JPH0914949A - 超音波形検出装置用の遅延ラインおよびその使用方法 - Google Patents
超音波形検出装置用の遅延ラインおよびその使用方法Info
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- JPH0914949A JPH0914949A JP8036513A JP3651396A JPH0914949A JP H0914949 A JPH0914949 A JP H0914949A JP 8036513 A JP8036513 A JP 8036513A JP 3651396 A JP3651396 A JP 3651396A JP H0914949 A JPH0914949 A JP H0914949A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 遅延ライン構成を有する検出装置であって、
検出装置による測定が、遅延ラインの温度変化の影響を
補償するよう、調整されるようにする。 【解決手段】 信号を超音波トランスジューサから遅延
ラインへ第1の方向に送出し、信号の第1の部分がトラ
ンスジューサからインタフェイスまでを往復伝搬する時
間t1 を測定し、t1 を用いて信号の第2の部分がトラ
ンスジューサから遅延ラインの対抗する表面までを往復
伝搬する予想時間t2 を演算し、信号の第3の部分がト
ランスジューサから被膜・基板間のインタフェイスまで
を往復伝搬する時間t3 を測定し、そして、t2 とt3
の差にもとづいて被膜の厚さX3 −X2 を演算する。
検出装置による測定が、遅延ラインの温度変化の影響を
補償するよう、調整されるようにする。 【解決手段】 信号を超音波トランスジューサから遅延
ラインへ第1の方向に送出し、信号の第1の部分がトラ
ンスジューサからインタフェイスまでを往復伝搬する時
間t1 を測定し、t1 を用いて信号の第2の部分がトラ
ンスジューサから遅延ラインの対抗する表面までを往復
伝搬する予想時間t2 を演算し、信号の第3の部分がト
ランスジューサから被膜・基板間のインタフェイスまで
を往復伝搬する時間t3 を測定し、そして、t2 とt3
の差にもとづいて被膜の厚さX3 −X2 を演算する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、超音波形計測器用
の検出装置、特に、遅延ライン構成であって、遅延ライ
ンの温度による変化を補償するために検出装置による測
定が調整されることを可能にするもの、に関する。
の検出装置、特に、遅延ライン構成であって、遅延ライ
ンの温度による変化を補償するために検出装置による測
定が調整されることを可能にするもの、に関する。
【0002】
【従来の技術】超音波は、音響的に相異なる特性をも
つ、基板上の表面の損傷または被膜の厚さを調査するた
めの1つの理想的な物理的機構を提供する。被膜の音響
特性とは異なる音響特性をもつ基板に被膜が適用される
と、音響的な被膜対基板のインタフェイスが作り出され
る。そのようなインタフェイスにおいて、または損傷部
において、超音波振動は部分的に反射される。
つ、基板上の表面の損傷または被膜の厚さを調査するた
めの1つの理想的な物理的機構を提供する。被膜の音響
特性とは異なる音響特性をもつ基板に被膜が適用される
と、音響的な被膜対基板のインタフェイスが作り出され
る。そのようなインタフェイスにおいて、または損傷部
において、超音波振動は部分的に反射される。
【0003】例えば、超音波振動は、これはまたインパ
ルスとして知られているが、共振の圧電気要素トランス
ジューサを用いて被膜のなかへ送出されることができ
る。また、同じトランスジューサが、インパルスが被膜
と基板のインタフェイスで反射されてトランスジューサ
へ返還されるとき発生する反響(エコー)を聴取するた
めに設定されることができる。トランスジューサの出力
は、インパルスが送出されてしまった後、知られている
期間の間、記録されることができる。この期間は反響の
ウインドウとして規定される。反響のウインドウは、関
心対象の予想される反響の時間と重複するよう規定され
る。
ルスとして知られているが、共振の圧電気要素トランス
ジューサを用いて被膜のなかへ送出されることができ
る。また、同じトランスジューサが、インパルスが被膜
と基板のインタフェイスで反射されてトランスジューサ
へ返還されるとき発生する反響(エコー)を聴取するた
めに設定されることができる。トランスジューサの出力
は、インパルスが送出されてしまった後、知られている
期間の間、記録されることができる。この期間は反響の
ウインドウとして規定される。反響のウインドウは、関
心対象の予想される反響の時間と重複するよう規定され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】反響のウインドウの間
に記録された反響を分析することにより、損傷または、
被覆と基板のインタフェイスの場所を決定することが可
能である。被膜の材料内における音響の速度とインタフ
ェイスの反響の時間が知られていれば、被膜の厚さは決
定されることができる。換言すれば、被膜の厚さは、被
膜材料を通る振動の速度に、振動が被膜に進入し、イン
タフェイスで反射し、被膜から外方へ送出されるに要す
る時間を乗じた積を2で除算したもので決定されること
ができる。 厚さ=(速度×時間)/2
に記録された反響を分析することにより、損傷または、
被覆と基板のインタフェイスの場所を決定することが可
能である。被膜の材料内における音響の速度とインタフ
ェイスの反響の時間が知られていれば、被膜の厚さは決
定されることができる。換言すれば、被膜の厚さは、被
膜材料を通る振動の速度に、振動が被膜に進入し、イン
タフェイスで反射し、被膜から外方へ送出されるに要す
る時間を乗じた積を2で除算したもので決定されること
ができる。 厚さ=(速度×時間)/2
【0005】導出される厚さの分解能は、サンプリング
される反響の一時的な分解能により制限される。サンプ
リングされる反響の一時的な分解能を改良することは、
導出される厚さの分解能を直接に改良するはずである。
される反響の一時的な分解能により制限される。サンプ
リングされる反響の一時的な分解能を改良することは、
導出される厚さの分解能を直接に改良するはずである。
【0006】米国特許出願第08/127,529号に
は改良された超音波形計測器の詳細な説明が記載されて
いる。米国特許出願第08/127,529号の主題は
参照事項として本明細書に組込まれる。
は改良された超音波形計測器の詳細な説明が記載されて
いる。米国特許出願第08/127,529号の主題は
参照事項として本明細書に組込まれる。
【0007】超音波を表面の近くの損傷、例えば薄い被
膜についての場合、を調査するのに用いるときは、超音
波トランスジューサの励起信号に関連する雑音を分離す
るために遅延ラインまたはスタンドオフのブロックがし
ばしば要求される。したがって表面近くの損傷を実用的
に調査することは、そのような音響的遅延ラインを使用
することを必要とする。
膜についての場合、を調査するのに用いるときは、超音
波トランスジューサの励起信号に関連する雑音を分離す
るために遅延ラインまたはスタンドオフのブロックがし
ばしば要求される。したがって表面近くの損傷を実用的
に調査することは、そのような音響的遅延ラインを使用
することを必要とする。
【0008】接近して位置する損傷について反射時間を
