JPH09170986A - 異物検査方法および異物検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】検査テーブルの移動範囲をほぼウエハの直径の
２倍程度のエリアに半減させて装置の小型化を図るとと
もに検査効率を向上させることができる異物検査方法と
装置とを提供することにある。 【解決手段】被検査物の副走査方向に所定の走査幅を持
つ異物検出光学系の異物検査領域を被検査物の主走査方
向の移動開始位置における先頭部分に対応させて配置
し、被検査物側を移動させ、主走査方向に往きの主走査
をしこの主走査の終了後に被検査物を１８０°回転させ
て帰り方向に主走査を行い、異物検出光学系を走査幅分
副走査方向に移動させて次の往きの前記主走査と帰りの
主走査とを順行うものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、異物検査方法お
よび異物検査装置に関し、詳しくは、ウエハ異物検査装
置において、検査テーブルの移動範囲を低減して検査テ
ーブルを小型し、かつ、検査効率を向上させることが可
能なウエハ異物検査方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ウエハ異物検査装置には、ウエハの表面
にレーザビームを照射してＸ，Ｙ方向にウエハを走査す
るＸＹ走査方式と、ウエハを回転させてレーザビームを
照射し、スパイラル状にまたは同心円にウエハを走査す
る回転走査方式とがある。前者のＸＹ走査は、例えば、
検査テーブルがＸ方向に移動して主走査をし、レーザビ
ームあるいはさらに検査テーブルがＹ方向に移動するこ
とで副走査を行う。走査速度を向上させるために、その
Ｘ方向の主走査は通常往復走査になる。この方式は、ウ
エハの全面走査に時間がかかる問題があるが、個々の検
出領域が一定していて、比較的小さな異物も正確な位置
で検出できる利点がある。一方、後者の走査は、ウエハ
の外周と中心部とで周速が相違するために、個々の検査
領域について周辺では走査密度が粗くなり、中心部では
走査密度が高くなって検査領域重複する問題がある。し
かし、ウエハ全面に亙っての走査時間が短くて済む利点
がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】最近では、ＩＣの集積
度の向上とともに、ウエハの検査精度の向上が要求され
ている。その関係で、ＸＹ走査方式を採用して異物検査
をする傾向にある。しかし、半導体製造工程の中に投入
されるインラインでの異物検査装置としてＸＹ走査方式
を採用して異物検査を行うと、検査のスループットが低
下する上に、次に説明するように、装置が大型化する欠
点がある。図５は、従来のＸＹ走査方式における異物検
査装置の検査テーブルの移動範囲の説明図である。ウエ
ハ１は、検査テーブルに載置されたウエハであって、こ
こではウエハ１の移動をもって検査テーブルの移動範囲
を説明する。異物検査光学系２が図示する位置に設定さ
れているとすれば、ウエハ１を全面走査するためには、
Ｘ方向においてウエハ１の中心Ｏが軸Ｘ1からＸ2まで移
動するように検査テーブルによりウエハ１を移動させな
ければならない。Ｙ方向にあっては、ウエハ１の中心Ｏ
が軸Ｙ1からＹ2までの距離に相当する分、移動するよう
に検査テーブルによりウエハ１を移動させなければなら
ない。

