JPH09172214A - 矩形放出ガスレーザ - Google Patents
矩形放出ガスレーザInfo
- Publication number
- JPH09172214A JPH09172214A JP8353432A JP35343296A JPH09172214A JP H09172214 A JPH09172214 A JP H09172214A JP 8353432 A JP8353432 A JP 8353432A JP 35343296 A JP35343296 A JP 35343296A JP H09172214 A JPH09172214 A JP H09172214A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- laser
- excitation
- electrode
- dimension
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 38
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 185
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 60
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 6
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 claims description 4
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 59
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 abstract description 59
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 21
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract description 7
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 631
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 78
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 57
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 50
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 35
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 35
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 27
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 10
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 9
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 5
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 3
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000001687 destabilization Effects 0.000 description 2
- 230000000368 destabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- 206010001497 Agitation Diseases 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 101710162453 Replication factor A Proteins 0.000 description 1
- 102100035729 Replication protein A 70 kDa DNA-binding subunit Human genes 0.000 description 1
- 208000036366 Sensation of pressure Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002860 competitive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000000254 damaging effect Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000002847 impedance measurement Methods 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000035899 viability Effects 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/0315—Waveguide lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08081—Unstable resonators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】矩形放出を有する斬新で改良型の横方向RF励
起ガスレ−ザ、特には電極が空洞内光照射を誘導するよ
うに機能しない矩形放出ガスレ−ザを提供する。 【解決手段】横RFポンピング・ガス・レ−ザは全ての
平面図でおおむね長方形の形状である大面積放電を有す
る。断面では、放電の幾何形状は長い寸法と短い寸法と
を有し、長い寸法はRF電力が供給される電極間の寸法
で、短い寸法は、レ−ザ光の誘導に適し、セラミック製
側壁で規定される寸法である。
起ガスレ−ザ、特には電極が空洞内光照射を誘導するよ
うに機能しない矩形放出ガスレ−ザを提供する。 【解決手段】横RFポンピング・ガス・レ−ザは全ての
平面図でおおむね長方形の形状である大面積放電を有す
る。断面では、放電の幾何形状は長い寸法と短い寸法と
を有し、長い寸法はRF電力が供給される電極間の寸法
で、短い寸法は、レ−ザ光の誘導に適し、セラミック製
側壁で規定される寸法である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コヒーレント光の
生成、特に横方向に励起したガスレーザの体積効率の増
加に関する。さらに詳しく述べると、本発明は、長方形
放出を有する、斬新で改良型の横方向RF励起ガスレー
ザ、特に電極が空洞内光照射を誘導するよう機能しない
デバイスに関する。したがって、本発明の一般的な目的
は、このような特性の斬新で改良型の方法および装置を
提供することである。
生成、特に横方向に励起したガスレーザの体積効率の増
加に関する。さらに詳しく述べると、本発明は、長方形
放出を有する、斬新で改良型の横方向RF励起ガスレー
ザ、特に電極が空洞内光照射を誘導するよう機能しない
デバイスに関する。したがって、本発明の一般的な目的
は、このような特性の斬新で改良型の方法および装置を
提供することである。
【0002】
【従来の技術】本発明は、密封CO2レーザへの応用に
特に適しているが、それに用途を限定されるものではな
い。密封CO2レーザは、軽量および重量双方の材料が
処理される医学および産業用途に、幅広い用途を有す
る。これらの多用な使用領域で長年、一般的に所望され
てきたのは、レーザ出力のワット当たりの費用を削減し
ながら、同時にワット当たりのサイズを小さくすること
である。コンパクトさ、妥当な製造費、および比較的高
い放出効率を達成したいというこのような一般的希望に
より、CO2 レーザ技術が発展した。このようにCO2
レーザは、放出がガラス管内発生するようにした低圧直
流励起デバイスから、より高圧の横RF励起導波管また
は非導波管デバイスへと発展した。横RF励起デバイス
における最も最近の革新は、「スラブ」レーザ、つまり
間隔が狭い1対の電極間で1つの寸法が規定された光学
導波管から成る放出空洞を有するデバイスである。
特に適しているが、それに用途を限定されるものではな
い。密封CO2レーザは、軽量および重量双方の材料が
処理される医学および産業用途に、幅広い用途を有す
る。これらの多用な使用領域で長年、一般的に所望され
てきたのは、レーザ出力のワット当たりの費用を削減し
ながら、同時にワット当たりのサイズを小さくすること
である。コンパクトさ、妥当な製造費、および比較的高
い放出効率を達成したいというこのような一般的希望に
より、CO2 レーザ技術が発展した。このようにCO2
レーザは、放出がガラス管内発生するようにした低圧直
流励起デバイスから、より高圧の横RF励起導波管また
は非導波管デバイスへと発展した。横RF励起デバイス
における最も最近の革新は、「スラブ」レーザ、つまり
間隔が狭い1対の電極間で1つの寸法が規定された光学
導波管から成る放出空洞を有するデバイスである。
【0003】ガラス管内の縦方向直流励起を利用するC
O2 レーザは、費用効果が高いが、経済的に光を折り返
すことができず、したがってこのようなデバイスは、製
造費を低くしながらコンパクトであるという所望の目的
を達成することができない。したがって、横RF励起デ
バイスは、光を容易に折り曲げて、コンパクトなパッケ
ージで益々高い出力を得られるので、RFをポンピング
したデバイスは、多くの商業的用途のために基本的にガ
ラス管デバイスを交換する。開発された横RF励起レー
ザのうち、スラブ構成の放電を特徴とする このような
デバイスは、2枚ミラーの光共振器を使用して高出力を
達成し、したがって折り曲げた光の共振器を必要とする
従来の横RF励起デバイスより利点がある。この利点
は、一部は、バキューム内/空洞内の光ステーションを
削除し、その結果、大幅に費用削減した結果である。し
たがって、「スラブ」放電するデバイスは、以前に考案
された従来の横RFポンピング・レーザを、論理的に置
換するものである。
O2 レーザは、費用効果が高いが、経済的に光を折り返
すことができず、したがってこのようなデバイスは、製
造費を低くしながらコンパクトであるという所望の目的
を達成することができない。したがって、横RF励起デ
バイスは、光を容易に折り曲げて、コンパクトなパッケ
ージで益々高い出力を得られるので、RFをポンピング
したデバイスは、多くの商業的用途のために基本的にガ
ラス管デバイスを交換する。開発された横RF励起レー
ザのうち、スラブ構成の放電を特徴とする このような
デバイスは、2枚ミラーの光共振器を使用して高出力を
達成し、したがって折り曲げた光の共振器を必要とする
従来の横RF励起デバイスより利点がある。この利点
は、一部は、バキューム内/空洞内の光ステーションを
削除し、その結果、大幅に費用削減した結果である。し
たがって、「スラブ」放電するデバイスは、以前に考案
された従来の横RFポンピング・レーザを、論理的に置
換するものである。
【0004】先行技術の直流ガラス管レーザ技術を簡潔
に説明するために、強制排気した名目直径4ないし10
mmのガラス・プラズマ管に沿ってその中間に、高圧電
極を配置した。電気的に接地した、あるいはほぼ接地し
た電極は、通常は管のいずれかの端部に配置されてい
た。管は、CO2−N2−Heレーザ混合気で充填し、励
起電圧を印加すると、プラズマ中にCO2 利得媒質が生
成された。レーザ作用は、1対の相互に位置合わせした
鏡をプラズマ放電管の対向する端部に配置することによ
って達成した。このようなデバイスでは、励起が、1対
の相互に位置合わせした鏡間に規定された光共振器の軸
に沿っていたので、このようなデバイスでは、励起は縦
方向と呼ばれた、他の要因を等しくすると、このような
CO2 レーザ・デバイスの出力は、放電の長さの関数で
ある。つまり、高いレーザ出力と長い長さとは同義語で
ある。上述したように、ガラス管は光の「折り曲げ」が
非常に悪いので、さらに長いガラス管を作成するという
代償を払わなければ「高い」光出力を達成できず、した
がって、このようなデバイスの使用には、その長さが不
都合であった。
に説明するために、強制排気した名目直径4ないし10
mmのガラス・プラズマ管に沿ってその中間に、高圧電
極を配置した。電気的に接地した、あるいはほぼ接地し
た電極は、通常は管のいずれかの端部に配置されてい
た。管は、CO2−N2−Heレーザ混合気で充填し、励
起電圧を印加すると、プラズマ中にCO2 利得媒質が生
成された。レーザ作用は、1対の相互に位置合わせした
鏡をプラズマ放電管の対向する端部に配置することによ
って達成した。このようなデバイスでは、励起が、1対
の相互に位置合わせした鏡間に規定された光共振器の軸
に沿っていたので、このようなデバイスでは、励起は縦
方向と呼ばれた、他の要因を等しくすると、このような
CO2 レーザ・デバイスの出力は、放電の長さの関数で
ある。つまり、高いレーザ出力と長い長さとは同義語で
ある。上述したように、ガラス管は光の「折り曲げ」が
非常に悪いので、さらに長いガラス管を作成するという
代償を払わなければ「高い」光出力を達成できず、した
がって、このようなデバイスの使用には、その長さが不
都合であった。
【0005】横RF励起、つまり1対の狭い間隔の延長
電極間に配置された、通常は正方形の光導波管断面放電
領域の励起が、米国特許第4,169,251 号で示されてい
る。この特許で描かれているタイプのレーザでは、励起
は光共振器の縦軸に対して横方向である。横RF励起
は、比較的コンパクトな密封デバイスからの放電長さ1
単位ごとに、高いレーザ出力を生成した。また、放電チ
ャンバの小さい横方向の寸法に気体放電を確立するのに
必要なRF電圧が比較的小さいために、このようなレー
ザの真空エンベロープは、金属で製造することができ
る。真空の完全さおよびデバイスの軽量に関連した理由
から、このようなレーザの真空エンベロープは、通常は
アルミニウム製である。したがって、このような横RF
励起レーザは、縦直流励起ガラス管レーザと比較する
と、機械的および熱的に頑丈である。
電極間に配置された、通常は正方形の光導波管断面放電
領域の励起が、米国特許第4,169,251 号で示されてい
る。この特許で描かれているタイプのレーザでは、励起
は光共振器の縦軸に対して横方向である。横RF励起
は、比較的コンパクトな密封デバイスからの放電長さ1
単位ごとに、高いレーザ出力を生成した。また、放電チ
ャンバの小さい横方向の寸法に気体放電を確立するのに
必要なRF電圧が比較的小さいために、このようなレー
ザの真空エンベロープは、金属で製造することができ
る。真空の完全さおよびデバイスの軽量に関連した理由
から、このようなレーザの真空エンベロープは、通常は
アルミニウム製である。したがって、このような横RF
励起レーザは、縦直流励起ガラス管レーザと比較する
と、機械的および熱的に頑丈である。
【0006】特許第4,363,126 号を参照すると、1対の
延長金属電極が1対のセラミック製スペーサによって分
離される横励起RFレーザが描かれている。電極とスペ
ーサとを真空エンベロープ内に配置し、これにCO2−
N2−Heの適切な混合気を充して、「上部」電極にR
F源を接続すると、「上部」電極と対向の接地電極との
間に、光共振器の軸に対して横方向の放電を生成するこ
とができる。特許第4,363,126 のデバイスを使用する場
合、気体放電領域が1ないし3mm2 の範囲であるな
ら、最高レーザ出力のRFポンプ周波数は300ないし
700NHzにならねばならず、これより小さい放電寸
法は、150ないし300MHzの励起の使用に都合が
良い。
延長金属電極が1対のセラミック製スペーサによって分
離される横励起RFレーザが描かれている。電極とスペ
ーサとを真空エンベロープ内に配置し、これにCO2−
N2−Heの適切な混合気を充して、「上部」電極にR
F源を接続すると、「上部」電極と対向の接地電極との
間に、光共振器の軸に対して横方向の放電を生成するこ
とができる。特許第4,363,126 のデバイスを使用する場
合、気体放電領域が1ないし3mm2 の範囲であるな
ら、最高レーザ出力のRFポンプ周波数は300ないし
700NHzにならねばならず、これより小さい放電寸
法は、150ないし300MHzの励起の使用に都合が
良い。
【0007】CO2 レーザ光の場合、断面積が1ないし
3mmの範囲の円形または正方形の放電は、中空の光導
波管を形成し、したがってこのようなデバイスの光共振
器は、光導波管の理論に従って機能する。比較的大きい
放電寸法、つまり4ないし10mm範囲の放電寸法も、
横RF励起できるが、横の放電寸法が増加するにつれ、
cw励起で放電の安定性を維持するために、放電圧を低
下させなければならない。このような比較的大きい横放
電寸法の場合は、光共振器のフレネル数に応じて、自由
空間が安定または非安定になるよう光共振器を選択して
もよい。横寸法が比較的大きいRF励起CO2 レーザの
一つの利点は、比較的低い周波数、特に40.68、2
7.12または13.56MHzという国際的に認めら
れたIAM(産業、科学または医学)周波数のいずれか
一つと一致する周波数のRF源で、効率的な放電励起が
得られることである。これらの周波数は、合法的な通信
にとって有害な干渉を引き起こす装置からの偶発的なR
Fのリークの可能性を低下させるよう、調波関連する。
したがって、これらのレーザ・デバイスは、低レベルの
偶発的照射がないばかりでなく、低周波数RF源は製造
費が低いために、費用的にも利点がある。
3mmの範囲の円形または正方形の放電は、中空の光導
波管を形成し、したがってこのようなデバイスの光共振
器は、光導波管の理論に従って機能する。比較的大きい
放電寸法、つまり4ないし10mm範囲の放電寸法も、
横RF励起できるが、横の放電寸法が増加するにつれ、
cw励起で放電の安定性を維持するために、放電圧を低
下させなければならない。このような比較的大きい横放
電寸法の場合は、光共振器のフレネル数に応じて、自由
空間が安定または非安定になるよう光共振器を選択して
もよい。横寸法が比較的大きいRF励起CO2 レーザの
一つの利点は、比較的低い周波数、特に40.68、2
7.12または13.56MHzという国際的に認めら
れたIAM(産業、科学または医学)周波数のいずれか
一つと一致する周波数のRF源で、効率的な放電励起が
得られることである。これらの周波数は、合法的な通信
にとって有害な干渉を引き起こす装置からの偶発的なR
Fのリークの可能性を低下させるよう、調波関連する。
したがって、これらのレーザ・デバイスは、低レベルの
偶発的照射がないばかりでなく、低周波数RF源は製造
費が低いために、費用的にも利点がある。
【0008】特許第4,169,251 号によって例証された先
行技術を参照すると、RF発生源と気体放電との間のイ
ンピーダンスの整合は、放電構造の長さ、したがって放
電構造の容量を増大させるにつれ、困難になる。この問
題は、特許第4,363,126 号によって教示された分路イン
ダクタで放電構造のキャパシタンスを共振させることに
よって、克服することができる。調整したRF回路を使
用することにより、放電構造の容量が基本的に不適切と
なり、小型で短いRFポンピングCO2 レーザの出力電
力を増大させることができた。
行技術を参照すると、RF発生源と気体放電との間のイ
ンピーダンスの整合は、放電構造の長さ、したがって放
電構造の容量を増大させるにつれ、困難になる。この問
題は、特許第4,363,126 号によって教示された分路イン
ダクタで放電構造のキャパシタンスを共振させることに
よって、克服することができる。調整したRF回路を使
用することにより、放電構造の容量が基本的に不適切と
なり、小型で短いRFポンピングCO2 レーザの出力電
力を増大させることができた。
【0009】レーザの利得長を増大させることによっ
て、取得可能な出力電力を増大させようとすると、RF
定在波の効果によって、放電構造に沿って縦方向に電圧
が変動するという問題に陥った。非接地電極の長さに沿
ったこの縦方向の電圧変動は、セラミック製スペーサの
高い比誘電率とRF励起源の高い周波数とが結合した効
果によるものである。縦方向の電圧変動という問題の解
決策は、特許第4,443,877 号で見られるように、放電構
造に沿って幾つかの分路インダクタを配置することであ
る。この「分散共振」の概念によって、金属ボディのC
O2 レーザから取得可能な出力電力を極めて増大させる
ことができ、したがって非常にコンパクトでエネルギー
量が大きいが、高価なCO2 レーザ・パッケージとな
る。分散共振の概念を具体化するこのようなコンパクト
なレーザの一例を、特許第4,787,090号で見ることがで
きる。
て、取得可能な出力電力を増大させようとすると、RF
定在波の効果によって、放電構造に沿って縦方向に電圧
が変動するという問題に陥った。非接地電極の長さに沿
ったこの縦方向の電圧変動は、セラミック製スペーサの
高い比誘電率とRF励起源の高い周波数とが結合した効
果によるものである。縦方向の電圧変動という問題の解
決策は、特許第4,443,877 号で見られるように、放電構
造に沿って幾つかの分路インダクタを配置することであ
る。この「分散共振」の概念によって、金属ボディのC
O2 レーザから取得可能な出力電力を極めて増大させる
ことができ、したがって非常にコンパクトでエネルギー
量が大きいが、高価なCO2 レーザ・パッケージとな
る。分散共振の概念を具体化するこのようなコンパクト
なレーザの一例を、特許第4,787,090号で見ることがで
きる。
【0010】上記で簡単に述べたように、1対の露出し
た拡張電極間に横RF放電を生成するためには、平行な
共振回路および分散した平行な共振回路を使用する以外
に、単一の複合RF回路を使用して、放電インピーダン
スを電源インピーダンスに変換することもできる。後者
の技術は、特許第4,751,717 号で開示されている。単一
の複合インピーダンス整合回路でRFレーザに電圧を加
えることは、変換器によって生成された電界を、回路損
失が最小限になるよう制限するという利点を有し、全体
的なレーザのサイズも小さくすることができる。特許第
4,751,717 号の技術は、マイクロ波領域までのRF源
を、励起のために体系的に使用することもできる。マイ
クロ波周波数が、電子レンジで一般に使用する周波数に
なるよう選択すると、電子レンジの共振器マグネトロン
によって電圧印加した金属ボディのCO2 レーザを組み
合わせて、非常に費用効率の高いレーザ・デバイスを生
成することができる。というのは、増幅器を使用する高
周波RF源は通常は極めて費用がかかるが、このような
電子レンジのマグネトロン発振器は、費用がかからない
よう大量生産できる比較的単純な単一の電子管だからで
ある。特許第4,751,717 号は、さらに、横励起RFレー
ザの対向する電極間の放電領域を、高度に非対称にでき
ることを教示する。つまり、この特許は、異なる水平お
よび垂直フレネル数を有して、自由空間導波管の光共振
器と、自由空間の非安定光共振器と、導波管の非安定光
共振器とのあらゆる組合せにまたがるレーザ放電構造に
ついて述べる。
た拡張電極間に横RF放電を生成するためには、平行な
共振回路および分散した平行な共振回路を使用する以外
に、単一の複合RF回路を使用して、放電インピーダン
スを電源インピーダンスに変換することもできる。後者
の技術は、特許第4,751,717 号で開示されている。単一
の複合インピーダンス整合回路でRFレーザに電圧を加
えることは、変換器によって生成された電界を、回路損
失が最小限になるよう制限するという利点を有し、全体
的なレーザのサイズも小さくすることができる。特許第
4,751,717 号の技術は、マイクロ波領域までのRF源
を、励起のために体系的に使用することもできる。マイ
クロ波周波数が、電子レンジで一般に使用する周波数に
なるよう選択すると、電子レンジの共振器マグネトロン
によって電圧印加した金属ボディのCO2 レーザを組み
合わせて、非常に費用効率の高いレーザ・デバイスを生
成することができる。というのは、増幅器を使用する高
周波RF源は通常は極めて費用がかかるが、このような
電子レンジのマグネトロン発振器は、費用がかからない
よう大量生産できる比較的単純な単一の電子管だからで
ある。特許第4,751,717 号は、さらに、横励起RFレー
ザの対向する電極間の放電領域を、高度に非対称にでき
ることを教示する。つまり、この特許は、異なる水平お
よび垂直フレネル数を有して、自由空間導波管の光共振
器と、自由空間の非安定光共振器と、導波管の非安定光
共振器とのあらゆる組合せにまたがるレーザ放電構造に
ついて述べる。
【0011】最大出力電力が1キロワットのレベルの、
コンパクトな密封CO2 レーザは、間隔の狭い1対の大
面積水冷電極間に制限されたCO2 レーザ放電、つまり
上述した「スラブ」放電に、横RF励起を適用すること
によって達成された。いわゆる「スラブ」レーザの例
は、特許第4,719,639 号、第4,939,738 号および第5,12
3,038 号に見られる。「スラブ」CO2 放電デバイスで
は、長さLおよび幅Wを有する大面積金属電極は、一般
に1ないし3mmしかない距離Dだけ間隔があき、した
がって横方向の断面W×DがW≫Dになる放電を生成す
る。あらゆるスラブ放電デバイスの横RF放電電界は、
短い方向Dにあり、Wに対して直角である。電極間の間
隔が狭く、さらに電極の面積が大きいため、レーザ媒質
から冷却電極への効率的な熱伝導が促進され、その結
果、レーザ出力電力が、同じ断面積D×Wを有する対照
的なアパーチャの場合よりはるかに大きい。それと同時
に、電極間の狭い間隔は、寸法Dの空洞内モード光導波
管の役割も果たす。たとえば、上記で参照した特許の好
ましい実施例では、スラブ放電領域のフレネル数は、以
下で定義するように、ND =0.4(’639)、0.
088(’738)および0.144(’028)であ
る。
コンパクトな密封CO2 レーザは、間隔の狭い1対の大
面積水冷電極間に制限されたCO2 レーザ放電、つまり
上述した「スラブ」放電に、横RF励起を適用すること
によって達成された。いわゆる「スラブ」レーザの例
は、特許第4,719,639 号、第4,939,738 号および第5,12
3,038 号に見られる。「スラブ」CO2 放電デバイスで
は、長さLおよび幅Wを有する大面積金属電極は、一般
に1ないし3mmしかない距離Dだけ間隔があき、した
がって横方向の断面W×DがW≫Dになる放電を生成す
る。あらゆるスラブ放電デバイスの横RF放電電界は、
短い方向Dにあり、Wに対して直角である。電極間の間
隔が狭く、さらに電極の面積が大きいため、レーザ媒質
から冷却電極への効率的な熱伝導が促進され、その結
果、レーザ出力電力が、同じ断面積D×Wを有する対照
的なアパーチャの場合よりはるかに大きい。それと同時
に、電極間の狭い間隔は、寸法Dの空洞内モード光導波
管の役割も果たす。たとえば、上記で参照した特許の好
ましい実施例では、スラブ放電領域のフレネル数は、以
下で定義するように、ND =0.4(’639)、0.
