JPH09124920A - 応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネート/absブレンド - Google Patents

応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネート/absブレンド

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JPH09124920A
JPH09124920A JP8289046A JP28904696A JPH09124920A JP H09124920 A JPH09124920 A JP H09124920A JP 8289046 A JP8289046 A JP 8289046A JP 28904696 A JP28904696 A JP 28904696A JP H09124920 A JPH09124920 A JP H09124920A
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JP8289046A
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ブルクハルト・ケーラー
Juergen Kirsch
ユルゲン・キルシユ
Richard Dr Weider
リヒヤルト・バイダー
Dieter Dr Wittmann
デイーター・ビツトマン
Horst Beicher
ホルスト・バイヒヤー
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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    • C08L51/04Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い防炎性及び応力亀裂に対する耐性を有す
る、ポリカーボネート及びグラフトポリマーを基にした
成形組成物の提供。 【解決手段】 応力亀裂に耐える防炎加工ポリカーボネ
ート/ABSブレンドであり、このポリカーボネートが
ハロブチルゴムブロックによって全体的に又は部分的に
改質されているブレンド。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、応力亀裂に耐える防炎加工ポリ
カーボネート/ABSブレンドであり、このポリカーボ
ネートがハロブチルゴムブロックによって全体的に又は
部分的に改質されているブレンドに関する。
【0002】ポリカーボネート及びグラフトポリマーの
混合物は一般に知られている(例えば、DE 1 17
0 141)。これらの混合物の応力亀裂に対する防炎
性及び耐性は、多くの応用のためには不適切である。
【0003】ポリイソブチレンによって改質されたポリ
カーボネートもまた知られている(例えば、EP−A
305,718、DE−OS 3,618,378(U
S−P 4,798,873と等しい)。
【0004】本発明の目的は、高い防炎性及び応力亀裂
に対する耐性を有する、ポリカーボネート及びグラフト
ポリマーを基にした成形組成物の提供である。
【0005】ハロブチルゴムによって改質されたポリカ
ーボネート、必要に未改質ポリカーボネート、グラフト
ポリマー、必要に応じてその他の熱可塑性ポリマー、防
炎添加剤例えば、ホスフェートエステル及び/又はテフ
ロンの混合物が、完全に防炎性を保留しながら応力亀裂
に対する驚くべき高い耐性を有することがここに見い出
された。
【0006】本発明は、 A)5〜90好ましくは30〜85重量部の、ポリカー
ボネートブロックからなるブロックコポリカーボネート
及び0.5〜30重量%好ましくは1〜25重量%特に
4〜20重量%(ブロックコポリカーボネートに対し
て)のポリイソブチレンα−ハロケトカルボン酸ブロッ
ク(PIBブロック)、[ここで、ポリイソブチレンα
−ハロケトカルボン酸ブロックは、500〜50,00
0の平均分子量Mn(数平均)、0.1〜15重量%の
(PIBブロックに対して)組み込みに先立ってのハロ
ゲン含量(塩素又は臭素)、及び2〜250mgKOH
/gの酸価を有する]、 B.) B.2)5〜95好ましくは20〜70重量部の、−1
0℃未満のガラス転移温度を有するジエン及び/又はア
ルキルアクリレートを基にしたポリマーの上の B1.1)50〜95好ましくは60〜90重量部のス
チレン、α−メチルスチレン、ハロゲン若しくはメチル
によって環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルア
クリレート特にメチルメタクリレート、又はこれらの化
合物の混合物、及び B1.2)5〜50好ましくは10〜40重量部のアク
リロニトリル、メタクリロニトリル、C1〜C8−アルキ
ルメタクリレート特にメチルメタクリレート、C1〜C8
−アルキルアクリレート特にメチルアクリレート、無水
マレイン酸、C1〜C4−アルキル−若しくはフェニル−
N−置換されたマレイミド又はこれらの化合物の混合物
の混合物の5〜95好ましくは8〜90特に8〜35重
量部のグラフトポリマー、 C)0〜20重量部のB)とは異なるゴム D)0〜70重量部の、 D.1)50〜98重量部のスチレン、α−メチルスチ
レン、環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルメタ
クリレート、C1〜C8−アルキルアクリレート又はこれ
らの混合物及び、 D.2)50〜2重量部のアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C1
〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、N−
置換されたマレイミド及びこれらの混合物のコポリマ
ー、 E)0〜80重量部の芳香族ポリカーボネート、 F)1〜20重量部の、250〜10,000g/モル
のモル/質量を有する、モノマー状又はオリゴマー状ホ
スフェートエステル又はホスホネートエステル、 G)0.05〜5、好ましくは0.1〜1重量部のフッ
素化ポリオレフィン[ここで、成分A+B+C+D+E
+F+Gの和が合計すると100である]を含む熱可塑
性成形組成物。
【0007】成分A 本発明によるブロックコポリカーボネートは、ポリブチ
レンα−ハロケトカルボン酸に重縮合反応、即ち、ジフ
ェノール、ホスゲン、連鎖停止剤及び必要に応じて分岐
剤からのポリカーボネートの製造のための反応を加える
ことによって製造される。
【0008】相境界重縮合の間のポリマー連鎖中へのP
IBブロックの組み込みは、エステル結合を経由してそ
して付加的にはエーテル結合を経由するハロゲンの置換
を通して起きる。
【0009】このようにして製造されたブロックコポリ
カーボネートの分子量Mw(重量平均、光散乱によって
測定される)は、一般に、8000〜150,000で
あるか、又はブロックコポリカーボネートは1.15〜
1.5の相対溶液粘度(25℃で塩化メチレン中の0.
