JPH0915046A - 分光測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 光学系で生ずる分光画像の歪みを補正すると
ともに相対反射率分布を求める。 【構成】 予め特定の分光強度分布パターンを有する基
準試料及び参照試料を測定し、位置補正情報をメモリ２
０３に、参照情報（分光強度分布）をメモリ２０５に記
憶しておく。試料測定時に、位置補正処理部２０２にて
位置歪みを補正した分光画像を求め、反射率演算部２０
４にて該分光画像から計算した分光強度分布と参照情報
とに基づき相対反射率を計算する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は分光測定装置に関し、特
に、試料上の一次元領域を分光測定するに際し、複数の
微小受光素子が二次元的に配置された光検出器上に分光
画像を結像させ、位置情報と波長方向の情報とを同時に
測定する分光測定装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１９は、複数の微小な受光素子が二次
元的に配置された光検出器１９を備えている分光測定装
置の光学系の構成図である。図において、光源１０から
照射された光は、試料１１のＹ軸方向に伸びる線領域で
反射され、スリット１４に導かれる。スリット１４を通
過した光は、レンズ１５でコリメートされ、回折格子１
６で分光されたあと、２次光除去フィルタ１７及びレン
ズ１８を介して光検出器１９上に投影される。このと
き、試料１１の線領域内の位置情報は、光検出器１９上
では位置方向（ｙ軸方向）に得られ、位置方向に直交す
る波長方向（λ軸方向）には線領域の各点における波長
の広がりの情報が得られる。

【０００３】この分光画像から分光強度分布を求めるた
めに、λ軸方向に配列された受光素子によって得られた
光の強度信号はそれぞれ所定の中心波長λmに対する波
長幅Δλmが設定されてその波長幅内で積分又は平均化
される。これにより線領域内の或る点における分光強度
分布が求められる。続いて、線領域内の各点において分
光強度分布が算出されることにより、試料１１上の一次
元領域の分光強度分布が得られる。更に、試料１１を載
置した移動台１３と、光源１０〜光検出器１９より成る
光学系とをＸ軸方向に順次相対移動させながら繰り返し
一次元領域の分光画像を得ることにより、二次元領域の
分光強度分布を測定することができる。

【０００４】上記構成において、光路が理想的であると
きに光検出器１９で得られる分光画像の一例を図２０に
示す。ここで、理想的な光路とは、レンズ１５、１８や
スリット１４等の光学部品の配置にずれが無く、且つレ
ンズ１５、１８に収差が無いなどの諸条件がすべて満た
されている場合である。線領域の試料Ａに対応する分光
画像として、例えばＢ₁の如き二次元的な分光画像が得
られる。ここで、試料Ａ内の位置Ｙ_aに対する分光強度
分布を求めるためには、位置ｙ_aのλ軸方向に配列され
ている受光素子（図中の破線に沿った受光素子）の検出
信号を読み出せば良い。

【発明が解決しようとする課題】

【０００５】ところが、実際の分光測定装置では、光学
部品の相対的な位置のずれやレンズの収差等により光検
出器１９の結像には歪みや変形が生じる。図２１は、理
想的でない光路条件により歪みが発生している分光画像
の一例を示す図である。図示の如く、図２０の場合とは
異なり、試料Ａ内の或る位置に対応する波長の広がりの
方向はλ軸方向とは一致しない。従って、このような歪
みや変形がある場合には、λ軸方向に配列された受光素
子の検出信号を読み出しても、正確な分光強度分布は得
られない。更に、光学部品の調整や装置の分解・組立て
を行なったときにはこの歪みや変形の状態は変わる可能
性があるため、測定結果の信頼性や再現性が一層低下す
ることになる。

【０００６】ところで、上記構成のような二次元領域の
分光測定は工業製品の欠陥検査など様々な用途への応用
が考えられる。その一つに色彩計、色差計等の測色器へ
の応用がある。一般に測色を行なうときは、ＪＩＳ規格
等に定められた色見本に対する相対反射率を求め、その
相対反射率に基づき色値が計算される。従って、二次元
領域の測色器を実現するとき、上述のような光学系によ
るｙ軸方向、更にはλ軸方向の歪みが生じていると、当
然、正確な相対反射率が求められず、正しい色値が計算
できないことになる。

