JPH09165665A - 溶射方法 - Google Patents
溶射方法Info
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- JPH09165665A JPH09165665A JP7323156A JP32315695A JPH09165665A JP H09165665 A JPH09165665 A JP H09165665A JP 7323156 A JP7323156 A JP 7323156A JP 32315695 A JP32315695 A JP 32315695A JP H09165665 A JPH09165665 A JP H09165665A
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- Japan
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- thermal
- thermal spraying
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明方法は、溶射において溶射時間を短縮
して生産性を向上し、かつ溶射材料の歩留りを高め、溶
射膜の密着性をも向上する溶射方法を提供する。 【解決手段】 溶射粉末材料を半溶融化した溶射材料を
被溶射体へ投射して溶射するに際し、溶射ガン先端と被
溶射体間を投射飛行する溶射材料を溶射ガン先端から被
溶射体へ指向噴射するガスにより囲繞しつつ、被溶射体
へ溶射するものである。
して生産性を向上し、かつ溶射材料の歩留りを高め、溶
射膜の密着性をも向上する溶射方法を提供する。 【解決手段】 溶射粉末材料を半溶融化した溶射材料を
被溶射体へ投射して溶射するに際し、溶射ガン先端と被
溶射体間を投射飛行する溶射材料を溶射ガン先端から被
溶射体へ指向噴射するガスにより囲繞しつつ、被溶射体
へ溶射するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明方法は、溶射方法に関
するものである。
するものである。
【０００２】
【従来の技術】サーメット、セラミックス、金属の溶射
粉末材料を半溶融化して溶射材料とし、これを被溶射体
へ投射して溶射することが知られている。また、被溶射
体の溶射部を加熱して溶射し、溶射膜の密着性を向上す
ることが特開平２−２２５６５３号公報に開示されてい
る。更に、予め溶射粉末材料を融点温度に加熱後、溶射
ガンへ供給して溶融化した溶射材料を溶射することによ
り、溶射膜の密着性を高めることが特開平３−６４４４
５号公報に開示されている。
粉末材料を半溶融化して溶射材料とし、これを被溶射体
へ投射して溶射することが知られている。また、被溶射
体の溶射部を加熱して溶射し、溶射膜の密着性を向上す
ることが特開平２−２２５６５３号公報に開示されてい
る。更に、予め溶射粉末材料を融点温度に加熱後、溶射
ガンへ供給して溶融化した溶射材料を溶射することによ
り、溶射膜の密着性を高めることが特開平３−６４４４
５号公報に開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記のごとき溶射にお
いては、溶射材料が被溶射体へ投射するとき飛散して溶
射材料の歩留りを著しく低下させる。特に被溶射体の溶
射部が曲面であると、溶射部に衝突した溶射材料の飛散
が多量になり、一層低歩留りになりコストを大幅に上昇
させることになる等の課題がある。本発明方法は、この
ような課題を有利に解決するためなされたものであり、
投射する溶射材料の歩留りを向上するとともに、投射速
度を加速して溶射時間を短縮して生産性を高め、しかも
溶射膜の密着性をも向上することのできる溶射方法を提
供することを目的とするものである。
いては、溶射材料が被溶射体へ投射するとき飛散して溶
射材料の歩留りを著しく低下させる。特に被溶射体の溶
射部が曲面であると、溶射部に衝突した溶射材料の飛散
が多量になり、一層低歩留りになりコストを大幅に上昇
させることになる等の課題がある。本発明方法は、この
ような課題を有利に解決するためなされたものであり、
投射する溶射材料の歩留りを向上するとともに、投射速
度を加速して溶射時間を短縮して生産性を高め、しかも
溶射膜の密着性をも向上することのできる溶射方法を提
供することを目的とするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明方法の特徴とする
ところは、溶射粉末材料を半溶融化した溶射材料を被溶
射体へ投射して溶射するに際し、溶射ガン先端と被溶射
体間を投射飛行する溶射材料を溶射ガン先端から被溶射
体へ指向噴射するガスにより囲繞しつつ、被溶射体へ溶