5%溶液に関して測定して)を有する。
【0010】ポリブチレンα−ハロケトカルボン酸は、
既知の方法によって、例えば、酸化によるハロブチルゴ
ムの分解によって得ることができる。特に好ましい方法
においては、酸化による分解のためにオゾンを使用す
る。
【0011】この製造のために必要とされるハロブチル
ゴムは、イソブチレンと0.3〜15モル%のイソプレ
ンとの共重合及び引き続く元素状臭素又は塩素を使用す
るアルキル位置における注意深いハロゲン化によって溶
液中で得ることができる、商業的に入手できる高分子固
体ポリマーである。ここで、イソプレンは実質的に1,
4−位置に結合される。すべての商業的に入手できるブ
チルゴム中に存在しそして完全には抑制することができ
ない少ない割合の1,2−結合は、酸化生成物中の少な
い割合の側部のカルボキシル基を導く。ハロブチルゴム
中のハロゲン含量は、0.1〜15重量%、好ましくは
0.5〜5重量%である。ハロブチルゴムのムーニー粘
度は、30〜80(ML 1+8、125℃)であり、
そして平均分子量Mn(数平均、ゲル透過クロマトグラ
フィーによって測定して)は、20,000〜1,00
0,000、好ましくは100,000〜500,00
0である。適切なハロブチルゴムは、例えば、Ullm
ann’s Encyclopedia of Ind
ustrial Chemistry、A23巻(19
93)、314頁以降中で述べられている。イソプレン
以外のその他の1,3−ジエンもまた、コモノマーとし
て適切であるが、これらの製品は商業的に入手できな
い。適切なコモノマーは、例えば、H.Gueterb
ock,“Polyisobutylen und I
sobutylen−Mischpolymerisa
te”,Springer Verlag,Berli
n,1959中に述べられている。
【0012】オゾンを使用するハロブチルゴム溶液の酸
化によって、ハロブチルゴムは、カルボキシル−ケトン
基又はアルデヒド基の分子量及び生成の減少を伴ってな
お存在する二重結合において開裂される。
【0013】使用される出発ポリマーに依存して、塩素
又は臭素がカルボキシル又はカルボニル基中に存在す
る。
【0014】このようにして得ることができるポリブチ
レンα−ハロケトカルボン酸の酸価及び分子量は、コポ
リマー中のイソプレン又はジエンの含量にそして選ばれ
た過剰のオゾンに依存する。酸価は、一般に2〜250
mgKOH/g、好ましくは2〜100mgKOH/
g、特に好ましくは2〜50mgKOH/gである。生
成物の分子量Mn(数平均、HPGPCによって測定さ
れた)、一般に500〜50,000、好ましくは1,
000〜10,000である。ハロゲン含量は、使用さ
れるハロブチルゴムのものに対応する。
【0015】本発明によれば、適切な熱可塑性芳香族ポ
リカーボネートは、式(I)
【0016】
【化2】
【0017】[式中、Aは、単結合、C1〜C5−アルキ
レン、C2〜C5−アルキリデン、C5〜C6−シクロアル
キリデン、−S−又は−SO2−を表し、Bは、塩素、
臭素を表し、xは、0、1若しくは2であり、そしてp
は、1若しくは0である]、又は式(II)
【0018】
【化3】
【0019】[式中、R1及びR2は、互いに独立に、水
素、ハロゲン、好ましくは塩素若しくは臭素、C1〜C8
−アルキル、C5〜C6−シクロアルキル、C6〜C10
アリール、好ましくはフェニル、及びC7〜C12−アラ
ルキル、好ましくはフェニル−C1〜C4−アルキル、特
にベンジルを意味し、mは、4〜7、好ましくは4若し
くは5の整数であり、R3及びR4は、互いに独立に、各
々のZのために個別に選択可能な水素若しくはC1〜C6
−アルキルを意味し、そしてZは、少なくとも一個の原
子Zの上で、R3及びR4の上の炭素が両方ともアルキル
であるという条件下で炭素を意味する]のジフェノール
を基にしたものである。
【0020】述べて良い例は、ヒドロキノン、レゾルシ
ノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス(ヒドロキシフ
ェニル)アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)シクロ
アルカン、ビス(ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビ
ス(ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒドロキシ
フェニル)ケトン、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホ
キシド、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン及びα,
α−ビス(ヒドロキシフェニル)ジイソプロピルベンゼ
ン並びに環アルキル化及び環ハロゲン化化合物である。
【0021】適切なジフェノールは、例えば、米国特許
第3,028,365号、第2,999,835号、第
3,062,781号、第3,148,172号及び第
4,982,014号中に、ドイツ公開特許明細書第
1,570,703号及び第2,063,050号中
