JPH09159799A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPH09159799A JPH09159799A JP7314954A JP31495495A JPH09159799A JP H09159799 A JPH09159799 A JP H09159799A JP 7314954 A JP7314954 A JP 7314954A JP 31495495 A JP31495495 A JP 31495495A JP H09159799 A JPH09159799 A JP H09159799A
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- electron beam
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- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 32
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 10
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【課題】不活性ガスの使用量を少なくし、また照射した
電子線を効率良くキャッチすることを目的とする。 【解決手段】真空チャンバー１の内部に備えられている
電子線発生源１４から放出された電子線をキャッチする
ビームキャッチャー９の両端部に、被照射物５が搬送さ
れる方向に沿って凸部１３を設ける。そして前記凸部１
３の上面と箔押さえフランジ４の下部を固定する。供給
される不活性ガスは凸部１３によって前記凸部方向の洩
れが阻止されるので、窓箔３の冷却に必要な不活性ガス
の量を少なくすることができる。被照射物５に照射した
電子線を効率よくキャッチすることができる。
電子線を効率良くキャッチすることを目的とする。 【解決手段】真空チャンバー１の内部に備えられている
電子線発生源１４から放出された電子線をキャッチする
ビームキャッチャー９の両端部に、被照射物５が搬送さ
れる方向に沿って凸部１３を設ける。そして前記凸部１
３の上面と箔押さえフランジ４の下部を固定する。供給
される不活性ガスは凸部１３によって前記凸部方向の洩
れが阻止されるので、窓箔３の冷却に必要な不活性ガス
の量を少なくすることができる。被照射物５に照射した
電子線を効率よくキャッチすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線照射装置に
関するものである。
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子線照射装置において、真空チャンバ
ー内の電子線発生源から放出された電子線を、搬送され
る被照射物に照射するようにした構成はよく知られてい
る。この場合被照射物を通過した電子線、あるいは被照
射物の外側を通過した電子線などをキャッチするビーム
キャッチャーを設けるのを普通としている。
ー内の電子線発生源から放出された電子線を、搬送され
る被照射物に照射するようにした構成はよく知られてい
る。この場合被照射物を通過した電子線、あるいは被照
射物の外側を通過した電子線などをキャッチするビーム
キャッチャーを設けるのを普通としている。
【０００３】図３は電子線照射装置全体の構成を示し、
図４は従来装置におけるの照射部分の構成を示す。１は
真空チャンバーで内部に電子線発生源１４が設置されて
ある。１１は搬送装置で、たとえばシート状の被照射物
５が搬送ロール１２によって搬入出されるようになって
おり、その搬送過程で電子線発生源１４からの電子線が
照射されるようになっている。２はグリッドウィンドで
ある。３は窓箔で、この窓箔３はグリッドウィンドウ２
と箔押さえフランジ４によって挟みこまれてある。６は
ビームキャッチャーで、被照射物５の背面に設置されて
あり、前述したように被照射物５に照射された電子線、
あるいは被照射物５の外側を通過した電子線などを捕ら
え、制動Ｘ線発生源の限定と電子線による電子線照射装
置本体の破損を防ぐためのものである。７は不活性ガス
供給配管であり、ここを通過した不活性ガスはノズル８
より吹き出され、前記窓箔３に吹き付けられる。また搬
送装置１１の入口側予備室１５内に設けてあるノズル１
０からも不活性ガスが吹き出され、被照射物５の表面に
直接吹き付けるようになっている。ノズル８から不活性
ガスを窓箔に吹き付ける第１の目的は、窓箔３の冷却で
あり、第２の目的は電子線と酸素との反応によるオゾン
の発生を防ぐことを目的としたものであり、以上２点の
目的を達成するために不活性ガスが必要となる。
図４は従来装置におけるの照射部分の構成を示す。１は
真空チャンバーで内部に電子線発生源１４が設置されて
ある。１１は搬送装置で、たとえばシート状の被照射物
５が搬送ロール１２によって搬入出されるようになって
おり、その搬送過程で電子線発生源１４からの電子線が
照射されるようになっている。２はグリッドウィンドで
ある。３は窓箔で、この窓箔３はグリッドウィンドウ２
と箔押さえフランジ４によって挟みこまれてある。６は