決定することは、損傷または被膜・基板のインタフェイ
スが調査の周波数についての1波長より小である場合に
は、困難なことである。この限界を克服するために、幾
つかの技術、例えば超音波インパルスの周波数を増大さ
せること、または整合する遅延ラインの使用と結合させ
て、比較的低い周波数を使用すること、を用いることが
できる。
決定することは、損傷または被膜・基板のインタフェイ
スが調査の周波数についての1波長より小である場合に
は、困難なことである。この限界を克服するために、幾
つかの技術、例えば超音波インパルスの周波数を増大さ
せること、または整合する遅延ラインの使用と結合させ
て、比較的低い周波数を使用すること、を用いることが
できる。
【0009】高い周波数の広帯域の超音波トランスジュ
ーサについては、表面の反響を損傷の反響から分離する
ことが可能である。ポリスチレンにおいては、100MH
z の超音波信号は約10.6μmの波長を有し、10MH
z の信号は106μmの波長を有する。100MHz の信
号がより精密な詳細を解析できることは明瞭なことであ
る。
ーサについては、表面の反響を損傷の反響から分離する
ことが可能である。ポリスチレンにおいては、100MH
z の超音波信号は約10.6μmの波長を有し、10MH
z の信号は106μmの波長を有する。100MHz の信
号がより精密な詳細を解析できることは明瞭なことであ
る。
【0010】調査対象である被膜の材料に適合した遅延
ラインを使用することは、表面進入の反響を損傷または
被膜の遠い側からの反響から分離する必要性を排除する
ことによりより低い周波数を使用することを可能にす
る。幾つかの理由によりより低い周波数を用いることは
有利なことであり、そのなかでも、帯域幅の要求が低減
する結果として装備の経費と複雑性が低減することであ
る。さらに、超音波トランスジューサの製造が相当に容
易になるのである。
ラインを使用することは、表面進入の反響を損傷または
被膜の遠い側からの反響から分離する必要性を排除する
ことによりより低い周波数を使用することを可能にす
る。幾つかの理由によりより低い周波数を用いることは
有利なことであり、そのなかでも、帯域幅の要求が低減
する結果として装備の経費と複雑性が低減することであ
る。さらに、超音波トランスジューサの製造が相当に容
易になるのである。
【0011】適合した遅延ラインを製造する場合には遅
延要素の音響的特性は、理想的なものより低い可能性が
あるが、その理由は材料の特性に調査対象である被膜の
特性が加重されるからである。相異なる基板に適用され
た薄い重合物基礎の被膜を考えてみよう。被膜が重合物
であるから、遅延ラインは同様な材料からなるものでな
ければならぬ。適合した遅延ラインを使用することは、
遅延のチップの反射が知られておりそれにより厚さまた
は損傷の場所を決定するため損傷からの反射と区別され
ることができることを必要にする。代表的には、遅延の
チップの反射は、超音波トランスジューサを試験片から
除去し、振動が超音波トランスジューサから遅延ライン
材料と空気のインタフェイスへ進行し超音波トランスジ
ューサへ帰還するに要する時間を測定することにより得
ることができる。
延要素の音響的特性は、理想的なものより低い可能性が
あるが、その理由は材料の特性に調査対象である被膜の
特性が加重されるからである。相異なる基板に適用され
た薄い重合物基礎の被膜を考えてみよう。被膜が重合物
であるから、遅延ラインは同様な材料からなるものでな
ければならぬ。適合した遅延ラインを使用することは、
遅延のチップの反射が知られておりそれにより厚さまた
は損傷の場所を決定するため損傷からの反射と区別され
ることができることを必要にする。代表的には、遅延の
チップの反射は、超音波トランスジューサを試験片から
除去し、振動が超音波トランスジューサから遅延ライン
材料と空気のインタフェイスへ進行し超音波トランスジ
ューサへ帰還するに要する時間を測定することにより得
ることができる。
【0012】この伝搬時間は将来の使用のために保持さ
れ、検出装置の「零」と普通に称される。遅延ラインの
材料が試験片に結合されるときには、振動が超音波トラ
ンスジューサから試験片の遠い側へ進行し、超音波トラ
ンスジューサへ帰還するに要する時間の測定値が得られ
る。試験片から得られた時間から検出装置の「零」時間
を減算すると、試験片の厚さが容易に計算されることが
できる。
れ、検出装置の「零」と普通に称される。遅延ラインの
材料が試験片に結合されるときには、振動が超音波トラ
ンスジューサから試験片の遠い側へ進行し、超音波トラ
ンスジューサへ帰還するに要する時間の測定値が得られ
る。試験片から得られた時間から検出装置の「零」時間
を減算すると、試験片の厚さが容易に計算されることが
できる。
【0013】このような技術における1つの困難性は、
検出装置の「零」時間が、遅延ラインの材料における速
度の変化のために、温度の変動にしたがって変化する可
能性があることである。さらに、代表的な構成をもつ遅
延ラインは被膜の厚さと比較すると比較的に長いもので
ある。その結果として、検出装置の「零」暫定の場所に
おける温度関連の速度変化に関連する誤差は重大なこと
である。
検出装置の「零」時間が、遅延ラインの材料における速
度の変化のために、温度の変動にしたがって変化する可
能性があることである。さらに、代表的な構成をもつ遅
延ラインは被膜の厚さと比較すると比較的に長いもので
ある。その結果として、検出装置の「零」暫定の場所に
おける温度関連の速度変化に関連する誤差は重大なこと
である。
【0014】薄い被膜を測定する場合には、温度の小さ
な変化、例えば超音波に単に触れるだけで生ずる変化
は、被膜の厚さ自体の100%のオーダーで測定誤差を
生じさせる可能性がある。
な変化、例えば超音波に単に触れるだけで生ずる変化
は、被膜の厚さ自体の100%のオーダーで測定誤差を
生じさせる可能性がある。
【0015】そのような温度変化を補償する従来技術の
方法はPittaroに与えられた米国特許第4437
332号に開示されている。このPittaroの米国
特許は、振動が知られている厚さをもつ較正用試料に対
して往復するに要する時間を測定することにより計測装
置を較正する方法を開示している。次いで、このシステ
ムは、伝搬速度の変化についてシステムを補償するため
にオフセット時間の値を計算する。次いでこのオフセッ
ト時間の値は未知の寸法の対象を測定するのに用いられ
る。しかし、このシステムは、遅延ラインを知られてい
る厚さをもつ較正用試料に適用することにより較正され
ることができるだけのことである。したがって、システ
ムを較正することは、時間のかかることなのであって、
測定のたびごとに容易に行うことができるというもので
はない。その結果として、遅延ラインは、測定に悪影響
を及ぼす較正ごとに、取扱いまたはその他の原因の結果
として、温度の変化を経験する可能性がある。
方法はPittaroに与えられた米国特許第4437
332号に開示されている。このPittaroの米国
特許は、振動が知られている厚さをもつ較正用試料に対
して往復するに要する時間を測定することにより計測装
置を較正する方法を開示している。次いで、このシステ
ムは、伝搬速度の変化についてシステムを補償するため
にオフセット時間の値を計算する。次いでこのオフセッ
ト時間の値は未知の寸法の対象を測定するのに用いられ
る。しかし、このシステムは、遅延ラインを知られてい