【０００７】本発明は上記のような課題を解決するため
に成されたものであり、その目的は、光路が理想的な状
態でない場合でも正確な分光強度分布の測定が行なえる
とともに、特に、色彩計等の測色器に好適な分光測定装
置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明は、試料上の一次元領域を分光測定す
るための分光測定装置において、 a)複数の微小受光素子が二次元的に配置された光検出手
段と、 b)該光検出手段の一つの次元方向に試料の一次元領域像
を投影させるとともに他の次元方向に光を分散させるた
めの分光手段と、 c)測定対象の試料の分光測定に先立ち、既知の分光強度
分布及びパターンを有する基準試料を分光測定すること
により求められた、分光強度分布パターンに対応する受
光素子の位置情報を位置補正情報として記憶しておくた
めの第１の記憶手段と、 d)測定対象の試料の分光測定に先立ち、前記基準試料と
は相違する既知の分光強度分布を有する参照試料を分光
測定することにより求められた分光強度分布を参照情報
として記憶しておくための第２の記憶手段と、 e)測定対象の試料を分光測定するに際し、前記第１の記
憶手段から読み出した位置補正情報に基づいて各受光素
子による検出信号の位置歪みを補正処理するための歪み
補正手段と、 f)前記測定対象の試料の分光強度分布と前記第２の記憶
手段から読み出した参照情報とに基づき相対反射率分布
を計算する演算手段と、 を備えることを特徴としている。

【０００９】

【作用】分光強度分布パターンが既知である基準試料を
予め分光測定することにより、分光手段を含む光学系が
理想的でないことに起因する分光画像の歪みや変形の状
態を把握することができる。そこで、基準試料を分光測
定した分光強度分布パターンの波長の広がり方向又は試
料の一次元領域像の方向に対応する受光素子の位置情報
を補正情報とし第１の記憶手段に予め格納しておく。そ
して、試料測定時に、歪み補正手段は、補正情報に基づ
いて各受光素子の検出信号を読み出す又は検出信号を配
置し直す等の補正処理を行なうことにより、歪みや変形
を軽減した分光画像を作成する。

【００１０】一方、相対反射率を求める際の参照情報を
得るため、基準試料とは相違する特定の分光強度分布を
有する参照試料を予め分光測定してその分光強度分布を
第２の記憶手段に格納しておく。試料測定時に、演算手
段は、歪み補正手段により歪み補正された分光画像に基
づいて分光強度分布を求めたあと、参照情報の分光強度
分布に対する相対反射率分布を計算する。

【００１１】

【発明の効果】従って、本発明によれば、光学部品の位
置のずれやレンズの収差等による影響を補正した分光画
像が得られるため、複雑なパターンを有する試料を測定
する場合でも緻密で正確な分光強度分布を測定すること
ができる。また、装置の調整を行なった場合でも、再
度、基準試料を測定し直して位置補正情報を入れ替える
ことにより、常に高い精度を保つことができる。更に、
本発明によれば、参照試料の分光強度分布に対する相対
反射率分布を容易に、且つ精度良く求めることができる
ため、測色器への応用に好適な分光測定装置が得られ
る。

【００１２】

【実施例】以下、本発明に係る分光測定装置の一実施例
について図を参照しつつ説明する。図１は本発明に係る
分光測定装置を用いた二次元色彩計の概略構成図、図２
は図１中の信号処理部２０を中心とした要部の構成図で
ある。図１の光学系における図１９との相違点は、測定
対象の試料１１の代わりに、参照試料１２が可動アーム
（図示せず）によって試料１１と同じ位置に移動可能と
される構成となっていることである。

【００１３】光検出器１９の出力信号は信号処理部２０
にて処理され、測定結果は出力部２１にて表示又はプリ
ントアウトされる。信号処理部２０において、光検出器
１９による検出信号は、各受光素子毎にアナログ／デジ
タル（Ａ／Ｄ）変換器２０１にてデジタル信号に変換さ
れ位置補正処理部２０２へ供給される。位置補正処理部
２０２では、後述する補正処理よって光学系にて生じた
分光画像の歪みや変形が補正される。位置補正処理部２
０２には位置補正情報を格納するための位置補正データ
メモリ２０３が接続されている。この位置補正データメ
モリ２０３には、基準試料の分光測定によって得られる
位置補正データが予め書き込まれている。

【００１４】位置補正処理部２０２にて補正された分光
画像信号は反射率演算部２０４へ供給される。反射率演
算部２０４には参照情報を格納するための参照データメ
モリ２０５が接続されている。この参照データメモリ２
０５には、参照試料の分光測定によって得られる分光強
度分布に基づく参照データが予め書き込まれている。反
射率演算部２０４では、入力された分光画像から分光強
度分布が求められ、その結果と参照データとにより波長
毎の相対反射率分布が計算される。データ後処理部２０
６では必要に応じて相対反射率データの平滑化などの処
理が行なわれ、更に、色値演算部２０７では所定の計算
を行なうことにより相対反射率から色値が算出される。
この結果は出力部２１から出力される。

