JPH09139619A - 曲面形状基板の製造方法及びその製造装置 - Google Patents
曲面形状基板の製造方法及びその製造装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】任意の曲面形状の誘電体基板の製作を可能とす
る曲面形状基板の製造方法を提供する。 【解決手段】3次元曲面に成形された主金型11の上面
に導体層a1を形成する第1の工程と、前記主金型11
の周面に沿った側壁金型12を主金型11に取り付け、
前記導体層a1の上に時硬化型の液状誘電体Aを流し込
んで硬化させる第2の工程と、前記側壁金型12を取り
外して硬化した誘電体の不要な部分を削り取って誘電体
層a2を形成する第3の工程と、前記誘電体層a2の上
に導体層a3を形成する第4の工程とを具備することを
特徴とする。
る曲面形状基板の製造方法を提供する。 【解決手段】3次元曲面に成形された主金型11の上面
に導体層a1を形成する第1の工程と、前記主金型11
の周面に沿った側壁金型12を主金型11に取り付け、
前記導体層a1の上に時硬化型の液状誘電体Aを流し込
んで硬化させる第2の工程と、前記側壁金型12を取り
外して硬化した誘電体の不要な部分を削り取って誘電体
層a2を形成する第3の工程と、前記誘電体層a2の上
に導体層a3を形成する第4の工程とを具備することを
特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半球面とい
った3次元曲面形状に整形され、多数のプリント型アン
テナ素子が配列される誘電体基板を製造するための曲面
形状基板の製造方法とその製造装置に関する。
った3次元曲面形状に整形され、多数のプリント型アン
テナ素子が配列される誘電体基板を製造するための曲面
形状基板の製造方法とその製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、アレイアンテナを製造する場
合において、その誘電体基板の製作は、平面状の誘電体
と銅箔を多層化し、高温高圧で張り合わせるといった成
形加工を行っている。このため、曲面状の基板を製作す
る場合は、一旦、平面状に基板を製作しこれを曲げて製
作している。
合において、その誘電体基板の製作は、平面状の誘電体
と銅箔を多層化し、高温高圧で張り合わせるといった成
形加工を行っている。このため、曲面状の基板を製作す
る場合は、一旦、平面状に基板を製作しこれを曲げて製
作している。
【0003】また、曲面状のプリント配線基板を製作す
る場合は、平面基板を平面の状態でエッチング加工した
後、円筒形や円錐形の一部分といった形状に曲面化加工
するといった手法や、比較的曲率の小さい曲面基板を製
作し、各部位毎にスポット状にエッチングする手法や、
全体を比較的曲率の小さい部位に分割し、各部位を平面
基板でエッチング加工した後、タイル状に張り合わせて
全体として曲面形状を形成するといった手法がとられて
いる。
る場合は、平面基板を平面の状態でエッチング加工した
後、円筒形や円錐形の一部分といった形状に曲面化加工
するといった手法や、比較的曲率の小さい曲面基板を製
作し、各部位毎にスポット状にエッチングする手法や、
全体を比較的曲率の小さい部位に分割し、各部位を平面
基板でエッチング加工した後、タイル状に張り合わせて
全体として曲面形状を形成するといった手法がとられて
いる。
【0004】上記の手法においては、いづれの場合も基
板の成形と多層化の際に高温高圧での加工工程が必要
で、この際に生じる基板の寸法的な変化は無視できない
ばかりか製品の製造可否に関わる大きな問題を有してい
る。また、エッチングに関しても、スポット状にエッチ
ングを行う手法では、例えばラインのような連続したパ
ターンを形成する場合、スポットとスポットの交差する
部分等でのライン幅の精度という面で問題を有してい
る。
板の成形と多層化の際に高温高圧での加工工程が必要
で、この際に生じる基板の寸法的な変化は無視できない
ばかりか製品の製造可否に関わる大きな問題を有してい
る。また、エッチングに関しても、スポット状にエッチ
ングを行う手法では、例えばラインのような連続したパ
ターンを形成する場合、スポットとスポットの交差する
部分等でのライン幅の精度という面で問題を有してい
る。
【0005】したがって、仮にこれらの寸法的な変化や
精度をある程度許容したとしても、特に高周波で使用す
る場合には、その許容範囲が製作可能な曲面形状もしく
は製品の性能に対して著しく制約を課すことになり、結
果的に自由な曲面形状を選択することできない。
精度をある程度許容したとしても、特に高周波で使用す
る場合には、その許容範囲が製作可能な曲面形状もしく
は製品の性能に対して著しく制約を課すことになり、結
