JPH09161992A - マイクロ波共振検針器およびこれを利用したダイナミックプラズマの密度測定方法 - Google Patents
マイクロ波共振検針器およびこれを利用したダイナミックプラズマの密度測定方法Info
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- JPH09161992A JPH09161992A JP8235402A JP23540296A JPH09161992A JP H09161992 A JPH09161992 A JP H09161992A JP 8235402 A JP8235402 A JP 8235402A JP 23540296 A JP23540296 A JP 23540296A JP H09161992 A JPH09161992 A JP H09161992A
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- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 49
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 15
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims description 9
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 7
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 7
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 7
- 238000001739 density measurement Methods 0.000 claims description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 claims 1
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 117
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 241001364096 Pachycephalidae Species 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高い空間分解能で低いプラズマの密度及び局部
的なプラズマ密度を測定することができるマイクロ波共
振検針器を提供する。 【解決手段】1/4波長平行伝送路10と、伝送路10
と隣接した所に位置して同軸ケーブル13に連結され伝
送路10を振動させる第1磁気ループ13と、伝送路1
0を通じて転達された信号を外部の出力装置に出力する
第2磁気ループ13と、同軸ケーブル13を囲むパイレ
ックス管14とを備えたマイクロ波共振検針器であっ
て、伝送路10に所定の周波数を印加し、該周波数との
共振の発生を検出することで、電子素子から発生したプ
ラズマにおける共振の発生時間及び維持時間を測定する
と共に、これらの測定を印加する周波数を変える毎に繰
り返すことで、与えられた位置でのプラズマ密度の時間
変化を測定する。
的なプラズマ密度を測定することができるマイクロ波共
振検針器を提供する。 【解決手段】1/4波長平行伝送路10と、伝送路10
と隣接した所に位置して同軸ケーブル13に連結され伝
送路10を振動させる第1磁気ループ13と、伝送路1
0を通じて転達された信号を外部の出力装置に出力する
第2磁気ループ13と、同軸ケーブル13を囲むパイレ
ックス管14とを備えたマイクロ波共振検針器であっ
て、伝送路10に所定の周波数を印加し、該周波数との
共振の発生を検出することで、電子素子から発生したプ
ラズマにおける共振の発生時間及び維持時間を測定する
と共に、これらの測定を印加する周波数を変える毎に繰
り返すことで、与えられた位置でのプラズマ密度の時間
変化を測定する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非常に小さい電子
素子又はプラズマ発生器から発生する比較的低いダイナ
ミックスプラズマの密度又は局部的な密度を測定するた
めのマイクロ波共振検針器(プローブ)、及びこれを利
用したダイナミックスプラズマの密度測定方法に関する
ことである。
素子又はプラズマ発生器から発生する比較的低いダイナ
ミックスプラズマの密度又は局部的な密度を測定するた
めのマイクロ波共振検針器(プローブ)、及びこれを利
用したダイナミックスプラズマの密度測定方法に関する
ことである。
【0002】
【従来の技術】いままで提案されたプラズマ密度測定方
法はマイクロ波干渉計(microwave interformetere)、
誘導電流回転(Faraday rotation)測定方法そして共振
空洞転移(resonance cavity shift)方法等があるが、
これらが大部分が空間的に平均化された密度(spatiall
y averaged denisities)値を測定するに適当な方法で
ある。
法はマイクロ波干渉計(microwave interformetere)、
誘導電流回転(Faraday rotation)測定方法そして共振
空洞転移(resonance cavity shift)方法等があるが、
これらが大部分が空間的に平均化された密度(spatiall
y averaged denisities)値を測定するに適当な方法で
ある。
【0003】上記の様に正常状態(steady state)から
のプラズマ密度を測定する方法には従来からの多様の方
法が有ったが、動的状態(dynamical state)なるプラ
ズマの密度を測定する方法はなかった。
のプラズマ密度を測定する方法には従来からの多様の方
法が有ったが、動的状態(dynamical state)なるプラ
ズマの密度を測定する方法はなかった。
【0004】正常状態のプラズマ密度を測定する方法の
代表的なのがラングミュア(Langmuir)検針器を利用す
る方法である。
代表的なのがラングミュア(Langmuir)検針器を利用す
る方法である。
【0005】これは検針器をプラズマ内に設置して、上
記検針器に引加された電圧を可変しながら電流を測定す
るためにプラズマの温度と密度を同時に測定できる方法
である。
記検針器に引加された電圧を可変しながら電流を測定す
るためにプラズマの温度と密度を同時に測定できる方法
である。
【0006】このようなラングミュア(langmuir)検針
器方法を空間的に平均化されたプラズマの密度を測定す
