JPH09165368A - プラウノト−ル類のチオウレア誘導体 - Google Patents

プラウノト−ル類のチオウレア誘導体

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JPH09165368A
JPH09165368A JP7326667A JP32666795A JPH09165368A JP H09165368 A JPH09165368 A JP H09165368A JP 7326667 A JP7326667 A JP 7326667A JP 32666795 A JP32666795 A JP 32666795A JP H09165368 A JPH09165368 A JP H09165368A
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JP
Japan
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group
compound
alkyl
alkoxy
substituted
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Pending
Application number
JP7326667A
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English (en)
Inventor
Toshiyuki Akiyama
敏行 秋山
Hiroshi Kadokawa
博志 門川
Yukio Utsui
幸男 宇津井
Tetsufumi Koga
哲文 古賀
Keiichi Tabata
敬一 田端
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP7326667A priority Critical patent/JPH09165368A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】優れた抗潰瘍作用及びヘリコバクタ− ピロリ
（Hericobacter pylori)に対する抗菌活性を有し、潰瘍
性疾患の予防又は治療に有用であるプラウノト−ル類の
チオウレア誘導体を提供する。 【解決手段】 【化１】 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ：ＯＨ、ＮＨ2 、式−ＮＨ−ＣＳ−
ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 ：Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基、
Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル基、Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル基、
５乃至６員環状ヘテロアリ−ル基；Ｘ：単結合、Ｃ1 −
Ｃ6 アルキレン基；）を有する基、フタルイミド基；
ｎ：０乃至２の整数；Ｒ1 がＯＨであるとき、Ｒ2 はＯ
Ｈ以外の基；Ｒ3 がＣ1 −Ｃ6 アルキル基であるとき、
Ｘは単結合］を有するプラウノト−ル類のチオウレア誘
導体又はその薬理上許容される塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた抗潰瘍作用
及びヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacterpylori) に
対する抗菌作用を有するプラウノト−ル類のチオウレア
誘導体又はその薬理上許容される塩、それらを有効成分
とする潰瘍性疾患の予防剤又は治療剤及びそれらを有効
成分とするヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacter pyl
ori)に対する抗菌剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】消化性潰瘍は、消化器粘膜に対する攻撃
因子と防御因子とのバランスが崩れることにより生じる
といわれている。そこで、防御因子を増強することが、
潰瘍の予防、治療に有用な方法となり得るので、この作
用のあるプラウノト−ル類が抗潰瘍剤として広く臨床に
用いられている。近年、潰瘍再発の患者には、ヘリコバ
クタ− ピロリ（Hericobacter pylori)が高率に増殖し
ていることが明らかになり、ヘリコバクタ− ピロリ
（Hericobacte pylori）と潰瘍再発との間に相関関係が
あると考えられている。そこで、消化性潰瘍の治療と潰
瘍の再発を防止する目的で、防御因子増強作用とヘリコ
バクタ− ピロリ（Hericobacte pylori）に対する抗菌
活性を併せ持つ薬剤開発が望まれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、上記諸
問題を解決すべく、防御因子増強作用を有し、併せて抗
菌活性をも有する抗潰瘍剤の開発を目指して、プラウノ
ト−ル誘導体の合成とその薬理活性について鋭意研究を
行った結果、プラウノト−ル類のチオウレア誘導体が、
優れた抗潰瘍作用及びヘリコバクタ− ピロリ（Herico
bacter pylori)に対する抗菌活性を有することを見出
し、本発明を完成した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明のプラウノト−ル
類のチオウレア誘導体は、一般式（Ｉ）を有する。
【０００５】
【化２】
【０００６】上記式中、Ｒ1 及びＲ2 は、同一又は異な
って、保護されていてもよい水酸基、アミノ基、式−Ｎ
Ｈ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 ［式中、Ｒ3 は、Ｃ1 −Ｃ6
アルキル基、Ｃ3 −Ｃ10シクロアルキル基、置換されて
もよいＣ6 −Ｃ10アリ−ル基（該置換基は、Ｃ1-Ｃ6 ア
ルキル；１乃至３個のハロゲンで置換されたＣ1-Ｃ6ア
ルキル；Ｃ1-Ｃ 6アルコキシ；１乃至３個のハロゲンで
置換されたＣ1 −Ｃ6アルコキシ；Ｃ1-Ｃ 6アルキルチ
オ；ハロゲン；アミノ；モノ−Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミ
ノ；ジ−Ｃ1-Ｃ6 アルキルアミノ；Ｃ1-Ｃ6 アルキル、
Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ若しくはハロゲンで置換されてもよ
いＣ6-Ｃ10アリ−ル；又はＣ1 −Ｃ2 アルキレンジオキ
シ基を示す。）又はＣ1 −Ｃ6 アルキル、Ｃ1-Ｃ6 アル
コキシ若しくはハロゲンで置換されてもよく、酸素原
子、窒素原子及び硫黄原子から成るヘテロ原子群から選
択される１乃至３個のヘテロ原子を含む５乃至６員環状
ヘテロアリ−ル基を示し、Ｘは、単結合又はＣ1 −Ｃ6
アルキレン基を示す。］を有する基又はＣ1-Ｃ 6アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ 6アルコキシ若しくはハロゲンで置換されて
もよいフタルイミド基を示し、ｎは、０乃至２の整数を
示す。但し、Ｒ1 が、水酸基の場合、Ｒ2 は、水酸基以
外の基を示し、Ｒ3 が、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基の場合、
Ｘは、単結合を示す。
【０００７】上記に於て、Ｒ1 及びＲ2 の定義に於ける
「保護されていてもよい水酸基」の水酸基の保護基は、
有機合成化学の分野で使用される水酸基の保護基であれ
ば特に限定されないが、例えば、式 ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c
（式中、Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cは、同一又は異なって、Ｃ
1-Ｃ 6アルキル基又はＣ1-Ｃ 6アルキル、Ｃ1 −Ｃ6ア
ルコキシ若しくはハロゲンで置換されてもよいフェニル
基を示す。）を有する基、２−テトラヒドロフリル、２
−テトラヒドロピラニル、４−メトキシ−２−テトラヒ
ドロピラニル、２−テトラヒドロチオピラニルのような
５乃至６員飽和環状エーテル基、ベンジル、メチルベン
ジル、メトキシベンジル、クロロベンジル、α- ナフチ
ルメチル、β- ナフチルメチル、ジフェニルメチル、ト
リフェニルメチル、α- ナフチルジフェニルメチルのよ
うな１乃至３個のＣ6 −Ｃ10アリ−ル基（後述するもの
と同意義を示す。）で置換されたメチル基、上記１個の
Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル基で置換されたメトキシカルボニル
基であり得、好適には、式ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、Ｒ
4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cは、同一又は異なって、Ｃ1-Ｃ4 アル
キル基又はフェニル基を示す。）を有する基、２−テト
ラヒドロピラニル基、４−メトキシ−２−テトラヒドロ
ピラニル又は２−テトラヒドロチオピラニル基であり、
更に好適には、式 ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、Ｒ4 a及び
Ｒ4 bは、同一又は異なって、Ｃ1-Ｃ2 アルキル基であ
り、Ｒ4 cは、Ｃ1-Ｃ2 アルキル基、ｔ−ブチル基又はフ
ェニル基を示す。）を有する基又は２−テトラヒドロピ
ラニル基であり、更により好適には、トリメチルシリル
基、トリエチルシリル基又はｔ−ブチルジメチルシリル
基であり、特に好適には、ｔ−ブチルジメチルシリル基
である。
【０００８】上記に於て、Ｒ3 、Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cの
定義に於ける「Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基」は、炭素数１乃
至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、２−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプ
ロピル、ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペ
ンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、
３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、
１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、
１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル又は
２−エチルブチル基であり得、Ｒ3 においては、好適に
は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基であり、更に好適には、エチ
ル又はイソブチル基であり、特に好適には、エチル基で
あり、一方、Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cにおいては、好適に
は、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基であり、更に好適には、Ｒ4 a
及びＲ4 bはＣ1 −Ｃ2 アルキル基であり、Ｒ4 cはｔ−ブ
チル基であり、特に好適には、Ｒ4 a及びＲ4 bはメチル基
であり、Ｒ4 cはｔ−ブチル基である。
【０００９】上記に於て、Ｘの定義に於ける「Ｃ1 −Ｃ
6 アルキレン基」は、炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝
鎖アルキレン基を示し、例えば、メチレン、メチルメチ
レン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメチ
レン、３−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘキ
サメチレン基であり得、好適には、Ｃ 1−Ｃ4 アルキレ
ン基であり、更に好適には、Ｃ 1−Ｃ2 アルキレン基で
あり、特に好適には、エチレン基である。
【００１０】上記に於て、Ｒ3 の定義に於ける「Ｃ3 −
Ｃ10シクロアルキル基」は、炭素数３乃至１０個の飽和
環状炭化水素基を示し、例えば、シクロプロピル、シク
ロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル、シクロノナニル、シクロデカ
ニル基であり得、好適には、Ｃ3-Ｃ 6シクロアルキル基
であり、特に好適には、Ｃ5-Ｃ 6シクロアルキル基であ
る。
【００１１】上記に於て、Ｒ3 の定義に於ける置換され
てもよい「Ｃ6 −Ｃ10アリ−ル基」は、炭素数６乃至１
０個の芳香族炭化水素基を示し、例えばフェニル、イン
デニル、ナフチル基であり得、好適にはフェニル基であ
る。また、置換基（好適には、１乃至３個であり、特に
好適には、１個である。）は前記Ｃ1-Ｃ6 アルキル基、
１乃至３個のハロゲンで置換されたＣ1-Ｃ 6アルキル基
（前記１乃至３個のハロゲンが前記Ｃ1-Ｃ6 アルキル基
に結合した基を示し、例えば、フルオロ−Ｃ1-Ｃ6 アル
キル基、クロロＣ1-Ｃ6 アルキル基、ブロモＣ1-Ｃ6 ア
ルキル基又はヨ−ドＣ1-Ｃ6 アルキル基であり得、好適
には、フルオロＣ1-Ｃ6 アルキル基であり、更に好適に
は、フルオロＣ1-Ｃ4 アルキル基であり、更により好適
には、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオ
ロメチル、２−フルオロエチル又は２，２，２−トリフ
ルオロエチル基であり、特に好適には、トリフルオロメ
チル又は２，２，２−トリフルオロエチル基であ
る。）、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基（前記Ｃ1-Ｃ6 アルキル
基が酸素原子に結合した基を示し、例えば、メトキシ、
エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イ
ソブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペントキ
シ、イソペントキシ、２−メチルブトキシ、ネオペント
キシ、ヘキシルオキシ、４−メチルペントキシ、３−メ
チルペントキシ、２−メチルペントキシ、３，３−ジメ
チルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジ
メチルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ基であり
得、好適には、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ基であり、更に好適
には、Ｃ1-Ｃ 2アルコキシ基であり、特に好適には、メ
トキシ基である。）、１乃至３個のハロゲンで置換され
たＣ1−Ｃ6 アルコキシ基（前記１乃至３個のハロゲン
が前記Ｃ1-Ｃ 6アルコキシ基に結合した基を示し、例え
ば、フルオロＣ1-Ｃ6 アルコキシ基、クロロ−Ｃ1-Ｃ6
アルコキシ基、ブロモＣ1-Ｃ6 アルコキシ基又はヨ−ド
Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ基であり得、好適には、フルオロＣ
1-Ｃ6 アルコキシ基であり、更に好適には、フルオロＣ
1-Ｃ4 アルコキシ基であり、更により好適には、フルオ
ロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、２−フルオロエトキシ又は２，２，２−トリフルオ
ロエトキシ基であり、特に好適には、トリフルオロメト
キシ又はジフルオロメトキシ基である。）、Ｃ1-Ｃ6 ア
ルキルチオ基（前記Ｃ1-Ｃ6 アルキル基が硫黄原子に結
合した基を示し、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プ
ロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ペンチルチ
オ、イソペンチルチオ、ヘキシルチオ基であり得、好適
には、Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ基であり、更に好適には、
Ｃ1-Ｃ2 アルキルチオ基であり、特に好適には、メチル
チオ基である。）、ハロゲン（例えば、弗素、塩素、臭
素又は沃素であり得、好適には、弗素、塩素又は臭素で
あり、特に好適には、弗素又は塩素である。）、アミノ
基、モノ−Ｃ1−Ｃ6 アルキルアミノ基（前記Ｃ1-Ｃ6
アルキル基が１個のアミノ基に結合した基を示し、例え
ば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ブ
チルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ基であり
得、好適には、Ｃ1-Ｃ4 アルキルアミノ基であり、更に
好適には、Ｃ1-Ｃ2 アルキルアミノ基であり、特に好適
には、メチルアミノ基である。）、ジ−Ｃ1 −Ｃ6 アル
キルアミノ基（前記Ｃ1-Ｃ6 アルキル基が２つアミノ基
に結合した基を示し、例えば、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペン
チルアミノ、ジヘキシルアミノ基であり得、好適には、
ジ−Ｃ1 −Ｃ4 アルキルアミノ基であり、更に好適に
は、ジ−Ｃ1 −Ｃ2 アルキルアミノ基であり、特に好適
には、ジメチルアミノ基である。）又はＣ1-Ｃ6 アルキ
ル、Ｃ1-Ｃ6 アルコキシ若しくはハロゲンで置換されて
もよいＣ6 −10アリ−ル基（Ｃ6 −10アリ−ル基及びＣ
1-Ｃ6アルキル等の置換基は、前述したものと同意義を
示す。）又はＣ1-Ｃ2 アルキレンジオキシ基（２個の酸
素原子が炭素数１乃至２個のアルキレン基に結合した基
を示し、例えば、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ
基であり得、好適には、メチレンジオキシ基である。）
を示す。
【００１２】また、上記アリ−ル基の置換基は、好適に
は、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フルオロ−Ｃ1-Ｃ4 アルキル、
クロロＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、フルオ
ロ−Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、クロロＣ1-Ｃ2 アルコキシ、
Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ、弗素、塩素、臭素、アミノ、モ
ノ−Ｃ1-Ｃ2 アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-Ｃ2 アルキルア
ミノ、フェニル又はＣ1-Ｃ 2アルキレンジオキシ基であ
り、更に好適には、Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フルオロ−Ｃ1-
Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、フルオロ−Ｃ1-Ｃ
2 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ2 アルキルチオ、弗素、塩素、ア
ミノ、メチルアミノ、ジ−メチルアミノ又はＣ1-Ｃ 2ア
ルキレンジオキシ基であり、更により好適には、Ｃ1-Ｃ
2 アルキル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、
Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオ
ロメトキシ、メチルチオ、弗素、塩素又はＣ1-Ｃ 2アル
キレンジオキシ基であり、更に又より好適には、メチ
ル、トリフルオロメチル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、ジフル
オロメトキシ、弗素、塩素又はメチレンジオキシ基であ
り、特に好適には、メチル、メトキシ、弗素、塩素又は
メチレンジオキシ基であり、最も好適には、メトキシ、
塩素又はメチレンジオキシ基である。
【００１３】上記に於て、Ｒ3 の定義に於ける置換され
てもよい「ヘテロアリ−ル基」は、酸素原子、窒素原子
及び硫黄原子から成るヘテロ原子から選択される１乃至
３個のヘテロ原子を環上に含む炭素数５乃至６個の環状
ヘテロアリ−ル基であり、例えば、ピロリル、フリル、
チエニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリ
ル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリ
ル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル基であり得、
好適には、フリル、チエニル、オキサゾリル、イソオキ
サゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル又はピリジル基
であり、特に好適には、フリル又はチエニル基である。
【００１４】また、ヘテロアリ−ル基、フタルイミド基
並びにＲ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cのフェニル基の置換基（好適
には、１乃至３個であり、特に好適には、１個であ
る。）は、前記のアリ−ル基上の置換基の、Ｃ1-Ｃ6 ア
ルキル基、Ｃ1 - Ｃ6 アルコキシ基若しくはハロゲンと
同意義を示す。
【００１５】上記に於て、ｎは、好適には１乃至２の整
数であり、特に好適には、１である。
【００１６】本発明の化合物（Ｉ）のうち、アミノ基等
の塩基性基を有する化合物は、必要に応じて酸と処理す
ることにより、薬理上許容される塩にすることができ
る。そのような塩としては、弗化水素酸塩、塩酸塩、臭
化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸
塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩；メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン
酸塩、エタンスルホン酸塩のようなＣ1 −Ｃ6 アルカン
スルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-トルエンスル
ホン酸塩のようなＣ6 −Ｃ10アリ−ルスルホン酸塩、フ
マ−ル酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸
塩、マレイン酸塩等の有機酸塩又はグルタミン酸塩、ア
スパラギン酸塩のようなアミノ酸塩を挙げることができ
る。
【００１７】また、本発明の化合物（Ｉ）又はその塩
は、大気中に放置したり、又は再結晶することにより、
水分を吸収し、吸着水がついたり、水和物になる場合が
あり、そのような水を含む化合物塩も本発明に包含され
る。
【００１８】本発明の化合物（Ｉ）又はその塩は、分子
内に不斉炭素原子を有する場合があり、Ｒ配位、Ｓ配位
である立体異性体が存在する場合があるが、その各々、
或はそれらの任意の割合の化合物のいずれも本発明に包
含される。そのような立体異性体は、光学分割された原
料化合物を用いて化合物（Ｉ）を合成するか又は合成し
た化合物（Ｉ）を所望により通常の光学分割法又は分離
法を用いて光学分割することができる。
【００１９】また、二重結合に基づくの化合物（Ｉ）の
幾何異性体が存在するが、本発明は、かかる幾何異性体
及びその混合物を包括し、好適には、３Ｅ、７Ｚ、１１
Ｅを挙げることができる。
【００２０】本発明の化合物（Ｉ）において、好適な化
合物としては、（１）Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は異なっ
て、水酸基、式−Ｏ−ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、Ｒ4 a及
びＲ4 bが、同一又は異なって、Ｃ1-Ｃ 2アルキル基であ
り、Ｒ4 cが、Ｃ1-Ｃ 2アルキル基、ｔ−ブチル基又はフ
ェニル基である。）を有する基、２−テトラヒドロピラ
ニルオキシ基、アミノ基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−
Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、Ｃ1-Ｃ 4アルキル基；Ｃ5-Ｃ6 シ
クロアルキル基；Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フルオロＣ1-Ｃ4
アルキル、クロロＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4アルコキ
シ、フルオロＣ1-Ｃ4 アルコキシ、クロロＣ1-Ｃ2 アル
キル、Ｃ1-Ｃ4アルキルチオ、弗素、塩素、臭素、アミ
ノ、モノ−Ｃ1-Ｃ 2アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-Ｃ 2アル
キルアミノ、フェニル若しくはＣ1-Ｃ 2アルキレンジオ
キシ基で置換されてもよいフェニル基；又はＣ1-Ｃ4 ア
ルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、弗素、塩素若しくは臭素
で置換されてもよい、フリル基、チエニル基、オキサゾ
リル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチア
ゾリル基若しくはピリジル基であり、Ｘが、単結合又は
Ｃ1-Ｃ 4アルキレン基である。）を有する基又はＣ1-Ｃ
2アルキル、Ｃ1-Ｃ 2アルコキシ、弗素若しくは塩素で
置換されてもよいフタルイミド基である化合物、（２）
Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は異なって、水酸基、トリメチ
ルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ基、アミノ基、式−ＮＨ−Ｃ
Ｓ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、Ｃ1-Ｃ4 アルキル
基；Ｃ5-Ｃ6 シクロアルキル基；Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フ
ルオロＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、フルオ
ロＣ1-Ｃ2 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ2 アルキルチオ、弗素、
塩素、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ若しくは
Ｃ1-Ｃ 2アルキレンジオキシ基で置換されてもよいフェ
ニル基；又はＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、
弗素若しくは塩素で置換されてもよい、フリル基、チエ
ニル基、オキサゾリル基、チアゾリル基若しくはピリジ
ル基であり、Ｘが、単結合又はＣ1-Ｃ4 アルキレン基で
ある。）を有する基又はフタルイミド基である化合物、
（３）Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は異なって、水酸基、式
−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、Ｃ1-Ｃ
4 アルキル基；Ｃ5-Ｃ6 シクロアルキル基；Ｃ1-Ｃ2 ア
ルキル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、Ｃ1-
Ｃ2 アルコキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメ
トキシ、メチルチオ、弗素、塩素若しくはＣ1-Ｃ2 アル
キレンジオキシで置換されてもよいフェニル基；又はメ
チル、メトキシ、弗素若しくは塩素で置換されてもよ
い、フリル基、チエニル基若しくはピリジル基であり、
Ｘが、単結合又はＣ1-Ｃ4 アルキレン基である。）を有
する基である化合物、（４）Ｒ1 が、水酸基であり、Ｒ
2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3
が、Ｃ1-Ｃ 4アルキル基、メチル、トリフルオロメチ
ル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、ジフルオロメトキシ、弗素、
塩素若しくはメチレンジオキシで置換されてもよいフェ
ニル基、フリル基、チエニル基又はピリジル基であり、
Ｘが、単結合又はＣ1 −Ｃ3 アルキレン基である。）を
有する基である化合物、（５）Ｒ1 が、水酸基であり、
Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3
が、エチル基、イソブチル基又はメチル、メトキシ、弗
素、塩素若しくはメチレンジオキシで置換されてもよい
フェニル基であり、Ｘが、単結合又はＣ1 −Ｃ2 アルキ
レン基である。）を有する基である化合物、（６）Ｒ1
が、水酸基であり、Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ
−Ｒ3 （式中、式−Ｘ−Ｒ3 を有する基が、エチル基又
はメトキシ、塩素若しくはメチレンジオキシで置換され
てもよいフェネチル基である。）を有する基である化合
物、（７）ｎが、１乃至２の整数である化合物、（８）
ｎが、１である化合物を挙げることができる。
【００２１】又、上記（１）−（６）及び（７）−
（８）から成る群から任意に選択されたものを組み合わ
せたものも好適な化合物であり、例えば、以下のものを
挙げることができる。（９）Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は
異なって、水酸基、式−Ｏ−ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、
Ｒ4 a及びＲ4 bが、同一又は異なって、Ｃ1-Ｃ 2アルキル
基であり、Ｒ4 cが、Ｃ1-Ｃ 2アルキル基、ｔ−ブチル基
又はフェニル基である。）を有する基、２−テトラヒド
ロピラニルオキシ基、アミノ基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ
−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基；Ｃ
5-Ｃ6 シクロアルキル基；Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フルオロ
Ｃ1-Ｃ4 アルキル、クロロＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4
アルコキシ、フルオロＣ1-Ｃ4 アルコキシ、クロロＣ1-
Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4アルキルチオ、弗素、塩素、臭
素、アミノ、モノ−Ｃ1-Ｃ 2アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-
Ｃ 2アルキルアミノ、フェニル若しくはＣ1-Ｃ 2アルキ
レンジオキシ基で置換されてもよいフェニル基；又はＣ
1-Ｃ4 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、弗素、塩素若し
くは臭素で置換されてもよい、フリル基、チエニル基、
オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、
イソチアゾリル基若しくはピリジル基であり、Ｘが、単
結合又はＣ1-Ｃ 4アルキレン基である。）を有する基又
はＣ1-Ｃ 2アルキル、Ｃ1-Ｃ 2アルコキシ、弗素若しく
は塩素で置換されてもよいフタルイミド基であり、ｎ
が、１乃至２の整数である化合物、（１０）Ｒ1 及びＲ
2 が、同一又は異なって、水酸基、トリメチルシリルオ
キシ基、トリエチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ基、アミノ基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−
Ｘ−Ｒ3(式中、Ｒ 3が、Ｃ1-Ｃ4 アルキル基；Ｃ5-Ｃ6
シクロアルキル基；Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フルオロＣ1-Ｃ
2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、フルオロＣ1-Ｃ2 ア
ルコキシ、Ｃ1-Ｃ2 アルキルチオ、弗素、塩素、アミ
ノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ若しくはＣ1-Ｃ 2ア
ルキレンジオキシ基で置換されてもよいフェニル基；又
はＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、弗素若しく
は塩素で置換されてもよい、フリル基、チエニル基、オ
キサゾリル基、チアゾリル基若しくはピリジル基であ
り、Ｘが、単結合又はＣ1-Ｃ4 アルキレン基である。）
を有する基又はフタルイミド基であり、ｎが、１乃至２
の整数である化合物、（１１）Ｒ1 及びＲ2 が、同一又
は異なって、水酸基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3
（式中、Ｒ3 が、Ｃ1-Ｃ4 アルキル基；Ｃ5-Ｃ6 シクロ
アルキル基；Ｃ1-Ｃ 2アルキル、トリフルオロメチル、
ジフルオロメチル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、トリフルオロ
メトキシ、ジフルオロメトキシ、メチルチオ、弗素、塩
素若しくはＣ1-Ｃ2 アルキレンジオキシで置換されても
よいフェニル基；又はメチル、メトキシ、弗素若しくは
塩素で置換されてもよい、フリル基、チエニル基若しく
はピリジル基であり、Ｘが、単結合又はＣ1-Ｃ 4アルキ
レン基である。）を有する基であり、ｎが、１である化
合物、（１２）Ｒ1 が、水酸基であり、Ｒ2 が、式−Ｎ
Ｈ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、Ｃ1-Ｃ 4ア
ルキル基、メチル、トリフルオロメチル、Ｃ1-Ｃ2 アル
コキシ、ジフルオロメトキシ、弗素、塩素若しくはメチ
レンジオキシで置換されてもよいフェニル基、フリル
基、チエニル基又はピリジル基であり、Ｘが、単結合又
はＣ1 −Ｃ3 アルキレン基である。）を有する基であ
り、ｎが、１である化合物、（１３）Ｒ1 が、水酸基で
あり、Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式
中、式−Ｘ−Ｒ3 を有する基が、エチル基、イソブチル
基又はメチル、メトキシ、弗素、塩素若しくはメチレン
ジオキシで置換されてもよいフェニル基であり、Ｘが、
単結合又はＣ1 −Ｃ2 アルキレン基である。）を有する
基であり、ｎが、１である化合物、（１４）Ｒ1 が、水
酸基であり、Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3
（式中、式−Ｘ−Ｒ3 を有する基が、エチル基又はメト
キシ、塩素若しくはメチレンジオキシで置換されてもよ
いフェネチル基である。）を有する基であり、ｎが、１
である化合物。
【００２２】本発明の代表化合物は、例えば、表１に記
載する化合物を例示することができるが、本発明は、こ
れらの化合物に限定されるものではない。表中の略記
は、以下の通りである。 Bu：ブチル基 Bui ：イソブチル基 But ：ｔ−ブチル基 Et：エチル基 Fur ：フリル基 Hx：ヘキシル基 Hxc ：シクロヘキシル基 Me：メチル基 Oxa ：オキサゾリル基 Oxai：イソオキサゾリル基 Ph：フェニル基 Phtm：フタルイミド基 Pn：ペンチル基 Pnc ：シクロペンチル基 Pr：プロピル基 Pri ：イソプロピル基 Pyr ：ピリジル基 Thi ：チエニル基 Thiz：チアゾリル基 Thizi ：イソチアゾリル基 THPO：２−テトラヒドロピラニルオキシ基。
【００２３】
【化３】
【００２４】
【表１】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 化合物番号 Ｒ1 Ｒ2 ｎ 1 OH NH-CS-NH-Me 1 2 OH NH-CS-NH-Me 2 3 OH NH-CS-NH-Et 1 4 OH NH-CS-NH-Et 2 5 OH NH-CS-NH-Pr 1 6 OH NH-CS-NH-Pr 2 7 OH NH-CS-NH-Pri 1 8 OH NH-CS-NH-Pri 2 9 OH NH-CS-NH-Bu 1 10 OH NH-CS-NH-Bu 2 11 OH NH-CS-NH-Bui 1 12 OH NH-CS-NH-Bui 2 13 OH NH-CS-NH-Pn 1 14 OH NH-CS-NH-Hx 1 15 OH NH-CS-NH-Pnc 1 16 OH NH-CS-NH-Hxc 1 17 OH NH-CS-NH-Ph 1 18 OH NH-CS-NH-Ph 2 19 OH NH-CS-NH-4-Me-Ph 1 20 OH NH-CS-NH-4-OMe-Ph 1 21 OH NH-CS-NH-4-F-Ph 1 22 OH NH-CS-NH-4-Cl-Ph 1 23 OH NH-CS-NH-2-Thi 1 24 OH NH-CS-NH-3-Pyr 1 25 OH NH-CS-NH-CH2Pnc 1 26 OH NH-CS-NH-CH2Hxc 1 27 OH NH-CS-NH-CH2Hxc 2 28 OH NH-CS-NH-CH2Ph 1 29 OH NH-CS-NH-CH2Ph 2 30 OH NH-CS-NH-CH2-3-Me-Ph 1 31 OH NH-CS-NH-CH2-4-Me-Ph 1 32 OH NH-CS-NH-CH2-4-Me-Ph 2 33 OH NH-CS-NH-CH2-4-CF3-Ph 1 34 OH NH-CS-NH-CH2-2-OMe-Ph 1 35 OH NH-CS-NH-CH2-2-OMe-Ph 2 36 OH NH-CS-NH-CH2-3-OMe-Ph 1 37 OH NH-CS-NH-CH2-3-OMe-Ph 2 38 OH NH-CS-NH-CH2-4-OMe-Ph 1 39 OH NH-CS-NH-CH2-4-OMe-Ph 2 40 OH NH-CS-NH-CH2-4-OEt-Ph 1 41 OH NH-CS-NH-CH2-4-OCHF2-Ph 1 42 OH NH-CS-NH-CH2-3-SMe-Ph 1 43 OH NH-CS-NH-CH2-4-SMe-Ph 1 44 OH NH-CS-NH-CH2-4-SMe-Ph 2 45 OH NH-CS-NH-CH2-4-F-Ph 1 46 OH NH-CS-NH-CH2-3-Cl-Ph 1 47 OH NH-CS-NH-CH2-4-Cl-Ph 1 48 OH NH-CS-NH-CH2-4-Cl-Ph 2 49 OH NH-CS-NH-CH2-3,4-OCH2O-Ph 1 50 OH NH-CS-NH-CH2-3,4-OCH2O-Ph 2 51 OH NH-CS-NH-CH2-4-NH2-Ph 1 52 OH NH-CS-NH-CH2-4-NMe2-Ph 1 53 OH NH-CS-NH-CH2-2-Fur 1 54 OH NH-CS-NH-CH2-2-Fur 2 55 OH NH-CS-NH-CH2-3-Fur 1 56 OH NH-CS-NH-CH2-3-Me-2-Fur 1 57 OH NH-CS-NH-CH2-2-Thi 1 58 OH NH-CS-NH-CH2-2-Thi 2 59 OH NH-CS-NH-CH2-3-Thi 1 60 OH NH-CS-NH-CH2-3-Thi 2 61 OH NH-CS-NH-CH2-3-Me-2-Thi 1 62 OH NH-CS-NH-CH2-4-Me-2-Thi 1 63 OH NH-CS-NH-CH2-5-Me-2-Thi 1 64 OH NH-CS-NH-CH2-2-Oxa 1 65 OH NH-CS-NH-CH2-3-Oxai 1 66 OH NH-CS-NH-CH2-2-Thiz 1 67 OH NH-CS-NH-CH2-3-Thizi 1 68 OH NH-CS-NH-CH2-2-Pyr 1 69 OH NH-CS-NH-CH2-3-Me-2-Pyr 1 70 OH NH-CS-NH-CH2-3-Pyr 1 71 OH NH-CS-NH-CH2-4-Pyr 1 72 OH NH-CS-NH-CH2CH2Pnc 1 73 OH NH-CS-NH-CH2CH2Pnc 2 74 OH NH-CS-NH-CH2CH2Hxc 1 75 OH NH-CS-NH-CH2CH2Hxc 2 76 OH NH-CS-NH-CH2CH2Ph 1 77 OH NH-CS-NH-CH2CH2Ph 2 78 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Me-Ph 1 79 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Me-Ph 1 80 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Me-Ph 2 81 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Et-Ph 1 82 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-CF3-Ph 1 83 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-OMe-Ph 1 84 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-OMe-Ph 2 85 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-OMe-Ph 1 86 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-OMe-Ph 2 87 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-OMe-Ph 1 88 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-OMe-Ph 2 89 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-OEt-Ph 1 90 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-OEt-Ph 2 91 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-OCHF2-Ph 1 92 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-SMe-Ph 1 93 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-SMe-Ph 1 94 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-SMe-Ph 1 95 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-SMe-Ph 2 96 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-SEt-Ph 1 97 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-F-Ph 1 98 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-F-Ph 1 99 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Cl-Ph 1 100 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Cl-Ph 1 101 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Cl-Ph 1 102 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Cl-Ph 2 103 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2,3-OCH2O-Ph 1 104 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3,4-OCH2O-Ph 1 105 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3,4-OCH2O-Ph 2 106 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3,4-OCH2CH2O-Ph 1 107 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-NH2-Ph 1 108 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-NHMe-Ph 1 109 