果的に自由な曲面形状を選択することできない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】以上述べたように従来
の曲面形状基板の製造方法では、平面の状態で整形加工
した後に曲面形状に整形する手法をとっているため、基
板の寸法的な変化が無視できず、精度の面で問題を有す
るばかりか、製品の製造可否に関わる大きな問題を有し
ており、さらには自由な曲面形状を選択することできな
いという問題を有している。
の曲面形状基板の製造方法では、平面の状態で整形加工
した後に曲面形状に整形する手法をとっているため、基
板の寸法的な変化が無視できず、精度の面で問題を有す
るばかりか、製品の製造可否に関わる大きな問題を有し
ており、さらには自由な曲面形状を選択することできな
いという問題を有している。
【0007】本発明の課題は、上記の問題を解決し、曲
面形状の誘電体基板、プリント配線基板や多層基板の製
作において、曲面形状と要求性能を自由に選択すること
を可能とし、あらゆる曲面形状の誘電体基板、プリント
配線基板及び多層基板の製作を可能とする曲面形状基板
の製造方法及びその製造装置を提供することにある。
面形状の誘電体基板、プリント配線基板や多層基板の製
作において、曲面形状と要求性能を自由に選択すること
を可能とし、あらゆる曲面形状の誘電体基板、プリント
配線基板及び多層基板の製作を可能とする曲面形状基板
の製造方法及びその製造装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る曲面形状基板の製造方法は、 (1)3次元曲面の型に時硬化型の液状誘電体を流し込
んで硬化させ、不要な部分を削り取ることで任意の3次
元曲面を有する誘電体基板を形成するようにしたことを
特徴とする。
め、本発明に係る曲面形状基板の製造方法は、 (1)3次元曲面の型に時硬化型の液状誘電体を流し込
んで硬化させ、不要な部分を削り取ることで任意の3次
元曲面を有する誘電体基板を形成するようにしたことを
特徴とする。
【0009】この製造方法によれば、基板を変形しない
ため、高い精度を出すことができ、さらには自由な曲面
形状を選択することが可能となる。 (2)3次元曲面に成形された主金型の上面に導体層を
形成する第1の工程と、前記主金型の周面に沿った側壁
金型を主金型に取り付け、前記導体層の上に時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第2の工程と、前記
側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分を削
り取って誘電体層を形成する第3の工程と、前記誘電体
層の上に導体層を形成する第4の工程とを具備すること
を特徴とする。
ため、高い精度を出すことができ、さらには自由な曲面
形状を選択することが可能となる。 (2)3次元曲面に成形された主金型の上面に導体層を
形成する第1の工程と、前記主金型の周面に沿った側壁
金型を主金型に取り付け、前記導体層の上に時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第2の工程と、前記
側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分を削
り取って誘電体層を形成する第3の工程と、前記誘電体
層の上に導体層を形成する第4の工程とを具備すること
を特徴とする。
【0010】以上の製造方法により、誘電体層の両面に
導体層を有する曲面形状の誘電体基板を製造することが
できる。 (3)3次元曲面に成形された主金型の上面に導体層を
形成する第1の工程と、前記主金型の周面に沿った側壁
金型を主金型に取り付け、前記導体層の上に時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第2の工程と、前記
側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分を削
り取って誘電体層を形成する第3の工程と、前記誘電体
層の上に導体層を形成する第4の工程と、前記導体層を
必要な配線パターンが残るように削り取る第5の工程
と、再度前記側壁金型を主金型に取り付けて前記時硬化
型の液状誘電体を流し込んで硬化させる第6の工程と、
前記側壁金型を取り外し、前記配線パターンの表面まで
硬化した誘電体を削り取る第7の工程とを具備すること
を特徴とする。
導体層を有する曲面形状の誘電体基板を製造することが
できる。 (3)3次元曲面に成形された主金型の上面に導体層を
形成する第1の工程と、前記主金型の周面に沿った側壁
金型を主金型に取り付け、前記導体層の上に時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第2の工程と、前記