【０００４】したがって、ウエハ１の直径をＤとする
と、ウエハ１を載置する検査テーブルは、少なくとも縦
２Ｄ，横２Ｄの２Ｄ×２Ｄの範囲を占有しなければ、ウ
エハの移動による全面走査はできない。そのため、異物
検査テーブルの移動機構をどうしても２Ｄ×２Ｄの範囲
よりも大きくする必要がである。これにより検査テーブ
ルを含めて、装置が大型化せざるを得ない。特に、ウエ
ハ１の外径が大きくなると、それだけ装置が大型化する
問題がある。一方、ウエハ側ではなく、異物検査光学系
を移動させてウエハを走査すれば走査系の移動範囲は減
少する。しかし、異物検査光学系自体の高速な移動は、
光学系に多数のレンズが含まれる関係で光学系の位置ず
れや振動が発生し易く、それが正確な異物検出を阻害す
る。また、その大きさや重量の関係からも高速移動は好
ましくない。これとは別に、レーザビームを振らせてウ
エハを走査する方式もあるが、これは、走査光学系が大
きくなり、装置の大型化が避けられない。この発明の目
的は、検査テーブルの移動範囲をほぼウエハの直径の２
倍程度のエリアに半減させて装置の小型化を図るととも
に検査効率を向上させることができる異物検査方法を提
供することにある。この発明の他の目的は、検査テーブ
ルを小型化することにより装置の小型化を図るとともに
検査効率を向上させることができる異物検査装置を提供
することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るための異物検査方法の特徴は、被検査物の副走査方向
に所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検
査領域が前記被検査物を主走査方向に移動させる開始位
置において前記被検査物の先頭部分に対応する前記主走
査方向の位置に配置されるように異物検査光学系を位置
付け、前記被検査物を前記主走査方向に移動させて、前
記被検査物に対して往きの走査をし、この走査の終了後
に前記被検査物を１８０°回転させ、前記被検査物を前
記とは逆方向に移動させて帰りの走査をして前記異物検
査領域において異物を検出するものである。また、この
発明の異物検査装置の特徴は、被検査物の副走査方向に
所定の走査幅をもつ異物検査領域を有し、この異物検査
領域が前記被検査物を主走査方向に移動させる開始位置
において前記被検査物の先頭部分に対応する前記主走査
方向の位置に配置されるように位置付けられた異物検査
光学系と、前記被検査物を載置し、前記被検査物を主走
査方向に往復移動させかつ前記被検査物の実質的な中心
を基準として実質的に１８０゜回転させる移動・回転機
構と、前記移動・回転機構を制御することにより前記被
検査物に対して前記主走査方向に往きの走査をしこの主
走査の終了後に前記被検査物を１８０°回転させて前記
主走査方向に帰りの走査をする制御をする制御装置とを
備えていて、前記往きの走査と前記帰りの走査に応じて
前記異物検査領域において異物を検出するものである。
なお、ここでの異物には、いわゆる表面における欠陥も
含まれるものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】このように、異物検査光学系を被
検査物の主走査方向の移動開始位置における被検査物の
先頭部分に対応する主走査方向の位置に配置し、被検査
物側を移動させて、Ｘ方向あるいはＹ方向のみの主走査
を行い、往きの主走査が終了した時点で被検査物をその
中心を基準として１８０°回転させてから帰りの主走査
に入る。例えば、ウエハをその中心を基準に１８０°回
転させて帰りの走査に入る。これにより、帰りの走査の
開始点は、往きの主走査の終了位置からウエハの中心点
Ｏに関して点対称の位置になり、往きとは異なる走査領
域になる。この場合の１８０°の回転は、ウエハがほぼ
円形であることから主走査方向に直交する副走査方向に
おいてその回転前後におけるウエハ占有範囲のはみ出
し、あるいはウエハ占有エリアの増加はない。なお、被
検査物がウエハでなくても、例えば、ＬＣＤ基板のよう
な長方形状のものでも、その中心で回転させることによ
り副走査方向での回転前後における占有エリアは、実質
的な増加がなく、副走査方向の一辺の長さの範囲で済
む。したがって、副走査方向での走査範囲は、実質的に
この一辺を端から端まで走査する場合の半分で済む。な
お、長方形の場合には、回転するときの最大径は、対角
線に対応することになるので、長方形の長い側辺を副走
査方向に対応させれば回転による占有面積の増加が少な
くて済む。