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-NMe2-Ph 1 110 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Fur 1 111 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Fur 2 112 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Fur 1 113 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Fur 2 114 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Me-2-Fur 1 115 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-F-2-Fur 1 116 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Cl-2-Fur 1 117 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Thi 1 118 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Thi 2 119 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Thi 1 120 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Thi 2 121 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Me-2-Thi 1 122 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Me-2-Thi 1 123 OH NH-CS-NH-CH2CH2-5-Me-2-Thi 1 124 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-OMe-2-Thi 1 125 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-OMe-2-Thi 1 126 OH NH-CS-NH-CH2CH2-5-OMe-2-Thi 1 127 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-F-2-Thi 1 128 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Cl-2-Thi 1 129 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Cl-2-Thi 1 130 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Oxa 1 131 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Oxai 1 132 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Thiz 1 133 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Thizi 1 134 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Pyr 1 135 OH NH-CS-NH-CH2CH2-2-Pyr 2 136 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-OMe-2-Pyr 1 137 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-F-2-Pyr 1 138 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Cl-2-Pyr 1 139 OH NH-CS-NH-CH2CH2-3-Pyr 1 140 OH NH-CS-NH-CH2CH2-4-Pyr 1 141 OH NH-CS-NH-(CH2)3Pnc 1 142 OH NH-CS-NH-(CH2)3Hxc 1 143 OH NH-CS-NH-(CH2)3Ph 1 144 OH NH-CS-NH-(CH2)3Ph 2 145 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Me-Ph 1 146 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-Me-Ph 1 147 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-Me-Ph 2 148 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-CF3-Ph 1 149 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-OMe-Ph 1 140 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-OMe-Ph 2 151 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-OMe-Ph 1 152 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-OMe-Ph 2 153 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-OMe-Ph 1 154 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-OMe-Ph 2 155 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-OEt-Ph 1 156 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-OCHF2-Ph 1 157 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-SMe-Ph 1 158 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-SMe-Ph 1 159 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-F-Ph 1 160 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Cl-Ph 1 161 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-Cl-Ph 1 162 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3,4-OCH2O-Ph 1 163 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-NH2-Ph 1 164 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-NMe2-Ph 1 165 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-Fur 1 166 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Fur 1 167 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Me-2-Fur 1 168 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-Thi 1 169 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Thi 1 170 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Me-2-Thi 1 171 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-Oxa 1 172 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Oxai 1 173 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-Thiz 1 174 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Thizi 1 175 OH NH-CS-NH-(CH2)3-2-Pyr 1 176 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Me-2-Pyr 1 177 OH NH-CS-NH-(CH2)3-3-Pyr 1 178 OH NH-CS-NH-(CH2)3-4-Pyr 1 179 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2Pnc 1 180 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2Hxc 1 181 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2Ph 1 182 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2Ph 2 183 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Me-Ph 1 184 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-Me-Ph 1 185 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-Me-Ph 2 186 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-CF3-Ph 1 187 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-OMe-Ph 1 188 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-OMe-Ph 2 189 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-OMe-Ph 1 190 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-OMe-Ph 2 191 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-OMe-Ph 1 192 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-OMe-Ph 2 193 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-OEt-Ph 1 194 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-OCHF2-Ph 1 195 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-SMe-Ph 1 196 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-SMe-Ph 1 197 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-F-Ph 1 198 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Cl-Ph 1 199 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-Cl-Ph 1 200 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3,4-OCH2O-Ph 1 201 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-NH2-Ph 1 202 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-NMe2-Ph 1 203 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-Fur 1 204 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Fur 1 205 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Me-2-Fur 1 206 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-Thi 1 207 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Thi 1 208 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Me-2-Thi 1 209 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-Oxa 1 210 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Oxai 1 211 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-Thiz 1 212 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Thizi 1 213 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-2-Pyr 1 214 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Me-2-Pyr 1 215 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-3-Pyr 1 216 OH NH-CS-NH-CH(Me)CH2-4-Pyr 1 217 OH NH-CS-NH-(CH2)4Pnc 1 218 OH NH-CS-NH-(CH2)4Hxc 1 219 OH NH-CS-NH-(CH2)4Ph 1 220 OH NH-CS-NH-(CH2)4Ph 2 221 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Me-Ph 1 222 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-Me-Ph 1 223 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-Me-Ph 2 224 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-CF3-Ph 1 225 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-OMe-Ph 1 226 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-OMe-Ph 2 227 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-OMe-Ph 1 228 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-OMe-Ph 2 229 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-OMe-Ph 1 230 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-OMe-Ph 2 231 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-OEt-Ph 1 232 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-OCHF2-Ph 1 233 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-SMe-Ph 1 234 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-SMe-Ph 1 235 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-F-Ph 1 236 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Cl-Ph 1 237 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-Cl-Ph 1 238 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3,4-OCH2O-Ph 1 239 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-NH2-Ph 1 240 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-NMe2-Ph 1 241 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-Fur 1 242 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Fur 1 243 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Me-2-Fur 1 244 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-Thi 1 245 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Thi 1 246 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Me-2-Thi 1 247 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-Oxa 1 248 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Oxai 1 249 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-Thiz 1 250 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Thizi 1 251 OH NH-CS-NH-(CH2)4-2-Pyr 1 252 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Me-2-Pyr 1 253 OH NH-CS-NH-(CH2)4-3-Pyr 1 254 OH NH-CS-NH-(CH2)4-4-Pyr 1 255 OH NH-CS-NH-(CH2)5Hxc 1 256 OH NH-CS-NH-(CH2)5Ph 1 257 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-Me-Ph 1 258 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-CF3-Ph 1 259 OH NH-CS-NH-(CH2)5-2-OMe-Ph 1 260 OH NH-CS-NH-(CH2)5-3-OMe-Ph 1 261 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-OMe-Ph 1 262 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-OCHF2-Ph 1 263 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-SMe-Ph 1 264 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-F-Ph 1 265 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-Cl-Ph 1 266 OH NH-CS-NH-(CH2)5-3,4-OCH2O-Ph 1 267 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-NH2-Ph 1 268 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-NMe2-Ph 1 269 OH NH-CS-NH-(CH2)5-2-Fur 1 270 OH NH-CS-NH-(CH2)5-3-Fur 1 271 OH NH-CS-NH-(CH2)5-2-Thi 1 272 OH NH-CS-NH-(CH2)5-3-Thi 1 273 OH NH-CS-NH-(CH2)5-2-Pyr 1 274 OH NH-CS-NH-(CH2)5-3-Pyr 1 275 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-Pyr 1 276 OH NH-CS-NH-(CH2)5Ph 1 277 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-Me-Ph 1 278 OH NH-CS-NH-(CH2)5-4-CF3-Ph 1 279 OH NH-CS-NH-(CH2)5-2-OMe-Ph 1 280 OH NH-CS-NH-(CH2)5-3-OMe-Ph 1 281 OH 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NH-CS-NH-CH2-2-Fur 1 510 NH-CS-NH-CH2-2-Thi NH-CS-NH-CH2-2-Thi 1 511 NH-CS-NH-CH2-2-Pyr NH-CS-NH-CH2-2-Pyr 1 512 NH-CS-NH-CH2CH2Hxc