側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分を削
り取って誘電体層を形成する第3の工程と、前記誘電体
層の上に導体層を形成する第4の工程と、前記導体層を
必要な配線パターンが残るように削り取る第5の工程
と、再度前記側壁金型を主金型に取り付けて前記時硬化
型の液状誘電体を流し込んで硬化させる第6の工程と、
前記側壁金型を取り外し、前記配線パターンの表面まで
硬化した誘電体を削り取る第7の工程とを具備すること
を特徴とする。
【0011】以上の製造方法により、誘電体層の一方面
に導体層、他方面に配線パターンを有する曲面形状のプ
リント配線基板を製造することができる。 (4)3次元曲面に成形された主金型の上面に導体層を
形成する第1の工程と、前記主金型の周面に沿った側壁
金型を主金型に取り付け、前記導体層の上に時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第2の工程と、前記
側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分を削
り取って誘電体層を形成する第3の工程と、前記誘電体
層の上に導体層を形成する第4の工程と、前記導体層を
必要な配線パターンが残るように削り取る第5の工程
と、再度前記側壁金型を主金型に取り付けて前記時硬化
型の液状誘電体を流し込んで硬化させる第6の工程と、
前記側壁金型を取り外し、硬化した誘電体を必要な厚さ
となるまで削り取る第7の工程と、再度導体層を形成す
る第8の工程とを具備することを特徴とする。
に導体層、他方面に配線パターンを有する曲面形状のプ
リント配線基板を製造することができる。 (4)3次元曲面に成形された主金型の上面に導体層を
形成する第1の工程と、前記主金型の周面に沿った側壁
金型を主金型に取り付け、前記導体層の上に時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第2の工程と、前記
側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分を削
り取って誘電体層を形成する第3の工程と、前記誘電体
層の上に導体層を形成する第4の工程と、前記導体層を
必要な配線パターンが残るように削り取る第5の工程
と、再度前記側壁金型を主金型に取り付けて前記時硬化
型の液状誘電体を流し込んで硬化させる第6の工程と、
前記側壁金型を取り外し、硬化した誘電体を必要な厚さ
となるまで削り取る第7の工程と、再度導体層を形成す
る第8の工程とを具備することを特徴とする。
【0012】以上の製造方法により、誘電体層の両面に
導体層、中間に配線パターンを有する曲面形状の多層基
板を製造することができる。 (5)(4)の製造方法において、前記第5、第6の工
程を繰り返して配線パターンを多層化するようにしたこ
とを特徴とする。
導体層、中間に配線パターンを有する曲面形状の多層基
板を製造することができる。 (5)(4)の製造方法において、前記第5、第6の工
程を繰り返して配線パターンを多層化するようにしたこ
とを特徴とする。
【0013】また、本発明に係る曲面形状基板の製造装
置は、 (6)端面が形成基板の下面形状を決める3次元曲面に
成形される柱状の主金型と、この主金型が内挿される筒
型の側壁金型とを具備することを特徴とする。
置は、 (6)端面が形成基板の下面形状を決める3次元曲面に
成形される柱状の主金型と、この主金型が内挿される筒
型の側壁金型とを具備することを特徴とする。
【0014】(7)(6)の構成において、さらに、3
次元切削機械を備えることを特徴とする。 (8)端面が形成基板の下面形状を決める3次元曲面に
成形される柱状の主金型と、この主金型が内挿され、上
部に前記主金型の端面形状と対向する型が一体成形され
る筒型の側壁/上面金型とを具備することを特徴とす
る。
次元切削機械を備えることを特徴とする。 (8)端面が形成基板の下面形状を決める3次元曲面に
成形される柱状の主金型と、この主金型が内挿され、上
部に前記主金型の端面形状と対向する型が一体成形され
る筒型の側壁/上面金型とを具備することを特徴とす
る。
【0015】(9)(8)の構成において、前記側壁/
上面金型の上部に、時硬化型の液状誘電体を充填する貫
通孔を形成するようにしたことを特徴とする。 (10)(8)の構成において、に前記主金型、側壁/
上面金型の少なくともいずれか一方に両者の間隙を規制
するストッパを形成するようにしたことを特徴とする。
上面金型の上部に、時硬化型の液状誘電体を充填する貫
通孔を形成するようにしたことを特徴とする。 (10)(8)の構成において、に前記主金型、側壁/
