JPH09143256A - ポリアルキレンナフタレートの蛍光防止方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリアルキレンナフタレートの発する蛍光を
防止する方法を提供することである。 【解決手段】 ポリアルキレンナフタレートに、フェニ
ルキノキサリン含有ジカルボン酸成分を、全ジカルボン
酸成分に対し０．０１〜５モル％共重合することによ
り、、紫外光が当たっても蛍光を発して外観の低下を引
き起こすことのない、各種包装材、飲料ボトル、各種容
器、チューブ、フィルム、カバー、ケースといった用途
に適するポリアルキレンナフタレート樹脂を提供でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は紫外線の照射により
蛍光を発するポリアルキレンナフタレートの蛍光抑制方
法に関し、更に詳しくは特定波長領域において吸収を有
するフェニルキノキサリン類をポリアルキレンナフタレ
ートに共重合することにより、蛍光の発光を抑制する方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリアルキレンナフタレートは近年その
優れた性能を生かして様々な用途に使用されてきてい
る。例えば、ポリエチレンナフタレートは高強度高弾性
率のフィルムとして、各種オーディオテープ、ビデオテ
ープに利用されているし、ポリブチレンテレフタレート
についても各種樹脂用途への利用がなされている。とこ
ろが、ポリアルキレンナフタレートは紫外線の照射によ
り青白い蛍光を発するという特性を有していることが従
来から知られている。このために、食品包装や飲料用ボ
トルといった用途へは外観上の問題が指摘されている。
このようなポリアルキレンナフタレートの蛍光について
は、例えば、Journal of Polymer Science:Polymer Let
ters Edition, Vol.17,227-232(1979) において、ポリ
（１，２−エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシ
レート）フィルムの蛍光について研究がされており、そ
の蛍光の発光種が、ナフタレートのエキシマーから由来
するという内容のことが記載されている。

【０００３】かかるポリアルキレンナフタレートの蛍光
は、米国特許第５３１０８５７号において、芳香族ケト
ンを比較的少量共重合することにより、効率的に蛍光を
抑制できることが報告されている。しかしながら、該芳
香族ケトンが特殊なものとなるため高価になるという問
題、また該芳香族ケトンの反応性が低いために高重合度
のポリマーを得にくいという問題、さらに蛍光抑制効果
が今だ不十分である等の問題がある。

【０００４】さらに、紫外線による発光を抑制する方法
としては、紫外線吸収剤を混合することにより、ポリマ
ーによる紫外光の吸収を抑制する方法が考えられる。こ
の方法は、従来、各種の高分子重合体の紫外線による劣
化を防止する方法として利用されてきた。こうした紫外
線吸収剤としては、サリチル酸系、ベンゾフェノン系、
ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系の各種紫
外線吸収剤が実用化されている。しかし、こうした紫外
線吸収剤は、ヒドロキシ基を分子中に有しているために
ポリエステルと混合した場合に分子量の低下を引き起こ
すとか、耐熱性が不足するために、溶融混合時に分解す
ることがあり効果を発現できないといった問題点があ
る。

【０００５】フェニルキノキサリン類は、例えば、ハロ
ゲン原子を分子内に有する高分子重合体への安定剤とし
ての利用が、米国特許第３３２５４４６号に記載されて
いるが、紫外線吸収剤あるいはポリマーの蛍光防止とい
った用途に利用されている例はない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
アルキレンナフタレートにフェニルキノキサリン類を共
重合することにより、ポリアルキレンナフタレート成形
品の発する蛍光を防止する方法を提供することである。

【０００７】本発明の他の目的は、紫外光が当たっても
蛍光を発して外観の低下を引き起こすことのない、各種
包装材、飲料ボトル、各種容器、チューブ、フィルム、
カバー、ケースといった用途に適するポリアルキレンナ
フタレート樹脂を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、構成単
位の少なくとも８０モル％が下記式（１）

【０００９】

【化７】

【００１０】［式（１）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキ
レン基である］で表される繰り返し単位からなるポリア
ルキレンナフタレートに、下記式（２）