ビームキャッチャーで、被照射物５の背面に設置されて
あり、前述したように被照射物５に照射された電子線、
あるいは被照射物５の外側を通過した電子線などを捕ら
え、制動Ｘ線発生源の限定と電子線による電子線照射装
置本体の破損を防ぐためのものである。７は不活性ガス
供給配管であり、ここを通過した不活性ガスはノズル８
より吹き出され、前記窓箔３に吹き付けられる。また搬
送装置１１の入口側予備室１５内に設けてあるノズル１
０からも不活性ガスが吹き出され、被照射物５の表面に
直接吹き付けるようになっている。ノズル８から不活性
ガスを窓箔に吹き付ける第１の目的は、窓箔３の冷却で
あり、第２の目的は電子線と酸素との反応によるオゾン
の発生を防ぐことを目的としたものであり、以上２点の
目的を達成するために不活性ガスが必要となる。
【０００４】ところでこのような電子線照射装置におい
て、ノズル８から窓箔３に吹き付けられた不活性ガスは
その後窓箔３で反射し、散乱する。しかしビームキャッ
チャー６は箔押さえフランジ４より離れて位置し、その
間に空間が形成されるため前記反射した不活性ガスは、
その空間から四方に向かって漏洩し、空間における不活
性ガスの濃度が下がることになる。それを補うために、
多量の不活性ガスが必要となる。
て、ノズル８から窓箔３に吹き付けられた不活性ガスは
その後窓箔３で反射し、散乱する。しかしビームキャッ
チャー６は箔押さえフランジ４より離れて位置し、その
間に空間が形成されるため前記反射した不活性ガスは、
その空間から四方に向かって漏洩し、空間における不活
性ガスの濃度が下がることになる。それを補うために、
多量の不活性ガスが必要となる。
【０００５】さらに窓箔３を通過した電子線は不活性ガ
スとの衝突により、散乱され広がりながら被照射物に照
射される。ビームキャッチャー６は、前述したように被
照射物の背面にあって窓箔３から離れて位置しているた
め、電子線はさらに広がってビームキャッチャー６に到
達することになる。前記電子線をすべて捕捉するために
は、広がった電子線の広がり面積に応じた面積を持つビ
ームキャッチャー６が必要となり、その分電子線照射装
置が大きくなるという問題があった。
スとの衝突により、散乱され広がりながら被照射物に照
射される。ビームキャッチャー６は、前述したように被
照射物の背面にあって窓箔３から離れて位置しているた
め、電子線はさらに広がってビームキャッチャー６に到
達することになる。前記電子線をすべて捕捉するために
は、広がった電子線の広がり面積に応じた面積を持つビ
ームキャッチャー６が必要となり、その分電子線照射装
置が大きくなるという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、不活性ガス
供給配管からノズルを通って窓箔に吹き付けられた後の
不活性ガスが、被照射物の搬送方向の漏洩だけですみ、
照射領域の不活性ガスの濃度を上げることで、不活性ガ
スの量を少なくすると共に、さらにビームキャッチャー
を箔押さえフランジに取り付けることによって、少ない
面積のビームキャッチャーで電子線を効率良く捕捉する
ことを目的とする。
供給配管からノズルを通って窓箔に吹き付けられた後の
不活性ガスが、被照射物の搬送方向の漏洩だけですみ、
照射領域の不活性ガスの濃度を上げることで、不活性ガ
スの量を少なくすると共に、さらにビームキャッチャー
を箔押さえフランジに取り付けることによって、少ない
面積のビームキャッチャーで電子線を効率良く捕捉する
ことを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子線発生源
を備えた真空チャンバーと、前記真空チャンバーの下部
に取り付けられ、電子線の取り出し部である窓箔を取り
付けるグリッドウィンドウと、前記窓箔を前記グリッド
ウィンドウに固定する箔押さえフランジと、前記箔押さ
えフランジに取り付けられた、不活性ガス供給配管を有
するノズルと、前記電子線発生源から前記窓箔を通過し
て放出された電子線をキャッチするビームキャッチャー
を有する電子線照射装置において、前記ビームキャッチ
ャーに被照射物が搬送される方向に沿って、前記ビーム
キャッチャーの両端に形成された凸部の上面と前記箔押
さえフランジの下部を密着して固定してなることを特徴
とする。
を備えた真空チャンバーと、前記真空チャンバーの下部
に取り付けられ、電子線の取り出し部である窓箔を取り
付けるグリッドウィンドウと、前記窓箔を前記グリッド
ウィンドウに固定する箔押さえフランジと、前記箔押さ
えフランジに取り付けられた、不活性ガス供給配管を有
するノズルと、前記電子線発生源から前記窓箔を通過し
て放出された電子線をキャッチするビームキャッチャー
を有する電子線照射装置において、前記ビームキャッチ
ャーに被照射物が搬送される方向に沿って、前記ビーム
キャッチャーの両端に形成された凸部の上面と前記箔押
さえフランジの下部を密着して固定してなることを特徴
とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図１ない
し図２に示す。なお図３ないし図４と同じ符号を付した
部分は、同一または対応する部分を示す。本発明に従
い、ビームキャッチャー９には、その両端に被照射物５