る厚さをもつ較正用試料に適用することにより較正され
ることができるだけのことである。したがって、システ
ムを較正することは、時間のかかることなのであって、
測定のたびごとに容易に行うことができるというもので
はない。その結果として、遅延ラインは、測定に悪影響
を及ぼす較正ごとに、取扱いまたはその他の原因の結果
として、温度の変化を経験する可能性がある。
【0016】Pittaroに与えられた米国特許に開
示される遅延ラインはまた、ノッチを包含し、その場合
に、超音波トランスジューサとノッチの間を往復して進
行するに要する時間は遅延ラインを識別するのに用いら
れることができる。しかし、遅延ラインが温度変化を経
験しそのことが遅延ラインにおける信号の伝搬速度に影
響を及ぼすならば、不正確な識別が行われる可能性があ
る。
示される遅延ラインはまた、ノッチを包含し、その場合
に、超音波トランスジューサとノッチの間を往復して進
行するに要する時間は遅延ラインを識別するのに用いら
れることができる。しかし、遅延ラインが温度変化を経
験しそのことが遅延ラインにおける信号の伝搬速度に影
響を及ぼすならば、不正確な識別が行われる可能性があ
る。
【0017】本発明の1つの目的は、超音波を用いる調
査用の遅延ラインであって、単純な過程により、遅延ラ
インを用いるシステムが、温度により誘起される変化、
例えば遅延ラインにおける温度により誘起される変化、
を考慮して較正されることができるもの、を提供するこ
とにある。
査用の遅延ラインであって、単純な過程により、遅延ラ
インを用いるシステムが、温度により誘起される変化、
例えば遅延ラインにおける温度により誘起される変化、
を考慮して較正されることができるもの、を提供するこ
とにある。
【0018】本発明の他の目的は、表面に近い欠陥例え
ば薄い被膜における欠陥または被膜の厚さを測定するた
めに適合した遅延ラインのトランスジューサの使用を可
能にする技術と検出装置を教示することにあり、これ
は、温度補償された遅延チップ暫定信号を発生させるこ
とにより行われ、この暫定信号は厚さを演算するのに用
いられる補償された検出装置の「零」の信号として用い
られるためのものである。
ば薄い被膜における欠陥または被膜の厚さを測定するた
めに適合した遅延ラインのトランスジューサの使用を可
能にする技術と検出装置を教示することにあり、これ
は、温度補償された遅延チップ暫定信号を発生させるこ
とにより行われ、この暫定信号は厚さを演算するのに用
いられる補償された検出装置の「零」の信号として用い
られるためのものである。
【0019】本発明の他の目的は、内部の反射器からの
反射の相対的振幅が遅延ライン、したがってそれに接続
されたトランスジューサ、を独特に識別するのに用いら
れることができるように、内部の反射器を包含する遅延
ラインを提供することにある。トランスジューサを自動
的に識別し、それにより独特の検出装置形態が要求され
る幾つかの相異なる応用に共通の計測装置が用いられる
ことができることは、有利なことである。そのような計
測装置の操作者は、トランスジューサを取換えることを
要求されるのみであり、その計測装置はプログラムの流
れに適切に適合することが可能である。前記の目的およ
びその他の利点は、以下に記述される1つまたは複数の
装置および方法により達成されることが可能である。
反射の相対的振幅が遅延ライン、したがってそれに接続
されたトランスジューサ、を独特に識別するのに用いら
れることができるように、内部の反射器を包含する遅延
ラインを提供することにある。トランスジューサを自動
的に識別し、それにより独特の検出装置形態が要求され
る幾つかの相異なる応用に共通の計測装置が用いられる
ことができることは、有利なことである。そのような計
測装置の操作者は、トランスジューサを取換えることを
要求されるのみであり、その計測装置はプログラムの流
れに適切に適合することが可能である。前記の目的およ
びその他の利点は、以下に記述される1つまたは複数の
装置および方法により達成されることが可能である。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明においては、超音
波形検出装置であって、該装置は、超音波トランスジュ
ーサ、および、該超音波トランスジューサに音響的に結
合された遅延ラインであって超音波振動が該超音波トラ
ンスジューサから該遅延ラインへ第1の方向において送
出されることが可能であるもの、を具備し、該遅延ライ
ンは第1の材料からなる第1の区域と第2の材料からな
る第2の区域を包含し、該第1および第2の区域は該第
1の方向に実質的に垂直な1つのインタフェイスを形成
し、該第2の区域は調査されるべき材料との結合用の表
面を包含する、ことを特徴とする超音波形検出装置、が
提供される。
波形検出装置であって、該装置は、超音波トランスジュ
ーサ、および、該超音波トランスジューサに音響的に結
合された遅延ラインであって超音波振動が該超音波トラ
ンスジューサから該遅延ラインへ第1の方向において送
出されることが可能であるもの、を具備し、該遅延ライ
ンは第1の材料からなる第1の区域と第2の材料からな
る第2の区域を包含し、該第1および第2の区域は該第
1の方向に実質的に垂直な1つのインタフェイスを形成
し、該第2の区域は調査されるべき材料との結合用の表
面を包含する、ことを特徴とする超音波形検出装置、が
提供される。
【0021】本発明においてはまた、超音波形検出装置
であって、該装置は、超音波トランスジューサ、およ
び、該超音波トランスジューサに音響的に結合された遅
延ラインであって超音波振動が該超音波トランスジュー
サから該遅延ラインへ第1の方向において送出されるこ
とが可能であるもの、を具備し、該遅延ラインは第1の
区域および第2の区域を包含し、該超音波形検出装置は
また、該第1の区域と該第2の区域の間に挟まれた部分
的反射鏡であって該第1の方向に実質的に垂直に配置さ
れるものを具備し、該第2の区域は調査されるべき材料
との結合用の表面を包含する、ことを特徴とする超音波
形検出装置、が提供される。
であって、該装置は、超音波トランスジューサ、およ
び、該超音波トランスジューサに音響的に結合された遅
延ラインであって超音波振動が該超音波トランスジュー
サから該遅延ラインへ第1の方向において送出されるこ
とが可能であるもの、を具備し、該遅延ラインは第1の
区域および第2の区域を包含し、該超音波形検出装置は
また、該第1の区域と該第2の区域の間に挟まれた部分
的反射鏡であって該第1の方向に実質的に垂直に配置さ
れるものを具備し、該第2の区域は調査されるべき材料
との結合用の表面を包含する、ことを特徴とする超音波
形検出装置、が提供される。
【0022】本発明においてはまた、超音波トランスジ
ューサ、該超音波トランスジューサに結合された制御手
段、該超音波トランスジューサに音響的に結合された遅
延ラインであって、超音波振動が該超音波トランスジュ
ーサから該遅延ラインへ第1の方向において送出される
ことが可能であるもの、および、該遅延ライン内に組込
まれた手段であって該遅延ラインを通る超音波信号の伝
搬の速度が計算されることを可能にするもの、を具備す
ることを特徴とする超音波形検出装置が提供される。
ューサ、該超音波トランスジューサに結合された制御手
段、該超音波トランスジューサに音響的に結合された遅
延ラインであって、超音波振動が該超音波トランスジュ
ーサから該遅延ラインへ第1の方向において送出される
ことが可能であるもの、および、該遅延ライン内に組込
