JPH09143205A - キチン及び/又はキトサン粒子の処理方法 - Google Patents
キチン及び/又はキトサン粒子の処理方法Info
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- JPH09143205A JPH09143205A JP32789095A JP32789095A JPH09143205A JP H09143205 A JPH09143205 A JP H09143205A JP 32789095 A JP32789095 A JP 32789095A JP 32789095 A JP32789095 A JP 32789095A JP H09143205 A JPH09143205 A JP H09143205A
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Abstract
ないキチン・キトサン粒子提供すること。 【解決手段】 かさ比重が0.3未満のキチン及び/又
はキトサン粒子に、圧縮、衝撃、剪断および摩擦から選
ばれる少なくとも1種の外力を加えて処理し、上記粒子
のかさ比重を0.3以上とすることを特徴とするキチン
及び/又はキトサン粒子の処理方法。
Description
トサン粒子の処理方法に関する。さらに詳しくは、本発
明はかさ(嵩)比重が大きく、且つ糸毬状の粗大構造を
生じないキチン・キトサン粒子の製造方法に関する。
ビの甲殻中に含まれる天然高分子物であり、多量に入手
できる。キチンは生体適合性がよく、手術用の縫合糸、
人工皮膚、食品用材料等としても用いられている。又、
その誘導体であるキトサンは得異な性質、例えば、塩基
性、保湿性、生理活性等を有することから水処理技術の
凝集剤、化粧品原料、医療用材料、食品用材料等の各分
野で注目されている。
いては、キチン及び/又はキトサン(以下、キチン・キ
トサンと称する。)は、これを油に分散させたものをソ
フトカプセルに充填した健康食品として使用されてい
る。ソフトカプセル充填用のキチン・キトサンは、ハン
マーミル等で83メッシュ程度に粉砕された粉末のもの
が使用されている。限られた容量のソフトカプセルにキ
チン・キトサンを充填させるためには、キチン・キトサ
ンを高濃度に油に分散させる必要がある。
はかさ(嵩)比重が0.2程度と小さく、高濃度に油に
分散させるには限界がある。また、この粉末キチン・キ
トサンは、一部繊維状であり、各種工程を経る間にから
まりあって糸毬状の粗大構造を形成し、これがソフトカ
プセル充填工程において障害となっている。従って、本
発明の目的はかさ比重が大きく、且つ糸毬状の粗大構造
のないキチン・キトサン粒子を提供することである。
によって達成される。即ち、本発明はかさ比重が0.3
未満のキチン・キトサン粒子に、圧縮、衝撃、剪断及び
摩擦から選択される少なくとも1種の外力を加えて処理
し、上記粒子のかさ比重を0.3以上とすることを特徴
とするキチン・キトサン粒子の処理方法である。
を更に詳しく説明する。本発明で使用するキチン・キト
サンは、市場で容易に入手可能であり、特に限定されな
い。キチン・キトサンは、通常、ハンマーミル等で粒子
径が500μm以下に粉砕されて使用されている。しか
しながら、粉砕された粒子は、かさ比重は0.2程度と
低いものである。本発明においては、かさ比重が0.3
未満のキチン・キトサン粒子に以下の外力を加える処理
を行うことによって、かさ比重を0.3以上とするもの
である。
以下に粉砕し、又は既に粉砕されている、かさ比重が
0.3未満のキチン・キトサン粒子のかさ比重を0.3
以上にするためには、該粒子に圧縮、衝撃、剪断及び摩
擦から選択される少なくとも1種の外力を加える処理を
行うことが必要である。このような外力を加える処理に
は、上記の外力の作用をある時間継続させることによっ
て処理が徐々に進行する処理手段を用いることが必要で
ある。このような処理手段としては、例えば、石臼、コ
ロイドミル等の摩砕機、ボールミル、振動ボールミル、
アトライタ、ロール、媒体撹拌ミル等の分散機、一軸お
よび二軸押出機、ニーダー等の混練機、ヘンシェルミキ
サー等の混合機又は粉砕機が挙げられる。粉砕機として
ハンマーミル、ジェットミル等の瞬時乃至急激に処理が
完了する、高速回転運動を利用する衝撃式粉砕機や高速
気流を用いるジェット粉砕機等を用いても、かさ比重を
上げる効果は得られない。処理時間は、特に制限されな
いが、キチン・キトサン粒子のかさ比重や処理手段によ
って相違するので、かさ比重が0.3以上となるまで処
理を継続することが必要である。例えば、押出機による
処理では少なくとも3分は必要である。
粒子を上記の処理手段で処理する場合には、該粒子をそ
のまま処理しても、又該粒子を水及び/又は水溶性有機
溶剤と共に処理してもよい。後者の場合には、水等を乾
燥しながら処理してもよいし、処理後に乾燥してもよ
い。水及び/又は水溶性有機溶剤の使用量は、該キチン
・キトサン粒子を膨潤させるに充分な量であればよく、
好ましくは該キチン・キトサン粒子の量に対して300
重量%以下である。この量を超えると処理しながらの乾
燥または処理後の乾燥が困難となる上、糸毬状の粗大構
造が発生し好ましくない。水溶性有機溶剤としては、メ
チルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコール、グリセリン、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、アセトン等が挙げられるが、特
に限定されない。