に、並びにH.Schnell,“ポリカーボネートの
化学及び物理”、Interscience Publ
ishers,New York,1964中に述べら
れている。
【0022】好ましいジフェノールは、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニル、2,2−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,4−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、α,α−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、
2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ン、2,4−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−2−メチルブタン、1,1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ン、α,α’−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、1,1−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメ
チルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)−3−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)−3,3−ジメチルシクロ
ヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−
4−メチルシクロヘキサン、2,2−ビス(3,5ジク
ロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン及び2,2−
ビス(3,5ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロ
パンである。
【0023】特に好ましいジフェノールは、例えば、
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4
−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,
5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビ
ス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スル
ホン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、α,α’−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン、
1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−3−メチルシクロヘキサン、1,1
−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)
−4−メチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)−4−メチルシクロヘキサンである。
【0024】特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン及び1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンが好まし
い。
【0025】上で述べたジフェノールの任意の混合物も
また使用することができる。
【0026】流動挙動を改善する目的のために、小量、
好ましくは0.05〜2.0モル%(使用されるジフェ
ノールのモルに対して)の量の3官以上の化合物、特に
3以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物も
また、既知のやり方で付随して使用することができる。
3以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する幾つかの
使用可能な化合物の例は、1,3,5−トリ(4−ヒド
ロキシフェニル)ベンゼン、1,1,1−トリ(4−ヒ
ドロキシフェニル)エタン、2,6−ビス(2−ヒドロ
キシ−5’−メチルベンジル)−4−メチルフェノー
ル、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−
ジヒドロキシフェニル)プロパン、ヘキサ(4−(4−
ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェニル)オルトテ
レフタレート、テトラ(4−ヒドロキシフェニル)メタ
ン及び1,4−ビス(4’,4”−ジヒドロキシトリフ
ェニル)メチル)ベンゼンである。幾つかのその他の3
官能化合物は、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、トリメ