088(’738)および0.144(’028)であ
る。
【0012】実際の使用時には、大面積レーザ放電の形
状は、同心円状シリンダ間に生成された管状の放電領域
か、1対の高度に研磨され平坦な金属質電極間に生成さ
れた平面状放電領域であった。R.J. Morely その他が論
文「Enhancement of coherent laser radar performanc
e by predetection (早期検出によるコヒーレント・レ
ーザ・レーダ・パフォーマンスの向上) 」(Appl Opt.,
Vol.33, No.18, pp.3951-63, 1994 年6月20日)およ
びD.R.HallおよびH.J. Bakerが論文「Area scaling boo
tsts CO2-laser performance( エリア・スケーリングが
CO2 レーザのパフォーマンスを向上させる) 」(Laser
Focus World, pp.77-80, 1989年10月) が検討した結
果から分かるように、管状のCO2 レーザ形状と、平面
・平面の形状との間として、平面・平面の形状が、最も
成功したことが実証された。
状は、同心円状シリンダ間に生成された管状の放電領域
か、1対の高度に研磨され平坦な金属質電極間に生成さ
れた平面状放電領域であった。R.J. Morely その他が論
文「Enhancement of coherent laser radar performanc
e by predetection (早期検出によるコヒーレント・レ
ーザ・レーダ・パフォーマンスの向上) 」(Appl Opt.,
Vol.33, No.18, pp.3951-63, 1994 年6月20日)およ
びD.R.HallおよびH.J. Bakerが論文「Area scaling boo
tsts CO2-laser performance( エリア・スケーリングが
CO2 レーザのパフォーマンスを向上させる) 」(Laser
Focus World, pp.77-80, 1989年10月) が検討した結
果から分かるように、管状のCO2 レーザ形状と、平面
・平面の形状との間として、平面・平面の形状が、最も
成功したことが実証された。
【0013】このようなレーザのスラブ・レーザのW≫
D、フレネル数ND およびNW は、極めて異なるので、
異なるタイプの共振器モードの往復空洞損失も、同様に
極めて異なる。結局、これらの損失は、いずれのタイプ
の空洞モードがレーザ共振の閾値を上回る可能性を有す
るか決定する根拠となる。波長λの光が伝搬するWまた
はDの直線アパーチャ寸法を有する長さLの空洞または
領域のフレネル数について、標準の定義を使用すると、
フレネル数NW およびND はそれぞれ、W2 /4L
(λ)およびD2 /4L(λ)と定義することができ、
W≫Dなので、NW≫ND となる。
D、フレネル数ND およびNW は、極めて異なるので、
異なるタイプの共振器モードの往復空洞損失も、同様に
極めて異なる。結局、これらの損失は、いずれのタイプ
の空洞モードがレーザ共振の閾値を上回る可能性を有す
るか決定する根拠となる。波長λの光が伝搬するWまた
はDの直線アパーチャ寸法を有する長さLの空洞または
領域のフレネル数について、標準の定義を使用すると、
フレネル数NW およびND はそれぞれ、W2 /4L
(λ)およびD2 /4L(λ)と定義することができ、
W≫Dなので、NW≫ND となる。
【0014】1未満のフレネル数ND で動作するスラブ
CO2 レーザの場合、「Handbook of Molecular Lasers
( 分子レーザのハンドブック) 」(P.K. Cheo, Editor,
Section 302, pp.169, Copyright Marcel Dekker Inc.,
1987)で検討しているように、有意の導波管が生じ得
る。ND <1の非安定共振器モードまたは安定な自由空
間ガウス・モードの往復空洞損失は、一般に導波管モー
ドの往復空洞損失よりはるかに大きいが、低いg値の安
定な空洞の場合は、常にそうとは限らない。したがっ
て、導波管モードとは、利得競争効果の結果、共振のた
めに均質に広がったCO2 レーザ媒質が選択されるモー
ドである。
CO2 レーザの場合、「Handbook of Molecular Lasers
( 分子レーザのハンドブック) 」(P.K. Cheo, Editor,
Section 302, pp.169, Copyright Marcel Dekker Inc.,
1987)で検討しているように、有意の導波管が生じ得
る。ND <1の非安定共振器モードまたは安定な自由空
間ガウス・モードの往復空洞損失は、一般に導波管モー
ドの往復空洞損失よりはるかに大きいが、低いg値の安
定な空洞の場合は、常にそうとは限らない。したがっ
て、導波管モードとは、利得競争効果の結果、共振のた
めに均質に広がったCO2 レーザ媒質が選択されるモー
ドである。
【0015】スラブ・レーザの比較的大きい横放電寸法
Wでは、フレネル数NW が1より多少大きくなるか、は
るかに大きい範囲になる。NW がほぼ1のオーダー、つ
まり1ないし4の範囲の場合は、非安定共振器タイプ・
モードは、一般に、安定した自由空間ガウス・モードよ
り往復空洞の回折損失がさらに大きくなり、したがって
一般に、ガウス・タイプのモードが、モードの選択およ
び利得競争のプロセスで生き残る。A.E. Siegmanが論文
「Stabilizing output with unstable resonators(不安
定共振器を使用した出力の安定化) 」(Laser Focus, p
p.42-47, 1971年5月) で検討したように、NW が1よ
りはるかに大きい場合は、非安定共振器モードも、安定
した自由空間ガウス・タイプ・モードも、かなり低い、
または中位の往復空洞損失を有し、空洞の鏡の曲率およ
び空洞の長さに応じて、いずれのモード・タイプも、共
振の閾値を上回るようにすることができる。
Wでは、フレネル数NW が1より多少大きくなるか、は
るかに大きい範囲になる。NW がほぼ1のオーダー、つ
まり1ないし4の範囲の場合は、非安定共振器タイプ・
モードは、一般に、安定した自由空間ガウス・モードよ
り往復空洞の回折損失がさらに大きくなり、したがって
一般に、ガウス・タイプのモードが、モードの選択およ
び利得競争のプロセスで生き残る。A.E. Siegmanが論文
「Stabilizing output with unstable resonators(不安
定共振器を使用した出力の安定化) 」(Laser Focus, p
p.42-47, 1971年5月) で検討したように、NW が1よ
りはるかに大きい場合は、非安定共振器モードも、安定
した自由空間ガウス・タイプ・モードも、かなり低い、
または中位の往復空洞損失を有し、空洞の鏡の曲率およ
び空洞の長さに応じて、いずれのモード・タイプも、共
振の閾値を上回るようにすることができる。
【0016】残念ながら、フレネル数が約1よりはるか
に大きい場合は、安定した自由空間ガウス共振器の低い
方のオーダーと高い方のオーダーとの横モード間の往復
空洞損失は、比較的小さく、数パーセント以下の範囲で
ある。その結果、往復利得が1よりはるかに大きいレー
ザは、共振閾値をはるかに上回り、より大きいオーダー
の幾つかのモードのうちいずれか1つは共振することが
でき、時には異なるCO2 遷移で同時に共振することが
できる。このタイプの多ライン、多重モード出力は、小
さいスポットに焦点を絞ることができず、したがって特
定のタイプの切削およびドリル掘削用途には、使用が制
限される。
に大きい場合は、安定した自由空間ガウス共振器の低い
方のオーダーと高い方のオーダーとの横モード間の往復
空洞損失は、比較的小さく、数パーセント以下の範囲で
ある。その結果、往復利得が1よりはるかに大きいレー
ザは、共振閾値をはるかに上回り、より大きいオーダー
の幾つかのモードのうちいずれか1つは共振することが
でき、時には異なるCO2 遷移で同時に共振することが
できる。このタイプの多ライン、多重モード出力は、小
さいスポットに焦点を絞ることができず、したがって特
定のタイプの切削およびドリル掘削用途には、使用が制
限される。
【0017】高いフレネル数の非安定共振器の魅力は、
より高いオーダーのモードが往復回折損失に有意の差を
有し、したがって、このようなレーザの出力を、横方向
単一モードで共振するようにできることである。非安定
共振器の最低損失モードは、必ずしも最低オーダーのモ
ードとは限らないが、これは安定な共振器のモードなの
で、利得媒質自体が空間的に高度に不均質でない場合
は、非安定共振器からの出力が、アパーチャで比較的単
相になり得る。したがって、非安定共振器からの出力
は、小さいスポットに焦点を絞るには非常に適し、した
がって様々な材料処理またはレーダの用途に有用であ
る。
より高いオーダーのモードが往復回折損失に有意の差を
有し、したがって、このようなレーザの出力を、横方向
単一モードで共振するようにできることである。非安定
共振器の最低損失モードは、必ずしも最低オーダーのモ
ードとは限らないが、これは安定な共振器のモードなの
で、利得媒質自体が空間的に高度に不均質でない場合
は、非安定共振器からの出力が、アパーチャで比較的単
相になり得る。したがって、非安定共振器からの出力
は、小さいスポットに焦点を絞るには非常に適し、した
がって様々な材料処理またはレーダの用途に有用であ
る。
【0018】通常、非安定共振器からの出力は、共振器
の外縁での回折による空洞から結合した回折であるが、
米国特許第3,969,685 号が述べたように、中心に配置さ
れた穴からの部分的な透過と回折の結合も、可能な出力
結合の方式である。
の外縁での回折による空洞から結合した回折であるが、
米国特許第3,969,685 号が述べたように、中心に配置さ
れた穴からの部分的な透過と回折の結合も、可能な出力
結合の方式である。
【0019】上記で参照した特許で描かれたタイプの
「スラブ」レーザから取得可能な出力電力は、電極間の
距離、つまり導波管の間隔が増加するにつれ、劇的に低
下することが分かっている。したがって、C.J. Shackle
ton その他が「Lateral and Transverse Mode Properti
es of CO2 Slab Waveguide Lasers(CO2 スラブ導波管
の縦および横モード特性) 」(Opt. Comm. 89 (1992), p
p.423-428)のテキストで報告したように、125MHz
周波数のRF励起源を使用すると、長さ39cmで幅
1.8cmの水冷放電領域を有する高さ1mmの導波管
を使用して、効率11%で210ワットの出力が達成さ
れた。しかし、電極の間隔が3mmの範囲になると、出
力電力は、1ないし1.5mmの導波管寸法と比較し
て、2分の1に減少した。これは一般に、1/Dの電力
スケーリングと呼ばれる。
「スラブ」レーザから取得可能な出力電力は、電極間の
距離、つまり導波管の間隔が増加するにつれ、劇的に低
下することが分かっている。したがって、C.J. Shackle
ton その他が「Lateral and Transverse Mode Properti
es of CO2 Slab Waveguide Lasers(CO2 スラブ導波管
の縦および横モード特性) 」(Opt. Comm. 89 (1992), p
p.423-428)のテキストで報告したように、125MHz
周波数のRF励起源を使用すると、長さ39cmで幅
1.8cmの水冷放電領域を有する高さ1mmの導波管
を使用して、効率11%で210ワットの出力が達成さ
れた。しかし、電極の間隔が3mmの範囲になると、出
力電力は、1ないし1.5mmの導波管寸法と比較し
て、2分の1に減少した。これは一般に、1/Dの電力
スケーリングと呼ばれる。
【0020】要するに、当業者は、スラブ・レーザが電
極の幅よりはるかに小さい電極間隔を有するという前提
を受け入れている。この非常に小さい電極間隔は、放電
の不安定性を回避する場合、および高い放電効率で高レ
ーザ力を取り出すべき場合は、非常に高い放電励起周波
数を使用することになる。
極の幅よりはるかに小さい電極間隔を有するという前提
を受け入れている。この非常に小さい電極間隔は、放電
の不安定性を回避する場合、および高い放電効率で高レ
ーザ力を取り出すべき場合は、非常に高い放電励起周波
数を使用することになる。
【0021】スラブ・レーザに高周波数励起を使用する
ことは、P.P. Vitruk その他が「Similarity and Scali
ng in Diffusion-Cooled RF-Excited Carbon Dioxide L
asers(拡散冷却RF励起炭酸ガス・レーザの相似性およ
びスケーリング) 」(IEEE JQE, Vol.30, No.7, 1994 年
7月,pp.1623-34)で報告したような1組の相似点とスケ
ーリングの関係で形式化されている。この論文で検討し
ているように、最適な励起のためには、電極間隔D(m
m)と励起周波数f(MHz)との積が、fD=288
mm−MHz程度であるとよい。それと同時に、最適な
ポンピングのためには、放電圧力p(Torr)と電極
間隔D(mm)との積が、pD=133Torr−mm
であるとよい。したがって、このような相似点の関係
は、p、fおよびdが結合している、つまり最適なポン
ピングのために、低周波数励起には、低い放電圧力を使
用する必要がある。言い換えると、p、Dおよびfは、
放電ポンピングのプロセスに甚だしい損害を与えずに分
離することはできない。
ことは、P.P. Vitruk その他が「Similarity and Scali
ng in Diffusion-Cooled RF-Excited Carbon Dioxide L
asers(拡散冷却RF励起炭酸ガス・レーザの相似性およ
びスケーリング) 」(IEEE JQE, Vol.30, No.7, 1994 年
7月,pp.1623-34)で報告したような1組の相似点とスケ
ーリングの関係で形式化されている。この論文で検討し
ているように、最適な励起のためには、電極間隔D(m
m)と励起周波数f(MHz)との積が、fD=288
mm−MHz程度であるとよい。それと同時に、最適な
ポンピングのためには、放電圧力p(Torr)と電極
間隔D(mm)との積が、pD=133Torr−mm
であるとよい。したがって、このような相似点の関係
は、p、fおよびdが結合している、つまり最適なポン
ピングのために、低周波数励起には、低い放電圧力を使
用する必要がある。言い換えると、p、Dおよびfは、
放電ポンピングのプロセスに甚だしい損害を与えずに分
離することはできない。
【0022】この認められた操作上の制約は、D. Hall
およびC. Hill が「RF-Discharge-Excited CO2 Lasers
(RF放電で励起したCo2レーザ) 」(Handbook of Mol
ecular Lasers, P.K. Cheo, Editor, copyright 1987 b
y Marcell Dekker, Inc., pp.165-258) で検討したよう
に、間隔が狭い電極を有する正方形または丸いRFポン
ピング導波管CO2 レーザの当業者には、周知である。
電極の表面上、またはそのすぐ近傍で常に形成されるプ
ラズマ・シースは、固定した電極間隔の励起周波数が増
加するにつれて収縮するので、高周波数励起が必要であ
る。横「RF」励起CO2 レーザ、特に25ないし24
50MHzの励起周波数を使用した数平方ミリメートル
ないし10mm2 の名目上対称形の放電断面を有する場
合の操作上の制約は、P. Chenauskyその他が論文「Radi
o-frequency and Microwave Excitation of CO2 Lasers
( CO2 レーザのラジオ波およびマイクロ波励起) 」(T
uKKy, CLEOS 1980, San Diego, CA)の要約で検討したよ
うに、早くから認識されていた。一定の電極間隔で、比
較的低い周波数放電励起を試みると、シース領域は、電
極間の間隔の有意の部分になるまで成長する。次に、励
起の周波数が下がるにつれ、電極の近傍に形成されるプ
ラズマ・シースが必然的に、RF電界の方向で放電「長
さ」の比較的大きい部分になる。これが起きると、放電
圧力および混合比と電子透過時間と電極間隔との組合せ
の影響により、高放電入力の蓄積が防止される一方、安
定したαタイプのRF放電が維持される。
およびC. Hill が「RF-Discharge-Excited CO2 Lasers
(RF放電で励起したCo2レーザ) 」(Handbook of Mol
ecular Lasers, P.K. Cheo, Editor, copyright 1987 b
y Marcell Dekker, Inc., pp.165-258) で検討したよう
に、間隔が狭い電極を有する正方形または丸いRFポン
ピング導波管CO2 レーザの当業者には、周知である。
電極の表面上、またはそのすぐ近傍で常に形成されるプ
ラズマ・シースは、固定した電極間隔の励起周波数が増
加するにつれて収縮するので、高周波数励起が必要であ
る。横「RF」励起CO2 レーザ、特に25ないし24
50MHzの励起周波数を使用した数平方ミリメートル
ないし10mm2 の名目上対称形の放電断面を有する場
合の操作上の制約は、P. Chenauskyその他が論文「Radi
o-frequency and Microwave Excitation of CO2 Lasers
( CO2 レーザのラジオ波およびマイクロ波励起) 」(T
uKKy, CLEOS 1980, San Diego, CA)の要約で検討したよ
うに、早くから認識されていた。一定の電極間隔で、比
較的低い周波数放電励起を試みると、シース領域は、電
極間の間隔の有意の部分になるまで成長する。次に、励
起の周波数が下がるにつれ、電極の近傍に形成されるプ
ラズマ・シースが必然的に、RF電界の方向で放電「長
さ」の比較的大きい部分になる。これが起きると、放電
圧力および混合比と電子透過時間と電極間隔との組合せ
の影響により、高放電入力の蓄積が防止される一方、安
定したαタイプのRF放電が維持される。
【0023】技術が徐々に進化するにつれ、より高周波
数の励起が有利であることが判明した。したがって、周
波数が、ごく初期の低いフレネル数の導波管CO2 レー
ザにおける21MHzから徐々に増加し、パワーも増大
した。それと同時に、放電チャンバ、空洞のフレネル数
およびミラー曲率は、ほぼ例外なく、導波管レーザを開
発するようにした。たとえば、J. Lachambreその他は、
その論文「A transversely rf-excited CO2 waveguide
laser(横RF励起CO2 導波管レーザ) 」(Appl Phys L
ett, 32(10), 1978 年5月15日, pp.652-653) で、流
れるCO2 利得媒質の(2mm)2 、長さ15cmの部
分に、21MHzのRF源で通電した。出力を最大にす
るための、彼らのレーザ空洞および励起パラメータは、
pD=200T−mm、fD=42mm−MHz、およ
びND =0.58であった。同様に、Gabai 、Hertzbeg
およびYatsivは、4.5mm間隔で配置した1対の幅
2.5cm、長さ73cmの電極間のスラブ領域を30
MHzで励起し、「弱く光る中心部分しか、効率的に励
起されない」と報告した。電極の間隔が減少すると、そ
の幅は急速に減少する。Gabai その他が使用した空洞お
よび励起のパラメータは、pD=270T−mm、fD
=135mm−MHz、NW =19.1およびND =
0.62であった。したがって、より高いRF周波数を
有る導波管構造での励起を指向する「傾向」は、198
0年よりかなり前に始まり、その過程で、横RF励起導
波管レーザが定例となるか、高周波数励起と同義語とな
った。実際、上記で参照したVitrukその他の研究から分
かるように、さらに以下で詳細に検討するように、励起
周波数≫30MHzを使用する「傾向」が、基本的に体
系化された。
数の励起が有利であることが判明した。したがって、周
波数が、ごく初期の低いフレネル数の導波管CO2 レー
ザにおける21MHzから徐々に増加し、パワーも増大
した。それと同時に、放電チャンバ、空洞のフレネル数
およびミラー曲率は、ほぼ例外なく、導波管レーザを開
発するようにした。たとえば、J. Lachambreその他は、
その論文「A transversely rf-excited CO2 waveguide
laser(横RF励起CO2 導波管レーザ) 」(Appl Phys L
ett, 32(10), 1978 年5月15日, pp.652-653) で、流
れるCO2 利得媒質の(2mm)2 、長さ15cmの部
分に、21MHzのRF源で通電した。出力を最大にす
るための、彼らのレーザ空洞および励起パラメータは、
pD=200T−mm、fD=42mm−MHz、およ
びND =0.58であった。同様に、Gabai 、Hertzbeg
およびYatsivは、4.5mm間隔で配置した1対の幅
2.5cm、長さ73cmの電極間のスラブ領域を30
MHzで励起し、「弱く光る中心部分しか、効率的に励
起されない」と報告した。電極の間隔が減少すると、そ
の幅は急速に減少する。Gabai その他が使用した空洞お
よび励起のパラメータは、pD=270T−mm、fD
=135mm−MHz、NW =19.1およびND =
0.62であった。したがって、より高いRF周波数を
有る導波管構造での励起を指向する「傾向」は、198
0年よりかなり前に始まり、その過程で、横RF励起導
波管レーザが定例となるか、高周波数励起と同義語とな
った。実際、上記で参照したVitrukその他の研究から分
かるように、さらに以下で詳細に検討するように、励起
周波数≫30MHzを使用する「傾向」が、基本的に体
系化された。
【0024】シース領域の厚さを最小限に抑えることが
望ましいことが、実験的に理解されたので、RF励起周
波数が増加するのと同時に、先行技術の注目は、電極間
隔の寸法内で、導波管である高圧レーザを密封操作する
ことに集中した。導波管空洞の特性により必然的に、モ
ード・サイズが、RFポンピング導波管CO2 レーザの
電極間隔またはボア寸法と等しくなることは、よく理解
されている。また、横RF放電の特性により必然的に、
プラズマ・シースが電極上になるか、それに非常に近く
なる、あるいは金属電極を絶縁材で覆った場合には、導
波管のボアに密着することが、よく理解されている。し
かし、RF導波管レーザの出力ビーム構造を非常に慎重
かつ詳細に検査しないと、シースが出力ビームの質に及
ぼすマイナス(またはプラス)の影響を明らかにできな
いことは、よく理解されていない。先行技術の検査で
は、スラブ・レーザ・ビームの質に重要な影響を及ぼし