射することを特徴とする溶射方法。及び溶射粉末材料を
半溶融化した溶射材料を被溶射体へ投射して溶射するに
際し、溶射ガン先端と被溶射体間を投射飛行する溶射材
料をガイド体で囲繞するとともに、ガイド体内壁に沿っ
て溶射ガン先端から被溶射体へガスを指向噴射しつつ、
被溶射体へ溶射することを特徴とする溶射方法である。
ところは、溶射粉末材料を半溶融化した溶射材料を被溶
射体へ投射して溶射するに際し、溶射ガン先端と被溶射
体間を投射飛行する溶射材料を溶射ガン先端から被溶射
体へ指向噴射するガスにより囲繞しつつ、被溶射体へ溶
射することを特徴とする溶射方法。及び溶射粉末材料を
半溶融化した溶射材料を被溶射体へ投射して溶射するに
際し、溶射ガン先端と被溶射体間を投射飛行する溶射材
料をガイド体で囲繞するとともに、ガイド体内壁に沿っ
て溶射ガン先端から被溶射体へガスを指向噴射しつつ、
被溶射体へ溶射することを特徴とする溶射方法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】上記のごとく、溶射ガン先端から
噴出した溶射材料は、被溶射体間を投射飛行する間に徐
々に拡がり（飛散）、被溶射体へ到達したときに溶射部
以外へ達する飛散と、溶射部へ衝突して跳ね返って飛散
するものがある。このように投射飛行する溶射材料を溶
射ガン先端から被溶射体へ指向噴射するガスにより囲繞
して、溶射材料を囲繞ガスによりガイドしつつ、被溶射
体へ投射するものであり、この囲繞ガスとしては、例え
ば常温の空気または、窒素ガス等の不活性ガスを用いる
ことができる。また、溶射ガン先端から被溶射体へ投射
する溶射材料をガイド体で囲繞し、この囲繞ガイド体内
壁に沿って溶射ガン先端から被溶射体へ上記のごときガ
スを指向噴射することにより、一層正確に溶射材料をガ
イドすることができ、歩留り等を向上させることができ
る。即ち、ガイド体内壁に沿って指向噴射するガスによ
り、溶射材料がガイド体に飛散付着することを防止する
とともに、ガスによる溶射材料の囲繞をより確実にする
ことができる。かくしてガスの噴射により、投射飛行す
る溶射材料が投射方向へ加速するとともに、ガスによる
ガイドによって投射方向への指向性が正確になる。この
ように投射飛行する溶射材料がガスによってガイドさ
れ、しかも加速されることから、溶射材料の溶射ガン先
端と被溶射体間の投射飛行中での拡がりが狭まり、正確
に溶射部へ投射することができ、また、投射速度が初速
より加速されて終速が増速されることから溶射部に食い
込み跳ね返り飛散も減少して、飛躍的に歩留りが向上す
る。更に、投射速度の加速により、所定膜厚の溶射膜を
得る溶射時間が短縮して、生産性を向上することがで
き、かつ投射速度が高速になることから溶射材料の被溶
射体への衝突力が高まり、溶射膜中の気孔発生が減少し
て、溶射膜の密着性を向上することができる。このよう
なことから、被溶射体の溶射部が曲面形状等で溶射範囲
が狭い場合には、極めて有利である。
噴出した溶射材料は、被溶射体間を投射飛行する間に徐
々に拡がり（飛散）、被溶射体へ到達したときに溶射部
以外へ達する飛散と、溶射部へ衝突して跳ね返って飛散
するものがある。このように投射飛行する溶射材料を溶
射ガン先端から被溶射体へ指向噴射するガスにより囲繞
して、溶射材料を囲繞ガスによりガイドしつつ、被溶射
体へ投射するものであり、この囲繞ガスとしては、例え
ば常温の空気または、窒素ガス等の不活性ガスを用いる
ことができる。また、溶射ガン先端から被溶射体へ投射
する溶射材料をガイド体で囲繞し、この囲繞ガイド体内
壁に沿って溶射ガン先端から被溶射体へ上記のごときガ
スを指向噴射することにより、一層正確に溶射材料をガ
イドすることができ、歩留り等を向上させることができ
る。即ち、ガイド体内壁に沿って指向噴射するガスによ
り、溶射材料がガイド体に飛散付着することを防止する
とともに、ガスによる溶射材料の囲繞をより確実にする
ことができる。かくしてガスの噴射により、投射飛行す
る溶射材料が投射方向へ加速するとともに、ガスによる
ガイドによって投射方向への指向性が正確になる。この
ように投射飛行する溶射材料がガスによってガイドさ
れ、しかも加速されることから、溶射材料の溶射ガン先
端と被溶射体間の投射飛行中での拡がりが狭まり、正確
に溶射部へ投射することができ、また、投射速度が初速
より加速されて終速が増速されることから溶射部に食い
込み跳ね返り飛散も減少して、飛躍的に歩留りが向上す
る。更に、投射速度の加速により、所定膜厚の溶射膜を
得る溶射時間が短縮して、生産性を向上することがで
き、かつ投射速度が高速になることから溶射材料の被溶
射体への衝突力が高まり、溶射膜中の気孔発生が減少し
て、溶射膜の密着性を向上することができる。このよう
なことから、被溶射体の溶射部が曲面形状等で溶射範囲