【００１１】

【化８】

【００１２】［式（２）中、Ｒ¹ は水素原子、炭素数１
〜６のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。ｍは１
から４の整数である。］で表されるフェニルキノキサリ
ン含有ジカルボン酸成分を、全ジカルボン酸成分に対し
０．０１〜５モル％共重合することを特徴とするポリア
ルキレンナフタレート成形体の蛍光防止方法により達成
することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下本発明について詳述する。

【００１４】本発明で用いられるポリアルキレンナフタ
レートは、構成単位として、下記式（１）

【００１５】

【化９】

【００１６】［式（１）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキ
レン基である］で表される繰り返し単位を少なくとも８
０モル％含有する。ここで、Ｒは炭素数２〜６のアルキ
レン基を示し、具体的にはエチレン基、ブチレン基、
２，２−ジメチルプロピレン基等が挙げられる。該ポリ
アルキレンナフタレートとしては具体的には、ポリ
（１，２−エチレン−２、６−ナフタレンジカルボキシ
レート）、ポリ（１，４−ブチレン−２，６−ナフタレ
ンジカルボキシレート）、ポリ（１，３−（２，２−ジ
メチル）プロピレン−２，６−ナフタレンジカルボキシ
レート）およびそれらの共重合体を例示できる。これら
のうちポリ（１，２−エチレン−２，６−ナフタレンジ
カルボキシレート）が好ましい。

【００１７】本発明で用いられるポリアルキレンナフタ
レートは、上記式（１）で示される繰り返し単位から主
としてなり、かかる単位を少なくとも８０モル％有する
が、それ以外にも以下に示すような構成成分を２０モル
％を超えない範囲で共重合成分として含んでいても良
い。かかる共重合の酸成分としては、例えばテレフタル
酸、イソフタル酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、
ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン
酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸等
の脂肪族ジカルボン酸があげられる。また、共重合のジ
オール成分としては、１，３−プロピレングリコール、
１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサメチレン
グリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の
脂肪族のジオールがあげられる。こうした共重合成分の
共重合量は好ましくは１０モル％以下である。

【００１８】本発明におけるポリアルキレンナフタレー
トは、フェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン混合溶媒（重量比６０／４０）中３５℃で測定した固
有粘度が０．３以上であることが必要である。固有粘度
が０．３未満の場合には、成型品の強度が不足し好まし
くない。固有粘度は好ましくは０．４以上、更に好まし
くは０．５以上である。

【００１９】本発明によれば、ポリアルキレンナフタレ
ートに、ジカルボン成分として下記式（２）

【００２０】

【化１０】

【００２１】で示されるフェニルキノキサリン含有ジカ
ルボン酸成分を共重合せしめることによって、ポリアル
キレンナフタレートの発する蛍光を抑制することができ
る。

【００２２】上記式（２）において、Ｒ¹ は水素原子、
炭素数１〜６のアルキル基、またはハロゲン原子を表
す。炭素数１〜６のアルキル基としては具体的には、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、
イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルを、また
はハロゲン原子としてはクロル、ブロムを挙げることが
できる。ｍは１から４の整数である。

【００２３】上記式（２）で表されるフェニルキノキサ
リン含有ジカルボン酸成分としては具体的には２，３−
ビス（４−カルボキシフェニル）キノキサリン、２，３
−ビス（３−カルボキシフェニル）キノキサリン、２，
３−ビス（４−カルボキシフェニル）−５−メチル−キ
ノキサリン、２，３−ビス（４−カルボキシフェニル）
−６−メチル−キノキサリン、２，３−ビス（４−カル
ボキシフェニル）−６−クロル−キノキサリン、２，３
−ビス（３−カルボキシフェニル）−６−メチル−キノ
キサリン、２，３−ビス（３−カルボキシフェニル）−
６−クロル−キノキサリン、２，３−ビス（４−メトキ
シカルボニルフェニル）キノキサリン、２，３−ビス
（４−エトキシカルボニルフェニル）キノキサリン等を
挙げることができる。