【０００７】ウエハを載置する場合の検査テーブルの移
動としては、主走査方向にウエハの直径Ｄの２倍の距
離、すなわち２Ｄ分であり、副走査方向での移動の必要
はない。また、検査テーブルの占有エリアも主走査方向
に２Ｄ分であり、副走査方向の占有エリアは実質的に直
径Ｄになり、しかも、このときの副走査方向の走査量
は、実質的にＤ／２になる。したがって、占有エリアの
実質的な増加はない。また、異物検査光学系（その異物
検査領域）が被検査物における主走査方向において被検
査物の移動の開始位置の先頭部分に対応する主走査方向
の位置に配置されているので、主走査において異物検査
光学系が前記ウエハ占有範囲を越えるような増加、ある
いは異物検査光学系が前記ウエハ占有範囲からみ出しす
ようなことも生じない。この発明では、前記したよう
に、実質的に副走査方向の走査のために行う移動量が半
減するので、全面走査におけるスループットが向上す
る。その上、ここでは、主走査の１ラインの幅を副走査
方向に大きく採っているので、トータルの走査回数が低
減する。その結果、被検査物、例えば、ウエハを全面走
査する時間が短縮され、かつ、ウエハ検査における検査
効率が向上する。また、検査テーブルの移動範囲として
これが占有エリアが減少し、特に、ウエハ異物検査にお
いては、従来の大きさの半分程度で済む。

【０００８】ところで、次に説明する実施例では、異物
検査光学系がＣＣＤセンサを有する検査光学系であっ
て、主走査方向がＹ方向になっている。実施例では、検
査テーブルの主要部分がＹテーブルとして実現され、こ
のＹ方向のウエハの移動開始位置におけるウエハの先頭
部分に対応するように異物検査光学系の異物検査領域が
が配置されている。なお、ウエハは円形になっているの
で、異物検査領域は、Ｘ方向において所定の距離離れて
配置されることになり、ウエハの外形から外れて外側に
なる。その結果、異物検査領域は、前記の先頭部分に一
致してはいない。また、往きの主走査が終了した時点で
１８０°ウエハを回転させるのは、Ｙテーブル上に配置
されたＺθテーブルにより行われる。そして、これらテ
ーブルの移動と回転の制御は、実施例では、マイクロプ
ロセッサ（ＭＰＵ）がウエハ走査プログラムを実行する
ことによりテーブル駆動回路を介して行う。

【０００９】

【実施例】図１は、この発明の異物検査装置の一実施例
の検出光学系を中心とする構成図であり、図２は、その
走査の処理のフローチャート、図３がその走査順序の説
明図、そして、図４は、検出光学系を３個並列に設けた
場合の他の実施例の走査の説明図である。図１に示す、
１０は、異物検査装置であって、異物検査光学系１１と
その下側に配置された検査テーブル１２、データ処理・
制御装置１３、テーブル駆動回路１４、Ａ／Ｄ変換回路
（Ａ／Ｄ）１７、Ｘ移動機構１８、制御回路１９、そし
てインタフェース２０とからなり、検査テーブル１２に
はウエハ１が載置されている。また、制御回路１９は、
インタフェース２０を介してデータ処理・制御装置１３
からの信号に応じてＸ移動機構１８やＣＣＤ制御・信号
読出回路１５５に対して駆動のための各種制御信号を発
生する。

【００１０】異物検査光学系１１は、その内部を図示す
るように、検出光学系１５と投光学系１６とからなり、
投光光学系１６が副走査方向に所定の幅を持つ、ウエハ
１上の検査領域３（異物検出領域）にレーザビームを照
射する。そして、その上方散乱光を検査テーブル１２の
鉛直方向で上部に設けられた検出光学系１５で受光して
検出する。異物検査光学系１１は、Ｘ方向移動機構１８
に固定されていて、Ｘ方向にシフトする。なお、検査領
域３のＸ方向の長さが主走査方向の１ラインの幅になっ
ている。したがって、副走査方向（Ｘ方向）の移動ピッ
チはこの幅に対応している。投光学系１６は、半導体レ
ーザ光源１６１と、集光レンズ系１６２，１６３，１６
４、そして反射ミラー１６５とからなり、レーザビーム
を検査領域３に対応する長円形の形に集束させてほぼウ
エハ１からみた仰角が３０°でウエハ１の検査領域３に
照射する。

