、それらのクロロカルボン酸エステルもまた使用する
ことができる。
に、それらのクロロカルボン酸エステルもまた使用する
ことができる。
【0033】本発明によるブロックコポリカーボネート
は、既知のやり方で単離される。適切な後処理方法は、
特に、沈殿、噴霧乾燥及び真空中での溶媒の蒸発であ
る。
は、既知のやり方で単離される。適切な後処理方法は、
特に、沈殿、噴霧乾燥及び真空中での溶媒の蒸発であ
る。
【0034】ジフェノールに加えて、用いられるジフェ
ノールに対して50モル%までのそれらのビスクロロカ
ルボン酸エステルもまた使用することができる。
ノールに対して50モル%までのそれらのビスクロロカ
ルボン酸エステルもまた使用することができる。
【0035】成分B 好ましいグラフト幹は、ポリブタジエン、ブタジエン−
スチレンコポリマー及びアクリルゴムである。グラフト
幹は粒状であり、そして概して0.05〜5μm、好ま
しくは0.1〜0.8μmの平均粒径(d50)を有す
る。
スチレンコポリマー及びアクリルゴムである。グラフト
幹は粒状であり、そして概して0.05〜5μm、好ま
しくは0.1〜0.8μmの平均粒径(d50)を有す
る。
【0036】グラフト幹は、ブタジエンに加えて、50
重量%までのその他のエチレン性不飽和モノマー、例え
ばスチレン、アクリロニトリル、アルコール成分中に1
〜4個の炭素原子を有するアクリル酸又はメタクリル酸
のエステル(例えばメチルアクリレート、エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト)、ビニルエステル及び/又はビニルエーテルを含む
ことができる。好ましいグラフト幹は純粋なポリブタジ
エンから成る。
重量%までのその他のエチレン性不飽和モノマー、例え
ばスチレン、アクリロニトリル、アルコール成分中に1
〜4個の炭素原子を有するアクリル酸又はメタクリル酸
のエステル(例えばメチルアクリレート、エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト)、ビニルエステル及び/又はビニルエーテルを含む
ことができる。好ましいグラフト幹は純粋なポリブタジ
エンから成る。
【0037】好ましいグラフトポリマーBは、例えば、
基体B.2例えばポリブタジエン、ブタジエン−スチレ
ンコポリマー、並びにスチレン及び/又はアクリロニト
リル及び/又は(メタ)アクリル酸アルキルエステル、
即ち、DE−OS 1,694,173(US−PS
3,564,077と等しい)中に述べられた種類のの
コポリマー、例えば、DE−OS 2,348,377
(US−PS 3,919,353に等しい)中で述べ
られているポリイソブテンとの又は、アクリル酸エステ
ル又はメタクリル酸エステルによって、酢酸ビニルによ
って、アクリロニトリルによって、スチレン及び/又は
アルキルスチレングラフトされたポリブタジエン、ブタ
ジエン−スチレン又はブタジエンアクリロニトリルコポ
リマーポリイソプレン又はポリイソプレンである。
基体B.2例えばポリブタジエン、ブタジエン−スチレ
ンコポリマー、並びにスチレン及び/又はアクリロニト
リル及び/又は(メタ)アクリル酸アルキルエステル、
即ち、DE−OS 1,694,173(US−PS
3,564,077と等しい)中に述べられた種類のの
コポリマー、例えば、DE−OS 2,348,377
(US−PS 3,919,353に等しい)中で述べ
られているポリイソブテンとの又は、アクリル酸エステ
ル又はメタクリル酸エステルによって、酢酸ビニルによ
って、アクリロニトリルによって、スチレン及び/又は
アルキルスチレングラフトされたポリブタジエン、ブタ
ジエン−スチレン又はブタジエンアクリロニトリルコポ
リマーポリイソプレン又はポリイソプレンである。
【0038】一般的に知られているように、グラフトモ
ノマーは必ずしも完全にグラフト幹の上のグラフトされ
ないので、本発明に従っては、グラフトポリマーCはま
た、グラフト幹の存在下でのグラフトモノマーの重合に
よって得られる生成物を意味する。
ノマーは必ずしも完全にグラフト幹の上のグラフトされ
ないので、本発明に従っては、グラフトポリマーCはま
た、グラフト幹の存在下でのグラフトモノマーの重合に
よって得られる生成物を意味する。
【0039】平均粒度d50は、粒子の50重量%より多
いそしてより少ない粒子がそれぞれ入る径である。それ
は超遠心分離測定によって測定することができる(W.
Scholtan,H.Lange,、Kolloi
d,Z. & Z.Polymere 250、(19
72)、782〜796)。
いそしてより少ない粒子がそれぞれ入る径である。それ
は超遠心分離測定によって測定することができる(W.