【００２４】本発明では、上記フェニルキノキサリン含
有ジカルボン酸成分を、ポリアルキレンナフタレートを
構成する全ジカルボン酸成分に対し、０．０１〜５モル
％共重合することを特徴とする。フェニルキノキサリン
含有ジカルボン酸成分の共重合量が０．０１モル％より
少ないと本発明の目的とするポリアルキレンナフタレー
トの蛍光防止効果が不十分となり、また５モル％より多
いとポリアルキレンナフタレートが本来有する耐熱性、
機械特性等が低下して好ましくない。共重合量としては
全ジカルボン酸成分に対して好ましくは０．１〜４モル
％、より好ましくは０．３〜３モル％である。

【００２５】フェニルキノキサリン含有ジカルボン酸成
分をポリアルキレンナフタレートに共重合する方法とし
ては、当該分野における従来公知の方法を用いることが
できる。その際、フェニルキノキサリン含有ジカルボン
酸成分は上記式（２）で示されるジカルボン酸成分をジ
カルボン酸の形態として使用してもよいし、メチルエス
テル等のエステル形成性誘導体として使用することもで
きる。

【００２６】また、本発明によれば、フェニルキノキサ
リン含有ジカルボン酸成分が高濃度に共重合されたポリ
アルキレンナフタレートを調製し、これと該フェニルキ
ノキサリン含有ジカルボン酸成分を含まないポリアルキ
レンナフタレートのホモポリマーとを、フェニルキノキ
サリン含有ジカルボン酸成分を全ジカルボン酸成分、す
なわち、フェニルキノキサリン含有ジカルボン酸成分が
高濃度に共重合されたポリアルキレンナフタレートを構
成するジカルボン酸成分と、該フェニルキノキサリン含
有ジカルボン酸成分を含まないポリアルキレンナフタレ
ートのホモポリマーを構成するジカルボン酸成分との合
計に対し０．０１〜５モル％、好ましくは０．１〜４モ
ル％、より好ましくは０．３〜３モル％となるように混
合調製して、目的とするポリアルキレンナフタレートか
らの蛍光の発光を抑制することもできる。

【００２７】すなわち、本発明は、構成単位の少なくと
も８０モル％が下記式（１）

【００２８】

【化１１】

【００２９】［式（１）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキ
レン基である。］で表される繰り返し単位からなるポリ
アルキレンナフタレートに、下記式（３）

【００３０】

【化１２】

【００３１】で表される２，６−ナフタレンジカルボン
酸成分１〜９５モル％と下記式（２）

【００３２】

【化１３】

【００３３】［式（２）中、Ｒ¹ は水素原子、炭素数１
〜６のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。ｍは１
から４の整数である。］で表されるフェニルキノキサリ
ン含有ジカルボン酸成分５〜９９モル％とからなるジカ
ルボン酸成分、及び下記式（５）

【００３４】

【化１４】

【００３５】［式（５）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキ
レン基である。］で表されるジオール成分から主として
なるポリエステルを混合することを特徴とするポリアル
キレンナフタレートの蛍光防止方法によって達成するこ
ともできる。

【００３６】上記式（１）で表される繰り返し単位から
なるポリアルキレンナフタレートは、前記した説明から
明らかであろう。

【００３７】かかるポリアルキレンナフタレートに混合
するポリエステルを構成するジカルボン酸成分は、２，
６−ナフタレンジカルボン酸成分１〜９５モル％と、前
記に説明したフェニルキノキサリン含有ジカルボン酸成
分５〜９９モル％とからなる。フェニルキノキサリン含
有ジカルボン酸成分の割合は大きいほどポリマーが着色
する傾向があるので、好ましくは８０モル％以下、より
好ましくは６０モル％以下、さらにより好ましくは５０
モル％以下である。