NH-CS-NH-CH2CH2Hxc 1 513 NH-CS-NH-CH2CH2Ph NH-CS-NH-CH2CH2Ph 1 514 NH-CS-NH-CH2CH2-4-Me-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-4-Me-Ph 1 515 NH-CS-NH-CH2CH2-3-OMe-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-3-OMe-Ph 1 516 NH-CS-NH-CH2CH2-4-OMe-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-4-OMe-Ph 1 517 NH-CS-NH-CH2CH2-4-SMe-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-4-SMe-Ph 1 518 NH-CS-NH-CH2CH2-4-F-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-4-F-Ph 1 519 NH-CS-NH-CH2CH2-4-Cl-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-4-Cl-Ph 1 520 NH-CS-NH-CH2CH2-3,4-OCH2O-Ph NH-CS-NH-CH2CH2-3,4-OCH2O-Ph 1 521 NH-CS-NH-CH2CH2-2-Fur NH-CS-NH-CH2CH2-2-Fur 1 522 NH-CS-NH-CH2CH2-2-Thi NH-CS-NH-CH2CH2-2-Thi 1 523 NH-CS-NH-CH2CH2-2-Pyr NH-CS-NH-CH2CH2-2-Pyr 1 524 NH-CS-NH-(CH2)3Ph NH-CS-NH-(CH2)3Ph 1 525 NH-CS-NH-(CH2)3-4-Me-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-4-Me-Ph 1 526 NH-CS-NH-(CH2)3-3-OMe-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-3-OMe-Ph 1 527 NH-CS-NH-(CH2)3-4-OMe-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-4-OMe-Ph 1 528 NH-CS-NH-(CH2)3-4-SMe-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-4-SMe-Ph 1 529 NH-CS-NH-(CH2)3-4-F-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-4-F-Ph 1 530 NH-CS-NH-(CH2)3-4-Cl-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-4-Cl-Ph 1 531 NH-CS-NH-(CH2)3-3,4-OCH2O-Ph NH-CS-NH-(CH2)3-3,4-OCH2O-Ph 1 532 NH-CS-NH-(CH2)3-2-Fur NH-CS-NH-(CH2)3-2-Fur 1 533 NH-CS-NH-(CH2)3-2-Thi NH-CS-NH-(CH2)3-2-Thi 1 534 NH-CS-NH-(CH2)3-2-Pyr NH-CS-NH-(CH2)3-2-Pyr 1 535 NH-CS-NH-(CH2)4-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-Ph 1 536 NH-CS-NH-(CH2)4-4-Me-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-4-Me-Ph 1 537 NH-CS-NH-(CH2)4-3-OMe-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-3-OMe-Ph 1 538 NH-CS-NH-(CH2)4-4-OMe-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-4-OMe-Ph 1 539 NH-CS-NH-(CH2)4-4-SMe-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-4-SMe-Ph 1 540 NH-CS-NH-(CH2)4-4-F-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-4-F-Ph 1 541 NH-CS-NH-(CH2)4-4-Cl-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-4-Cl-Ph 1 542 NH-CS-NH-(CH2)4-3,4-OCH2O-Ph NH-CS-NH-(CH2)4-3,4-OCH2O-Ph 1 543 NH-CS-NH-(CH2)4-2-Fur NH-CS-NH-(CH2)4-2-Fur 1 544 NH-CS-NH-(CH2)4-2-Thi NH-CS-NH-(CH2)4-2-Thi 1 545 NH-CS-NH-(CH2)4-2-Pyr NH-CS-NH-(CH2)4-2-Pyr 1 546 Phtm Phtm 1 547 Phtm NH2 1 548 Phtm THPO 1 549 Phtm OSi(Me)3 1 550 Phtm OSi(Et)3 1 551 Phtm OSi(But)Me2 1 552 OSi(Me)3 OH 1 553 OSi(Me)3 Phtm 1 554 OSi(Me)3 NH2 1 555 OSi(Me)3 OSi(Me)3 1 556 OSi(Et)3 Phtm 1 557 OSi(Et)3 NH2 1 558 OSi(Et)3 THPO 1 559 OSi(Et)3 OSi(Et)3 1 560 OSi(But)Me2 OH 1 561 OSi(But)Me2 Phtm 1 562 OSi(But)Me2 NH2 1 563 OSi(But)Me2 THPO 1 564 OSi(But)Me2 OSi(But)Me2 1 565 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)Pnc 1 566 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)Hxc 1 567 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)Ph 1 568 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)Ph 2 569 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Me-Ph 1 570 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-Me-Ph 1 571 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-Me-Ph 2 572 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-CF3-Ph 1 573 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-OMe-Ph 1 574 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-OMe-Ph 2 575 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-OMe-Ph 1 576 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-OMe-Ph 2 577 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-OMe-Ph 1 578 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-OMe-Ph 2 579 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-OEt-Ph 1 580 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-OCHF2-Ph 1 581 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-SMe-Ph 1 582 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-SMe-Ph 1 583 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-F-Ph 1 584 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Cl-Ph 1 585 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-Cl-Ph 1 586 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3,4-OCH2O-Ph 1 587 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-NH2-Ph 1 588 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-NMe2-Ph 1 589 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-Fur 1 590 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Fur 1 591 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Me-2-Fur 1 592 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-Thi 1 593 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Thi 1 594 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Me-2-Thi 1 595 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-Oxa 1 596 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Oxai 1 597 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-Thiz 1 598 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Thiz 1 599 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-2-Pyr 1 600 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Me-2-Pyr 1 601 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-3-Pyr 1 602 OH NH-CS-NH-CH2CH(Me)-4-Pyr 1 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 上記例示化合物のうち、好適な化合物は、化合物番号
１、３、５、７、９、１１、１３、１４、１７、１９、
２０、２１、２２、２３、２８、３０、３１、３３、３
４、３６、３８、４０、４１、４２、４３、４５、４
６、４７、４９、５３、５５、５６、５７、５９、６
１、６２、６３、６４、６６、６８、７０、７１、７
２、７４、７６、７７、７８、７９、８２、８３、８
５、８７、８８、８９、９１、９２、９３、９４、９
６、９７、９８、９９、１００、１０１、１０３、１０
４、１０６、１１０、１１２、１１７、１１９、１２
１、１２４、１２８、１３４、１３６、１３９、１４
０、１４３、１４５、１４６、１４８、１４９、１５
１、１５３、１５５、１５６、１５７、１５８、１５
９、１６０、１６１、１６２、１６５、１６８、１７
７、１８１、１８３、１８４、１８６、１８７、１８
９、１９１、１９３、１９４、１９５、１９６、１９
７、１９８、１９９、２００、２０３、２０６、２１
９、２２２、２２４、２２７、２２９、２３２、２３
５、２３７、２３８、２９０、２９２、２９９、３５
９、３６３、３６４、３７２、３７５、３９１、４９
８、５０１、５１３、５１６、５４６、５５１、５６
７、５６９、５７０、５７２、５７３、５７５、５７
７、５７９、５８０、５８１、５８２、５８３、５８
４、５８５、５８６、５８９又は５９２の化合物であ
り、更に好適な化合物は、化合物番号１、３、５、７、
９、１１、１３、１７、２０、２８、３１、３６、３
８、４１、４５、４７、４９、５３、５５、５７、５
９、６８、７６、７８、７９、８２、８３、８５、８
７、８９、９１、９３、９４、９７、９８、９９、１０
０、１０１、１０３、１０４、１１０、１１７、１４
３、１４６、１５１、１５３、１５９、１６１、１６
２、１８１、１８４、１８９、１９１、１９７、１９
９、２００、２１９、２２９、５６７、５７０、５７
５、５７７、５８３、５８５又は５８６の化合物であ
り、特に好適な化合物は、 化合物番号３：プラウノト−ル−１−エチルチオウレ
ア、 化合物番号５：プラウノト−ル−１−プロピルチオウレ
ア、 化合物番号７：プラウノト−ル−１−イソプロピルチオ
ウレア、 化合物番号９：プラウノト−ル−１−ブチルチオウレ
ア、 化合物番号１１：プラウノト−ル−１−イソブチルチオ
ウレア、 化合物番号２８：プラウノト−ル−１−ベンジルチオウ
レア、 化合物番号３８：プラウノト−ル−１−（４−メトキシ
ベンジル）チオウレア、 化合物番号５３：プラウノト−ル−１−（２−フリルメ
チル）チオウレア、 化合物番号５７：プラウノト−ル−１−（２−チエニル
メチル）チオウレア、 化合物番号７６：プラウノト−ル−１−フェネチルチオ
ウレア、 化合物番号７９：プラウノト−ル−１−［２−（４−メ
チルフェニル）エチル］チオウレア、 化合物番号８５：プラウノト−ル−１−［２−（３−メ
トキシフェニル）エチル］チオウレア、 化合物番号８７：プラウノト−ル−１−［２−（４−メ
トキシフェニル）エチル］チオウレア、 化合物番号９８：プラウノト−ル−１−（４−フルオロ
フェネチル）チオウレア、 化合物番号１０１：プラウノト−ル−１−（４−クロロ
フェネチル）チオウレア又は 化合物番号１０４：プラウノト−ル−１−（３，４−メ
チレンジオキシフェネチル）チオウレアの化合物であ
る。
【００２５】
【発明の実施の形態】本発明の一般式（Ｉ）で示される
化合物は、以下に示す方法によって容易に製造できる。
【００２６】
【化４】
【００２７】
【化５】
【００２８】
【化６】
【００２９】
【化７】
【００３０】
【化８】
【００３１】上記の製法において記載されている化学式
中、Ｒ3 、Ｘ及びｎは前述したものと同意義を示し、Ｒ
3 aは、アミノ基又はモノ−Ｃ1-Ｃ 6アルキルアミノ基が
保護されている他Ｒ3 と同意義を示し、Ｒ5 は、Ｃ1-Ｃ
6 アルキル基、Ｃ1 −Ｃ6 アルコキシ基又はハロゲン原
子を示し、Ｒ6 は、水酸基の保護基を示す。
【００３２】アミノ基等の保護基は、有機合成化学の分
野で使用されるアミノ基の保護基であれば特に限定され
ないが、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、
バレリル、イソバレリルのようなＣ1-Ｃ 6アルカノイル
基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニルのようなＣ1-Ｃ 6アルコキシカルボニル
基、式−ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 c
は、前述したものと同意義を示す。）を有する基、ベン
ジル、メチルベンジル、メトキシベンジル、クロロベン
ジル、α- ナフチルメチル、β- ナフチルメチル、ジフ
ェニルメチル、トリフェニルメチル、α- ナフチルジフ
ェニルメチルのような１乃至３個のＣ6 −Ｃ10アリ−ル
基で置換されたメチル基、上記１個のＣ6 −Ｃ10アリ−
ル基で置換されたメトキシカルボニル基であり得、好適
には、Ｃ1-Ｃ 2アルカノイル基、Ｃ1-Ｃ 2アルコキシカ
ルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、トリＣ1-Ｃ 2
アルキルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基又は１
乃至３個のフェニル基で置換されたメチル基であり、特
に好適には、ｔ−ブトキシカルボニル基である。
【００３３】原料化合物（ＩＩ）は、公知であるか、又
は公知の方法等若しくはそれらに類似した方法（例え
ば、特開昭５２−６２２１３号公報、特開昭５２−１３
１５０７号公報等）に従って製造される。
【００３４】Ａ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ1 が水
酸基であり、Ｒ2 が置換されてもよいフタルイミド基で
ある化合物（Ｉａ）、Ｒ1 が水酸基であり、Ｒ2 がアミ
ノ基である化合物（Ｉｂ）及びＲ1 が水酸基であり、Ｒ
2 が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 及び
Ｘは、前述したものと同意義を示す。）を有する基であ
る化合物（Ｉｃ）を製造する方法である。第Ａ１工程
は、一般式（Ｉａ）を有する化合物を製造する工程で、
一般式（ＩＩ）を有する化合物を一般式（ＩＩＩ）を有
する化合物と、不活性溶媒中、トリＣ6 −Ｃ10アリ−ル
ホスフィン（好適には、トリフェニルホスフィン又はト
リトリルホスフィン）及びアゾジカルボン酸ジＣ1-Ｃ 6
アルキル（好適には、アゾジカルボン酸ジメチル又はア
ゾジカルボン酸ジエチル）の存在下に反応させることに
より、行われる。
【００３５】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定されないが、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テルのようなエ−テ
ル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミドのような
アミド類又はこれらの混合溶液であり得、好適には、エ
−テル類であり、特に好適には、テトラヒドロフランで
ある。反応温度は、通常、−２０℃乃至５０℃であり、
好適には、０℃乃至３０℃である。反応時間は、原料化
合物、反応温度等によって異なるが、通常、３０分乃至
４８時間であり、好適には、１時間乃至１０時間であ
る。
【００３６】本反応は、好適には、不活性気体（例え
ば、窒素、アルゴン、ヘリウム、好適には、窒素）によ
って、置換された系で行われる。本工程に於て、化合物
（ＩＩＩ）の使用量は、化合物（ＩＩ）に対して０．５
乃至２倍モルであり、好適には、０．８乃至１．５倍モ
ルである。
【００３７】反応終了後、本反応の目的化合物（Ｉａ）
は常法に従って、反応混合物から採取される。例えば、
不溶物が存在する場合には、適宜濾去した後、溶剤を減
圧留去することによって又は溶剤を減圧留去した後、残
留物に水を加え、エ−テル、酢酸エチルのような水不混
和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウムのような
乾燥剤で乾燥した後、溶剤を留去することによって得る
ことができ、必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿
又はクロマトグラフィ−等によって更に精製することが
できる。
【００３８】第Ａ２工程は、一般式（Ｉｂ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉａ）
を塩基と反応させることにより行われる。上記反応に使
用される塩基は、例えば、メチルアミン、エチルアミ
ン、プロピルアミン、ブチルアミンのようなアルキルア
ミン類、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのよう
なアルカリ金属アルコキシド類又はヒドラジン等であり
得、好適には、アルキルアミン類又はヒドラジンであ
る。
【００３９】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定されないが、例え
ば、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テルのようなエ−テ
ル類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ルのような
アルコ−ル類又はこれらの混合溶液であり得、好適に
は、アルコ−ル類であり、特に好適には、エタノ−ルで
ある。
【００４０】反応温度は、通常、−２０℃乃至２００℃
であり、好適には、０℃乃至１２０℃である。反応時間
は、原料化合物、塩基の種類、反応温度等によって異な
るが、通常、１５分乃至４８時間であり、好適には、３
０分乃至１５時間である。反応終了後、本反応の目的化
合物（Ｉｂ）は常法に従って、反応混合物から採取され
る。例えば、反応混合物から溶剤を留去すること、又は
反応混合物を水にあけ酸性とした後、エ−テル、酢酸エ
チルのような水不混和性有機溶媒で不要な化合物を抽出
した後、得られた水層をアルカリ性にして、クロロホル
ムのような水不混和性有機溶媒で抽出し、溶剤を留去す
ることによって得ることができ、必要ならば、常法、例
えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等によって
更に精製することができる。
【００４１】第Ａ３工程は、一般式（Ｉｃ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｂ）
を一般式（ＩＶ）を有する化合物と反応させるか、又は
チオカルボニル化合物の存在下、化合物（Ｉｂ）を一般
式（Ｖ）を有する化合物と反応させ、所望により、得ら
れた化合物のアミノ基等の保護基を除去することにより
行われる。
【００４２】化合物（Ｉｂ）と化合物（ＩＶ）の反応に
おいて、使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なも
のであれば特に限定されないが、例えば、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲ
ン炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テルのような
エ−テル類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ルの
ようなアルコ−ル類、ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリ
アミドのようなアミド類であり得、好適には、アルコ−
ル類であり、特に好適には、エタノ−ルである。
【００４３】反応温度は、通常、−２０℃乃至５０℃で
あり、好適には、０℃乃至３０℃である。反応時間は、
原料化合物、反応温度等によって異なるが、通常、１時
間乃至４８時間であり、好適には、２時間乃至１５時間
である。化合物（Ｉｂ）と化合物（Ｖ）の反応において
使用されるチオカルボニル化合物は、例えば、チオカル
ボニルジイミダゾ−ル、ジメチルチオ炭酸エステル、ジ
エチルチオ炭酸エステル、ジプロピルチオ炭酸エステ
ル、ジヘキシルチオ炭酸エステルのようなジＣ1-Ｃ 6ア
ルキルチオ炭酸エステル又はジピリジルチオ炭酸エステ
ルであり得、好適には、チオカルボニルジイミダゾ−
ル、ジメチルチオ炭酸エステル、ジエチルチオ炭酸エス
テル又はジピリジルチオ炭酸エステルであり、特に好適
には、チオカルボニルジイミダゾ−ル又はジピリジルチ
オ炭酸エステルである。
【００４４】化合物（Ｉｂ）と化合物（Ｖ）の反応にお
いて使用される不活性溶媒は、本反応に不活性なもので
あれば特に限定されないが、例えば、ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ−ルジ
メチルエ−テルのようなエ−テル類、アセトニトリルの
ようなニトリル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミドのようなアミド類であり得、好適には、ニトリル類
であり、特に好適には、アセトニトリルである。
【００４５】所望の反応であるアミノ基等の保護基を除
去する反応は、保護基の種類によって異なるが、一般に
この分野の技術に於て周知の方法によって実施される。
アミノ基等の保護基が、トリ置換シリル基である場合に
は、不活性溶媒中、相当する化合物を弗化テトラブチル
アンモニウムのような弗素アニオンを生成する化合物と
反応させることにより、該置換基が除去される。
【００４６】上記反応に使用される不活性溶媒は、本反
応に不活性なものであれば特に限定されないが、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類が好適で
ある。反応温度及び反応時間は、特に限定はないが、反
応温度は、通常、−１０℃乃至５０℃（好適には、０℃
乃至３０℃）であり、反応時間は、２時間乃至２４時間
（好適には、１０時間乃至１８時間）である。
【００４７】アミノ基の保護基が、アルカノイル基又は
アルコキシカルボニル基である場合には、水性溶媒の存
在下に、相当する化合物を酸又は塩基と反応させること
により、該置換基が除去される。使用される酸は、通常
酸として使用されるもので、反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、好適には、塩酸、硫酸、リン
酸、臭化水素酸のような無機酸であり、特に好適には、
塩酸であり、使用される塩基は、化合物の他の部分に影
響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
類、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物類又はアンモニア水、
濃アンモニア−メタノ−ルのようなアンモニア類であ
り、特に好適には、アンモニア類である。尚、塩基によ
る加水分解では異性化が起こることがある。
【００４８】上記反応に使用される不活性溶媒は、通常
の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はな
く、例えば、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−
ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テ
ル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒との混合溶媒で
あり得、好適には、含水アルコ−ル類又は含水エ−テル
類である。
【００４９】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に限
定はないが、副反応を抑制するために、反応温度は、通
常、−１０℃乃至１５０℃（好適には、０℃乃至１００
℃）であり、反応時間は、通常、３０分乃至２０時間
（好適には、1 時間乃至１０時間）である。
【００５０】アミノ基の保護基が、アリ−ルメチル基又
はアリ−ルメトキシカルボニル基である場合には、通
常、不活性溶媒中で、相当する化合物を還元剤（接触還
元を含む。）又は酸化剤と接触させることにより、該置
換基が除去される。接触還元による除去において使用さ
れる不活性溶媒は、本反応に関与しないものであれば特
に限定はないが、例えば、メタノ−ル、エタノ−ルのよ
うなアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサンのようなエ−テル類、トルエン、ベン
ゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサン、
シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸プロピルのようなエステル類、酢酸のような脂
肪酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒であり
得、好適には、アルコ−ル類である。
【００５１】使用される触媒は、通常、接触還元反応に
使用されるものであれば、特に限定はないが、例えば、
パラジウム−炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金
黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホスフ
ィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムであり
得、好適には、パラジウム−炭素である。
【００５２】水素の圧力は、特に限定はないが、通常１
乃至１０気圧（好適には、１乃至２気圧）である。反応
温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等
により異なるが、反応温度は、通常、−２０℃乃至１０
０℃（好適には、０℃乃至５０℃）であり、反応時間
は、通常、５分乃至２４時間（好適には、３０分乃至２
時間）である。
【００５３】酸化剤による除去において、使用される不
活性溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に限定
はないが、例えば、アセトンのようなケトン類、メチレ
ンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類、
ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類又はこれら有機溶剤の混合溶剤であり得、好適に
は、アミド類又はスルホキシド類である。
【００５４】使用される酸化剤としては、酸化に使用さ
れる化合物であれば特に限定はないが、例えば、過硫酸
カリウム、過硫酸ナトリウムのようなアルカリ金属過硫
酸塩、アンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-
ジクロロ-5,6- ジシアノ-p-ベンゾキノン(DDQ) であり
得、好適には、アンモニウムセリウムナイトレイト(CA
N) 又は2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン
(DDQ) である。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶
媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、−１０℃乃
至１５０℃（好適には、０℃乃至５０℃）であり、反応
時間は、通常、１０分乃至２４時間（好適には、３０分
乃至１０時間）である。
【００５５】反応終了後、各反応の目的化合物は、常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、不溶物
が存在する場合には、適宜濾去し、反応液が酸性又はア
ルカリ性の塩基である場合、適宜中和し、溶剤を減圧留
去することによって又は適宜溶剤を減圧留去した後、残
留物に水を加え、エ−テル、酢酸エチルのような水不混
和性有機溶媒で抽出し、無水硫酸マグネシウムのような
乾燥剤で乾燥した後、溶剤を留去することによって得る
ことができ、必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィ−等によって更に精製すること
ができる。
【００５６】Ｂ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ1 及び
Ｒ2 が置換されてもよいフタルイミド基である化合物
（Ｉｄ）、Ｒ1 が置換されてもよいフタルイミド基であ
り、Ｒ 2がアミノ基である化合物（Ｉｅ）、Ｒ1 及びＲ
2 がアミノ基である化合物（Ｉｆ）、Ｒ1 がアミノ基で
あり、Ｒ2 が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 a（式中、
Ｒ3 a及びＸは、前述したものと同意義を示す。）を有す
る基である化合物（Ｉｇ）、Ｒ 1及びＲ2 が式−ＮＨ−
ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 及びＸは、前述した
ものと同意義を示す。）を有する基である化合物（Ｉ
ｈ）及びＲ1 が置換されてもよいフタルイミド基であ
り、Ｒ2 が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ
3 及びＸは、前述したものと同意義を示す。）を有する
基である化合物（Ｉｉ）を製造する方法である。
【００５７】第Ｂ１工程は、一般式（Ｉｄ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（ＩＩ）
を化合物（ＩＩＩ）とトリＣ6 −Ｃ10アリ−ルホスフィ
ン及びアゾジカルボン酸ジＣ1-Ｃ 6アルキルの存在下に
反応させることにより行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ
１工程と同様に行われる。本工程において、化合物（Ｉ
ＩＩ）の使用量は、化合物（ＩＩ）に対して２．０乃至
６．０倍モルであり、好適には、２．５乃至４．５倍モ
ルである。
【００５８】第Ｂ２工程は、一般式（Ｉｅ）を有する化
合物を製造する工程で、化合物（Ｉｄ）を塩基と反応さ
せることにより行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ２工程
と同様に行われる。
【００５９】第Ｂ３工程は、一般式（Ｉｆ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｅ）
を塩基と反応させることにより行われ、本工程は、前記
Ａ法第Ａ２工程と同様に行われる。また、化合物（Ｉ
ｄ）と過剰の塩基（塩基の使用量は、化合物（Ｉｄ）に
対して、２．０乃至６．０倍モルであり、好適には、
２．５乃至４．５倍モル）を反応させることにより、化
合物（Ｉｆ）が化合物（Ｉｄ）から直接製造される。
【００６０】第Ｂ４工程は、一般式（Ｉｇ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｆ）
を化合物（ＩＶ）と反応させるか、又は化合物（Ｉｆ）
を化合物（Ｖ）とチオカルボニル化合物の存在下反応さ
せることにより行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ３工程
と同様に行われる。また、所望により得られた化合物
（Ｉｇ）に含まれるアミノ基等の保護基を前記Ａ法第Ａ
３工程と同様に除去することにより、化合物（Ｉｇ）に
おいて、Ｒ3 aがＲ3 である化合物（Ｉｇ’）が得られ
る。
【００６１】第Ｂ５工程は、一般式（Ｉｈ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｇ）
を化合物（ＩＶ）と反応させるか、又は化合物（Ｉｇ）
を化合物（Ｖ）とチオカルボニル化合物の存在下反応さ
せ、所望によりアミノ基等の保護基を除去することによ
り行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ３工程と同様に行わ
れる。また、化合物（Ｉｆ）を過剰の化合物（ＩＶ）又
は化合物（Ｖ）及びチオカルボニル化合物と反応させ、
所望によりアミノ基等の保護基を除去することにより、
化合物（Ｉｆ）から直接化合物（Ｉｈ）が製造される。
本工程に於て、化合物（ＩＶ）、化合物（Ｖ）及びチオ
カルボニル化合物の使用量は、化合物（Ｉｆ）に対し
て、２．０乃至６．０倍モルであり、好適には、２．５
乃至４．５倍モルである。
【００６２】第Ｂ６工程は、一般式（Ｉｉ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｅ）
を化合物（ＩＶ）と反応させるか、又は化合物（Ｉｅ）
を化合物（Ｖ）とチオカルボニル化合物の存在下反応さ
せ、所望によりアミノ基等の保護基を除去することによ
り行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ３工程と同様に行わ
れる。
【００６３】Ｃ法は、化合物（Ｉ）において、Ｒ1 が水
酸基であり、Ｒ2 が保護された水酸基である化合物（Ｉ
ｊ）、Ｒ1 が置換されてもよいフタルイミド基であり、
Ｒ2が保護された水酸基である化合物（Ｉｋ）、Ｒ1 が
アミノ基であり、Ｒ2 が保護された水酸基である化合物
（Ｉｍ）、Ｒ1 がアミノ基であり、Ｒ2 が水酸基である
化合物（Ｉｎ）、Ｒ1 がアミノ基であり、Ｒ2 が置換さ
れてもよいフタルイミド基である化合物（Ｉｏ）、Ｒ1
が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （Ｒ3 及びＸは、前
述したものと同意義を示す。）を有する基であり、Ｒ2
が置換されてもよいフタルイミド基である化合物（Ｉ
ｐ）、Ｒ 1が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （Ｒ3 及
びＸは、前述したものと同意義を示す。）を有する基で
あり、Ｒ2がアミノ基である化合物（Ｉｑ）、Ｒ1 が置
換されてもよいフタルイミド基であり、Ｒ2 が水酸基で
ある化合物（Ｉｒ）、Ｒ 1が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ
−Ｒ3 （Ｒ3 及びＸは、前述したものと同意義を示
す。）を有する基であり、Ｒ2が保護された水酸基であ
る化合物（Ｉｓ）、Ｒ1 が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−
Ｒ3 （Ｒ3 及びＸは、前述したものと同意義を示す。）
を有する基であり、Ｒ2が水酸基である化合物（Ｉｔ）
を製造する方法である。
【００６４】第Ｃ１工程は、一般式（Ｉｊ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（ＩＩ）
の水酸基を保護することにより行われる。水酸基の保護
基が５乃至６員飽和環状エーテル基である場合には、水
酸基を保護する反応は、不活性溶媒中、酸の存在下、化
合物（ＩＩ）をジヒドロフラン、ジヒドロピラン、４−
メトキシジヒドロピラン、ジヒドロチオピランのような
５乃至６員不飽和環状エーテル化合物（好適には、ジヒ
ドロピラン、４−メトキシジヒドロピラン又はジヒドロ
チオピラン、特に好適には、ジヒドロピラン）と反応さ
せることにより行われる。
【００６５】使用される酸は、通常酸として使用される
もので、反応を阻害しないものであれば特に限定はない
が、好適には、塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸のよう
な無機酸であり、特に好適には、塩酸である。使用され
る不活性溶媒は、本反応に関与しないものであれば特に
限定はないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン
のような芳香族炭化水素類、メチレンクロリド、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、ジ
エチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよ
うなエ−テル類であり得、好適には、エ−テル類であ
り、特に好適には、ジエチルエ−テルである。
【００６６】反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び使用される酸により異なり、特に限定はないが、反
応温度は、通常、−１０℃乃至５０℃（好適には、０℃
乃至３０℃）であり、反応時間は、通常、１５分乃至１
０時間（好適には、３０分間乃至５時間）である。
【００６７】水酸基の保護基が式 ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ
4 c（式中、Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cは、前述したものと同意
義を示す。）を有する基、１乃至３個のＣ6 −Ｃ10アリ
−ル基で置換されたメチル基又は上記１個のＣ6 −Ｃ10
アリ−ル基で置換されたメトキシカルボニル基である場
合には、水酸基を保護する反応は、不活性溶媒中、塩基
の存在下、触媒の存在下又は非存在下（好適には、存在
下）、化合物（ＩＩ）を一般式 Ｙ−ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c （ＶＩ） ［式中、Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cは、前述したものと同意義
を示し、Ｙは、ハロゲン原子（好適には、塩素、臭素又
は沃素）を示す。］を有する化合物、１乃至３個のＣ6
−Ｃ10アリ−ル基で置換されたメチルハライド（好適に
は、クロリド、ブロミド又はヨーダイド）又は上記１個
のＣ6 −Ｃ10アリ−ル基で置換されたメトキシカルボニ
ルハライド（好適には、クロリド、ブロミド又はヨーダ
イド）と反応させることにより行われる。
【００６８】使用される塩基は、化合物の他の部分に影
響を与えないものであれば特に限定はないが、好適に
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドのよ
うなアルカリ金属アルコキシド類、炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩
類、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物類又はトリエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、４−（Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンのような第三級アミン類
であり、好適には、第三級アミン類であり、特に好適に
は、トリエチルアミンである。
【００６９】使用される不活性溶媒は、本反応に不活性
なものであれば、特に限定されないが、例えば、メチレ
ンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲ
ン炭化水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テルのような
エ−テル類であり得、好適には、ハロゲン炭化水素類で
あり、特に好適には、メチレンクロリドである。
【００７０】使用される触媒は、通常のシリル化に用い
られるものであれば特に限定はないが、例えば、イミダ
ゾ−ル、２，６−ルチジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ミノ）ピリジンであり得、好適には、４−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノ）ピリジンである。反応温度は、通常、−
２０℃乃至５０℃であり、好適には、０℃乃至３０℃で
ある。反応時間は、原料化合物、保護基の種類、反応温
度等によって異なるが、通常、３０分乃至４８時間であ
り、好適には、１時間乃至１０時間である。本反応は、
好適には、不活性気体（例えば、窒素、アルゴン、ヘリ
ウム、好適には、窒素）によって置換された系で行われ
る。
【００７１】本工程に於て、水酸基の保護基を形成する
化合物［ジヒドロピラン、化合物（ＶＩ）等］の使用量
は、化合物（ＩＩ）に対して０．５乃至２．０倍モルで
あり、好適には、０．８乃至１．５倍モルである。反応
終了後、各反応の目的化合物は常法に従って、反応混合
物から採取される。例えば、不溶物が存在する場合に
は、適宜濾去した後、溶剤を減圧留去することによって
又は適宜溶剤を減圧留去した後、残留物に水を加え、エ
−テル、酢酸エチルのような水不混和性有機溶媒で抽出
し、抽出液を水、希塩酸及び重曹水で洗浄して、無水硫
酸マグネシウムのような乾燥剤で乾燥した後、溶剤を留
去することによって得ることができ、必要ならば、常
法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等に
よって更に精製することができる。
【００７２】また、水酸基の保護基を形成する化合物を
化合物（ＩＩ）に対して２．０乃至６．０倍モル（好適
には、２．５乃至４．５倍モル）使用することにより、
Ｒ1及びＲ2 が保護された水酸基である化合物が製造さ
れ、２．０乃至３．０倍モル使用することにより、Ｒ1
のみ保護された化合物及びＲ2 のみ保護された化合物の
混合物が製造される。製造された混合物をカラムクロマ
トグラフィ−等を用いて分離することにより、Ｒ1 が保
護された水酸基であり、Ｒ2 が水酸基である化合物及び
がＲ1 が水酸基であり、Ｒ2 が保護された水酸基である
化合物が製造され、更に、Ｒ1 が保護された水酸基であ
り、Ｒ2 が水酸基である化合物を前記Ａ法第Ａ１工程と
同様にフタルイミド化することにより、Ｒ1 が保護され
た水酸基であり、Ｒ2 が置換されてもよいフタルイミド
基である化合物が製造され［また、化合物（Ｉａ）の水
酸基を上記と同様に保護することによっても、この化合
物が製造される。］、更にまた、製造された化合物を前
記Ａ法第Ａ２工程と同様に反応させることにより、Ｒ1
が保護された水酸基であり、Ｒ2 がアミノ基である化合