シン酸、塩化シアヌル及び3,3−ビス(4−ヒドロキ
シ−3−メチルフェニル)−2−オキソ−2,3−ジヒ
ドロインドールである。
【0027】本発明によるブロックポリカーボネートの
製造は、既知の溶液法(所謂2相界面法)(H.Sch
nell、“ポリカーボネートの化学及び物理”、ポリ
マーレビュー、IX巻、27頁以降、Intersci
ence Publ.1964参照)によって実質的に
分散相中で実施することができる、ここでは、使用され
るべきジフェノールは、水性アルカリ性相中に溶かされ
る。これに、本発明によるポリカーボネートの製造のた
めに必要とされる連鎖停止剤を、有機溶媒中溶かされた
又は固体の形のジフェノールに対して1〜20モル%の
量で添加する。次に、ホスゲンとの反応が、不活性の、
好ましくはポリカーボネート溶解性有機相の存在下で起
きる。反応温度は0℃〜40℃である。ポリイソブチレ
ンα−ハロケトカルボン酸は、純粋な物質として又は有
機相を形成する溶媒中に溶かして必要な量で反応に添加
する。
【0028】上で与えられた形態及び量において必要と
される連鎖停止剤の添加はまた、ホスゲン化の間に起き
ることもできる。
【0029】連鎖停止剤のための適切な有機溶媒は、例
えば、塩化メチレン、クロロベンゼン、塩化メチレン及
びクロロベンゼンの混合物、アセトン、アセトニトリ
ル、トルエンである。
【0030】前記反応は、触媒例えばトリブチルアミン
又はトリエチルアミンによって促進することができる。
連鎖停止剤の組み込みを促進するために、オニウム塩例
えば、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを、相移
動触媒として付随して使用することができる。
【0031】付随して分岐剤を使用する場合には、それ
らはホスゲンとの反応に先立って又はホスゲン化の間に
添加することができる。
【0032】ジフェノールに加えて又はそれらの代わり
に、それらのクロロカルボン酸エステルもまた使用する
ことができる。
【0033】本発明によるブロックコポリカーボネート
は、既知のやり方で単離される。適切な後処理方法は、
特に、沈殿、噴霧乾燥及び真空中での溶媒の蒸発であ
る。
【0034】ジフェノールに加えて、用いられるジフェ
ノールに対して50モル%までのそれらのビスクロロカ
ルボン酸エステルもまた使用することができる。
【0035】成分B 好ましいグラフト幹は、ポリブタジエン、ブタジエン−
スチレンコポリマー及びアクリルゴムである。グラフト
幹は粒状であり、そして概して0.05〜5μm、好ま
しくは0.1〜0.8μmの平均粒径(d50)を有す
る。
【0036】グラフト幹は、ブタジエンに加えて、50
重量%までのその他のエチレン性不飽和モノマー、例え
ばスチレン、アクリロニトリル、アルコール成分中に1
〜4個の炭素原子を有するアクリル酸又はメタクリル酸
のエステル(例えばメチルアクリレート、エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト)、ビニルエステル及び/又はビニルエーテルを含む
ことができる。好ましいグラフト幹は純粋なポリブタジ
エンから成る。
【0037】好ましいグラフトポリマーBは、例えば、
基体B.2例えばポリブタジエン、ブタジエン−スチレ
ンコポリマー、並びにスチレン及び/又はアクリロニト
リル及び/又は(メタ)アクリル酸アルキルエステル、
即ち、DE−OS 1,694,173(US−PS
3,564,077と等しい)中に述べられた種類のの
コポリマー、例えば、DE−OS 2,348,377
(US−PS 3,919,353に等しい)中で述べ
られているポリイソブテンとの又は、アクリル酸エステ
ル又はメタクリル酸エステルによって、酢酸ビニルによ
って、アクリロニトリルによって、スチレン及び/又は
アルキルスチレングラフトされたポリブタジエン、ブタ
ジエン−スチレン又はブタジエンアクリロニトリルコポ
リマーポリイソプレン又はポリイソプレンである。
【0038】一般的に知られているように、グラフトモ
ノマーは必ずしも完全にグラフト幹の上のグラフトされ
ないので、本発明に従っては、グラフトポリマーCはま
た、グラフト幹の存在下でのグラフトモノマーの重合に
よって得られる生成物を意味する。
【0039】平均粒度d50は、粒子の50重量%より多
いそしてより少ない粒子がそれぞれ入る径である。それ
は超遠心分離測定によって測定することができる(W.
Scholtan,H.Lange,、Kolloi
d,Z. & Z.Polymere 250、(19
72)、782〜796)。
【0040】アクリルゴム(グラフト幹B.2)は、必
要に応じて40重量%までのそれらの重合性エチレン性
不飽和モノマーを含むアクリルアルキルエステルから成
るポリマーが好ましい。好ましい重合性アクリルエステ
ルは、C1〜C8−アルキルエステル、例えば、メチル、
エチル、ブチル、n−オクチル及び2−エチルヘキシル
エステル;ハロアルキルエステル、好ましくはハロ−C
1〜C8−アルキルエステル、例えばクロロエチルアクリ
レート、並びにこれらのモノマーの混合物を含む。
【0041】1よりも多い重合性二重結合を有するモノ
マーは、橋かけを遂行するために共重合させることがで
