JPH09143160A - Ｎ−シクロヘキシルチオフタルイミドの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 Ｎ−シクロヘキシルチオフタルイミドの製造
法 【解決手段】 ジシクロヘキシルジスルフィドを塩素化
することによりその場で塩化シクロヘキシルスルフェニ
ルを製造することにより、塩化シクロヘキシルスルフェ
ニルおよびフタルイミドからＮ−シクロヘキシルチオフ
タルイミドを製造する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明はシクロヘキシルジスルフィド、フ
タルイミドおよび塩素を、塩基の存在下において反応さ
せることにより、Ｎ−シクロヘキシルチオフタルイミド
を製造する方法に関する。

【０００２】本発明で製造される化合物は天然および／
または合成ゴムの未成熟な硫化を遅延させるのに使用さ
れる。

【０００３】Ｎ−シクロヘキシルチオフタルイミドはフ
タルイミドを塩化シクロヘキシルスルフェニルと反応さ
せることにより製造することができる。塩化シクロヘキ
シルスルフェニルはシクロヘキシルメルカプタンまたは
ジシクロヘキシルジスルフィドを塩素化することにより
製造することができる。塩化シクロヘキシルスルフェニ
ルを製造する好適な方法においては、シクロヘキシルメ
ルカプタンを水中に懸濁させ、過酸化水素で酸化し、生
じたジシクロヘキシルジスルフィドを有機溶媒、好まし
くは室温において液体の随時塩素化された炭化水素、例
えばトルエンまたはヘキサンで抽出し、溶解しているジ
スルフィドを塩素で塩素化して塩化シクロヘキシルスル
フェニルをつくる。この反応は下記の反応式に対応して
いる。

【０００４】

【化１】

【０００５】米国特許３ ５７９ ４６０号に記載され
たこの方法の最後の段階においては、等モル量の３級ア
ミンの存在下においてジメチルフォルムアミドに溶解し
たフタルイミドをペンタンに溶解させた塩化シクロヘキ
シルスルフェニルと反応させる。大量の水を用いて最終
生成物を沈澱させる方法はアミンおよび溶媒を回収し、
母液を処理し乾燥を行う上で極めて費用のかかる方法で
ある。

【０００６】ヨーロッパ特許Ａ ４７ ９１２号には水
性懸濁液にしたフタルイミドを有機溶媒に溶解した塩化
シクロヘキシルスルフェニルと、アルカリ金属またはア
ルカリ土類金属の水酸化物の存在下において反応させる
ことにより、Ｎ−シクロヘキシルチオフタルイミドを製
造する方法が記載されている。しかしこの方法の収率の
再現性は必ずしも満足すべきものではない。

【０００７】本発明においては、驚くべきことには下記
の反応式

【０００８】

【化２】

【０００９】に従ってジシクロヘキシルジスルフィドか
らその場で製造された塩化シクロヘキシルスルフェニル
を、塩基の存在下において、有機溶媒中に懸濁させたフ
タルイミドと反応させると、その収率は極めて狭い限度
内で再現させ得ることが見出された。この場合、加水分
解に対して敏感な塩化シクロヘキシルスルフェニルを取
り扱う必要はない。これによって環境に対する防護およ
び作業上の安全性に関し明らかな改善が得られる。

【００１０】従って本発明においては、塩基の存在下に
おいて塩化シクロヘキシルスルフェニルをフタルイミド
と反応させＮ−シクロヘキシルチオフタルイミドを製造
する方法において、フタルイミドの存在下においてジシ
クロヘキシルジスルフィドおよび塩素から塩化シクロヘ
キシルスルフェニルを製造することを特徴とする方法が
提供される。

【００１１】ジシクロヘキシルジスルフィド／フタルイ
ミドのモル比は１：１．９〜１：２．２、好ましくは
１：２〜１：２．１であることができる。

【００１２】塩素／ジシクロヘキシルジスルフィドのモ
ル比は１：１〜１．２：１、好ましくは１：１〜１．０
５：１であることができる。

【００１３】アルカリ金属およびアルカリ土類金属の水
酸化物（好ましくは水溶液として使用する）および３級
アミンは塩基として好適である。塩基／フタルイミドの
モル比は広い範囲で変えることができ、一般に１：１〜
１．３：１、好ましくは１．０５：１〜１．１：１であ
る。

【００１４】好適なアルカリ金属およびアルカリ土類金
属の水酸化物には、ナトリウム、カリウム、リチウムお
よびカルシウムの水酸化物が含まれる。濃度が５〜４０
重量％の苛性ソーダの溶液が好適に使用される。使用す
る水酸化物溶液の密度が所望の反応温度において１．０
〜１．２ｇ／ｍｌの範囲にある場合が特に有利である。