Scholtan,H.Lange,、Kolloi
d,Z. & Z.Polymere 250、(19
72)、782〜796)。
【0040】アクリルゴム(グラフト幹B.2)は、必
要に応じて40重量%までのそれらの重合性エチレン性
不飽和モノマーを含むアクリルアルキルエステルから成
るポリマーが好ましい。好ましい重合性アクリルエステ
ルは、C1〜C8−アルキルエステル、例えば、メチル、
エチル、ブチル、n−オクチル及び2−エチルヘキシル
エステル;ハロアルキルエステル、好ましくはハロ−C
1〜C8−アルキルエステル、例えばクロロエチルアクリ
レート、並びにこれらのモノマーの混合物を含む。
要に応じて40重量%までのそれらの重合性エチレン性
不飽和モノマーを含むアクリルアルキルエステルから成
るポリマーが好ましい。好ましい重合性アクリルエステ
ルは、C1〜C8−アルキルエステル、例えば、メチル、
エチル、ブチル、n−オクチル及び2−エチルヘキシル
エステル;ハロアルキルエステル、好ましくはハロ−C
1〜C8−アルキルエステル、例えばクロロエチルアクリ
レート、並びにこれらのモノマーの混合物を含む。
【0041】1よりも多い重合性二重結合を有するモノ
マーは、橋かけを遂行するために共重合させることがで
きる。橋かけモノマーの好ましい例は、3〜8個の炭素
原子を有する不飽和モノカルボン酸のエステル、並びに
3〜12個の炭素原子を有する不飽和多価アルコール例
えばエチレングリコールジメタクリレート、アリルメタ
クリレート、多不飽和複素環式化合物例えば、シアヌル
酸トリビニル及びシアヌル酸トリアリル、多官能ビニル
化合物例えばジビニルベンゼン及びトリビニルベンゼ
ン、並びにまたトリアリルホスフェート及びジアリルホ
スフェートである。
マーは、橋かけを遂行するために共重合させることがで
きる。橋かけモノマーの好ましい例は、3〜8個の炭素
原子を有する不飽和モノカルボン酸のエステル、並びに
3〜12個の炭素原子を有する不飽和多価アルコール例
えばエチレングリコールジメタクリレート、アリルメタ
クリレート、多不飽和複素環式化合物例えば、シアヌル
酸トリビニル及びシアヌル酸トリアリル、多官能ビニル
化合物例えばジビニルベンゼン及びトリビニルベンゼ
ン、並びにまたトリアリルホスフェート及びジアリルホ
スフェートである。
【0042】橋かけされたモノマーの量は、グラフト幹
に対して、好ましくは0.02〜5重量%、特に0.0
5〜2重量%である。
に対して、好ましくは0.02〜5重量%、特に0.0
5〜2重量%である。
【0043】成分C 成分Cとして必要に応じて使用されるゴムは、好ましく
は、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリイソブチレ
ンゴム、エポキシ官能化エチレン−アクリルターポリマ
ー、特に好ましくはポリイソブチレンゴムである。
は、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリイソブチレ
ンゴム、エポキシ官能化エチレン−アクリルターポリマ
ー、特に好ましくはポリイソブチレンゴムである。
【0044】エチレン−酢酸ビニルコポリマーは、20
〜80重量%の酢酸ビニル含量を有する。エポキシ官能
化アクリルコポリマーは、60〜90重量%のエチレン
含量、8〜38重量%のアクリル含量、及び一部のエポ
キシ官能化モノマー、好ましくは2〜15重量%のポリ
アクリルメタクリレートを有する。ポリイソブチレンゴ
ムは、85〜100重量%の程度までのカチオン的に重
合されたイソブテンから成り、それに、0〜15重量%
のコモノマー例えばジエン、m/p−メチルスチレン、
スチレン、α−メチルスチレン又はジビニルベンゼンを
添加することができる。分子量(重量平均)Mwは20
0,000〜2,000,000である。
〜80重量%の酢酸ビニル含量を有する。エポキシ官能
化アクリルコポリマーは、60〜90重量%のエチレン
含量、8〜38重量%のアクリル含量、及び一部のエポ
キシ官能化モノマー、好ましくは2〜15重量%のポリ
アクリルメタクリレートを有する。ポリイソブチレンゴ
ムは、85〜100重量%の程度までのカチオン的に重
合されたイソブテンから成り、それに、0〜15重量%
のコモノマー例えばジエン、m/p−メチルスチレン、
スチレン、α−メチルスチレン又はジビニルベンゼンを
添加することができる。分子量(重量平均)Mwは20
0,000〜2,000,000である。
【0045】コポリマーを含む混合物が成分Cとして使
用される場合には、好ましくは5〜20重量%(100
部のA+B+C+D+E+Fに対して)を添加する。
用される場合には、好ましくは5〜20重量%(100
部のA+B+C+D+E+Fに対して)を添加する。
【0046】成分D 熱可塑性ポリマーDは、一種以上のエチレン性不飽和モ
ノマー(ビニルモノマー)例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレン、環置換スチレン、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、メチルメタクリレート、無水マレイン
酸、N−置換マレイミド及びアルコール成分中に1〜1
8個の炭素原子を有する(メタ)アクリル酸エステルの
ホモポリマー又はコポリマーから成る。
