JPH09136145A - 薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法 - Google Patents
薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法Info
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- JPH09136145A JPH09136145A JP29427495A JP29427495A JPH09136145A JP H09136145 A JPH09136145 A JP H09136145A JP 29427495 A JP29427495 A JP 29427495A JP 29427495 A JP29427495 A JP 29427495A JP H09136145 A JPH09136145 A JP H09136145A
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- peripheral surface
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 双ドラム式連続鋳造装置の冷却ドラム周面に
ショットブラスト法によって窪みを加工する場合に、窪
みの平均深さと最大深さの差ができるだけ小さい窪みを
精度よく安定して加工する。 【解決手段】 一対の冷却ドラム２ａ，２ｂによって形
成された湯溜り部４に溶湯を供給して薄帯鋳片６を鋳造
する双ドラム式連続鋳造装置の、前記冷却ドラム２ａ，
２ｂの周面に、ショットブラスト法によって窪みを加工
する際に、最大直径≦平均直径＋０．３０mmを満足する
粒径分布をもつショット粒を用いる。
ショットブラスト法によって窪みを加工する場合に、窪
みの平均深さと最大深さの差ができるだけ小さい窪みを
精度よく安定して加工する。 【解決手段】 一対の冷却ドラム２ａ，２ｂによって形
成された湯溜り部４に溶湯を供給して薄帯鋳片６を鋳造
する双ドラム式連続鋳造装置の、前記冷却ドラム２ａ，
２ｂの周面に、ショットブラスト法によって窪みを加工
する際に、最大直径≦平均直径＋０．３０mmを満足する
粒径分布をもつショット粒を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄帯鋳片を鋳造す
る双ドラム式連続鋳造装置の冷却ドラムの周面に窪みを
加工する方法に関する。
る双ドラム式連続鋳造装置の冷却ドラムの周面に窪みを
加工する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ホットストリップと同等かあるいはそれ
に近い厚さの薄帯鋳片を連続鋳造によって製造する同期
式連続鋳造プロセスとして、たとえば、双ドラム方式の
連続鋳造装置は図１に示すように、軸を水平にし、互い
に接近して平行に設置され、且つ互いに逆方向に回転す
る一対の冷却ドラム２ａ，２ｂの両端面にサイド堰８，
８（手前側は図示せず）が圧着されて構成されており、
これら冷却ドラム２ａ，２ｂとサイド堰８，８とで形成
された湯溜り部４にタンディッシュ１からノズル３を介
し溶湯を注入することにより、溶湯は冷却ドラム２ａ，
２ｂの周面部で凝固シェルを形成し、凝固シェルはキッ
シングポイント５で圧着されて薄帯鋳片６が形成され
る。薄帯鋳片６はピンチロール７によって矢印の方向に
送られ、必要に応じてインライン圧延機９によって圧延
される。ところで薄帯鋳片６の板厚は１〜７mm程度と薄
いため、凝固シェルの形成状態により、その表面性状が
著しく影響を受け、凝固シェル厚の不均一などにより鋳
片表面に割れなどの欠陥が生じることがある。
に近い厚さの薄帯鋳片を連続鋳造によって製造する同期
式連続鋳造プロセスとして、たとえば、双ドラム方式の
連続鋳造装置は図１に示すように、軸を水平にし、互い
に接近して平行に設置され、且つ互いに逆方向に回転す
る一対の冷却ドラム２ａ，２ｂの両端面にサイド堰８，
８（手前側は図示せず）が圧着されて構成されており、
これら冷却ドラム２ａ，２ｂとサイド堰８，８とで形成
された湯溜り部４にタンディッシュ１からノズル３を介
し溶湯を注入することにより、溶湯は冷却ドラム２ａ，
２ｂの周面部で凝固シェルを形成し、凝固シェルはキッ
シングポイント５で圧着されて薄帯鋳片６が形成され