るために多く使用されることで、プラズマ密度が1010
<n<1012cm~3あいだの範囲を測定するのに使用す
る。
器方法を空間的に平均化されたプラズマの密度を測定す
るために多く使用されることで、プラズマ密度が1010
<n<1012cm~3あいだの範囲を測定するのに使用す
る。
【0007】だがこのようなラングミュア検針器方法は
広い幅のウィッスラー(whistler)波形のため
局部的な加熱(Local heating)と温度の非対称性が誘
引され、測定誤差が大きくなり、測定が非常に難しくな
る場合がある。
広い幅のウィッスラー(whistler)波形のため
局部的な加熱(Local heating)と温度の非対称性が誘
引され、測定誤差が大きくなり、測定が非常に難しくな
る場合がある。
【0008】又、上記ラングミュア検針器を利用して測
定を遂行するとき、プラズマの密度は粒子フラックス
(particle flux)から得ることができるために大部分
の不確実性はプラズマシース(sheath)内の未知の小粒
子のダイナミックス(dynamics)から起因し、併せて測
定を遂行するときいくたびの過程のために測定結果を正
確に解釈するので非常に難しい。
定を遂行するとき、プラズマの密度は粒子フラックス
(particle flux)から得ることができるために大部分
の不確実性はプラズマシース(sheath)内の未知の小粒
子のダイナミックス(dynamics)から起因し、併せて測
定を遂行するときいくたびの過程のために測定結果を正
確に解釈するので非常に難しい。
【0009】従来技術の科学的な測定方法と共振コーン
(cone)測定方法はプラズマから発光された電気磁気的
な発散を測定することでプラズマの密度を計算すること
ができる。
(cone)測定方法はプラズマから発光された電気磁気的
な発散を測定することでプラズマの密度を計算すること
ができる。
【0010】ここで、共振コーン測定方法は弱く磁気化
された(weakly magnetized)プラズマには利用される
ことができない。
された(weakly magnetized)プラズマには利用される
ことができない。
【0011】又、electron plasma-wave dispersion測
定方法は非常に高い周波数(1〜10GHz)から適用
されるものであり、その利用は非常に難しい。
定方法は非常に高い周波数(1〜10GHz)から適用
されるものであり、その利用は非常に難しい。
【0012】さらに、非常に小さい電子素子とプラズマ
発生器から発生するプラズマの密度を従来の測定方法を
利用して測定するとき、これに基づいた上記問題点等は
ひどく小さい電子素子からプラズマが発生する場合には
局部的な密度測定(Local density measurement)方法
を利用しなければならない。
発生器から発生するプラズマの密度を従来の測定方法を
利用して測定するとき、これに基づいた上記問題点等は
ひどく小さい電子素子からプラズマが発生する場合には
局部的な密度測定(Local density measurement)方法
を利用しなければならない。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】だが、従来の検針器を
局部的に発生されたプラズマ内に位置するとき、その検
針器の面積に因るシース(sheath)効果のために正確な
測定が不可能であった。
局部的に発生されたプラズマ内に位置するとき、その検
針器の面積に因るシース(sheath)効果のために正確な
測定が不可能であった。
【0014】その例として、丈概1012cm~3程度の密
度を測定するためにはラングミュア検針器の幅は0.5
mm以上、長さは約3〜4mm程度が要求される。
度を測定するためにはラングミュア検針器の幅は0.5
mm以上、長さは約3〜4mm程度が要求される。
【0015】それで、今までは非常に小さい電子素子が
プラズマ発生器から発生されるプラズマの密度を時間的
に又は空間的に測定できる測定方法はない。
プラズマ発生器から発生されるプラズマの密度を時間的
に又は空間的に測定できる測定方法はない。
【0016】本発明は、非常に小さいプラズマ発生器の
性能又その発生されたプラズマの密度を、時間的に或い
は空間的にもっと見やすくそして正確にその値を測定し
て、発生されたプラズマの資料分析と応用に利用するた
めのマイクロ波共振検針器、及びこれを利用したダイナ
ミックスプラズマの密度測定方法を提供するのがその目
的である。
性能又その発生されたプラズマの密度を、時間的に或い
は空間的にもっと見やすくそして正確にその値を測定し
て、発生されたプラズマの資料分析と応用に利用するた
めのマイクロ波共振検針器、及びこれを利用したダイナ
ミックスプラズマの密度測定方法を提供するのがその目
的である。
【0017】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、1/4波長平行伝送路と、上記1/4波長
平行伝送路と隣接した所に位置して第1同軸ケーブルに
連結し、外部の周波数発生器の出力を受けて、上記1/
4波長平行伝送路を振動させる第1磁気ループと、上記
1/4波長平行伝送路と隣接した所に位置して第2同軸
ケーブルに連結し、上記1/4波長平行伝送路を通じて
転達された信号を外部の出力装置へ出力する第2磁気ル
ープと、上記1/4波長平行伝送路を、上記第1磁気ル
ープと上記第2磁気ループとの間に位置しかつ電気的に
フローティングするように、上記両同軸ケーブルに装着
させる結合手段とを備えて構成されて、真空密封される
を特徴とする。
に本発明は、1/4波長平行伝送路と、上記1/4波長
平行伝送路と隣接した所に位置して第1同軸ケーブルに
連結し、外部の周波数発生器の出力を受けて、上記1/
4波長平行伝送路を振動させる第1磁気ループと、上記
1/4波長平行伝送路と隣接した所に位置して第2同軸
ケーブルに連結し、上記1/4波長平行伝送路を通じて
転達された信号を外部の出力装置へ出力する第2磁気ル
ープと、上記1/4波長平行伝送路を、上記第1磁気ル
ープと上記第2磁気ループとの間に位置しかつ電気的に
フローティングするように、上記両同軸ケーブルに装着
させる結合手段とを備えて構成されて、真空密封される
を特徴とする。
【0018】又は、上記マイクロ波共振検針器とプラズ
マを発生することが可能な電子素子を10~5Torr以
下に維持する真空チャンバ内に固定し、上記電子素子か
らプラズマを発生させるための、駆動回路をさらに設け
る構成としても良い。
マを発生することが可能な電子素子を10~5Torr以
下に維持する真空チャンバ内に固定し、上記電子素子か
らプラズマを発生させるための、駆動回路をさらに設け
る構成としても良い。