ノマー(ビニルモノマー)例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレン、環置換スチレン、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、メチルメタクリレート、無水マレイン
酸、N−置換マレイミド及びアルコール成分中に1〜1
8個の炭素原子を有する(メタ)アクリル酸エステルの
ホモポリマー又はコポリマーから成る。
【0047】成分Dにおいて使用されるコポリマーは、
樹脂状、熱可塑性でありそしてゴムを含まない。
樹脂状、熱可塑性でありそしてゴムを含まない。
【0048】好ましいビニルコポリマーDは、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト、無水マレイン酸及び/又はN−置換マレイミド
(D.2)のシリーズからの少なくとも一種のモノマー
と一緒の、スチレン、α−メチルスチレン及び/又は環
置換スチレン(D.1)からの少なくとも一種のモノマ
ーから成るコポリマーである。
ニトリル、メタクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト、無水マレイン酸及び/又はN−置換マレイミド
(D.2)のシリーズからの少なくとも一種のモノマー
と一緒の、スチレン、α−メチルスチレン及び/又は環
置換スチレン(D.1)からの少なくとも一種のモノマ
ーから成るコポリマーである。
【0049】特に好ましいコポリマーDは、スチレンと
アクリロニトリル及びメチルメタクリレートとから成る
もの、又はスチレン及びα−メチルスチレンとアクリロ
ニトリルと及び必要に応じてメチルメタクリレートとか
ら成るものである。
アクリロニトリル及びメチルメタクリレートとから成る
もの、又はスチレン及びα−メチルスチレンとアクリロ
ニトリルと及び必要に応じてメチルメタクリレートとか
ら成るものである。
【0050】成分Dとして使用されるスチレン−アクリ
ロニトリルコポリマーは、知られていてそしてラジカル
重合によって、特に乳化、懸濁、溶液又は塊状重合によ
って製造することができる。成分Dとして使用されるコ
ポリマーは、好ましくは15,000〜200,000
の分子量Mw(重量平均、光散乱又は沈降によって測定
して)を有する。
ロニトリルコポリマーは、知られていてそしてラジカル
重合によって、特に乳化、懸濁、溶液又は塊状重合によ
って製造することができる。成分Dとして使用されるコ
ポリマーは、好ましくは15,000〜200,000
の分子量Mw(重量平均、光散乱又は沈降によって測定
して)を有する。
【0051】成分E 混合物に添加することができる芳香族ポリカーボネート
は、成分A)の下で述べられたポリカーボネートに対応
する。好ましくは、20〜60重量部のポリカーボネー
トが添加される。
は、成分A)の下で述べられたポリカーボネートに対応
する。好ましくは、20〜60重量部のポリカーボネー
トが添加される。
【0052】成分F 本発明によるポリマーの混合物は、防炎剤として式(I
II)のモノマー状又はオリゴマー状ホスフェートを含
む。
II)のモノマー状又はオリゴマー状ホスフェートを含
む。
【0053】
【化4】
【0054】この式においては、R5、R6、R7、R
8は、お互いに独立に、C1〜C8−アルキル、C5〜C6
−シクロアルキル、C6〜C10−アリール又はC7〜C12
−アラルキルを意味する。芳香族基、R5、R6、R7及
びR8は、ハロゲン又はアルキル基によってそれらの一
部に関して置換されていて良い。特に好ましいアルキル
基はクレジル、フェニル、キシレニル、メチルフェニ
ル、プロピルフェニル、ブチルフェニル又はイソオクチ
ルフェニル並びにこれらの塩素化及び臭素化誘導体であ
る。
8は、お互いに独立に、C1〜C8−アルキル、C5〜C6
−シクロアルキル、C6〜C10−アリール又はC7〜C12
−アラルキルを意味する。芳香族基、R5、R6、R7及
びR8は、ハロゲン又はアルキル基によってそれらの一
部に関して置換されていて良い。特に好ましいアルキル
基はクレジル、フェニル、キシレニル、メチルフェニ
ル、プロピルフェニル、ブチルフェニル又はイソオクチ
ルフェニル並びにこれらの塩素化及び臭素化誘導体であ
る。
【0055】式(III)中のXは、6〜30個の炭素
原子を有する単核又は多核芳香族基を意味する。これ
は、ジフェノール、例えば、ビスフェノールA、レゾル
シノール若しくはヒドロキノン又は更にこれらの塩素化
若しくは臭素化誘導体から誘導される。
原子を有する単核又は多核芳香族基を意味する。これ
は、ジフェノール、例えば、ビスフェノールA、レゾル
シノール若しくはヒドロキノン又は更にこれらの塩素化
若しくは臭素化誘導体から誘導される。
【0056】式(III)中のnは、お互いに独立に、
0又は1で良く、好ましくはnは1に等しい。
0又は1で良く、好ましくはnは1に等しい。
【0057】成分G フッ素化ポリオレフィン(G)は高分子量であり、そし
て−30℃よりも高い、概して100℃よりも高いガラ
ス転移温度、好ましくは65〜76重量%の特に70〜
76重量%のフッ素含量、及び0.05〜1,000μ
mの、好ましくは0.08〜20μmの平均粒度を有す
る。一般に、フッ素化ポリオレフィンは、1.2〜2.
