JPH09128743A - 磁気ディスクおよびその製造法 - Google Patents
磁気ディスクおよびその製造法Info
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- JPH09128743A JPH09128743A JP22154896A JP22154896A JPH09128743A JP H09128743 A JPH09128743 A JP H09128743A JP 22154896 A JP22154896 A JP 22154896A JP 22154896 A JP22154896 A JP 22154896A JP H09128743 A JPH09128743 A JP H09128743A
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- magnetic disk
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Links
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】データ領域では平滑な表面においてもヘッドの
吸着を回避し、ＣＳＳ領域では機械特性に優れる磁気デ
ィスク。 【解決手段】保護膜表面に形成された潤滑膜が、ＣＳＳ
領域では保護膜に強く吸着した潤滑剤および非吸着もし
くは弱く吸着した潤滑剤とで構成され、データ領域では
保護膜に強く吸着した潤滑剤のみで構成された磁気ディ
スク１。
吸着を回避し、ＣＳＳ領域では機械特性に優れる磁気デ
ィスク。 【解決手段】保護膜表面に形成された潤滑膜が、ＣＳＳ
領域では保護膜に強く吸着した潤滑剤および非吸着もし
くは弱く吸着した潤滑剤とで構成され、データ領域では
保護膜に強く吸着した潤滑剤のみで構成された磁気ディ
スク１。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク、特に
高密度記録の磁気ディスクおよびその製造法に関する。
高密度記録の磁気ディスクおよびその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】固定磁気ディスク装置に使用されてい
る、強磁性薄膜を記録層にもつ磁気ディスク媒体には、
ディスク停止時には磁気ヘッドが接触しており、ディス
ク起動時には磁気ヘッドとの接触摺動が発生する。この
ためディスク表面では摩耗が発生するためこれを防止す
る必要がある。この目的でディスク表面には保護膜が形
成されておりさらにフッ素系の液体潤滑剤が塗布される
ことが多い。例えば、保護膜には非晶質炭素膜や酸化ケ
イ素膜が、潤滑剤には活性基を導入したパーフルオロポ
リエーテル潤滑剤等が使用される。
る、強磁性薄膜を記録層にもつ磁気ディスク媒体には、
ディスク停止時には磁気ヘッドが接触しており、ディス
ク起動時には磁気ヘッドとの接触摺動が発生する。この
ためディスク表面では摩耗が発生するためこれを防止す
る必要がある。この目的でディスク表面には保護膜が形
成されておりさらにフッ素系の液体潤滑剤が塗布される
ことが多い。例えば、保護膜には非晶質炭素膜や酸化ケ
イ素膜が、潤滑剤には活性基を導入したパーフルオロポ
リエーテル潤滑剤等が使用される。
【０００３】上述した従来の媒体に使用されている潤滑
剤であるパーフルオロポリエーテルは、例えば化１の化
学式で表され、平均分子量が１０００〜１００００であ
る。
剤であるパーフルオロポリエーテルは、例えば化１の化
学式で表され、平均分子量が１０００〜１００００であ
る。
【０００４】
【化１】ＲＣＦ2 −（ＯＣ2 Ｆ4 ）m −（ＯＣＦ2 ）n
−ＯＣＦ2 Ｒ、Ｒ（ＯＣ3 Ｆ6 ）p Ｒ。
−ＯＣＦ2 Ｒ、Ｒ（ＯＣ3 Ｆ6 ）p Ｒ。
【０００５】ここでＲは潤滑剤分子が保護膜表面に吸着
しやすいことを目的として導入された基であり、水酸基
（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、メトキシ
カルボニル基（−ＣＯＯＣＨ3 ）、ピペロニル基または
その誘導体（化２の化学式）、イソシアネート基（−Ｎ
ＣＯ）などが適する。ｍ、ｎ、ｐは自然数であり、５〜
５０の範囲にある。
しやすいことを目的として導入された基であり、水酸基
（−ＯＨ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、メトキシ
カルボニル基（−ＣＯＯＣＨ3 ）、ピペロニル基または
その誘導体（化２の化学式）、イソシアネート基（−Ｎ
ＣＯ）などが適する。ｍ、ｎ、ｐは自然数であり、５〜