る。薄帯鋳片６はピンチロール７によって矢印の方向に
送られ、必要に応じてインライン圧延機９によって圧延
される。ところで薄帯鋳片６の板厚は１〜７mm程度と薄
いため、凝固シェルの形成状態により、その表面性状が
著しく影響を受け、凝固シェル厚の不均一などにより鋳
片表面に割れなどの欠陥が生じることがある。
【０００３】かかる問題点を解決するために、冷却ドラ
ム周面に多数の窪みを設けることが特開昭６０−１８４
４４９号公報などに開示されている。この窪みによって
冷却ドラムと凝固シェルとの間に断熱層となるガスギャ
ップを形成し、冷却ドラムの抜熱量を小さくして溶湯の
緩慢な冷却を行うとともに、薄帯鋳片表面に窪みによる
凸転写を形成させ、凸転写の周縁部から凝固を開始させ
ることにより、凝固シェル厚を板幅方向で均一にしよう
とするものである。
ム周面に多数の窪みを設けることが特開昭６０−１８４
４４９号公報などに開示されている。この窪みによって
冷却ドラムと凝固シェルとの間に断熱層となるガスギャ
ップを形成し、冷却ドラムの抜熱量を小さくして溶湯の
緩慢な冷却を行うとともに、薄帯鋳片表面に窪みによる
凸転写を形成させ、凸転写の周縁部から凝固を開始させ
ることにより、凝固シェル厚を板幅方向で均一にしよう
とするものである。
【０００４】更に、薄帯鋳片の表面割れを効率的に防止
するために、前記冷却ドラム周面における窪みの形状や
窪みの大きさまたは窪みの分布などを規定した技術が特
開平１−８３３４０号公報、特開平１−８３３４２号公
報および、特開平３−１１００４４号公報などによって
知られている。
するために、前記冷却ドラム周面における窪みの形状や
窪みの大きさまたは窪みの分布などを規定した技術が特
開平１−８３３４０号公報、特開平１−８３３４２号公
報および、特開平３−１１００４４号公報などによって
知られている。
【０００５】また、本出願人は双ドラム方式の連続鋳造
装置で連続鋳造された薄帯鋳片を、鋳造に続いてインラ
インで圧延して薄帯板を製造する方法において、前記冷
却ドラム周面における窪みの平均深さを下限値として規
定することにより鋳片の表面割れを防止し、窪みの最大
深さを上限値として規定することにより鋳片のスケール
噛込み疵を防止する発明を特願平７−０９３９１０号及
び特願平７−２０５５０４号によって出願した。
装置で連続鋳造された薄帯鋳片を、鋳造に続いてインラ
インで圧延して薄帯板を製造する方法において、前記冷
却ドラム周面における窪みの平均深さを下限値として規
定することにより鋳片の表面割れを防止し、窪みの最大
深さを上限値として規定することにより鋳片のスケール
噛込み疵を防止する発明を特願平７−０９３９１０号及
び特願平７−２０５５０４号によって出願した。
【０００６】この様に冷却ドラム周面の窪み深さは、平
均深さと最大深さの各値を満足することが必要である。
これらの値は鋳造鋼種等によって異なるものの、例え
ば、ステンレス鋼の場合、平均深さ≧６０μｍ、最大深
さ≦１００μｍであり、普通鋼の場合、平均深さ≧７０
μｍ、最大深さ≦２００μｍである。
均深さと最大深さの各値を満足することが必要である。
これらの値は鋳造鋼種等によって異なるものの、例え
ば、ステンレス鋼の場合、平均深さ≧６０μｍ、最大深
さ≦１００μｍであり、普通鋼の場合、平均深さ≧７０
μｍ、最大深さ≦２００μｍである。
【０００７】ところで、冷却ドラム周面に加工した窪み
は、長時間の鋳造に伴い僅かではあるが摩耗によって減
少する。このため、窪みの平均深さが下限値よりも小さ
くなった時点が窪みの寿命となり、冷却ドラム周面には
窪みを再加工する必要がある。したがって、冷却ドラム
の寿命を延ばすためには、窪みの平均深さは前記最大深
さの上限値を超えない範囲でできるだけ大きいことが必
要であり、そのためには窪み深さのばらつきが小さいこ
とが必要である。
は、長時間の鋳造に伴い僅かではあるが摩耗によって減
少する。このため、窪みの平均深さが下限値よりも小さ
くなった時点が窪みの寿命となり、冷却ドラム周面には
窪みを再加工する必要がある。したがって、冷却ドラム
の寿命を延ばすためには、窪みの平均深さは前記最大深
さの上限値を超えない範囲でできるだけ大きいことが必
要であり、そのためには窪み深さのばらつきが小さいこ
とが必要である。
【０００８】このような条件を満足する窪みをフォトエ