【0019】また、本発明のダイナミックスプラズマ密
度を測定する方法は製作されたマイクロ波共振検針器を
備える測定システムを利用して、1/4波長平行伝送路
の共振周波数が、真空中からの共振周波数に従って増加
させる現象を利用したのである。
度を測定する方法は製作されたマイクロ波共振検針器を
備える測定システムを利用して、1/4波長平行伝送路
の共振周波数が、真空中からの共振周波数に従って増加
させる現象を利用したのである。
【0020】その方法は、先に真空又プラズマ状態でマ
イクロ波共振検針器に周波数を可変しながら真空中での
共振周波数を測定する段階と、その測定された共振周波
数の変化に相応して電子素子から発生したプラズマの共
振時間又維持時間を測定する段階と、上記測定された共
振周波数を利用してプラズマの周波数を計算する段階
と、この測定されたプラズマの周波数は上記測定された
プラズマの共振時間又維持時間を利用して与えた位置か
らプラズマ密度を測定する段階とを包含することに特徴
がある。
イクロ波共振検針器に周波数を可変しながら真空中での
共振周波数を測定する段階と、その測定された共振周波
数の変化に相応して電子素子から発生したプラズマの共
振時間又維持時間を測定する段階と、上記測定された共
振周波数を利用してプラズマの周波数を計算する段階
と、この測定されたプラズマの周波数は上記測定された
プラズマの共振時間又維持時間を利用して与えた位置か
らプラズマ密度を測定する段階とを包含することに特徴
がある。
【0021】上記測定されたプラズマ密度の値等はカー
ブフィッティング(curve fitting)方法を利用して外
挿(extraplotating)することによって与えた位置から
電子素子から発生したプラズマ密度を正確に決定するこ
とができる。
ブフィッティング(curve fitting)方法を利用して外
挿(extraplotating)することによって与えた位置から
電子素子から発生したプラズマ密度を正確に決定するこ
とができる。
【0022】上記プラズマ維持時間は始めの共振時間と
次の共振時間とのあいだの時間である。
次の共振時間とのあいだの時間である。
【0023】即ち、本発明に依った測定方法を利用して
時間的に変わるプラズマ密度を測定することができる。
時間的に変わるプラズマ密度を測定することができる。
【0024】このように本発明は今後非常に小さいプラ
ズマ発生器の性能、及び発生されたプラズマの分析と応
用に容易なことである。
ズマ発生器の性能、及び発生されたプラズマの分析と応
用に容易なことである。
【0025】また、上記目的は、真空中に発生するダイ
ナミックプラズマのプラズマ密度を測定するマイクロ波
共振検針器であって、真空領域内に配置される、伝送
路、外部の信号発生器の出力を受けて上記伝送路を振動
させるための第1磁気ループ、上記伝送路で受信された
信号を検出するための第2磁気ループ、及び上記伝送路
を真空中で電気的にフローティングするように支持する
結合手段と、前記真空領域内に位置する、上記第1及び
第2磁気ループの各々への信号入出力部を、当該領域内
で発生するプラズマから略遮蔽するための絶縁体で構成
された遮蔽部材とを備えることを特徴とするマイクロ波
共振検針器、およびこれを備えた測定システムによって
達成される。
ナミックプラズマのプラズマ密度を測定するマイクロ波
共振検針器であって、真空領域内に配置される、伝送
路、外部の信号発生器の出力を受けて上記伝送路を振動
させるための第1磁気ループ、上記伝送路で受信された
信号を検出するための第2磁気ループ、及び上記伝送路
を真空中で電気的にフローティングするように支持する
結合手段と、前記真空領域内に位置する、上記第1及び
第2磁気ループの各々への信号入出力部を、当該領域内
で発生するプラズマから略遮蔽するための絶縁体で構成
された遮蔽部材とを備えることを特徴とするマイクロ波
共振検針器、およびこれを備えた測定システムによって
達成される。
【0026】また、上記目的は、前記マイクロ波共振検
針器に所定の周波数の信号を供給し、その信号との共振
状態を測定する第1段階と、前記第1段階での測定結果
から、プラズマが発生してから最初の共振が起こるまで
の時間(共振時間)と、当該最初の共振から次の共振が
起こるまでの時間(維持時間)を検出する第2段階と、
前記第1段階で測定された共振に対応するプラズマ周波
数を計算する第3段階と、前記第1段階〜第3段階まで
の処理を、予め定めた複数の周波数について行なわせる
第4段階と、前記測定が行なわれた各周波数毎に得られ
る、前記プラズマ周波数と前記共振時間及び維持時間と
を利用して、当該マイクロ波共振検針器が配置された位
置でのプラズマ密度の時間変化を取得する第5段階とか
ら成ることを特徴とするマイクロ波共振検針器を利用し
たダイナミックスプラズマの密度測定方法により達成さ
れる。
針器に所定の周波数の信号を供給し、その信号との共振
状態を測定する第1段階と、前記第1段階での測定結果
から、プラズマが発生してから最初の共振が起こるまで
の時間(共振時間)と、当該最初の共振から次の共振が
起こるまでの時間(維持時間)を検出する第2段階と、
前記第1段階で測定された共振に対応するプラズマ周波
数を計算する第3段階と、前記第1段階〜第3段階まで
の処理を、予め定めた複数の周波数について行なわせる
第4段階と、前記測定が行なわれた各周波数毎に得られ
る、前記プラズマ周波数と前記共振時間及び維持時間と
を利用して、当該マイクロ波共振検針器が配置された位
置でのプラズマ密度の時間変化を取得する第5段階とか
ら成ることを特徴とするマイクロ波共振検針器を利用し
たダイナミックスプラズマの密度測定方法により達成さ
れる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を添付
された図面に基づいて詳細に説明する。
された図面に基づいて詳細に説明する。
【0028】図1に引加されたマイクロ波共振周波数を
真空とプラズマ内から測定してプラズマ密度を算出でき
るように設計、製作された、本発明によるマイクロ波共
振検針器(以下検針器と略称する)の構造の一例を示す
図である。
真空とプラズマ内から測定してプラズマ密度を算出でき
るように設計、製作された、本発明によるマイクロ波共
振検針器(以下検針器と略称する)の構造の一例を示す
図である。
【0029】図1から、参照番号10は純度が非常に高
く直径が0.05mmの銀(silver)ワイヤを利用して
作った1/4波長平行伝送路(quater wave-length par
allel-wire transmission line)である。ここで銀を用
いる理由はその電気伝導度が高いためである。この時伝
送路は、2本の平行線から構成され、その長さは13.