５０の範囲にある。
【０００６】
【化２】
【０００７】活性な置換基を分子内にもつパーフルオロ
ポリエーテル系潤滑剤としては、ＦＯＭＢＬＩＮ（アウ
ジモント社の商品名）Ｚ−Ｄｏｌ（末端基が−ＣＦ2 −
ＣＨ2 −ＯＨ）、Ｚ−ＤＩＡＣ（末端基が−ＣＦ2 −Ｃ
ＯＯＨ）、Ｚ−ＤＥＡＬ（末端基が−ＣＦ2 ＣＯＯＣＨ
3 ）、ＡＭ２００１（末端基がピペロニル基の誘導
体）、Ｚ−ＤＩＳＯＣ（末端基が−ＣＦ2 ＣＯＮＨ−Ｃ
6 Ｈ3 （ＣＨ3 ）−ＮＣＯ）などやＤＥＭＮＵＭ（ダイ
キン工業社の商品名）のＳＡ（末端基が−ＣＨ2 Ｏ
Ｈ）、ＳＨ（末端基が−ＣＨ2 ＣＯＯＨ）、ＳＰ、ＳＹ
などがある。
ポリエーテル系潤滑剤としては、ＦＯＭＢＬＩＮ（アウ
ジモント社の商品名）Ｚ−Ｄｏｌ（末端基が−ＣＦ2 −
ＣＨ2 −ＯＨ）、Ｚ−ＤＩＡＣ（末端基が−ＣＦ2 −Ｃ
ＯＯＨ）、Ｚ−ＤＥＡＬ（末端基が−ＣＦ2 ＣＯＯＣＨ
3 ）、ＡＭ２００１（末端基がピペロニル基の誘導
体）、Ｚ−ＤＩＳＯＣ（末端基が−ＣＦ2 ＣＯＮＨ−Ｃ
6 Ｈ3 （ＣＨ3 ）−ＮＣＯ）などやＤＥＭＮＵＭ（ダイ
キン工業社の商品名）のＳＡ（末端基が−ＣＨ2 Ｏ
Ｈ）、ＳＨ（末端基が−ＣＨ2 ＣＯＯＨ）、ＳＰ、ＳＹ
などがある。
【０００８】また、ＫＲＹＴＯＸ（デュポン社の商品
名）のうち活性基が分子内に導入された１５７シリーズ
のようなパーフルオロポリエーテル潤滑剤も従来の媒体
に使用されている。
名）のうち活性基が分子内に導入された１５７シリーズ
のようなパーフルオロポリエーテル潤滑剤も従来の媒体
に使用されている。
【０００９】これらのパーフルオロポリエーテル潤滑剤
は、高分子量であるにもかかわらず、潤滑剤として適当
な動粘度を有しており、また潤滑剤分子のうち何割かは
分子内に導入された置換基により保護膜表面に適度な結
合力で吸着し、蒸発やディスクの回転遠心力による飛散
を防いでいる。
は、高分子量であるにもかかわらず、潤滑剤として適当
な動粘度を有しており、また潤滑剤分子のうち何割かは
分子内に導入された置換基により保護膜表面に適度な結
合力で吸着し、蒸発やディスクの回転遠心力による飛散
を防いでいる。
【００１０】ただし、このような液体潤滑剤を用いた場
合には、ヘッドとディスクの吸着によるスティクション
の発生が問題になる。保護膜表面に形成した潤滑剤のう
ち、保護膜表面に吸着した潤滑剤はヘッドとディスクの
間においてメニスカスを作りにくいためスティクション
の発生は抑えられるが、一方で良好な潤滑性を維持する
ためには保護膜表面に吸着していない潤滑剤も必要とな
る。この非吸着潤滑剤がメニスカスを形成し、スティク
ションを発生する。これを回避しながら良好な潤滑性を
確保する必要がある。
合には、ヘッドとディスクの吸着によるスティクション
の発生が問題になる。保護膜表面に形成した潤滑剤のう
ち、保護膜表面に吸着した潤滑剤はヘッドとディスクの
間においてメニスカスを作りにくいためスティクション
の発生は抑えられるが、一方で良好な潤滑性を維持する
ためには保護膜表面に吸着していない潤滑剤も必要とな
る。この非吸着潤滑剤がメニスカスを形成し、スティク
ションを発生する。これを回避しながら良好な潤滑性を
確保する必要がある。
【００１１】一方、同じくスティクションを回避する目
的で、磁気ディスクの基体表面にはテクスチャリング処
理が施されており、磁気ディスクの表面には微細で適度
な粗さが形成されている。
的で、磁気ディスクの基体表面にはテクスチャリング処
理が施されており、磁気ディスクの表面には微細で適度
な粗さが形成されている。
【００１２】しかし、磁気ディスクの高密度化に対応し
てデータ領域の表面粗さは一層の微細さが求められてお
り、その結果としてデータ領域ではディスク表面は充分
な粗さを確保できず、潤滑剤を原因とするスティクショ
ンの発生を回避するために潤滑剤厚みの制御が重要とな
ってきている。
てデータ領域の表面粗さは一層の微細さが求められてお
り、その結果としてデータ領域ではディスク表面は充分
な粗さを確保できず、潤滑剤を原因とするスティクショ
ンの発生を回避するために潤滑剤厚みの制御が重要とな
ってきている。
【００１３】通常はヘッドがデータ領域に停止すること
はない設計の磁気ディスク装置が多いが、何らかの原因
でデータ領域にヘッドが停止する可能性も存在する。ま
たディスクドライブの組み立て時にはヘッドは最初にデ
ィスクの外周部に乗せられ、回転起動後にＣＳＳ領域へ
移動されることが多く、このような場合に表面粗さの小
さいディスクを使用した場合には、最初の回転起動時に
大きなスティクションが発生し、ディスクの回転が妨害
される。
はない設計の磁気ディスク装置が多いが、何らかの原因