ッチング法やレーザー加工法によって加工するのは比較
的容易であるが、これらの方法はショットブラスト法に
比較して、コストや加工時間等の点で不利である。一
方、ショットブラスト法の場合、フォトエッチング法や
レーザー加工法に較べ短時間で加工できコストも低いた
め工業的には有利であるが、通常のショット粒を用いて
加工した場合、加工された窪みの深さにばらつきが大き
い。
ッチング法やレーザー加工法によって加工するのは比較
的容易であるが、これらの方法はショットブラスト法に
比較して、コストや加工時間等の点で不利である。一
方、ショットブラスト法の場合、フォトエッチング法や
レーザー加工法に較べ短時間で加工できコストも低いた
め工業的には有利であるが、通常のショット粒を用いて
加工した場合、加工された窪みの深さにばらつきが大き
い。
【０００９】その結果、ドラム寿命延長のために、平均
深さを大きくすると、最大深さが上限値を超えて鋳片に
スケール噛込み疵が発生する場合があり、一方、最大深
さを上限値以下に抑えようとすると平均深さが小さくな
りドラムの寿命が短くなる。場合によっては、平均深さ
及び最大深さの条件を共に満足する窪みを加工できない
場合も生じる。
深さを大きくすると、最大深さが上限値を超えて鋳片に
スケール噛込み疵が発生する場合があり、一方、最大深
さを上限値以下に抑えようとすると平均深さが小さくな
りドラムの寿命が短くなる。場合によっては、平均深さ
及び最大深さの条件を共に満足する窪みを加工できない
場合も生じる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、双ドラム式
連続鋳造装置の前記冷却ドラム周面に、窪みの平均深さ
が最大深さの上限値を超えない範囲でできるだけ深い窪
みを精度よく安定して加工することを課題とする。
連続鋳造装置の前記冷却ドラム周面に、窪みの平均深さ
が最大深さの上限値を超えない範囲でできるだけ深い窪
みを精度よく安定して加工することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、冷却ドラムの周面にショットブラスト法
によって窪みを加工する際に、最大直径≦平均直径＋
０．３０mmの範囲を満足するショット粒を用いて冷却ド
ラム周面に窪みを加工することを特徴とする。
決するために、冷却ドラムの周面にショットブラスト法
によって窪みを加工する際に、最大直径≦平均直径＋
０．３０mmの範囲を満足するショット粒を用いて冷却ド
ラム周面に窪みを加工することを特徴とする。
【００１２】この時、加工される窪みの直径は０．５mm
〜２．０mm、面積率は３０〜７０％であり、平均深さ及
び最大深さは鋳造する鋼種がステンレス鋼の場合、平均
深さ≧６０μｍ、最大深さ≦１００μｍであり、普通鋼
の場合、平均深さ≧７０μｍ、最大深さ≦２００μｍで
ある。
〜２．０mm、面積率は３０〜７０％であり、平均深さ及
び最大深さは鋳造する鋼種がステンレス鋼の場合、平均
深さ≧６０μｍ、最大深さ≦１００μｍであり、普通鋼
の場合、平均深さ≧７０μｍ、最大深さ≦２００μｍで
ある。
【００１３】薄帯鋳片の表面割れ防止のためには、
（１）冷却ドラムと凝固シェルとの間にガスギャップを
形成させ、凝固シェルを緩冷却させること、（２）鋳片
表面に窪みによる凸転写を形成させることによって、凸
転写の周縁部から凝固を開始させ、且つ凝固を鋳片幅方
向で均一にすることが必要である。前記（１）および
（２）の効果を得るためには窪みの平均深さは大きい方
が有利である。
（１）冷却ドラムと凝固シェルとの間にガスギャップを
形成させ、凝固シェルを緩冷却させること、（２）鋳片
表面に窪みによる凸転写を形成させることによって、凸
転写の周縁部から凝固を開始させ、且つ凝固を鋳片幅方
向で均一にすることが必要である。前記（１）および
（２）の効果を得るためには窪みの平均深さは大きい方
が有利である。
【００１４】一方、鋳造後の薄帯鋳片をインラインで圧
延する場合は圧延後の薄帯鋳片にはスケール噛込み疵が
発生し、この疵は冷延後の薄板製品でも残存する。この
スケール噛込み疵防止のためには、（３）スケール噛込
み疵は凸転写部のうち高い凸転写の部分、すなわち冷却
ドラム周面に加工した窪みのうち深い窪みと対応する部
分から優先的に発生することから、深い窪みをなくす必
要がある。
延する場合は圧延後の薄帯鋳片にはスケール噛込み疵が