きる。橋かけモノマーの好ましい例は、3〜8個の炭素
原子を有する不飽和モノカルボン酸のエステル、並びに
3〜12個の炭素原子を有する不飽和多価アルコール例
えばエチレングリコールジメタクリレート、アリルメタ
クリレート、多不飽和複素環式化合物例えば、シアヌル
酸トリビニル及びシアヌル酸トリアリル、多官能ビニル
化合物例えばジビニルベンゼン及びトリビニルベンゼ
ン、並びにまたトリアリルホスフェート及びジアリルホ
スフェートである。
【0042】橋かけされたモノマーの量は、グラフト幹
に対して、好ましくは0.02〜5重量%、特に0.0
5〜2重量%である。
【0043】成分C 成分Cとして必要に応じて使用されるゴムは、好ましく
は、エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリイソブチレ
ンゴム、エポキシ官能化エチレン−アクリルターポリマ
ー、特に好ましくはポリイソブチレンゴムである。
【0044】エチレン−酢酸ビニルコポリマーは、20
〜80重量%の酢酸ビニル含量を有する。エポキシ官能
化アクリルコポリマーは、60〜90重量%のエチレン
含量、8〜38重量%のアクリル含量、及び一部のエポ
キシ官能化モノマー、好ましくは2〜15重量%のポリ
アクリルメタクリレートを有する。ポリイソブチレンゴ
ムは、85〜100重量%の程度までのカチオン的に重
合されたイソブテンから成り、それに、0〜15重量%
のコモノマー例えばジエン、m/p−メチルスチレン、
スチレン、α−メチルスチレン又はジビニルベンゼンを
添加することができる。分子量(重量平均)Mwは20
0,000〜2,000,000である。
【0045】コポリマーを含む混合物が成分Cとして使
用される場合には、好ましくは5〜20重量%(100
部のA+B+C+D+E+Fに対して)を添加する。
【0046】成分D 熱可塑性ポリマーDは、一種以上のエチレン性不飽和モ
ノマー(ビニルモノマー)例えば、スチレン、α−メチ
ルスチレン、環置換スチレン、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、メチルメタクリレート、無水マレイン
酸、N−置換マレイミド及びアルコール成分中に1〜1
8個の炭素原子を有する(メタ)アクリル酸エステルの
ホモポリマー又はコポリマーから成る。
【0047】成分Dにおいて使用されるコポリマーは、
樹脂状、熱可塑性でありそしてゴムを含まない。
【0048】好ましいビニルコポリマーDは、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、メチルメタクリレー
ト、無水マレイン酸及び/又はN−置換マレイミド
(D.2)のシリーズからの少なくとも一種のモノマー
と一緒の、スチレン、α−メチルスチレン及び/又は環
置換スチレン(D.1)からの少なくとも一種のモノマ
ーから成るコポリマーである。
【0049】特に好ましいコポリマーDは、スチレンと
アクリロニトリル及びメチルメタクリレートとから成る
もの、又はスチレン及びα−メチルスチレンとアクリロ
ニトリルと及び必要に応じてメチルメタクリレートとか
ら成るものである。
【0050】成分Dとして使用されるスチレン−アクリ
ロニトリルコポリマーは、知られていてそしてラジカル
重合によって、特に乳化、懸濁、溶液又は塊状重合によ
って製造することができる。成分Dとして使用されるコ
ポリマーは、好ましくは15,000〜200,000
の分子量Mw(重量平均、光散乱又は沈降によって測定
して)を有する。
【0051】成分E 混合物に添加することができる芳香族ポリカーボネート
は、成分A)の下で述べられたポリカーボネートに対応
する。好ましくは、20〜60重量部のポリカーボネー
トが添加される。
【0052】成分F 本発明によるポリマーの混合物は、防炎剤として式(I
II)のモノマー状又はオリゴマー状ホスフェートを含
む。
【0053】
【化4】
【0054】この式においては、R5、R6、R7、R
8は、お互いに独立に、C1〜C8−アルキル、C5〜C6
−シクロアルキル、C6〜C10−アリール又はC7〜C12
−アラルキルを意味する。芳香族基、R5、R6、R7
びR8は、ハロゲン又はアルキル基によってそれらの一
部に関して置換されていて良い。特に好ましいアルキル
基はクレジル、フェニル、キシレニル、メチルフェニ
ル、プロピルフェニル、ブチルフェニル又はイソオクチ
ルフェニル並びにこれらの塩素化及び臭素化誘導体であ
る。
【0055】式(III)中のXは、6〜30個の炭素
原子を有する単核又は多核芳香族基を意味する。これ
は、ジフェノール、例えば、ビスフェノールA、レゾル
シノール若しくはヒドロキノン又は更にこれらの塩素化
若しくは臭素化誘導体から誘導される。
【0056】式(III)中のnは、お互いに独立に、
0又は1で良く、好ましくはnは1に等しい。
【0057】成分G フッ素化ポリオレフィン(G)は高分子量であり、そし
て−30℃よりも高い、概して100℃よりも高いガラ
ス転移温度、好ましくは65〜76重量%の特に70〜
76重量%のフッ素含量、及び0.05〜1,000μ
mの、好ましくは0.08〜20μmの平均粒度を有す
る。一般に、フッ素化ポリオレフィンは、1.2〜2.