でデータ領域にヘッドが停止する可能性も存在する。ま
たディスクドライブの組み立て時にはヘッドは最初にデ
ィスクの外周部に乗せられ、回転起動後にＣＳＳ領域へ
移動されることが多く、このような場合に表面粗さの小
さいディスクを使用した場合には、最初の回転起動時に
大きなスティクションが発生し、ディスクの回転が妨害
される。
【００１４】そしてスティクションが発生するとディス
クドライブの回転起動が不可能になるばかりではなく、
起動できる場合でもヘッドとディスクの摩擦力が大きく
なり、いわゆるヘッドの暴れが起こり、データ表面の損
傷やヘッドクラッシュを起こす可能性が高くなる。
クドライブの回転起動が不可能になるばかりではなく、
起動できる場合でもヘッドとディスクの摩擦力が大きく
なり、いわゆるヘッドの暴れが起こり、データ表面の損
傷やヘッドクラッシュを起こす可能性が高くなる。
【００１５】ディスクの信頼性を保証するには、ある量
の潤滑剤塗布量を確保する必要があるが、粗さの小さい
ディスクでは従来法を用いるとこのときにスティクショ
ンの問題が発生する。従来法においても潤滑剤の塗布量
を減らすことによりスティクションは抑えられるが、同
時に媒体の耐摩耗性が犠牲となり信頼性は低下する。
の潤滑剤塗布量を確保する必要があるが、粗さの小さい
ディスクでは従来法を用いるとこのときにスティクショ
ンの問題が発生する。従来法においても潤滑剤の塗布量
を減らすことによりスティクションは抑えられるが、同
時に媒体の耐摩耗性が犠牲となり信頼性は低下する。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術の前述の欠点を解消しようとするものである。
技術の前述の欠点を解消しようとするものである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、基体と、その上に設け
られた磁性膜と、該磁性膜上に設けられた保護膜と、該
保護膜表面にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を用い
て形成された潤滑膜とからなり、かつ、ＣＳＳ領域とデ
ータ領域とからなる磁気ディスクにおいて、前記潤滑膜
がＣＳＳ領域においては前記保護膜表面に強く吸着した
潤滑剤および非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤からな
り、データ領域においては前記保護膜表面に強く吸着し
た潤滑剤からなることを特徴とする磁気ディスクを提供
する。
解決すべくなされたものであり、基体と、その上に設け
られた磁性膜と、該磁性膜上に設けられた保護膜と、該
保護膜表面にパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を用い
て形成された潤滑膜とからなり、かつ、ＣＳＳ領域とデ
ータ領域とからなる磁気ディスクにおいて、前記潤滑膜
がＣＳＳ領域においては前記保護膜表面に強く吸着した
潤滑剤および非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤からな
り、データ領域においては前記保護膜表面に強く吸着し
た潤滑剤からなることを特徴とする磁気ディスクを提供
する。
【００１８】また本発明は、上記ＣＳＳ領域およびデー
タ領域において保護膜表面に強く吸着した潤滑剤が、活
性な置換基を分子内にもつパーフルオロポリエーテル系
潤滑剤を所定の処理により保護膜表面に強く吸着させた
潤滑剤であることを特徴とする上記磁気ディスクを提供
する。
タ領域において保護膜表面に強く吸着した潤滑剤が、活
性な置換基を分子内にもつパーフルオロポリエーテル系
潤滑剤を所定の処理により保護膜表面に強く吸着させた
潤滑剤であることを特徴とする上記磁気ディスクを提供
する。
【００１９】本発明における潤滑剤としては、本明細書
の「従来の技術」の項で記載したパーフルオロポリエー
テル系潤滑剤を使用できる。
の「従来の技術」の項で記載したパーフルオロポリエー
テル系潤滑剤を使用できる。
【００２０】この場合、ＣＳＳ領域において保護膜表面
に強く吸着させるために使用する潤滑剤と非吸着もしく
は弱く吸着させるために使用する潤滑剤は、同一の分子
構造のものでも、異なる分子構造を有するものでもよ
い。
に強く吸着させるために使用する潤滑剤と非吸着もしく
は弱く吸着させるために使用する潤滑剤は、同一の分子
構造のものでも、異なる分子構造を有するものでもよ
い。
【００２１】また本発明は、基体の上に磁性膜および保
護膜を順次形成し、さらに該保護膜表面に強く吸着した
パーフルオロポリエーテル系潤滑剤と非吸着もしくは弱