【００３８】また、かかるポリエステルを構成するジオ
ール酸成分は、下記式（５）

【００３９】

【化１５】

【００４０】で表される。ここで、Ｒは炭素数２〜６の
アルキレン基を示し、具体的にはエチレン基、ブチレン
基、２，２−ジメチルプロピレン基等が挙げられ、好ま
しくはエチレン基である。

【００４１】かかるフェニルキノキサリン含有ジカルボ
ン酸成分を高濃度にポリアルキレンナフタレートに共重
合する方法は、前記した方法に準じて行うことができ
る。

【００４２】かかるフェニルキノキサリン含有ジカルボ
ン酸成分が高濃度に共重合されたポリアルキレンナフタ
レートと該フェニルキノキサリン含有ジカルボン酸成分
を含まないポリアルキレンナフタレートのホモポリマー
とを混合するには、従来公知の混合方法が使用できる。
例えば、２軸押し出し機を使用してポリアルキレンナフ
タレートのホモポリマーと、フェニルキノキサリン含有
ジカルボン酸成分が高濃度に共重合されたポリアルキレ
ンナフタレートとを同時に混合する方法が好ましい。混
合の温度は通常２５０〜３２０℃である。

【００４３】フェニルキノキサリン含有ジカルボン酸成
分におけるフェニルキノキサリン構造は３００〜４００
ｎｍの紫外線波長域において吸収性を有し、これが蛍光
防止効果を発現する理由と考えられる。しかしポリアル
キレンナフタレートの蛍光は励起されたナフタレン環が
基底状態のナフタレン環と励起２量体、いわゆるエキシ
マーを形成し、これが失活する際に発光する現象であ
り、フェニルキノキサリン構造は単にナフタレン環が吸
収する紫外光を吸収することにより蛍光を防止するので
はなく、励起ナフタレンからフェニルキノキサリン骨格
へのエネルギー移動によりエキシマー形成を阻害するこ
とが主要な蛍光防止機構であると考えられる。

【００４４】本発明によれば、上述のフェニルキノキサ
リン含有ジカルボン酸成分を共重合することによりポリ
アルキレンナフタレートの蛍光を効果的に抑制すること
ができるが、場合によりさらに下記式（６）

【００４５】

【化１６】

【００４６】［式（６）中Ｘ¹ は上記式に表されたＸ¹
からの２本の結合手が１位、２位の位置関係にある、置
換基を含んでいてもよい２価の芳香族残基であり；ｎは
１、２または３であり、Ｒ² はｎ価の芳香族炭化水素残
基であり、これは更にヘテロ原子を含んでいてもよい。
また、ｎ＝２のとき直接結合であることが出来る。］に
表される環状イミノエステル類、及び／又は下記式
（７）

【００４７】

【化１７】

【００４８】［式（７）中、Ｒ³ は水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜２０の分岐を含んでいても良いアルキ
ル基、炭素数１〜２０の分岐を含んでいてもよいアルキ
ルオキシ基、炭素数１〜２０の分岐を含んでいても良い
アルキルオキシカルボニル基、または炭素数１〜２０の
分岐を含んでいても良いアルキルカルボニル基を表し、
Ｒ¹ 、ｍは上記式（２）と同じである。］に表されるフ
ェニルキノキサリン類を、少量ブレンドしても差し支え
ない。

【００４９】上記式（６）で表される環状イミノエステ
ル類としては例えば以下のものを挙げることができる。

【００５０】ｎ＝１の場合の化合物 ２―（１―又は２―ナフチル）―３，１―ベンゾオキサ
ジン―４―オン、２―（４―ビフェニル）―３，１―ベ
ンゾオキサジン―４―オン、２―ｐ―ニトロフェニル―
３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、２―ｍ―ニトロ
フェニル―３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、２―
ｐ―ベンゾイルフェニル―３，１―ベンゾオキサジン―
４―オン、２―ｐ―メトキシフェニル―３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン、２―ｏ―メトキシフェニル―
３，１―ベンゾオキサジン―４―オン、２―ｐ―（又は
ｍ―）フタルイミドフェニル―３，１―ベンゾオキサジ
ン―４―オン、Ｎ―フェニル―４―（３，１―ベンゾオ
キサジン―４―オン―２―イル）フタルイミド、Ｎ―ベ
ンゾイル―４―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン
―２―イル）アニリン、Ｎ―ベンゾイル―Ｎ―メチル―
４―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２―イ
ル）アニリン、２―［ｐ―（Ｎ―フェニル、Ｎ―メチル
カルボニル）フェニル］―３，１―ベンゾオキサジン―
４―オン、