3g/cm3の密度を有する。好ましいフッ素化ポリオ
レフィンは、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン及びエチレン−テトラフルオロエチレンコポ
リマーである。フッ素化ポリオレフィンは知られている
(”Schildknecht,John Wiley
& Sons Inc.New York,196
2、484〜494頁による“ビニル及び関連ポリマ
ー”、”Wall,John Wiley & Son
s Inc.New York,13巻、1970、4
84〜494頁による“フルオロポリマー”、“最近の
プラスチック百科事典”、1970〜1971、47
巻、第10A、1970、10月、McGraw−Hi
ll Inc.New York,134及び774
頁、“最近のプラスチック百科事典”、1975〜19
76、52巻、第10A、McGraw−Hill I
nc.New York,27、28及び472頁並び
にUS−PS 3,671,487及び3,723,3
73及び3,838,092参照)。
て−30℃よりも高い、概して100℃よりも高いガラ
ス転移温度、好ましくは65〜76重量%の特に70〜
76重量%のフッ素含量、及び0.05〜1,000μ
mの、好ましくは0.08〜20μmの平均粒度を有す
る。一般に、フッ素化ポリオレフィンは、1.2〜2.
3g/cm3の密度を有する。好ましいフッ素化ポリオ
レフィンは、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン及びエチレン−テトラフルオロエチレンコポ
リマーである。フッ素化ポリオレフィンは知られている
(”Schildknecht,John Wiley
& Sons Inc.New York,196
2、484〜494頁による“ビニル及び関連ポリマ
ー”、”Wall,John Wiley & Son
s Inc.New York,13巻、1970、4
84〜494頁による“フルオロポリマー”、“最近の
プラスチック百科事典”、1970〜1971、47
巻、第10A、1970、10月、McGraw−Hi
ll Inc.New York,134及び774
頁、“最近のプラスチック百科事典”、1975〜19
76、52巻、第10A、McGraw−Hill I
nc.New York,27、28及び472頁並び
にUS−PS 3,671,487及び3,723,3
73及び3,838,092参照)。
【0058】それらは、既知の方法によって、かくして
例えばフリーラジカルの生成を促進する触媒例えばナト
リウムペルオキシジスルフェート又はアンモニウムペル
オキシジスルフェートを使用して、7〜71kg/cm
3の圧力でそして0〜200℃の好ましくは20〜10
0℃の温度で水性媒体中でのテトラフルオロエチレンの
重合によって製造することができる(一層の詳細に関し
ては、例えば、米国特許第2,393,967号を参照
せよ)。使用の形態に依存して、これらの物質の密度は
1.2〜2.3g/cm3、平均粒度は0.05〜10
00μmで良い。
例えばフリーラジカルの生成を促進する触媒例えばナト
リウムペルオキシジスルフェート又はアンモニウムペル
オキシジスルフェートを使用して、7〜71kg/cm
3の圧力でそして0〜200℃の好ましくは20〜10
0℃の温度で水性媒体中でのテトラフルオロエチレンの
重合によって製造することができる(一層の詳細に関し
ては、例えば、米国特許第2,393,967号を参照
せよ)。使用の形態に依存して、これらの物質の密度は
1.2〜2.3g/cm3、平均粒度は0.05〜10
00μmで良い。
【0059】好ましいフッ素化ポリオレフィンは、テト
ラフルオロエチレンポリマーでありそして0.05〜2
0μmの、好ましくは0.08〜10μmの平均粒度及
び1.2〜1.9g/cm3の密度を有し、そして好ま
しくはテトラフルオロエチレンポリマーのエマルション
とグラフトポリマーB)のエマルションとの凝固された
混合物の形で使用される。
ラフルオロエチレンポリマーでありそして0.05〜2
0μmの、好ましくは0.08〜10μmの平均粒度及
び1.2〜1.9g/cm3の密度を有し、そして好ま
しくはテトラフルオロエチレンポリマーのエマルション
とグラフトポリマーB)のエマルションとの凝固された
混合物の形で使用される。
【0060】粉末の形で使用することができる適切なフ
ッ素化ポリオレフィンは、100〜1,000μmの平
均粒径及び2.0g/cm3〜2.3g/cm3の密度を
有するテトラフルオロエチレンポリマーである。
ッ素化ポリオレフィンは、100〜1,000μmの平
均粒径及び2.0g/cm3〜2.3g/cm3の密度を
有するテトラフルオロエチレンポリマーである。
【0061】B)及びG)の凝固された混合物を製造す
るためには、0.05〜2μmの、特に0.1〜0.6
μmのラテックス粒径を有するグラフトポリマーB)の
水性エマルション(ラテックス)をまず第一に、0.0
5〜20μmの、特に0.08〜10μmの平均粒径を
有する水の中のテトラフルオロエチレンポリマーG)の
細かなエマルションと混合させる;適切なテトラフルオ
ロエチレンエマルションは、一般に30〜70重量%
の、特に50〜60重量%の固体含量を有する。グラフ
トポリマーのエマルションは、25〜50重量%の、好
ましくは30〜45重量%の固体含量を有する。
るためには、0.05〜2μmの、特に0.1〜0.6
μmのラテックス粒径を有するグラフトポリマーB)の
水性エマルション(ラテックス)をまず第一に、0.0
5〜20μmの、特に0.08〜10μmの平均粒径を
有する水の中のテトラフルオロエチレンポリマーG)の
細かなエマルションと混合させる;適切なテトラフルオ
ロエチレンエマルションは、一般に30〜70重量%
の、特に50〜60重量%の固体含量を有する。グラフ
トポリマーのエマルションは、25〜50重量%の、好
ましくは30〜45重量%の固体含量を有する。
【0062】成分B)の説明の中で述べた量は、グラフ