上面金型の少なくともいずれか一方に両者の間隙を規制
するストッパを形成するようにしたことを特徴とする。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施
形態として曲面形状の誘電体基板の製造方法を示すもの
である。まず、図1(a)に示すように、上面が基板の
一方面に与える形状に成形された柱状の3次元曲面金型
11の上に、例えば銅箔膜を蒸着することによって導体
層a1を形成する。次に、図1(b)に示すように、金
型11にその周面に沿った側壁金型12を取り付け、時
硬化型の液状誘電体Aを流し込んで硬化させる。
施の形態を詳細に説明する。図1は本発明の第1の実施
形態として曲面形状の誘電体基板の製造方法を示すもの
である。まず、図1(a)に示すように、上面が基板の
一方面に与える形状に成形された柱状の3次元曲面金型
11の上に、例えば銅箔膜を蒸着することによって導体
層a1を形成する。次に、図1(b)に示すように、金
型11にその周面に沿った側壁金型12を取り付け、時
硬化型の液状誘電体Aを流し込んで硬化させる。
【0017】時硬化型液状誘電体Aが完全に硬化した
ら、図1(c)に示すように、側壁金型12を取り外
し、3次元の切削加工機械によって不要な部分を削り取
って、寸法的に高精度な誘電体層a2を形成する。続い
て、図1(d)に示すように、再び側壁金型12を取り
付け、誘電体層a2の上面に蒸着等によって導体層a3
を形成する。
ら、図1(c)に示すように、側壁金型12を取り外
し、3次元の切削加工機械によって不要な部分を削り取
って、寸法的に高精度な誘電体層a2を形成する。続い
て、図1(d)に示すように、再び側壁金型12を取り
付け、誘電体層a2の上面に蒸着等によって導体層a3
を形成する。
【0018】その後、3次元曲面金型11及び側壁金型
12を取り外すことで、図1(e)に示すように、誘電
体層a2の表裏面に導体層a1,a3を配した曲面形状
の誘電体基板が得られる。この場合、各部に変形が加え
られないため、極めて高精度な寸法で製造可能である。
12を取り外すことで、図1(e)に示すように、誘電
体層a2の表裏面に導体層a1,a3を配した曲面形状
の誘電体基板が得られる。この場合、各部に変形が加え
られないため、極めて高精度な寸法で製造可能である。
【0019】図2は本発明の第2の実施形態として曲面
形状のプリント配線基板の製造方法を示すものである。
図2(a)から図2(d)までの処理は第1の実施形態
の図1(a)から図1(d)までの処理と同様である。
続いて、図2(e)に示すように、側壁金型12を外し
て、3次元切削加工機械によって寸法的に高精度な配線
パターンa4を形成する。
形状のプリント配線基板の製造方法を示すものである。
図2(a)から図2(d)までの処理は第1の実施形態
の図1(a)から図1(d)までの処理と同様である。
続いて、図2(e)に示すように、側壁金型12を外し
て、3次元切削加工機械によって寸法的に高精度な配線
パターンa4を形成する。
【0020】次に、図2(f)に示すように、再び側壁
金型12を取り付け、時硬化型の液状誘電体Aを流し込
んで硬化させた後、図2(g)に示すように、側壁金型
12を取り外し、3次元切削加工機械によって配線パタ
ーンa4の形成面まで不要な誘電体部分を削り取る。こ
れによって、図2(e)の工程で削りすぎた部分に誘電
体を埋め込むことができる。
金型12を取り付け、時硬化型の液状誘電体Aを流し込
んで硬化させた後、図2(g)に示すように、側壁金型
12を取り外し、3次元切削加工機械によって配線パタ
ーンa4の形成面まで不要な誘電体部分を削り取る。こ
れによって、図2(e)の工程で削りすぎた部分に誘電
体を埋め込むことができる。
【0021】その後、図2(h)に示すように、3次元
曲面金型11を取り外すことで、誘電体層a2の裏面に
導体層a1、表面に配線パターンa4を配した曲面形状
のプリント配線基板が得られる。
曲面金型11を取り外すことで、誘電体層a2の裏面に
導体層a1、表面に配線パターンa4を配した曲面形状
のプリント配線基板が得られる。
【0022】図3は本発明の第3の実施形態として曲面
形状の多層化基板の製造方法を示すもので、図3(a)
から図3(f)までの処理は第2の実施形態の図2
(a)から図2(f)までの処理と同様である。続い
て、図3(g)に示すように、側壁金型12を取り外
し、3次元切削加工機械によって誘電体が所定の厚さに
なるまで不要な誘電体部分を削り取る。
形状の多層化基板の製造方法を示すもので、図3(a)
から図3(f)までの処理は第2の実施形態の図2
(a)から図2(f)までの処理と同様である。続い
て、図3(g)に示すように、側壁金型12を取り外