まれた手段であって該遅延ラインを通る超音波信号の伝
搬の速度が計算されることを可能にするもの、を具備す
ることを特徴とする超音波形検出装置が提供される。
【0023】本発明においてはまた、超音波トランスジ
ューサ、該超音波トランスジューサに音響的に結合され
た遅延ラインであって、超音波信号が該超音波トランス
ジューサから該遅延ラインへ第1の方向において送出さ
れることが可能であるもの、該超音波信号の少くとも第
1の部分を該超音波トランスジューサから知られている
距離のところで反射する手段、超音波信号の第1の部分
が超音波トランスジューサから反射手段までを往復する
時間t1 を測定する手段、超音波信号の第2の部分が超
音波トランスジューサから遅延ラインの対抗する面まで
を往復する予想時間t2 を測定する手段、超音波信号の
第3の部分が超音波トランスジューサから被膜と基板の
間のインタフェイスまでを往復する時間t3 を測定する
手段、および、時間t2 と時間t3 の差にもとづいて被
膜の厚さを演算する手段、を具備することを特徴とする
超音波形検出装置が提供される。
ューサ、該超音波トランスジューサに音響的に結合され
た遅延ラインであって、超音波信号が該超音波トランス
ジューサから該遅延ラインへ第1の方向において送出さ
れることが可能であるもの、該超音波信号の少くとも第
1の部分を該超音波トランスジューサから知られている
距離のところで反射する手段、超音波信号の第1の部分
が超音波トランスジューサから反射手段までを往復する
時間t1 を測定する手段、超音波信号の第2の部分が超
音波トランスジューサから遅延ラインの対抗する面まで
を往復する予想時間t2 を測定する手段、超音波信号の
第3の部分が超音波トランスジューサから被膜と基板の
間のインタフェイスまでを往復する時間t3 を測定する
手段、および、時間t2 と時間t3 の差にもとづいて被
膜の厚さを演算する手段、を具備することを特徴とする
超音波形検出装置が提供される。
【0024】本発明においてはまた、基板上の被膜の厚
さを測定する方法であって、該方法は、超音波トランス
ジューサから該超音波トランスジューサに結合された遅
延ラインへ第1の方向において信号を送出する段階であ
って、該遅延ラインは該信号の少くとも第1の部分を該
超音波トランスジューサから知られている距離のところ
で反射させる手段を包含するもの、信号の第1の部分が
超音波トランスジューサから反射手段までを往復する時
間t1 を測定する段階、該測定された時間t1 を用い信
号の第2の部分が超音波トランスジューサから遅延ライ
ンの対抗する面までを往復する予想時間t2 を演算する
段階、信号の第3の部分が超音波トランスジューサから
該被膜と該基板の間のインタフェイスまでを往復する時
間t3 を測定する段階、および、時間t2 と時間t3 の
差にもとづき該被膜の厚さを演算する段階、を具備する
ことを特徴とする方法が提供される。
さを測定する方法であって、該方法は、超音波トランス
ジューサから該超音波トランスジューサに結合された遅
延ラインへ第1の方向において信号を送出する段階であ
って、該遅延ラインは該信号の少くとも第1の部分を該
超音波トランスジューサから知られている距離のところ
で反射させる手段を包含するもの、信号の第1の部分が
超音波トランスジューサから反射手段までを往復する時
間t1 を測定する段階、該測定された時間t1 を用い信
号の第2の部分が超音波トランスジューサから遅延ライ
ンの対抗する面までを往復する予想時間t2 を演算する
段階、信号の第3の部分が超音波トランスジューサから
該被膜と該基板の間のインタフェイスまでを往復する時
間t3 を測定する段階、および、時間t2 と時間t3 の
差にもとづき該被膜の厚さを演算する段階、を具備する
ことを特徴とする方法が提供される。
【0025】本発明においてはまた、超音波トランスジ
ューサ用の遅延ラインを識別する方法であって、該方法
は、超音波振動を超音波トランスジューサから該超音波
トランスジューサに音響的に結合された遅延ラインへ第
1の方向において送出する段階であって、該遅延ライン
が該超音波トランスジューサから知られている距離にあ
るインタフェイスを包含するもの、振動が超音波トラン
スジューサからインタフェイスまでを往復する時間t1
を測定する段階、振動が超音波トランスジューサから該
遅延ラインの対抗する面まで往復する時間t2 を測定す
る段階、t1 とt2 にもとづく比を演算する段階、およ
び、該演算された比を用いて遅延ラインを識別する段
階、振動が超音波トランスジューサからインタフェイス
までを往復する時間t1 を測定する段階、振動が超音波
トランスジューサから該遅延ラインの対抗する面まで往
復する時間t2 を測定する段階、t1 とt2 にもとづく
比を演算する段階、および、該演算された比を用いて遅
延ラインを識別する段階、を具備することを特徴とする
方法が提供される。
ューサ用の遅延ラインを識別する方法であって、該方法
は、超音波振動を超音波トランスジューサから該超音波
トランスジューサに音響的に結合された遅延ラインへ第
1の方向において送出する段階であって、該遅延ライン
が該超音波トランスジューサから知られている距離にあ
るインタフェイスを包含するもの、振動が超音波トラン
スジューサからインタフェイスまでを往復する時間t1
を測定する段階、振動が超音波トランスジューサから該
遅延ラインの対抗する面まで往復する時間t2 を測定す
る段階、t1 とt2 にもとづく比を演算する段階、およ
び、該演算された比を用いて遅延ラインを識別する段
階、振動が超音波トランスジューサからインタフェイス
までを往復する時間t1 を測定する段階、振動が超音波
トランスジューサから該遅延ラインの対抗する面まで往
復する時間t2 を測定する段階、t1 とt2 にもとづく
比を演算する段階、および、該演算された比を用いて遅
延ラインを識別する段階、を具備することを特徴とする
方法が提供される。
【0026】本発明においてはまた、超音波トランスジ
ューサ用の遅延ラインを識別する方法であって、該方法
は、超音波振動を超音波トランスジューサから該超音波
トランスジューサに音響的に結合された遅延ラインへ第
1の方向において送出する段階であって、該遅延ライン
が該超音波トランスジューサから知られている距離にお
けるインタフェイスを包含するもの、インタフェイスか
ら反射してきた振動の第1の反射振幅を測定する段階、
該遅延ラインの対抗する面から反射してきた振動の第2
の反射振幅を測定する段階、および、該第1の反射振幅
と該第2の反射振幅にもとづく比を演算する段階、を具
備することを特徴とする方法が提供される。
ューサ用の遅延ラインを識別する方法であって、該方法
は、超音波振動を超音波トランスジューサから該超音波
トランスジューサに音響的に結合された遅延ラインへ第
1の方向において送出する段階であって、該遅延ライン
が該超音波トランスジューサから知られている距離にお
けるインタフェイスを包含するもの、インタフェイスか
ら反射してきた振動の第1の反射振幅を測定する段階、
該遅延ラインの対抗する面から反射してきた振動の第2
の反射振幅を測定する段階、および、該第1の反射振幅
と該第2の反射振幅にもとづく比を演算する段階、を具
備することを特徴とする方法が提供される。
【0027】
【発明の実施の形態】本発明は基板上の被膜の厚さを測
定する計測器に関する。本発明においては、遅延ライン
の温度の変化に起因する、遅延ラインを通る、超音波イ