得るプラズマ・シース領域の特徴を解明するのに、十分
に詳細な測定が実施された場合があるか、明らかでな
い。
望ましいことが、実験的に理解されたので、RF励起周
波数が増加するのと同時に、先行技術の注目は、電極間
隔の寸法内で、導波管である高圧レーザを密封操作する
ことに集中した。導波管空洞の特性により必然的に、モ
ード・サイズが、RFポンピング導波管CO2 レーザの
電極間隔またはボア寸法と等しくなることは、よく理解
されている。また、横RF放電の特性により必然的に、
プラズマ・シースが電極上になるか、それに非常に近く
なる、あるいは金属電極を絶縁材で覆った場合には、導
波管のボアに密着することが、よく理解されている。し
かし、RF導波管レーザの出力ビーム構造を非常に慎重
かつ詳細に検査しないと、シースが出力ビームの質に及
ぼすマイナス(またはプラス)の影響を明らかにできな
いことは、よく理解されていない。先行技術の検査で
は、スラブ・レーザ・ビームの質に重要な影響を及ぼし
得るプラズマ・シース領域の特徴を解明するのに、十分
に詳細な測定が実施された場合があるか、明らかでな
い。
【0025】横方向に対称形のRF励起放電でも、スラ
ブRF励起放電でも、Vitrukその他が上記で参照した1
994年の論文で検討したように、プラズマ・シースの
厚さは1/fで成長し、励起周波数の逆数として、電極
間の間隔に対する割合が大きくなる。それと同時に、プ
ラズマ・シースに蓄積されるパワーは、1/f2 で増加
する。約40ないし160MHzの励起領域に適用し
て、この理論の適用性を考え、100ないし160MH
zの範囲の励起で動作するレーザの放電特性を測定し、
この理論の多くの重要な要素を確認した。たとえば、電
極間隔が10mmのスラブ放電の場合、fDをほぼ28
8mm−MHzに、pDをほぼ133Torr−mmに
維持するのに適切なRF励起周波数はほぼ28MHz
で、適切な圧力は13Torrとなる。この結合関係
は、RFで励起したデバイスの基本的性質を協調する。
つまり10mmのボアを使用すると、fD=288mm
−MHzでもfD=24,500mm−MHzでも、最
適圧力は低くなる。たとえば、上記で参照した論文Tu
KKR(1980年)の要約でChenausky その他が報告
したように、「従来通りの共振器の形状および2450
MHzの励起を用いると・・・」、多重モード出力が>
10Wで長さ34cmの放電を、7%の放電効率で生成
することができるが、「放電ギャップが1cmと比較的
広いので、合計気圧は10Torrの範囲が好ましい・
・・」。
ブRF励起放電でも、Vitrukその他が上記で参照した1
994年の論文で検討したように、プラズマ・シースの
厚さは1/fで成長し、励起周波数の逆数として、電極
間の間隔に対する割合が大きくなる。それと同時に、プ
ラズマ・シースに蓄積されるパワーは、1/f2 で増加
する。約40ないし160MHzの励起領域に適用し
て、この理論の適用性を考え、100ないし160MH
zの範囲の励起で動作するレーザの放電特性を測定し、
この理論の多くの重要な要素を確認した。たとえば、電
極間隔が10mmのスラブ放電の場合、fDをほぼ28
8mm−MHzに、pDをほぼ133Torr−mmに
維持するのに適切なRF励起周波数はほぼ28MHz
で、適切な圧力は13Torrとなる。この結合関係
は、RFで励起したデバイスの基本的性質を協調する。
つまり10mmのボアを使用すると、fD=288mm
−MHzでもfD=24,500mm−MHzでも、最
適圧力は低くなる。たとえば、上記で参照した論文Tu
KKR(1980年)の要約でChenausky その他が報告
したように、「従来通りの共振器の形状および2450
MHzの励起を用いると・・・」、多重モード出力が>
10Wで長さ34cmの放電を、7%の放電効率で生成
することができるが、「放電ギャップが1cmと比較的
広いので、合計気圧は10Torrの範囲が好ましい・
・・」。
【0026】Vitrukその他の報告したもう一つの相似関
係は、プラズマ・シートの厚さをfDS =42mm−M
Hzと述べている。したがって、27MHzのRFで励
起する従来通りのスラブ・デバイスは、約1.5mmの
シース厚さを有すると予想されたが、この周波数は理論
の有効性の周波数限界に近い。Vitrukその他の理論は、
30MHzで励起したスラブ・デバイスでは、放電入力
の50%以上が抵抗損失としてイオン・シース内に蓄積
され、シース電圧が所望のαタイプのRF放電を維持す
るには高すぎることも、予想している。したがって、低
周波数RFで励起したスラブ・レーザ・デバイスは、低
い特定の入力では、望ましくない高電流タイプのγタイ
プ放電に遷移すると予測されてきた。
係は、プラズマ・シートの厚さをfDS =42mm−M
Hzと述べている。したがって、27MHzのRFで励
起する従来通りのスラブ・デバイスは、約1.5mmの
シース厚さを有すると予想されたが、この周波数は理論
の有効性の周波数限界に近い。Vitrukその他の理論は、
30MHzで励起したスラブ・デバイスでは、放電入力
の50%以上が抵抗損失としてイオン・シース内に蓄積
され、シース電圧が所望のαタイプのRF放電を維持す
るには高すぎることも、予想している。したがって、低
周波数RFで励起したスラブ・レーザ・デバイスは、低
い特定の入力では、望ましくない高電流タイプのγタイ
プ放電に遷移すると予測されてきた。
【0027】上記で参照したVitrukその他の理論的分析
は、同様に上記で参照したChenausky その他およびGaba
i その他の観察結果と非常によく適合するばかりでな
く、S.Yatsiv が論文「Conductively Cooled Capacitiv
ely Coupled RF Excited CO2Lasers( 伝導冷却し容量結
合したRF励起CO2 レーザ) 」(Proc. 6TH Internati
onal Symposium, Gas flow and Chemical Lasers, copy
right Springer-Verlag, 1987 年2月) で述べた結果
を、非常に正確に説明する。この論文で、Yatsivは3m
mの間隔をあけた1対の幅3cm、長さ78cmの研磨
した電極間に30MFzのRFで励起したスラブCO2
放電領域の生成について検討した。Yatsivが報告したよ
うに、このスラブ領域はND =0.27という電極間隔
の寸法内にフレネル数を有し、一般に使用されているア
ルミニウム電極で6.2%の放電効率を達成した。した
がって、上記で参照した1994年のVitrukその他の理
論は、従来の対称形およびスラブのRF励起CO2 放電
レーザの当業者によって十分認められてきたものを、効
果的に分類している。つまり、a)電極間隔が広い場合
は、励起周波数が高くても、低い圧力を用いる必要があ
る、b)高圧操作が望ましい場合は、短い電極間隔と高
周波数励起との両方が必要である。逆に、低い励起周波
数、中位から短い電極間隔、および高い媒質圧力を選択
すると、低い出力や低い放電効率など、基本的に望まし
くない放電特性が生じる可能性がある。以下で検討する
ように、アパーチャおよび圧力が増加するにつれて、放
電領域に望ましくない不安定性を持ち込まないよう、C
O2 レーザ・デバイスの単純な電気励起を増大させ、あ
る種の明白な、または重大な「高度化」を導入しなけれ
ばならない。不安定性が優勢になると、CO2 レーザの
出力の生成にとって不適切な放電になる。
は、同様に上記で参照したChenausky その他およびGaba
i その他の観察結果と非常によく適合するばかりでな
く、S.Yatsiv が論文「Conductively Cooled Capacitiv
ely Coupled RF Excited CO2Lasers( 伝導冷却し容量結
合したRF励起CO2 レーザ) 」(Proc. 6TH Internati
onal Symposium, Gas flow and Chemical Lasers, copy
right Springer-Verlag, 1987 年2月) で述べた結果
を、非常に正確に説明する。この論文で、Yatsivは3m
mの間隔をあけた1対の幅3cm、長さ78cmの研磨
した電極間に30MFzのRFで励起したスラブCO2
放電領域の生成について検討した。Yatsivが報告したよ
うに、このスラブ領域はND =0.27という電極間隔
の寸法内にフレネル数を有し、一般に使用されているア
ルミニウム電極で6.2%の放電効率を達成した。した
がって、上記で参照した1994年のVitrukその他の理
論は、従来の対称形およびスラブのRF励起CO2 放電
レーザの当業者によって十分認められてきたものを、効
果的に分類している。つまり、a)電極間隔が広い場合
は、励起周波数が高くても、低い圧力を用いる必要があ
る、b)高圧操作が望ましい場合は、短い電極間隔と高
周波数励起との両方が必要である。逆に、低い励起周波
数、中位から短い電極間隔、および高い媒質圧力を選択
すると、低い出力や低い放電効率など、基本的に望まし
くない放電特性が生じる可能性がある。以下で検討する
ように、アパーチャおよび圧力が増加するにつれて、放
電領域に望ましくない不安定性を持ち込まないよう、C
O2 レーザ・デバイスの単純な電気励起を増大させ、あ
る種の明白な、または重大な「高度化」を導入しなけれ
ばならない。不安定性が優勢になると、CO2 レーザの
出力の生成にとって不適切な放電になる。
【0028】上記の検討は、密封しエリア冷却した従来
通りの電極間隔が狭いコンパクトなスラブ放電CO2 レ
ーザを、低周波数励起で操作すると、効率が低く、低い
放電圧に制限させる、という当業者の理論的予想を実証
する。世界中の様々な研究者が収集したデータは、例外
なくこの理論に一致する。したがって、中位または高い
放電圧および放電効率で動作する、電極間隔が狭いコン
パクトなデバイスで、高い平均パワーが得られるエリア
冷却の利点と、低周波数励起の利点とは、互いに両立し
ない。発表されているスラブ放電の物理的特性に関する
最も包括的かつ最善の理論によると、低いRF励起周波
数と、>133Torr−mmというpDの積とを組み
合わせて使用し、さらにCO2 レーザのポンピングを増
大させるために直流を使用するのは、非常にまずい組合
せである。というのは、シース内の出力の蓄積が非常に
高くなり、一方または両方のシースの電圧が外部の直流
電界によって増加して、放電を強制的に不安定にし、望
ましくない高電流γタイプのRF放電モードに否応なく
切り替わるからである。
通りの電極間隔が狭いコンパクトなスラブ放電CO2 レ
ーザを、低周波数励起で操作すると、効率が低く、低い
放電圧に制限させる、という当業者の理論的予想を実証
する。世界中の様々な研究者が収集したデータは、例外
なくこの理論に一致する。したがって、中位または高い
放電圧および放電効率で動作する、電極間隔が狭いコン
パクトなデバイスで、高い平均パワーが得られるエリア
冷却の利点と、低周波数励起の利点とは、互いに両立し
ない。発表されているスラブ放電の物理的特性に関する
最も包括的かつ最善の理論によると、低いRF励起周波
数と、>133Torr−mmというpDの積とを組み
合わせて使用し、さらにCO2 レーザのポンピングを増
大させるために直流を使用するのは、非常にまずい組合
せである。というのは、シース内の出力の蓄積が非常に
高くなり、一方または両方のシースの電圧が外部の直流
電界によって増加して、放電を強制的に不安定にし、望
ましくない高電流γタイプのRF放電モードに否応なく
切り替わるからである。
【0029】また、プラズマ・シース領域は、有害なプ
ラズマ反応がCO2 レーザ動作種を分離させる場所であ
ることが知られているので、シースが占有する放電体積
の割合を増加させると、密封レーザの動作寿命にマイナ
ス影響を及ぼすと予想できる。
ラズマ反応がCO2 レーザ動作種を分離させる場所であ
ることが知られているので、シースが占有する放電体積
の割合を増加させると、密封レーザの動作寿命にマイナ
ス影響を及ぼすと予想できる。
【0030】レーザの出力を増加させ、レーザの寿命を
改善するために、放電で動作する金触媒材料の使用が示
唆されていることに留意されたい。このような触媒は、
特許第4,756,000 号で開示されている。しかし、この材
料が電極表面に付着しないよう、このような触媒材料
は、放電チャンバの側壁を規定するセラミック製スペー
サにのみ適用することが最善で、先行技術の長方形レー
ザでは、間隔の狭い電極の面積が大きいので、このため
のセラミック材料の使用は最低限に抑えられている。
改善するために、放電で動作する金触媒材料の使用が示
唆されていることに留意されたい。このような触媒は、
特許第4,756,000 号で開示されている。しかし、この材
料が電極表面に付着しないよう、このような触媒材料
は、放電チャンバの側壁を規定するセラミック製スペー
サにのみ適用することが最善で、先行技術の長方形レー
ザでは、間隔の狭い電極の面積が大きいので、このため
のセラミック材料の使用は最低限に抑えられている。
【0031】上記で参照した特許第4,939,738 号のスラ
ブ・レーザは、放電寸法が広いプラス・ブランチの非安
定共振器と狭い寸法の導波管共振器とを特徴とする。こ
の特許で描かれたデバイスは、空洞の外側で、レンズを
使用して長方形ビームを正方形ビームに変換する。
ブ・レーザは、放電寸法が広いプラス・ブランチの非安
定共振器と狭い寸法の導波管共振器とを特徴とする。こ
の特許で描かれたデバイスは、空洞の外側で、レンズを
使用して長方形ビームを正方形ビームに変換する。
【0032】要するに、以前に報告され、効率的に励起
された「スラブ」放電の形状は、0.7ないし2.25
mmの範囲の電極間隔、1.35cmないし4.5cm
の範囲の電極の幅、最適な放電励起のために少なくとも
100ないし225MHzの範囲の励起周波数、約30
ないし77cmの範囲の電極の長さ、およびND <1お
よびNW ≫1のフレネル数を特徴とする。したがって、
以前のスラブ・レーザに共通の特徴は、電極の幅が電極
の間隔よりはるかに大きく、導波管モードが常に、2枚
の間隔の狭い研磨平面状電極間に延びる小さい放電寸法
内に指示されることである。
された「スラブ」放電の形状は、0.7ないし2.25
mmの範囲の電極間隔、1.35cmないし4.5cm
の範囲の電極の幅、最適な放電励起のために少なくとも
100ないし225MHzの範囲の励起周波数、約30
ないし77cmの範囲の電極の長さ、およびND <1お
よびNW ≫1のフレネル数を特徴とする。したがって、
以前のスラブ・レーザに共通の特徴は、電極の幅が電極
の間隔よりはるかに大きく、導波管モードが常に、2枚
の間隔の狭い研磨平面状電極間に延びる小さい放電寸法
内に指示されることである。
【0033】上述したように、多くの医学および軽産業
の用途に必要な出力を達成し、それと同時にレーザ放電
効率の許容可能なレベルを有するために、現在入手でき
るスラブCO2 レーザは高励起周波数、つまり通常は8
0〜200MHzの範囲の周波数を使用する。高周波数
RF源は、より低い周波数源より費用がかかるので、こ
れらのレーザは、大きな費用メリットがある。
の用途に必要な出力を達成し、それと同時にレーザ放電
効率の許容可能なレベルを有するために、現在入手でき
るスラブCO2 レーザは高励起周波数、つまり通常は8
0〜200MHzの範囲の周波数を使用する。高周波数
RF源は、より低い周波数源より費用がかかるので、こ
れらのレーザは、大きな費用メリットがある。
【0034】さらに、このような高励起周波数を使用す
ると、バキューム内の構造が複雑になり、レーザの費用
も高くなる。というのは、このようなデバイスは、たと
えば特許第4,352,188 号、第4,443,877 号および第4,75
1,717 号で教示されたように、放電電極構造に沿った定
在波誘導電圧の変動を打ち消すために、放電チャンバに
通常10〜20のバキューム内RF回路誘導子を必要と
する、高放電容量を有するからである。このような誘導
要素がないと、RF励起の定在波効果のために、放電チ
ャンバの長さに沿った必要な均一の電圧分布が維持でき
ず、その結果、レーザ出力が低くなり、レーザ放電効率
が低くなるからである。製造上の観点からは、このよう
な誘導要素をレーザ真空エンベロープの外側にすること
が望ましいが、効率的な高力CO2 レーザ出力を生成す
るには、これらの要素を、電気的に電極構造に可能な限
り近づけて配置する必要がある。このような配置にする
と、デバイスの費用が増大する。
ると、バキューム内の構造が複雑になり、レーザの費用
も高くなる。というのは、このようなデバイスは、たと
えば特許第4,352,188 号、第4,443,877 号および第4,75
1,717 号で教示されたように、放電電極構造に沿った定
在波誘導電圧の変動を打ち消すために、放電チャンバに
通常10〜20のバキューム内RF回路誘導子を必要と
する、高放電容量を有するからである。このような誘導
要素がないと、RF励起の定在波効果のために、放電チ
ャンバの長さに沿った必要な均一の電圧分布が維持でき
ず、その結果、レーザ出力が低くなり、レーザ放電効率
が低くなるからである。製造上の観点からは、このよう
な誘導要素をレーザ真空エンベロープの外側にすること
が望ましいが、効率的な高力CO2 レーザ出力を生成す
るには、これらの要素を、電気的に電極構造に可能な限
り近づけて配置する必要がある。このような配置にする
と、デバイスの費用が増大する。
【0035】13.56、27.12、または40.6
8MHzというISM周波数のいずれか1つ以外のポン
ピング周波数でスラブ・レーザを操作すると、このよう
なデバイスに何らかの偶発的なRFのリークがあった場
合に、救急用通信、航空機の通信、または公共放送サー
ビスとの違法かつ有害な干渉を生じるという問題が起き
る。米国では、このようなFCC認可のサービスが、4
0〜200MHzの全RFスペクトル全体に配置されて
いる。したがって、現在提示されているスラブ・レーザ
は、通信に適用するには、高価かつ複雑なRFシールド
が必要である。
8MHzというISM周波数のいずれか1つ以外のポン
ピング周波数でスラブ・レーザを操作すると、このよう
なデバイスに何らかの偶発的なRFのリークがあった場
合に、救急用通信、航空機の通信、または公共放送サー
ビスとの違法かつ有害な干渉を生じるという問題が起き
る。米国では、このようなFCC認可のサービスが、4
0〜200MHzの全RFスペクトル全体に配置されて
いる。したがって、現在提示されているスラブ・レーザ
は、通信に適用するには、高価かつ複雑なRFシールド
が必要である。
【0036】先行技術の長方形放電レーザのもう一つの
欠点として、電極は、導波のために正確に平坦に形成し
なければならない。このため、特許第5,097,472 号で教
示されているような、レーザ出力を増大するために直流
電力とRF励起とを同時適用することができない。とい
うのは、当技術分野では、均一な直流放電電界を生成、
または維持するには、平坦な表面は望ましくないこと
が、よく知られているからである。
欠点として、電極は、導波のために正確に平坦に形成し
なければならない。このため、特許第5,097,472 号で教
示されているような、レーザ出力を増大するために直流
電力とRF励起とを同時適用することができない。とい
うのは、当技術分野では、均一な直流放電電界を生成、
または維持するには、平坦な表面は望ましくないこと
が、よく知られているからである。
【0037】また、以前に提示されたスラブ・レーザの
大面積の電極は、電極に対して直角の次元で空洞内モー
ドを導波する役割を果たすので、非接地電極自体は、光
導波損失を空洞共振器に取り込まない限り、容易に分割
できないことも、認めなければならない。したがって、
電極の面積を増大させ、放電入力を増大させることによ
って、より高いレーザ出力を求めると、単一の電極の放
電入力インピーダンスは、オームの法則により、一般に
使用される50Ωの高力RF源とレーザ自体との間のイ
ンピーダンスの一致が益々困難になるレベルにまで落ち
る。
大面積の電極は、電極に対して直角の次元で空洞内モー
ドを導波する役割を果たすので、非接地電極自体は、光
導波損失を空洞共振器に取り込まない限り、容易に分割
できないことも、認めなければならない。したがって、
電極の面積を増大させ、放電入力を増大させることによ
って、より高いレーザ出力を求めると、単一の電極の放
電入力インピーダンスは、オームの法則により、一般に
使用される50Ωの高力RF源とレーザ自体との間のイ
ンピーダンスの一致が益々困難になるレベルにまで落ち
る。
【0038】たとえば、A. Lapucciその他が「On the L
ongitudinal Voltage Distributionin RF-Discharged C
O2 Lasers with Large-Area Electrodes(大面積の電極
を有するRF放電CO2 レーザの縦方向の電圧分布につ
いて) 」(IEEE JQE Vol.QE31, No.8, 1995年8月) で検
討しているように、長さ70cmで幅10cm、つまり
700cm2 で電極間隔が2mmのスラブ・レーザ・デ
バイスは、周波数100MHzで10kWのRF入力電
力を通電すると、陽光柱放電インピーダンスがわずか
0.4Ωで、容量シース・インピーダンスがマイナス2
jΩと予想される。明らかに、50Ωの出力インピーダ
ンスを有する10kW、100MHzの電源で0.4−
2jΩのインピーダンスを駆動することは、低い回路損
失を維持する場合には、巧妙な仕事ではない。この低さ
の放電入力インピーダンスに実際に遭遇することを確認
するために、Lapucci その他は、長さ70cm、幅2.
5cmで間隔が2mmの1対の電極を有するスラブ・レ
ーザを製造し、実験によるインピーダンス測定で、予想
を検証した。
ongitudinal Voltage Distributionin RF-Discharged C
O2 Lasers with Large-Area Electrodes(大面積の電極
を有するRF放電CO2 レーザの縦方向の電圧分布につ
いて) 」(IEEE JQE Vol.QE31, No.8, 1995年8月) で検
討しているように、長さ70cmで幅10cm、つまり
700cm2 で電極間隔が2mmのスラブ・レーザ・デ
バイスは、周波数100MHzで10kWのRF入力電
力を通電すると、陽光柱放電インピーダンスがわずか
0.4Ωで、容量シース・インピーダンスがマイナス2
jΩと予想される。明らかに、50Ωの出力インピーダ
ンスを有する10kW、100MHzの電源で0.4−
2jΩのインピーダンスを駆動することは、低い回路損
失を維持する場合には、巧妙な仕事ではない。この低さ
の放電入力インピーダンスに実際に遭遇することを確認
するために、Lapucci その他は、長さ70cm、幅2.