し、3次元切削加工機械によって誘電体が所定の厚さに
なるまで不要な誘電体部分を削り取る。
【0023】その後、図3(h)に示すように、再び側
壁金型12を取り付け、蒸着等によって導体層a3を形
成し、各金型11,12を取り外すことで、誘電体層a
2の表裏面に導体層a1,a3、中間に配線パターンa
4を形成した曲面形状の多層基板が得られる。
壁金型12を取り付け、蒸着等によって導体層a3を形
成し、各金型11,12を取り外すことで、誘電体層a
2の表裏面に導体層a1,a3、中間に配線パターンa
4を形成した曲面形状の多層基板が得られる。
【0024】尚、図3(f)、図3(g)の工程を繰り
返し行うことで、中間に多数の配線パターンを形成した
多層基板が得られることは勿論である。図4は本発明の
第4の実施形態として、曲面形状の誘電体基板の他の製
造方法を示すものである。まず、図4(a)に示すよう
に、基板の一方面に与える形状に成形された3次元曲面
金型11の上に導体層a1を形成した後、図4(b)に
示すように、その周面に沿った側壁及びその導体層形成
面と対向する面を有する側壁/上面金型13を被せ、金
型11との間隙が誘電体層a2の厚さと等しくなるよう
にする。金型13には上部に貫通孔131を形成してお
き、ここから時硬化型液状誘電体Aを充填し、硬化させ
る。
返し行うことで、中間に多数の配線パターンを形成した
多層基板が得られることは勿論である。図4は本発明の
第4の実施形態として、曲面形状の誘電体基板の他の製
造方法を示すものである。まず、図4(a)に示すよう
に、基板の一方面に与える形状に成形された3次元曲面
金型11の上に導体層a1を形成した後、図4(b)に
示すように、その周面に沿った側壁及びその導体層形成
面と対向する面を有する側壁/上面金型13を被せ、金
型11との間隙が誘電体層a2の厚さと等しくなるよう
にする。金型13には上部に貫通孔131を形成してお
き、ここから時硬化型液状誘電体Aを充填し、硬化させ
る。
【0025】次に、図4(c)に示すように、側壁/上
面金型13を取り外し、貫通孔131によって形成され
た不要な誘電体凸部を削り取り、誘電体層a2を形成す
る。さらに、図4(d)に示すように蒸着等によって導
体層a3を形成し、金型11を取り外すことで曲面形状
の誘電体基板が得られる。
面金型13を取り外し、貫通孔131によって形成され
た不要な誘電体凸部を削り取り、誘電体層a2を形成す
る。さらに、図4(d)に示すように蒸着等によって導
体層a3を形成し、金型11を取り外すことで曲面形状
の誘電体基板が得られる。
【0026】尚、上記実施形態では側壁/上面金型13
に1個の貫通孔131を形成した場合で説明したが、さ
らに複数個形成しておくことで、時硬化型液状誘電体A
を充填する際に空気を逃がすことができ、作業効率を向
上させることができる。
に1個の貫通孔131を形成した場合で説明したが、さ
らに複数個形成しておくことで、時硬化型液状誘電体A
を充填する際に空気を逃がすことができ、作業効率を向
上させることができる。
【0027】また、この側壁/上面金型13の側面部あ
るいは3次元曲面金型11の上面の一部にストッパ(図
示せず)を形成しておけば、金型11との間隙を容易に
誘電体層a2の厚さと等しくすることができ、作業効率
を向上させることができる。
るいは3次元曲面金型11の上面の一部にストッパ(図
示せず)を形成しておけば、金型11との間隙を容易に
誘電体層a2の厚さと等しくすることができ、作業効率
を向上させることができる。
【0028】上記側壁/上面金型13は、プリント配線
基板、多層基板の製造にも利用可能であることはいうま
でもない。本発明は上記した如く、時硬化型液状誘電体
と3次元切削加工機械及び蒸着等による導体層の形成技
術を併せて用いることによって、いかなる曲面形状の誘
電体基板、パターン配線基板、多層基板をも実現するこ
とを可能とするもので、この結果、例えば高周波用の基
板に本発明を適用すると、アンテナ素子とその給電回路
を、装着する機材等の表面形状といった任意の曲面形状
に合致させて設計、製作することが可能となる。
基板、多層基板の製造にも利用可能であることはいうま
でもない。本発明は上記した如く、時硬化型液状誘電体
と3次元切削加工機械及び蒸着等による導体層の形成技
術を併せて用いることによって、いかなる曲面形状の誘
電体基板、パターン配線基板、多層基板をも実現するこ
とを可能とするもので、この結果、例えば高周波用の基
板に本発明を適用すると、アンテナ素子とその給電回路
を、装着する機材等の表面形状といった任意の曲面形状
に合致させて設計、製作することが可能となる。
【0029】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、曲面