発生し、この疵は冷延後の薄板製品でも残存する。この
スケール噛込み疵防止のためには、（３）スケール噛込
み疵は凸転写部のうち高い凸転写の部分、すなわち冷却
ドラム周面に加工した窪みのうち深い窪みと対応する部
分から優先的に発生することから、深い窪みをなくす必
要がある。
【００１５】また、鋳造後にインラインで圧延しない場
合はスケール噛込み疵は発生しないが、冷延後において
も凸転写が完全に消えずに痕跡が残存する。この凸転写
痕も高い凸転写部、すなわち冷却ドラム周面に加工した
窪みのうち深い窪みと対応する部分から優先的に発生す
ることから、深い窪みをなくす必要がある。つまり、ス
ケール噛込み疵や凸転写痕を防止するためには、窪みの
最大深さを制限する必要がある。
合はスケール噛込み疵は発生しないが、冷延後において
も凸転写が完全に消えずに痕跡が残存する。この凸転写
痕も高い凸転写部、すなわち冷却ドラム周面に加工した
窪みのうち深い窪みと対応する部分から優先的に発生す
ることから、深い窪みをなくす必要がある。つまり、ス
ケール噛込み疵や凸転写痕を防止するためには、窪みの
最大深さを制限する必要がある。
【００１６】また、冷却ドラム周面に加工した窪みは、
長時間の鋳造に伴い、僅かではあるが摩耗によって減少
する。このため、窪みの平均深さは、前記最大深さを超
えない範囲でできる限り大きくする方が、長時間の鋳造
に対して有利である。
長時間の鋳造に伴い、僅かではあるが摩耗によって減少
する。このため、窪みの平均深さは、前記最大深さを超
えない範囲でできる限り大きくする方が、長時間の鋳造
に対して有利である。
【００１７】このように冷却ドラム周面に加工する窪み
深さは、最大深さと平均深さの各値を満足することが必
要であるが、ドラム寿命延長のためには、窪みの平均深
さは最大深さの上限値を超えない範囲でできる限り大き
くする必要がある。
深さは、最大深さと平均深さの各値を満足することが必
要であるが、ドラム寿命延長のためには、窪みの平均深
さは最大深さの上限値を超えない範囲でできる限り大き
くする必要がある。
【００１８】この窪みの加工方法としては、フォトエッ
チング法、レーザー加工法、ショットブラスト法等が知
られているが、工業的には短時間でかつ安価に加工でき
るショットブラスト法が最も有利である。しかし、通常
用いられているショット粒を使用したショットブラスト
法では、窪み深さの精密な制御は困難であり、鋳造鋼種
によっては必要条件を満足する窪みを安定して加工する
ことは困難である。
チング法、レーザー加工法、ショットブラスト法等が知
られているが、工業的には短時間でかつ安価に加工でき
るショットブラスト法が最も有利である。しかし、通常
用いられているショット粒を使用したショットブラスト
法では、窪み深さの精密な制御は困難であり、鋳造鋼種
によっては必要条件を満足する窪みを安定して加工する
ことは困難である。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明者は、ショットブラスト法
による冷却ドラム周囲への窪みの加工に関して種々研究
を重ねた結果、ショットブラスト法により最大深さと平
均深さの差の小さい窪みを加工するためには、ショット
粒の粒径分布範囲（最大直径−平均直径）を小さくする
ことが最も効果的であることの知見を得た。
による冷却ドラム周囲への窪みの加工に関して種々研究
を重ねた結果、ショットブラスト法により最大深さと平
均深さの差の小さい窪みを加工するためには、ショット
粒の粒径分布範囲（最大直径−平均直径）を小さくする
ことが最も効果的であることの知見を得た。
【００２０】つまり、ショット粒の粒径分布範囲（最大
直径−平均直径）を小さくすれば、窪み深さの分布範囲
（最大深さ−平均深さ）は小さくなり、この場合はショ
ットブラスト装置の種類（エアー式、インペラー式
等）、加工条件、冷却ドラム周面の硬度等は、窪みの平
均深さのみに影響を及ぼし、窪み深さの分布範囲（最大
深さ−平均深さ）には殆ど影響を及ぼさない。
直径−平均直径）を小さくすれば、窪み深さの分布範囲
（最大深さ−平均深さ）は小さくなり、この場合はショ
ットブラスト装置の種類（エアー式、インペラー式
等）、加工条件、冷却ドラム周面の硬度等は、窪みの平
均深さのみに影響を及ぼし、窪み深さの分布範囲（最大
深さ−平均深さ）には殆ど影響を及ぼさない。