5cmで間隔が2mmの1対の電極を有するスラブ・レ
ーザを製造し、実験によるインピーダンス測定で、予想
を検証した。
【0039】さらに、上記の70cm×2.5cmのス
ラブの低い駆動インピーダンスを確認するために、Lapu
cci その他は、この構造の容量が、非放電時の400p
Fから放電時の620pFまで増加する、つまりプラズ
マ・シースの容量が非放電時の0pFから放電時の22
0pFに増加することを観察した。このように、レーザ
放電チャンバの容量が、1.55倍に増加すると、レー
ザ・ヘッドの共振周波数が1/[1.55]1/2 だけ移
行するか、周波数が100MHzから80.3MHzに
移行することが明白である。これは、放電整合ネットワ
ークの設計を非常に困難にする。というのは、ネットワ
ークは50Ωという100MHzのRF源インピーダン
スを、約2−8jΩに効率的に変換しなければならない
だけでなく、ネットワークは、このレーザの共振周波数
20MHzの変化を、レーザ放電が開始するのに要する
数マイクロ秒内に納めなければならないからである。こ
の問題は、コンパクトで、損失が小さい、塊状要素の高
変換率整合回路の設計および製造が困難な50MHzを
上回る周波数範囲で、さらに厳しくなる。
ラブの低い駆動インピーダンスを確認するために、Lapu
cci その他は、この構造の容量が、非放電時の400p
Fから放電時の620pFまで増加する、つまりプラズ
マ・シースの容量が非放電時の0pFから放電時の22
0pFに増加することを観察した。このように、レーザ
放電チャンバの容量が、1.55倍に増加すると、レー
ザ・ヘッドの共振周波数が1/[1.55]1/2 だけ移
行するか、周波数が100MHzから80.3MHzに
移行することが明白である。これは、放電整合ネットワ
ークの設計を非常に困難にする。というのは、ネットワ
ークは50Ωという100MHzのRF源インピーダン
スを、約2−8jΩに効率的に変換しなければならない
だけでなく、ネットワークは、このレーザの共振周波数
20MHzの変化を、レーザ放電が開始するのに要する
数マイクロ秒内に納めなければならないからである。こ
の問題は、コンパクトで、損失が小さい、塊状要素の高
変換率整合回路の設計および製造が困難な50MHzを
上回る周波数範囲で、さらに厳しくなる。
【0040】RF励起デバイスの先行技術に関する上記
の検討は、第1RF横励起導波管・導波管CO2 レーザ
から始まる増分ベースのアプローチであった。より世界
的であるが、同様に有効な先行技術の小型対称アパーチ
ャまたはスラブ・デバイスの検討を、非常に大きいアパ
ーチャ・デバイスの始点から始めることができる。
の検討は、第1RF横励起導波管・導波管CO2 レーザ
から始まる増分ベースのアプローチであった。より世界
的であるが、同様に有効な先行技術の小型対称アパーチ
ャまたはスラブ・デバイスの検討を、非常に大きいアパ
ーチャ・デバイスの始点から始めることができる。
【0041】概して、完全に密封した高圧非フロー放電
チャンバに制限された、大型対称アパーチャCO2 ガス
レーザ媒質の、高い平均比出力の単純な放電励起は、先
行技術では知られていない。このようなデバイスを操作
できない理由は、基本的なことである。つまり、気体は
熱伝導率が非常に悪く、熱を除去する何らかの手段がな
いと、気体放電は劣化して、レーザ出力の生成に不適切
な励起プロセスになる。基本的な対称形の大型アパーチ
ャに制限された放電チャンバに、ある種の追加的な「高
度化」または「妥協」を加えると、大型アパーチャ・デ
バイスの、高い特定の電気的励起が実現できる。したが
って、たとえば、大型アパーチャ・デバイスの、紫外線
または電子ビームで補助した電気的励起を利用した高速
パルスの放電ポンピングが可能である。これらのタイプ
のデバイスで行う高度化とは、紫外線または電子ビーム
手段によってガス・ボリューム内に最初に十分な電子を
生成させて、その後の放電アークの生成を防止し、これ
を高速の主放電励起パルスの遷移性質と組み合わせる。
このようにして、大型アパーチャに通電することができ
る。というのは、最終的に、望ましくない放電の非安定
性が生じる前に、励起が停止するからである。限られた
チャンバに取り入れる追加の高度化または妥協が、縦ま
たは横方向のガス・フローである場合は、大型アパーチ
ャの高い平均パワー(つまり高いPRF)の紫外線また
は電子ビームで電気的に励起したデバイスが、現実にな
る。このようなデバイスでは、放電の熱が、連続する放
電パルス間に対流で除去されるので、ガス媒質の温度
は、放電の安定性が破壊されるほど高くならない。
チャンバに制限された、大型対称アパーチャCO2 ガス
レーザ媒質の、高い平均比出力の単純な放電励起は、先
行技術では知られていない。このようなデバイスを操作
できない理由は、基本的なことである。つまり、気体は
熱伝導率が非常に悪く、熱を除去する何らかの手段がな
いと、気体放電は劣化して、レーザ出力の生成に不適切
な励起プロセスになる。基本的な対称形の大型アパーチ
ャに制限された放電チャンバに、ある種の追加的な「高
度化」または「妥協」を加えると、大型アパーチャ・デ
バイスの、高い特定の電気的励起が実現できる。したが
って、たとえば、大型アパーチャ・デバイスの、紫外線
または電子ビームで補助した電気的励起を利用した高速
パルスの放電ポンピングが可能である。これらのタイプ
のデバイスで行う高度化とは、紫外線または電子ビーム
手段によってガス・ボリューム内に最初に十分な電子を
生成させて、その後の放電アークの生成を防止し、これ
を高速の主放電励起パルスの遷移性質と組み合わせる。
このようにして、大型アパーチャに通電することができ
る。というのは、最終的に、望ましくない放電の非安定
性が生じる前に、励起が停止するからである。限られた
チャンバに取り入れる追加の高度化または妥協が、縦ま
たは横方向のガス・フローである場合は、大型アパーチ
ャの高い平均パワー(つまり高いPRF)の紫外線また
は電子ビームで電気的に励起したデバイスが、現実にな
る。このようなデバイスでは、放電の熱が、連続する放
電パルス間に対流で除去されるので、ガス媒質の温度
は、放電の安定性が破壊されるほど高くならない。
【0042】電気的に励起した対称形の大型アパーチャ
・デバイスに、重大な妥協を行う場合は、比較的巧妙な
タイプの高度化を用いて、密封した非フロー放電チャン
バ内の高い平均比出力励起も現実にすることができる。
たとえば、対称形アパーチャを小型化することができ、
この場合は、細い導波管領域の縦方向の直流励起のみを
用いて、高圧で高い比出力励起を実現することができ
る。この場合、「高度化」とは、距離数ミリメートルの
ボアで冷却し、損失が比較的大きくて安定したガウス自
由空間空洞ではなく、導波管空洞を使用することであ
る。しかし、この「限られている」が非常に望ましい結
果を達成するには、小型アパーチャという形で一般的な
高力励起に非常に重大な妥協を行う必要があることは明
白である。小型アパーチャの妥協は、望ましい利点を生
じるが、上記の小型ボアの妥協は、それだけでは縦直流
励起ではなく横直流励起を支持するのに十分ではない。
さらに、対称形の小型アパーチャの妥協の範囲内で、R
F励起などの追加の高度化を用いると、高圧導波管領域
の横励起が実現できるばかりでなく、RF励起スラブ・
ガス・レーザ・デバイスに関して前述したように、アパ
ーチャを電極の幅の方向、つまり放電電界に直角に大き
くすることができる。この場合、間隔の狭い電極間の横
RF励起電界の遷移性質に提供される追加の高度化は、
狭い間隔の電極による放電の冷却であり、これによって
高い入力を実現でき、したがって高いレーザ出力を実現
することができる。このように、RFにより提供される
高度化は、巧妙であり、しかも非常に厳格である。しか
し、それと同時に、cw横RF励起による高度化は、そ
れほど厳格ではないので、低圧のpD=一定タイプの妥
協を受け入れなくても、対称形の大型アパーチャ・デバ
イスに適用することができる。
・デバイスに、重大な妥協を行う場合は、比較的巧妙な
タイプの高度化を用いて、密封した非フロー放電チャン
バ内の高い平均比出力励起も現実にすることができる。
たとえば、対称形アパーチャを小型化することができ、
この場合は、細い導波管領域の縦方向の直流励起のみを
用いて、高圧で高い比出力励起を実現することができ
る。この場合、「高度化」とは、距離数ミリメートルの
ボアで冷却し、損失が比較的大きくて安定したガウス自
由空間空洞ではなく、導波管空洞を使用することであ
る。しかし、この「限られている」が非常に望ましい結
果を達成するには、小型アパーチャという形で一般的な
高力励起に非常に重大な妥協を行う必要があることは明
白である。小型アパーチャの妥協は、望ましい利点を生
じるが、上記の小型ボアの妥協は、それだけでは縦直流
励起ではなく横直流励起を支持するのに十分ではない。
さらに、対称形の小型アパーチャの妥協の範囲内で、R
F励起などの追加の高度化を用いると、高圧導波管領域
の横励起が実現できるばかりでなく、RF励起スラブ・
ガス・レーザ・デバイスに関して前述したように、アパ
ーチャを電極の幅の方向、つまり放電電界に直角に大き
くすることができる。この場合、間隔の狭い電極間の横
RF励起電界の遷移性質に提供される追加の高度化は、
狭い間隔の電極による放電の冷却であり、これによって
高い入力を実現でき、したがって高いレーザ出力を実現
することができる。このように、RFにより提供される
高度化は、巧妙であり、しかも非常に厳格である。しか
し、それと同時に、cw横RF励起による高度化は、そ
れほど厳格ではないので、低圧のpD=一定タイプの妥
協を受け入れなくても、対称形の大型アパーチャ・デバ
イスに適用することができる。
【0043】横RF励起による高度化の基本的限界およ
び厳格さを調べるには、Vitrukその他が展開し、上記で
参照したようなRF励起スラブおよび対称形放電の理論
を用いることができ、非常に有利である。基本的に、こ
の理論は、電極間隔がDの場合に、fD=一定のC1
(=288mm−MHz)およびpD=一定のC2 (=
133mm−Torr)という2つの関係が適用可能で
あることを示し、これに従えば、対称形の大型アパーチ
ャの低圧直流励起気体放電レーザに、重大な改良を実現
できる。その改良点には、比体積入力が75W/cm3
で、対応する面積ベースの比入力が22.5W/cm2
の、間隔の狭い水冷電極間に、非常に安定した放電を維
持する能力がある。
び厳格さを調べるには、Vitrukその他が展開し、上記で
参照したようなRF励起スラブおよび対称形放電の理論
を用いることができ、非常に有利である。基本的に、こ
の理論は、電極間隔がDの場合に、fD=一定のC1
(=288mm−MHz)およびpD=一定のC2 (=
133mm−Torr)という2つの関係が適用可能で
あることを示し、これに従えば、対称形の大型アパーチ
ャの低圧直流励起気体放電レーザに、重大な改良を実現
できる。その改良点には、比体積入力が75W/cm3
で、対応する面積ベースの比入力が22.5W/cm2
の、間隔の狭い水冷電極間に、非常に安定した放電を維
持する能力がある。
【0044】最近の理論から見ると、Laakmannに帰され
る上記で参照した米国特許第4,169,251 号は、横RF電
界を使用して、円形、正方形または長方形の放電チャン
バに通電すれば、チャンバがレーザ光の誘導に適してい
る場合のみ、直流の大口径低圧ガス・レーザに対して、
重大な利点を得ることができると教示する。これで得ら
れる利点とは、高圧、コンパクト、堅牢、および単純な
デバイスからの出力を改善することである。このような
利点が実現できるのは、導波管空洞が従来通りの安定し
た自由空間ガウス共振器の理論に依存せず、中空口径の
導波管共振器理論に依存し、したがって、損失の少ない
空洞を改良型放電デバイスと組み合わせることができる
からである。Laakmannの教示では、fの選択が適切であ
れば、Dが減少するとpが増加することができ、そうす
ることによって、サイズ、レーザ発振の利得帯域、およ
びレーザの出力が改良される。Vitrukその他の教示を、
特許第4,169,251 号で開示された実施例に適用すると、
fD=200mm−MHzおよびpDが200T−mm
であることが判明した。したがって、何らかの理論が利
用できるようになるより16年前にLaakmannが用いた最
適化プロセスは、理論的にほぼ最適であることが判明し
た。特許第4,169,251 号は、放電チャンバ自体がレーザ
光の誘導に適している場合にのみ利点が生じると教示し
ているが、結局、多くの研究者により様々なレベルの革
新が加えられると、Laakmannが開始した密封パワー・レ
ベルはワット単位からキロワット単位に上昇した。たと
えば、特許第4,363,126 号でChenausky その他が教示し
たように、特許第4,169,251 号で開示されたデバイスの
導波管領域の励起を改良し、第'251号の導波管領域を均
一に励起するために、特許第4,443,877 号でChenausky
およびNewmanが開示したようなさらなる手段を実施する
と、圧力90Tで作動し、148MHzで通電した
(2.25mm)2 で長さ37cmの密封放電チャンバ
から、単一導波管モードの31Wの出力を励起すること
ができる。これらのデバイスに関連する放電動作パラメ
ータは、Chenausky およびNewmanの「RF Excited Waveg
uide CO2 LaserTechnology(RFで励起した導波管CO2
レーザ・テクノロジー) 」(Invited Paper, Lasers 19
82, New Orleans, LA) およびNewmanおよびHartの「Rec
ent R&DAdvances in Sealed-off CO2 Lasers( 密封CO
2 レーザの最近の研究開発の進歩) 」(Laser Focus/Ele
ctro-Optics, pp.80-91, 1987 年6月) の報告による
と、fD=333mm−MHz、pD=203T−m
m、Pi /vol=160W/cm3 、P0 /L=84
W/mおよびND =0.31である。Vitrukその他が検
討したように、側面が4つある放電チャンバによって非
常に効果的な冷却が提供されるため、上述の特定入力、
pDおよびfDの積が、スラブ・デバイスの値より多少
高いことは、注目に値する。
る上記で参照した米国特許第4,169,251 号は、横RF電
界を使用して、円形、正方形または長方形の放電チャン
バに通電すれば、チャンバがレーザ光の誘導に適してい
る場合のみ、直流の大口径低圧ガス・レーザに対して、
重大な利点を得ることができると教示する。これで得ら
れる利点とは、高圧、コンパクト、堅牢、および単純な
デバイスからの出力を改善することである。このような
利点が実現できるのは、導波管空洞が従来通りの安定し
た自由空間ガウス共振器の理論に依存せず、中空口径の
導波管共振器理論に依存し、したがって、損失の少ない
空洞を改良型放電デバイスと組み合わせることができる
からである。Laakmannの教示では、fの選択が適切であ
れば、Dが減少するとpが増加することができ、そうす
ることによって、サイズ、レーザ発振の利得帯域、およ
びレーザの出力が改良される。Vitrukその他の教示を、
特許第4,169,251 号で開示された実施例に適用すると、
fD=200mm−MHzおよびpDが200T−mm
であることが判明した。したがって、何らかの理論が利
用できるようになるより16年前にLaakmannが用いた最
適化プロセスは、理論的にほぼ最適であることが判明し
た。特許第4,169,251 号は、放電チャンバ自体がレーザ
光の誘導に適している場合にのみ利点が生じると教示し
ているが、結局、多くの研究者により様々なレベルの革
新が加えられると、Laakmannが開始した密封パワー・レ
ベルはワット単位からキロワット単位に上昇した。たと
えば、特許第4,363,126 号でChenausky その他が教示し
たように、特許第4,169,251 号で開示されたデバイスの
導波管領域の励起を改良し、第'251号の導波管領域を均
一に励起するために、特許第4,443,877 号でChenausky
およびNewmanが開示したようなさらなる手段を実施する
と、圧力90Tで作動し、148MHzで通電した
(2.25mm)2 で長さ37cmの密封放電チャンバ
から、単一導波管モードの31Wの出力を励起すること
ができる。これらのデバイスに関連する放電動作パラメ
ータは、Chenausky およびNewmanの「RF Excited Waveg
uide CO2 LaserTechnology(RFで励起した導波管CO2
レーザ・テクノロジー) 」(Invited Paper, Lasers 19
82, New Orleans, LA) およびNewmanおよびHartの「Rec
ent R&DAdvances in Sealed-off CO2 Lasers( 密封CO
2 レーザの最近の研究開発の進歩) 」(Laser Focus/Ele
ctro-Optics, pp.80-91, 1987 年6月) の報告による
と、fD=333mm−MHz、pD=203T−m
m、Pi /vol=160W/cm3 、P0 /L=84
W/mおよびND =0.31である。Vitrukその他が検
討したように、側面が4つある放電チャンバによって非
常に効果的な冷却が提供されるため、上述の特定入力、
pDおよびfDの積が、スラブ・デバイスの値より多少
高いことは、注目に値する。
【0045】Vitrukその他の分析を備えると、先行技術
の結果の多くは、より容易に理解し、分類することがで
きる。たとえば、J. Xinその他が論文「rf-exited all-
metal waveguide CO2 laser(RF励起全金属導波管CO
2 レーザ) 」(Appl Ply Sett, 59, (26), 23 1991 年1
2月, pp.3363-65) で検討しているように、RF励起レ
ーザの放電チャンバに対して所与の修正のメリットが得
られる。Xin その他の教示によると、2.5×2.3m
m2 、3.5×3.3mm2 または4.5×4.3mm
2 で長さ30cmの領域を横RF励起することができ、
いずれの場合もアルミニウム製電極の間隔Dは横方向の
2つの寸法のうち大きい方で、いずれの場合も、陽極酸
化処理したアルミニウムの側壁は、陽極酸化処理した
「金属」側壁と金属の電極との間に.1mmの空隙があ
るように間隔をあける。したがって、最大D/W=1.
09となる。Xin その他が検討した3つのチャンバの励
起が、fDおよびpDについて、それぞれ248mm−
MHzおよび228T−mm、375mm−MHzおよ
び214T−mm、374mm−MHzおよび215T
−mmであると、約43W/cm3 の入力の場合、この
ような密封レーザから、約47W/mの単一導波管EH
11モードの最大出力を得ることができる。Vitrukその他
の文脈では、fDとpDの積は最適値を多少上回り、出
力は、同様にポンピングした正方形導波管チャンバで得
られる最高パワーの約55%に過ぎない。その教示は明
白である。つまり、DおよびWの導波管モードで動作
し、側壁に対してD/W<1.09の電極を有するすべ
ての金属RF放電チャンバは、最適な状態でRF励起し
たD/W=1の対称形導波管アパーチャ・レーザで得ら
れる出力に比べて、50%の出力損失を生じ、したがっ
てD/E>1を用いるのは有利ではない。
の結果の多くは、より容易に理解し、分類することがで
きる。たとえば、J. Xinその他が論文「rf-exited all-
metal waveguide CO2 laser(RF励起全金属導波管CO
2 レーザ) 」(Appl Ply Sett, 59, (26), 23 1991 年1
2月, pp.3363-65) で検討しているように、RF励起レ
ーザの放電チャンバに対して所与の修正のメリットが得
られる。Xin その他の教示によると、2.5×2.3m
m2 、3.5×3.3mm2 または4.5×4.3mm
2 で長さ30cmの領域を横RF励起することができ、
いずれの場合もアルミニウム製電極の間隔Dは横方向の
2つの寸法のうち大きい方で、いずれの場合も、陽極酸
化処理したアルミニウムの側壁は、陽極酸化処理した
「金属」側壁と金属の電極との間に.1mmの空隙があ
るように間隔をあける。したがって、最大D/W=1.
09となる。Xin その他が検討した3つのチャンバの励
起が、fDおよびpDについて、それぞれ248mm−
MHzおよび228T−mm、375mm−MHzおよ
び214T−mm、374mm−MHzおよび215T
−mmであると、約43W/cm3 の入力の場合、この
ような密封レーザから、約47W/mの単一導波管EH
11モードの最大出力を得ることができる。Vitrukその他
の文脈では、fDとpDの積は最適値を多少上回り、出
力は、同様にポンピングした正方形導波管チャンバで得
られる最高パワーの約55%に過ぎない。その教示は明
白である。つまり、DおよびWの導波管モードで動作
し、側壁に対してD/W<1.09の電極を有するすべ
ての金属RF放電チャンバは、最適な状態でRF励起し
たD/W=1の対称形導波管アパーチャ・レーザで得ら
れる出力に比べて、50%の出力損失を生じ、したがっ
てD/E>1を用いるのは有利ではない。
【0046】S. Lovold およびG. Wang の「Ten-atmosp
heres high repetition rate rf-excited CO2 waveguid
e laser(10気圧の高い反復率のRF励起CO2 導波管
レーザ) 」(Appl Phy Lett 40, (1) 1982 年1月1日,
pp.13-15) およびC. Christensenその他の「Transverse
Electrodeless RF Discharge Excitation of High-pre
ssure Laser Gas Mixtures( 高圧レーザ混合気の無電極
横RF放電励起) 」(IEEE JQE, QE-16 (9), 1980年9
月, pp.949-954) は、間隔をあけた電極が側壁のない導
波管を形成する放電チャンバの横RF励起の使用につい
て報告し、両方のデバイスは、「高度化」として横方向
の気体フローを使用して、高圧で高い特定入力励起を達
成する。LovoldおよびWangの場合は、1.5mm(ND
=0.35)の間隔の電極間の40.68MHzの励起
を、1kHzのPRFで大3800Torrまで使用す
ることができ、Christensen その他の場合は、2mm
(ND=0.59)の間隔の電極間の30MHzの励起
を、500HzのPRFで最大900Torrの圧力ま
で使用することができた。LovoldおよびWandのデバイス
では、2kWのRFパルスが、1.5mmの電極間隔を
用いて、61mm−MHzおよび5700T−mmのf
DおよびpDを生成し、Christensen その他のデバイス
では、9kWのRFパルスが、2mmの電極間隔を用い
て、60mm−MHzおよび1800T−mmのfDお
よびpDを生成した。Christiansenは、比入力71J/
LAでその0.9cm2 の放電ボリュームポンピング
し、約7.4%の変換効率を実現した。両方のデバイス
で、放電チャンバには側壁がないので、導波は2枚の電
極間にのみ生じることができた。両方のデバイスで、光
共振器は、RF放電電界に直角の放電次元で安定した自
由空間のガウス共振器で、両方のデバイスで、生成され
た放電は、薄いAl2 O3 の細片の背後に配置された1
対の金属電極によっておおよそ規定された。また両方の
デバイスで、fDは最適なポンピングに必要な288m
m−MHzよりはるかに低く、pDは最適なスラブ励起
で特定された133mm−MHzよりはるかに高かっ
た。
heres high repetition rate rf-excited CO2 waveguid
e laser(10気圧の高い反復率のRF励起CO2 導波管
レーザ) 」(Appl Phy Lett 40, (1) 1982 年1月1日,
pp.13-15) およびC. Christensenその他の「Transverse
Electrodeless RF Discharge Excitation of High-pre
ssure Laser Gas Mixtures( 高圧レーザ混合気の無電極
横RF放電励起) 」(IEEE JQE, QE-16 (9), 1980年9
月, pp.949-954) は、間隔をあけた電極が側壁のない導
波管を形成する放電チャンバの横RF励起の使用につい
て報告し、両方のデバイスは、「高度化」として横方向
の気体フローを使用して、高圧で高い特定入力励起を達
成する。LovoldおよびWangの場合は、1.5mm(ND
=0.35)の間隔の電極間の40.68MHzの励起
を、1kHzのPRFで大3800Torrまで使用す
ることができ、Christensen その他の場合は、2mm
(ND=0.59)の間隔の電極間の30MHzの励起
を、500HzのPRFで最大900Torrの圧力ま
で使用することができた。LovoldおよびWandのデバイス
では、2kWのRFパルスが、1.5mmの電極間隔を
用いて、61mm−MHzおよび5700T−mmのf
DおよびpDを生成し、Christensen その他のデバイス
では、9kWのRFパルスが、2mmの電極間隔を用い
て、60mm−MHzおよび1800T−mmのfDお
よびpDを生成した。Christiansenは、比入力71J/
LAでその0.9cm2 の放電ボリュームポンピング
し、約7.4%の変換効率を実現した。両方のデバイス
で、放電チャンバには側壁がないので、導波は2枚の電
極間にのみ生じることができた。両方のデバイスで、光
共振器は、RF放電電界に直角の放電次元で安定した自
由空間のガウス共振器で、両方のデバイスで、生成され
た放電は、薄いAl2 O3 の細片の背後に配置された1
対の金属電極によっておおよそ規定された。また両方の
デバイスで、fDは最適なポンピングに必要な288m
m−MHzよりはるかに低く、pDは最適なスラブ励起
で特定された133mm−MHzよりはるかに高かっ
た。
【0047】Vitrukその他、Laakmannの特許第4,169,25
1 号、および非最適ポンピング状態で高い平均比入力を
達成することに付随する小型アパーチャの妥協を考慮し
て、当業者なら、LovoldおよびWangおよびChristensen
その他の教示が、最適値にほど遠いfDおよびpDでR
F励起を使用しても、高い比入力が実現できるものであ
ることが理解される。しかし、このような高レベルの励