トポリマー及びフッ素化ポリオレフィンの凝固された混
合物のために使用されるグラフトポリマーの割合を含
む。
トポリマー及びフッ素化ポリオレフィンの凝固された混
合物のために使用されるグラフトポリマーの割合を含
む。
【0063】エマルションの混合物においては、グラフ
トポリマーB)対フッ素化ポリオレフィンG)の重量比
は、95:5〜60:40である。引き続いて、エマル
ションの混合物を、既知のやり方で、例えば、噴霧乾
燥、凍結乾燥、又は好ましくは20〜150℃、特に5
0〜100℃の温度での無機若しくは有機塩、酸、塩基
若しくは水中に混和性の有機溶媒、例えばアルコール、
ケトンを添加することによる凝固によって凝固させる。
必要な場合には、乾燥を50〜200℃、好ましくは7
0〜100℃で実施することができる。
トポリマーB)対フッ素化ポリオレフィンG)の重量比
は、95:5〜60:40である。引き続いて、エマル
ションの混合物を、既知のやり方で、例えば、噴霧乾
燥、凍結乾燥、又は好ましくは20〜150℃、特に5
0〜100℃の温度での無機若しくは有機塩、酸、塩基
若しくは水中に混和性の有機溶媒、例えばアルコール、
ケトンを添加することによる凝固によって凝固させる。
必要な場合には、乾燥を50〜200℃、好ましくは7
0〜100℃で実施することができる。
【0064】適切なテトラフルオロエチレンポリマーエ
マルションは、商業的に入手できる製品であり、そし
て、例えばDuPont社によってテフロン(R)30N
として供給される。
マルションは、商業的に入手できる製品であり、そし
て、例えばDuPont社によってテフロン(R)30N
として供給される。
【0065】本発明による成分の混合物は、加えて、ポ
リカーボネート又はブチルゴム又はABSポリマーのた
めに慣用的な添加剤例えば安定剤、離型剤、酸化防止
剤、その他の防炎剤、顔料、染料などを含むことができ
る。これらの安定剤は、所望の成形品を成形するための
混合物の成形の間に通常の量を導入することができる。
リカーボネート又はブチルゴム又はABSポリマーのた
めに慣用的な添加剤例えば安定剤、離型剤、酸化防止
剤、その他の防炎剤、顔料、染料などを含むことができ
る。これらの安定剤は、所望の成形品を成形するための
混合物の成形の間に通常の量を導入することができる。
【0066】成分のそして必要に応じた添加剤の混合
は、高められた温度で、一般には230〜330℃の温
度でニーダー又は押出機中の溶融液中で混合させること
によって実施される。
は、高められた温度で、一般には230〜330℃の温
度でニーダー又は押出機中の溶融液中で混合させること
によって実施される。
【0067】従って、本発明は、混合の完了に際して前
記成分並びに必要に応じて安定剤、染料、顔料、流動制
御剤、充填剤及び/又は強化物質、潤滑剤及び離型剤、
核形成剤及び/又は静電防止剤を、230〜330℃の
温度で慣用的な装置中で溶融配合又は溶融押出しする、
熱可塑性成形組成物の製造方法もまた提供する。
記成分並びに必要に応じて安定剤、染料、顔料、流動制
御剤、充填剤及び/又は強化物質、潤滑剤及び離型剤、
核形成剤及び/又は静電防止剤を、230〜330℃の
温度で慣用的な装置中で溶融配合又は溶融押出しする、
熱可塑性成形組成物の製造方法もまた提供する。
【0068】個々の成分は、既知のやり方で次々とそし
て同時に、そして約20℃(室温)並びにもっと高めら
れた温度で混合することができる。
て同時に、そして約20℃(室温)並びにもっと高めら
れた温度で混合することができる。
【0069】本発明の成形組成物は、任意の種類の成形
品の製造のために、例えば射出成形によって使用するこ
とができる。成形品の例は、家庭用品のそして電気用品
のハウジングである。
品の製造のために、例えば射出成形によって使用するこ
とができる。成形品の例は、家庭用品のそして電気用品
のハウジングである。
【0070】それ故本発明はまた、成形品の製造のため
の成形組成物の使用を提供する。
の成形組成物の使用を提供する。
【0071】混合物の個々の成分は、全部又は部分的に
リサイクル品又は製品廃棄物から成っても良い。
リサイクル品又は製品廃棄物から成っても良い。
【0072】
【実施例】成分A)PC/PIBブロック縮合物: A1)塩素含有ポリイソブチレンα−ハロケトカルボン
酸の製造 1.2重量%の塩素含量及び46のムーニー粘度(MN
1+8、125℃)を有する10kgのクロロブチル
ゴム(Polysar Chlorobutyl 12
55、Bayer AGからの市販の製品)を、粗い塊
(径が約2cm)に粉砕し、そして40lのヘキサン中
に懸濁させる。オゾンを濃くした酸素の流れ(1,00
0l/h、オゾンの量:約15g/h)を、11の酸価
にたっするまで、15〜25℃で、撹拌しながら、前記
混合物中に導入する。このために必要とされる導入時間
は40時間である。導入の仮定において、固体成分は完
全に溶ける。この混合物に窒素をどっと流した後で、溶
媒を留去する。平均分子量(Mn)は4,400であ
り、塩素含量は1.2重量%であり、そして酸価は13
である。
酸の製造 1.2重量%の塩素含量及び46のムーニー粘度(MN
1+8、125℃)を有する10kgのクロロブチル
ゴム(Polysar Chlorobutyl 12
55、Bayer AGからの市販の製品)を、粗い塊
(径が約2cm)に粉砕し、そして40lのヘキサン中
に懸濁させる。オゾンを濃くした酸素の流れ(1,00
0l/h、オゾンの量:約15g/h)を、11の酸価
にたっするまで、15〜25℃で、撹拌しながら、前記
混合物中に導入する。このために必要とされる導入時間
は40時間である。導入の仮定において、固体成分は完
全に溶ける。この混合物に窒素をどっと流した後で、溶
媒を留去する。平均分子量(Mn)は4,400であ
り、塩素含量は1.2重量%であり、そして酸価は13
である。
【0073】A2)PC/PIBブロック共縮合物の製
造 8,000gの45%NaOH、4560gのビスフェ
