JPH09167341A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】磁気ディスク表面の水に対する接触角を上げさ
らに、その経時的変化量の少ないものにすることにより
対摺動強度と耐食性の優れた磁気記録媒体とそれを達成
させるための製造方法を提供することにある。 【解決手段】基板上に下地膜と磁性膜と保護膜とその保
護膜をドライエッチング処理により凹凸を形成しその上
に潤滑膜を順次形成する磁気記録媒体にて、その潤滑膜
を形成する方法として保護膜上に潤滑剤を浸漬法又はス
プレー法にて塗布し、ベーキング、洗い流し工程を繰返
し行う。そのことにより、ディスク表面は、水に対する
接触角が高くなりさらに、その変化量が少なくなる。こ
のような面性状をもったディスクは、対摺動強度、耐食
性の優れたものとなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体を用
いた情報記憶再生装置に係り、特にそれに搭載される磁
気記録媒体の表面性状とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体（以下、ディスクと呼ぶ）
の表面は、通常、潤滑膜が形成され、磁気ヘッドによる
ディスクの損傷を防止する目的で広く用いられてきた技
術である。また、このような磁気ヘッドとの損傷を防止
するには、潤滑膜を緻密な膜、すなわち、高被覆率な膜
にしなければならない。高被覆率にするには、潤滑膜を
厚く形成すれば達成できる可能性はあるが、スパッタ円
板は、表面が非常に平滑であるため、厚く形成すると磁
気ヘッドとの吸着が発生し、装置起動時に大きな負荷が
かかり起動しなくなり、記憶装置としての機能を果たせ
なくなる。

【０００３】これらの問題点を解決するために、潤滑剤
を磁気ディスク表面に強く結合させて潤滑膜を薄く形成
させる方法がいくつか提案されている。例えば、特開昭
６２−１１４１２２号においては、潤滑剤として末端基
に官能基を有するものを用いて潤滑膜形成後、加熱する
等により保護膜と結合させ、余分な潤滑剤を洗い流し潤
滑膜を形成する方法が提案されている。しかし、この方
法では、余分な潤滑剤を洗い流すため、潤滑膜として保
護膜に固定されている成分しか残らない。このような膜
の耐摺動強度は、洗い流される成分があるものと比較す
ると弱い欠点がある。それは、固定分のみでは、なんら
かの原因でヘッドとディスクが動作中に接触し、その部
分の潤滑剤がなくなり潤滑性能を失い、強度が弱くなる
ためである。

【０００４】また、高記録密度化するためにはヘッド浮
上量を低くしなければならない。そのため、特開平３−
２５２９２２では、保護膜表面をドライエッチングによ
り凹凸を形成する方法が提案されている。この保護膜表
面に凹凸を形成し潤滑膜を塗布した場合、そのディスク
面が、表面の水に対する接触角が低くしかも、水滴を滴
下してからの接触角の変化量も大きいことが判った。水
に対する接触角が低く、その変化量も大きいことは、潤
滑膜が緻密になってなく、又、保護膜と強固に結合して
いないためと思われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、ディ
スクの保護膜をドライエッチングにより凹凸を設けた面
に潤滑膜を形成した場合の表面状態が水に対してどのよ
うな性質を示すかという点については考慮されておら
ず、耐食性や摺動強度に優れたものとは言い難かった。
これは、ドライエッチングにより、表面の親水性が増加
したためと考えられる。本発明は、ディスク表面状態を
水に対する接触角が高く、しかも、経時的な水に対する
接触角の変化量の少ないものにすることにより、耐食性
や摺動強度に優れた表面となり、信頼性の高い磁気ディ
スクとその製造方法を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するに
は、まず、保護膜上をドライエッチング処理により、凹
凸を設けたディスク面に官能基付潤滑剤を浸漬法、ある
いは、スプレー法等により形成する。その後、ベーキン
グ処理をし、保護膜と結合していない潤滑剤を洗い流
し、再度、潤滑剤を浸漬法等で塗布し、ベーキング処理
をする。これを繰返し行う。それにより保護膜との結合
を強め、さらに、被覆率が上がり水に対する接触角が高
くなる。繰返し処理することにより、潤滑剤の不純物や
低分子成分が除去され潤滑膜の配向性が耐摺動特性と疎
水性に対し良くなるものと考えられる。通常、潤滑剤
は、水との相性が悪いため、疎水性で有るが、保護膜と
強固に結合しない状態でかつ被覆率が低いならば、水に
より潤滑剤が避けられ疎水性を示さなくなる。又、潤滑
膜を厚くすれば疎水性になると考えられるが厚くした場
合も保護膜との結合力が弱ければ疎水性を示さない。ま
たヘッドとの吸着が発生し、磁気記録装置としての役目
を果たさなくなる。上述したように潤滑膜厚をできるだ
け薄く形成し、高被覆率にすることにより、上記目的を
達成できる。

【０００７】上記手段により、潤滑膜中の不純物の潤滑
剤の低分子成分が除去されて、しかも、保護膜と潤滑剤
が強固に結合し、ディスク表面が疎水性となり、しかも
経時的な変化がなく耐摺動性、耐食性に優れた磁気ディ
スクとなる。また、ヘッド停止時にディスク表面とヘッ
ドが吸着し、起動時に動作しなくなることを防止する。
これは、不純物や低分子成分等が装置稼動中に円板表面
とヘッドが何らかの原因により接触してヘッド側に付着
し、装置停止時に疎の付着したものがディスク面とヘッ
ドの隙間に流れ込みヘッドが吸着する。よって、その不
純物や低分子成分が除去されることによりヘッドに付着
せずヘッドがディスク面に吸着しなくなるのである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図１に
より説明する。