【００１５】次いで、図１及び図２の装置における処理
動作を、位置補正処理、相対反射率演算処理の順に図を
用いて詳説する。

【００１６】［位置補正処理の実施例］まず、位置補正
処理の一実施例について図３乃至図５を参照して説明す
る。 (i) 位置補正データの作成処理 試料１１の測定に先立ち、位置補正を行なうための基本
情報である位置補正データを作成するために、基準試料
の分光測定が行なわれる。基準試料として、例えば、必
要な位置分解能程度の大きさの微小パターンを線領域内
の位置Ｙ_k(k=1〜m)に有する試料が用いられる。図３は
基準試料Ａ及びその分光画像Ｂの一例を示す図である。
光路が理想的である場合にはｍ本の曲線Ｃ_kはそれぞれ
λ軸方向に伸びる直線となる筈であるから、曲線の状態
は歪みや変形を反映したものとなる。従って、この曲線
に基づいて基準試料のｍ個のパターンに対する波長方向
と受光素子との対応関係が得られる。この対応関係が位
置補正データとして位置補正データメモリ２０３に予め
記憶され、試料１１の測定時にこの対応関係に基づき各
受光素子の検出信号が配置し直される。

【００１７】波長方向と受光素子の位置との対応関係を
得るための具体的な処理方法を、図４を用いて以下に説
明する。基準試料Ａ内の位置Ｙ_k(k=1〜m)に存するｍ個
の微小パターンに対する分光画像Ｂにおいて、λ_i(i=1
〜n)の位置にある縦一列の受光素子（図４の分光画像中
の斜線部）の検出値が読み出され、光強度のピーク値が
現われる受光素子の位置がｐ_ki(k=1〜m)として記憶され
る。例えば、λ_iの位置の縦一列の受光素子の検出値が
図４中のＰに示すようなｙ軸上の位置でピークを示す場
合、このピークの位置（例えばｙ軸方向での受光素子の
位置を識別するために付された番号）がｐ_kiとして順
次、位置補正データメモリ２０３に記憶される。

【００１８】この操作がｉ＝１からλ軸方向の受光素子
数ｎまで繰り返し行なわれることにより、基準試料Ａ内
の位置Ｙ_k(k=1〜m)と曲線Ｃ_kに沿った受光素子の位置ｐ
_ki(i=1〜n)との対応関係が得られる。すなわち、位置Ｙ
_kの分光強度分布を得るためには、ｐ_k1、ｐ_k2、…、ｐ
_knの順に、そこに位置している受光素子の信号値を読み
出せば良いことになる。このようにして、試料内の位置
Ｙ_kと該位置に対する波長の広がり方向を示す受光素子
の位置ｐ_kiとの対応関係が位置補正データとして求めら
れる。

【００１９】なお、光学部品の相対的位置関係が変更さ
れたり、光学部品自体が交換されたりした場合に、分光
画像の歪みや変形の状態が変わる可能性があるため、測
定者が基準試料を移動台１３上に載置し外部から適当な
キー操作を行なうと、基準試料の分光測定が自動的に行
なわれて位置補正データが書き換えられるようにするこ
とが好ましい。また、基準試料を、参考試料と同様に装
置自体に組み込むようにしても良い。

【００２０】(ii) 試料測定時の補正処理 位置補正処理部２０２には、Ａ／Ｄ変換された全受光素
子の信号値を記憶するための画像メモリが設けられてい
る。そして、Ａ／Ｄ変換器２０１の出力信号を該画像メ
モリに書き込む際に、位置補正データメモリ２０３に記
憶されている位置補正データに基づいた書込みアドレス
が生成される。このとき、図５のように、位置Ｙ_kと位
置Ｙ_k+1との間に存する位置Ｙ_jに対しては、位置補正デ
ータメモリ２０３に記憶している曲線Ｃ_kと曲線Ｃ_k+1と
に関する位置補正データが読み出され、両者の重み付き
平均の計算により曲線Ｃ_j（図５中の破線の曲線）が推
定され書き込みアドレスが求められる。これにより、試
料１１の線領域内の如何なる位置に対する分光画像も、
その波長の広がり方向に沿った適切な画像メモリ内の位
置に書き込まれる。すなわち、画像メモリには歪みや変
形が補正された分光画像が得られる。