の搬送方向に沿って凸部１３を形成し向かい合う凸部１
３間に凹部１０を形成する。
し図２に示す。なお図３ないし図４と同じ符号を付した
部分は、同一または対応する部分を示す。本発明に従
い、ビームキャッチャー９には、その両端に被照射物５
の搬送方向に沿って凸部１３を形成し向かい合う凸部１
３間に凹部１０を形成する。
【０００９】前記凸部１３が被照射物５の搬送方向に沿
うようにビームキャッチャー９を箔押さえフランジの下
部に配置し、箔押さえフランジ４の下部に凸部１３の上
端と密着して固定する。この固定によって前記ビームキ
ャッチャー９の凹部１０と箔押さえフランジ４の下部と
の間でスリットが形成される。被照射物５は前記スリッ
トを通って電子線照射装置の照射領域に運ばれ、そこで
電子線を照射され、その後前記スリットを出ていくよう
にしている。
うようにビームキャッチャー９を箔押さえフランジの下
部に配置し、箔押さえフランジ４の下部に凸部１３の上
端と密着して固定する。この固定によって前記ビームキ
ャッチャー９の凹部１０と箔押さえフランジ４の下部と
の間でスリットが形成される。被照射物５は前記スリッ
トを通って電子線照射装置の照射領域に運ばれ、そこで
電子線を照射され、その後前記スリットを出ていくよう
にしている。
【００１０】以上の構成において、不活性ガス供給配管
７からノズル８を通って、窓箔３に吹き付けられた不活
性ガスは、窓箔３に吹き付けられた後、四方に発散す
る。しかし、ビームキャッチャー９は前述したように被
照射物５の搬送方向とは平行方向の端部に凸部１３を形
成し、この凸部１３が箔押さえフランジ４と密着して固
定されているので、前記不活性ガスは従来例のように四
方へ漏洩することはなく、スリットからの僅かな量だけ
の漏洩ですむ。そのため多量の不活性ガスを供給しなく
とも照射領域での不活性ガスの濃度を高めることができ
る。これによりノズル８より供給する不活性ガスの量を
減らすことができる。
７からノズル８を通って、窓箔３に吹き付けられた不活
性ガスは、窓箔３に吹き付けられた後、四方に発散す
る。しかし、ビームキャッチャー９は前述したように被
照射物５の搬送方向とは平行方向の端部に凸部１３を形
成し、この凸部１３が箔押さえフランジ４と密着して固
定されているので、前記不活性ガスは従来例のように四
方へ漏洩することはなく、スリットからの僅かな量だけ
の漏洩ですむ。そのため多量の不活性ガスを供給しなく
とも照射領域での不活性ガスの濃度を高めることができ
る。これによりノズル８より供給する不活性ガスの量を
減らすことができる。
【００１１】また、前述したようにビームキャッチャー
９の端部は、その凸部１３において箔押さえフランジ４
と密着して固定されているため、被照射物５の搬送方向
とは直交する方向に広がった電子線は、この端部で捕捉
される。このため従来例に比べて小さい面積のビームキ
ャッチャーでよい。
９の端部は、その凸部１３において箔押さえフランジ４
と密着して固定されているため、被照射物５の搬送方向
とは直交する方向に広がった電子線は、この端部で捕捉
される。このため従来例に比べて小さい面積のビームキ
ャッチャーでよい。
【００１２】なお電子線を照射するために搬送装置１１
の外部から内部へ、被照射物５が送り込まれてくるが、
このとき被照射物５に付随して酸素が搬送装置１１内に
入ってくる。この酸素を除去するため、前述したように
前記ノズル１０からも不活性ガスを吹き出し被照射物５
の表面に吹き付けている。しかし本発明では前述したよ
うに照射領域内の不活性ガスの濃度が高いため、このノ
ズル１０から吹き出している不活性ガスの量を減らして
も、したがって被照射物に付随して搬送装置１１に入っ
てくる酸素の量が増加しても、相対的に酸素濃度が下が
ったことになりオゾンの発生を防ぐことができるように
なって都合がよい。
の外部から内部へ、被照射物５が送り込まれてくるが、
このとき被照射物５に付随して酸素が搬送装置１１内に
入ってくる。この酸素を除去するため、前述したように
前記ノズル１０からも不活性ガスを吹き出し被照射物５
の表面に吹き付けている。しかし本発明では前述したよ
うに照射領域内の不活性ガスの濃度が高いため、このノ
ズル１０から吹き出している不活性ガスの量を減らして
も、したがって被照射物に付随して搬送装置１１に入っ
てくる酸素の量が増加しても、相対的に酸素濃度が下が
ったことになりオゾンの発生を防ぐことができるように
なって都合がよい。
【００１３】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、端
部における凸部が被照射物の搬送方向に沿うようにビー
ムキャッチャーを配置し、その凸部と箔押さえフランジ
の下部と密着して固定したので、そのため凸部方向の不
活性ガスの洩れがなくなり、照射領域の不活性ガスの濃
度を増やすことができたため、照射領域に供給する不活
性ガスの量を減らすことができる。また被照射物の搬送
方向とは直交する方向へ広がった電子線も前記凸部で捕
捉することができるため、小さい面積のビームキャッチ
ャーでよいということになり、したがってビームキャッ
チャーを小型化し、製作費の低廉化を図ることができる
効果を奏する。
部における凸部が被照射物の搬送方向に沿うようにビー