3g/cm3の密度を有する。好ましいフッ素化ポリオ
レフィンは、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化
ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン及びエチレン−テトラフルオロエチレンコポ
リマーである。フッ素化ポリオレフィンは知られている
(”Schildknecht,John Wiley
& Sons Inc.New York,196
2、484〜494頁による“ビニル及び関連ポリマ
ー”、”Wall,John Wiley & Son
s Inc.New York,13巻、1970、4
84〜494頁による“フルオロポリマー”、“最近の
プラスチック百科事典”、1970〜1971、47
巻、第10A、1970、10月、McGraw−Hi
ll Inc.New York,134及び774
頁、“最近のプラスチック百科事典”、1975〜19
76、52巻、第10A、McGraw−Hill I
nc.New York,27、28及び472頁並び
にUS−PS 3,671,487及び3,723,3
73及び3,838,092参照)。
【0058】それらは、既知の方法によって、かくして
例えばフリーラジカルの生成を促進する触媒例えばナト
リウムペルオキシジスルフェート又はアンモニウムペル
オキシジスルフェートを使用して、7〜71kg/cm
3の圧力でそして0〜200℃の好ましくは20〜10
0℃の温度で水性媒体中でのテトラフルオロエチレンの
重合によって製造することができる(一層の詳細に関し
ては、例えば、米国特許第2,393,967号を参照
せよ)。使用の形態に依存して、これらの物質の密度は
1.2〜2.3g/cm3、平均粒度は0.05〜10
00μmで良い。
【0059】好ましいフッ素化ポリオレフィンは、テト
ラフルオロエチレンポリマーでありそして0.05〜2
0μmの、好ましくは0.08〜10μmの平均粒度及
び1.2〜1.9g/cm3の密度を有し、そして好ま
しくはテトラフルオロエチレンポリマーのエマルション
とグラフトポリマーB)のエマルションとの凝固された
混合物の形で使用される。
【0060】粉末の形で使用することができる適切なフ
ッ素化ポリオレフィンは、100〜1,000μmの平
均粒径及び2.0g/cm3〜2.3g/cm3の密度を
有するテトラフルオロエチレンポリマーである。
【0061】B)及びG)の凝固された混合物を製造す
るためには、0.05〜2μmの、特に0.1〜0.6
μmのラテックス粒径を有するグラフトポリマーB)の
水性エマルション(ラテックス)をまず第一に、0.0
5〜20μmの、特に0.08〜10μmの平均粒径を
有する水の中のテトラフルオロエチレンポリマーG)の
細かなエマルションと混合させる;適切なテトラフルオ
ロエチレンエマルションは、一般に30〜70重量%
の、特に50〜60重量%の固体含量を有する。グラフ
トポリマーのエマルションは、25〜50重量%の、好
ましくは30〜45重量%の固体含量を有する。
【0062】成分B)の説明の中で述べた量は、グラフ
トポリマー及びフッ素化ポリオレフィンの凝固された混
合物のために使用されるグラフトポリマーの割合を含
む。
【0063】エマルションの混合物においては、グラフ
トポリマーB)対フッ素化ポリオレフィンG)の重量比
は、95:5〜60:40である。引き続いて、エマル
ションの混合物を、既知のやり方で、例えば、噴霧乾
燥、凍結乾燥、又は好ましくは20〜150℃、特に5
0〜100℃の温度での無機若しくは有機塩、酸、塩基
若しくは水中に混和性の有機溶媒、例えばアルコール、
ケトンを添加することによる凝固によって凝固させる。
必要な場合には、乾燥を50〜200℃、好ましくは7
0〜100℃で実施することができる。
【0064】適切なテトラフルオロエチレンポリマーエ
マルションは、商業的に入手できる製品であり、そし
て、例えばDuPont社によってテフロン(R)30N
として供給される。
【0065】本発明による成分の混合物は、加えて、ポ
リカーボネート又はブチルゴム又はABSポリマーのた
めに慣用的な添加剤例えば安定剤、離型剤、酸化防止
剤、その他の防炎剤、顔料、染料などを含むことができ
る。これらの安定剤は、所望の成形品を成形するための
混合物の成形の間に通常の量を導入することができる。
【0066】成分のそして必要に応じた添加剤の混合
は、高められた温度で、一般には230〜330℃の温
度でニーダー又は押出機中の溶融液中で混合させること
によって実施される。
【0067】従って、本発明は、混合の完了に際して前
記成分並びに必要に応じて安定剤、染料、顔料、流動制
御剤、充填剤及び/又は強化物質、潤滑剤及び離型剤、
核形成剤及び/又は静電防止剤を、230〜330℃の
温度で慣用的な装置中で溶融配合又は溶融押出しする、
熱可塑性成形組成物の製造方法もまた提供する。
【0068】個々の成分は、既知のやり方で次々とそし
て同時に、そして約20℃(室温)並びにもっと高めら
れた温度で混合することができる。
【0069】本発明の成形組成物は、任意の種類の成形
品の製造のために、例えば射出成形によって使用するこ