く吸着したパーフルオロポリエーテル系潤滑剤とからな
る潤滑膜を形成してなる磁気ディスクを得たのち、該磁
気ディスクのデータ領域だけをフッ素系有機溶剤に浸漬
させながら磁気ディスクを実質的に水平に保った中心軸
の周りに回転させて、該データ領域における前記非吸着
もしくは弱く吸着したパーフルオロポリエーテル系潤滑
剤を洗い流すことにより、ＣＳＳ領域においては保護膜
に強く吸着した潤滑剤および非吸着もしくは弱く吸着し
た潤滑剤で構成され、データ領域においては保護膜に強
く吸着した潤滑剤のみで構成された潤滑膜を有すること
を特徴とする磁気ディスクの製造法を提供する。
護膜を順次形成し、さらに該保護膜表面に強く吸着した
パーフルオロポリエーテル系潤滑剤と非吸着もしくは弱
く吸着したパーフルオロポリエーテル系潤滑剤とからな
る潤滑膜を形成してなる磁気ディスクを得たのち、該磁
気ディスクのデータ領域だけをフッ素系有機溶剤に浸漬
させながら磁気ディスクを実質的に水平に保った中心軸
の周りに回転させて、該データ領域における前記非吸着
もしくは弱く吸着したパーフルオロポリエーテル系潤滑
剤を洗い流すことにより、ＣＳＳ領域においては保護膜
に強く吸着した潤滑剤および非吸着もしくは弱く吸着し
た潤滑剤で構成され、データ領域においては保護膜に強
く吸着した潤滑剤のみで構成された潤滑膜を有すること
を特徴とする磁気ディスクの製造法を提供する。
【００２２】磁気ディスク表面において内周側にＣＳＳ
領域はあり、ＣＳＳ領域より外周側の領域がデータ領域
である。本発明の磁気ディスクは、磁気ディスク表面の
ＣＳＳ領域では保護膜表面に強く吸着した潤滑剤および
非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤とからなる構成を有
する耐摩耗性能に優れた潤滑膜を、そしてデータ領域で
はヘッドの吸着を起こしにくいが潤滑性をも有する保護
膜表面に強く吸着した潤滑剤のみから構成された潤滑膜
を有する。
領域はあり、ＣＳＳ領域より外周側の領域がデータ領域
である。本発明の磁気ディスクは、磁気ディスク表面の
ＣＳＳ領域では保護膜表面に強く吸着した潤滑剤および
非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤とからなる構成を有
する耐摩耗性能に優れた潤滑膜を、そしてデータ領域で
はヘッドの吸着を起こしにくいが潤滑性をも有する保護
膜表面に強く吸着した潤滑剤のみから構成された潤滑膜
を有する。
【００２３】本発明の磁気ディスクのＣＳＳ領域におけ
る潤滑膜は、保護膜表面に強く吸着した潤滑剤と該潤滑
剤の上に配された非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤と
からなる２層構造をもつことができるが、保護膜表面に
強く吸着した潤滑剤と非吸着もしくは弱く吸着した潤滑
剤とが混在してなる潤滑膜であってもよい。
る潤滑膜は、保護膜表面に強く吸着した潤滑剤と該潤滑
剤の上に配された非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤と
からなる２層構造をもつことができるが、保護膜表面に
強く吸着した潤滑剤と非吸着もしくは弱く吸着した潤滑
剤とが混在してなる潤滑膜であってもよい。
【００２４】ここでいう強く吸着した潤滑剤とは、フレ
オン１１３（化学式ＣＦ2 ＣｌＣＦＣｌ2 ）やＰＦ５０
６０（スリーエム社製品、化学式Ｃ6 Ｆ14）やＶｅｒｔ
ｒｅｌＸＦ（デュポン社製品、化学式Ｃ5 Ｈ2 Ｆ10）や
ＨＦＥ−７１００（スリーエム社製品、化学式Ｃ4 Ｆ9
ＯＣＨ3 ）やＨＦＥ−７２００（スリーエム社製品、化
学式Ｃ4 Ｆ9 ＯＣ2 Ｈ5 ）等のフッ素系有機溶剤で洗浄
したときに、洗い流されず保護膜表面に残るものをい
い、弱く吸着した潤滑剤とは、洗い流されて保護膜表面
に残らないものをいう。
オン１１３（化学式ＣＦ2 ＣｌＣＦＣｌ2 ）やＰＦ５０
６０（スリーエム社製品、化学式Ｃ6 Ｆ14）やＶｅｒｔ
ｒｅｌＸＦ（デュポン社製品、化学式Ｃ5 Ｈ2 Ｆ10）や
ＨＦＥ−７１００（スリーエム社製品、化学式Ｃ4 Ｆ9
ＯＣＨ3 ）やＨＦＥ−７２００（スリーエム社製品、化
学式Ｃ4 Ｆ9 ＯＣ2 Ｈ5 ）等のフッ素系有機溶剤で洗浄
したときに、洗い流されず保護膜表面に残るものをい
い、弱く吸着した潤滑剤とは、洗い流されて保護膜表面
に残らないものをいう。
【００２５】この方法による、潤滑剤の区別は磁気記録
媒体では一般的な方法で、例えばAmerican Chemical So
ciety の文献である、Langmuir 1990.6.1522(Improved