ンパルスの伝搬速度の変化により生ずる従来技術におけ
る問題を解決することが意図される。
定する計測器に関する。本発明においては、遅延ライン
の温度の変化に起因する、遅延ラインを通る、超音波イ
ンパルスの伝搬速度の変化により生ずる従来技術におけ
る問題を解決することが意図される。
【0028】本発明による代表的な遅延要素において用
いられるべき材料の幾何学的配置および材料の音響的特
性が図1に図解されるが、この図1は超音波トランスジ
ューサ14とともに用いられる遅延ライン10を表現す
る図である。遅延ライン10の第1の区域11は材料A
で作られ、超音波トランスジューサ14と遅延ライン1
0の間にインタフェイスを形成する。材料Aはポリスチ
レン、アクリル樹脂、または任意の他の適切な材料であ
ることが可能である。
いられるべき材料の幾何学的配置および材料の音響的特
性が図1に図解されるが、この図1は超音波トランスジ
ューサ14とともに用いられる遅延ライン10を表現す
る図である。遅延ライン10の第1の区域11は材料A
で作られ、超音波トランスジューサ14と遅延ライン1
0の間にインタフェイスを形成する。材料Aはポリスチ
レン、アクリル樹脂、または任意の他の適切な材料であ
ることが可能である。
【0029】遅延ライン10の第2の区域12は材料B
で作られ、インタフェイス13において第1の区域11
に付着する。材料Bはポリスチレン、アクリル樹脂、ま
たは任意の他の適切な材料であることが可能である。
で作られ、インタフェイス13において第1の区域11
に付着する。材料Bはポリスチレン、アクリル樹脂、ま
たは任意の他の適切な材料であることが可能である。
【0030】A/Bインタフェイス13は、知られてい
る音響的特性をもつ音響的マーカを形成する。第2の区
域12は、インタフェイス13に対抗する表面15を包
含するが、この表面15は調査されるべき表面に適用さ
れる。
る音響的特性をもつ音響的マーカを形成する。第2の区
域12は、インタフェイス13に対抗する表面15を包
含するが、この表面15は調査されるべき表面に適用さ
れる。
【0031】時間t0 において電気信号により励起され
ると、トランスジューサ14は基本周波数において共振
する。その結果生ずる超音波振動は遅延ライン10を通
って伝搬する。A/Bインタフェイス13において超音
波振動は部分的に反射する。図2の経時特性図は、A/
Bインタフェイス13から部分的に反射した超音波反射
のトランスジューサ14への振動到着時間t1 を図解す
る。振動はトランスジューサにより電気信号に変換さ
れ、変換された電気信号は容易にサンプリングされデジ
タル計算機に記憶されるか、または或る適切な手段によ
り時間(t1 −t 0 )をあらわす、時間依存の信号へ変
換される。
ると、トランスジューサ14は基本周波数において共振
する。その結果生ずる超音波振動は遅延ライン10を通
って伝搬する。A/Bインタフェイス13において超音
波振動は部分的に反射する。図2の経時特性図は、A/
Bインタフェイス13から部分的に反射した超音波反射
のトランスジューサ14への振動到着時間t1 を図解す
る。振動はトランスジューサにより電気信号に変換さ
れ、変換された電気信号は容易にサンプリングされデジ
タル計算機に記憶されるか、または或る適切な手段によ
り時間(t1 −t 0 )をあらわす、時間依存の信号へ変
換される。
【0032】A/Bインタフェイス13における部分的
反射と同時に、振動の一部はA/Bインタフェイス13
を通って伝送され遅延ライン10の第2の区域12へ進
行する。次いで振動のその部分は第2の区域12を通っ
て伝搬し、終には遅延ラインの表面15へ到達する。
反射と同時に、振動の一部はA/Bインタフェイス13
を通って伝送され遅延ライン10の第2の区域12へ進
行する。次いで振動のその部分は第2の区域12を通っ
て伝搬し、終には遅延ラインの表面15へ到達する。
【0033】面15と接触する面がもしあれば、その面
に依存して、反射が面15を離れるように生起する可能
性があり、または生起しない可能性がある。もし遅延ラ
イン10が表面、と接触していないと、すなわち、面1
5と接触する材料が空気であると、面15において他の
部分的反射が生起し、振動はトランスジューサ14へ向
って返還伝搬し、A/Bインタフェイス13において残
余の反射と伝搬が行われ、終局的には時間t2 において
トランスジューサ14に到達する。
に依存して、反射が面15を離れるように生起する可能
性があり、または生起しない可能性がある。もし遅延ラ
イン10が表面、と接触していないと、すなわち、面1
5と接触する材料が空気であると、面15において他の
部分的反射が生起し、振動はトランスジューサ14へ向
って返還伝搬し、A/Bインタフェイス13において残
余の反射と伝搬が行われ、終局的には時間t2 において
トランスジューサ14に到達する。
【0034】図3は、図2に示される反射振動の相対的
強度、すなわち振幅を図解する。図3においてA2/A
1は、反射比率(reflection ratio)
をあらわす。図3に示されるように、A/Bインタフェ
イス13で反射した反響と面15で反射した反響の振幅
の比が演算されることができる。演算された比率(例え
ばA2/A1)は、検出装置を識別するのに用いられる
ことができる。
強度、すなわち振幅を図解する。図3においてA2/A
1は、反射比率(reflection ratio)
をあらわす。図3に示されるように、A/Bインタフェ
イス13で反射した反響と面15で反射した反響の振幅
の比が演算されることができる。演算された比率(例え
ばA2/A1)は、検出装置を識別するのに用いられる
ことができる。
【0035】例えば、各遅延ラインは、材料(Aおよび
B)と区域長さ(図1におけるxAとxB)の特定のま
たは独特の組合せで構成される。したがって検出装置
は、材料AとBの適切な選択により独特に識別される。
その代りに、独特の遅延ラインを作り出すために長さx
Aおよび/またはxBを変化させることが可能である。
そのとき、比率xA/xBは検出装置を独特に識別する
ことが可能である。
B)と区域長さ(図1におけるxAとxB)の特定のま
たは独特の組合せで構成される。したがって検出装置
は、材料AとBの適切な選択により独特に識別される。
その代りに、独特の遅延ラインを作り出すために長さx
Aおよび/またはxBを変化させることが可能である。
そのとき、比率xA/xBは検出装置を独特に識別する
ことが可能である。
【0036】図6に注意すると、図1の遅延ラインは、
相異なる材料の基板31上の薄い被膜材料30に音響的
に結合される。図5は、超音波振動がトランスジューサ
14から遅延ライン10と被膜30を通って伝搬する結
果として生成された経時特性図を示す。
相異なる材料の基板31上の薄い被膜材料30に音響的
に結合される。図5は、超音波振動がトランスジューサ
14から遅延ライン10と被膜30を通って伝搬する結
果として生成された経時特性図を示す。
【0037】図5において、t1 は振動がA/Bインタ
フェイス13から反射した後、トランスジューサに到達
する時間をあらわす。時刻t2 は、振動が面15から反
射した後、トランスジューサ14に到達する時間をあら
わす。時間t3 は、振動が、被膜30と基板31の間の
インタフェイス16から反射した後、トランスジューサ
14に到達する時間をあらわす。そして、時間t4 は、
振動が、基板31の遠い側から反射した後、トランスジ