物が製造され、最後に、製造された化合物を前記Ａ法第
Ａ３工程と同様に反応させることにより、Ｒ1 が保護さ
れた水酸基であり、Ｒ2 が式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−
Ｒ3 （Ｒ3 及びＸは、前述したものと同意義を示す。）
を有する基である化合物が製造される。
【００７３】第Ｃ２工程は、一般式（Ｉｋ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｊ）
を化合物（ＩＩＩ）とトリＣ6 −Ｃ10アリ−ルホスフィ
ン及びアゾジカルボン酸ジＣ1-Ｃ 6アルキルの存在下に
反応させることにより行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ
１工程と同様に行われる。
【００７４】第Ｃ３工程は、一般式（Ｉｍ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｋ）
を塩基と反応させることにより行われ、本工程は、前記
Ａ法第Ａ２工程と同様に行われる。
【００７５】第Ｃ４工程は、一般式（Ｉｎ）を有する化
合物を製造する工程で、化合物（Ｉｍ）の水酸基の保護
基を除去することにより行われる。水酸基の保護基が、
５乃至６員飽和環状エーテル基又はトリＣ6 −Ｃ10アリ
ールメチル基である場合には、相当する化合物を前記Ａ
法第Ａ３工程のアミノ基の保護基がアルカノイル基又は
アルコキシカルボニル基である場合の酸による除去反応
と同様に反応させることにより、該置換基が除去され
る。水酸基の保護基が、式 ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、
Ｒ4 a、Ｒ4 b及びＲ4 cは、前述したものと同意義を示
す。）を有する基である場合には、相当する化合物を前
記Ａ法第Ａ３工程のアミノ基の保護基がシリル基である
場合の除去反応と同様に反応させることにより、該置換
基が除去される。
【００７６】水酸基の保護基が、１乃至２個のＣ6 −Ｃ
10アリ−ル基で置換されたメチル基又は上記１個のＣ6
−Ｃ10アリ−ル基で置換されたメトキシカルボニル基で
ある場合には、相当する化合物を前記Ａ法第Ａ３工程の
アミノ基の保護基がアリ−ルメチル基又はアリ−ルメト
キシカルボニル基である場合の除去反応と同様に反応さ
せることにより、該置換基が除去される。
【００７７】第Ｃ５工程は、一般式（Ｉｏ）を有する化
合物を製造する工程で、化合物（Ｉｎ）を化合物（ＩＩ
Ｉ）と、前記Ａ法第Ａ１工程と同様に反応させることに
より行われる。
【００７８】第Ｃ６工程は、一般式（Ｉｐ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｏ）
を化合物（ＩＶ）と反応させるか、又は化合物（Ｉｏ）
を化合物（Ｖ）とチオカルボニル化合物の存在下反応さ
せ、所望によりアミノ基等の保護基を除去することによ
り行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ３工程と同様に行わ
れる。
【００７９】第Ｃ７工程は、一般式（Ｉｑ）を有する化
合物を製造する工程で、化合物（Ｉｐ）を塩基と、前記
Ａ法第Ａ２工程と同様に反応させることにより行われ
る。
【００８０】第Ｃ８工程は、一般式（Ｉｒ）を有する化
合物を製造する工程で、化合物（Ｉｋ）の水酸基の保護
基を前記第Ｃ４工程と同様に除去することにより行われ
る。
【００８１】第Ｃ９工程は、一般式（Ｉｓ）を有する化
合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉｍ）
を化合物（ＩＶ）と反応させるか、又は化合物（Ｉｍ）
を化合物（Ｖ）とチオカルボニル化合物の存在下反応さ
せ、所望によりアミノ基等の保護基を除去することによ
り行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ３工程と同様に行わ
れる。
【００８２】第Ｃ１０工程は、一般式（Ｉｔ）を有する
化合物を製造する工程で、不活性溶媒中、化合物（Ｉ
ｎ）を化合物（ＩＶ）と反応させるか、又は化合物（Ｉ
ｎ）を化合物（Ｖ）とチオカルボニル化合物の存在下反
応させ、所望によりアミノ基等の保護基を除去すること
により行われ、本工程は、前記Ａ法第Ａ３工程と同様に
行われる。
【００８３】本発明の一般式（Ｉ）の化合物は、必要に
応じて常法、例えば、不活性溶媒中（例えば、エ−テル
類）、等モルの酸（例えば、塩酸）と室温で反応させ、
溶媒を留去することにより、所望の塩に変換される。
【００８４】本発明の化合物（Ｉ）は、優れた抗潰瘍作
用及びヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacte pylori）
に対する抗菌活性を有し、且つ毒性も弱いので、消化性
潰瘍、急性又は慢性胃潰瘍、十二指腸潰瘍、胃炎、逆流
性食道炎、胃食道反射疾患、消化不良、胃散過多症、ゾ
−リンガ−・エリソン症候群等の潰瘍性疾患の予防剤若
しくは治療剤（好適には、治療剤）、外科手術の際の潰
瘍性疾患の予防剤又はヘリコバクタ− ピロリ（Herico
bacter pylori ）に対する抗菌剤として有用である。ま
た、化合物（Ｉ）は、優れた抗潰瘍作用を有する化合物
の合成中間体としても有用である。
【００８５】本発明の化合物（Ｉ）又はその薬理上許容
される塩を上記疾患の治療剤又は予防剤等として使用す
る場合には、それ自体或は適宜の薬理学的に許容され
る、賦形剤等と混合し、錠剤、顆粒剤、カプセル剤、散
剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤若しく
は坐剤等による非経口的に投与することができる。
【００８６】これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、
白糖、ブドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘
導体；トウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、α−デ
ンプン、デキストリン、カルボキシメチルデンプンのよ
うなデンプン誘導体；結晶セルロース、低置換度ヒドロ
キシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチル
セルロースナトリウムのようなセルロース誘導体；アラ
ビアゴム；デキストラン；プルラン；軽質無水珪酸、合
成珪酸アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウム
のような珪酸塩誘導体；リン酸カルシウムのようなリン
酸塩誘導体；炭酸カルシウムのような炭酸塩誘導体；硫
酸カルシウムのような硫酸塩誘導体等）、結合剤（例え
ば、前記の賦形剤；ゼラチン；ポリビニルピロリドン；
マグロゴール等）、崩壊剤（例えば、前記の賦形剤；ク
ロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチルスター
チナトリウム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学
修飾された、デンプン、セルロース誘導体等）、滑沢剤
（例えば、タルク；ステアリン酸；ステアリン酸カルシ
ウム、ステアリン酸マグネシウムのようなステアリン酸
金属塩；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイロウのような
ラックス類；硼酸；グリコール；フマル酸、アジピン酸
のようなカルボン酸類；安息香酸ナトリウムのようなカ
ルボン酸ナトリウム塩；硫酸ナトリウムのような硫酸類
塩；ロイシン；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸
マグネシウムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸
水和物のような珪酸類；前記の賦形剤におけるデンプン
誘導体等）、安定剤（例えば、メチルパラベン、プロピ
ルパラベンのようなパラオキシ安息香酸エステル類；ク
ロロブタノール、ベンジルアルコール、フェニルエチル
アルコールのようなアルコール類；塩化ベンザルコニウ
ム；フェノール、クレゾールのようなフェノール類；チ
メロサール；無水酢酸；ソルビン酸等）、矯味矯臭剤
（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料
等）、希釈剤、注射剤用溶剤（例えば、水、エタノー
ル、グリセリン等）等の添加剤を用いて周知の方法で製
造される。その使用量は症状、年齢等により異なるが、
１回当り１日下限１ｍｇ（好適には、１０ｍｇ）、上限
１０００ｍｇ（好適には、５００ｍｇ）を、１日１回又
は数回に分けてを成人に対して、１日当り１乃至６回症
状に応じて投与することができる。
【００８７】
【実施例】以下に実施例、試験例及び製剤例を示し、本
発明をさらに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれら
を限定するものではない。
【００８８】実施例１ プラウノト−ル−１−フタルイミド（例示化合物番号：
２９２） プラウノトール(18.0g) のテトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）溶液(50ml)に、フタルイミド(9.58g) 及びトリフェ
ニルホスフィン(17.1g) を加え、氷冷下、アゾジカルボ
ン酸ジエチル(10.3ml)のテトラヒドロフラン溶液(20ml)
を滴下した。混合物を窒素置換下、室温で３時間撹拌し
た。反応混合物を減圧濃縮し、これに水を加えてエーテ
ルで抽出した。抽出液を水で洗浄した後、過剰のトリフ
ェニルホスフィンを酸化するために沃素の酢酸エチル溶
液を少量滴下し、過剰の沃素を５％チオ硫酸ナトリウム
溶液で洗浄することにより除去した。その後、飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し
た。残留物を酢酸エチルに溶解し、ヘキサンを滴下し
て、氷冷時に析出するトリフェニルホスフィンオキシド
を濾過して除去した。この操作を３回繰り返した後、ろ
液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲルを用いたフラッシ
ュクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチ
ル＝85/15)で精製して、標記化合物(10.1g) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3)： 1.55(3H,
s), 1.59(3H,s), 1.67(3H,s), 1.82(3H,s), 1.94〜2.19
(12H,m), 4.10(2H,s), 4.27(2H,d,J=7.2Hz),5.04(2H,
m), 5.20〜5.23(2H,m), 7.68〜7.83(4H,m)。 ＩＲスペクトル， cm-1(KBr,ペレット) : 3512, 1695。 マススペクトル， m/z： 435 (M+) 。
【００８９】実施例２ プラウノト−ル−１−アミン（例示化合物番号：２９
０） 実施例１の化合物(10.1g) のエタノール溶液(50ml)に、
ブチルアミン(9.1ml)を滴下し、室温で一晩撹拌した。
反応混合物を減圧濃縮し、得られた残留物をエーテルに
溶かし、エーテル溶液を塩酸酸性の水(pH ２) で抽出し
た。得られた水層をアンモニアアルカリ性(pH ９〜10)
とし、クロロホルムで抽出した。抽出液を減圧濃縮し、
標記化合物(4.12g) を得た。本化合物は、これ以上精製
することなく次の反応に供した。 薄層クロマトグラフィ−（展開溶媒：クロロホルム／メ
タノール／水＝65/35/10）：Ｒｆ＝0.29。
【００９０】実施例３ プラウノト−ル−１−エチルチオウレア（例示化合物番
号：３） 実施例２の化合物(200mg) のエタノール溶液(2ml) に、
撹拌しながらイソチオシアン酸エチル(137μl)を滴下
し、室温で５時間撹拌した。反応混合物を氷水に注ぎ、
エーテルで抽出した。抽出液を水及び飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し
た。残留物をシリカゲルを用いたフラッシュクロマトグ
ラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝75／25）
で精製し、標記化合物(4:188mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3)：1.22(3H,t,
J=7.2Hz), 1.60(6H,s), 1.68(3H,s),1.70(3H,s),1.96〜
2.24(9H,m), 3.46(2H,brt,J=5.6Hz), 4.01 (2H,brs),
4.12(2H,s), 5.09〜5.12(2H,m), 5.25〜5.29(2H,m), 5.
78(1H,brs),5.93(1H,brs)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム) : 3280, 292
6, 1552, 1448, 1381,1003。 マススペクトル，m/z ： 392 (M+)。
【００９１】実施例４ プラウノト−ル−１−イソブチルチオウレア（例示化合
物番号：１１） 実施例２のイソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオ
シアン酸イソブチル(193μl)を用い、実施例３と同様に
反応させ、精製して、標記化合物(176mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)： 0.95(3H,
s), 0.96(3H,s), 1.60(6H,s),1.68(3H,s), 1.70(3H,s),
1.89(1H,m), 1.96〜2.24(12H,m), 3.25(2H,brs), 4.01
(2H,brs), 4.12(2H,s),5.07〜5.14(2H,m), 5.27(2H,t,
J=7.2Hz), 5.88(1H,brs),5.96(1H,brs)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3282, 296
1, 2925, 1552, 1446,1376, 1003。 マススペクトル，m/z ： 420 (M+) 。
【００９２】実施例５ プラウノト−ル−１−フェニルチオウレア（例示化合物
番号：１７） 実施例２の化合物(116mg) のエタノール溶液及びイソチ
オシアン酸フェニル(137μl)を用い、実施例３と同様に
反応させ、精製し、標記化合物(54.3mg)を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.59(6
H,s), 1.66(3H,s),1.68(3H,s), 1.95 〜2.18(2H,m), 4.
08(2H,s), 4.23(2H,t-like), 5.08 〜5.11(2H,m), 5.20
〜5.25(2H,m), 7.21〜7.30(3H,m), 7.39〜7.44(2H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3281, 292
1, 1537, 1498, 1451,1381, 1354。 マススペクトル， m/z： 440 (M+) 。
【００９３】実施例６ プラウノト−ル−１−ベンジルチオウレア（例示化合物
番号：２８） 実施例２の化合物(100mg) のエタノール溶液(2ml) 及び
イソチオシアン酸ベンジル(130μl)を用い、実施例３と
同様に反応させ、精製し、標記化合物(34.0mg)を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.54(3
H,s), 1.60(3H,s),1.61(3H,s), 1.68(3H,s), 1.95〜2.1
8(12H,m), 3.96(2H,brs), 4.09(2H,s), 4.67(2H,d,J=
4.3Hz), 5.07〜5.11(2H,m), 5.20〜5.26(2H,m), 7.27〜
7.37(5H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム）: 3278, 292
2, 1549, 1496, 1454,1375, 1352, 1272。 マススペクトル，m/z ： 454 (M+) 。
【００９４】実施例７ プラウノト−ル−１−フェネチルチオウレア（例示化合
物番号：７６） 実施例２の化合物(100mg) のエタノール溶液(2ml) 及び
イソチオシアン酸フェネチル(143μl)を用い、実施例３
と同様に反応させ、精製し、標記化合物(37.0mg) を得
た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.60(6
H,s), 1.61(3H,s),1.68(3H,s), 1.96 〜2.19(12H,m),
2.91(2H,t,J=6.8Hz), 3.78(2H,br dd,J=5.4Hz), 3.85(2
H,brs), 4.07(2H,s), 5.07 〜5.11(2H,m), 5.18(1H,t,J
=6.1Hz),5.24(1H,t,J=7.4Hz), 7.21〜7.34(5H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3278, 292
4, 1552, 1497, 1454,1381, 1354, 1333,1274。 マススペクトル，m/z ： 468(M+1+)。
【００９５】実施例８ プラウノト−ル−１−（３−フェニルプロピル）チオウ
レア（例示化合物番号：１４３） チオ炭酸ジ−２−ピリジル(418mg) のアセトニトリル溶
液(1.5ml) に、撹拌しながら１−アミノ−３−フェニル
プロパン(256mg) を滴下した。混合物を室温で５分間撹
拌し、実施例２の化合物(200mg) のアセトニトリル溶液
(1.5ml) を加えて、さらに１０分間撹拌した。反応混合
物にエーテル(30ml)を加えて、析出する２−ヒドロキシ
ピリジンをろ過し除去した後、２規定の塩酸で洗浄し
た。そのエーテル層を水洗して、飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮した。残留
物をシリカゲルを用いたフラッシュクロマトグラフィー
（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝75／25）で精製
し、標記化合物(176mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.60(6
H,s), 1.68(6H,s), 1.92〜2.22(14H,m), 2.70(2H,t,J=
7.4Hz), 3.47(2H,brs), 3.89(2H,brs), 4.10(2H,s), 5.
08〜5.12(2H,m), 5.22〜5.28(2H,m), 5.73(1H,brs), 5.
85(1H,brs), 7.17〜7.31(5H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3279, 292
4, 1551, 1452, 1382,1357, 1001。 マススペクトル，m/z ： 482(M+)。
【００９６】実施例９ プラウノト−ル−１−（４−フェニルブチル）チオウレ
ア（例示化合物番号：２１９） １−アミノ−３−フェニルプロパンの代わりに１−アミ
ノ−４−フェニルブタン(269μl)を用い、実施例８と同
様に反応させ、シリカゲルを用いたフラッシュクロマト
グラフィー（溶出溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝70／3
0）で精製し、標記化合物(237mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)： １．６０
（６Ｈ，ｓ）， １．６８（６Ｈ，ｓ）， １．９５〜
２．２２（１２Ｈ，ｍ）， ２．６５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．２Ｈｚ）， ３．４４（２Ｈ，ｂｒｓ）， ３．９
７（２Ｈ，ｂｒｓ）， ４．１１（２Ｈ，ｓ），５．０
７〜5.14(2H,m), 5.23〜5.28(2H,m), 5.70(1H,brs),
5.85(1H,brs), 7.15〜7.30(5H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3278, 292
6, 1552, 1452, 1382,1356, 1002。 マススペクトル，m/z : 497 (M+)。
【００９７】実施例１０ プラウノト−ル−１−［２−（４−メトキシフェニル）
エチル］チオウレア（例示化合物番号：８７） １−アミノ−３−フェニルプロパンの代わりに１−（２
−アミノエチル）−４−メトキシベンゼン(293μl)を用
い、実施例８と同様に反応させ、シリカゲルを用いたフ
ラッシュクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢
酸エチル＝60／40）で精製し、標記化合物(137mg) を得
た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3 ）： 1.60(6
H,s), 1.62(3H,s),1.68(3H,s), 1.98〜2.19(13H,m), 2.
85(2H,t,J=6.8Hz), 3.73(2H,brd,J=5.4Hz),3.79(3H,s),
3.84(2H,brs), 4.08(2H,s), 5.07〜5.11(2H,m), 5.19
(1H,dd,J=5.9,7.0Hz), 5.24(1H,t,J=7.4Hz), 5.66(1H,b
rs), 5.90(1H,brs), 6.85(2H,d,J=8.6Hz), 7.13(2H,d,J
=8.6Hz) 。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3280, 292
5, 1612, 1550, 1513,1247, 1004。 マススペクトル，m/z : 499 (M+1+)。
【００９８】実施例１１ プラウノト−ル−１−［２−（２−メトキシフェニル）
エチル］チオウレア（例示化合物番号：８３） １−アミノ−３フェニルプロパンの代わりに１−（２−
アミノエチル）−２−メトキシベンゼン(262μl)を用
い、実施例８と同様に反応させ、シリカゲルを用いたフ
ラッシュクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢
酸エチル＝65／３５）で精製し、標記化合物（１３６ｍ
ｇ） を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)： 1.60(6H,
s), 1.66(3H,s), 1.68(3H,s), 1.96 〜2.22(12H,m), 2.