ムキャッチャーを配置し、その凸部と箔押さえフランジ
の下部と密着して固定したので、そのため凸部方向の不
活性ガスの洩れがなくなり、照射領域の不活性ガスの濃
度を増やすことができたため、照射領域に供給する不活
性ガスの量を減らすことができる。また被照射物の搬送
方向とは直交する方向へ広がった電子線も前記凸部で捕
捉することができるため、小さい面積のビームキャッチ
ャーでよいということになり、したがってビームキャッ
チャーを小型化し、製作費の低廉化を図ることができる
効果を奏する。
【図１】本発明の一実施の形態の断面図
【図２】本発明の一実施の形態の分解斜視図
【図３】電子線照射装置の全体図
【図４】従来例の構成図
１ 真空チャンバー ２ グリッドウィンドウ ３ 窓箔 ４ 箔押さえフランジ ５ 被照射物 ７ 不活性ガス供給配管 ８ ノズル ９ ビームキャッチャー １３ 凸部 １４ 電子線発生源
Claims (1)
- 【請求項１】電子線発生源を備えた真空チャンバーと、
前記真空チャンバーの下部に取り付けられ、電子線の取
り出し部である窓箔を取り付けるグリッドウィンドウ
と、前記窓箔を前記グリッドウィンドウに固定する箔押
さえフランジと、不活性ガスを供給する不活性ガス供給
配管と、前記不活性ガス供給配管から供給される不活性
ガスを前記窓箔に吹き付けるためのノズルと、前記電子
線発生源から前記窓箔を通過して放出された電子線をキ
ャッチするビームキャッチャーを有する電子線照射装置
において、被照射物が搬送される方向に沿って、前記ビ
ームキャッチャーの両端に凸部を形成し、前記凸部の上
端を、前記箔押さえフランジの下部に密着して固定して
なる電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7314954A JPH09159799A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7314954A JPH09159799A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09159799A true JPH09159799A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=18059668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7314954A Pending JPH09159799A (ja) | 1995-12-04 | 1995-12-04 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09159799A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255124A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 容器の殺菌方法及び殺菌装置 |
| JP2008157702A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Stanley Electric Co Ltd | 電子線・ｘ線源装置およびエアロゾル分析装置 |
| JP2010008385A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Iwasaki Electric Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JP2015080528A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 日立造船株式会社 | 電子線滅菌装置、およびそれを用いた滅菌容器内部の滅菌方法 |
-
1995
- 1995-12-04 JP JP7314954A patent/JPH09159799A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255124A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 容器の殺菌方法及び殺菌装置 |
| JP2008157702A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Stanley Electric Co Ltd | 電子線・ｘ線源装置およびエアロゾル分析装置 |
| JP2010008385A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Iwasaki Electric Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JP2015080528A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 日立造船株式会社 | 電子線滅菌装置、およびそれを用いた滅菌容器内部の滅菌方法 |
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