5mmで、その幅は3.0mmである。
く直径が0.05mmの銀(silver)ワイヤを利用して
作った1/4波長平行伝送路(quater wave-length par
allel-wire transmission line)である。ここで銀を用
いる理由はその電気伝導度が高いためである。この時伝
送路は、2本の平行線から構成され、その長さは13.
5mmで、その幅は3.0mmである。
【0030】この1/4波長平行伝送路10は、2個の
磁気ループ(magnetic loop)11の間に設けられたエ
ポキシ(epoxy)12を利用して装着される。このため、
電気的にフローティング(floating)されている状態に
ある。
磁気ループ(magnetic loop)11の間に設けられたエ
ポキシ(epoxy)12を利用して装着される。このため、
電気的にフローティング(floating)されている状態に
ある。
【0031】上記した2個の磁気ループ11は、セミリ
ジド(semirigid)同軸ケーブル13に連結されて、こ
の2個の磁気ループ中の一つのループは平行伝送路10
を振動して、ほかの磁気ループは、当該平行伝送路10
が共振器として機能した場合に結合した信号を捕える役
割をする。
ジド(semirigid)同軸ケーブル13に連結されて、こ
の2個の磁気ループ中の一つのループは平行伝送路10
を振動して、ほかの磁気ループは、当該平行伝送路10
が共振器として機能した場合に結合した信号を捕える役
割をする。
【0032】パイレックス管(pyrex tubing)14は、
上述した構成の検針器全体を真空密封(vacuum sealin
g)するために使用される。すなわち、2個のセミリジ
ド同軸ケーブルがパイレックス管14内に挿入され、こ
のパイレックス管14の一端がBNCコネクタに連結さ
れており、このBNCコネクタを利用して真空システム
内部に前記検針器全体を位置させている。真空システム
の外側では、BNCコネクタをrubringを利用して引き
縛って真空システムでの前記検針器の位置を調整してい
る。また、BNCコネクタを介して真空内に位置した前
記検針器に所定周波数の信号を印加すると共に、その信
号との共振信号を検出して、鉱石検出器19へ出力す
る。
上述した構成の検針器全体を真空密封(vacuum sealin
g)するために使用される。すなわち、2個のセミリジ
ド同軸ケーブルがパイレックス管14内に挿入され、こ
のパイレックス管14の一端がBNCコネクタに連結さ
れており、このBNCコネクタを利用して真空システム
内部に前記検針器全体を位置させている。真空システム
の外側では、BNCコネクタをrubringを利用して引き
縛って真空システムでの前記検針器の位置を調整してい
る。また、BNCコネクタを介して真空内に位置した前
記検針器に所定周波数の信号を印加すると共に、その信
号との共振信号を検出して、鉱石検出器19へ出力す
る。
【0033】本実施形態では、上述したような構成によ
って真空システム内に配置された伝送路10を、当該真
空システム内で発生した測定しようとするプラズマと接
触させ、当該プラズマの動的状態の測定を行なうもので
ある。
って真空システム内に配置された伝送路10を、当該真
空システム内で発生した測定しようとするプラズマと接
触させ、当該プラズマの動的状態の測定を行なうもので
ある。
【0034】図2はダイナミックスプラズマ密度を上記
マイクロ波検針器を利用して測定する装置の回路図であ
る。
マイクロ波検針器を利用して測定する装置の回路図であ
る。
【0035】上記図1のような構成を備えるマイクロ波
共振検針器15とプラズマを発生する電子素子16を先
に真空チェンバ17内に固定する。
共振検針器15とプラズマを発生する電子素子16を先
に真空チェンバ17内に固定する。
【0036】可変周波数信号発生器(sweep generator)
18は2本の同軸ケーブル13中の一つの同軸ケーブル
に連結され、もう一方は鉱石検出器(Crystal detecto
r)19に連結される。この鉱石検出器19は、検針器
15で検出された共振周波数の強度を電気的な信号に変
換するものである。
18は2本の同軸ケーブル13中の一つの同軸ケーブル
に連結され、もう一方は鉱石検出器(Crystal detecto
r)19に連結される。この鉱石検出器19は、検針器
15で検出された共振周波数の強度を電気的な信号に変
換するものである。
【0037】この鉱石検出器19はディジタルオシロス
コープ20に連結され、検針器15で結合された共振周
波数信号の強度についての時間変化を、図4のグラフに
示すように測定することができる。
コープ20に連結され、検針器15で結合された共振周
波数信号の強度についての時間変化を、図4のグラフに
示すように測定することができる。
【0038】電子素子16には素子からプラズマを発生
できえる回路が連結される。
できえる回路が連結される。
【0039】この時使用された回路は直流電源21、ス
イッチ23、電流調節用抵抗24、上記電子素子16両
端に流れる電流を測定するための抵抗25、非常に速い
ディジタルオシロスコープ26により構成される。
イッチ23、電流調節用抵抗24、上記電子素子16両
端に流れる電流を測定するための抵抗25、非常に速い
ディジタルオシロスコープ26により構成される。
【0040】図3は、図2の測定回路を利用してプラズ
マ発生器から発生するダイナミックスプラズマの密度を
測定する方法を現す流れ図である。先ず真空チェンバ1
7内の気圧を10~5Torr以下に維持した状態で、周
波数発生器18から周波数を可変しながら真空中での共
振周波数を測定する(ステップ301)。
マ発生器から発生するダイナミックスプラズマの密度を
測定する方法を現す流れ図である。先ず真空チェンバ1
7内の気圧を10~5Torr以下に維持した状態で、周
波数発生器18から周波数を可変しながら真空中での共
振周波数を測定する(ステップ301)。
【0041】この時測定された真空中での共振周波数は
5.5MHzで、共振周波数の値を計算するための下の
理論式(数1)から平行伝送路10の長さが13.5m
mの時の値である5.55MHzとよく一致するのが分
る。
5.5MHzで、共振周波数の値を計算するための下の
理論式(数1)から平行伝送路10の長さが13.5m
mの時の値である5.55MHzとよく一致するのが分
る。
【0042】 ωres=πc/2l√εr (数1) 誘電率εrがεr=1−ω2 p/ω2であたえられたとした