Surface Adhesion and Coverage of Perfluoropolyethe
r Lubricants Following Far-UV Irradiation)にも詳し
い。このときの残存量はＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換型赤
外吸光測定装置）やＥＳＣＡやエリプソメーター等で測
定でき、洗浄後に残存厚みが５Å未満の場合には弱い吸
着もしくは非吸着といい、５Å以上の場合、強い吸着と
いう。
媒体では一般的な方法で、例えばAmerican Chemical So
ciety の文献である、Langmuir 1990.6.1522(Improved
Surface Adhesion and Coverage of Perfluoropolyethe
r Lubricants Following Far-UV Irradiation)にも詳し
い。このときの残存量はＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換型赤
外吸光測定装置）やＥＳＣＡやエリプソメーター等で測
定でき、洗浄後に残存厚みが５Å未満の場合には弱い吸
着もしくは非吸着といい、５Å以上の場合、強い吸着と
いう。
【００２６】上記のパーフルオロポリエーテル系潤滑剤
を保護膜表面に強く吸着させるための処理方法として
は、液中への浸漬による吸着を利用する方法、塗布後に
加熱処理をすることによる方法、塗布後の表面への赤外
線もしくは紫外線照射による方法、塗布後にプラズマ処
理を行うことによる方法、化学反応を利用して結合を形
成することを利用する方法等、いずれの方法を用いても
よい。このような方法により、パーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤を強く吸着させた表面は、撥水性が高く、高
湿度下でも水のディスク内部への侵入を防ぎ、長期間に
わたり高い潤滑性を維持できる。このような表面での水
の接触角は９０°以上の値を示す。
を保護膜表面に強く吸着させるための処理方法として
は、液中への浸漬による吸着を利用する方法、塗布後に
加熱処理をすることによる方法、塗布後の表面への赤外
線もしくは紫外線照射による方法、塗布後にプラズマ処
理を行うことによる方法、化学反応を利用して結合を形
成することを利用する方法等、いずれの方法を用いても
よい。このような方法により、パーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤を強く吸着させた表面は、撥水性が高く、高
湿度下でも水のディスク内部への侵入を防ぎ、長期間に
わたり高い潤滑性を維持できる。このような表面での水
の接触角は９０°以上の値を示す。
【００２７】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが本
発明はこれらに限定されない。まず、活性な置換基を分
子内にもつパーフルオロポリエーテル液体潤滑剤である
ＤｅｍｎｕｍＳＰ（ダイキン工業社の商品名）をフッ素
系溶剤であるＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔＰＦ５０６０（スリ
ーエム社の商品名、以下ＰＦ５０６０と記す）で希釈し
た液中へ、非晶質炭素膜を保護膜にもつ磁気ディスクを
浸漬し、一定の速度で引き上げるいわゆるディップ法を
用いて潤滑剤を塗布する。
発明はこれらに限定されない。まず、活性な置換基を分
子内にもつパーフルオロポリエーテル液体潤滑剤である
ＤｅｍｎｕｍＳＰ（ダイキン工業社の商品名）をフッ素
系溶剤であるＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔＰＦ５０６０（スリ
ーエム社の商品名、以下ＰＦ５０６０と記す）で希釈し
た液中へ、非晶質炭素膜を保護膜にもつ磁気ディスクを
浸漬し、一定の速度で引き上げるいわゆるディップ法を
用いて潤滑剤を塗布する。
【００２８】塗布後のディスクをクリーンオーブンにて
１００℃１５分間程度加熱処理して潤滑剤の炭素保護膜
への吸着力を強くする。加熱処理後のこのディスクをＰ
Ｆ５０６０液に浸漬し、吸着力の弱い潤滑剤や余分な潤
滑剤を洗い落とす。この結果、保護膜表面に強く吸着し
たＤｅｍｎｕｍＳＰからなる潤滑膜が得られ、その厚み
を約２０Å程度とする。
１００℃１５分間程度加熱処理して潤滑剤の炭素保護膜
への吸着力を強くする。加熱処理後のこのディスクをＰ
Ｆ５０６０液に浸漬し、吸着力の弱い潤滑剤や余分な潤
滑剤を洗い落とす。この結果、保護膜表面に強く吸着し