具体的に説明する。尚、文中、部又は%とあるのは特に
断りのない限り重量基準である。又、かさ比重は、10
0mlのメスシリンダーを傾斜させてキトサンを静かに
充填し、充填容量と充填重量を測定し、充填キトサン重
量(g)を充填容量(ml)で除して求めた。
5mmの磁製ボールを所定量入れ、さらに83メッシュ
に粉砕されたキトサン(かさ比重0.2)50gを仕込
み、室温で5時間処理した。49gの処理キトサンが得
られ、かさ比重を測定すると0.3であった。又、篩分
を行うと、処理前のキトサン粒子は、糸毬状の粗大構造
物が形成されており、60メッシュオン(不通過)粒子
が存在した。一方、処理後のキトサン粒子は60〜83
メッシュの粒子が増加するが、糸毬状の粗大構造物は全
く存在しなかった。結果を表1に示す。
たキトサン(かさ比重0.16)50g、水30g及び
エチルアルコール30gを仕込み、減圧下70℃で5時
間混練しながら乾燥した。処理キトサン49gが回収さ
れた。かさ比重を測定すると0.36であった。篩分の
結果を表2に示す。
粉砕されたキトサン(かさ比重0.18)を200Kg
/hrで連続処理した。処理キトサン粒子のかさ比重を
測定すると0.31であった。篩分の結果を表3に示
す。
さ比重0.22)を使用する以外は実施例1と同様に処
理を行ったところ、49gの処理キチンが得られた。か
さ比重を測定すると0.32であった。篩分の結果を表
4に示す。
さ比重0.22)を使用する以外は実施例2と同様に処
理行ったところ、49gの処理キチンが得られた。かさ
比重を測定すると0.34であった。篩分の結果を表5
に示す。
関係は下記の通りである。メッシュ μm >42 >355 42〜 60 355〜250 60〜 83 250〜180 83〜100 180〜149 100〜150 149〜105 <150 <105
0.3未満のキチン・キトサン粒子に、圧縮、衝撃、せ
ん断及び摩擦から選ばれる少なくとも1種の外力を加え
ることによって、かさ比重が0.3以上で、糸毬状の粗
大構造のないキチン・キトサン粒子を得ることができ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 かさ比重が0.3未満のキチン及び/又
はキトサン粒子に、圧縮、衝撃、剪断および摩擦から選
ばれる少なくとも1種の外力を加えて処理し、上記粒子
のかさ比重を0.3以上とすることを特徴とするキチン
及び/又はキトサン粒子の処理方法。 - 【請求項2】 処理が、継続する前記外力の作用による
処理である請求項1に記載のキチン及び/又はキトサン
粒子の処理方法。 - 【請求項3】 処理が、摩砕機、分散機、混練機、混合
機及び衝撃式粉砕機及びジェット式粉砕機以外の粉砕機
から選ばれる1種による処理である請求項1又は2に記
載のキチン及び/又はキトサン粒子の処理方法。 - 【請求項4】 前記粒子を水及び/又は水溶性有機溶剤
と共に処理する請求項1〜3のいずれか1項に記載のキ
チン及び/又はキトサン粒子の処理方法。 - 【請求項5】 水及び/又は水溶性有機溶剤がキチン及
び/又はキトサン粒子量の300重量%以下である請求
項4に記載のキチン及び/又はキトサン粒子の処理方
法。 - 【請求項6】 キチン及び/又はキトサン粒子の平均粒
子径が500μm以下である請求項1〜5のいずれか1
項に記載のキチン及び/又はキトサン粒子の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07327890A JP3104212B2 (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | キチン及び/又はキトサン粒子の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07327890A JP3104212B2 (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | キチン及び/又はキトサン粒子の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143205A true JPH09143205A (ja) | 1997-06-03 |
| JP3104212B2 JP3104212B2 (ja) | 2000-10-30 |
Family
ID=18204132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07327890A Expired - Lifetime JP3104212B2 (ja) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | キチン及び/又はキトサン粒子の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3104212B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4055880B2 (ja) | 1999-06-02 | 2008-03-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理監視用窓部材及びプラズマ処理装置用の電極板 |
-
1995
- 1995-11-24 JP JP07327890A patent/JP3104212B2/ja not_active Expired - Lifetime
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