【００１１】検出光学系１５は、ウエハ１の検査領域３
に対峙する対物レンズ１５１とその後ろに配置された空
間フィルタ１５２、その後方に配置された集光レンズ系
１５３、集光レンズ系１５３により結像された検査領域
３の映像全体を受けるＣＣＤセンサ１５４、そしてＣＣ
Ｄセンサ１５４からの検出信号を読み出す、ＣＣＤ制御
・信号読出回路１５５とからなる。ＣＣＤ制御・信号読
出回路１５５は、データ処理・制御装置１３からインタ
フェース２０，制御回路１９を介して制御され、受光強
度に応じて検出された検出信号をシリアルに読出してこ
れをＡ／Ｄ１７送出し、これによりデジタル値に変換し
てインタフェース２０を介してデータ処理・制御装置１
３に検出信号（デジタル値）として送出する。

【００１２】ここで、検出光学系１５は、主走査方向
（Ｙ方向）において、ウエハ１の移動開始位置における
先頭部分に対応するＹ方向の位置に検査領域３が対応す
るように配置されている。なお、検査領域３は、ウエハ
１が円形であり、検査領域３の一部がウエハ１の外形か
ら外れるので、これを図示して説明する都合上、図では
Ｘ方向において少し内側に入ったところで、かつ、先頭
位置より少し内側に入ったところに検査領域３を描いて
いる。データ処理・制御装置１３は、通常、ＭＰＵ１３
１とメモリ１３２等により構成され、前記のＡ／Ｄ１７
からの信号をインタフェース２０，バス１３３を介して
受けてメモり１３２に記憶する。そして、メモリ１３２
には、異物検出プログラム１３４，ウエハ走査プログラ
ム１３５，焦点合わせプログラム１３６等をはじめとし
て各種のプログラムが格納されている。テーブル駆動回
路１４は、ＭＰＵ１３１によるウエハ走査プログラム１
３５の実行に応じて、検査テーブル１２をＹ方向に往復
移動させる駆動回路である。さらに、Ｙ方向にウエハ１
の直径Ｄ＋α分（αは、走査余裕分）の移動が終了した
時点で、Ｚθテーブル１４２を１８０°回転させて、Ｙ
方向に直径Ｄ＋α分の帰りの移動をさせる駆動を行う。
すなわち、これは、Ｙ方向の往復走査と回転とを行うた
めの駆動回路である。

【００１３】検査テーブル１２は、Ｙテーブル１２１と
Ｚθテーブル１２２と、このＺθテーブル１２２に設け
られた中心位置決め機構１２３とからなる。中心位置決
め機構１２３は、ウエハ１の周囲外側に円形に配置され
た複数のローラ１２４，１２４，…からなる絞り機構で
ある。いわゆるシャッタの絞りと同様にローラ１２４，
１２４，…が外側から内側に連動して回動することで、
検査テーブル１２の中心にこれに載置されたウエハ１の
中心を位置決めする。Ｙテーブル１２１は、ベース板１
２５と、これに設けられたレール１２６，１２６上をＹ
方向にスライドするテーブル１２７とから構成されてい
る。Ｚθテーブル１２２は、テーブル１２７に載置され
たテーブルであって、そのＺ方向の移動は、内部に設け
られテーブル１２７上に固定された昇降機構に行われ
る。この昇降機構は、主として焦点合わせのためにウエ
ハ１を上下方向に移動させて、ウエハの上下方向の位置
設定を行うためのものである。