起において安定した放電を維持するため、1対の導波管
の間隔をあけた電極間に、横RF励起を越えて、励起方
式に対する2つの強力かつ十分な高度化を取り入れなけ
ればならない。第1に、気体フローを取り入れねばなら
ず、これは横気体フローであることが好ましい。これ
は、導波を1次元に制限するが、基本的な放電自体は、
基本的に断面が対称形で、電極間の放電寸法は、幅より
多少小さい(W>D)。第2に、放電の不安定さが発生
する前に放電を停止できるよう、励起はパルス状にしな
ければならない。全体として、横RF励起による高度化
は、巧妙かつ厳格であるが、それほど厳格ではないの
で、重大な横気体フローを導入せずに、まったく最適で
ないfDおよびpDでの高レベル・ポンピングを許容
し、放電を安定化させて、最適でないポンピングを補償
することができる。
1 号、および非最適ポンピング状態で高い平均比入力を
達成することに付随する小型アパーチャの妥協を考慮し
て、当業者なら、LovoldおよびWangおよびChristensen
その他の教示が、最適値にほど遠いfDおよびpDでR
F励起を使用しても、高い比入力が実現できるものであ
ることが理解される。しかし、このような高レベルの励
起において安定した放電を維持するため、1対の導波管
の間隔をあけた電極間に、横RF励起を越えて、励起方
式に対する2つの強力かつ十分な高度化を取り入れなけ
ればならない。第1に、気体フローを取り入れねばなら
ず、これは横気体フローであることが好ましい。これ
は、導波を1次元に制限するが、基本的な放電自体は、
基本的に断面が対称形で、電極間の放電寸法は、幅より
多少小さい(W>D)。第2に、放電の不安定さが発生
する前に放電を停止できるよう、励起はパルス状にしな
ければならない。全体として、横RF励起による高度化
は、巧妙かつ厳格であるが、それほど厳格ではないの
で、重大な横気体フローを導入せずに、まったく最適で
ないfDおよびpDでの高レベル・ポンピングを許容
し、放電を安定化させて、最適でないポンピングを補償
することができる。
【0048】fDの積がVitrukその他によって予想され
た最適値とかけ離れた導波管領域の低周波数励起が、横
RF励起で得られる実現可能出力を制限できる場合は、
より最適な励起が、有利な結果を生じるはずである。実
際、R. Brownその他が論文「Large-Volume Pulsed-RF E
xcited Waveguide CO2 Lasers(大容量パルス状RF励起
導波管CO2 レーザ) 」(IEEE JQE QE 28, No.2, pp.40
4-407, 1992 年2月)で報告したように、放電パルス幅
を、放電の非安定性が形成されないほど小さくすれば、
対称形の横RF励起導波管放電領域の高い比入力ポンピ
ングは、非フロー放電チャンバ内に、良好な変換効率お
よび高い出力を生じることができる。名目3.9kW、
152MHzの励起光源を使用して、圧力114Tor
rの比入力180J/LAで、5mmの円形ボア導波管
レーザをポンピングすると、50us、3%のデューテ
ィ・サイクルのポンピングで、12%の放電効率が実現
された。この場合、放電fDは760mm−MHz、p
Dは570T−mmで、空洞のフレネル数N=1.28
であった。ほぼ平面状の光共振器を使用すると、安定し
た自由空間ガウスTEM00モードの回折による往復損失
は、10%の範囲で、つまり誘導波EHモードの範囲よ
り高く、したがって、共振器を1より多少大きいフレネ
ル数で動作させると、5mm内径のデバイスが、導波管
レーザとして動作する。完全に密封したデバイスを使用
すると、放電長の出力39.2W/mに対応する600
HzのPRFで、内径5mm、長さ37cmの利得長レ
ーザの最大平均出力が達成された。上記で検討したよう
に、Christiansenその他の報告した研究と比較すると、
Brown その他のデバイスは、より穏当であるが、なお最
適値のpDの積より高い値で動作する、極めて大きいア
パーチャを有する放電チャンバ内で、12倍以上大きい
fDの積を使用した。この状態では、高い特定入力ポン
ピングによるシース領域の不安定化特性は、はるかに厳
格でなくなり、気体フローに頼らずにRFパワーからレ
ーザ・パワーへの変換効率の改良が実現された。したが
って、Brown その他の教示によると、励起プロセスに導
入される高度化のタイプが、放電パルスの長さを制限し
て、放電の不安定性の形成を防止し、放電が所望のαタ
イプの放電から望ましくないγタイプのRF放電へと移
行しないようにするタイプである場合は、高い特定入力
で、最適なpDの積より高い値で、対称形の導波管放電
チャンバを動作させることができる。
た最適値とかけ離れた導波管領域の低周波数励起が、横
RF励起で得られる実現可能出力を制限できる場合は、
より最適な励起が、有利な結果を生じるはずである。実
際、R. Brownその他が論文「Large-Volume Pulsed-RF E
xcited Waveguide CO2 Lasers(大容量パルス状RF励起
導波管CO2 レーザ) 」(IEEE JQE QE 28, No.2, pp.40
4-407, 1992 年2月)で報告したように、放電パルス幅
を、放電の非安定性が形成されないほど小さくすれば、
対称形の横RF励起導波管放電領域の高い比入力ポンピ
ングは、非フロー放電チャンバ内に、良好な変換効率お
よび高い出力を生じることができる。名目3.9kW、
152MHzの励起光源を使用して、圧力114Tor
rの比入力180J/LAで、5mmの円形ボア導波管
レーザをポンピングすると、50us、3%のデューテ
ィ・サイクルのポンピングで、12%の放電効率が実現
された。この場合、放電fDは760mm−MHz、p
Dは570T−mmで、空洞のフレネル数N=1.28
であった。ほぼ平面状の光共振器を使用すると、安定し
た自由空間ガウスTEM00モードの回折による往復損失
は、10%の範囲で、つまり誘導波EHモードの範囲よ
り高く、したがって、共振器を1より多少大きいフレネ
ル数で動作させると、5mm内径のデバイスが、導波管
レーザとして動作する。完全に密封したデバイスを使用
すると、放電長の出力39.2W/mに対応する600
HzのPRFで、内径5mm、長さ37cmの利得長レ
ーザの最大平均出力が達成された。上記で検討したよう
に、Christiansenその他の報告した研究と比較すると、
Brown その他のデバイスは、より穏当であるが、なお最
適値のpDの積より高い値で動作する、極めて大きいア
パーチャを有する放電チャンバ内で、12倍以上大きい
fDの積を使用した。この状態では、高い特定入力ポン
ピングによるシース領域の不安定化特性は、はるかに厳
格でなくなり、気体フローに頼らずにRFパワーからレ
ーザ・パワーへの変換効率の改良が実現された。したが
って、Brown その他の教示によると、励起プロセスに導
入される高度化のタイプが、放電パルスの長さを制限し
て、放電の不安定性の形成を防止し、放電が所望のαタ
イプの放電から望ましくないγタイプのRF放電へと移
行しないようにするタイプである場合は、高い特定入力
で、最適なpDの積より高い値で、対称形の導波管放電
チャンバを動作させることができる。
【0049】A. Hongoその他の「Thin film-Coated Wav
eguide CO2 Laser( 薄膜塗布の導波管CO2 レーザ) 」
(IEEE JQE, QE-22, (9) 1986年9月, pp.1604-1608)
は、2mm離した側壁を有して3mm間隔の1対の金属
電極間に形成されたRF励起長方形導波管放電チャンバ
(D/W=1.5)は、電極にゲルマニウムを塗布する
と、電極に何も塗布しない場合より損失が少ない、とい
う理論を展開した。Hongo その他は、ND =0.53お
よびNW =0.24のフレネル数を有する長40cmの
横RF励起利得媒質を構築し、fD=150mm−MH
zおよびpD=114T−mmという放電を使用して、
塗膜しない電極では、2.5%の効率で1Wの出力を獲
得し、塗膜した電極では5%の効率で2W、つまりP0
/L=5W/mを獲得した。Hongo その他は、塗膜した
電極を使用すると、塗膜しない電極の場合より、電極間
隔を50%長くした断面の放電チャンバから、より多く
のレーザ・パワーが引き出せることを立証した。しか
し、理論的にも経験上でも、D/W=1.5のチャンバ
の出力は、D/W=1のチャンバで最適なポンピングで
実現可能な出力よりはるかに下に落ちるので、Hongo そ
の他の教示は、電極間隔が側壁の間隔より大きい導波管
・導波管CO2 レーザで、さらに少々低いfDで励起す
ることは有利ではない、ということである。
eguide CO2 Laser( 薄膜塗布の導波管CO2 レーザ) 」
(IEEE JQE, QE-22, (9) 1986年9月, pp.1604-1608)
は、2mm離した側壁を有して3mm間隔の1対の金属
電極間に形成されたRF励起長方形導波管放電チャンバ
(D/W=1.5)は、電極にゲルマニウムを塗布する
と、電極に何も塗布しない場合より損失が少ない、とい
う理論を展開した。Hongo その他は、ND =0.53お
よびNW =0.24のフレネル数を有する長40cmの
横RF励起利得媒質を構築し、fD=150mm−MH
zおよびpD=114T−mmという放電を使用して、
塗膜しない電極では、2.5%の効率で1Wの出力を獲
得し、塗膜した電極では5%の効率で2W、つまりP0
/L=5W/mを獲得した。Hongo その他は、塗膜した
電極を使用すると、塗膜しない電極の場合より、電極間
隔を50%長くした断面の放電チャンバから、より多く
のレーザ・パワーが引き出せることを立証した。しか
し、理論的にも経験上でも、D/W=1.5のチャンバ
の出力は、D/W=1のチャンバで最適なポンピングで
実現可能な出力よりはるかに下に落ちるので、Hongo そ
の他の教示は、電極間隔が側壁の間隔より大きい導波管
・導波管CO2 レーザで、さらに少々低いfDで励起す
ることは有利ではない、ということである。
【0050】Hongo その他と同様、米国特許第4,651,32
5 号のWangその他、「Radio Frequency Pumped Mid-Inf
rared Waveguide Lasers( 無線周波数でポンピングした
中赤外線導波管レーザ) 」(IEEE JQE, QE-20, (3) 1984
年3月, pp.276-283) のWangその他、および「RF-Pumpe
d Infrared Laser Using Transverse Gas Flow( 横気体
フローを使用したRFポンピング赤外線レーザ) 」(IEE
E JQE QE-20, (3) 1984 年3月, pp.284-28)のWangその
他は、幅が2mmであるが間隔が3mmの電極を有する
導波管放電チャンバへ、横RF励起を使用した。特許第
4,651,325 号のデバイス、およびWangその他の論文に記
載されたデバイスでは、ND =1.02で、横方向の気
体フローが使用されていたので、導波管の壁はなかっ
た。Wangその他では、3mm×2mmの導波管(ND =
1.02、NW =0.43)構造を通る縦方向の気体フ
ローを使用したが、CO2 のデータは報告されていな
い。したがって、実験は、3mm間隔で幅2mm、長さ
20cmの電極のWangその他による横励起を使用
し、fD=480mm−MHzおよびpD= 150T
−mmの放電を生成した。200W(167W/cm3
)のRF入力で、効率8%の利得長20cmから、1
6W(80W/m)のCO2 レーザ出力を得た。これ
は、電極間隔3mmの導波管レーザとして動作すると仮
定されたデバイスで実施し、特許第4,651,325
号の図3で描かれた出力対減結合透過の分析(Rig
rodの分析)と、非常に良好に合致した。Vitru
kその他の分析に関しては、励起すると、fDが最適値
より高くなり、pDはほぼ最適値となった。入力が16
7W/cm3 の場合、Wangその他のレーザは、V
itrukその他がW≫1の密封した非フロー水冷スラ
ブ電極デバイスで使用した75W/cm3 より著しく
高い特定入力で作動した。それと同時に、D/W<1.
5が160W/cm3 より少々大きいだけの横方向フ
ロー放電領域に167W/cm3 のRF入力が、Ha
rtおよびNewmanによって、D/W=1の完全に
密封した(2.25mm)2 の放電チャンバ内で実現
した。さらに、167W/cm3 の入力で放電の安定
性を維持するために、横方向の気体フローの助けを受け
ても、放電長のわずか80W/mの出力は、Wangそ
の他に多少類似したfDおよびpdの積を使用してHa
rtおよびNewmanが報告した、密封した(2.2
5mm)2 の対称形ボア導波管レーザで実現した84
W/mより、明らかに低い。Wangその他の教示によ
ると、横方向の気体フローを使用してレーザ媒質を対流
冷却し、これがγタイプの放電に退化しないようにする
と、D/W<1.5のデバイスでは、167W/cm3
の入力で、安定したRFα放電を維持することができ
る。Wangその他の教示では、横方向でRF励起した
D/W<1.5のCO2 レーザの横方向の気体フロー
を使用して、入力を、密封したD/W=1のレーザで達
成できる入力よりわずかに高く維持することができる。
しかし、この状態では、非対称形断面の放電からの出力
は、(2.25mm)2 の対称形のアパーチャ・デバイ
スより低く、これは、気体フローおよび好ましいpDお
よびfDの励起パラメータを使用しても、D/W<1.
5タイプの放電領域は有利ではないことを示す。
5 号のWangその他、「Radio Frequency Pumped Mid-Inf
rared Waveguide Lasers( 無線周波数でポンピングした
中赤外線導波管レーザ) 」(IEEE JQE, QE-20, (3) 1984
年3月, pp.276-283) のWangその他、および「RF-Pumpe
d Infrared Laser Using Transverse Gas Flow( 横気体
フローを使用したRFポンピング赤外線レーザ) 」(IEE
E JQE QE-20, (3) 1984 年3月, pp.284-28)のWangその
他は、幅が2mmであるが間隔が3mmの電極を有する
導波管放電チャンバへ、横RF励起を使用した。特許第
4,651,325 号のデバイス、およびWangその他の論文に記
載されたデバイスでは、ND =1.02で、横方向の気
体フローが使用されていたので、導波管の壁はなかっ
た。Wangその他では、3mm×2mmの導波管(ND =
1.02、NW =0.43)構造を通る縦方向の気体フ
ローを使用したが、CO2 のデータは報告されていな
い。したがって、実験は、3mm間隔で幅2mm、長さ
20cmの電極のWangその他による横励起を使用
し、fD=480mm−MHzおよびpD= 150T
−mmの放電を生成した。200W(167W/cm3
)のRF入力で、効率8%の利得長20cmから、1
6W(80W/m)のCO2 レーザ出力を得た。これ
は、電極間隔3mmの導波管レーザとして動作すると仮
定されたデバイスで実施し、特許第4,651,325
号の図3で描かれた出力対減結合透過の分析(Rig
rodの分析)と、非常に良好に合致した。Vitru
kその他の分析に関しては、励起すると、fDが最適値
より高くなり、pDはほぼ最適値となった。入力が16
7W/cm3 の場合、Wangその他のレーザは、V
itrukその他がW≫1の密封した非フロー水冷スラ
ブ電極デバイスで使用した75W/cm3 より著しく
高い特定入力で作動した。それと同時に、D/W<1.
5が160W/cm3 より少々大きいだけの横方向フ
ロー放電領域に167W/cm3 のRF入力が、Ha
rtおよびNewmanによって、D/W=1の完全に
密封した(2.25mm)2 の放電チャンバ内で実現
した。さらに、167W/cm3 の入力で放電の安定
性を維持するために、横方向の気体フローの助けを受け
ても、放電長のわずか80W/mの出力は、Wangそ
の他に多少類似したfDおよびpdの積を使用してHa
rtおよびNewmanが報告した、密封した(2.2
5mm)2 の対称形ボア導波管レーザで実現した84
W/mより、明らかに低い。Wangその他の教示によ
ると、横方向の気体フローを使用してレーザ媒質を対流
冷却し、これがγタイプの放電に退化しないようにする
と、D/W<1.5のデバイスでは、167W/cm3
の入力で、安定したRFα放電を維持することができ
る。Wangその他の教示では、横方向でRF励起した
D/W<1.5のCO2 レーザの横方向の気体フロー
を使用して、入力を、密封したD/W=1のレーザで達
成できる入力よりわずかに高く維持することができる。
しかし、この状態では、非対称形断面の放電からの出力
は、(2.25mm)2 の対称形のアパーチャ・デバイ
スより低く、これは、気体フローおよび好ましいpDお
よびfDの励起パラメータを使用しても、D/W<1.
5タイプの放電領域は有利ではないことを示す。
【0051】M. Machen に帰される米国特許第4,755,99
9 号は、15×45cm2 の放電表面に直角に、十分な
強度の磁界を与えれば、幅1cm、高さ15cm、長さ
45cmのチャンバ内で、15cm離れた一連の安定器
付きピン電極間に、長方形の断面のCO2 直流放電を確
立できる、と開示している。このCO2 の利得領域は、
電極間隔が150mmで、14ないし18Torrの圧
力範囲で動作し、Pi=1800Wの入力を有するもの
として開示され、したがってその様々な動作パラメータ
は、Pi /vol=2.7W/cm3 、Pi /A=2.
7W/cm2 、pD=2100ないし2700T−m
m、電極間隔の方向のフレネル数ND =1180、およ
び側壁間隔の方向はNW =5.4である。側壁間隔が大
きく、フレネル数が5.4なので、この次元では放電が
極めて多重モードになるので、導波管空洞を使用する利
点がないのは明白である。同様に、放電のエリア冷却の
利点は、大きい側壁間隔のために損なわれる。特に、パ
フォーマンスのレベルが何も開示されていない。
9 号は、15×45cm2 の放電表面に直角に、十分な
強度の磁界を与えれば、幅1cm、高さ15cm、長さ
45cmのチャンバ内で、15cm離れた一連の安定器
付きピン電極間に、長方形の断面のCO2 直流放電を確
立できる、と開示している。このCO2 の利得領域は、
電極間隔が150mmで、14ないし18Torrの圧
力範囲で動作し、Pi=1800Wの入力を有するもの
として開示され、したがってその様々な動作パラメータ
は、Pi /vol=2.7W/cm3 、Pi /A=2.
7W/cm2 、pD=2100ないし2700T−m
m、電極間隔の方向のフレネル数ND =1180、およ
び側壁間隔の方向はNW =5.4である。側壁間隔が大
きく、フレネル数が5.4なので、この次元では放電が
極めて多重モードになるので、導波管空洞を使用する利
点がないのは明白である。同様に、放電のエリア冷却の
利点は、大きい側壁間隔のために損なわれる。特に、パ
フォーマンスのレベルが何も開示されていない。
【0052】Vitrukその他の理論は、W/D<1および
f=1なので、特許第4,755,999 号のデバイスの直流励
起形状には適用されない。しかし、このデバイスの高い
フレネル数および高い動作pDの積とを考慮に入れる
と、デバイスは、全体的な放電の安定を維持するには何
らかのタイプの高度化が必要なほど大きいCO2 レーザ
・アパーチャの属性を、少なくとも幾つかは有する。た
とえば、容積および面積ベースのその入力は、Vitrukそ
の他が使用した入力よりはるかに低いが、動作pDの積
は非常に大きいので、放電の安定性を維持する手段とし
て横気体フローを使用したLovoldその他のデバイスも、
Christensen その他のデバイスも、撤回される。これに
基づき、磁界は、別個の直流放電の均質化を促進し、そ
れが合体して一連のアークに崩壊するのを防止する高度
化の手段として、明快に識別される。この点において、
Buczek、Freiberg、Chenausky およびWayne による「Ma
gnetic Stabilization of the Plasma Column in flowi
ng Molecular Lasers(流動する分子レーザのプラズマ柱
の磁気安定化) 」(Proc. IEEE on Atomic and Molecula
r Plasmas, Vol.59, No.4, 1971 年4月, pp.659-667)
で教示されているように、流動するCO2 レーザの直流
放電形状の直流放電と磁界との相互作用が、関連する。
特許第4,755,999 号で教示するように、(第4段33〜
38行)「平坦なプレートを使用し、放電に追加の高度
化を行わないレーザを生成しようとすると、そのレーザ
の出力は、冷却管中の放電で達成される出力より、長さ
1m当たりの値が実際に小さくなり」、(第12段60
〜64行)「掃引放電を達成するには、幾つかの要素が
協力しなければならないことを理解することが重要であ
る。その要素とは、放電に関連する空洞の形状、気体、
磁界、および電界である」。したがって、外部から加え
た磁界は、NW≫1かつD/W≫1の場合に、この交流
放電方式の極めて基本的な要素として、特に教示されて
いる。
f=1なので、特許第4,755,999 号のデバイスの直流励
起形状には適用されない。しかし、このデバイスの高い
フレネル数および高い動作pDの積とを考慮に入れる
と、デバイスは、全体的な放電の安定を維持するには何
らかのタイプの高度化が必要なほど大きいCO2 レーザ
・アパーチャの属性を、少なくとも幾つかは有する。た
とえば、容積および面積ベースのその入力は、Vitrukそ
の他が使用した入力よりはるかに低いが、動作pDの積
は非常に大きいので、放電の安定性を維持する手段とし
て横気体フローを使用したLovoldその他のデバイスも、
Christensen その他のデバイスも、撤回される。これに
基づき、磁界は、別個の直流放電の均質化を促進し、そ
れが合体して一連のアークに崩壊するのを防止する高度
化の手段として、明快に識別される。この点において、
Buczek、Freiberg、Chenausky およびWayne による「Ma
gnetic Stabilization of the Plasma Column in flowi
ng Molecular Lasers(流動する分子レーザのプラズマ柱
の磁気安定化) 」(Proc. IEEE on Atomic and Molecula
r Plasmas, Vol.59, No.4, 1971 年4月, pp.659-667)
で教示されているように、流動するCO2 レーザの直流
放電形状の直流放電と磁界との相互作用が、関連する。
特許第4,755,999 号で教示するように、(第4段33〜
38行)「平坦なプレートを使用し、放電に追加の高度
化を行わないレーザを生成しようとすると、そのレーザ
の出力は、冷却管中の放電で達成される出力より、長さ
1m当たりの値が実際に小さくなり」、(第12段60
〜64行)「掃引放電を達成するには、幾つかの要素が
協力しなければならないことを理解することが重要であ
る。その要素とは、放電に関連する空洞の形状、気体、
磁界、および電界である」。したがって、外部から加え
た磁界は、NW≫1かつD/W≫1の場合に、この交流
放電方式の極めて基本的な要素として、特に教示されて
いる。
【0053】電極間隔対側壁間隔が1.5:1というHo
ngo その他の教示、電極間隔対側壁間隔が1.5:1と
いうWangその他の教示、および電極間隔対側壁間隔の比
率が15:1と開示したMachenの教示が当業者に与えた
正味の影響は、電極寸法を延ばした放電方式は好ましく
なく、病理学的に極めて望ましくなくて、放電を安定さ
せるために何らかの形の厳格な高度化を取り入れない限
り、高い比出力励起の候補者となる、ということであっ
た。
ngo その他の教示、電極間隔対側壁間隔が1.5:1と
いうWangその他の教示、および電極間隔対側壁間隔の比
率が15:1と開示したMachenの教示が当業者に与えた
正味の影響は、電極寸法を延ばした放電方式は好ましく
なく、病理学的に極めて望ましくなくて、放電を安定さ
せるために何らかの形の厳格な高度化を取り入れない限
り、高い比出力励起の候補者となる、ということであっ
た。
【0054】Lauderslagerその他は、特許第4,088,965
号で、高電圧パルスの前期電離源とパルス状主放電源と
を高さ1.0cm、幅.6cm、長さ64cmのチャン
バ内で互いに直角で横向きに配置すると、427.8m
mN2+の電荷移動ガス・レーザの高圧パルス状放電動作
が実現できることを教示する。Lauderslagerその他の開
示した実施例では、主放電電極は、1.9cmの間隔
で、30kV、25ns、1.1ジュールのパルスで通
電され、前期電離電極は、0.6cmの隔で、非開示の
100kVのパルス状エネルギー源で通電する。4気圧
の動作圧力およびCO2 の1/25の動作波長で、放電
チャンバのパラメータは428nmの光に対して、pD
=57,760T−mm、ND1=330、ND2=32.
9であった。古典的な高圧で非常に大型のアパーチャ・
レーザ・システムの場合、放電を安定状態に維持するの
に必要な高度化の手段は、パルス幅が50nm以下の直
交方向の放電電源である。同等の波長および圧力スケー
ルのCO2 レーザは、電極間隔が47.5cm、側壁間
隔15cmで、121.6Tの圧力で作動し、pDの積
が2310T−mmで、電子ビームまたは他の何らかの
タイプのパルス状励起の候補者となる。光学的に、アパ
ーチャは非常に大きいので、エリア冷却および導波管共
振器には、効果も用途もない。特許第4,088,965 号で開
示されたレーザ・デバイスが、CO2 レーザとして作動
するという指摘はなく、これまでに教示もない。
号で、高電圧パルスの前期電離源とパルス状主放電源と
を高さ1.0cm、幅.6cm、長さ64cmのチャン
バ内で互いに直角で横向きに配置すると、427.8m
mN2+の電荷移動ガス・レーザの高圧パルス状放電動作
が実現できることを教示する。Lauderslagerその他の開
示した実施例では、主放電電極は、1.9cmの間隔
で、30kV、25ns、1.1ジュールのパルスで通
電され、前期電離電極は、0.6cmの隔で、非開示の
100kVのパルス状エネルギー源で通電する。4気圧
の動作圧力およびCO2 の1/25の動作波長で、放電
チャンバのパラメータは428nmの光に対して、pD
=57,760T−mm、ND1=330、ND2=32.