ューサ14に到達する時間をあらわす。
フェイス13から反射した後、トランスジューサに到達
する時間をあらわす。時刻t2 は、振動が面15から反
射した後、トランスジューサ14に到達する時間をあら
わす。時間t3 は、振動が、被膜30と基板31の間の
インタフェイス16から反射した後、トランスジューサ
14に到達する時間をあらわす。そして、時間t4 は、
振動が、基板31の遠い側から反射した後、トランスジ
ューサ14に到達する時間をあらわす。
【0038】図5を参照して説明されるように、被膜3
0の材料と第2の区域12を有する材料Bが同じである
か音響的に類似であるときの、遅延チップ反響の時間位
置(すわなち時間t2 )を知ることは有利なことであ
る。
0の材料と第2の区域12を有する材料Bが同じである
か音響的に類似であるときの、遅延チップ反響の時間位
置(すわなち時間t2 )を知ることは有利なことであ
る。
【0039】時間t3 と時間t2 の差は、振動が被膜3
0に進入し、被膜・基板インタフェイス16から反射
し、被膜から遅延ライン10へ帰還する往復伝搬に要す
る時間をあらわす。被膜30の材料を通る超音波振動の
伝搬の速度が知られていれば、被膜30の厚さ(Tc)
は、v30が材料30内の伝搬速度をあらわすものとする
とき、関係式 Tc=(v30)(t3 −t2 )/2 により決定されることができる。
0に進入し、被膜・基板インタフェイス16から反射
し、被膜から遅延ライン10へ帰還する往復伝搬に要す
る時間をあらわす。被膜30の材料を通る超音波振動の
伝搬の速度が知られていれば、被膜30の厚さ(Tc)
は、v30が材料30内の伝搬速度をあらわすものとする
とき、関係式 Tc=(v30)(t3 −t2 )/2 により決定されることができる。
【0040】第2の区域12の材料Bが被膜30の材料
と類似または同じであると、両者の間のインタフェイス
からは反射がほとんど得られない。そのインタフェイス
からの反射が無ければ時間t2 は未知である。従来の技
術は、代表的には、遅延ライン10に材料が結合されて
いないときの時刻t2 を測定する。この過程は、検出装
置の「零」操作として知られている。そのようにして、
遅延ライン10について零基準が決定される。時刻t2
が一定であると仮定すると、この技術は良好にはたら
く。
と類似または同じであると、両者の間のインタフェイス
からは反射がほとんど得られない。そのインタフェイス
からの反射が無ければ時間t2 は未知である。従来の技
術は、代表的には、遅延ライン10に材料が結合されて
いないときの時刻t2 を測定する。この過程は、検出装
置の「零」操作として知られている。そのようにして、
遅延ライン10について零基準が決定される。時刻t2
が一定であると仮定すると、この技術は良好にはたら
く。
【0041】しかし、材料を通る伝搬の速度は、他の変
数のなかでも、v=f(t,…)に関係するように、材
料の温度に依存する。その結果として、時間t2 は温度
に依存する。単に検出装置に触れることのみにより生ず
る温度の小さな変化が、測定される厚さ(x3 −x2 )
における重大な誤差を生じさせることが判明している。
数のなかでも、v=f(t,…)に関係するように、材
料の温度に依存する。その結果として、時間t2 は温度
に依存する。単に検出装置に触れることのみにより生ず
る温度の小さな変化が、測定される厚さ(x3 −x2 )
における重大な誤差を生じさせることが判明している。
【0042】本明細書に開示される技術を用いると、ト
ランスジューサ14と、A/Bインタフェイス13(x
A又はx1)の間の知られている距離についての時刻t
1 を測定し、次いで下記の関係式、 temp=f(x1,t1,…) にしたがい温度を演算することにより、温度効果の補償
を行うことが可能である。
ランスジューサ14と、A/Bインタフェイス13(x
A又はx1)の間の知られている距離についての時刻t
1 を測定し、次いで下記の関係式、 temp=f(x1,t1,…) にしたがい温度を演算することにより、温度効果の補償
を行うことが可能である。
【0043】温度を知ることにより、下記の関係式を用
いて、時間t2 を予測することが可能になる。 t2 =(2)(x1)/vA +(2)(x2−x1)/
vB t2 =t1 +(2)(x2−x1)/f(v1(tem
p)) ここに、vA は材料Aを通る伝搬の速度、vB は材料B
を通る伝搬の速度、x1は第1の区域11の長さ、x2
は第1の区域と第2の区域を組合わせた長さ、f(vA
(temp))はvB を温度の関数として演算する関数
である。
いて、時間t2 を予測することが可能になる。 t2 =(2)(x1)/vA +(2)(x2−x1)/
vB t2 =t1 +(2)(x2−x1)/f(v1(tem
p)) ここに、vA は材料Aを通る伝搬の速度、vB は材料B
を通る伝搬の速度、x1は第1の区域11の長さ、x2
は第1の区域と第2の区域を組合わせた長さ、f(vA
(temp))はvB を温度の関数として演算する関数
である。
【0044】vB をvA を用いて規定することにより、
t2 は、遅延ラインの規定された作動範囲内におけるv
A のすべての値について、決定されることができる。規
定された温度と周波数の限界内において、vB はvA 対
vB の比により推定されることができる。 vB (tempx )=vA (tempx )(vB (te
mpo )/vA (tempo ))
t2 は、遅延ラインの規定された作動範囲内におけるv
A のすべての値について、決定されることができる。規
定された温度と周波数の限界内において、vB はvA 対
vB の比により推定されることができる。 vB (tempx )=vA (tempx )(vB (te
mpo )/vA (tempo ))
【0045】図1に示される遅延ラインの1つの好適な
具体例は、下記の特性にしたがって構成されることが可
能である。材料Aはアクリル樹脂である。材料Bはポリ
スチレンである。トランスジューサの周波数は10MHz
である。xAは約0.541cm(213ミル)である。
xBは約0.279cm(110ミル)である。
具体例は、下記の特性にしたがって構成されることが可
能である。材料Aはアクリル樹脂である。材料Bはポリ
スチレンである。トランスジューサの周波数は10MHz
である。xAは約0.541cm(213ミル)である。
xBは約0.279cm(110ミル)である。
【0046】本発明の一具体例によれば、システムは、
前記の解析が1回ごとの被膜厚さの測定の前に行われる
ように設計されることができる。特定的に、被膜厚さの
測定が適切なスイッチの活性化により要求されると、1
つの超音波信号が発生する。超音波信号にもとづき、時
刻t1 とt3 が測定され、時間t1 にもとづき速度v 1
が演算され、v1 にもとづき速度v2 が推定され、v1
とv2 にもとづき時間t2 が演算される。次いで被膜の
厚さがt3 とt2 の差にもとづいて演算される。したが
って、システムは、毎回の測定の直前の温度変化につい
て本質的に調整される。
前記の解析が1回ごとの被膜厚さの測定の前に行われる
ように設計されることができる。特定的に、被膜厚さの
測定が適切なスイッチの活性化により要求されると、1
つの超音波信号が発生する。超音波信号にもとづき、時
刻t1 とt3 が測定され、時間t1 にもとづき速度v 1
が演算され、v1 にもとづき速度v2 が推定され、v1