とができる。成形品の例は、家庭用品のそして電気用品
のハウジングである。
【0070】それ故本発明はまた、成形品の製造のため
の成形組成物の使用を提供する。
【0071】混合物の個々の成分は、全部又は部分的に
リサイクル品又は製品廃棄物から成っても良い。
【0072】
【実施例】成分A)PC/PIBブロック縮合物: A1)塩素含有ポリイソブチレンα−ハロケトカルボン
酸の製造 1.2重量%の塩素含量及び46のムーニー粘度(MN
1+8、125℃)を有する10kgのクロロブチル
ゴム(Polysar Chlorobutyl 12
55、Bayer AGからの市販の製品)を、粗い塊
(径が約2cm)に粉砕し、そして40lのヘキサン中
に懸濁させる。オゾンを濃くした酸素の流れ(1,00
0l/h、オゾンの量:約15g/h)を、11の酸価
にたっするまで、15〜25℃で、撹拌しながら、前記
混合物中に導入する。このために必要とされる導入時間
は40時間である。導入の仮定において、固体成分は完
全に溶ける。この混合物に窒素をどっと流した後で、溶
媒を留去する。平均分子量(Mn)は4,400であ
り、塩素含量は1.2重量%であり、そして酸価は13
である。
【0073】A2)PC/PIBブロック共縮合物の製
造 8,000gの45%NaOH、4560gのビスフェ
ノールA、45gのtert.−ブチルフェノール、5
64gの実施例A1)におけるような塩素含有PIBテ
レケレ、13.2kgのクロロベンゼン及び37.2k
gの塩化メチレンを受け器中に入れ、3000gのホス
ゲンを導入し、そしてこの混合物を28mlのN−エチ
ルピペリジンの添加によって凝縮させる。酸性化、有機
相の分離及び追い出しカラム中での蒸発によって、単離
を慣用的に実施する。
【0074】ブロックコポリカーボネートは、10重量
%のPIB成分を含む。
【0075】相対溶液粘度(25℃で塩化メチレン中で
0.5%)は1.29である。
【0076】B)ABSグラフトポリマー 乳化重合(DE−OS 3,738,143の実施例
B.1と類似の)によって製造された、粒状の橋かけさ
れた60重量部のポリブタジエンゴム(平均粒径d50
0.28μm)の上の、73:27の比の40重量部の
スチレン及びアクリロニトリルのグラフトコポリマー。
【0077】D)72:28のスチレン対アクリロニト
リルの比及び0.55dl/g(20℃でジメチルホル
ムアミド中で測定して)を有するスチレン−アクリロニ
トリルコポリマー。
【0078】E)ビスフェノールAを基にしたPC(ポ
リカーボネート) 実施例中に与えられる相対溶液粘度(ηrel)に関する
値は、25℃で塩化メチレン中で0.5%溶液で測定す
る。
【0079】F)ホスゲン 1:3の重量比のトリフェニルホスフェート及びm−フ
ェニレン−ビス(ジフェニルホスフェート) G)テフロン/グラフトポリマー テトラフルオロエチレンポリマーは、72:28の重量
比の45重量%スチレン及びアクリロニトリルのグラフ
トポリマーから成る、そして水の中の乳化重合によって
製造された55重量%の粒状の橋かけされたポリブタジ
エンゴム(平均粒径d50=0.4μm)(DE−OS
3,378,143の重量比B.Hと類似の)のアクリ
ロニトリルSANグラフトポリマーエマルションから成
る、そして水の中のテトラフルオロエチレンポリマーエ
マルションから成る、SANグラフトポリマーエマルシ
ョンの凝固された混合物である。この混合物中のグラフ
トポリマー対テトラフルオロエチレンポリマーエマルシ
ョンの重量比は90:10である。テトラフルオロエチ
レンポリマーエマルションは60重量%の固体含量を有
し、そして平均粒径は0.05〜0.5μmである。S
ANグラフトポリマーエマルションは34重量%の固体
含量及び0.5μmの平均ラテックス粒径を有する。テ
トラフルオロエチレンポリマー(DuPont社からの
テフロン30N)のエマルションを、前記SANグラフ
トポリマーのエマルションと混合し、そして固体ポリマ
ーに対して1.8重量%のフェノール性酸化防止剤を使
用して安定化させる。85〜95℃で、この混合物を、
MgSO4(Epsom塩)及び酢酸を使用してpH4
〜5で凝固させ、濾過し、実質的に電解質無しまで洗浄
し、次に遠心分離によって大量の水を無くし、そして引
き続いて100℃で粉末に乾燥させる。
【0080】安定剤:環状ホスファイト 2,2’−メチレン−ビス(6−シクロヘキシル−4−
メチルフェノールの環状ホスフェートエステル 成形組成物は、前記成分を二軸押出機(Werner
& PfleidererからのZSK 32)で混合
し、そして次に射出成形機中で260℃で処理して成形
品を生成させる。
【0081】
【表1】
【0082】環境応力亀裂(ESC)挙動の測定のため
に使用される媒体は、イソプロパノール/トルエン4
0:60の混合物であった。EC−OCは、エッジ亀裂
及びトップ亀裂を意味する。
【0083】実施例1及び2における混合物は、明確に
改善された応力亀裂抵抗及びノッチ付き衝撃強さを示
す。更にまた、使用されるブロックコポリカーボネート
が比較実施例Aにおいて使用されるポリカーボネートの
ものよりも高い相対溶液粘度を有するけれども、より低