9であった。古典的な高圧で非常に大型のアパーチャ・
レーザ・システムの場合、放電を安定状態に維持するの
に必要な高度化の手段は、パルス幅が50nm以下の直
交方向の放電電源である。同等の波長および圧力スケー
ルのCO2 レーザは、電極間隔が47.5cm、側壁間
隔15cmで、121.6Tの圧力で作動し、pDの積
が2310T−mmで、電子ビームまたは他の何らかの
タイプのパルス状励起の候補者となる。光学的に、アパ
ーチャは非常に大きいので、エリア冷却および導波管共
振器には、効果も用途もない。特許第4,088,965 号で開
示されたレーザ・デバイスが、CO2 レーザとして作動
するという指摘はなく、これまでに教示もない。
【0055】要するに、電極の幅を広げることによって
小さい放電アパーチャのサイズを拡大するか、電極の間
隔を拡大するかの間に、何らかの同値があるかについ
て、先行技術からは有用なCO2 レーザ放電の2つの異
なったイメージが生じた。放電幅を増加させて、W/D
が大きいスラブ放電を生成することは、CO2 レーザの
有用性を改善するのに非常に効果的であることが示され
ている。フレネル数は、通常、WではNW ≫1、Dでは
ND <1なので、空洞の選択は、小さいフレネル数で高
いアパーチャの損失に対応し、大きいフレネル数のモー
ド弁別を提供する選択でなければならない。W/D≫1
のRF放電チャンバについては先行技術が存在するのに
対して、D/W≫1には先行技術が存在しないが、D/
W<1.5の場合は、このような間隔が極めて不利であ
ることが示されているのみである。したがって、D/W
≫1の放電アパーチャ体系のCO2 レーザの光共振器に
ついて、先行技術は存在しない。
小さい放電アパーチャのサイズを拡大するか、電極の間
隔を拡大するかの間に、何らかの同値があるかについ
て、先行技術からは有用なCO2 レーザ放電の2つの異
なったイメージが生じた。放電幅を増加させて、W/D
が大きいスラブ放電を生成することは、CO2 レーザの
有用性を改善するのに非常に効果的であることが示され
ている。フレネル数は、通常、WではNW ≫1、Dでは
ND <1なので、空洞の選択は、小さいフレネル数で高
いアパーチャの損失に対応し、大きいフレネル数のモー
ド弁別を提供する選択でなければならない。W/D≫1
のRF放電チャンバについては先行技術が存在するのに
対して、D/W≫1には先行技術が存在しないが、D/
W<1.5の場合は、このような間隔が極めて不利であ
ることが示されているのみである。したがって、D/W
≫1の放電アパーチャ体系のCO2 レーザの光共振器に
ついて、先行技術は存在しない。
【0056】対称形の小型放電アパーチャを、W/D≫
1となるよう電極幅の方向に拡大すると、先行技術のR
F励起を放電アパーチャに適用して、電極の幅方向でフ
レネル数NW ≫1を有する高比力放電領域を実現するこ
とができるが、これは、電極間隔の横放電領域のフレネ
ル数ND が1未満、または約1以下である場合に限る。
Wのフレネル数はNW ≫1であるので、非安定光共振器
が、より高次モードの回折損失で有意の差を有する空洞
の唯一の選択肢であり、これらの共振器のタイプは、1
以下の電極間隔のフレネル数によるアパーチャ損失に対
応するため、導波管共振器と組み合わせると、多重モー
ドではない出力を実現するのに効果的な共振器の組合せ
であることが示されている。このタイプの先行技術の励
起形状および空洞システムの利点は、間隔が狭く面積が
大きい水冷RF電極によって提供される冷却のために、
非常に安定した放電を維持しながら、非常に望ましい単
位体積当たりの高い比入力を達成できることである。W
/D>1の出力は、有利なエリア冷却のために、W/D
=1のデバイスの84W/mを上回ることが示された。
放電幅対電極間隔の縦横比W/Dが20以上の場合、同
様にエリア冷却のために、密封デバイスで1000W/
mを上回る利得長の出力が実現された。電極の間隔が狭
く、長方形の断面の形状のRF放電について、最近展開
した理論により、任意の混合気で、幅W、間隔Dおよび
縦横比W/D≫1の電極の場合、放電領域は、288m
m−MHzおよび133T−mmの範囲のfDおよびp
Dの積でポンピングするとよいことが判明した。
1となるよう電極幅の方向に拡大すると、先行技術のR
F励起を放電アパーチャに適用して、電極の幅方向でフ
レネル数NW ≫1を有する高比力放電領域を実現するこ
とができるが、これは、電極間隔の横放電領域のフレネ
ル数ND が1未満、または約1以下である場合に限る。
Wのフレネル数はNW ≫1であるので、非安定光共振器
が、より高次モードの回折損失で有意の差を有する空洞
の唯一の選択肢であり、これらの共振器のタイプは、1
以下の電極間隔のフレネル数によるアパーチャ損失に対
応するため、導波管共振器と組み合わせると、多重モー
ドではない出力を実現するのに効果的な共振器の組合せ
であることが示されている。このタイプの先行技術の励
起形状および空洞システムの利点は、間隔が狭く面積が
大きい水冷RF電極によって提供される冷却のために、
非常に安定した放電を維持しながら、非常に望ましい単
位体積当たりの高い比入力を達成できることである。W
/D>1の出力は、有利なエリア冷却のために、W/D
=1のデバイスの84W/mを上回ることが示された。
放電幅対電極間隔の縦横比W/Dが20以上の場合、同
様にエリア冷却のために、密封デバイスで1000W/
mを上回る利得長の出力が実現された。電極の間隔が狭
く、長方形の断面の形状のRF放電について、最近展開
した理論により、任意の混合気で、幅W、間隔Dおよび
縦横比W/D≫1の電極の場合、放電領域は、288m
m−MHzおよび133T−mmの範囲のfDおよびp
Dの積でポンピングするとよいことが判明した。
【0057】対称形の小型アパーチャを、電極間隔の方
向に拡大すると、CO2 レーザの横RF励起は不利であ
ることが示されている。1辺が2mmないし3mmの正
方形のRF励起導波管を、電極間隔の方向に、D/W=
1.5になるまで拡張すると、先行技術により、例外な
く、これらのD/W<1.5のRF励起導波管デバイス
からのレーザ出力が、D/W=1のRF励起導波管デバ
イスで得られるレーザ出力より著しく少なくなることが
分かっている。場合によっては、完全に密封したD/W
=1のデバイスの場合よりわずかしか大きくない比入力
で放電の安定性を維持するために、D/W<1.5のR
F励起導波管デバイスは、横方向の気体フローを必要と
した。名目D/Wが1.5未満、ND およびNW の両方
が約1以下の何らかの先行技術がある非対称形RF励起
放電アパーチャの体系では、先行技術の光共振器は、す
べてがDおよびWの両方で導波管で、したがって、D/
W≫1、およびNW <1およびND ≫1、またはNW >
1およびND >1のRF励起アパーチャに関する先行技
術はない。
向に拡大すると、CO2 レーザの横RF励起は不利であ
ることが示されている。1辺が2mmないし3mmの正
方形のRF励起導波管を、電極間隔の方向に、D/W=
1.5になるまで拡張すると、先行技術により、例外な
く、これらのD/W<1.5のRF励起導波管デバイス
からのレーザ出力が、D/W=1のRF励起導波管デバ
イスで得られるレーザ出力より著しく少なくなることが
分かっている。場合によっては、完全に密封したD/W
=1のデバイスの場合よりわずかしか大きくない比入力
で放電の安定性を維持するために、D/W<1.5のR
F励起導波管デバイスは、横方向の気体フローを必要と
した。名目D/Wが1.5未満、ND およびNW の両方
が約1以下の何らかの先行技術がある非対称形RF励起
放電アパーチャの体系では、先行技術の光共振器は、す
べてがDおよびWの両方で導波管で、したがって、D/
W≫1、およびNW <1およびND ≫1、またはNW >
1およびND >1のRF励起アパーチャに関する先行技
術はない。
【0058】直流で励起し、電極間隔と側壁間隔との割
合がD/W=15で、ND =1180およびNW >5の
フレネル数を用いた、はるかに大型の長方形アパーチャ
の場合、低速の縦方向の気体フローが存在しても、発射
電極、安定器付きピン電極のアレイおよび強力な横磁界
を、すべて放電チャンバの内部に配置しないと、安定し
たCO2 放電動作は達成できない。この先行技術は、圧
力とチャンバの縦横比と磁界強度との間には、微妙な相
互作用があることを教示する。この形状で、直流の代わ
りに交流で動作すると、追加の発射電極を加え、磁界を
維持しなければ安定した放電が得られないことが教示さ
れる。
合がD/W=15で、ND =1180およびNW >5の
フレネル数を用いた、はるかに大型の長方形アパーチャ
の場合、低速の縦方向の気体フローが存在しても、発射
電極、安定器付きピン電極のアレイおよび強力な横磁界
を、すべて放電チャンバの内部に配置しないと、安定し
たCO2 放電動作は達成できない。この先行技術は、圧
力とチャンバの縦横比と磁界強度との間には、微妙な相
互作用があることを教示する。この形状で、直流の代わ
りに交流で動作すると、追加の発射電極を加え、磁界を
維持しなければ安定した放電が得られないことが教示さ
れる。
【0059】断面が長方形のRF励起放電領域を、電極
間隔の方向にD/Wの割合が1.5になるよう拡張する
が、いずれの次元でもなお導波管である放電領域は、先
行技術から、本質的に望ましくない励起体系であるよう
である。また、直流で励起し断面が長方形のD/W=1
5の放電領域を、電極間隔の方向に大幅に拡張し、側壁
間隔がNW >5、電極間隔がND >1100のフレネル
数で動作させると、交流または直流の励起で放電の安定
性を維持するために、縦方向の気体フロー、強力な横方
向の磁界、複数の安定器付き電極、および複雑な発射電
極が必要である、と先行技術は教示する。このタイプの
放電アパーチャについて、特に記述されたり示唆された
りする先行技術の光学大系はない。
間隔の方向にD/Wの割合が1.5になるよう拡張する
が、いずれの次元でもなお導波管である放電領域は、先
行技術から、本質的に望ましくない励起体系であるよう
である。また、直流で励起し断面が長方形のD/W=1
5の放電領域を、電極間隔の方向に大幅に拡張し、側壁
間隔がNW >5、電極間隔がND >1100のフレネル
数で動作させると、交流または直流の励起で放電の安定
性を維持するために、縦方向の気体フロー、強力な横方
向の磁界、複数の安定器付き電極、および複雑な発射電
極が必要である、と先行技術は教示する。このタイプの
放電アパーチャについて、特に記述されたり示唆された
りする先行技術の光学大系はない。
【0060】先行技術に関する上記の検討は、幾つかの
異なる技術的展望から見たもので、先行技術で知られて
いる様々な要素を組み合わることによる、横RF励起C
O2レーザの分野の一般的な進歩について説明した。上
記で検討した利用可能な先行技術の横RF励起CO2 レ
ーザ技術はすべて、電極の分離距離がDで、D≪Wまた
はD≦1.5Wの導波管共振器を扱う。D≫Wで、寸法
Dの非安定共振器または自由空間ガウス共振器を有する
限られた横RF励起デバイスについて、先行技術はな
い。同様に、縦横比が高く、限られたRF放電チャンバ内
で1次元導波管共振器を使用し、放電の熱の除去および
誘導を、プラズマ・シースが存在しない寸法W、つまり
放電電界に直角な寸法で実施することについて、先行技
術はない。むしろ、先行技術の縦横比が高い横RF放電
形状は、すべて、放電電界の方向の導波管空洞を意図的
に使用している。
異なる技術的展望から見たもので、先行技術で知られて
いる様々な要素を組み合わることによる、横RF励起C
O2レーザの分野の一般的な進歩について説明した。上
記で検討した利用可能な先行技術の横RF励起CO2 レ
ーザ技術はすべて、電極の分離距離がDで、D≪Wまた
はD≦1.5Wの導波管共振器を扱う。D≫Wで、寸法
Dの非安定共振器または自由空間ガウス共振器を有する
限られた横RF励起デバイスについて、先行技術はな
い。同様に、縦横比が高く、限られたRF放電チャンバ内
で1次元導波管共振器を使用し、放電の熱の除去および
誘導を、プラズマ・シースが存在しない寸法W、つまり
放電電界に直角な寸法で実施することについて、先行技
術はない。むしろ、先行技術の縦横比が高い横RF放電
形状は、すべて、放電電界の方向の導波管空洞を意図的
に使用している。
【0061】先行技術は、密封したD/W≪1のCO2
レーザにRF励起を適用することは、有利であると教示
する。しかし、先行技術は、光共振器が寸法Dの導波管
の場合に、1.09<D/W<1.5のCO2 レーザに
RF励起を適用することは、有利ではなく、放電の安定
性を維持するために気体フローを必要とすることもあ
る、と教示する。先行技術はさらに、D/W=15で交
流または直流の励起は、放電の安定性を維持するため
に、多ピンの安定器付き電極、強力な横方向の磁界、発
射電極、および気体フローが必要なことも教示する。し
たがって、先行技術は、D/W>1.5で寸法Dが導波
管のチャンバの励起は、有利な結果をもたらさないこと
も、当業者に教示する。
レーザにRF励起を適用することは、有利であると教示
する。しかし、先行技術は、光共振器が寸法Dの導波管
の場合に、1.09<D/W<1.5のCO2 レーザに
RF励起を適用することは、有利ではなく、放電の安定
性を維持するために気体フローを必要とすることもあ
る、と教示する。先行技術はさらに、D/W=15で交
流または直流の励起は、放電の安定性を維持するため
に、多ピンの安定器付き電極、強力な横方向の磁界、発
射電極、および気体フローが必要なことも教示する。し
たがって、先行技術は、D/W>1.5で寸法Dが導波
管のチャンバの励起は、有利な結果をもたらさないこと
も、当業者に教示する。
【0062】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記および
その他の先行技術の欠点および短所を克服し、そうする
ことによって、軽量でバキューム内の部品が少なく、製
造費がかからず、放電および容積効率が比較的高く、低
い放電励起周波数を使用し、fD、pDの積の関係を分
解して、放電圧力および励起周波数を別個に選択して最
適化できるfD、pWの積の関係にし、横軸が放電電界
に平行な非安定1次元共振器を使用し、放電電界に平行
に延びて放電の熱を除去する放電側壁を使用することを
特徴とする、斬新で改良型のRFポンピングCO2 ガス
・レーザを提供する。本発明によるレーザは、RFと直
流の放電励起を組み合わせて使用する能力を有し、横方
向に輪郭を描く電極を使用して、直流増強RF励起を使
用することができ、縦方向に輪郭を描く電極を使用し
て、バキューム内またはバキューム外の誘導要素を使用
せずに縦方向の放電の均一性を促進することができ、低
容量構造で高い放電インピーダンスを生成することがで
き、RF/RFまたはRF/直流の励起を組み合わせて
使用し、アパーチャの多様性を達成することができ、セ
ラミック製側壁に触媒材料を使用して、レーザの寿命を
延長するよう対応でき、効果的な超真空強制空冷を利用
することができる。
その他の先行技術の欠点および短所を克服し、そうする
ことによって、軽量でバキューム内の部品が少なく、製
造費がかからず、放電および容積効率が比較的高く、低
い放電励起周波数を使用し、fD、pDの積の関係を分
解して、放電圧力および励起周波数を別個に選択して最
適化できるfD、pWの積の関係にし、横軸が放電電界
に平行な非安定1次元共振器を使用し、放電電界に平行
に延びて放電の熱を除去する放電側壁を使用することを
特徴とする、斬新で改良型のRFポンピングCO2 ガス
・レーザを提供する。本発明によるレーザは、RFと直
流の放電励起を組み合わせて使用する能力を有し、横方
向に輪郭を描く電極を使用して、直流増強RF励起を使
用することができ、縦方向に輪郭を描く電極を使用し
て、バキューム内またはバキューム外の誘導要素を使用
せずに縦方向の放電の均一性を促進することができ、低
容量構造で高い放電インピーダンスを生成することがで
き、RF/RFまたはRF/直流の励起を組み合わせて
使用し、アパーチャの多様性を達成することができ、セ
ラミック製側壁に触媒材料を使用して、レーザの寿命を
延長するよう対応でき、効果的な超真空強制空冷を利用
することができる。
【0063】上述した特徴以外に、本発明の電極形状
は、望ましいαタイプのRF放電から望ましくないγタ
イプの放電への遷移を本質的に抑制することが、思いが
けなく判明した。また、本発明によるレーザの動作は、
横軸が放電電界に平行な、ユニークな1次元の非安定共
振器を使用し、先行技術のスラブ・デバイスのプラズマ
・シースが、媒質の重大な不均等性を引き起こし、それ
によって出力ビームの質を大幅に劣化させて、時には5
0%ないし100%劣化させる可能性があることを、思
いがけず明らかにした。
は、望ましいαタイプのRF放電から望ましくないγタ
イプの放電への遷移を本質的に抑制することが、思いが
けなく判明した。また、本発明によるレーザの動作は、
横軸が放電電界に平行な、ユニークな1次元の非安定共
振器を使用し、先行技術のスラブ・デバイスのプラズマ
・シースが、媒質の重大な不均等性を引き起こし、それ
によって出力ビームの質を大幅に劣化させて、時には5
0%ないし100%劣化させる可能性があることを、思
いがけず明らかにした。
【0064】
【課題を解決するための手段】本発明によると、すべて
の平面の図がほぼ長方形の大面積放電は、ISM励起周
波数、特に27.12MHzまたは13.56MHzの
ISM周波数を使用して生成することができる。断面で
は、この放電形状は長い寸法と短い寸法を有し、長い方
は寸法Dで分離された電極間の寸法で、短い方の寸法
は、空洞内レーザ光の誘導と放電へのエリア冷却の提供
との両方に適し、距離Wで分離された1対のセラミック
製側壁間の寸法である。この放電チャンバでは、RF放
電電界は、長い横方向の寸法で、Wに対して直角に維持
される。1対のミラーが、長方形の断面の放電チャンバ
の両端またはその付近に配置され、チャンバは間隔を広
くあけた電極および間隔が狭い側壁によって制限され
て、このミラーはこの非対称形断面のRF励起CO2 媒
質の光共振器を構成する。このように形成されたレーザ
空洞は、それぞれ寸法Dおよび寸法Wに関連する非常に
異なった2つのフレネル数を有し、2つのフレネル数の
うち大きい方は、安定した自由空間ガウス共振器または
非安定共振器モードに比例し、2つのフレネル数のうち
小さい方は、空洞内レーザ光の誘導に比例する。したが
って、本発明の横放電寸法DおよびWに関連する空洞の
フレネル数が、以前に規定した通りの場合は、D≫Wな
のでND ≫NW であり、空洞は、放電電界に直角な短い
方の寸法Wの自由空間ガウスまたは導波およびDによっ
て規定された大きい方の断面寸法の非安定または安定な
自由空間ガウスであることが好ましい。
の平面の図がほぼ長方形の大面積放電は、ISM励起周
波数、特に27.12MHzまたは13.56MHzの
ISM周波数を使用して生成することができる。断面で
は、この放電形状は長い寸法と短い寸法を有し、長い方
は寸法Dで分離された電極間の寸法で、短い方の寸法
は、空洞内レーザ光の誘導と放電へのエリア冷却の提供
との両方に適し、距離Wで分離された1対のセラミック
製側壁間の寸法である。この放電チャンバでは、RF放
電電界は、長い横方向の寸法で、Wに対して直角に維持
される。1対のミラーが、長方形の断面の放電チャンバ
の両端またはその付近に配置され、チャンバは間隔を広
くあけた電極および間隔が狭い側壁によって制限され
て、このミラーはこの非対称形断面のRF励起CO2 媒
質の光共振器を構成する。このように形成されたレーザ
空洞は、それぞれ寸法Dおよび寸法Wに関連する非常に
異なった2つのフレネル数を有し、2つのフレネル数の
うち大きい方は、安定した自由空間ガウス共振器または
非安定共振器モードに比例し、2つのフレネル数のうち
小さい方は、空洞内レーザ光の誘導に比例する。したが
って、本発明の横放電寸法DおよびWに関連する空洞の
フレネル数が、以前に規定した通りの場合は、D≫Wな
のでND ≫NW であり、空洞は、放電電界に直角な短い
方の寸法Wの自由空間ガウスまたは導波およびDによっ
て規定された大きい方の断面寸法の非安定または安定な
自由空間ガウスであることが好ましい。
【0065】本発明は、放電の安定化のために横方向の
磁界を使用せずに、長方形の断面の放電チャンバ内で安
定したRF放電を生成する。本発明は、レーザ発振器と
して動作する場合は、側壁間隔に導波管モード、電極間
隔に不安定なモードを有する光発振器、または側壁間隔
に導波管モード、電極間隔に自由空間ガウス・モードを
有する光発振器、または側壁間隔に自由空間ガウス・モ
ード、電界間隔に不安定モードを有する光発振器も使用
する。
磁界を使用せずに、長方形の断面の放電チャンバ内で安
定したRF放電を生成する。本発明は、レーザ発振器と
して動作する場合は、側壁間隔に導波管モード、電極間
隔に不安定なモードを有する光発振器、または側壁間隔
に導波管モード、電極間隔に自由空間ガウス・モードを
有する光発振器、または側壁間隔に自由空間ガウス・モ
ード、電界間隔に不安定モードを有する光発振器も使用
する。
【0066】本発明は、電極間隔と側壁間隔との割合が
D/W>1でエリア冷却される、長方形の断面のRF放
電を生成する。
D/W>1でエリア冷却される、長方形の断面のRF放
電を生成する。
【0067】本発明は、放電電界に平行に延びる表面に
よって冷却される放電領域または壁も有する。
よって冷却される放電領域または壁も有する。
【0068】本発明は、電極間隔と側壁間隔との割合が
D/W>1で、側壁の冷却がD/Wの割合である、ほぼ
長方形断面のRF放電を生成する。
D/W>1で、側壁の冷却がD/Wの割合である、ほぼ
長方形断面のRF放電を生成する。
【0069】本発明は、さらに、プラズマ・シースが、
長い横方向の放電寸法の全長よりかなり短く延びる、長
方形断面のRF放電を生成する。
長い横方向の放電寸法の全長よりかなり短く延びる、長
方形断面のRF放電を生成する。
【0070】本発明は、D/W>1で、1次元のみで非
安定発振器モードを支持するのに適したチャンバ内で、
長方形断面のRF放電を追加的に生成する。
安定発振器モードを支持するのに適したチャンバ内で、
長方形断面のRF放電を追加的に生成する。
【0071】本発明は、Wが一定ではなく、D/W>1
のチャンバ内で、RF放電も生成することがあり、チャ
ンバは、1次元のみで非安定発振器を支持するのに適す
る。
のチャンバ内で、RF放電も生成することがあり、チャ
ンバは、1次元のみで非安定発振器を支持するのに適す
る。
【0072】本発明は、D/W>1のエリア冷却チャン
バ内で長方形断面のRF放電を生成することもでき、D
またはWで、1次元の安定した自由空間ガウス・モード
を支持するのに適している。
バ内で長方形断面のRF放電を生成することもでき、D
またはWで、1次元の安定した自由空間ガウス・モード
を支持するのに適している。
【0073】本発明は、放電電界が1次元の非安定発振
器モードの横軸に平行な、長方形断面のRF放電も生成
することができる。
器モードの横軸に平行な、長方形断面のRF放電も生成
することができる。
【0074】本発明は、放電電界が1次元の非安定発振
器の横軸に平行な、長方形断面のRF放電も生成するこ
とができる。
器の横軸に平行な、長方形断面のRF放電も生成するこ
とができる。
【0075】本発明は、一方の電極付近にしか配置され
ない縁部から出力が結合された場合に、非安定1次元発
振器とともに使用する長方形断面のRF放電も生成する
ことができる。
ない縁部から出力が結合された場合に、非安定1次元発
振器とともに使用する長方形断面のRF放電も生成する
ことができる。
【0076】本発明によるレーザは、プラズマ・シース
領域が、空洞の出力結合モードまたは空洞内モードの有
意の部分に結合されない、長方形断面の放電領域を特徴
とする。
領域が、空洞の出力結合モードまたは空洞内モードの有
意の部分に結合されない、長方形断面の放電領域を特徴
とする。
【0077】本発明によると、電極間隔の次元の非安定
発振器が使用され、プラズマ・シースが支配する領域を