【００２１】なお、光検出器１９を構成する複数の受光
素子から検出信号を読み出す際に、位置補正データに基
づき読み出すべき受光素子を選択し、画像メモリへは所
定のアドレス順序で書込みを行なうようにしても同様の
結果が得られる。

【００２２】また、光検出器１９に得られる歪みのある
分光画像を、一旦、第１の画像メモリへ書き込み、第１
の画像メモリから第２の画像メモリへ書き移すときに位
置補正を行なうようにしても良い。この場合には、第１
の画像メモリ内には歪みのある分光画像が、第２の画像
メモリ内には歪みの補正された分光画像が得られる。

【００２３】［位置補正処理の他の実施例］次に、位置
補正処理の他の実施例について説明する。上記実施例に
よる位置補正データの作成処理では、λ軸方向に対して
曲線Ｃ_k上のすべての受光素子の位置情報を位置補正デ
ータメモリ２０３に記憶させるため、大容量のメモリが
必要となる。図６は、このメモリ容量を削減することが
できる位置補正データの作成処理を説明するための図で
ある。本実施例では、曲線Ｃ_kに対応する受光素子の位
置ｐ_kiをλ軸方向にｉ＝１からｉ＝ｎまで順番に求める
のではなく、λ軸方向に所定の受光素子数間隔毎に求め
て記憶させる。

【００２４】すなわち、図６中の斜線部の縦の列につい
てのみ、光強度のピークが現われる受光素子の位置をｐ
_ki(k=1〜m)として記憶させる。従って、上記実施例では
λ軸方向の受光素子数に等しいｎ回繰り返し操作を行な
うことにより位置補正データを得ていたのに対し、本実
施例ではその繰り返し操作の回数を大幅に減らすことが
でき、その分だけ位置補正データメモリ２０３の容量も
削減できる。

【００２５】λ軸方向にスキップした間の波長領域に関
しては、補正処理時に、多項式近似や補間等の計算によ
って曲線を定式化し、これに基づき画像メモリのアドレ
ス又は読み出すべき受光素子の位置が決定される。

【００２６】［位置補正処理の変形例］また、上記実施
例とは相違する基準試料を用いて位置補正データを得る
ことも可能である。図７は線領域内に唯一の微小パター
ンを有する基準試料Ａとその分光画像Ｂの一例を示す図
である。基準試料内の微小パターンをＹ軸方向に必要な
分解能程度のステップ幅で移動させつつ、曲線Ｃに対応
する受光素子の位置ｐを求める。このとき、λ軸方向に
対しては、対応するすべての受光素子の位置を記憶させ
るようにしても良いし、所定間隔毎に対応する受光素子
の位置を記憶させるようにしても良い。

【００２７】なお、上述の如くｙ軸方向の歪みや変形を
補正するのみならず、同様の方法を用いてλ軸方向の歪
みも補正することが可能である。その場合、例えば、特
定の波長域で鋭いピークを有するような輝線スペクトル
を有する基準試料が用いられる。そして、分光画像上で
ｙ軸方向に伸びる１乃至複数本のスペクトル曲線を得
て、その曲線に沿う受光素子の位置を求めることにより
波長方向の補正データが作成される。勿論、位置方向と
波長方向の歪みを同時に補正するようにすることも可能
である。

【００２８】［相対反射率演算の処理の実施例］さて、
続いて、相対反射率演算の処理動作について説明する。 (i) 参照データの作成処理 試料１１の測定に先立ち、相対反射率を求める際の基準
となる参照データが作成され、参照データメモリ２０５
に格納される。まず、測定者のキー操作により参照試料
１２の測定が指示されると、試料１１が載置された移動
台１３はＺ方向に後退され、アームにより支持された参
照試料１２が試料１１の元の位置まで移動される。そし
て、この参照試料１２の分光測定が行なわれる。

【００２９】色彩計では、通常、色むらの無い所定の標
準白板が参照試料１２として用いられる。分光測定によ
り、まず、光学系の歪みや変形が補正された参照試料１
２の分光画像が得られる。そして、参照試料１２の二次
元領域における分光画像から分光強度分布が計算され、
参照データメモリ２０５に記憶される。従って、参照デ
ータメモリ２０５には光学系の歪みが補正された分光強
度分布が記憶される。なお、参照試料１２は測定の目的
に応じて適当なものに交換され、参照データメモリ２０
５内のデータは新たに書き換えられる。例えば、特定の
色との色差を求めたい場合には、青、赤等の所定の色を
有する試料が参照試料１２として用いられる。