【００２１】図２は、ショットブラスト法により、冷却
ドラム周面に窪みを加工した場合に用いたショット粒の
最大直径と平均直径の差と窪みの最大深さと平均深さの
差の関係を示す。図２において、ショット粒最大直径−
ショット粒平均直径が０．３０mmより大きい範囲ではシ
ョット粒最大直径−ショット粒平均直径の値が小さくな
るにつれて、窪み最大深さ−窪み平均深さの値も小さく
なるが、ショット粒最大直径−ショット粒平均直径が
０．３０mm以下の範囲では窪み最大深さ−窪み平均深さ
の値は殆ど変化しない。
ドラム周面に窪みを加工した場合に用いたショット粒の
最大直径と平均直径の差と窪みの最大深さと平均深さの
差の関係を示す。図２において、ショット粒最大直径−
ショット粒平均直径が０．３０mmより大きい範囲ではシ
ョット粒最大直径−ショット粒平均直径の値が小さくな
るにつれて、窪み最大深さ−窪み平均深さの値も小さく
なるが、ショット粒最大直径−ショット粒平均直径が
０．３０mm以下の範囲では窪み最大深さ−窪み平均深さ
の値は殆ど変化しない。
【００２２】一方、ショット粒の粒径分布範囲を絞り込
むことは、ショット粒製造時、ショット粒の篩分け工程
での歩留りが悪くなることからコスト的に不利になる。
そこでショット粒を最大直径≦平均直径＋０．３０mmの
範囲にすることによって、最大深さ−平均深さの値が小
さい窪みを僅かなコスト増で加工することが可能とな
る。これによるドラム寿命延長効果の方がショット粒粒
径絞り込みのデメリットよりもはるかにコストメリット
が大きい。
むことは、ショット粒製造時、ショット粒の篩分け工程
での歩留りが悪くなることからコスト的に不利になる。
そこでショット粒を最大直径≦平均直径＋０．３０mmの
範囲にすることによって、最大深さ−平均深さの値が小
さい窪みを僅かなコスト増で加工することが可能とな
る。これによるドラム寿命延長効果の方がショット粒粒
径絞り込みのデメリットよりもはるかにコストメリット
が大きい。
【００２３】したがって、ショットブラスト法により、
冷却ドラム周面に最大深さと平均深さの差の小さい窪み
を効率よく加工するためには、最大直径≦平均直径＋
０．３０mmを満足するショット粒を使用することが必要
である。ここで所望の平均深さの窪みを得るには、冷却
ドラム周面の硬度が高いほど、使用するショット粒の平
均直径を大きくする必要がある。冷却ドラムの硬度と使
用するショット粒の平均粒径の関係はショットブラスト
加工装置の種類（エアー式、インペラー式等）及び加工
条件等に応じて決定する。
冷却ドラム周面に最大深さと平均深さの差の小さい窪み
を効率よく加工するためには、最大直径≦平均直径＋
０．３０mmを満足するショット粒を使用することが必要
である。ここで所望の平均深さの窪みを得るには、冷却
ドラム周面の硬度が高いほど、使用するショット粒の平
均直径を大きくする必要がある。冷却ドラムの硬度と使
用するショット粒の平均粒径の関係はショットブラスト
加工装置の種類（エアー式、インペラー式等）及び加工
条件等に応じて決定する。
【００２４】
【実施例】図１に示す双ドラム式連続鋳造装置の冷却ド
ラム周面にショットブラスト法によって窪みを加工し、
板厚３．５mmのＳＵＳ３０４ステンレス鋼薄帯鋳片を鋳
造した。この薄帯鋳片を、鋳造に引続いてインラインで
圧延を実施し、圧延後板厚２．７mmの薄帯板を製造し、
次に冷間圧延して板厚０．５mmの薄板製品を製造した。
ラム周面にショットブラスト法によって窪みを加工し、
板厚３．５mmのＳＵＳ３０４ステンレス鋼薄帯鋳片を鋳
造した。この薄帯鋳片を、鋳造に引続いてインラインで
圧延を実施し、圧延後板厚２．７mmの薄帯板を製造し、
次に冷間圧延して板厚０．５mmの薄板製品を製造した。
【００２５】上記鋳片を製造する際、幅８００mm、直径
１２００mmの冷却ドラムの周面には表１の条件で窪みを
加工した。なお、本実施例では窪みの加工にはエアー式
のショットブラスト加工装置を用い、鋳造時の雰囲気は
Ｎ2 を使用した。
１２００mmの冷却ドラムの周面には表１の条件で窪みを
加工した。なお、本実施例では窪みの加工にはエアー式
のショットブラスト加工装置を用い、鋳造時の雰囲気は
Ｎ2 を使用した。
【００２６】なお、図３、図４に代表的なショット粒の
粒径分布を、また、図５、図６に代表的な冷却ドラム周
面の窪み深さ分布を示す。図３、図５は表１中のＮｏ．
１（比較例）、図４、図６は表１中のＮｏ．３（本発明