通る回折結合出力の部分は、モードの縁部からの結合に
よって最小化され、電極におけるシース領域との相互作
用を最小にする。
発振器が使用され、プラズマ・シースが支配する領域を
通る回折結合出力の部分は、モードの縁部からの結合に
よって最小化され、電極におけるシース領域との相互作
用を最小にする。
【0078】本発明は、電極を分離する次元で非安定共
振器を使用し、アパーチャの中心部分からの結合によっ
てプラズマ・シースが形成される領域を通る出力に回折
結合する部分を最小にする。
振器を使用し、アパーチャの中心部分からの結合によっ
てプラズマ・シースが形成される領域を通る出力に回折
結合する部分を最小にする。
【0079】本発明は、1次元の非安定共振器から結合
した縁部または中心のアパーチャも使用して、出力ビー
ムがシース領域をほとんど通過しない長方形の放電領域
からパワーを取り出すこともできる。
した縁部または中心のアパーチャも使用して、出力ビー
ムがシース領域をほとんど通過しない長方形の放電領域
からパワーを取り出すこともできる。
【0080】本発明は、1次元で低倍率の部分透過非安
定共振器を追加で使用し、電極の次元で単一モード、お
よび側壁間隔で単一モードの、高い縦横比の出力ビーム
形状を取り出すことができる。
定共振器を追加で使用し、電極の次元で単一モード、お
よび側壁間隔で単一モードの、高い縦横比の出力ビーム
形状を取り出すことができる。
【0081】本発明は、電極間隔の方向でのみ、マイナ
スまたはプラスのブランチ非安定共振器も使用すること
ができる。
スまたはプラスのブランチ非安定共振器も使用すること
ができる。
【0082】本発明は、プラズマ・シースが非安定共振
器の横軸にほぼ直角にのみ延びる、1次元のマイナスま
たはプラスのブランチ非安定共振器も使用することがで
きる。
器の横軸にほぼ直角にのみ延びる、1次元のマイナスま
たはプラスのブランチ非安定共振器も使用することがで
きる。
【0083】本発明は、さらに、プラズマ・シースが、
ほぼ非安定共振器の縦軸の方向にのみ延びる媒質におい
て、1次元のマイナスまたはプラスのブランチ非安定共
振器を使用することができる。
ほぼ非安定共振器の縦軸の方向にのみ延びる媒質におい
て、1次元のマイナスまたはプラスのブランチ非安定共
振器を使用することができる。
【0084】本発明は、プラズマ・シースが、ほぼ非安
定共振器の横軸にのみ延びるRF励起気体媒質におい
て、マイナスまたはプラスのブランチ非安定共振器を使
用する能力も有する。
定共振器の横軸にのみ延びるRF励起気体媒質におい
て、マイナスまたはプラスのブランチ非安定共振器を使
用する能力も有する。
【0085】本発明は、電極間隔が4.5mmを上回
る、エリア冷却した長方形断面のCO2 放電を活用する
能力を有する。
る、エリア冷却した長方形断面のCO2 放電を活用する
能力を有する。
【0086】本発明は、電極間隔の方向でのみ、マイナ
スまたはプラスのブランチ非安定共振器を使用し、CO
2 プラズマ・シースの幅が6mm未満のアパーチャか
ら、単一モードの出力を生成することもできる。
スまたはプラスのブランチ非安定共振器を使用し、CO
2 プラズマ・シースの幅が6mm未満のアパーチャか
ら、単一モードの出力を生成することもできる。
【0087】本発明は、電極対側壁の間隔の割合がD/
W>1.5の放電チャンバ内で、ほぼ長方形の断面のR
F放電を生成する。
W>1.5の放電チャンバ内で、ほぼ長方形の断面のR
F放電を生成する。
【0088】本発明は、側壁の間隔が一定でなくても、
電極間隔と側壁間隔との割合が少なくともD/W>1で
あるRF放電を生成する。
電極間隔と側壁間隔との割合が少なくともD/W>1で
あるRF放電を生成する。
【0089】本発明は、別の実施例で、電極間隔と側壁
間隔との割合がD/W>1で、奇数の電極を使用する、
ほぼ長方形の断面のRF放電を生成する。
間隔との割合がD/W>1で、奇数の電極を使用する、
ほぼ長方形の断面のRF放電を生成する。
【0090】本発明は、電極間隔のフレネル数がND >
1.6である、長方形断面のRF放電を生成することが
できる。
1.6である、長方形断面のRF放電を生成することが
できる。
【0091】本発明は、4.5mmより大きい間隔をあ
けた電極間に、長方形断面のRF放電を生成することが
できる。
けた電極間に、長方形断面のRF放電を生成することが
できる。
【0092】本発明は、1つの実施例で、湾曲した電極
を使用して放電の均質性を促進する。本発明によるレー
ザの光共振器は、寸法Dで導波管ではないので、電極は
デカルト平面である必要はなく、長さLに沿って輪郭を
描けることが好ましい。これによって、電極間の間隔が
放電の各終点で大きくなり、電極終点のRF電圧が電極
の中心より大きくなるような定在波効果を補償する。
を使用して放電の均質性を促進する。本発明によるレー
ザの光共振器は、寸法Dで導波管ではないので、電極は
デカルト平面である必要はなく、長さLに沿って輪郭を
描けることが好ましい。これによって、電極間の間隔が
放電の各終点で大きくなり、電極終点のRF電圧が電極
の中心より大きくなるような定在波効果を補償する。
【0093】本発明は、幅Wの電極に、湾曲した輪郭を
使用することができる。方向Wで輪郭を湾曲させると、
放電を不安定にせずに、直流をRF放電に同時に加える
ことができる。
使用することができる。方向Wで輪郭を湾曲させると、
放電を不安定にせずに、直流をRF放電に同時に加える
ことができる。
【0094】本発明は、低価格の低周波数RF電源、特
に13.56および27.12MHzのISM帯域のR
F源の使用を活用することができる。これは、本発明で
達成することができる。というのは、空洞の導波機能
が、電極間隔ではなく、小さい側壁間隔Wによって提供
されるからである。したがって、非常に効果的な壁冷却
またはエリア冷却が活用されても、本発明により製造さ
れるレーザには、高周波励起を使用する必要がない。
に13.56および27.12MHzのISM帯域のR
F源の使用を活用することができる。これは、本発明で
達成することができる。というのは、空洞の導波機能
が、電極間隔ではなく、小さい側壁間隔Wによって提供
されるからである。したがって、非常に効果的な壁冷却
またはエリア冷却が活用されても、本発明により製造さ
れるレーザには、高周波励起を使用する必要がない。
【0095】本発明は、エリア冷却、中位から高い圧力
の動作、および低周波励起の利点を、同時に活用するこ
ともできる。これが達成できるのは、電極間隔Dが大き
くても、低い放電圧力を使用する必要がないからであ
る。したがって、圧力の影響に関係なく励起の周波数を
選択することができ、周波数の選択に適した電極間隔D
は、容易に生成される。周波数および電極間隔を選択し
たら、側壁スペーサの分離を調整して、望ましい励起状
態のために安定な放電を維持するのに必要な冷却を提供
することによって、放電圧力を別個に選択することがで
きる。たとえば、おおよそのガイドとしてfDの積を2
88mm−MHzとすると、13.56MHzの励起に
は21mmの電極間隔が適切で、1MHzの励起には、
29cmの電極間隔が適切である。1MHzの励起で
は、「RF」放電電界の反転が、500nsecごとに
生じるが、これは一般に使用するCO2 混合気内でプラ
ズマの不安定性が蓄積する時間と、それほど異ならな
い。明らかに、間隔の狭い側壁は、放電の非安定化プロ
セスに対して、非常に大きい安定化効果を及ぼすことが
できる。
の動作、および低周波励起の利点を、同時に活用するこ
ともできる。これが達成できるのは、電極間隔Dが大き
くても、低い放電圧力を使用する必要がないからであ
る。したがって、圧力の影響に関係なく励起の周波数を
選択することができ、周波数の選択に適した電極間隔D
は、容易に生成される。周波数および電極間隔を選択し
たら、側壁スペーサの分離を調整して、望ましい励起状
態のために安定な放電を維持するのに必要な冷却を提供
することによって、放電圧力を別個に選択することがで
きる。たとえば、おおよそのガイドとしてfDの積を2
88mm−MHzとすると、13.56MHzの励起に
は21mmの電極間隔が適切で、1MHzの励起には、
29cmの電極間隔が適切である。1MHzの励起で
は、「RF」放電電界の反転が、500nsecごとに
生じるが、これは一般に使用するCO2 混合気内でプラ
ズマの不安定性が蓄積する時間と、それほど異ならな
い。明らかに、間隔の狭い側壁は、放電の非安定化プロ
セスに対して、非常に大きい安定化効果を及ぼすことが
できる。
【0096】本発明は、励起周波数と導波管寸法との積
が<100mm−MHzとなる、長方形断面の放電を、
追加で活用することができる。
が<100mm−MHzとなる、長方形断面の放電を、
追加で活用することができる。
【0097】本発明は、励起周波数と電極間隔との積が
>288mm−MHzであるが、周波数が41MHz未
満であるエリア冷却の長方形断面の放電を、追加で活用
することができる。
>288mm−MHzであるが、周波数が41MHz未
満であるエリア冷却の長方形断面の放電を、追加で活用
することができる。
【0098】本発明は、1つの実施例で、異なる横方向
放電セグメントを別個に、しかし切替可能な状態で動作
させ、アパーチャを多様化させてレーザ出力を角度走査
する。
放電セグメントを別個に、しかし切替可能な状態で動作
させ、アパーチャを多様化させてレーザ出力を角度走査
する。
【0099】本発明の別の態様によると、分割放電が低
周波数励起を活用する。低周波数励起の使用は、低コス
トのレーザ・システムに特に関係がある。というのは、
高力の13.56MHzのRF電源自体の製造費が低い
からである。
周波数励起を活用する。低周波数励起の使用は、低コス
トのレーザ・システムに特に関係がある。というのは、
高力の13.56MHzのRF電源自体の製造費が低い
からである。
【0100】本発明の別の態様によると、分割放電を使
用すると、放電インピーダンスが200Ωの領域に下が
り、ここで50ΩのRF源インピーダンスと放電インピ
ーダンスとの整合は、効率的でコンパクトで広帯域のト
ロイダル変圧器回路で達成することができる。
用すると、放電インピーダンスが200Ωの領域に下が
り、ここで50ΩのRF源インピーダンスと放電インピ
ーダンスとの整合は、効率的でコンパクトで広帯域のト
ロイダル変圧器回路で達成することができる。
【0101】本発明は、分割放電動作を利用して、レー
ザ放電インピーダンスが50Ωなどの望ましい値に低下
するよう調整することもできる。
ザ放電インピーダンスが50Ωなどの望ましい値に低下
するよう調整することもできる。
【0102】本発明は、分割放電動作の活用時に、バキ
ューム外の強制対流空冷で効率的に維持できる側壁の冷
却も達成する。
ューム外の強制対流空冷で効率的に維持できる側壁の冷
却も達成する。
【0103】本発明は、プラズマ・シース容量の生成を
最小にし、それによって放電の開始と放電整合ネットワ
ークの設計とに役立つ長方形断面の放電を生成する。と
いうのは、このようなネットワークは、放電開始時に大
きい放電回路容量の変化を補償する必要がないからであ
る。
最小にし、それによって放電の開始と放電整合ネットワ
ークの設計とに役立つ長方形断面の放電を生成する。と
いうのは、このようなネットワークは、放電開始時に大
きい放電回路容量の変化を補償する必要がないからであ
る。
【0104】本発明は、電極容量が小さい構造で、エリ
ア冷却した放電を生成することも特徴とする。電極容量
が小さいと、金属電極の使用時に、大きいfDの積を得
て、高いピークRF入力でより安定した放電を提供する
のに役立つ。
ア冷却した放電を生成することも特徴とする。電極容量
が小さいと、金属電極の使用時に、大きいfDの積を得
て、高いピークRF入力でより安定した放電を提供する
のに役立つ。
【0105】本発明の第1の実施例によるレーザは、第
1、つまり非接地または「上部」RF電極、および対向
して配置された「下部」接地電極で構成される。これら
の電極は、空間的にずれて非導電性の1対のスペーサで
分離され、スペーサは、好ましい実施例ではセラミック
から成る。この第1の実施例では、スペーサは細長く、
電極上に重なる。この幾何形状の結果、2本の細長い電
極が、放電チャンバの2つの壁を構成する。上部電極
は、第3の非導電性スペーサによって接地電位から絶縁
される。この5つの構成要素、つまり2本の電極および
3枚のスペーサは、金属真空エンベロープ内に配置され
る。密封デバイスでは、放電のエリア冷却の重大な利点
を得るために、放電チャンバは、対称形の断面からかな
り離れていなければならない。つまり電極間の距離は、
前記電極と協力して放電チャンバの断面を規定する2枚
のセラミック。スペーサ間の間隙より大きくなければな
らない。また、レーザのエリア冷却を活用して、単一の
横方向安定自由空間ガウス・モードまたは非安定共振器
モードで高い出力を達成するため、電極間で規定された
放電チャンバの寸法は、10P20のCO2 レーザ光の
場合は少なくとも4mmになるか、長さ35cm以下の
チャンバでは、1より大きいフレネル数を持たなくては
ならない。
1、つまり非接地または「上部」RF電極、および対向
して配置された「下部」接地電極で構成される。これら
の電極は、空間的にずれて非導電性の1対のスペーサで
分離され、スペーサは、好ましい実施例ではセラミック
から成る。この第1の実施例では、スペーサは細長く、
電極上に重なる。この幾何形状の結果、2本の細長い電
極が、放電チャンバの2つの壁を構成する。上部電極
は、第3の非導電性スペーサによって接地電位から絶縁
される。この5つの構成要素、つまり2本の電極および
3枚のスペーサは、金属真空エンベロープ内に配置され
る。密封デバイスでは、放電のエリア冷却の重大な利点
を得るために、放電チャンバは、対称形の断面からかな
り離れていなければならない。つまり電極間の距離は、
前記電極と協力して放電チャンバの断面を規定する2枚
のセラミック。スペーサ間の間隙より大きくなければな
らない。また、レーザのエリア冷却を活用して、単一の
横方向安定自由空間ガウス・モードまたは非安定共振器
モードで高い出力を達成するため、電極間で規定された
放電チャンバの寸法は、10P20のCO2 レーザ光の
場合は少なくとも4mmになるか、長さ35cm以下の
チャンバでは、1より大きいフレネル数を持たなくては
ならない。
【0106】RF電力を第1の実施例の非接地上部電極
に加えると、電極間に均一の横RF放電が生成され、こ
れはセラミック製スペーサの間の領域に限定される。電
極は、この放電によって生成される空洞内光放射の誘導
に関する機能は有さず、非デカルト平面でよく、その幅
および長さにわたって湾曲を有するギャップを規定し
て、均一な励起放電を促進することができる。
に加えると、電極間に均一の横RF放電が生成され、こ
れはセラミック製スペーサの間の領域に限定される。電
極は、この放電によって生成される空洞内光放射の誘導
に関する機能は有さず、非デカルト平面でよく、その幅
および長さにわたって湾曲を有するギャップを規定し
て、均一な励起放電を促進することができる。
【0107】本発明によるレーザでは、限られたRF放
電が1対の広い間隔の電極間に生成されるが、ほぼ非導
電性の壁との衝突によって安定化する。広い電極間隔を
有する幾つかの先行技術のデバイスと異なり、安定して
中位から大きいアパーチャの高縦横比の放電を生成する
のに、磁界および発射電極または互いに直角なパルスの
放電源などの追加の高度化は不要である。また、表面プ
ラズマ・シートが常に見られる間隔の広い電極で放電を
衝突冷却する他の以前のデバイスと異なり、本発明で
は、電極によるエリア効果は最小にされ、冷却機能はプ
ラズマ・シースが形成されない壁によって提供される。
開示された実施例の1つの態様では、利得長32cmの
デバイスで、954T−mmという高いpDの積、およ
び455mm−MHzという高いfDの積を使用し、2
7.12MHzの励起を用いた様々なパルス及びcw放
電条件で、放電構造に誘導エレメントがなく、誘導壁の
間隔が1.8mmという狭さで、>10%の効率の放電
動作を生成することができる。同等のスラブ・デバイス
を使用すると、530Torrの圧力で250MHzの
励起を必要とし、この圧力では放電構造に沿って多数の
誘導エレメントを使用しない限り、放電動作が不安定に
なる可能性がある。開示された実施例の別の態様では、
誘導壁間の間隔がわずか1.3mm、横方向放電の縦横
比が12:1で、均一な高い比放電入力を使用し、2
7.12MHzの励起の両方の放電次元で、単一の横モ
ード動作を得た。このような動作は、先行技術の放電技
術では不可能であった。
電が1対の広い間隔の電極間に生成されるが、ほぼ非導
電性の壁との衝突によって安定化する。広い電極間隔を
有する幾つかの先行技術のデバイスと異なり、安定して
中位から大きいアパーチャの高縦横比の放電を生成する
のに、磁界および発射電極または互いに直角なパルスの
放電源などの追加の高度化は不要である。また、表面プ
ラズマ・シートが常に見られる間隔の広い電極で放電を
衝突冷却する他の以前のデバイスと異なり、本発明で
は、電極によるエリア効果は最小にされ、冷却機能はプ
ラズマ・シースが形成されない壁によって提供される。
開示された実施例の1つの態様では、利得長32cmの
デバイスで、954T−mmという高いpDの積、およ
び455mm−MHzという高いfDの積を使用し、2
7.12MHzの励起を用いた様々なパルス及びcw放
電条件で、放電構造に誘導エレメントがなく、誘導壁の
間隔が1.8mmという狭さで、>10%の効率の放電
動作を生成することができる。同等のスラブ・デバイス
を使用すると、530Torrの圧力で250MHzの
励起を必要とし、この圧力では放電構造に沿って多数の
誘導エレメントを使用しない限り、放電動作が不安定に
なる可能性がある。開示された実施例の別の態様では、
誘導壁間の間隔がわずか1.3mm、横方向放電の縦横
比が12:1で、均一な高い比放電入力を使用し、2
7.12MHzの励起の両方の放電次元で、単一の横モ
ード動作を得た。このような動作は、先行技術の放電技
術では不可能であった。
【0108】さらに、本発明は、励起周波数が比較的低
くても放電圧と電極間隔との積が高い動作体系で、安定
なαタイプのRF放電を生成できる密封放電の幾何形状
を提供する。
くても放電圧と電極間隔との積が高い動作体系で、安定
なαタイプのRF放電を生成できる密封放電の幾何形状
を提供する。
【0109】本発明は、レーザのパフォーマンスと費用
とを妥協せずに、27.12MHzのISMのRF励起
周波数を使用して、コンパクトかつ複雑でない構造か
ら、放電の単位面積当たり高い出力を生成できる幾何形
状も提供する。
とを妥協せずに、27.12MHzのISMのRF励起
周波数を使用して、コンパクトかつ複雑でない構造か
ら、放電の単位面積当たり高い出力を生成できる幾何形
状も提供する。
【0110】さらに、本発明によるレーザでは、放電の
幾何形状により、電極構造に沿った定在波の効果が本質
的に小さくなる。というのは、励起周波数が小さいから
である。さらに、電極構造の電気容量も小さくできるの
で、定在波電圧の変動の効果を克服するために必要な誘
導エレメントの数を最小にすることができ、使用する励
起周波数が十分低ければ、これを除くこともできる。
幾何形状により、電極構造に沿った定在波の効果が本質
的に小さくなる。というのは、励起周波数が小さいから
である。さらに、電極構造の電気容量も小さくできるの
で、定在波電圧の変動の効果を克服するために必要な誘
導エレメントの数を最小にすることができ、使用する励
起周波数が十分低ければ、これを除くこともできる。
【0111】本発明によるレーザの電極は、導波には必
要ないので、これらの電極はデカルト平面である必要は
ない。実際、本発明は、非デカルト平面の形状の電極に
対応できる放電形状を含み、高いピーク電力パルスでc
wのRF−DC入力で、放電の安定性を促進する。
要ないので、これらの電極はデカルト平面である必要は
ない。実際、本発明は、非デカルト平面の形状の電極に
対応できる放電形状を含み、高いピーク電力パルスでc
wのRF−DC入力で、放電の安定性を促進する。
【0112】導波管に電極を使用しないことのさらなる
利点として、本発明の放電の幾何形状は、電極の長さ
を、共振器モードを誘導する構造の長さと独立させ、放
電をエリア冷却することができる。この方法で、ミラー
・マウント自体への放電エネルギーをまったく逸らさず
に、接地した空洞の鏡を放電チャンバの端部付近に配置
することができる。
利点として、本発明の放電の幾何形状は、電極の長さ
を、共振器モードを誘導する構造の長さと独立させ、放
電をエリア冷却することができる。この方法で、ミラー
・マウント自体への放電エネルギーをまったく逸らさず
に、接地した空洞の鏡を放電チャンバの端部付近に配置
することができる。
【0113】本発明のさらなる利点は、導波管構造とし
てRF電極を使用しないことから波及したもので、この
導波側壁にプラズマ・シースが形成されないので、誘導
壁付近に放電媒質の不均質性が見られないことである。
また、細く面積が小さい電極上に形成されるプラズマ・
シースは、共振器から回折した出力とも共振器内で循環
するモードとも、干渉が最小になるよう取り扱われてき
た。したがって、本発明によるデバイスの空洞内モード
は、先行技術のデバイスにおける空洞内モードとは異な
り、光学的に非常に不均質なシース領域を通過せずにす
み、レーザ・ビームの品質の大きな改良が実現できる。
たとえば、本発明の放電の横方向の先端では、エッジ回
折結合した非安定共振器モードが、出力ビームを取り出
す放電側のシース領域を通過しないよう、容易に配置構
成することができる。導波管・非安定共振器を使用した
結果、本発明は、プラズマ・シースが形成されない表面
間で導波を実現するという、予想外の利点を提供する。
これらの予想外の利点は、部分反射する空洞光学系で導
波管・非安定共振器の空洞内循環モードを観察すること
により、本発明の実施例で判明したもので、本明細書の
教示に従って作成した導波管・非安定空洞を有するRF
励起の長方形断面放電ガス・レーザで独自に活用するこ
とができ、優れた回折特性を有するレーザ出力が得られ
る。
てRF電極を使用しないことから波及したもので、この
導波側壁にプラズマ・シースが形成されないので、誘導
壁付近に放電媒質の不均質性が見られないことである。
また、細く面積が小さい電極上に形成されるプラズマ・
シースは、共振器から回折した出力とも共振器内で循環
するモードとも、干渉が最小になるよう取り扱われてき
た。したがって、本発明によるデバイスの空洞内モード
は、先行技術のデバイスにおける空洞内モードとは異な
り、光学的に非常に不均質なシース領域を通過せずにす
み、レーザ・ビームの品質の大きな改良が実現できる。
たとえば、本発明の放電の横方向の先端では、エッジ回
折結合した非安定共振器モードが、出力ビームを取り出
す放電側のシース領域を通過しないよう、容易に配置構
成することができる。導波管・非安定共振器を使用した
結果、本発明は、プラズマ・シースが形成されない表面
間で導波を実現するという、予想外の利点を提供する。
これらの予想外の利点は、部分反射する空洞光学系で導
波管・非安定共振器の空洞内循環モードを観察すること
により、本発明の実施例で判明したもので、本明細書の
教示に従って作成した導波管・非安定空洞を有するRF
励起の長方形断面放電ガス・レーザで独自に活用するこ
とができ、優れた回折特性を有するレーザ出力が得られ
る。
【0114】本発明のさらに別の利点は、プラズマ・シ
ース放電ボリュームを最小にした間隔の狭い側壁で、強
化されたエリア冷却を活用できることである。たとえ
ば、2枚の電極の幾何形状で2mm×44mmの断面領
域を、40.68MHzで励起すると、本発明ではシー
スの厚さが合計で約1mmになり、したがってシースの
体積は、放電体積の約2%にすぎない。先行技術を用い
て、同じ2×4mmの領域を40.68MHzで励起す
ると、シースの厚さは合計で約1mmになり、したがっ
てシースの体積は、放電体積の約50%になった。
ース放電ボリュームを最小にした間隔の狭い側壁で、強