ら平行伝送路10の1/4波長の共振周波数(ωres)
は下に与えた数2のように真空中での共振周波数(ω
ores)からその値が増加することになる。
ら平行伝送路10の1/4波長の共振周波数(ωres)
は下に与えた数2のように真空中での共振周波数(ω
ores)からその値が増加することになる。
【0043】それで真空及びプラズマ状態にて測定され
た共振周波数を利用して、下に与えた数2を利用すれ
ば、プラズマの周波数ωPをたやすく得ることができる
(ステップ302、303)。
た共振周波数を利用して、下に与えた数2を利用すれ
ば、プラズマの周波数ωPをたやすく得ることができる
(ステップ302、303)。
【0044】 ω2 res=ω2 ores+ω2 P (数2) 次に、測定されたプラズマ周波数から下の数3を利用し
て、引加された共振周波数に依るプラズマの密度を計算
することができる(ステップ304)。
て、引加された共振周波数に依るプラズマの密度を計算
することができる(ステップ304)。
【0045】 ne=ω2 Pεome/e2 (数3) この時εoは真空中からの誘電率、me、eは各々電子の
質量、電荷量である。
質量、電荷量である。
【0046】次に、上記ステップ302で測定されるT
tおよびTdについて図4を参照して説明する。
tおよびTdについて図4を参照して説明する。
【0047】図4は引加された定電圧パルスに依って電
子素子16から発生したプラズマに因づいて周波数発生
器18から検針器15に引加された周波数がプラズマ内
で結合し共振した様子を示す出力波形図である。この時
引加された周波数は6.50GHzであって共振が13
μsおよび16μsに発生することが分る。
子素子16から発生したプラズマに因づいて周波数発生
器18から検針器15に引加された周波数がプラズマ内
で結合し共振した様子を示す出力波形図である。この時
引加された周波数は6.50GHzであって共振が13
μsおよび16μsに発生することが分る。
【0048】初めの共振はプラズマが電子素子16によ
って生成され、そのプラズマ密度が増加する時に起り、
第2の共振は発生されたプラズマが拡散又再結合に依っ
てプラズマ密度が減少する時に起る。
って生成され、そのプラズマ密度が増加する時に起り、
第2の共振は発生されたプラズマが拡散又再結合に依っ
てプラズマ密度が減少する時に起る。
【0049】電子素子16からプラズマが発生して初め
の共振が起る時までの時間をTtと現すと、この時の測
定された値は13μsである。
の共振が起る時までの時間をTtと現すと、この時の測
定された値は13μsである。
【0050】又は初めの共振と次の共振間の時間をプラ
ズマ維持期間(plasma dutation)Tdと定義すると、こ
の時の測定された値は3μsである。
ズマ維持期間(plasma dutation)Tdと定義すると、こ
の時の測定された値は3μsである。
【0051】図5は、検針器15に一定の周波数を引加
すると共に、プラズマを発生する電子素子16に定電圧
パルスを印加してプラズマを発生した後、そのプラズマ
内で測定されたマイクロ波共振検針器15の出力波形を
図示した図面である。
すると共に、プラズマを発生する電子素子16に定電圧
パルスを印加してプラズマを発生した後、そのプラズマ
内で測定されたマイクロ波共振検針器15の出力波形を
図示した図面である。
【0052】図5においては、引加された周波数は5.
70GHzであり、共振が4.5μs又は11.5μs
に発生する。この時、プラズマ維持期間は7μsであ
る。
70GHzであり、共振が4.5μs又は11.5μs
に発生する。この時、プラズマ維持期間は7μsであ
る。
【0053】この場合、上記数3を利用すれば、プラズ
マ密度は2.78×1010cm~3を得ることができる。
マ密度は2.78×1010cm~3を得ることができる。
【0054】図6は検針器15に一定周波数を引加し
て、定電圧パルスを印加して電子素子16からプラズマ
を発生した後、そのプラズマ内で測定されたマイクロ波
共振検針器15の出力波形を図示した図面である。
て、定電圧パルスを印加して電子素子16からプラズマ
を発生した後、そのプラズマ内で測定されたマイクロ波
共振検針器15の出力波形を図示した図面である。
【0055】この時引加された周波数は6.30GHz
であって、共振が10μs又は13.5μsで発生する
ことがわかり、またプラズマ維持期間は3.5μsであ
る。
であって、共振が10μs又は13.5μsで発生する
ことがわかり、またプラズマ維持期間は3.5μsであ
る。
【0056】この場合、上記数3を利用すればプラズマ
密度は1.17×1011cm~3を得られる。
密度は1.17×1011cm~3を得られる。
【0057】図7は検針器15に一定周波数を引加し
て、定電圧パルスを印加して電子素子16からプラズマ
を発生させた後、そのプラズマ内で測定されたマイクロ
波共振検針器15の出力波形を図示した図面である。
て、定電圧パルスを印加して電子素子16からプラズマ
を発生させた後、そのプラズマ内で測定されたマイクロ
波共振検針器15の出力波形を図示した図面である。
【0058】この時引加された周波数は6.75GHz
であって、共振が13μs又は14μsから発生するこ
とが分り、又プラズマ維持期間は1.0μsである。
であって、共振が13μs又は14μsから発生するこ
とが分り、又プラズマ維持期間は1.0μsである。
【0059】この場合上記数3を利用すれば、プラズマ
密度は1.9×1011cm~3を得ることができる。
密度は1.9×1011cm~3を得ることができる。
【0060】上記図5、図6、図7に示したように、本
発明の検針器15に引加する周波数を変えることによっ
て、各周波数に対応したプラズマの密度を、電子素子1
5からプラズマが発生して初めの共振が起るまでの時
間、及びプラズマ維持期間の関数として現われた、いろ
いろの結果等を得ることができる。なお、本実施形態の
上記各図に示す測定結果は同じプラズマについて行なわ
れたものではなく、検針器15に印加する周波数を変え
るごとに、同じ手順でプラズマを発生させ、共振の発生
状態の測定を繰り返すことで得られたものである。
発明の検針器15に引加する周波数を変えることによっ
て、各周波数に対応したプラズマの密度を、電子素子1
5からプラズマが発生して初めの共振が起るまでの時
間、及びプラズマ維持期間の関数として現われた、いろ
いろの結果等を得ることができる。なお、本実施形態の