91(2H,t,J=6.8Hz), 3.61(2H,brs), 3.85(3H,s),3.94(2
H,brs), 4.10(2H,s), 5.07〜5.12(2H,m), 5.25(2H,dd,J
=7.4,14.9Hz), 5.88(1H,brs), 6.06(1H,brs), 6.90(2H,
m), 7.14(1H,dd,J=1.6,7.4Hz), 7.23(1H,dt,J=1.3,7.7H
z)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3286, 292
4, 1551, 1494, 1377,1353, 1224。 マススペクトル，m/z : 499 (M+1+)。
【００９９】実施例１２ プラウノト−ル−１−（２−チエニルメチル）チオウレ
ア（例示化合物番号：５７） １−アミノ−３−フェニルプロパンの代わりに２−アミ
ノメチルチオフェン(185μl)を用い、実施例８と同様に
反応させ、シリカゲルを用いたフラッシュクロマトグラ
フィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エチル＝65／35）で
精製し、標記化合物(137mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)：1.60(6H,
s), 1.64(3H,s), 1.68(3H,s), 1.95〜2.19(12H,m), 3.9
3(2H,brs), 4.10(2H,s), 4.89(2H,d,J=5.0Hz),5.07〜5.
13(2H,m), 5.21〜5.27(2H,m), 6.02(1H,brs), 6.17(1H,
brs), 6.96(1H,dd,J=3.5,5.1Hz), 7.02(1H,dd,J=0.7,3.
2Hz), 7.24(1H,dd,J=1.2,5.1Hz) 。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3278, 292
3, 1549, 1440, 1381,1001。 マススペクトル，m/z : 460 (M+)。
【０１００】実施例１３ プラウノト−ル−１−（３，４−メチレンジオキシフェ
ネチル）チオウレア（例示化合物番号：１０４） １−アミノ−３−フェニルプロパンの代わりに１−（２
−アミノエチル）−３，４−メチレンジオキシベンゼン
塩酸塩(363mg) 及びトリエチルアミン(250μl)を用い、
実施例８と同様に反応させ、シリカゲルを用いたフラッ
シュクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エ
チル＝65／35）で精製し、標記化合物(137mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)： 1.60(6H,
s), 1.63(3H,s), 1.68(3H,s), 1.98〜2.18(12H,m), 2.8
3(2H,t,J=6.8Hz), 3.71(2H,brd,J=5.4Hz), 3.87(2H,br
s), 4.10(2H,s),5.07〜5.12(2H,m), 5.19(1H,t,J=6.0H
z), 5.25(1H,t,J=7.4Hz), 5.66(1H,brs), 5.92(1H,br
s), 5.93(2H,s), 6.66(1H,dd,J=1.6,7.8Hz), 6.70(1H,
d,J=1.5Hz), 6.75(1H,d,J=7.8Hz)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1( 薄膜法） : 3280, 2923, 155
1, 1247, 1041, 1005。 マススペクトル，m/z : 512 (M+)。
【０１０１】実施例１４ プラウノト−ル−１−（４−クロロフェネチル）チオウ
レア（例示化合物番号：１０１） １−アミノ−３−フェニルプロパンの代わりに、１−
（３−アミノプロピル）−４−クロロベンゼン(250μl)
を用い、実施例８と同様に反応させ、シリカゲルを用い
たフラッシュクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン
／酢酸エチル＝75／25）で精製し、標記化合物(175mg)
を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)： 1.60(6H,
s), 1.63(3H,s), 1.68(3H,s),1.96〜2.20(12H,m), 2.8
9(2H,t,J=6.9Hz), 3.76(2H,brdd,J=6.2,12.2Hz), 3.86
(2H,brs), 4.09(2H,s), 5.07〜5.11(2H,m), 5.19(1H,t,
J=6.3Hz), 5.25(1H,t,J=7.4Hz), 5.68(1H,brs), 6.00(1
H,brs), 7.15(2H,d,J=8.3Hz), 7.28(2H,d,J=8.3Hz)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3280, 292
4, 1551, 1493, 1443,1381, 1354, 1004。 マススペクトル，m/z : 502 (M+)。
【０１０２】実施例１５ プラウノト−ル−１，１８−ジフタルイミド（例示化合
物番号：５４６） プラウノトール(5.0g)のテトラヒドロフラン溶液(50ml)
に、フタルイミド(9.6g)及びトリフェニルホスフィン(1
7.1g) を加え、氷冷下で、アゾジカルボン酸ジエチル(1
0.3ml)のテトラヒドロフラン溶液(20ml)を滴下した。混
合物を窒素置換下、室温で３時間撹拌した。以下実施例
１と同様に精製して、標記化合物 (2.0g) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ( ＣＤＣｌ3)： 1.53(3H,
s), 1.57(3H,s), 1.65(3H,s),1.89〜2.14(13H,m), 2.3
9〜2.45(2H,m), 4.29(2H,s), 4.30(2H,d,J=6.8Hz), 4.9
9〜5.08(2H,m), 5.33(2H,t,J=7.2Hz), 7.68〜7.71(4H,
m), 7.81〜7.83(4H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム）: 2922, 177
1, 1714。 マススペクトル，m/z : 564 (M+)。
【０１０３】実施例１６ プラウノト−ル−１，１８−ジアミン（例示化合物番
号：３５９） 実施例１５の化合物(2.0g)にヒドラジン・一水和物(8m
l) とエタノール(40ml)の混合溶液を加え、100 〜105
℃の油浴中で１時間加熱還流した。放冷した後、析出し
たヒドラジン塩酸塩を吸引ろ過で除去した。この操作を
３回繰り返し、ヒドラジン塩酸塩をできるだけ除去し
た。そのろ液を10％水酸化ナトリウム溶液に加え、クロ
ロホルムで抽出した。抽出液を水洗し、飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮して、
標記化合物(912mg) を得た。本化合物は、これ以上精製
することなく、次の反応に用いた。 薄層クロマトグラフィ−（展開溶剤：クロロホルム／メ
タノール／水＝13/7/6) ：Ｒｆ＝0.12。
【０１０４】実施例１７ プラウノト−ル−１，１８−ジフェニルチオウレア（例
示化合物番号：４９８） 実施例１６の化合物(304mg) のエタノール溶液(5ml)
と、イソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオシアン
酸フェニル(300μl)を用い、実施例３と同様に反応さ
せ、精製して、標記化合物(179.7mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.56(3
H,s), 1.60(3H,s),1.63(3H,s), 1.68(3H,s),1.91〜2.04
(10H,m), 2.11〜2.17(2H,m), 4.21(2H,d,J=7.2Hz),
4.22(2H,s), 5.02(1H,t,J=6.5Hz),5.05〜5.08(1H,m),
5.15〜5.18(1H,m), 5.28(1H,t,J=7.0Hz), 7.13〜7.22(4
H,m), 7.29〜7.30(2H,m), 7.40〜7.44(4H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム） : 3244, 292
3, 1537, 1533, 1497,1376，1354，1314，1298。 マススペクトル，m/z : 574 (M+1+)。
【０１０５】実施例１８ プラウノト−ル−１，１８−ジベンジルチオウレア（例
示化合物番号：５０１） 実施例１６の化合物(304mg) のエタノール溶液(5ml)
と、イソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオシアン
酸ベンジル(330μl)を用い、実施例３と同様に反応さ
せ、精製し、標記化合物(411.1mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.58(9
H,s), 1.68(3H,s),1.94〜2.15(12H,m), 3.98(4H,brs),
4.63(4H,brd,J=14.0Hz), 5.03〜5.10(2H,m), 5.17(1H,t
-like,J=6.7Hz), 5.28(1H,t,J=7.2Hz),7.28〜7.36(10H,
m) 。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム）: 3259, 292
3, 1558, 1538, 1375，1352, 1273。 マススペクトル，m/z : 602(M+1+) 。
【０１０６】実施例１９ プラウノト−ル−１，１８−ジフェネチルチオウレア
（例示化合物番号：５１３） 実施例１６の化合物(304mg) のエタノール溶液(5ml)
と、イソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオシアン
酸フェネチル(362μl)を用い、実施例３と同様に反応さ
せ、精製し、標記化合物(426.2mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.60(9
H,s), 1.68(3H,s),1.94〜2.13(12H,m), 2.88〜2.94(4
H,m), 3.74〜3.87(8H,m), 5.04〜5.10(2H,m), 5.14〜5.
15(1H,t-like), 5.26(1H,t,J=7.4Hz),7.20〜7.33(10H,
m) 。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1 : 3259, 2925, 1549, 1381, 1
354,1275。 マススペクトル，m/z : 630(M+1+) 。
【０１０７】実施例２０ プラウノト−ル−１−（ｔ−ブチルジメチルシリル）エ
−テル（例示化合物番号：２９９） プラウノトール(12.0g) の塩化メチレン溶液(100ml) に
トリエチルアミン(6.0ml) とジメチルアミノピリジン(1
96μl)を加え、氷冷下、ｔ−ブチルジメチルクロロシラ
ン(6.54g) の塩化メチレン溶液(50ml)を滴下した。反応
溶液を窒素置換下、室温で約３時間撹拌した。反応混合
物をエーテルに溶解し、水、希塩酸、５％重曹水及び飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
て、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルを用いたフラッ
シュクロマトグラフィー（溶出溶剤：ヘキサン／酢酸エ
チル＝９０／１０）で精製し、標記化合物(8.46g) を得
た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 0.07(6
H,s), 0.91(9H,s),1.60(6H,s), 1.64(3H,s), 1.68(3H,
s), 1.96〜2.23(12H,m), 4.10(2H,s), 4.18(2H,d,J=6.7
Hz),5.07〜5.13(2H,m), 5.26〜5.31(2H,m)。
【０１０８】実施例２１ プラウノト−ル−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−１８−フタルイミド（例示化合物番号：５５１） 実施例２０の化合物(5.0g)のテトラヒドロフラン溶液(3
0ml)に、フタルイミド(2.2g)及びトリフェニルホスフィ
ン(3.9g)を加え、氷冷下で、アゾジカルボン酸ジエチル
(2.34ml)のテトラヒドロフラン溶液(5.6ml) を滴下し
た。混合物を窒素置換下、室温で３時間撹拌した。以下
実施例１と同様に精製し、標記化合物(3.85g) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 0.08(6
H,s), 0.91(9H,s),1.56〜1.68(12H,m), 1.91〜2.16(10
H,m), 2.43(2H,dd,J=7.3,15.2Hz), 4.21(2H,d,J=6.1H
z),4.32(2H,s), 5.04〜5.07(2H,m), 5.35〜5.40(2H,m),
7.69〜7.73(2H,m), 7.81〜7.85(2H,m)。
【０１０９】実施例２２ プラウノト−ル−１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
−１８−アミン（例示化合物番号：３６３） 実施例２１の化合物(3.85g) のエタノール溶液(10ml)に
ブチルアミン(2.8ml)を滴下し、室温で一晩撹拌した。
反応混合液を減圧濃縮し、残留物をシリカゲルクロマト
グラフィー（溶出溶剤：クロロホルム／メタノール＝90
／10）に付し、標記化合物(2.0g)を得た。この化合物
は、これ以上精製することなく、次の反応に用いた。 実施例２３ プラウノト−ル−１８−アミン（例示化合物番号：３６
４） テトラブチルアンモニウムフルオリド(14.88ml) に、氷
冷撹拌下、酢酸(283.4μl)を加えた。この混合溶液に、
実施例２２の化合物(2.0g)のテトラヒドロフラン溶液
（20ml）を滴下し、５分間放置した。室温に戻し、一晩
放置した後、減圧濃縮し、クロロホルムに溶解し、これ
を５％水酸化ナトリウム溶液、水及び飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧濃縮し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶
剤：クロロホルム／メタノール＝70／30）に付し、標記
化合物(485.4mg) を得た。この化合物は、これ以上精製
することなく、次の反応に用いた。 薄層クロマトグラフィ−（展開溶剤：クロロホルム／メ
タノール＝70／30) ：Ｒｆ＝ 0.25 。
【０１１０】実施例２４ プラウノト−ル−１８−フェニルチオウレア（例示化合
物番号：３７２） 実施例２３の化合物(100mg) のエタノール溶液(2ml)
と、イソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオシアン
酸フェニル(59 μl)を用い、実施例３と同様に反応さ
せ、精製し、標記化合物(77.6mg)を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.50(3
H,s), 1.60(3H,s),1.65(3H,s), 1.68(3H,s), 1.92〜2.2
1(12H,m), 4.12(2H,d,J=6.8Hz), 4.22(2H,d,J=4.7Hz),
5.02〜5.10(2H,m), 5.30〜5.89(2H,m), 7.23〜7.29(3H,
m), 7.39〜7.43(2H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム）: 3287, 292
3, 1534, 1498, 1451,1314。 マススペクトル，m/z : 440 (M+) 。
【０１１１】実施例２５ プラウノト−ル−１８−ベンジルチオウレア（例示化合
物番号：３７５） 実施例２３の化合物(100mg) のエタノール溶液(2ml)
と、イソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオシアン
酸ベンジル(98 μl)を用い、実施例３と同様に反応さ
せ、精製して、標記化合物(85.2mg)を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.59(3
H,s), 1.60(3H,s),1.63(3H,s), 1.68(3H,s), 1.95〜2.1
8(12H,m), 3.98(2H,brs), 4.07(2H,d,J=7.2Hz), 4.72(2
H,d,J=4.7Hz),5.07〜5.10(2H,m), 5.29〜5.33(2H,m),
7.26〜7.36(5H,m) 。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液状フィルム）: 3286, 292
1, 1549, 1454, 1375，986 。 マススペクトル，m/z: 454 (M+) 。
【０１１２】実施例２６ プラウノト−ル−１８−フェネチルチオウレア（例示化
合物番号：３９１） 実施例２３の化合物(100mg) のエタノール溶液(2ml)
と、イソチオシアン酸エチルの代わりにイソチオシアン
酸フェネチル(107μl)を用い、実施例３と同様に反応さ
せ、精製して、標記化合物(169.3mg) を得た。 ＮＭＲスペクトル，δｐｐｍ（ＣＤＣｌ3 ）： 1.59(3
H,s), 1.60(3H,s),1.61(3H,s), 1.68(3H,s),1.94〜2.17
(12H,m), 2.91(2H,t,J=6.8Hz), 3.84(2H,brdd,J=6.3,1
2.2Hz), 3.90(2H,brs), 4.00(2H,d,J=7.1Hz),5.06〜5.1