【００３０】(ii) 試料測定時の演算処理 試料１１が元の所定位置に戻され、光源１０によって照
射される一次元領域の分光強度分布が測定される。移動
台１３と、スリット１４〜光検出器１９より成る光学系
とがＸ軸方向にステップ状に相対移動されつつ分光強度
分布が測定されることにより、反射率演算部２０４では
試料１１上の二次元領域の分光強度分布が求められる。
この分光分布強度は位置補正処理部２０２にて補正処理
がなされた分光画像に基づくものであるから、反射率演
算部２０４内のメモリには光学系の歪みが補正された試
料１１の分光強度分布が記憶される。

【００３１】反射率演算部２０４では、この試料１１の
分光強度分布と該分光強度分布の各位置及び各波長に対
応する参照データとから相対反射率分布が計算される。
この際、参照試料１２の測定時と試料１１の測定時とで
光源１０の光量が相違すると相対反射率の誤差となる。
そこで、参照試料１２測定時に光量モニタ２２で計測し
た光源１０の光量をＡ／Ｄ変換器２０１にてデジタル信
号に変換した値を反射率演算部２０４内のメモリに記憶
させておき、試料１１測定時に計測した光量との差の基
づき反射率を補正するようにしている。

【００３２】次に、本発明の如き分光測定装置の光学系
の他の実施例について以下に説明する。

【００３３】［光源１０の変形例］図８乃至図１０は光
源１０の構成及び構造の実施例を示す図である。図８は
ライン照明を用いた例である。光源１０の照射光を光フ
ァイバ１０２によりライン状の出射部１０１へ導き、試
料１１面上に照射させる。斯くの如きライン照明を用い
れば、試料１１面上の一次元領域を均一に照射すること
ができる。

【００３４】図９は、図８の如きライン照明を２個用い
た例である。ライン状出射部１０１ａ及び１０１ｂは、
それぞれα＝45°の角度をもって二方向から試料１１面
上の一次元領域を照射する。これによれば影のできにく
い光源が実現できる。

【００３５】図１０は試料１１の裏側から光を照射し透
過光を測定する例である。試料１１を載置する移動台１
３には光の照射範囲に窓部が設けられ、この窓部を介し
て試料１１に光が照射される。

【００３６】なお、光源１０としてキセノンランプなど
の励起光を使用し、試料１１から放出される蛍光を分光
測定することも可能である。

【００３７】［光量モニタ２２の変形例］図１１乃至図
１４は光量モニタ２２の構成及び設置の実施例を示す図
である。図１１は光源１０から光を導くための光ファイ
バ１０２を分岐させ、光量モニタ２２へ光の一部を照射
するようにした例である。図１２は、試料１１からの反
射光の光路上にハーフミラー２３を設置し、反射光の一
部を光量モニタ２２の方向へ導くようにした例である。
図１３は移動台１３上の試料１１近傍に光量モニタ２２
を取り付けた例である。図１４は光源１０のランプハウ
スに光量モニタ２２を組み込むようにした例である。い
ずれも、光源１０の光量のバラつきや経時変化による光
量変化を光量モニタ２２によって検出し、前述のような
信号処理を施すことにより反射率等の誤差を修正するこ
とができる。

【００３８】［試料１１位置確認の実施例］図１５乃至
図１６は、試料１１上での測定箇所の位置確認を行なう
ための装置の構成を示す図である。図１５はビデオカメ
ラ２５を用いた例を示す図である。試料１１からの反射
光の光路上にハーフミラー２４或いは移動可能なミラー
（図中の実線の位置及び破線の位置との間で移動可能）
を設置し、該ミラー２４で反射させた試料像をビデオカ
メラ２５によりモニタする。これにより、モニタ画面で
測定位置を確認しながら移動台１３を調整することがで
きる。

【００３９】図１６は、光源１０により照射される試料
１１上の領域を目視で確認できるような発光部２６を設
けるようにした例である。発光部２６の発光素子には可
視光発光ダイオード又は可視光の微小パワーのレーザー
ダイオード等が用いられる。試料１１位置確認時には、
発光部２６が取り付けられたアーム２７を所定位置まで
引き出して試料１１上にスポット光を照射させる。この
スポット光の位置が実際に測定される領域となるように
アーム２７は予め調整される。また、発光部２６は、測
定される一次元領域全体を照射するように複数の発光素
子が配列されたライン状のものとすることがより好まし
い。