が狭い場合には、極めて有利である。
【０００６】このように被溶射体へ投射する溶射材料を
囲繞するガスの噴射圧力としては、０．３〜２．０ＭＰ
ａで確実に溶射材料の飛散を防止するとともに、投射速
度を加速することができ、０．３ＭＰａ未満であると十
分な効果が得られ難くなり、また２．０ＭＰａ超にしな
くとも確実に溶射材料の飛散を防止することができる。
囲繞するガスの噴射圧力としては、０．３〜２．０ＭＰ
ａで確実に溶射材料の飛散を防止するとともに、投射速
度を加速することができ、０．３ＭＰａ未満であると十
分な効果が得られ難くなり、また２．０ＭＰａ超にしな
くとも確実に溶射材料の飛散を防止することができる。
【０００７】溶射材料（溶射粉末材料）としては、一般
に用いられている例えば、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ系、
Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｃｒ系、Ａｌ等の金属。Ａｌ2 Ｏ
3 系、ＴｉＯ2 系、ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｙ2 Ｏ
3 系、ＳｉＯ2 系等のセラミックス。ＷＣ、Ｃｒ3 Ｃ2
系、ＴｉＣ系、ＺｎＣけい等のサーメットを、一般に行
われているガスフレーム溶射、プラズマ溶射等により、
被溶射体へ溶射するに際し、前記のごとく被溶射体へ投
射する溶射材料をガスによってガイドしつつ、被溶射体
へ溶射するものである。
に用いられている例えば、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ系、
Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｃｒ系、Ａｌ等の金属。Ａｌ2 Ｏ
3 系、ＴｉＯ2 系、ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｙ2 Ｏ
3 系、ＳｉＯ2 系等のセラミックス。ＷＣ、Ｃｒ3 Ｃ2
系、ＴｉＣ系、ＺｎＣけい等のサーメットを、一般に行
われているガスフレーム溶射、プラズマ溶射等により、
被溶射体へ溶射するに際し、前記のごとく被溶射体へ投
射する溶射材料をガスによってガイドしつつ、被溶射体
へ溶射するものである。
【０００８】次に、本発明方法の一例を図面により説明
する。図１及び図２において、溶射ガン１の燃焼室２へ
燃料ガス供給管３及び支燃ガス供給管４から燃料及び支
燃ガスを供給して燃焼せしめ、一方材料供給口５から溶
射粉末材料を供給して加熱し、半溶融化して溶射材料６
とし、これを被溶射体７へ投射して溶射する。しかし
て、溶射ガン１先端と被溶射体７間を投射飛行する溶射
材料６を溶射ガン先端のガス噴射口８から被溶射体７へ
ガス９を指向噴射して溶射材料６を囲繞ガイドしつつ溶
射するものである。
する。図１及び図２において、溶射ガン１の燃焼室２へ
燃料ガス供給管３及び支燃ガス供給管４から燃料及び支
燃ガスを供給して燃焼せしめ、一方材料供給口５から溶
射粉末材料を供給して加熱し、半溶融化して溶射材料６
とし、これを被溶射体７へ投射して溶射する。しかし
て、溶射ガン１先端と被溶射体７間を投射飛行する溶射
材料６を溶射ガン先端のガス噴射口８から被溶射体７へ
ガス９を指向噴射して溶射材料６を囲繞ガイドしつつ溶
射するものである。
【０００９】また、図３に示すごとく、溶射ガン１先端
と被溶射体７間をガイド体１０で、投射する溶射材料６
を囲繞し、溶射ガン１に先端のガス噴射口８からガイド
体１０に沿って被溶射体７へガスを指向噴射し、溶射材
料６を囲繞しつつ、被溶射体７を溶射するものである。
と被溶射体７間をガイド体１０で、投射する溶射材料６
を囲繞し、溶射ガン１に先端のガス噴射口８からガイド
体１０に沿って被溶射体７へガスを指向噴射し、溶射材
料６を囲繞しつつ、被溶射体７を溶射するものである。
【００１０】
【実施例】次に、本発明方法の実施例を比較例とともに
挙げる。
挙げる。
【表１】
【００１１】
【表２】
【００１２】注１：溶射は、ガスフレーム溶射により実
施。 注２：溶射粉末材料（溶射材料）は、Ａ：Ｔｉ、Ｂ：Ｎ
ｉ、Ｃ：Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｄ：Ｎｉ−Ａｌ系、Ｅ：Ｆｅ−
Ｃｒ系、Ｆ：Ａｌ、Ｇ：Ａｌ2 Ｏ3 系、Ｈ：ＴｉＯ
2 系、Ｉ：ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｊ：Ｙ2 Ｏ3 系、
Ｋ：ＳｉＯ2 、Ｌ：ＷＣ系、Ｍ：Ｃｒ3 Ｃ2 系、Ｎ：Ｔ
ｉＣ系、Ｏ：ＺｎＣ系で一般に用いられている材料を使
用した。尚Ａ〜Ｆは金属、Ｇ〜Ｋはセラミックス、Ｌ〜