0(2H,m),5.27(2H,t,J=7.6Hz),7.21〜7.34(5H,m)。 ＩＲスペクトル，ｃｍ-1（液体フィルム）: 3286, 292
3, 1549, 1454, 1381，1356。 マススペクトル，m/z : 468 (M+)。
【０１１３】試験例１ ヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacter pylori）に対
する抗菌作用 抗菌評価は、ヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacter
pylori）の菌株としてＮＣＴＣ １１３６７株（ＡＢ０
２５１，ＡＢ０２５３，ＡＢ０２５５）を用い、本発明
化合物のＭＩＣ（Minimum Inhibitory Concentration：
最小発育防止濃度）値を求めることによった。ヘリコバ
クタ− ピロリ（Hericobacter pylori）を寒天平板地
上で３日間培養した。培地にはブレインハ−トインヒュ
−ジョン寒天（Difco 社製）を規定量の蒸留水に溶解
し、オ−トクレ−プで減菌した後、ウマ血液（日本生物
材料社製）を７％となるように分注して固化したものを
用いた。微好気条件下（５％の酸素濃度）、３７℃で４
日間培養したヘリコバクタ−ピロリ（Hericobacter py
lori）を減菌生理食塩水中で菌量が約１０8 ＣＦＵ／ｍ
ｌとなるように懸濁した。懸濁液を１００倍希釈し、そ
の約１０μｌをＭＩＣ測定用培地上に接種した。ＭＩＣ
測定用培地には、前培養用培地と組成が同じものを用い
た。本発明化合物をジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）
に溶解し、ＤＭＳＯで２倍希釈系列にした溶液と培地と
を１：９９の割合で混合し、シャ−レ上で固化したもの
をＭＩＣ測定用 前培養と同様にしてヘリコバクタ−
ピロリ（Hericobacter pylori）を微好気条件下、３７
℃において３日間培養した。培養終了後、接種部分の菌
の生育を肉眼で観察し、菌の生育のみられなかった本発
明化合物の最小濃度をＭＩＣとした。その結果を表２に
示す。
【０１１４】
【表２】 ─────────────────────────────── ＭＩＣ（μｇ／ｍｌ） 試験化合物 AB0251 AB0253 AB0255 ─────────────────────────────── 実施例３の化合物 ≦0.10 ≦0.20 ≦0.10 実施例４の化合物 0.39 0.78 0.78 実施例６の化合物 0.39 1.56 0.39 実施例７の化合物 ≦0.10 ≦0.10 ≦0.10 実施例１０の化合物 ≦0.10 0.20 ≦0.10 実施例１２の化合物 0.20 0.78 0.39 実施例１３の化合物 0.20 0.78 0.39 実施例１４の化合物 ≦0.10 0.39 0.20 ─────────────────────────────── プラウノトール 6,25 〜 12.5 ───────────────────────────────。
【０１１５】試験例２ ヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacter pylori）感染
マウスにおける慢性潰瘍治癒促進作用 試験動物として、体重２０ｇ〜３０ｇの雄性Balb/cヌ−
ドマウスを１群１７〜１８匹用いた。試験化合物は、
０．４％トウィーン(Tween) ８０溶液で懸濁させ、５ｍ
ｇ／ｍｌの濃度に調整して用いた。また、対象群とし
て、０．４％Tween８０溶液を使用した。マウスをペン
トバルビタ−ル麻酔下において開腹し、胃前壁の腺胃一
幽門境界部に金属製のカップを押し当て、６０％酢酸溶
液をカップ内に満たした。その後、濾紙でカップ内の溶
液を取り去り、胃を腹腔内に戻し、腹壁を縫合し閉腹し
た。このようにして慢性潰瘍を作成し、その２日後に、
ヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacter pylori）の感
染を行った。ヘリコバクタ− ピロリ2052株を２％ウシ
胎児血清(Fetal Bovine Serum)添加のブルセラ(Brucell
a)液体培地中で、３７℃で４８時間微好気状態で振盪培
養した。その後、遠心分離し、ヘリコバクタ− ピロリ
菌懸濁液を調製した。この菌懸濁液を、酢酸潰瘍を作成
したマウスに経口投与（３ｘ１０8 ＣＦＵ／マウス）し
た。菌の接種２日後より、試験化合物をマウスに１日に
２回（１００ｍｇ／ｋｇ／ｄａｙ）で、１０日間連続経
口投与（０．１ｍｇ／１０ｇ体重）した。最終経口投与
の１６時間後、マウスを過剰のエ−テルで致死せしめ、
胃を摘出した。摘出した胃に１％ホルマリン水溶液１ｍ
ｌを注入し、膨張させ、ビ−カ−内の１％ホルマリン水
溶液に約１５〜２０分間浸した。その後、胃大湾部に沿
って切開し、胃粘膜上の潰瘍面積を画像解析処理装置
（Luzex-F:（株）ニコレ製）を用いて測定した。各マウ
スの潰瘍面積から各群の潰瘍面積平均値を算出し、対象
群と比較して、治癒率（％）を求めた。その結果を表３
に示す。
【０１１６】
【表３】 ──────────────────────────────── 試験化合物 動物数 潰瘍面積（mm2 ） 治癒率（％） ──────────────────────────────── 実施例７の化合物 18 1.19±0.26* 42.9*) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 対象群 17 2.09±0.32 ──────────────────────────────── *) ｐ＜0.05。 本試験により、実施例７の化合物は優れた慢性潰瘍治癒
促進作用を示した。
【０１１７】製剤剤１ カプセル剤 実施例７の化合物 ５０．０ ｍｇ 乳糖 １２８．７ トウモロコシデンプン ７０．０ ステアリン酸マグネシウム １．３ ２５０．０ ｍｇ 上記処方の粉末を混合し、６０メッシュのふるいを通し
た後、この粉末を２５０ｍｇの３号ゼラチンカプセルに
入れ、カプセル剤とする。
【０１１８】製剤例２ 錠剤 実施例７の化合物 ５０．０ ｍｇ 乳糖 １２４．０ トウモロコシデンプン ２５．０ ステアリン酸マグネシウム １．０ ２００．０ ｍｇ 上記処方の粉末を混合し、打錠機により打錠して、１錠
２００ｍｇの錠剤とする。この錠剤は、必要に応じて糖
衣を施すことができる。
【０１１９】
【発明の効果】本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、
優れた粘膜防御因子増強作用、抗潰瘍作用及びヘリコバ
クタ− ピロリ（Hericobacte pylori）に対する抗菌活
性を有し、且つ毒性も弱いので、消化性潰瘍、急性又は
慢性胃潰瘍、十二指腸潰瘍、胃炎、逆流性食道炎、胃食
道反射疾患、消化不良、胃散過多症、ゾ−リンガ−・エ
リソン症候群等の潰瘍性疾患の予防剤若しくは治療剤
（好適には、治療剤）、外科手術の際の潰瘍性疾患の予
防剤又はヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacterpylor
i）に対する抗菌剤として極めて有用である。また、化
合物（Ｉ）は、優れた抗潰瘍作用を有する化合物の合成
中間体として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/44 Ａ６１Ｋ 31/44 Ｃ０７Ｄ 209/48 Ｃ０７Ｄ 213/40 213/40 261/06 261/06 261/08 261/08 261/14 261/14 263/30 263/30 263/32 263/32 263/48 263/48 275/02 275/02 277/28 277/28 307/14 307/14 333/20 333/20 209/48 Ｚ (72)発明者 古賀 哲文 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 田端 敬一 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 及びＲ2 は、同一又は異なって、保護され
    ていてもよい水酸基、アミノ基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ
    −Ｘ−Ｒ3 ［式中、Ｒ3 は、Ｃ1 −Ｃ6 アルキル基、Ｃ
    3 −Ｃ10シクロアルキル基、置換されてもよいＣ6 −Ｃ
    10アリ−ル基（該置換基は、Ｃ1-Ｃ 6アルキル；１乃至
    ３個のハロゲンで置換されたＣ1-Ｃ 6アルキル、Ｃ1-Ｃ
    6アルコキシ；１乃至３個のハロゲンで置換されたＣ1
    −Ｃ6 アルコキシ；Ｃ1-Ｃ 6アルキルチオ；ハロゲン；
    アミノ；モノ−Ｃ1 −Ｃ6 アルキルアミノ；ジ−Ｃ1-Ｃ
    6 アルキルアミノ；Ｃ1-Ｃ 6アルキル、Ｃ1-Ｃ 6アルコ
    キシ若しくはハロゲンで置換されてもよいＣ6-Ｃ10アリ
    −ル；又はＣ1 −Ｃ2 アルキレンジオキシ基を示す。）
    又はＣ 1−Ｃ 6アルキル、Ｃ1-Ｃ 6アルコキシ若しくは
    ハロゲンで置換されてもよく、酸素原子、窒素原子及び
    硫黄原子から成るヘテロ原子群から選択される１乃至３
    個のヘテロ原子を含む５乃至６員環状ヘテロアリ−ル基
    を示し、Ｘは、単結合又はＣ1 −Ｃ6 アルキレン基を示
    す。］を有する基又はＣ1-Ｃ 6アルキル、Ｃ1-Ｃ 6アル
    コキシ若しくはハロゲンで置換されてもよいフタルイミ
    ド基を示し、 ｎは、０乃至２の整数を示す。但し、Ｒ1 が、水酸基の
    場合、Ｒ2 は、水酸基以外の基を示し、Ｒ3 が、Ｃ1 −
    Ｃ6 アルキル基の場合、Ｘは、単結合を示す。］を有す
    るプラウノト−ル類のチオウレア誘導体又はその薬理上
    許容される塩。
  2. 【請求項２】Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は異なって、水酸
    基、式−Ｏ−ＳｉＲ4 aＲ4 bＲ4 c（式中、Ｒ4 a及びＲ
    4 bが、同一又は異なって、Ｃ1-Ｃ 2アルキル基であり、
    Ｒ4 cが、Ｃ1-Ｃ 2アルキル基、ｔ−ブチル基又はフェニ
    ル基である。）を有する基、２−テトラヒドロピラニル
    オキシ基、アミノ基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3
    （式中、Ｒ3 が、Ｃ1 −Ｃ4 アルキル基；Ｃ5-Ｃ6 シク
    ロアルキル基；Ｃ1-Ｃ4 アルキル、フルオロＣ1-Ｃ4 ア
    ルキル、クロロＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキ
    シ、フルオロＣ1-Ｃ4 アルコキシ、クロロＣ1-Ｃ2 アル
    キル、Ｃ1-Ｃ4 アルキルチオ、弗素、塩素、臭素、アミ
    ノ、モノ−Ｃ1-Ｃ 2アルキルアミノ、ジ−Ｃ1-Ｃ 2アル
    キルアミノ、フェニル若しくはＣ1-Ｃ 2アルキレンジオ
    キシ基で置換されてもよいフェニル基；又はＣ1-Ｃ4 ア
    ルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコキシ、弗素、塩素若しくは臭素
    で置換されてもよい、フリル基、チエニル基、オキサゾ
    リル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチア
    ゾリル基若しくはピリジル基であり、Ｘが、単結合又は
    Ｃ1-Ｃ 4アルキレン基である。）を有する基又はＣ1-Ｃ
    2アルキル、Ｃ1-Ｃ 2アルコキシ、弗素若しくは塩素で
    置換されてもよいフタルイミド基である請求項１のプラ
    ウノト−ル類のチオウレア誘導体又はその薬理上許容さ
    れる塩。
  3. 【請求項３】Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は異なって、水酸
    基、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキ
    シ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、アミノ基、
    式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、Ｃ1-
    Ｃ 4アルキル基；Ｃ5-Ｃ6 シクロアルキル基；Ｃ1-Ｃ4
    アルキル、フルオロＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ4 アルコ
    キシ、フルオロＣ1-Ｃ2 アルコキシ、Ｃ1-Ｃ2 アルキル
    チオ、弗素、塩素、アミノ、メチルアミノ、ジメチルア
    ミノ若しくはＣ1-Ｃ 2アルキレンジオキシ基で置換され
    てもよいフェニル基；又はＣ1-Ｃ2 アルキル、Ｃ1-Ｃ2
    アルコキシ、弗素若しくは塩素で置換されてもよい、フ
    リル基、チエニル基、オキサゾリル基、チアゾリル基若
    しくはピリジル基であり、Ｘが、単結合又はＣ1-Ｃ4 ア
    ルキレン基である。）を有する基又はフタルイミド基で
    ある請求項１のプラウノト−ル類のチオウレア誘導体又
    はその薬理上許容される塩。
  4. 【請求項４】Ｒ1 及びＲ2 が、同一又は異なって、水酸
    基、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3 が、
    Ｃ1-Ｃ4 アルキル基；Ｃ5-Ｃ6 シクロアルキル基；Ｃ1-
    Ｃ2 アルキル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチ
    ル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、トリフルオロメトキシ、ジフ
    ルオロメトキシ、メチルチオ、弗素、塩素若しくはＣ1-
    Ｃ2 アルキレンジオキシで置換されてもよいフェニル
    基；又はメチル、メトキシ、弗素若しくは塩素で置換さ
    れてもよい、フリル基、チエニル基若しくはピリジル基
    であり、Ｘが、単結合又はＣ1-Ｃ4 アルキレン基であ
    る。）を有する基である請求項１のプラウノト−ル類の
    チオウレア誘導体又はその薬理上許容される塩。
  5. 【請求項５】Ｒ1 が、水酸基であり、 Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3
    が、Ｃ1-Ｃ 4アルキル基、メチル、トリフルオロメチ
    ル、Ｃ1-Ｃ2 アルコキシ、ジフルオロメトキシ、弗素、
    塩素若しくはメチレンジオキシで置換されてもよいフェ
    ニル基、フリル基、チエニル基又はピリジル基であり、
    Ｘが、単結合又はＣ1 −Ｃ3 アルキレン基である。）を
    有する基である請求項１のプラウノト−ル類のチオウレ
    ア誘導体又はその薬理上許容される塩。
  6. 【請求項６】Ｒ1 が、水酸基であり、 Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、Ｒ3
    が、エチル基、イソブチル基又はメチル、メトキシ、弗
    素、塩素若しくはメチレンジオキシで置換されてもよい
    フェニル基であり、Ｘが、単結合又はＣ1 −Ｃ2 アルキ
    レン基である。）を有する基である請求項１のプラウノ
    ト−ル類のチオウレア誘導体又はその薬理上許容される
    塩。
  7. 【請求項７】Ｒ1 が、水酸基であり、 Ｒ2 が、式−ＮＨ−ＣＳ−ＮＨ−Ｘ−Ｒ3 （式中、式−
    Ｘ−Ｒ3 を有する基が、エチル基又はメトキシ、塩素若
    しくはメチレンジオキシで置換されてもよいフェネチル
    基である）を有する基である請求項１のプラウノト−ル
    類のチオウレア誘導体又はその薬理上許容される塩。
  8. 【請求項８】ｎが、１乃至２の整数である請求項１乃至
    ７のプラウノト−ル類のチオウレア誘導体又はその薬理
    上許容される塩。
  9. 【請求項９】ｎが、１である請求項１乃至７のプラウノ
    ト−ル類のチオウレア誘導体又はその薬理上許容される
    塩。
  10. 【請求項１０】プラウノト−ル−１−エチルチオウレ
    ア、 プラウノト−ル−１−プロピルチオウレア、 プラウノト−ル−１−イソプロピルチオウレア、 プラウノト−ル−１−ブチルチオウレア、 プラウノト−ル−１−イソブチルチオウレア、 プラウノト−ル−１−ベンジルチオウレア、 プラウノト−ル−１−（４−メトキシベンジル）チオウ
    レア、 プラウノト−ル−１−（２−フリルメチル）チオウレ
    ア、 プラウノト−ル−１−（２−チエニルメチル）チオウレ
    ア、 プラウノト−ル−１−フェネチルチオウレア、 プラウノト−ル−１−［２−（４−メチルフェニル）エ
    チル］チオウレア、 プラウノト−ル−１−［２−（３−メトキシフェニル）
    エチル］チオウレア、 プラウノト−ル−１−［２−（４−メトキシフェニル）
    エチル］チオウレア、 プラウノト−ル−１−（４−フルオロフェネチル）チオ
    ウレア、 プラウノト−ル−１−（４−クロロフェネチル）チオウ
    レア又は プラウノト−ル−１−（３，４−メチレンジオキシフェ
    ネチル）チオウレア或はそれらの薬理上許容される塩。
  11. 【請求項１１】請求項１乃至１０のプラウノト−ル類の
    チオウレア誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成
    分とする潰瘍性疾患の予防剤又は治療剤。
  12. 【請求項１２】請求項１乃至１０のプラウノト−ル類の
    チオウレア誘導体又はその薬理上許容される塩を有効成
    分とするヘリコバクタ− ピロリ（Hericobacter pylo
    ri）に対する抗菌剤。
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