【０００９】図１は、磁気ディスクの概略図を示す。基
板１上に順次下地膜２、磁性膜３、保護膜４が形成さ
れ、保護膜４の表面には、ドライエッチング処理により
凹凸が設けられている。さらに、保護膜４の表面上に潤
滑膜５が形成されている。

【００１０】図２は、潤滑剤を浸漬法により塗布、ベー
キング、洗い流しを１処理として繰返し処理したものの
水に対する接触角と水を滴下してからの接触角の経時変
化を調べたものである。この時使用した水は２３℃の純
水を用いた。接触角の経時変化（但し、測定時の水の蒸
発による接触角の変化分は考慮しない）は、純水を滴下
してからの接触角と１分後の接触角の差を求めた。ま
た、ベーキング条件は、７０℃から１２０℃で０．５Ｈ
ｒから２Ｈｒ程度の加熱処理をする。本実施例では８０
℃，１Ｈｒにて行った。洗い流しについては、潤滑剤を
溶解している溶剤に一定時間浸漬させて洗い流した。

【００１１】これらの処理を繰返し行い最終的な潤滑膜
としては、洗い流さないものとする。例えば、２回処理
の場合は、塗布、ベーキング、洗い流し、塗布、ベーキ
ングまでとした。又、塗布とベーキングの間の洗い流し
が無い場合も検討したが潤滑膜の特性、耐摺動性、耐食
性に有意差がみられなかったため、洗い流しがあっても
なくてもどちらでもよい。

【００１２】ここで、潤滑剤は、末端に官能基を持って
いるもので、市販されているパーフロロポリエーテルの
潤滑剤を用いたが、同様に官能基を持っている潤滑剤で
あれば同様な特性を占めすことが今回の実験で判った。

【００１３】図２をみると処理回数を増やすと接触角は
増加していき、水を滴下してから１分後の変化量は下が
っていく傾向である。これは、処理回数を増加すること
により、潤滑膜の被覆率が上がり、しかも、潤滑膜の配
向性が良くなったためである。また、図３に潤滑膜厚及
び固定分の膜厚の推移を示す。これによると、潤滑膜
厚、固定分潤滑膜厚も処理回数とともに増加していき３
回処理くらいで飽和することが判った。処理回数を増加
することにより、潤滑剤中の不純物や低分子成分が除去
され、さらに保護膜と潤滑剤の官能基との結合力が増し
て膜厚が増加したためである。

【００１４】さらに、これらのディスクを耐摺動強度の
ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストップ）と耐食性を
評価したところ図４の結果が得られた。耐食性とは、恒
温恒湿条件（６０℃ ９６Ｈｒ）に放置後の欠陥数の増
減を評価した。これによると、水に対する接触角が約８
０度以上からＣＳＳ強度は３０Ｋ回以上となり強度的に
も問題がないレベルとないことが判った。また、耐食性
については約７５度以上から欠陥数の増加が認められな
いことが判った。また、経時的変化量に対して耐摺動強
度と耐食性について調べたところ、図５の結果が得られ
た。これによると、接触角の経時的変化量が１０度以下
であればＣＳＳ強度は３０Ｋ回以上となり、耐食性も欠
陥数の増加が認められなく、両方共問題の無いレベルと
なることが判った。

【００１５】

【発明の効果】本発明によれば、磁気ディスクの表面に
水に対する接触角が高くしかも、接触角の経時的な変化
の少ないものにすることにより、保護膜と潤滑剤の結合
力が強くなり、さらに、潤滑剤の被覆率が上がり、対摺
動強度と耐食性の優れたものとなる。

【００１６】また、潤滑剤を薄く高被覆率にできるた
め、ヘッドへの潤滑剤付着が発生しないため、磁気ディ
スク装置が停止時にヘッドとディスクが吸着し、起動時
に動作しないという粘着が発生しなくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁気ディスクの断面構造を示す。

【図２】処理回数を増加させた場合の水に対する接触角
とその接触角の変化量の推移を示す。

【図３】処理回数を増加させた場合の潤滑膜厚と保護膜
と結合している固定分膜厚の推移を示す。

【図４】水に対する接触角と対摺動強度（ＣＳＳ強
度）、耐食性の関係を示す。

【図５】水に対する接触角の経時的変化量と対摺動強度
（ＣＳＳ強度）、耐食性の関係を示す。

【符号の説明】

１…基板、２…下地膜、３…磁性膜、４…保護膜、５…
潤滑膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 正博 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に下地膜と磁性膜と保護膜とドライ
   エッチング処理を施すことにより、その保護膜に凹凸を
   形成し、さらに潤滑性薄膜を順次形成してなる磁気記録
   媒体において、当該磁気記録媒体表面の水に対する接触
   角で、水を滴下してからその経時的変化量が１０度以内
   であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】特許請求項第１項の磁気記録媒体におい
   て、当該磁気記録媒体表面の水に対する接触角が、８０
   度以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
3. 【請求項３】特許請求項第１項の磁気記録媒体におい
   て、潤滑性薄膜を形成する方法として潤滑剤塗布、ベー
   キング、洗い流しの工程を繰返し行い、最後は潤滑剤塗
   布又はベーキング処理することを特徴とする磁気ディス
   ク製造方法。
4. 【請求項４】特許請求項第１項の磁気記録媒体におい
   て、潤滑性薄膜を形成する方法として潤滑剤塗布、ベー
   キング工程を繰返し行い、最後は潤滑剤塗布又はベーキ
   ング処理することを特徴とする磁気ディスク製造方法。