Ｏはサーメットである。 注３：ガスは、常温でＡ：空気、Ｂ：窒素ガス。 注４：被溶射体は、直径８００mmのロール（一般構造用
鋼）表面に溶射した。
施。 注２：溶射粉末材料（溶射材料）は、Ａ：Ｔｉ、Ｂ：Ｎ
ｉ、Ｃ：Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｄ：Ｎｉ−Ａｌ系、Ｅ：Ｆｅ−
Ｃｒ系、Ｆ：Ａｌ、Ｇ：Ａｌ2 Ｏ3 系、Ｈ：ＴｉＯ
2 系、Ｉ：ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｊ：Ｙ2 Ｏ3 系、
Ｋ：ＳｉＯ2 、Ｌ：ＷＣ系、Ｍ：Ｃｒ3 Ｃ2 系、Ｎ：Ｔ
ｉＣ系、Ｏ：ＺｎＣ系で一般に用いられている材料を使
用した。尚Ａ〜Ｆは金属、Ｇ〜Ｋはセラミックス、Ｌ〜
Ｏはサーメットである。 注３：ガスは、常温でＡ：空気、Ｂ：窒素ガス。 注４：被溶射体は、直径８００mmのロール（一般構造用
鋼）表面に溶射した。
【００１３】
【発明の効果】本発明方法によれば、溶射時間を短縮し
て生産性を向上することができる。また、溶射材料の歩
留りを著しく高め溶射コストを大幅に低下させることが
できる。更に、溶射膜中の気孔率を低下させ溶射膜の密
着性を向上して品質を高めることができる等幾多の優れ
た効果が得られる。
て生産性を向上することができる。また、溶射材料の歩
留りを著しく高め溶射コストを大幅に低下させることが
できる。更に、溶射膜中の気孔率を低下させ溶射膜の密
着性を向上して品質を高めることができる等幾多の優れ
た効果が得られる。
【図１】本発明方法の一例を示す側面図である。
【図２】溶射ガンの先端正面図である。
【図３】本発明方法の他例を示す側面図である。
１ 溶射ガン ２ 燃焼室 ３ 燃料ガス供給管 ４ 支燃ガス供給管 ５ 材料供給口 ６ 溶射材料 ７ 被溶射体 ８ ガス噴射口 ９ ガス体 １０ ガイド体
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成９年１月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】溶射材料（溶射粉末材料）としては、一般
に用いられている例えば、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ系、
Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｃｒ系、Ａｌ等の金属。Ａｌ2 Ｏ
3 系、ＴｉＯ2 系、ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｙ2 Ｏ
3 系、ＳｉＯ2 系等のセラミックス。ＷＣ、Ｃｒ3 Ｃ2
系、ＴｉＣ系、ＺｒＣ系等のサーメットを、一般に行わ
れているガスフレーム溶射、プラズマ溶射等により、被
溶射体へ溶射するに際し、前記のごとく被溶射体へ投射
する溶射材料をガスによってガイドしつつ、被溶射体へ
溶射するものである。
に用いられている例えば、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｒ系、
Ｎｉ−Ａｌ系、Ｆｅ−Ｃｒ系、Ａｌ等の金属。Ａｌ2 Ｏ
3 系、ＴｉＯ2 系、ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｙ2 Ｏ
3 系、ＳｉＯ2 系等のセラミックス。ＷＣ、Ｃｒ3 Ｃ2
系、ＴｉＣ系、ＺｒＣ系等のサーメットを、一般に行わ
れているガスフレーム溶射、プラズマ溶射等により、被
溶射体へ溶射するに際し、前記のごとく被溶射体へ投射
する溶射材料をガスによってガイドしつつ、被溶射体へ
溶射するものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】注１：溶射は、ガスフレーム溶射により実
施。 注２：溶射粉末材料（溶射材料）は、Ａ：Ｔｉ、Ｂ：Ｎ
ｉ、Ｃ：Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｄ：Ｎｉ−Ａｌ系、Ｅ：Ｆｅ−
Ｃｒ系、Ｆ：Ａｌ、Ｇ：Ａｌ2 Ｏ3 系、Ｈ：ＴｉＯ
2 系、Ｉ：ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｊ：Ｙ2 Ｏ3 系、
Ｋ：ＳｉＯ2 、Ｌ：ＷＣ系、Ｍ：Ｃｒ3 Ｃ2 系、Ｎ：Ｔ
ｉＣ系、Ｏ：ＺｒＣ系で一般に用いられている材料を使
用した。尚Ａ〜Ｆは金属、Ｇ〜Ｋはセラミックス、Ｌ〜
Ｏはサーメットである。 注３：ガスは、常温でＡ：空気、Ｂ：窒素ガス。 注４：被溶射体は、直径８００mmのロール（一般構造用
鋼）表面に溶射した。
施。 注２：溶射粉末材料（溶射材料）は、Ａ：Ｔｉ、Ｂ：Ｎ
ｉ、Ｃ：Ｎｉ−Ｃｒ系、Ｄ：Ｎｉ−Ａｌ系、Ｅ：Ｆｅ−