例）の例である。冷却ドラム周面の窪み加工結果及び薄
板製品の表面品質は下記のとおりであった。
粒径分布を、また、図５、図６に代表的な冷却ドラム周
面の窪み深さ分布を示す。図３、図５は表１中のＮｏ．
１（比較例）、図４、図６は表１中のＮｏ．３（本発明
例）の例である。冷却ドラム周面の窪み加工結果及び薄
板製品の表面品質は下記のとおりであった。
【表１】
【００２７】Ｎｏ．１，５の場合：ショット粒の粒径分
布範囲（最大直径−平均直径）が０．３０mmを超えてい
るので窪み深さの分布範囲が大きくなり、窪みの平均深
さを満足する窪みを設けると、窪みの最大深さが１００
μｍを超えた。その結果、この冷却ドラムは使用しなか
った。
布範囲（最大直径−平均直径）が０．３０mmを超えてい
るので窪み深さの分布範囲が大きくなり、窪みの平均深
さを満足する窪みを設けると、窪みの最大深さが１００
μｍを超えた。その結果、この冷却ドラムは使用しなか
った。
【００２８】Ｎｏ．２，６の場合：ショット粒の粒径分
布範囲（最大直径−平均直径）が０．３０mmを超えてい
るので窪み深さの分布範囲が大きくなり、窪みの最大深
さの上限値を満足する窪みを設けると、窪みの平均深さ
が下限値の６０μｍに近くなった。その結果、鋳造初期
は薄帯鋳片には割れは発生しないが、長時間の鋳造によ
る窪みの摩耗により、やがて薄帯鋳片には割れが発生
し、ドラムの寿命が短かい結果になった。
布範囲（最大直径−平均直径）が０．３０mmを超えてい
るので窪み深さの分布範囲が大きくなり、窪みの最大深
さの上限値を満足する窪みを設けると、窪みの平均深さ
が下限値の６０μｍに近くなった。その結果、鋳造初期
は薄帯鋳片には割れは発生しないが、長時間の鋳造によ
る窪みの摩耗により、やがて薄帯鋳片には割れが発生
し、ドラムの寿命が短かい結果になった。
【００２９】Ｎｏ．３，４，７，８の場合：ショット粒
の粒径分布範囲（最大直径−平均直径）が０．３０mm以
下であるため、窪みは平均深さ、最大深さ共に所定値を
満足している。その結果、薄帯鋳片には割れ、スケール
噛込み疵共に発生せず、さらに窪みの平均深さとその下
限値との差が大きいため、ドラム寿命も延長した。
の粒径分布範囲（最大直径−平均直径）が０．３０mm以
下であるため、窪みは平均深さ、最大深さ共に所定値を
満足している。その結果、薄帯鋳片には割れ、スケール
噛込み疵共に発生せず、さらに窪みの平均深さとその下
限値との差が大きいため、ドラム寿命も延長した。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、双ドラム式連続鋳造装
置の冷却ドラム周面にショットブラスト法によって窪み
を加工する場合に、窪みの平均深さが最大深さの上限値
を超えない範囲でできるだけ大きい窪みを精度よく安定
して加工することができる。これにより、冷却ドラム周
面への窪みの加工をショットブラスト法により行うこと
で、加工コスト及び加工時間を、例えばフォトエッチン
グ法に比べ、約１／１００以下に低減することができ
る。また、窪みの平均深さと最大深さの差を小さくする
ことができるので、従来のショット粒を使用した場合に
比べ、ショット粒のコストが２０％程度のアップで、冷
却ドラムの寿命を数倍以上に延長させることができる。
このように本発明は、寿命の長い窪みを工業的に安価で
安定して加工可能としたものであるから、工業的効果は
極めて大きい。
置の冷却ドラム周面にショットブラスト法によって窪み
を加工する場合に、窪みの平均深さが最大深さの上限値
を超えない範囲でできるだけ大きい窪みを精度よく安定
して加工することができる。これにより、冷却ドラム周
面への窪みの加工をショットブラスト法により行うこと
で、加工コスト及び加工時間を、例えばフォトエッチン
グ法に比べ、約１／１００以下に低減することができ
る。また、窪みの平均深さと最大深さの差を小さくする
ことができるので、従来のショット粒を使用した場合に
比べ、ショット粒のコストが２０％程度のアップで、冷
却ドラムの寿命を数倍以上に延長させることができる。
このように本発明は、寿命の長い窪みを工業的に安価で
安定して加工可能としたものであるから、工業的効果は
極めて大きい。
【図１】本発明を実施するための双ドラム式連続鋳造装
置を示す一部断面側面図である。
置を示す一部断面側面図である。
【図２】冷却ドラム周面に窪みを加工する際に使用した