形状の誘電体基板、プリント配線基板や多層基板の製作
において、曲面形状と要求性能を自由に選択することを
可能とし、あらゆる曲面形状の誘電体基板、プリント配
線基板及び多層基板の製作を可能とする曲面形状基板の
製造方法を提供することができる。
形状の誘電体基板、プリント配線基板や多層基板の製作
において、曲面形状と要求性能を自由に選択することを
可能とし、あらゆる曲面形状の誘電体基板、プリント配
線基板及び多層基板の製作を可能とする曲面形状基板の
製造方法を提供することができる。
【図1】図1は本発明の第1の実施形態として曲面形状
の誘電体基板の製造工程を示す図。
の誘電体基板の製造工程を示す図。
【図2】図2は本発明の第2の実施形態として曲面形状
のプリント配線基板の製造工程を示す図。
のプリント配線基板の製造工程を示す図。
【図3】図3は本発明の第3の実施形態として曲面形状
の多層化基板の製造工程を示す図。
の多層化基板の製造工程を示す図。
【図4】図4は本発明の第4の実施形態として曲面形状
の誘電体基板の他の製造工程を示す図。
の誘電体基板の他の製造工程を示す図。
11 3次元曲面金型 12 側壁金型 13 側壁/上面金型 131 貫通孔 A 時硬化型液状誘電体
Claims (10)
- 【請求項1】3次元曲面の型に時硬化型の液状誘電体を
流し込んで硬化させ、不要な部分を削り取ることで任意
の3次元曲面を有する誘電体基板を形成するようにした
ことを特徴とする曲面形状基板の製造方法。 - 【請求項2】3次元曲面に成形された主金型の上面に導
体層を形成する第1の工程と、 前記主金型の周面に沿った側壁金型を主金型に取り付
け、前記導体層の上に時硬化型の液状誘電体を流し込ん
で硬化させる第2の工程と、 前記側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分
を削り取って誘電体層を形成する第3の工程と、 前記誘電体層の上に導体層を形成する第4の工程とを具
備する曲面形状基板の製造方法。 - 【請求項3】3次元曲面に成形された主金型の上面に導
体層を形成する第1の工程と、 前記主金型の周面に沿った側壁金型を主金型に取り付
け、前記導体層の上に時硬化型の液状誘電体を流し込ん
で硬化させる第2の工程と、 前記側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分
を削り取って誘電体層を形成する第3の工程と、 前記誘電体層の上に導体層を形成する第4の工程と、 前記導体層を必要な配線パターンが残るように削り取る
第5の工程と、 再度前記側壁金型を主金型に取り付けて前記時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第6の工程と、 前記側壁金型を取り外し、前記配線パターンの表面まで
硬化した誘電体を削り取る第7の工程とを具備する曲面
形状基板の製造方法。 - 【請求項4】3次元曲面に成形された主金型の上面に導
体層を形成する第1の工程と、 前記主金型の周面に沿った側壁金型を主金型に取り付
け、前記導体層の上に時硬化型の液状誘電体を流し込ん
で硬化させる第2の工程と、 前記側壁金型を取り外して硬化した誘電体の不要な部分
を削り取って誘電体層を形成する第3の工程と、 前記誘電体層の上に導体層を形成する第4の工程と、 前記導体層を必要な配線パターンが残るように削り取る
第5の工程と、 再度前記側壁金型を主金型に取り付けて前記時硬化型の
液状誘電体を流し込んで硬化させる第6の工程と、 前記側壁金型を取り外し、硬化した誘電体を必要な厚さ
となるまで削り取る第7の工程と、 再度導体層を形成する第8の工程とを具備する曲面形状
基板の製造方法。 - 【請求項5】前記第5、第6の工程を繰り返して配線パ
ターンを多層化するようにしたことを特徴とする請求項
4記載の曲面形状基板の製造方法。 - 【請求項6】端面が形成基板の下面形状を決める3次元
曲面に成形される柱状の主金型と、 この主金型が内挿される筒型の側壁金型とを具備するこ
とを特徴とする曲面形状基板の製造装置。 - 【請求項7】さらに、3次元切削機械を備えることを特
徴とする請求項6記載の曲面形状基板の製造装置。 - 【請求項8】端面が形成基板の下面形状を決める3次元
曲面に成形される柱状の主金型と、 この主金型が内挿され、上部に前記主金型の端面形状と
対向する型が一体成形される筒型の側壁/上面金型とを
具備することを特徴とする曲面形状基板の製造装置。 - 【請求項9】前記側壁/上面金型の上部に、時硬化型の
液状誘電体を充填する貫通孔を形成するようにしたこと
を特徴とする請求項8記載の曲面形状基板の製造装置。 - 【請求項10】前記主金型、側壁/上面金型の少なくと