【００５１】ｎ＝２の場合の化合物 ２，２′―ビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン）、２，２′―ｐ―フェニレンビス（３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン）、２，２′―（４，４′―ジフ
ェニレン）ビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン）、２，２′―（２，６又は１，５―ナフタレン）ビ
ス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、２，２′
―（２―メチル―ｐ―フェニレン）ビス（３，１―ベン
ゾオキサジン―４―オン）、２，２′―（２―ニトロ―
ｐ―フェニレン）ビス（３，１―ベンゾオキサジン―４
―オン）、２，２′―（２―クロロ―ｐ―フェニレン）
ビス（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン）、Ｎ―ｐ
―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２―イル）
フェニル、４―（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン
―２―イル）フタルイミド、Ｎ―ｐ―（３，１―ベンゾ
オキサジン―４―オン―２―イル）ベンゾイル、４―
（３，１―ベンゾオキサジン―４―オン―２―イル）ア
ニリル、

【００５２】ｎ＝３の場合の化合物 １，３，５―トリ（３，１―ベンゾオキサジン―４―オ
ン―２―イル）ナフタレン、２，４，６―トリ（３，１
―ベンゾオキサジン―４―オン―２―イル）ナフタレ
ン、

【００５３】また上記式（７）で表されるフェニルキノ
キサリン類としては例えば以下のものを挙げることがで
きる。

【００５４】２，３−ジフェニルキノキサリン、２，３
−ビス（４−メトキシカルボニルフェニル）キノキサリ
ン、２，３−ビス（４−メトキシフェニル）キノキサリ
ン、２，３−ジフェニル−６−メチル−キノキサリン、
２，３−ジフェニル−６−クロル−キノキサリン、２，
３−ビス（４−アセトキシフェニル）キノキサリン、
２，３−ビス（４−クロルフェニル）キノキサリン等。

【００５５】これらの化合物の使用量は上述のフェニル
キノキサリン含有ジカルボン酸共重合ポリアルキレンナ
フタレート１００重量部に対し、３重量％以下程度とす
ることが好ましい。

【００５６】本発明における、フェニルキノキサリン含
有ジカルボン酸が共重合されたポリアルキレンナフタレ
ートは、フィルム、ボトル等の成形体としたのち、ある
いは成形体としつつ、かかるポリアルキレンナフタレー
ト成形体の表面に、ベンゾトリアゾール系化合物、シア
ノアクリレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベ
ンゾオキサジノン系化合物からなる群より選ばれる少な
くとも一種の化合物を含有する被覆層を形成することも
可能である。

【００５７】ここでベンゾトリアゾール系の化合物とし
ては、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェ
ノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）
−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノ
ール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−
４−メチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６
−ジ−ｔ−アミルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−４−ｔ−ブチルフェノール，２
−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチ
ルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール，２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等を例示するこ
とができる。

【００５８】シアノアクリレート系化合物としては、エ
チル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリレート等があげられる。

【００５９】ベンゾフェノン系化合物としては、２−ヒ
ドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸等をあ
げることができる。

【００６０】ベンゾオキサジノン系化合物としては、２
−ｐ−ニトロフェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４
−オン、２−（ｐ−ベンゾイルフェニル）−３，１−ベ
ンゾオキサジン−４−オン、２−（２−ナフチル）−
３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２，２’−ｐ−
フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オ
ン）、２，２’−（２，６−ナフチレン）ビス（３，１
−ベンゾオキサジン−４−オン）等を例示することがで
きる。