ノールA、45gのtert.−ブチルフェノール、5
64gの実施例A1)におけるような塩素含有PIBテ
レケレ、13.2kgのクロロベンゼン及び37.2k
gの塩化メチレンを受け器中に入れ、3000gのホス
ゲンを導入し、そしてこの混合物を28mlのN−エチ
ルピペリジンの添加によって凝縮させる。酸性化、有機
相の分離及び追い出しカラム中での蒸発によって、単離
を慣用的に実施する。
造 8,000gの45%NaOH、4560gのビスフェ
ノールA、45gのtert.−ブチルフェノール、5
64gの実施例A1)におけるような塩素含有PIBテ
レケレ、13.2kgのクロロベンゼン及び37.2k
gの塩化メチレンを受け器中に入れ、3000gのホス
ゲンを導入し、そしてこの混合物を28mlのN−エチ
ルピペリジンの添加によって凝縮させる。酸性化、有機
相の分離及び追い出しカラム中での蒸発によって、単離
を慣用的に実施する。
【0074】ブロックコポリカーボネートは、10重量
%のPIB成分を含む。
%のPIB成分を含む。
【0075】相対溶液粘度(25℃で塩化メチレン中で
0.5%)は1.29である。
0.5%)は1.29である。
【0076】B)ABSグラフトポリマー 乳化重合(DE−OS 3,738,143の実施例
B.1と類似の)によって製造された、粒状の橋かけさ
れた60重量部のポリブタジエンゴム(平均粒径d50=
0.28μm)の上の、73:27の比の40重量部の
スチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー。
B.1と類似の)によって製造された、粒状の橋かけさ
れた60重量部のポリブタジエンゴム(平均粒径d50=
0.28μm)の上の、73:27の比の40重量部の
スチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー。
【0077】D)72:28のスチレン対アクリロニト
リルの比及び0.55dl/g(20℃でジメチルホル
ムアミド中で測定して)を有するスチレン−アクリロニ
トリルコポリマー。
リルの比及び0.55dl/g(20℃でジメチルホル
ムアミド中で測定して)を有するスチレン−アクリロニ
トリルコポリマー。
【0078】E)ビスフェノールAを基にしたPC(ポ
リカーボネート) 実施例中に与えられる相対溶液粘度(ηrel)に関する
値は、25℃で塩化メチレン中で0.5%溶液で測定す
る。
リカーボネート) 実施例中に与えられる相対溶液粘度(ηrel)に関する
値は、25℃で塩化メチレン中で0.5%溶液で測定す
る。
【0079】F)ホスゲン 1:3の重量比のトリフェニルホスフェート及びm−フ
ェニレン−ビス(ジフェニルホスフェート) G)テフロン/グラフトポリマー テトラフルオロエチレンポリマーは、72:28の重量
比の45重量%スチレン及びアクリロニトリルのグラフ
トポリマーから成る、そして水の中の乳化重合によって
製造された55重量%の粒状の橋かけされたポリブタジ
エンゴム(平均粒径d50=0.4μm)(DE−OS
3,378,143の重量比B.Hと類似の)のアクリ
ロニトリルSANグラフトポリマーエマルションから成
る、そして水の中のテトラフルオロエチレンポリマーエ
マルションから成る、SANグラフトポリマーエマルシ
ョンの凝固された混合物である。この混合物中のグラフ
トポリマー対テトラフルオロエチレンポリマーエマルシ
ョンの重量比は90:10である。テトラフルオロエチ
レンポリマーエマルションは60重量%の固体含量を有
し、そして平均粒径は0.05〜0.5μmである。S
ANグラフトポリマーエマルションは34重量%の固体
含量及び0.5μmの平均ラテックス粒径を有する。テ
トラフルオロエチレンポリマー(DuPont社からの
テフロン30N)のエマルションを、前記SANグラフ
トポリマーのエマルションと混合し、そして固体ポリマ
ーに対して1.8重量%のフェノール性酸化防止剤を使
用して安定化させる。85〜95℃で、この混合物を、
MgSO4(Epsom塩)及び酢酸を使用してpH4
〜5で凝固させ、濾過し、実質的に電解質無しまで洗浄
し、次に遠心分離によって大量の水を無くし、そして引
き続いて100℃で粉末に乾燥させる。
ェニレン−ビス(ジフェニルホスフェート) G)テフロン/グラフトポリマー テトラフルオロエチレンポリマーは、72:28の重量
比の45重量%スチレン及びアクリロニトリルのグラフ
トポリマーから成る、そして水の中の乳化重合によって
製造された55重量%の粒状の橋かけされたポリブタジ
エンゴム(平均粒径d50=0.4μm)(DE−OS
3,378,143の重量比B.Hと類似の)のアクリ
ロニトリルSANグラフトポリマーエマルションから成
る、そして水の中のテトラフルオロエチレンポリマーエ
マルションから成る、SANグラフトポリマーエマルシ
ョンの凝固された混合物である。この混合物中のグラフ
トポリマー対テトラフルオロエチレンポリマーエマルシ
ョンの重量比は90:10である。テトラフルオロエチ
レンポリマーエマルションは60重量%の固体含量を有
し、そして平均粒径は0.05〜0.5μmである。S
ANグラフトポリマーエマルションは34重量%の固体
含量及び0.5μmの平均ラテックス粒径を有する。テ
トラフルオロエチレンポリマー(DuPont社からの
テフロン30N)のエマルションを、前記SANグラフ
トポリマーのエマルションと混合し、そして固体ポリマ
ーに対して1.8重量%のフェノール性酸化防止剤を使
用して安定化させる。85〜95℃で、この混合物を、
MgSO4(Epsom塩)及び酢酸を使用してpH4
〜5で凝固させ、濾過し、実質的に電解質無しまで洗浄
し、次に遠心分離によって大量の水を無くし、そして引
き続いて100℃で粉末に乾燥させる。
【0080】安定剤:環状ホスファイト 2,2’−メチレン−ビス(6−シクロヘキシル−4−
メチルフェノールの環状ホスフェートエステル 成形組成物は、前記成分を二軸押出機(Werner