【００４０】更に、図１の構成において、測定箇所の位
置確認時には、試料１１からの反射光がスリット１４に
より遮られない位置まで該スリット１４を後退又は移動
させるとともに、回折格子１６を回転させ試料１１から
の反射光の０次光が光検出器１９に入射されるような構
成としても良い。このとき、試料像がそのまま光検出器
１９上に投影されるため、光検出器１９で得た画像を用
いて試料１１の位置調整を行なうことができる。この場
合、回折格子１６を回転させる代わりに回折格子１６の
位置にミラーを移動可能に設置し、光検出器１９上に試
料像を投影させるようにしても良い。

【００４１】［移動台１３の変形例］また、図１７乃至
図１８は広い面積を有する試料１１を測定するための移
動台１３の実施例を示す図である。図１７は二次元的に
広い面積を有する試料１１を測定可能にした移動台１３
の例である。光源１０によって照射される一次元領域は
試料のＹ軸方向の一部分であるが、試料測定時には、図
示の如く、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に試料１１を移動させ
つつ一次元領域の測定を行なうことにより、試料１１全
体の測定を実行させる。或いは、試料１１を固定し光学
系を移動させて測定を行なうようにしても良い。

【００４２】図１８はリボン状の細長い試料１１の測定
を行なうための移動台１３の例である。送り側リール２
８から巻き取り側リール２９へ試料１１をステップ状に
送りつつ一次元領域の測定が行なわれる。このような移
動台１３を用いることにより、広い面積を有する試料の
分光測定或いは測色が効率的に行なえる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係る分光測定装置の実施例を用いた
二次元色彩計の概略構成図。

【図２】 図１中の信号処理部の要部の構成図。

【図３】 位置補正処理の一例を説明するための図。

【図４】 位置補正データ作成処理を説明するための
図。

【図５】 試料測定時の位置補正処理動作を説明するた
めの図。

【図６】 位置補正処理の他の実施例を説明するための
図。

【図７】 位置補正データ作成処理の他の実施例を説明
するための図。

【図８】 他の実施例による光源の構成を示す図。

【図９】 他の実施例による光源の構成を示す図。

【図１０】 他の実施例による光源の構成を示す図。

【図１１】 光量モニタの構成の一例を示す図。

【図１２】 他の実施例による光量モニタを示す図。

【図１３】 他の実施例による光量モニタを示す図。

【図１４】 他の実施例による光量モニタを示す図。

【図１５】 試料位置確認方法の一例を示す図。

【図１６】 他の実施例による試料位置確認方法を示す
図。

【図１７】 他の実施例による試料移動台の構成図。

【図１８】 他の実施例による試料移動台の構成図。

【図１９】 分光測定装置の光学系のブロック構成図。

【図２０】 理想的な光学系による分光画像を示す図。

【図２１】 理想的でない光学系による分光画像を示す
図。

【符号の説明】

１０…光源 １１…試料 １２…参照試料 １３…移動台 １４…スリット １６…回折格子 １９…光検出器 ２０…信号処理部 ２０２…位置補正処理部 ２０３…位置補正データメモリ ２０４…反射率演算部 ２０５…参照データメモリ ２２…光量モニタ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 試料上の一次元領域を分光測定するため
   の分光測定装置において、 a)複数の微小受光素子が二次元的に配置された光検出手
   段と、 b)該光検出手段の一つの次元方向に試料の一次元領域像
   を投影させるとともに他の次元方向に光を分散させるた
   めの分光手段と、 c)測定対象の試料の分光測定に先立ち、既知の分光強度
   分布及びパターンを有する基準試料を分光測定すること
   により求められた、分光強度分布パターンに対応する受
   光素子の位置情報を位置補正情報として記憶しておくた
   めの第１の記憶手段と、 d)測定対象の試料の分光測定に先立ち、前記基準試料と
   は相違する既知の分光強度分布を有する参照試料を分光
   測定することにより求められた分光強度分布を参照情報
   として記憶しておくための第２の記憶手段と、 e)測定対象の試料を分光測定するに際し、前記第１の記
   憶手段から読み出した位置補正情報に基づいて各受光素
   子による検出信号の位置歪みを補正処理するための歪み
   補正手段と、 f)前記測定対象の試料の分光強度分布と前記第２の記憶
   手段から読み出した参照情報とに基づき相対反射率分布
   を計算する演算手段と、 を備えることを特徴とする分光測定装置。