【００１４】図２は、ウエハ走査プログラム１３５によ
る走査のフローチャートであって、Ｙテーブルを駆動し
てＹ方向の往きの走査を開始し（ステップ１０１）、Ｙ
方向のウエハ１の直径Ｄ＋α分の走査終了か否かの判定
を行い（ステップ１０２）、終了していないときには、
ＮＯとなり、ＹテーブルをＹ方向へさらに移動し（ステ
ップ１０３）、再びステップ１０２の前記の判定を行
う。この循環ループにおいて、Ｙ方向の往きの１主走査
が終了したときには、ＹＥＳとなって、Ｚθテーブルを
１８０°回転させ（ステップ１０４）、Ｙテーブルを先
とは逆方向に駆動してＹ方向の帰り走査を開始し（ステ
ップ１０５）、Ｙ方向のウエハ１の直径Ｄ＋α分の走査
終了か否かの判定を行い（ステップ１０６）、終了して
いないときには、ＮＯとなり、ＹテーブルをＹ方向へさ
らに移動し（ステップ１０７）、再びステップ１０６の
前記の判定を行う。この循環ループにおいて、Ｙ方向の
帰りの１走査が終了したときには、ステップ１０６の判
定でＹＥＳとなって、ＭＰＵ１３１が副走査の終了か否
かの判定を異物検査光学系１１が位置決めされたＸ方向
の位置により行う（ステップ１０８）。

【００１５】ここで、副走査方向の移動が終了していな
いときには、検査領域３に対応する副走査分だけＸ移動
機構１８をウエハ１の内側に向かって移動させる駆動を
して異物検査光学系１１を副走査方向に１ピッチ分（実
質的に検査領域３の幅に対応する分）移動させる（ステ
ップ１０９）。そして、Ｚθテーブルを１８０°反転回
転させて元に戻し（ステップ１１０）、スステップ１０
１へと帰り、前記の処理を開始し、これを副走査が終了
するまで繰り返し実行する。なお、ステップ１０８の判
定で副走査側の走査が終了しているときには、この処理
が終了する。副走査側の走査の終了は、ウエハ１の内側
に移動してウエハの中心を通る中心線を含む領域の走査
が往きあるいは帰りの走査で行われ、これが終了するこ
とによりウエハ１の全面走査が完了するとき、Ｘ方向に
おけるその位置に異物検査光学系１１が位置付けられた
ことをもって行う。ところで、前記のステップ１１０の
Ｚθテーブルの１８０°の回転は、往きと帰りの主走査
においてステップ１０４における回転方向と同じにする
ことができる。また、この往きと帰りの各主走査の間、
ＭＰＵ１３１は、異物検出プログラム１３４を実行して
Ａ／Ｄ１７から受けた検出信号（デジタル値）に基づい
てＣＣＤセンサ１５４の受光位置（受光画素の位置）と
の関係において検査領域３のどの位置に異物があるの
か、あるいは検査領域３には異物がないのかの判定を行
い、異物検出をする。なお、この場合のＣＣＤセンサ１
５４としては、例えば、副走査方向に５，０００画素程
度の１ラインセンサを使用するとよい。

【００１６】図３は、前記の処理における往きと帰りの
走査の順序を数字，，，…，で示すものである。
（ａ）は、最初の往きの走査状態を、（ｂ）は最初の帰
りの走査状態を、そして（ｃ）は、その次の往きの走査
を示すものであって、（ｃ）に示すように、結果として
のウエハ１の走査領域は、，，の順序となる。な
お、（ａ）〜（ｃ）において示す矢印は、それぞれの主
走査終了後における１８０゜のウエハ回転方向である。
したがって、この例では、最初の主走査が終了した時点
で反時計方向に１８０゜回転させ、その帰りの主走査が
終了した時点で時計方向に１８０゜回転させて元に戻
す。１８０゜の回転は往き，帰りの各主走査ごとに正
転，反転の繰り返しになる。この例では、テーブルの移
動方向が往復の主走査であるが、往きと帰りとの間でテ
ーブルが交互に１８０°正転、反転回転する。しかし、
往きと帰りとの間でテーブルが同じ回転方向に１８０°
回転するものでもよい。いずれにおいても、ウエハ１に
対する走査の方向は、往きの走査も帰りの走査も同じ方
向になる。図中、点線で示す矢印は、すでに済んだ走査
についての走査方向を示している。図４は、異物検査光
学系１１を副走査方向に複数個配列して副走査方向（Ｘ
方向）の異物検査光学系１１の移動をなくした実施例で
ある。