& PfleidererからのZSK 32)で混合
し、そして次に射出成形機中で260℃で処理して成形
品を生成させる。
メチルフェノールの環状ホスフェートエステル 成形組成物は、前記成分を二軸押出機(Werner
& PfleidererからのZSK 32)で混合
し、そして次に射出成形機中で260℃で処理して成形
品を生成させる。
【0081】
【表1】
【0082】環境応力亀裂(ESC)挙動の測定のため
に使用される媒体は、イソプロパノール/トルエン4
0:60の混合物であった。EC−OCは、エッジ亀裂
及びトップ亀裂を意味する。
に使用される媒体は、イソプロパノール/トルエン4
0:60の混合物であった。EC−OCは、エッジ亀裂
及びトップ亀裂を意味する。
【0083】実施例1及び2における混合物は、明確に
改善された応力亀裂抵抗及びノッチ付き衝撃強さを示
す。更にまた、使用されるブロックコポリカーボネート
が比較実施例Aにおいて使用されるポリカーボネートの
ものよりも高い相対溶液粘度を有するけれども、より低
い充填圧力が示すように、流動挙動も改善される。
改善された応力亀裂抵抗及びノッチ付き衝撃強さを示
す。更にまた、使用されるブロックコポリカーボネート
が比較実施例Aにおいて使用されるポリカーボネートの
ものよりも高い相対溶液粘度を有するけれども、より低
い充填圧力が示すように、流動挙動も改善される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 27/12 LGB C08L 27/12 LGB 33/08 LJA 33/08 LJA 51/00 LKP 51/00 LKP (72)発明者 リヒヤルト・バイダー ドイツ51381レーフエルクーゼン・インデ アダスラデン14 (72)発明者 デイーター・ビツトマン ドイツ51375レーフエルクーゼン・エルン スト−ルートビヒ−キルヒナー−シユトラ ーセ41 (72)発明者 ホルスト・バイヒヤー ドイツ47918テニスフオルスト・ザイデン シユトラーセ11
Claims (7)
- 【請求項1】 A)5〜90重量部の、ポリカーボネー
トブロックからなるブロックコポリカーボネート及び
0.5〜30重量%(ブロックコポリカーボネートに対
して)のポリイソブチレンα−ハロケトカルボン酸ブロ
ック[ここで、ポリイソブチレンα−ハロケトカルボン
酸ブロックは、500〜50,000の平均分子量Mn
(数平均)、0.1〜15重量%の(PIBブロックに
対して)組み込みに先立ってのハロゲン含量(塩素又は
臭素)、及び2〜250mgKOH/gの酸価を有す
る]、 B.) B.2)5〜95重量部の、−10℃未満のガラス転移
温度を有するジエン及び/又はアルキルアクリレートを
基にしたポリマーの上の B1.1)50〜95重量部のスチレン、α−メチルス
チレン、ハロゲン若しくはメチルによって環置換された
スチレン、C1〜C8−アルキルアクリレート特にメチル
アクリレート、又はこれらの化合物の混合物、及び B1.2)5〜50重量部のアクリロニトリル、メタク
リロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C
1〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、C1
〜C4−アルキル−若しくはフェニル−N−置換された
マレイミド又はこれらの化合物の混合物の混合物の5〜
95重量部のグラフトポリマー、 C)0〜20重量部のB)とは異なるゴム D)0〜70重量部の、 D.1)50〜98重量部のスチレン、α−メチルスチ
レン、環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルメタ
クリレート、C1〜C8−アルキルアクリレート又はこれ
らの混合物及び、 D.2)50〜2重量部のアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C1
〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、N−
置換されたマレイミド及びこれらの混合物のコポリマ
ー、 E)0〜80重量部の芳香族ポリカーボネート、 F)1〜20重量部の、250〜10,000g/モル
のモル/質量を有する、モノマー状又はオリゴマー状ホ
スフェートエステル又はホスホネートエステル、 G)0.05〜5、好ましくは0.1〜1重量部のフッ
素化ポリオレフィン[ここで、成分A+B+C+D+E
+F+Gの和が合計すると100である]を含む熱可塑
性成形組成物。 - 【請求項2】 成分F)が式(III) 【化1】 [式中、 R5、R6、R7、R8は、互いに独立に、C1〜C8−アル
キル、C5〜C6−シクロアルキル、C6〜C10−アリー
ル又はC7〜C12−アラルキルを意味し(ここで、R5、
R6、R7及びR8中の芳香族基はハロゲン化物又はアル
キル基によってそれらの一部に関して置換されていて良
い)、 Xは、6〜30個の炭素原子を有する単核又は多核芳香
族基を意味し、 nは、互いに独立に0又は1であり]Nは、0〜12の
値を意味する]のリン化合物から成る、請求項1に記載
の成形組成物。 - 【請求項3】 式中、 R5、R6、R7、R8が、互いに独立に、クレジル、フェ
ニル、キシレニル、メチルフェニル、プロピルフェニ
ル、ブチルフェニル又はイソオクチルフェニル並びにこ
れらの塩素化及び臭素化誘導体を表し、そしてXが、ビ
スフェノールA、レゾルシノール又はヒドロキノンから
誘導される]請求項2記載の成形組成物。 - 【請求項4】 成分G)が成分B)との凝固された混合
物の形で使用される、請求項1記載の成形組成物。 - 【請求項5】 安定剤、染料、顔料、流動制御剤、充填
剤及び強化物質、潤滑剤及び離型剤、成核剤及び/又は
静電防止剤よりなる群から選ばれた添加剤を含む、請求
項1記載の成形組成物。 - 【請求項6】 成形品の製造のための請求項1記載の成
形組成物の使用。 - 【請求項7】 請求項1記載の成形組成物から製造され