とv2 にもとづき時間t2 が演算される。次いで被膜の
厚さがt3 とt2 の差にもとづいて演算される。したが
って、システムは、毎回の測定の直前の温度変化につい
て本質的に調整される。
【0047】本発明による遅延ラインの代替の具体例
は、図4に示されるように構成される。検出装置の
「零」を予測するのに必要な演算を簡単化するために、
遅延ラインを図4に示されるように構成することが有利
である可能性がある。さらに、図4の形態は、基準の反
響と遅延チップの反響の振幅の比がより密接に適合させ
られることを可能にする。
は、図4に示されるように構成される。検出装置の
「零」を予測するのに必要な演算を簡単化するために、
遅延ラインを図4に示されるように構成することが有利
である可能性がある。さらに、図4の形態は、基準の反
響と遅延チップの反響の振幅の比がより密接に適合させ
られることを可能にする。
【0048】図4に示される好適な具体例においては、
第1の区域111は材料Aで作られ、トランスジューサ
114に結合される。材料Bで作られる第2の区域11
2は、比較的短かく、インタフェイス113に沿い第1
の区域111に接続される。第3の区域116は第2の
区域112に接続される。第3の区域116は、第1の
区域111と同じ材料Aまたは任意の他の適切な材料で
作られることが可能である。遅延ライン110の面11
5は、調査されるべき表面に結合されることが可能であ
る。
第1の区域111は材料Aで作られ、トランスジューサ
114に結合される。材料Bで作られる第2の区域11
2は、比較的短かく、インタフェイス113に沿い第1
の区域111に接続される。第3の区域116は第2の
区域112に接続される。第3の区域116は、第1の
区域111と同じ材料Aまたは任意の他の適切な材料で
作られることが可能である。遅延ライン110の面11
5は、調査されるべき表面に結合されることが可能であ
る。
【0049】好適な具体例においては、下記のパラメー
タが適用される。材料Aはポリスチレンである。材料B
はアルミウニムである。 xA1は約0.699cm(275ミル) xB1は約0.0013cm(0.5ミル) xA2は約0.127cm(50ミル)
タが適用される。材料Aはポリスチレンである。材料B
はアルミウニムである。 xA1は約0.699cm(275ミル) xB1は約0.0013cm(0.5ミル) xA2は約0.127cm(50ミル)
【0050】第2の区域112は、本質的には、最小の
厚さをもつ金属箔である。したがって図4に示される好
適な実施例においては、トランスジューサ114と遅延
チップ115の間の往復伝搬に要する時間は下記により
推定されることができる。 t2=(t1)+(t1)(xA2/xA1)
厚さをもつ金属箔である。したがって図4に示される好
適な実施例においては、トランスジューサ114と遅延
チップ115の間の往復伝搬に要する時間は下記により
推定されることができる。 t2=(t1)+(t1)(xA2/xA1)
【0051】自動的な検出装置の識別を容易にするため
に、第1の区域111と第2の区域112の間のインタ
フェイスから得られる反射の時間t1と遅延ラインの終
端から得られる反射の時間t2の比を測定することがで
きるが、その理由は、そのような比はそれぞれの区域の
長さの比に対応するからである。材料Bとして用いられ
る材料を変化させることにより、相異なる比を得ること
ができる。その代りに、xA2の長さを変化させること
ができる。したがって、比xA2/xA1は、検出装置
を独特に識別することができる。
に、第1の区域111と第2の区域112の間のインタ
フェイスから得られる反射の時間t1と遅延ラインの終
端から得られる反射の時間t2の比を測定することがで
きるが、その理由は、そのような比はそれぞれの区域の
長さの比に対応するからである。材料Bとして用いられ
る材料を変化させることにより、相異なる比を得ること
ができる。その代りに、xA2の長さを変化させること
ができる。したがって、比xA2/xA1は、検出装置
を独特に識別することができる。
【0052】さらに、検出装置は、遅延ラインの終端か
ら得られる反射の振幅A2と第1の区域111と第2の
区域112の間のインタフェイスから得られる反射の振
幅A1を比較することにより識別される。これについて
は図3を参照することができる。
ら得られる反射の振幅A2と第1の区域111と第2の
区域112の間のインタフェイスから得られる反射の振
幅A1を比較することにより識別される。これについて
は図3を参照することができる。
【0053】本明細書においては好適な実施例のみが特
定的に図解され記述されているが、本発明の精神および
意図する範囲を逸脱することなく、前述の教示のもとに
特許請求の範囲内で多くの修飾および変形が可能である
ことが了解されるであらう。
定的に図解され記述されているが、本発明の精神および
意図する範囲を逸脱することなく、前述の教示のもとに
特許請求の範囲内で多くの修飾および変形が可能である
ことが了解されるであらう。
【図1】本発明による遅延ラインを表現する図である。
【図2】図1に示される遅延ラインの経時的な動作特性
の図である。
の図である。
【図3】図2の動作特性図の走査をあらわす図であっ
て、反射の振幅を示すもの、である。
て、反射の振幅を示すもの、である。
【図4】本発明による他の例の遅延ラインを表現する図
である。
である。
【図5】図4に示される遅延ラインの経時的な動作特性
の図である。
の図である。
【図6】図1の遅延ラインの応用を図解するものであ
る。
る。
10…遅延ライン 11…第1の区域 12…第2の区域 13…A/Bインタフェイス 14…超音波トランスジューサ 15…表面 16…インタフェイス 30…被膜 31…基板 111…第1の区域 112…第2の区域 113…インタフェイス 114…超音波トランスジューサ 116…第3の区域
Claims (23)
- 【請求項1】 超音波形検出装置であって、該装置は、
超音波トランスジューサ、および、該超音波トランスジ
ューサに音響的に結合された遅延ラインであって超音波
振動が該超音波トランスジューサから該遅延ラインへ第
1の方向において送出されることが可能であるもの、を
具備し、 該遅延ラインは第1の材料からなる第1の区域と第2の
材料からなる第2の区域を包含し、 該第1および第2の区域は該第1の方向に実質的に垂直
な1つのインタフェイスを形成し、 該第2の区域は調査されるべき材料との結合用の表面を
包含する、ことを特徴とする超音波形検出装置。 - 【請求項2】 該第1の材料はアクリル樹脂である、請
求項1記載の装置。 - 【請求項3】 該第2の材料はポリスチレンである、請
求項2記載の装置。 - 【請求項4】 該表面はインタフェイスに実質的に平行
である、請求項1記載の装置。 - 【請求項5】 超音波形検出装置であって、該装置は、
超音波トランスジューサ、および、該超音波トランスジ
ューサに音響的に結合された遅延ラインであって超音波
振動が該超音波トランスジューサから該遅延ラインへ第
1の方向において送出されることが可能であるもの、を
具備し、 該遅延ラインは第1の区域および第2の区域を包含し、 該超音波形検出装置はまた、該第1の区域と該第2の区
域の間に挟まれた部分的反射鏡であって該第1の方向に
実質的に垂直に配置されるものを具備し、 該第2の区域は調査されるべき材料との結合用の表面を
包含する、ことを特徴とする超音波形検出装置。 - 【請求項6】 該第1の区域と該第2の区域はポリスチ