もいずれか一方に両者の間隙を規制するストッパを形成
するようにしたことを特徴とする請求項8記載の曲面形
状基板の製造装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7298369A JPH09139619A (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | 曲面形状基板の製造方法及びその製造装置 |
| US08/747,930 US5876789A (en) | 1995-11-16 | 1996-11-12 | Method and apparatus for manufacturing radio frequency board with curved surface |
| FR9613875A FR2741501B1 (fr) | 1995-11-16 | 1996-11-14 | Procede et appareil de fabrication de cartes dielectriques, de circuit imprime et multicouches |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7298369A JPH09139619A (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | 曲面形状基板の製造方法及びその製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09139619A true JPH09139619A (ja) | 1997-05-27 |
Family
ID=17858805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7298369A Pending JPH09139619A (ja) | 1995-11-16 | 1995-11-16 | 曲面形状基板の製造方法及びその製造装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5876789A (ja) |
| JP (1) | JPH09139619A (ja) |
| FR (1) | FR2741501B1 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000124612A (ja) * | 1998-01-19 | 2000-04-28 | Toshiba Corp | 配線基板とその製造方法、その配線基板を具える電気機器 |
| US6246381B1 (en) * | 1999-07-01 | 2001-06-12 | Telaxis Communications Corporation | Insert mold process for forming polarizing grid element |
| US6727787B2 (en) * | 2000-12-21 | 2004-04-27 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Method and device for achieving a high-Q microwave resonant cavity |
| EP1835566A1 (en) * | 2003-07-29 | 2007-09-19 | Hitec Luxembourg S. A. | Method for manufacturing an antenna reflector |
| JP4370139B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2009-11-25 | 三菱重工業株式会社 | 電波ステルス性および/または電磁波シールド性を有する窓の製造方法並びに電波ステルス性および/または電磁波シールド性を有する窓材 |
| JP4020097B2 (ja) | 2004-05-11 | 2007-12-12 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体チップ、半導体装置及びその製造方法、並びに電子機器 |
| CN102595778B (zh) | 2012-03-13 | 2015-12-16 | 华为技术有限公司 | 一种多层印制电路板及其制造方法 |
| DE102016103047A1 (de) * | 2016-02-22 | 2017-08-24 | Itz Innovations- Und Technologiezentrum Gmbh | Herstellungsverfahren für eine Leuchtenkomponente und mit dem Verfahren hergestellte Leuchtenkomponente |