上記各図に示す測定結果は同じプラズマについて行なわ
れたものではなく、検針器15に印加する周波数を変え
るごとに、同じ手順でプラズマを発生させ、共振の発生
状態の測定を繰り返すことで得られたものである。
【0061】このような測定結果等を利用すれば、電子
素子16からうけた位置(素子表面から検針器までの距
離)からのプラズマ密度を計算することができる。
素子16からうけた位置(素子表面から検針器までの距
離)からのプラズマ密度を計算することができる。
【0062】図8は引加された共振周波数に依るプラズ
マの密度を、電子素子16からプラズマが発生して共振
が起るまでの時間、およびプラズマ維持時間を表示した
図面である。
マの密度を、電子素子16からプラズマが発生して共振
が起るまでの時間、およびプラズマ維持時間を表示した
図面である。
【0063】図8を利用して、与えた位置からマイクロ
波共振検針器15を利用してプラズマ密度を測定でき
る。
波共振検針器15を利用してプラズマ密度を測定でき
る。
【0064】この測定方法に対して詳述すれば、まずマ
イクロ波共振検針器に共振周波数を引加した後、定電圧
パルスを印加することで電子素子16からプラズマが発
生する。
イクロ波共振検針器に共振周波数を引加した後、定電圧
パルスを印加することで電子素子16からプラズマが発
生する。
【0065】この時発生したプラズマ密度の値は時間に
依って変わり、その値に対応する共振周波数が印加した
周波数とが一致する時、共振が発生することになる。
依って変わり、その値に対応する共振周波数が印加した
周波数とが一致する時、共振が発生することになる。
【0066】その次に、引加する共振周波数を変化させ
て、再度、電子素子16からプラズマを発生させ、初め
の共振が起る時までの時間及びプラズマ維持期間を、オ
シロスコープ等を利用して測定する。このようにして印
加する周波数を変えて得られた測定値等に基づいて、図
8に示すように、引加された周波数の変化に依るプラズ
マ密度をTtnとTdnの関数として現わす。
て、再度、電子素子16からプラズマを発生させ、初め
の共振が起る時までの時間及びプラズマ維持期間を、オ
シロスコープ等を利用して測定する。このようにして印
加する周波数を変えて得られた測定値等に基づいて、図
8に示すように、引加された周波数の変化に依るプラズ
マ密度をTtnとTdnの関数として現わす。
【0067】終りに測定されたプラズマ密度の値等をカ
ーブフィッティング(curve fitting)方法を利用し
て、外挿(extrapolating)することで、所定の位置で
電子素子16が発生したプラズマのプラズマ密度を正確
に決定することができる。
ーブフィッティング(curve fitting)方法を利用し
て、外挿(extrapolating)することで、所定の位置で
電子素子16が発生したプラズマのプラズマ密度を正確
に決定することができる。
【0068】本実施形態の場合、電子素子16表面から
1cmの距離で測定されたプラズマ密度は大略4×10
11cm~3である。
1cmの距離で測定されたプラズマ密度は大略4×10
11cm~3である。
【0069】以上説明したように、本発明に依る測定方
法によれば、非常に小さい電子素子等から発生する、比
較的低いダイナミックスプラズマ密度および局部的な密
度測定を可能とすることができる。
法によれば、非常に小さい電子素子等から発生する、比
較的低いダイナミックスプラズマ密度および局部的な密
度測定を可能とすることができる。
【0070】さらに本発明に依れば、次のような効果が
ある。
ある。
【0071】第一、空間分解能は上記マイクロ波共振検
針器15を構成する伝送路(Transmission line)の幅
を意味して、その値は上記実施形態では3mm程度とな
る。本発明はプラズマシース効果(Plasma sheath effe
ct)、多重イオンプラズマにほとんど影響をうけないた
めに、半導体ブリッジ素子と同じきわめて小さい電子素
子に適用される時、ラングミュア探針方法等の既存のい
ろいろな測定方法にくらべれば優秀な性能を現わす。
針器15を構成する伝送路(Transmission line)の幅
を意味して、その値は上記実施形態では3mm程度とな
る。本発明はプラズマシース効果(Plasma sheath effe
ct)、多重イオンプラズマにほとんど影響をうけないた
めに、半導体ブリッジ素子と同じきわめて小さい電子素
子に適用される時、ラングミュア探針方法等の既存のい
ろいろな測定方法にくらべれば優秀な性能を現わす。
【0072】第二、イオン質量、電子温度等以外の入力
変数が要求されないために、測定が非常に簡単で、他の
測定方法にくらべれば測定結果分析の誤差がすくない。
変数が要求されないために、測定が非常に簡単で、他の
測定方法にくらべれば測定結果分析の誤差がすくない。
【0073】第三、従来の大部分の方法等が空間的に平
均化されたプラズマ密度(Spatially averaged densit
y)を測定するのに対し、本発明は局部的な密度を測定
するのに非常に有効である。
均化されたプラズマ密度(Spatially averaged densit
y)を測定するのに対し、本発明は局部的な密度を測定
するのに非常に有効である。
【0074】
【発明の効果】本発明によれば、非常に小さいプラズマ
発生器の性能又その発生されたプラズマの密度を、時間
的に或いは空間的にもっと見やすくそして正確にその値
を測定して、発生されたプラズマの資料分析と応用に利
用するためのマイクロ波共振検針器、及びこれを利用し
たダイナミックスプラズマの密度測定方法を提供するこ
とができる。
発生器の性能又その発生されたプラズマの密度を、時間
的に或いは空間的にもっと見やすくそして正確にその値
を測定して、発生されたプラズマの資料分析と応用に利
用するためのマイクロ波共振検針器、及びこれを利用し
たダイナミックスプラズマの密度測定方法を提供するこ
とができる。
【図1】本発明に依ったマイクロ波共振検針器の構造を
示す斜視図。
示す斜視図。
【図2】本発明に依るマイクロ波共振検針器を利用して
ダイナミックスプラズマの密度を測定するための回路
図。
ダイナミックスプラズマの密度を測定するための回路
図。
【図3】本発明に依るダイナミックスプラズマの密度を
測定する方法を示すフローチャート。
測定する方法を示すフローチャート。
【図4】6.50GHzの共振周波数を引加した場合
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