【００６１】被覆層を設ける場合の膜厚は３０μｍ以下
程度とすることが好ましく、２０μｍ以下程度とするこ
とがより好ましい。

【００６２】上記表面被覆層は、上記化合物と、ポリア
ルキレンナフタレート成形体の表面被覆層を形成しうる
樹脂とから主としてなる。こうした表面被覆層を形成し
うる樹脂としては、ポリエステルレジン、アクリル系樹
脂、ポリエチレンテレフタレート等の熱可塑性樹脂、紫
外線硬化樹脂等従来公知のものを挙げることができる。
また表面被覆層は、従来公知の方法で作成可能であり、
例えば、溶媒にベンゾトリアゾール系化合物、シアノア
クリレート系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾ
オキサジノン系化合物からなる群より選ばれる少なくと
も一種の化合物と被覆用樹脂とを溶解しておいたものを
作成し、それをポリアルキレンナフタレート成形体に塗
布したものを乾燥した後、熱処理、あるいは紫外線照射
して作成する方法を挙げることができる。

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、ポリアルキレンナフタ
レートにフェニルキノキサリン含有ジカルボン酸成分を
共重合することにより、フィルム、ボトルなど、蛍光に
よって美観の損なわれることのないポリアルキレンナフ
タレート成形体を提供することが可能である。こうした
ポリアルキレンナフタレート成形体は、耐熱性、剛性、
透明性、加工性、取り扱い性、衛生性、再利用性などに
優れ、その産業的意義は大きい。

【００６４】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明は実施例にのみ限定されるものではない。実施例中
「部」は「重量部」を表すものとする。実施例において
ポリマーの固有粘度はフェノール／テトラクロロエタン
混合溶媒（重量比６０／４０）中３５℃での値である。
ポリマーの融点（Ｔｍ）はＤＳＣを用い、１０℃／分の
昇温速度で測定した。

【００６５】蛍光の発光強度は、日立製作所（株）製Ｆ
−２０００日立蛍光分光光度計を用いて、励起波長３７
５ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）、蛍光の発光領域４００
〜５５０ｎｍ（バンドパス１０ｎｍ）における発光量の
相対比較により実施した。その際、実施例での発光強度
Ｉ、参考例の発光強度Ｉ₀ とし次式により算出した。

【００６６】

【数１】発光強度（％） ＝（Ｉ／Ｉ₀）×１００

【００６７】［参考例１］固有粘度０．７１のポリ
（１，２−エチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシ
レート）（以下ＰＥＮと省略する）を、３０ｍｍφ同方
向回転２軸エクストルーダー（池貝鉄工（株）製、ＰＣ
Ｍ３０）を用いて、ポリマー温度２９０℃、平均滞留時
間約１５分の条件下で、巾１５０ｍｍのＴダイより溶融
押し出し、平均膜厚０．２ｍｍの未延伸フィルムを得
た。このフィルムの蛍光強度（Ｉ₀ ）を測定し、実施例
の計算に利用した。

【００６８】［実施例１］２，６−ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチルエステル２３９部、２，３−ビス（４−メ
トキシカルボニルフェニル）キノキサリン７部、エチレ
ングリコール１２４部およびテトラブチルチタネート
０．０５部を撹拌装置、精留塔を備えた留出系を有する
反応容器に入れ、１８０〜２２０℃でエステル交換反応
を実施した。メタノール留出量は６１部であった。次い
で反応物を撹拌装置、真空留出系を有する反応容器に移
し、常圧下窒素気流中２９０℃で４５分間反応させた
後、１５分かけて２０ｍｍＨｇまで徐々に減圧とし、同
条件で１０分間保持した後、０．５ｍｍＨｇ以下の高真
空条件として９０分間反応させた。得られたポリマーは
固有粘度０．６３、Ｔｍ２５７．６℃であった。