たＤｅｍｎｕｍＳＰからなる潤滑膜が得られ、その厚み
を約２０Å程度とする。
【００２９】次に保護膜表面に非吸着もしくは弱く吸着
した潤滑剤として塗布するＤｅｍｎｕｍＳＡ（ダイキン
工業社の商品名）を上記ＤｅｍｎｕｍＳＰからなる潤滑
膜を有する磁気ディスクに上記と同様のディップ法にて
合計の厚みが約４０Åになるように塗布する。これによ
りディスク保護膜表面に強く吸着した潤滑剤と、非吸着
もしくは弱く吸着した潤滑剤との２種類で構成された潤
滑膜が形成された磁気ディスク１が得られた。
した潤滑剤として塗布するＤｅｍｎｕｍＳＡ（ダイキン
工業社の商品名）を上記ＤｅｍｎｕｍＳＰからなる潤滑
膜を有する磁気ディスクに上記と同様のディップ法にて
合計の厚みが約４０Åになるように塗布する。これによ
りディスク保護膜表面に強く吸着した潤滑剤と、非吸着
もしくは弱く吸着した潤滑剤との２種類で構成された潤
滑膜が形成された磁気ディスク１が得られた。
【００３０】次に図１に示すように、潤滑剤洗浄液であ
るＰＦ５０６０液２にディスクのデータ領域だけが浸漬
するように前述の磁気ディスク１を設置し、中心軸の周
りに低速度で回転させる。このとき、液面の乱れを抑え
るためには回転数は約１０ｒｐｍ以下がよい。この操作
によりデータ領域の、非吸着もしくは弱く吸着した潤滑
剤であるＤｅｍｎｕｍＳＡはＰＦ５０６０により洗い流
され、データ領域には保護膜表面に強く吸着したＤｅｍ
ｎｕｍＳＰのみが残る。
るＰＦ５０６０液２にディスクのデータ領域だけが浸漬
するように前述の磁気ディスク１を設置し、中心軸の周
りに低速度で回転させる。このとき、液面の乱れを抑え
るためには回転数は約１０ｒｐｍ以下がよい。この操作
によりデータ領域の、非吸着もしくは弱く吸着した潤滑
剤であるＤｅｍｎｕｍＳＡはＰＦ５０６０により洗い流
され、データ領域には保護膜表面に強く吸着したＤｅｍ
ｎｕｍＳＰのみが残る。
【００３１】上記の操作により、潤滑膜が、ＣＳＳ領域
においては保護膜に強く吸着した潤滑剤と非吸着もしく
は弱く吸着した潤滑剤とで構成され、データ領域におい
ては保護膜に強く吸着した潤滑剤のみで構成された本発
明の磁気ディスクが得られた。
においては保護膜に強く吸着した潤滑剤と非吸着もしく
は弱く吸着した潤滑剤とで構成され、データ領域におい
ては保護膜に強く吸着した潤滑剤のみで構成された本発
明の磁気ディスクが得られた。
【００３２】なお上記の操作の代わりにスピンコーター
を用いて、ディスクを回転させた状態でデータ領域にの
みＰＦ５０６０を滴下して、非吸着もしくは弱く吸着し
た潤滑剤であるＤｅｍｎｕｍＳＡのみを洗い流す方法に
よっても同様の効果が得られる。
を用いて、ディスクを回転させた状態でデータ領域にの
みＰＦ５０６０を滴下して、非吸着もしくは弱く吸着し
た潤滑剤であるＤｅｍｎｕｍＳＡのみを洗い流す方法に
よっても同様の効果が得られる。
【００３３】図２に、完成した本発明の磁気ディスクの
潤滑膜の厚みの測定例を示す。ＣＳＳ領域である半径約
０．７５インチでは合計厚みとして約４０Åに、そして
データ領域の中の半径約１．７０インチでは約１９Åに
塗布されていることが分かる。図３にこのようなディス
クを用いて薄膜ヘッドでＣＳＳテストを行った結果をス
ティクションを示すグラム値を用いて示す。グラム値が
大きいほどスティクションが発生しやすい。図３からデ
ィスクの半径０．７８インチのＣＳＳ領域では良好な機
械特性を有することが分かる。
潤滑膜の厚みの測定例を示す。ＣＳＳ領域である半径約
０．７５インチでは合計厚みとして約４０Åに、そして
データ領域の中の半径約１．７０インチでは約１９Åに
塗布されていることが分かる。図３にこのようなディス
クを用いて薄膜ヘッドでＣＳＳテストを行った結果をス
ティクションを示すグラム値を用いて示す。グラム値が
大きいほどスティクションが発生しやすい。図３からデ
ィスクの半径０．７８インチのＣＳＳ領域では良好な機
械特性を有することが分かる。
【００３４】データ領域には研磨後のテクスチャリング
処理をせず、したがって平滑な表面を有し、ＣＳＳ領域
にはテクスチャリング処理による微細な凹凸を有する磁
気ディスク（直径９５ｍｍ、呼称３．５インチ）を用い
て、上述の方法により、従来技術による全面にわたって
構成が同一の潤滑膜を有する磁気ディスクと、本発明の
ＣＳＳ領域とデータ領域で潤滑剤の構成を変えた潤滑膜
を有する磁気ディスクを別々に作成し、磁気ヘッドを乗
せてデータ領域である半径１．７０インチ（約４３．２
ｍｍ）での回転起動時に発生するスティクション（静摩
擦）の大きさを測定した。
処理をせず、したがって平滑な表面を有し、ＣＳＳ領域