【００１５】好適な３級アミンは式 ＮＲ¹Ｒ²Ｒ³ に対応している。ここでＲ₁〜Ｒ₃はそれぞれ互いに独立
にＣ₂〜Ｃ₆−アルキル、Ｃ₆〜Ｃ₁₂−シクロアルキル、
Ｃ₇〜Ｃ₁₂−アリールアルキルまたはＣ₆〜Ｃ₁₂−アリー
ル基を表すが、これらの基の二つが一緒になって随時酸
素原子が介在したＣ₄〜Ｃ₇−アルキレン基をつくること
ができる。

【００１６】好適な３級アミンには例えばトリエチルア
ミン、ジメチルベンジルアミン、およびＮ−エチルモル
フィリンが含まれる。

【００１７】本発明方法は例えば非プロトン性の有機溶
媒中においてジシクロヘキシルジスルフィドとフタルイ
ミドとの混合物に塩素を通し、この方法で塩化シクロヘ
キシルスルフェニルをその場で製造するようにして行う
ことができる。塩化スルフェニルとフタルイミドとの反
応は塩基の存在下において起こる。しかしフタルイミド
を存在させないで塩素化を行い、後でフタルイミドを加
えることもできる。

【００１８】広い範囲の溶媒を使用することができる。
これらの溶媒には − 芳香族炭化水素、例えばベンゼンおよび／またはト
ルエン。

【００１９】− 脂肪族炭化水素、例えばヘキサン、ヘ
プタン、オクタン、および／またはシクロヘキサン。

【００２０】− 塩素化された炭化水素、例えばＣＣｌ
₄、ジクロロエチレンおよび／またはクロロベンゼン。

【００２１】− 極性をもった非プロトン性溶媒、例え
ばＤＭＦおよび／またはＤＭＳＯ。

【００２２】トルエン、ヘキサンおよび／またはシクロ
ヘキサンを使用することが好ましい。 溶媒の使用量は一般にフタルイミドに関して６００〜
１，５００重量％である。

【００２３】本発明方法は温度−２０〜１００℃、好ま
しくは０〜２０℃で行うことができる。

【００２４】

【実施例】特記しない限りすべての割合は重量による。
即ち部は重量部であり、％データは重量％である。

【００２５】実施例 １ 先ず下記の成分を撹拌容器の中に入れる。

【００２６】３００部のトルエン、４０部のフタルイミ
ド、３１部のジシクロヘキシルジスルフィド。

【００２７】この混合物を５℃に冷却する。次に撹拌し
ながら先ず９．８部の塩素を導入する。次に３８．２部
のジメチルベンジルアミンを圧入し、１５分間撹拌を続
ける。得られた溶液を８０部の塩酸（濃度５％）で洗滌
し、次いで有機相を分離する。

【００２８】２００部のトルエンを真空蒸溜して除去
し、ヘキサンを加えて生成物を沈澱させる。固体の生成
物を濾過し、３０部のヘキサンで洗滌し、次いで生成物
を真空下で乾燥する。

【００２９】収率：６８部のＮ−（シクロヘキシルチ
オ）−フタルイミド＝ 使用したジシクロヘキシルジス
ルフィドに関し理論値の９７％。

【００３０】純粋な物質の割合は９８％。

【００３１】実施例 ２ 先ず下記の成分を撹拌容器の中に入れる。

【００３２】３００部のトルエン、４１部のフタルイミ
ド、３０部のジシクロヘキシルジスルフィド。

【００３３】この混合物を５℃に冷却する。次に９．５
部の塩素を導入し、次いで１１５部の苛性ソーダ溶液
（濃度１０％）を圧入し、３０分間撹拌を続ける。相分
離を行った後、実施例１と同じ方法で有機相から生成物
を分離する。

【００３４】収率：６６部のＮ−（シクロヘキシルチ
オ）−フタルイミド＝ 使用したジシクロヘキシルジス
ルフィドに関し理論値の９７％。

【００３５】純粋な物質の割合は９９％。

【００３６】本発明の主な特徴及び態様は次の通りであ
る。 １．塩基の存在下において塩化シクロヘキシルスルフェ
ニルをフタルイミドと反応させＮ−シクロヘキシルチオ
フタルイミドを製造する方法において、フタルイミドの
存在下においてジシクロヘキシルジスルフィドおよび塩
素から塩化シクロヘキシルスルフェニルを製造する方
法。

【００３７】２．温度−２０〜１００℃で反応を行う上
記第１項記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハロ・シユレスマン ドイツ51519オーデンタール・アイフゲン シユトラーセ24 (72)発明者 トマス・クライナー ドイツ51519オーデンタール・アムベルク 24

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩基の存在下において塩化シクロヘキシ
   ルスルフェニルをフタルイミドと反応させＮ−シクロヘ
   キシルチオフタルイミドを製造する方法において、フタ
   ルイミドの存在下においてジシクロヘキシルジスルフィ
   ドおよび塩素から塩化シクロヘキシルスルフェニルを製
   造することを特徴とする方法。