レンからなる、請求項5記載の装置。 - 【請求項7】 該第1の区域はアクリル樹脂からなり、
該第2の区域はポリスチレンからなる、請求項6記載の
装置。 - 【請求項8】 該反射鏡はアルミニウムで作られてい
る、請求項5記載の装置。 - 【請求項9】 該反射鏡はアルミニウムで作られてい
る、請求項6記載の装置。 - 【請求項10】 該反射鏡はアルミニウムで作られてい
る、請求項7記載の装置。 - 【請求項11】 該反射鏡は厚さが0.0127mm
(0.5ミル)である、請求項8記載の装置。 - 【請求項12】 該反射鏡は厚さが0.0127mm
(0.5ミル)である、請求項9記載の装置。 - 【請求項13】 超音波トランスジューサ、 該超音波トランスジューサに結合された制御手段、 該超音波トランスジューサに音響的に結合された遅延ラ
インであって、超音波振動が該超音波トランスジューサ
から該遅延ラインへ第1の方向において送出されること
が可能であるもの、および、 該遅延ライン内に組込まれた手段であって該遅延ライン
を通る超音波信号の伝搬の速度が計算されることを可能
にするもの、を具備することを特徴とする超音波形検出
装置。 - 【請求項14】 該計算されることを可能にする手段
は、部分的反射装置であって遅延ラインの第1の区域と
第2の区域の間に挟まれ該第1の方向に実質的に垂直に
配置されるものを包含し、該第2の区域は調査されるべ
き材料との結合用の表面を包含する、請求項13記載の
装置。 - 【請求項15】 超音波トランスジューサ、 該超音波トランスジューサに音響的に結合された遅延ラ
インであって、超音波信号が該超音波トランスジューサ
から該遅延ラインへ第1の方向において送出されること
が可能であるもの、 該超音波信号の少くとも第1の部分を該超音波トランス
ジューサから知られている距離のところで反射する手
段、 超音波信号の第1の部分が超音波トランスジューサから
反射手段までを往復する時間t1 を測定する手段、 超音波信号の第2の部分が超音波トランスジューサから
遅延ラインの対抗する面までを往復する予想時間t2 を
測定する手段、 超音波信号の第3の部分が超音波トランスジューサから
被膜と基板の間のインタフェイスまでを往復する時間t
3 を測定する手段、および、 時間t2 と時間t3 の差にもとづいて被膜の厚さを演算
する手段、を具備することを特徴とする超音波形検出装
置。 - 【請求項16】 基板上の被膜の厚さを測定する方法で
あって、該方法は、 超音波トランスジューサから該超音波トランスジューサ
に結合された遅延ラインへ第1の方向において信号を送
出する段階であって、該遅延ラインは該信号の少くとも
第1の部分を該超音波トランスジューサから知られてい
る距離のところで反射させる手段を包含するもの、 信号の第1の部分が超音波トランスジューサから反射手
段までを往復する時間t1 を測定する段階、 該測定された時間t1 を用い信号の第2の部分が超音波
トランスジューサから遅延ラインの対抗する面までを往
復する予想時間t2 を演算する段階、 信号の第3の部分が超音波トランスジューサから該被膜
と該基板の間のインタフェイスまでを往復する時間t3
を測定する段階、および、 時間t2 と時間t3 の差にもとづき該被膜の厚さを演算
する段階、を具備することを特徴とする方法。 - 【請求項17】 該予想時間t2 演算手段は、信号の第
1の部分が該遅延ラインを伝搬する伝搬速度v1 を時間
t1 と知られている距離を用いて演算すること、およ
び、該演算された伝搬速度v1 を用いて予想時間t2 を
演算すること、を包含する、請求項16記載の方法。 - 【請求項18】 該演算された伝搬速度v1 を用いて信
号の第2の部分が該遅延ラインの残余の部分を伝搬する
伝搬速度v2 を推定する段階および該推定された伝搬速
度v2 を用いて信号の第2の部分が該超音波トランスジ
ューサから該遅延ラインの対抗する面までを往復する予
想時間t2 を演算する段階、をさらに具備する、請求項
17記載の方法。 - 【請求項19】 該信号は超音波振動である、請求項1
6記載の方法。 - 【請求項20】 該信号は超音波振動である、請求項1
7記載の方法。 - 【請求項21】 該信号は超音波振動である、請求項1
8記載の方法。 - 【請求項22】 超音波トランスジューサ用の遅延ライ
ンを識別する方法であって、該方法は、 超音波振動を超音波トランスジューサから該超音波トラ
ンスジューサに音響的に結合された遅延ラインへ第1の
方向において送出する段階であって、該遅延ラインが該
超音波トランスジューサから知られている距離にあるイ
ンタフェイスを包含するもの、 振動が超音波トランスジューサからインタフェイスまで
を往復する時間t1 を測定する段階、 振動が超音波トランスジューサから該遅延ラインの対抗
する面まで往復する時間t2 を測定する段階、 t1 とt2 にもとづく比を演算する段階、および、 該演算された比を用いて遅延ラインを識別する段階、 を具備することを特徴とする方法。 - 【請求項23】 超音波トランスジューサ用の遅延ライ
ンを識別する方法であって、該方法は、 超音波振動を超音波トランスジューサから該超音波トラ
ンスジューサに音響的に結合された遅延ラインへ第1の
方向において送出する段階であって、該遅延ラインが該
超音波トランスジューサから知られている距離における
インタフェイスを包含するもの、 インタフェイスから反射してきた振動の第1の反射振幅
を測定する段階、 該遅延ラインの対抗する面から反射してきた振動の第2
の反射振幅を測定する段階、および、 該第1の反射振幅と該第2の反射振幅にもとづく比を演
算する段階、を具備することを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US392507 | 1995-02-23 | ||
| US08/392,507 US5777230A (en) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | Delay line for an ultrasonic probe and method of using same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0914949A true JPH0914949A (ja) | 1997-01-17 |
| JP3022955B2 JP3022955B2 (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=23550873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8036513A Expired - Fee Related JP3022955B2 (ja) | 1995-02-23 | 1996-02-23 | 超音波形検出装置、基板上の皮膜の厚さを測定する方法および遅延ラインの識別方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5777230A (ja) |
| JP (1) | JP3022955B2 (ja) |
| DE (1) | DE19606083B4 (ja) |
| GB (1) | GB2298277B (ja) |
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