【００１７】この場合の副走査幅は、実質的にウエハ１
の直径Ｄを均等に２Ｎ分割（この例ではＮ＝３で６分
割）した幅に対応している。異物検出光学系１１が２Ｎ
分割された幅（走査幅）おきにＮ（＝３）個配置されて
いる。なお、ここでの副走査幅は実質的に検査領域の長
さに対応している。ここでの３個の異物検出光学系は、
異物検出光学系１１ａ，１１ｂ，１１ｃであって、それ
ぞれが図１の異物検出光学系１１に対応している。した
がって、図（ａ）に示すように、Ｙ方向の主走査が完了
した時点で矢印で示す方向（反時計方向）に１８０°回
転させて、図（ｂ）に示すように、帰りの主走査をする
だけで、ウエハ１の全体の走査は完了する。なお、この
実施例では、異物検出光学系が１１ａ，１１ｂ，１１ｃ
からのそれぞれの検出信号は、それぞれに対応して設け
られた３個のＡ／Ｄ（Ａ／Ｄ１７に対応して３個のＡ／
Ｄ，図示せず）によりデジタル置に変換されてインタフ
ェース２０を介してパラレルにデータ処理・制御装置１
３に入力される。

【００１８】ところで、この実施例の走査幅は、実質的
に前記ウエハの直径を均等に２Ｎ分割した幅に対応して
いるが、最初の走査と次の走査あるいは最後の走査幅
は、必ずしも、走査領域がウエハの外形に一致していな
くてもよい。そこで、実質的に２Ｎ分割する前記の距離
は、ウエハの直径Ｄよりも大きくてよい。その距離は、
最大でウエハの直径＋１走査幅までである。したがっ
て、ウエハの直径Ｄからこの直径Ｄより走査幅分大きな
範囲内の距離を均等に２Ｎ分割することができる。ま
た、実施例では、副走査方向の移動の後に１８０゜ウエ
ハを回転させているが、これは、同時に行われても、前
記の実施例とは逆の順序で行われていもよい。以上、実
施例では、ウエハを中心に説明しているが、この発明
は、ウエハのような円形の形状のものでなくても適用可
能である。

【００１９】

【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明にあって
は、異物検出光学系の異物検査領域を被検査物の相対的
な主走査方向の移動の先頭部分に対応させて配置し、被
検査物側を移動させて、Ｘ方向あるいはＹ方向のみの主
走査を行い、往きの主走査が終了した時点で被検査物を
１８０°回転させて帰りの走査をする。これにより、帰
りの走査点については、往きの主走査の終了位置から被
検査物の中心点Ｏに関して点対称となる位置からの主走
査になる。この回転により主走査方向に直交する副走査
方向でのはみ出し、あるいはエリアの拡大はない。しか
も、副走査方向の走査のために行う移動量が実質的に半
減する。その結果、検査テーブルの移動範囲の占有エリ
アが減少し、例えば、ウエハでは従来の大きさの半分程
度で済む。また、実質的に副走査方向の走査のために行
う移動量が半減するので、全面走査におけるスループッ
トが向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、この発明の異物検査装置の一実施例の
検出光学系を中心とする構成図である。

【図２】図２は、その走査処理のフローチャートであ
る。

【図３】図３は、その走査の仕方の説明図であって、
（ａ）は、往きの走査の説明図、（ｂ）は、帰りの走査
の説明図、（ｃ）は、さらにその次の走査の順序の説明
図である。