ショット粒の最大直径と平均直径の差と冷却ドラム周面
の窪みの最大深さと平均深さの差の関係を示す図であ
る。
ショット粒の最大直径と平均直径の差と冷却ドラム周面
の窪みの最大深さと平均深さの差の関係を示す図であ
る。
【図３】冷却ドラム周面に窪みを加工する際に使用した
ショット粒の粒径分布の比較例の一例（表１中のＮｏ．
１）を示す図である。
ショット粒の粒径分布の比較例の一例（表１中のＮｏ．
１）を示す図である。
【図４】冷却ドラム周面に窪みを加工する際に使用した
ショット粒の粒径分布の本発明の一例（表１中のＮｏ．
３）を示す図である。
ショット粒の粒径分布の本発明の一例（表１中のＮｏ．
３）を示す図である。
【図５】冷却ドラム周面に加工した窪み深さ分布の比較
例の一例（表１中のＮｏ．１）を示す図である。
例の一例（表１中のＮｏ．１）を示す図である。
【図６】冷却ドラム周面に加工した窪み深さの分布の本
発明の一例（表１中のＮｏ．３）を示す図である。
発明の一例（表１中のＮｏ．３）を示す図である。
１…タンディッシュ ２ａ，２ｂ…冷却ドラム ３…ノズル ４…湯溜り部 ５…キッシングポイント ６…薄帯鋳片 ７…ピンチロール ８，８…サイド堰（手前側は図示せず） ９…インライン圧延機
Claims (1)
- 【請求項１】 一対の冷却ドラムによって形成された湯
溜り部に溶湯を供給して薄帯鋳片に連続鋳造する装置の
前記冷却ドラムの周面にショットブラスト法によって窪
みを加工する際に、最大直径≦平均直径＋０．３０mmを
満足する粒径分布をもつショット粒を用いることを特徴
とする薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29427495A JPH09136145A (ja) | 1995-11-13 | 1995-11-13 | 薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29427495A JPH09136145A (ja) | 1995-11-13 | 1995-11-13 | 薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000342271A Division JP2001179630A (ja) | 2000-11-09 | 2000-11-09 | 薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09136145A true JPH09136145A (ja) | 1997-05-27 |
Family
ID=17805591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29427495A Pending JPH09136145A (ja) | 1995-11-13 | 1995-11-13 | 薄帯鋳片連続鋳造用冷却ドラム周面の窪み加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09136145A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001085369A1 (en) * | 2000-05-12 | 2001-11-15 | Nippon Steel Corporation | Cooling drum for continuously casting thin cast piece and fabricating method and device therefor and thin cast piece and continuous casting method therefor |
| KR20020015903A (ko) * | 2000-08-23 | 2002-03-02 | 이구택 | 쌍롤식 박판제조공정에서 품질이 우수한 주편의 제조방법 |
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-
1995
- 1995-11-13 JP JP29427495A patent/JPH09136145A/ja active Pending
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