い充填圧力が示すように、流動挙動も改善される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 27/12 LGB C08L 27/12 LGB 33/08 LJA 33/08 LJA 51/00 LKP 51/00 LKP (72)発明者 リヒヤルト・バイダー ドイツ51381レーフエルクーゼン・インデ アダスラデン14 (72)発明者 デイーター・ビツトマン ドイツ51375レーフエルクーゼン・エルン スト−ルートビヒ−キルヒナー−シユトラ ーセ41 (72)発明者 ホルスト・バイヒヤー ドイツ47918テニスフオルスト・ザイデン シユトラーセ11

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 A)5〜90重量部の、ポリカーボネー
    トブロックからなるブロックコポリカーボネート及び
    0.5〜30重量%(ブロックコポリカーボネートに対
    して)のポリイソブチレンα−ハロケトカルボン酸ブロ
    ック[ここで、ポリイソブチレンα−ハロケトカルボン
    酸ブロックは、500〜50,000の平均分子量Mn
    (数平均)、0.1〜15重量%の(PIBブロックに
    対して)組み込みに先立ってのハロゲン含量(塩素又は
    臭素)、及び2〜250mgKOH/gの酸価を有す
    る]、 B.) B.2)5〜95重量部の、−10℃未満のガラス転移
    温度を有するジエン及び/又はアルキルアクリレートを
    基にしたポリマーの上の B1.1)50〜95重量部のスチレン、α−メチルス
    チレン、ハロゲン若しくはメチルによって環置換された
    スチレン、C1〜C8−アルキルアクリレート特にメチル
    アクリレート、又はこれらの化合物の混合物、及び B1.2)5〜50重量部のアクリロニトリル、メタク
    リロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C
    1〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、C1
    〜C4−アルキル−若しくはフェニル−N−置換された
    マレイミド又はこれらの化合物の混合物の混合物の5〜
    95重量部のグラフトポリマー、 C)0〜20重量部のB)とは異なるゴム D)0〜70重量部の、 D.1)50〜98重量部のスチレン、α−メチルスチ
    レン、環置換されたスチレン、C1〜C8−アルキルメタ
    クリレート、C1〜C8−アルキルアクリレート又はこれ
    らの混合物及び、 D.2)50〜2重量部のアクリロニトリル、メタクリ
    ロニトリル、C1〜C8−アルキルメタクリレート、C1
    〜C8−アルキルアクリレート、無水マレイン酸、N−
    置換されたマレイミド及びこれらの混合物のコポリマ
    ー、 E)0〜80重量部の芳香族ポリカーボネート、 F)1〜20重量部の、250〜10,000g/モル
    のモル/質量を有する、モノマー状又はオリゴマー状ホ
    スフェートエステル又はホスホネートエステル、 G)0.05〜5、好ましくは0.1〜1重量部のフッ
    素化ポリオレフィン[ここで、成分A+B+C+D+E
    +F+Gの和が合計すると100である]を含む熱可塑
    性成形組成物。
  2. 【請求項2】 成分F)が式(III) 【化1】 [式中、 R5、R6、R7、R8は、互いに独立に、C1〜C8−アル
    キル、C5〜C6−シクロアルキル、C6〜C10−アリー
    ル又はC7〜C12−アラルキルを意味し(ここで、R5
    6、R7及びR8中の芳香族基はハロゲン化物又はアル
    キル基によってそれらの一部に関して置換されていて良
    い)、 Xは、6〜30個の炭素原子を有する単核又は多核芳香
    族基を意味し、 nは、互いに独立に0又は1であり]Nは、0〜12の
    値を意味する]のリン化合物から成る、請求項1に記載
    の成形組成物。
  3. 【請求項3】 式中、 R5、R6、R7、R8が、互いに独立に、クレジル、フェ
    ニル、キシレニル、メチルフェニル、プロピルフェニ
    ル、ブチルフェニル又はイソオクチルフェニル並びにこ
    れらの塩素化及び臭素化誘導体を表し、そしてXが、ビ
    スフェノールA、レゾルシノール又はヒドロキノンから
    誘導される]請求項2記載の成形組成物。
  4. 【請求項4】 成分G)が成分B)との凝固された混合
    物の形で使用される、請求項1記載の成形組成物。
  5. 【請求項5】 安定剤、染料、顔料、流動制御剤、充填
    剤及び強化物質、潤滑剤及び離型剤、成核剤及び/又は
    静電防止剤よりなる群から選ばれた添加剤を含む、請求
    項1記載の成形組成物。
  6. 【請求項6】 成形品の製造のための請求項1記載の成
    形組成物の使用。
  7. 【請求項7】 請求項1記載の成形組成物から製造され
    た成形品。
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