【００６９】得られたポリマーを参考例と同様の方法で
フィルム化し、このフィルムの蛍光発光強度を測定し
て、蛍光強度の減少率を算出した。結果を表１に示す。

【００７０】［実施例２］２，６−ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチルエステル２４１部、２，３−ビス（４−メ
トキシカルボニルフェニル）キノキサリン４部を用いる
以外は実施例１と同様にポリマーを製造した。得られた
ポリマーは固有粘度０．６３、Ｔｍ ２６２．７℃で
あった。

【００７１】次に参考例と同様の方法でフィルム化し、
このフィルムの蛍光発光強度を測定して蛍光強度の減少
率を算出した。結果を表１に示す。

【００７２】［実施例３］実施例２で得られたポリマー
１００部に、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−
ベンゾオキサジン−４−オン）２重量部をドライブレン
ドし、参考例と同様の方法により溶融製膜した。得られ
たフィルムの蛍光強度減少率を表１に示す。

【００７３】

【表１】

【００７４】［実施例４、５］２，６−ナフタレンジカ
ルボン酸ジメチルエステル１２２部、２，３−ビス（４
−メトキシカルボニルフェニル）キノキサリン１９９
部、エチレングリコール１２４部およびテトラブチルチ
タネート０．０５部を撹拌装置、精留塔を備えた留出系
を有する反応容器に入れ、１８０〜２２０℃でエステル
交換反応を実施した。メタノール留出量は６０部であっ
た。次いで反応物を撹拌装置、真空留出系を有する反応
容器に移し、常圧下窒素気流中２９０℃で４５分間反応
させた後、１５分かけて２０ｍｍＨｇまで徐々に減圧と
し、同条件で１０分間保持した後、０．５ｍｍＨｇ以下
の高真空条件として１２０分間反応させた。得られたポ
リマーは固有粘度０．５９、Ｔｇ１４８℃であった。

【００７５】得られたマスターポリマーの表２に示す所
定量を、固有粘度０．７１のＰＥＮ１００部にブレンド
し、３０ｍｍφ同方向回転２軸エクストルーダー（池貝
鉄工（株）製、ＰＣＭ３０）を用いて、ポリマー温度２
９０℃、平均滞留時間約１５分の条件下で、巾１５０ｍ
ｍのＴダイより溶融押し出し、平均膜厚０．２ｍｍの未
延伸フィルムを得た。得られたフィルムの蛍光発光強度
を測定して、蛍光強度の減少率を算出した。結果を表２
に示す。

【００７６】

【表２】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 構成単位の少なくとも８０モル％が下記
   式（１） 【化１】 ［式（１）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン基であ
   る。］で表される繰り返し単位からなるポリアルキレン
   ナフタレートに、下記式（２） 【化２】 ［式（２）中、Ｒ¹ は水素原子、炭素数１〜６のアルキ
   ル基、またはハロゲン原子を表す。ｍは１から４の整数
   である。］で表されるフェニルキノキサリン含有ジカル
   ボン酸成分を、全ジカルボン酸成分に対し０．０１〜５
   モル％共重合することを特徴とするポリアルキレンナフ
   タレートの蛍光防止方法。
2. 【請求項２】 構成単位の少なくとも８０モル％が下記
   式（１） 【化３】 ［式（１）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン基であ
   る。］で表される繰り返し単位からなるポリアルキレン
   ナフタレートに、下記式（３） 【化４】 で表される２，６−ナフタレンジカルボン酸成分１〜９
   ５モル％と下記式（２） 【化５】 ［式（２）中、Ｒ¹ は水素原子、炭素数１〜６のアルキ
   ル基、またはハロゲン原子を表す。ｍは１から４の整数
   である。］で表されるフェニルキノキサリン含有ジカル
   ボン酸成分５〜９９モル％とからなるジカルボン酸成
   分、及び下記式（５） 【化６】 ［式（５）中、Ｒは炭素数２〜６のアルキレン基であ
   る。］で表されるジオール成分から主としてなるポリエ
   ステルを混合することを特徴とするポリアルキレンナフ
   タレートの蛍光防止方法。