Ｃｒ系、Ｆ：Ａｌ、Ｇ：Ａｌ2 Ｏ3 系、Ｈ：ＴｉＯ
2 系、Ｉ：ＺｒＯ2 −Ｙ2 Ｏ3 系、Ｊ：Ｙ2 Ｏ3 系、
Ｋ：ＳｉＯ2 、Ｌ：ＷＣ系、Ｍ：Ｃｒ3 Ｃ2 系、Ｎ：Ｔ
ｉＣ系、Ｏ：ＺｒＣ系で一般に用いられている材料を使
用した。尚Ａ〜Ｆは金属、Ｇ〜Ｋはセラミックス、Ｌ〜
Ｏはサーメットである。 注３：ガスは、常温でＡ：空気、Ｂ：窒素ガス。 注４：被溶射体は、直径８００mmのロール（一般構造用
鋼）表面に溶射した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 津村 康浩 愛知県東海市東海町５−３ 新日本製鐵株 式会社名古屋製鐵所内
Claims (2)
- 【請求項１】 溶射粉末材料を半溶融化した溶射材料を
被溶射体へ投射して溶射するに際し、溶射ガン先端と被
溶射体間を投射飛行する溶射材料を溶射ガン先端から被
溶射体へ指向噴射するガスにより囲繞しつつ、被溶射体
へ溶射することを特徴とする溶射方法。 - 【請求項２】 溶射粉末材料を半溶融化した溶射材料を
被溶射体へ投射して溶射するに際し、溶射ガン先端と被
溶射体間を投射飛行する溶射材料をガイド体で囲繞する
とともに、ガイド体内壁に沿って溶射ガン先端から被溶
射体へガスを指向噴射しつつ、被溶射体へ溶射すること
を特徴とする溶射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7323156A JPH09165665A (ja) | 1995-12-12 | 1995-12-12 | 溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7323156A JPH09165665A (ja) | 1995-12-12 | 1995-12-12 | 溶射方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09165665A true JPH09165665A (ja) | 1997-06-24 |
Family
ID=18151713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7323156A Pending JPH09165665A (ja) | 1995-12-12 | 1995-12-12 | 溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09165665A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007500791A (ja) * | 2003-07-31 | 2007-01-18 | プラックセアー エス．ティ．テクノロジー、 インコーポレイテッド | 吹き付け装置において流出液をシールドする方法 |
| JP2008069377A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | National Institute For Materials Science | サーメット皮膜形成方法とそれにより得られたサーメット被覆部材 |
| WO2011010400A1 (ja) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | 日鉄ハード株式会社 | 耐溶融金属部材および耐溶融金属部材の製造方法 |
-
1995
- 1995-12-12 JP JP7323156A patent/JPH09165665A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007500791A (ja) * | 2003-07-31 | 2007-01-18 | プラックセアー エス．ティ．テクノロジー、 インコーポレイテッド | 吹き付け装置において流出液をシールドする方法 |
| JP2008069377A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | National Institute For Materials Science | サーメット皮膜形成方法とそれにより得られたサーメット被覆部材 |
| WO2011010400A1 (ja) * | 2009-07-22 | 2011-01-27 | 日鉄ハード株式会社 | 耐溶融金属部材および耐溶融金属部材の製造方法 |
| JP5647608B2 (ja) * | 2009-07-22 | 2015-01-07 | 日鉄住金ハード株式会社 | 耐溶融金属部材および耐溶融金属部材の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010227 |