【図5】5.70GHzの共振周波数を引加した場合
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
【図6】6.30GHzの共振周波数を引加した場合
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
【図7】6.75GHzの共振周波数を引加した場合
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
の、プラズマ内の検針器からの出力波形図。
【図8】検針器に印加された周波数に依るプラズマの密
度を電子素子からプラズマが発生して初めての共振が起
るまでの時間及びプラズマ維持期間の関数として示した
グラフ。
度を電子素子からプラズマが発生して初めての共振が起
るまでの時間及びプラズマ維持期間の関数として示した
グラフ。
10 1/4波長平行伝送路 11 磁気ループ(magnetic loop) 12 エポキシ 13 セミリジッド同軸ケーブル(semi-rigid coaxi
al cable) 14 パイレックス管(pyrex tubing) 15 マイクロ波共振検針器 16 電子素子 17 真空チェンバ(vacumm chamber) 18 周波数発生器(sweep generator) 19 鉱石検出器(crystal detector) 20,26 ディジタル オシロスコープ
al cable) 14 パイレックス管(pyrex tubing) 15 マイクロ波共振検針器 16 電子素子 17 真空チェンバ(vacumm chamber) 18 周波数発生器(sweep generator) 19 鉱石検出器(crystal detector) 20,26 ディジタル オシロスコープ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キョンイク チョー 大韓民国、デェジョン、ユソンク、イォー ウンドン、ハンビィット アパートメント 119−1201
Claims (8)
- 【請求項1】プラズマ密度を測定するマイクロ波共振検
針器であって、 1/4波長平行伝送路と、 上記1/4波長平行伝送路と隣接した所に位置して第1
同軸ケーブルに連結し、外部の周波数発生器の出力を受
けて、上記1/4波長平行伝送路を振動させる第1磁気
ループと、 上記1/4波長平行伝送路と隣接した所に位置して第2
同軸ケーブルに連結し、上記1/4波長平行伝送路を通
じて転達された信号を外部の出力装置へ出力する第2磁
気ループと、 上記1/4波長平行伝送路を、上記第1磁気ループと上
記第2磁気ループとの間に位置しかつ電気的にフローテ
ィングするように、上記両同軸ケーブルに装着させる結
合手段とを備えることを特徴とするマイクロ波共振検針
器。 - 【請求項2】請求項1に於いて、 上記した、1/4波長平行伝送路、第1同軸ケーブル、
第1磁気ループ、第2同軸ケーブル、第2磁気ループ、
及び結合手段を真空密封するために使用されるパイレッ
クス管をさらに有することを特徴とするマイクロ波共振
検針器。 - 【請求項3】真空中に発生するダイナミックプラズマの
プラズマ密度を測定するマイクロ波共振検針器であっ
て、 真空領域内に配置される、伝送路、外部の信号発生器の
出力を受けて上記伝送路を振動させるための第1磁気ル
ープ、上記伝送路で受信された信号を検出するための第
2磁気ループ、及び上記伝送路を真空中で電気的にフロ
ーティングするように支持する結合手段と、 前記真空領域内に位置する、上記第1及び第2磁気ルー
プの各々への信号入出力部を、当該領域内で発生するプ
ラズマから略遮蔽するための絶縁体で構成された遮蔽部
材とを備えることを特徴とするマイクロ波共振検針器。 - 【請求項4】1/4波長平行伝送路と、上記1/4波長
平行伝送路と隣接した所に位置して第1同軸ケーブルに
連結し、外部の周波数発生器の出力を受けて、上記1/
4波長平行伝送路を振動させる第1磁気ループと、上記
1/4波長平行伝送路と隣接した所に位置して第2同軸
ケーブルに連結し、上記1/4波長平行伝送路を通じて
転達された信号を外部の出力装置へ出力する第2磁気ル
ープと、上記1/4波長平行伝送路を、上記第1磁気ル
ープと上記第2磁気ループとの間に位置しかつ電気的に
フローティングするように、上記両同軸ケーブルに装着
させる結合手段とから構成され、真空密封されたマイク
ロ波共振検針器を利用してプラズマ密度を測定する方法
に於いて、 真空及びプラズマ状態で上記マイクロ波共振検針器に周
波数を可変させながら真空中での共振周波数を測定する
段階と、 この測定された共振周波数の変化に相応した電子素子か
ら発生したプラズマの共振時間又維持時間を測定する段
階と、 上記測定された共振周波数を利用してプラズマの周波数
を計算する段階と、 この測定されたプラズマの周波数と上記測定されたプラ
ズマの共振時間又維持時間を利用して与えられた位置か
らプラズマ密度を測定する段階とから成ることを特徴と
するマイクロ波共振検針器を利用したダイナミックスプ
ラズマの密度測定方法。 - 【請求項5】請求項4に於いて、 上記測定されたプラズマ密度の値等はカーブフィッティ
ング方法を利用して外挿することで与えられた位置から
電子素子から発生したプラズマ密度を決定することを特
徴とするマイクロ波共振検針器を利用したダイナミック
スプラズマの密度測定方法。 - 【請求項6】請求項4に於いて、 上記プラズマ維持時間は第1の共振時間と第2共振時間
間の時間であることを特徴とするマイクロ波共振検針器
を利用したダイナミックスプラズマの密度測定方法。 - 【請求項7】請求項4に於いて、 上記マイクロ波共振検針器を利用したダイナミックスプ
ラズマの密度測定は時間的に変化するプラズマ密度を測
定することを特徴とするマイクロ波共振検針器を利用し
たダイナミックスプラズマの密度測定方法。 - 【請求項8】伝送路と、外部の信号発生器の出力を受け
て上記伝送路を振動させるための第1磁気ループと、上
記伝送路で受信された信号を検出するための第2磁気ル
ープと、上記伝送路を真空中で電気的にフローティング
するように支持する結合手段と、上記第1及び第2磁気
ループの各々への信号入出力部を発生するプラズマから
略遮蔽するための遮蔽部材とを備え、真空中に発生する
ダイナミックプラズマのプラズマ密度を測定するマイク
ロ波共振検針器を利用してプラズマ密度を測定する方法
に於いて、 前記マイクロ波共振検針器に所定の周波数の信号を供給