【図４】図４は、検出光学系を３個並列に設けた場合の
他の実施例の走査の仕方の説明図であって、（ａ）は往
きの走査の説明図、（ｂ）は帰りの走査の説明図であ
る。

【図５】図５は、従来のＸＹ走査方式の異物検査装置の
検査テーブル移動範囲の説明図である。

【符号の説明】

１…ウエハ、２，１１…異物検査光学系、３…検査領
域、１０…異物検査装置、１２…検査テーブル、１３…
データ処理・制御装置、１４…テーブル駆動回路、１５
…検出光学系、１６…投光学系、１７…Ａ／Ｄ変換回路
（Ａ／Ｄ）、１８…Ｘ方向移動機構、１３１…ＭＰＵ、
１３２…メモリ、１３３…バス、１３４…異物検出プロ
グラム、１３５…ウエハ走査プログラム、１３６…焦点
合わせプログラム、１５１…対物レンズ、１５２…空間
フィルタ、１５３…集光レンズ系、１５４…ＣＣＤセン
サ、１５５…ＣＣＤ制御・信号読出回路、１６１…半導
体レーザ光源、１６２，１６３…集光レンズ系、１６４
…反射ミラー。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被検査物の副走査方向に所定の走査幅をも
   つ異物検査領域を有し、この異物検査領域が前記被検査
   物を主走査方向に移動させる開始位置において前記被検
   査物の先頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置
   されるように異物検査光学系を位置付け、前記被検査物
   を前記主走査方向に移動させて、前記被検査物に対して
   往きの走査をして前記異物検査領域において異物を検出
   し、この走査の終了後に前記被検査物を１８０°回転さ
   せ、前記被検査物を前記とは逆方向に移動させて帰りの
   走査をして前記異物検査領域において異物を検出する異
   物検査方法。
2. 【請求項２】前記被検査物はウエハであり、前記帰りの
   走査が終了した後に前記異物検査光学系を実質的に前記
   走査幅分、副走査方向に移動させかつ前記被検査物を１
   ８０°回転させて次の前記往きの走査とを行うものであ
   って、前記往きの走査と前記帰りの走査とが複数回行わ
   れ、これらの各走査の終了ごとに前記ウエハを１８０゜
   回転させる請求項１記載の異物検査方法。
3. 【請求項３】前記被検査物はウエハであり、前記走査幅
   は、前記ウエハの直径からこの直径より前記走査幅分大
   きな範囲内の距離を均等に２Ｎ分割（ただしＮは２以上
   の整数）した幅に相当するものであり、前記複数の異物
   検査光学系はＮ個設けられ、これらが前記走査幅おきに
   配置される請求項１記載の異物検査方法。
4. 【請求項４】被検査物を二次元で走査をして異物を検出
   する異物検査装置において、 前記被検査物の副走査方向に所定の走査幅をもつ異物検
   査領域を有し、この異物検査領域が前記被検査物を主走
   査方向に移動させる開始位置において前記被検査物の先
   頭部分に対応する前記主走査方向の位置に配置されるよ
   うに位置付けられた異物検査光学系と、 前記被検査物を載置し、前記被検査物を主走査方向に往
   復移動させかつ前記被検査物の実質的な中心を基準とし
   て実質的に１８０゜回転させる移動・回転機構と、 前記移動・回転機構を制御することにより前記被検査物
   に対して前記主走査方向に往きの走査をしこの走査の終
   了後に前記被検査物を１８０°回転させて前記主走査方
   向に帰りの走査をする制御をする制御装置とを備え、前
   記往きの走査と前記帰りの走査に応じて前記異物検査領
   域において異物を検出する異物検査装置。
5. 【請求項５】前記被検査物はウエハであり、さらに、前
   記副走査方向に実質的に前記走査幅分移動させる副走査
   移動機構を有し、前記移動・回転機構は、前記１８０゜
   の回転に加えてさらに１８０゜回転するものであり、前
   記制御装置は、前記帰りの走査が終了した後に前記副走
   査移動機構を制御して前記異物検査光学系を実質的に前
   記走査幅分、副走査方向に移動させ、かつ、前記被検査
   物を１８０°回転させる制御をし、かつ、前記往きの走
   査と前記帰りの走査とが複数回行われ、これらの各走査
   の終了ごとに前記ウエハを１８０゜回転させる制御をす
   る請求項４記載の異物検査装置。
6. 【請求項６】前記被検査物はウエハであり、前記走査幅
   は、前記ウエハの直径からこの直径より前記走査幅分大
   きな範囲内の距離を均等に２Ｎ分割（ただしＮは２以上
   の整数）した幅に相当するものであり、前記複数の異物
   検査光学系はＮ個設けられ、これらが前記走査幅おきに
   配置されている請求項５記載の異物検査装置。