| US11764077B2 (en) * | 2021-07-23 | 2023-09-19 | Innolux Corporation | Composite layer circuit element and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3007997A (en) * | 1958-07-01 | 1961-11-07 | Gen Electric | Printed circuit board |
| US3536800A (en) * | 1966-02-25 | 1970-10-27 | Montecatini Edison Ellettronic | Method of forming radio frequency devices employing a destructible mold |
| US3889363A (en) * | 1971-02-16 | 1975-06-17 | Richard P Davis | Method of making printed circuit boards |
| US4200975A (en) * | 1978-05-30 | 1980-05-06 | Western Electric Company, Incorporated | Additive method of forming circuit crossovers |
| US4861640A (en) * | 1982-09-03 | 1989-08-29 | John Fluke Mfg. Co., Inc. | Molded circuit board and manufacturing method therefor |
| US4772496A (en) * | 1985-06-15 | 1988-09-20 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Molded product having printed circuit board |
| GB2199183B (en) * | 1986-12-23 | 1990-07-04 | Gen Electric Plc | Interconnection formation in multilayer circuits |
| FR2619984B1 (fr) * | 1987-08-24 | 1996-03-01 | Aerospatiale | Procede de realisation de circuits imprimes presentant des surfaces complexes a priori non developpables |
| US5182569A (en) * | 1988-09-23 | 1993-01-26 | Alcatel N.V. | Antenna having a circularly symmetrical reflector |
| US4944087A (en) * | 1988-10-05 | 1990-07-31 | Rogers Corporation | Method of making a curved plastic body with circuit pattern |
| US5449591A (en) * | 1991-03-06 | 1995-09-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a curved surface multi-layer wiring board |
-
1995
- 1995-11-16 JP JP7298369A patent/JPH09139619A/ja active Pending
-
1996
- 1996-11-12 US US08/747,930 patent/US5876789A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-14 FR FR9613875A patent/FR2741501B1/fr not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5876789A (en) | 1999-03-02 |
| FR2741501A1 (fr) | 1997-05-23 |
| FR2741501B1 (fr) | 2001-12-28 |
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