にはテクスチャリング処理による微細な凹凸を有する磁
気ディスク（直径９５ｍｍ、呼称３．５インチ）を用い
て、上述の方法により、従来技術による全面にわたって
構成が同一の潤滑膜を有する磁気ディスクと、本発明の
ＣＳＳ領域とデータ領域で潤滑剤の構成を変えた潤滑膜
を有する磁気ディスクを別々に作成し、磁気ヘッドを乗
せてデータ領域である半径１．７０インチ（約４３．２
ｍｍ）での回転起動時に発生するスティクション（静摩
擦）の大きさを測定した。
【００３５】結果をグラム値で図４に示す。グラム値が
大きいほど、スティクションの問題が発生しやすい。従
来技術ではヘッドが平滑なディスク表面に吸着して大き
なスティクションを発生するが、それに比べて、本発明
の磁気ディスクではスティクションの発生は大幅に回避
される。
大きいほど、スティクションの問題が発生しやすい。従
来技術ではヘッドが平滑なディスク表面に吸着して大き
なスティクションを発生するが、それに比べて、本発明
の磁気ディスクではスティクションの発生は大幅に回避
される。
【００３６】また、上記と同様の２種類のディスクを用
いて、回転数１ｒｐｍにおける、磁気ヘッドと磁気ディ
スクの間に発生するフリクション（動摩擦）のディスク
一周分（０°〜３６０°）の測定値を図５〜図８に示
す。
いて、回転数１ｒｐｍにおける、磁気ヘッドと磁気ディ
スクの間に発生するフリクション（動摩擦）のディスク
一周分（０°〜３６０°）の測定値を図５〜図８に示
す。
【００３７】従来技術による全面にわたって同一構成の
潤滑膜を有する磁気ディスクでは、ＣＳＳ領域にあたる
半径０．７インチ（約１７．８ｍｍ）では低いフリクシ
ョン値を示すが（図５）、平滑なデータ領域を代表する
半径１．５インチ（約３８．１ｍｍ）では部分的なヘッ
ドのディスクの吸着現象が発生し、スティックスリップ
による変動のある大きなフリクション値が観測される
（図６）。
潤滑膜を有する磁気ディスクでは、ＣＳＳ領域にあたる
半径０．７インチ（約１７．８ｍｍ）では低いフリクシ
ョン値を示すが（図５）、平滑なデータ領域を代表する
半径１．５インチ（約３８．１ｍｍ）では部分的なヘッ
ドのディスクの吸着現象が発生し、スティックスリップ
による変動のある大きなフリクション値が観測される
（図６）。
【００３８】一方、本発明の複合潤滑膜（ハイブリッド
潤滑膜）を有する磁気ディスクでは、半径０．７イン
チ、半径１．５インチともに安定した低いフリクション
値を示し（図７、図８）、ディスク全面にわたってヘッ
ドとディスクの吸着が回避できることが分かる。
潤滑膜）を有する磁気ディスクでは、半径０．７イン
チ、半径１．５インチともに安定した低いフリクション
値を示し（図７、図８）、ディスク全面にわたってヘッ
ドとディスクの吸着が回避できることが分かる。
【００３９】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、データ
領域では高密度磁気記録に対応した平滑な表面において
もヘッドの吸着を回避し、ＣＳＳ領域では機械特性に優
れる潤滑膜を有する高記録密度で高信頼性の磁気ディス
ク媒体を得ることができる。
領域では高密度磁気記録に対応した平滑な表面において
もヘッドの吸着を回避し、ＣＳＳ領域では機械特性に優
れる潤滑膜を有する高記録密度で高信頼性の磁気ディス
ク媒体を得ることができる。
【図１】本発明の磁気ディスクの製造法の実施例を示す
模式図。
模式図。
【図２】本発明の磁気ディスクの実施例の潤滑膜厚みを
示すグラフ。
示すグラフ。
【図３】本発明の磁気ディスクの実施例のＣＳＳ特性を
示すグラフ。
示すグラフ。
【図４】本発明の磁気ディスクおよび従来技術の磁気デ
ィスクの実施例のデータ領域でのスティクションの値を
示すグラフ。
ィスクの実施例のデータ領域でのスティクションの値を
示すグラフ。
【図５】従来技術の磁気ディスクの半径０．７インチ
（ＣＳＳ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
（ＣＳＳ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
【図６】従来技術の磁気ディスクの半径１．５インチ
（データ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
（データ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
【図７】本発明の磁気ディスクの半径０．７インチ（Ｃ
ＳＳ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