し、その信号との共振状態を測定する第1段階と、 前記第1段階での測定結果から、プラズマが発生してか
ら最初の共振が起こるまでの時間(共振時間)と、当該
最初の共振から次の共振が起こるまでの時間(維持時
間)を検出する第2段階と、 前記第1段階で測定された共振に対応するプラズマ周波
数を計算する第3段階と、 前記第1段階〜第3段階までの処理を、予め定めた複数
の周波数について行なわせる第4段階と、 前記測定が行なわれた各周波数毎に得られる、前記プラ
ズマ周波数と前記共振時間及び維持時間とを利用して、
当該マイクロ波共振検針器が配置された位置でのプラズ
マ密度の時間変化を取得する第5段階とから成ることを
特徴とするマイクロ波共振検針器を利用したダイナミッ
クスプラズマの密度測定方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR95-49254 | 1995-12-13 | ||
| KR1019950049254A KR0159203B1 (ko) | 1995-12-13 | 1995-12-13 | 마이크로파 공진검침기 및 다이나믹 플라스마의 밀도 측정방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09161992A true JPH09161992A (ja) | 1997-06-20 |
Family
ID=19439602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8235402A Withdrawn JPH09161992A (ja) | 1995-12-13 | 1996-09-05 | マイクロ波共振検針器およびこれを利用したダイナミックプラズマの密度測定方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09161992A (ja) |
| KR (1) | KR0159203B1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007026859A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | National University Corporation Nagoya University | プラズマ電子密度測定用の面状共振素子並びにプラズマ電子密度測定方法及び装置 |
| CN110351940A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-10-18 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种用于测量离子回旋辐射的高频磁探针诊断系统 |
| CN116559531A (zh) * | 2023-05-09 | 2023-08-08 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种测量等离子体中2.45GHz低杂波频谱的装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3497091B2 (ja) * | 1998-07-23 | 2004-02-16 | 名古屋大学長 | プラズマ生成用高周波パワーの制御方法、およびプラズマ発生装置 |
-
1995
- 1995-12-13 KR KR1019950049254A patent/KR0159203B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-09-05 JP JP8235402A patent/JPH09161992A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007026859A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-08 | National University Corporation Nagoya University | プラズマ電子密度測定用の面状共振素子並びにプラズマ電子密度測定方法及び装置 |
| JPWO2007026859A1 (ja) * | 2005-08-31 | 2009-03-12 | 国立大学法人名古屋大学 | プラズマ電子密度測定用の面状共振素子並びにプラズマ電子密度測定方法及び装置 |
| JP4701408B2 (ja) * | 2005-08-31 | 2011-06-15 | 国立大学法人名古屋大学 | プラズマ電子密度測定用の面状共振素子並びにプラズマ電子密度測定方法及び装置 |
| US8040138B2 (en) | 2005-08-31 | 2011-10-18 | National University Corporation Nagoya University | Planar type frequency shift probe for measuring plasma electron densities and method and apparatus for measuring plasma electron densities |
| CN110351940A (zh) * | 2019-06-11 | 2019-10-18 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种用于测量离子回旋辐射的高频磁探针诊断系统 |
| CN110351940B (zh) * | 2019-06-11 | 2021-07-30 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种用于测量离子回旋辐射的高频磁探针诊断系统 |
| CN116559531A (zh) * | 2023-05-09 | 2023-08-08 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种测量等离子体中2.45GHz低杂波频谱的装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0159203B1 (ko) | 1999-05-01 |
| KR970048407A (ko) | 1997-07-29 |
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