た成形品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19538892A DE19538892A1 (de) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | Flammgeschützte, spannungsrißbeständige Polycarbonat/ABS-Blends |
| DE19538892.5 | 1995-10-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09124920A true JPH09124920A (ja) | 1997-05-13 |
Family
ID=7775235
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8289046A Pending JPH09124920A (ja) | 1995-10-19 | 1996-10-14 | 応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネート/absブレンド |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5750602A (ja) |
| EP (1) | EP0769526B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09124920A (ja) |
| DE (2) | DE19538892A1 (ja) |
| ES (1) | ES2158207T3 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| DE19734667A1 (de) * | 1997-08-11 | 1999-02-18 | Bayer Ag | Flammwidrige, verstärkte Polycarbonat-ABS-Formmassen |
| DE19734661A1 (de) * | 1997-08-11 | 1999-02-18 | Bayer Ag | Flammwidrige, spannungsrißbeständige Polycarbonat ABS-Formmassen |
| DE19734666A1 (de) * | 1997-08-11 | 1999-02-18 | Bayer Ag | Flammwidrige Polycarbonat-ABS-Formmassen |
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| DE19914139A1 (de) * | 1999-03-27 | 2000-09-28 | Bayer Ag | Flammwidrige, schlagzähmodifizierte Polycarbonat-Formmassen |
| DE19914137A1 (de) * | 1999-03-27 | 2000-09-28 | Bayer Ag | Flammwidrige mit Pfropfpolymerisat modifizierte Polycarbonat-Formmassen |
| US6414060B1 (en) | 1999-07-07 | 2002-07-02 | Albemarle Corporation | Flame retardant polycarbonate-ABS polymer compositions |
| DE10010941A1 (de) * | 2000-03-06 | 2001-09-13 | Bayer Ag | Flammwidrige Polycarbonat-Formmassen |
| CA2401783C (en) * | 2000-03-06 | 2010-02-02 | Bayer Aktiengesellschaft | Flame-resistant polycarbonate moulding compounds for extrusion applications |
| DE10014608A1 (de) | 2000-03-06 | 2001-09-13 | Bayer Ag | Flammwidrige Polycarbonat-Formmassen für Extrusionsanwendungen |
| JP2004510025A (ja) * | 2000-09-26 | 2004-04-02 | バイエル アクチェンゲゼルシャフト | コポリカーボネート組成物、その使用およびそれを含有する成形部品 |
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| KR100722149B1 (ko) * | 2005-12-30 | 2007-05-28 | 제일모직주식회사 | 압출가공성 및 내충격성이 우수한 난연성 폴리카보네이트계열가소성 수지 조성물 |
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| KR100885819B1 (ko) * | 2007-12-18 | 2009-02-26 | 제일모직주식회사 | 굴절률이 우수한 분지형 아크릴계 공중합체 및 그 제조방법 |
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| US8735490B2 (en) * | 2009-12-30 | 2014-05-27 | Cheil Industries Inc. | Thermoplastic resin composition having improved impact strength and melt flow properties |
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