ＳＳ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
【図８】本発明の磁気ディスクの半径１．５インチ（デ
ータ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
ータ領域）でのフリクション値を示すグラフ。
１：磁気ディスク ２：潤滑剤洗浄液 ３：洗浄液槽
Claims (3)
- 【請求項１】基体と、その上に設けられた磁性膜と、該
磁性膜上に設けられた保護膜と、該保護膜表面にパーフ
ルオロポリエーテル系潤滑剤を用いて形成された潤滑膜
とからなり、かつ、ＣＳＳ領域とデータ領域とからなる
磁気ディスクにおいて、前記潤滑膜がＣＳＳ領域におい
ては前記保護膜表面に強く吸着した潤滑剤および非吸着
もしくは弱く吸着した潤滑剤からなり、データ領域にお
いては前記保護膜表面に強く吸着した潤滑剤からなるこ
とを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項２】上記ＣＳＳ領域およびデータ領域において
保護膜表面に強く吸着した潤滑剤が、活性な置換基を分
子内にもつパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を所定の
処理により保護膜表面に強く吸着させた潤滑剤であるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク。 - 【請求項３】基体の上に磁性膜および保護膜を順次形成
し、さらに該保護膜表面に強く吸着したパーフルオロポ
リエーテル系潤滑剤と非吸着もしくは弱く吸着したパー
フルオロポリエーテル系潤滑剤とからなる潤滑膜を形成
してなる磁気ディスクを得たのち、該磁気ディスクのデ
ータ領域だけをフッ素系有機溶剤に浸漬させながら磁気
ディスクを実質的に水平に保った中心軸の周りに回転さ
せて、該データ領域における前記非吸着もしくは弱く吸
着したパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を洗い流すこ
とにより、ＣＳＳ領域においては保護膜に強く吸着した
潤滑剤および非吸着もしくは弱く吸着した潤滑剤で構成
され、データ領域においては保護膜に強く吸着した潤滑
剤のみで構成された潤滑膜を有することを特徴とする磁
気ディスクの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22154896A JPH09128743A (ja) | 1995-08-25 | 1996-08-22 | 磁気ディスクおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-217811 | 1995-08-25 | ||
| JP21781195 | 1995-08-25 | ||
| JP22154896A JPH09128743A (ja) | 1995-08-25 | 1996-08-22 | 磁気ディスクおよびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09128743A true JPH09128743A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=26522217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22154896A Pending JPH09128743A (ja) | 1995-08-25 | 1996-08-22 | 磁気ディスクおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09128743A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010176755A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi Ltd | 熱アシスト磁気記録装置 |
-
1996
- 1996-08-22 JP JP22154896A patent/JPH09128743A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010176755A (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-12 | Hitachi Ltd | 熱アシスト磁気記録装置 |
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