化されたエリア冷却を活用できることである。たとえ
ば、2枚の電極の幾何形状で2mm×44mmの断面領
域を、40.68MHzで励起すると、本発明ではシー
スの厚さが合計で約1mmになり、したがってシースの
体積は、放電体積の約2%にすぎない。先行技術を用い
て、同じ2×4mmの領域を40.68MHzで励起す
ると、シースの厚さは合計で約1mmになり、したがっ
てシースの体積は、放電体積の約50%になった。
【0115】本発明のさらに別の利点は、RF電極と同
じ電極で直流を供給し、所定の混合気および圧力の励起
に対して、合計の放電E/pを最適に調節できることで
ある。
じ電極で直流を供給し、所定の混合気および圧力の励起
に対して、合計の放電E/pを最適に調節できることで
ある。
【0116】本発明のさらに別の利点は、プラズマ・シ
ース領域に影響を与えずに、RF放電の陽光柱の放電E
/pを変更しただけの電極で、直流を供給できることで
ある。
ース領域に影響を与えずに、RF放電の陽光柱の放電E
/pを変更しただけの電極で、直流を供給できることで
ある。
【0117】思いがけなく、本発明の教示を用いると、
図1の実施例で示すように、比較的非効率的な伝熱特性
を有する放電側壁および非冷却電極で、γ放電を生成せ
ずに、60W/cm3 もの高い平均入力を維持すること
ができる。この有利なタイプのRF放電挙動は、以前に
は見られず、RF放電電界の方向の縦方向放電断面の高
い縦横比と、電極付近のプラズマ・シースの形状と、電
極の面積が小さいことによる2次放出の減少と、RF放
電を含む絶縁側壁によって提供される衝突の安定性と、
側壁の放出特性を最小にする放電電界の位置合わせとの
組合せによるものと考えられる。
図1の実施例で示すように、比較的非効率的な伝熱特性
を有する放電側壁および非冷却電極で、γ放電を生成せ
ずに、60W/cm3 もの高い平均入力を維持すること
ができる。この有利なタイプのRF放電挙動は、以前に
は見られず、RF放電電界の方向の縦方向放電断面の高
い縦横比と、電極付近のプラズマ・シースの形状と、電
極の面積が小さいことによる2次放出の減少と、RF放
電を含む絶縁側壁によって提供される衝突の安定性と、
側壁の放出特性を最小にする放電電界の位置合わせとの
組合せによるものと考えられる。
【0118】また、思いがけず、本明細書の教示により
生成された放電のプラズマ・シース領域は、単一モード
の非安定共振器次元の寸法におけるレーザ出力に対し
て、一部しか寄与しないことが判明し、したがって、非
安定共振器を使用したRF励起導波管CO2 レーザで、
空洞内の輝度プロフィールの「テーパ」が初めて観察さ
れた。シース領域によるこの輝度プロフィールのテーパ
は、ハイブリッド導波管および非安定共振器を使用した
先行技術のRF励起スラブ・デバイスが、回折で限定さ
れた動作から40%ないし100%外れた理由と考えら
れる。先行技術のデバイスでは、プラズマ・シース領域
と空洞内モードとが基本的かつ完全に重複したので、こ
れが観察できなかった。
生成された放電のプラズマ・シース領域は、単一モード
の非安定共振器次元の寸法におけるレーザ出力に対し
て、一部しか寄与しないことが判明し、したがって、非
安定共振器を使用したRF励起導波管CO2 レーザで、
空洞内の輝度プロフィールの「テーパ」が初めて観察さ
れた。シース領域によるこの輝度プロフィールのテーパ
は、ハイブリッド導波管および非安定共振器を使用した
先行技術のRF励起スラブ・デバイスが、回折で限定さ
れた動作から40%ないし100%外れた理由と考えら
れる。先行技術のデバイスでは、プラズマ・シース領域
と空洞内モードとが基本的かつ完全に重複したので、こ
れが観察できなかった。
【0119】
【実施例】図1を参照すると、本発明の第1実施例によ
るレーザの放電の幾何形状が、全体として10で指示さ
れた真空エンベロープ内に配置された5個の個々のセラ
ミックおよび金属の構成要素によって規定されている。
実施に際しての一変形では、真空エンベロープ10は肉
厚3/8”のアルミニウムで構成されていた。エンベロ
ープ10内に配置された構成要素は、接地していない上
部RF電極12を含む。上部電極12は、左右のセラミ
ック・スペーサ・ピース16および18によって、接地
された下部電極14から間隔があいている。開示された
実施例では、セラミック・スペーサ16および18は、
Al2 O3 で構成されていた。スペーサは、少なくとも
部分的に、電極と重複し、電極と協力して長方形の細長
い空洞を規定する。セラミック・スペーサが電極と重複
するので、空洞の反対側に配置された側面は、導電材で
構成され、細長い。図1に示したレーザの光軸に沿って
見ると、この間隔をあけた狭い電極の配置構成は、レー
ザ媒質を垂直方向の長方形領域に制限する。つまり、第
1方向で空洞を測定した電極間の距離Dは、空洞の幅W
より大きい。つまり、第1方向に対して横方向の第2方
向で測定したセラミック・スペーサ16と18との間の
間隔は、電極間隔より小さい。電極間隔Dは、少なくと
も前記横方向より大きく、しかも少なくとも自由空間ガ
ウス共振器モードを支えるのに十分な大きさである。
るレーザの放電の幾何形状が、全体として10で指示さ
れた真空エンベロープ内に配置された5個の個々のセラ
ミックおよび金属の構成要素によって規定されている。
実施に際しての一変形では、真空エンベロープ10は肉
厚3/8”のアルミニウムで構成されていた。エンベロ
ープ10内に配置された構成要素は、接地していない上
部RF電極12を含む。上部電極12は、左右のセラミ
ック・スペーサ・ピース16および18によって、接地
された下部電極14から間隔があいている。開示された
実施例では、セラミック・スペーサ16および18は、
Al2 O3 で構成されていた。スペーサは、少なくとも
部分的に、電極と重複し、電極と協力して長方形の細長
い空洞を規定する。セラミック・スペーサが電極と重複
するので、空洞の反対側に配置された側面は、導電材で
構成され、細長い。図1に示したレーザの光軸に沿って
見ると、この間隔をあけた狭い電極の配置構成は、レー
ザ媒質を垂直方向の長方形領域に制限する。つまり、第
1方向で空洞を測定した電極間の距離Dは、空洞の幅W
より大きい。つまり、第1方向に対して横方向の第2方
向で測定したセラミック・スペーサ16と18との間の
間隔は、電極間隔より小さい。電極間隔Dは、少なくと
も前記横方向より大きく、しかも少なくとも自由空間ガ
ウス共振器モードを支えるのに十分な大きさである。
【0120】横RF励起ガス・レーザの当業者にとっ
て、図1のレーザの実施例は、縦方向の光軸を有し、放
電空間はRF電界によって励起される。放電空間は、縦
方向の光軸に対して垂直の断面を有する。放電空間は、
1対の間隔をあけた非導電側壁によって規定され、前記
非導電側壁はこれに対してほぼ平行に確立された電界を
有し、前記放電空間は、平均すると短い方の寸法および
前記短い方の寸法に対して横方向の、平均すると長い方
の寸法によって特徴付けられた断面を有する。さらに、
短い方の寸法は、前記側壁の間の寸法で、前記長い方の
寸法は、非安定共振器モードの横軸またはガウス自由空
間共振器モードの横軸に平行な方向である。短い方の寸
法は、さらに、導波管モードまたは自由空間ガウス・モ
ードの横軸に平行とも言える。したがって、本明細書で
教示する長方形断面の放電空間にとって好ましい共振器
のタイプは、まず第1に長い方の断面寸法、第2に短い
方の断面寸法で呼ぶと、非安定と導波管、非安定と自由
空間ガウス、自由空間ガウスと導波管、および自由空間
ガウスと自由空間ガウスである。
て、図1のレーザの実施例は、縦方向の光軸を有し、放
電空間はRF電界によって励起される。放電空間は、縦
方向の光軸に対して垂直の断面を有する。放電空間は、
1対の間隔をあけた非導電側壁によって規定され、前記
非導電側壁はこれに対してほぼ平行に確立された電界を
有し、前記放電空間は、平均すると短い方の寸法および
前記短い方の寸法に対して横方向の、平均すると長い方
の寸法によって特徴付けられた断面を有する。さらに、
短い方の寸法は、前記側壁の間の寸法で、前記長い方の
寸法は、非安定共振器モードの横軸またはガウス自由空
間共振器モードの横軸に平行な方向である。短い方の寸
法は、さらに、導波管モードまたは自由空間ガウス・モ
ードの横軸に平行とも言える。したがって、本明細書で
教示する長方形断面の放電空間にとって好ましい共振器
のタイプは、まず第1に長い方の断面寸法、第2に短い
方の断面寸法で呼ぶと、非安定と導波管、非安定と自由
空間ガウス、自由空間ガウスと導波管、および自由空間
ガウスと自由空間ガウスである。
【0121】上部電極12は、細長い空洞内で受け、し
たがって第3セラミック・スペーサ20の第1表面で受
ける。ラジオ周波数出力は、ISM周波数であることが
望ましく、エンベロープ10のアパーチャおよび対応す
るセラミック・スペーサ20の穴を通して延びる導体2
2を介して電極12に分配される。インピーダンスの整
合は、図示されていない単一直列インダクタを使用した
上記の特許第4,751,717 号で開示された方法で達成する
ことが好ましい。RFエネルギーを非接地電極12に供
給すると、電極12および14およびスペーサ16およ
び18によって規定された長方形の放電チャンバ内の気
体にエネルギーが与えられる。スペーサ16と18との
間の距離は、CO2 レーザを制約する役割を果たし、1
次元導波管レーザが望ましい場合は、短い水平次元で空
洞内光モードを誘導することもできる。
たがって第3セラミック・スペーサ20の第1表面で受
ける。ラジオ周波数出力は、ISM周波数であることが
望ましく、エンベロープ10のアパーチャおよび対応す
るセラミック・スペーサ20の穴を通して延びる導体2
2を介して電極12に分配される。インピーダンスの整
合は、図示されていない単一直列インダクタを使用した
上記の特許第4,751,717 号で開示された方法で達成する
ことが好ましい。RFエネルギーを非接地電極12に供
給すると、電極12および14およびスペーサ16およ
び18によって規定された長方形の放電チャンバ内の気
体にエネルギーが与えられる。スペーサ16と18との
間の距離は、CO2 レーザを制約する役割を果たし、1
次元導波管レーザが望ましい場合は、短い水平次元で空
洞内光モードを誘導することもできる。
【0122】図1に図示したバキューム内構成要素は5
個とも、図示のように除去可能なカバー・ピース24を
介して、あるいは接地された下部電極14に組み込まれ
た金属のくさび構成によって、圧縮状態に保持すること
ができる。真空チャンバ10のカバー24は、たとえば
図示のViton のOリングのような適切な密封材によっ
て、チャンバに密封される。同様の密封構成が図示され
ていない端部プレートにも設けられ、端部プレートは、
長方形の放電空洞の対向する端部に隣接して配置された
空洞の鏡を保持する。
個とも、図示のように除去可能なカバー・ピース24を
介して、あるいは接地された下部電極14に組み込まれ
た金属のくさび構成によって、圧縮状態に保持すること
ができる。真空チャンバ10のカバー24は、たとえば
図示のViton のOリングのような適切な密封材によっ
て、チャンバに密封される。同様の密封構成が図示され
ていない端部プレートにも設けられ、端部プレートは、
長方形の放電空洞の対向する端部に隣接して配置された
空洞の鏡を保持する。
【0123】本発明によるレーザの動作に関する以下の
検討では、電極の長さによって決定された放電の縦方向
の範囲をLE とし、非導電性側壁スペーサ間で測定され
た放電領域の寸法をWとし、電極間で測定された放電領
域をDとし、Dの方向の放電アパーチャのフレネル数は
ND、Wの方向の放電アパーチャのフレネル数はNWで、
空洞の鏡の距離はLで、励起の周波数はfとし、動作の
圧力はpとし、放電電界は、放電電圧対電極間隔との割
合で規定され、Eとし、電界対圧力の割合をE/pとす
る。
検討では、電極の長さによって決定された放電の縦方向
の範囲をLE とし、非導電性側壁スペーサ間で測定され
た放電領域の寸法をWとし、電極間で測定された放電領
域をDとし、Dの方向の放電アパーチャのフレネル数は
ND、Wの方向の放電アパーチャのフレネル数はNWで、
空洞の鏡の距離はLで、励起の周波数はfとし、動作の
圧力はpとし、放電電界は、放電電圧対電極間隔との割
合で規定され、Eとし、電界対圧力の割合をE/pとす
る。
【0124】図1に示した本発明の実施例を実施する1
つの変形では、セラミック・スペーサ16および18の
それぞれの全長は37.7cmで、一連の実施の変形で
は、上部電極の長さは32.6cmないし35cmと変
動した。また、この実施の変形では、D=15.9mm
という電極距離は、60Tの圧力で10%を上回るCO
2 レーザ放電効率を生成して、pDの積がほぼ1000
T−mmになることが判明し、これは上述したVitrukそ
の他の研究によって教示された最適なpDの積とはほど
遠い。少なくとも180Torrの圧力までは、放電を
開始する困難は認められなかった。本発明によるレーザ
のpDの積は、先行技術の教示を用いて通常報告される
pD=133T−mmという積より何倍も大きいと認識
できる。
つの変形では、セラミック・スペーサ16および18の
それぞれの全長は37.7cmで、一連の実施の変形で
は、上部電極の長さは32.6cmないし35cmと変
動した。また、この実施の変形では、D=15.9mm
という電極距離は、60Tの圧力で10%を上回るCO
2 レーザ放電効率を生成して、pDの積がほぼ1000
T−mmになることが判明し、これは上述したVitrukそ
の他の研究によって教示された最適なpDの積とはほど
遠い。少なくとも180Torrの圧力までは、放電を
開始する困難は認められなかった。本発明によるレーザ
のpDの積は、先行技術の教示を用いて通常報告される
pD=133T−mmという積より何倍も大きいと認識
できる。
【0125】先行技術のスラブ・レーザとは正反対に、
本発明によるレーザの電極12および14は、高度に研
磨する必要がない。電極10および12は、デカルト平
面として図示されているが、半円筒形または当業者に均
等な電界の電極として知られているその他のより複雑な
形状から形成してもよい。様々なタイプの接地電極を探
求するため、図1の下部電極に、一方端のミラー・マウ
ントを取り外した後にレーザの一方端から取り外すこと
ができる、より小さい金属インサート14’を含めた。
その位置で、所望の形状を有する新しい金属インサート
を、下部電極のアセンブリ・ブロックに挿入し直すこと
ができた。図1に示した実施例の一連の実施の変形で、
一方の電極の表面を、セラミック材で部分的に覆い、別
の変形では接地電極として長さ35cmのねじを切った
6−32の真鍮棒を使用し、別の変形では、直径3mm
のセラミック棒を使用した。さらに別のプロトタイプで
は、接地電極を凹角構造に作成し、さらに別のモデルは
単純な平面の表面を使用した。RFのみの励起では、平
面状の電極は、最高のパフォーマンスを提供するようで
ある。しかし、横方向に湾曲したセラミック電極も、高
い平均比出力およびパルス出力で縦方向および横方向に
均等な放電を生成するのに、非常に有効であることが分
かっている。
本発明によるレーザの電極12および14は、高度に研
磨する必要がない。電極10および12は、デカルト平
面として図示されているが、半円筒形または当業者に均
等な電界の電極として知られているその他のより複雑な
形状から形成してもよい。様々なタイプの接地電極を探
求するため、図1の下部電極に、一方端のミラー・マウ
ントを取り外した後にレーザの一方端から取り外すこと
ができる、より小さい金属インサート14’を含めた。
その位置で、所望の形状を有する新しい金属インサート
を、下部電極のアセンブリ・ブロックに挿入し直すこと
ができた。図1に示した実施例の一連の実施の変形で、
一方の電極の表面を、セラミック材で部分的に覆い、別
の変形では接地電極として長さ35cmのねじを切った
6−32の真鍮棒を使用し、別の変形では、直径3mm
のセラミック棒を使用した。さらに別のプロトタイプで
は、接地電極を凹角構造に作成し、さらに別のモデルは
単純な平面の表面を使用した。RFのみの励起では、平
面状の電極は、最高のパフォーマンスを提供するようで
ある。しかし、横方向に湾曲したセラミック電極も、高
い平均比出力およびパルス出力で縦方向および横方向に
均等な放電を生成するのに、非常に有効であることが分
かっている。
【0126】図1に示した装置は、横RFで励起した長
方形放電ガス・レーザとして機能する。このエリア冷却
レーザは、放電が、1対の間隔をあけ、空洞内光照射の
誘導に関連する機能を持たない細長い電極によって生成
されることによって、先行技術の電極エリアCO2 レー
ザ・デバイスと区別される。また、先行技術のRF励起
デバイスと正反対に、RF放電電極間の間隔は、放電の
幅よりはるかに大きく、したがってレーザの光軸に沿っ
て見ると、放電の断面は長方形で、RF放電電気が長い
横方向の寸法Dと整列し、短い寸法Wに対して直角であ
る。
方形放電ガス・レーザとして機能する。このエリア冷却
レーザは、放電が、1対の間隔をあけ、空洞内光照射の
誘導に関連する機能を持たない細長い電極によって生成
されることによって、先行技術の電極エリアCO2 レー
ザ・デバイスと区別される。また、先行技術のRF励起
デバイスと正反対に、RF放電電極間の間隔は、放電の
幅よりはるかに大きく、したがってレーザの光軸に沿っ
て見ると、放電の断面は長方形で、RF放電電気が長い
横方向の寸法Dと整列し、短い寸法Wに対して直角であ
る。
【0127】言い換えると、本発明によるレーザの動作
で生成された大面積の放電は、長辺と短辺とを有し、長
辺は電極間で、少なくとも短辺の横寸法の1.5倍であ
る。図1に示した本発明によるCO2 レーザの場合、セ
ラミック・スペーサ16と18との間の距離W、つまり
短い方の放電空洞の光誘導側の寸法は、1ないし4mm
の範囲である。
で生成された大面積の放電は、長辺と短辺とを有し、長
辺は電極間で、少なくとも短辺の横寸法の1.5倍であ
る。図1に示した本発明によるCO2 レーザの場合、セ
ラミック・スペーサ16と18との間の距離W、つまり
短い方の放電空洞の光誘導側の寸法は、1ないし4mm
の範囲である。
【0128】図1に示した実施例では、所与の所望の空
洞長およびデザインについて、放電媒質の幅は、セラミ
ック・スペーサ16、18間の間隔を調節することによ
って制御することができる。放電の最終的な幅を選択す
る前に、上部電極自体の幅を変更せずに、単にスペーサ
16、18間の距離を変更することにより、放電の寸法
を微調整することができる。スペーサ16および18の
高さを利用して、上部および下部電極12および14の
形状と共に、垂直次元の空洞のフレネル数を設定するこ
とができる。
洞長およびデザインについて、放電媒質の幅は、セラミ
ック・スペーサ16、18間の間隔を調節することによ
って制御することができる。放電の最終的な幅を選択す
る前に、上部電極自体の幅を変更せずに、単にスペーサ
16、18間の距離を変更することにより、放電の寸法
を微調整することができる。スペーサ16および18の
高さを利用して、上部および下部電極12および14の
形状と共に、垂直次元の空洞のフレネル数を設定するこ
とができる。
【0129】本発明の横放電寸法DおよびWに関連した
空洞のフレネル数を、先行技術に関して検討した通りに
規定すると、本発明により作成したレーザは、D>Wな
のでND ≫NW を有し、空洞は安定な自由空間ガウス
か、または大きい方の断面寸法Dが不安定で、短い方の
寸法Wが導波または自由空間ガウスであることが好まし
い。本発明は、寸法Dで規定された導波管共振器を持た
ない結果、極めて不均質なシースをまったく含まない領
域を通して、非安定共振器から回折結合した出力を取り
出すことができる。したがって、本発明は、先行技術と
比較すると、レーザの出力ビームの質が大幅に改善され
る。また、先行技術のスラブ・デバイスと正反対に、自
由交換ガウス・モードを寸法Dに確立することができ、
これによってプラズマ・シース領域の空洞内モードとの
干渉を最小にし、したがって出力ビームの質を上げるこ
とができる。これは、ND が約2であるがDが25mm
もあるような長い空洞を有するデバイスで、特に有用で
ある。
空洞のフレネル数を、先行技術に関して検討した通りに
規定すると、本発明により作成したレーザは、D>Wな
のでND ≫NW を有し、空洞は安定な自由空間ガウス
か、または大きい方の断面寸法Dが不安定で、短い方の
寸法Wが導波または自由空間ガウスであることが好まし
い。本発明は、寸法Dで規定された導波管共振器を持た
ない結果、極めて不均質なシースをまったく含まない領
域を通して、非安定共振器から回折結合した出力を取り
出すことができる。したがって、本発明は、先行技術と
比較すると、レーザの出力ビームの質が大幅に改善され
る。また、先行技術のスラブ・デバイスと正反対に、自
由交換ガウス・モードを寸法Dに確立することができ、
これによってプラズマ・シース領域の空洞内モードとの
干渉を最小にし、したがって出力ビームの質を上げるこ
とができる。これは、ND が約2であるがDが25mm
もあるような長い空洞を有するデバイスで、特に有用で
ある。
【0130】寸法Dの導波管の光共振器が望ましい場合
で、レーザ種がCO2 と仮定すると、スペーサ16、1
8間の距離は、1ないし3mmの範囲であることが好ま
しい。CO2 導波管レーザの当業者に周知のように、1
次元の導波共振器構造が望ましい場合、放電に隣接する
セラミック表面は、当業者に評価され、よく知られた公
差まで、ダイアモンドを装填した研磨ホィールで平坦に
研磨しなければならない。セラミック・スペーサ16、
18および空洞端部のミラーの端部間の距離は、導波管
CO2 レーザの当業者に周知の理論および実践による寸
法Wのケース1、2または3タイプの導波管空洞に合わ
せて同様に設定される。
で、レーザ種がCO2 と仮定すると、スペーサ16、1
8間の距離は、1ないし3mmの範囲であることが好ま
しい。CO2 導波管レーザの当業者に周知のように、1
次元の導波共振器構造が望ましい場合、放電に隣接する
セラミック表面は、当業者に評価され、よく知られた公
差まで、ダイアモンドを装填した研磨ホィールで平坦に
研磨しなければならない。セラミック・スペーサ16、
18および空洞端部のミラーの端部間の距離は、導波管
CO2 レーザの当業者に周知の理論および実践による寸
法Wのケース1、2または3タイプの導波管空洞に合わ
せて同様に設定される。
【0131】図1の実施例に対する実践の一連の変形に
おいて、10Mの凹面(cc)高反射率ミラーと平面の
95%反射ZnSe出力カプラとは、38.5cm離
れ、それぞれ、電極間隔15.9mmおよび側壁間隔
2.3mmで電極長32.55cmの放電チャンバの、
対向する端部に配置された。10P29の光の場合、こ
のようにして生成したフレネル数ND およびNW は、そ
れぞれ15.48および.33であった。予想通りに、
ND が1よりはるかに大きく、共振器が寸法Dの安定な
自由空間ガウス共振器なので、寸法Dに、より高次元モ
ードの出力が得られた。同様に予想通り、出力は寸法W
では単一モードであることが観察され、したがって
(a)NW が1よりはるかに小さく、(b)空洞の鏡が
ほぼ平面で、(c)TEM00の損失が、寸法Wで自由空
間ガウス・モードを支持するには高すぎるので、有意な
空洞内導波が発生していた。
おいて、10Mの凹面(cc)高反射率ミラーと平面の
95%反射ZnSe出力カプラとは、38.5cm離
れ、それぞれ、電極間隔15.9mmおよび側壁間隔
2.3mmで電極長32.55cmの放電チャンバの、
対向する端部に配置された。10P29の光の場合、こ
のようにして生成したフレネル数ND およびNW は、そ
れぞれ15.48および.33であった。予想通りに、
ND が1よりはるかに大きく、共振器が寸法Dの安定な
自由空間ガウス共振器なので、寸法Dに、より高次元モ
ードの出力が得られた。同様に予想通り、出力は寸法W
では単一モードであることが観察され、したがって
(a)NW が1よりはるかに小さく、(b)空洞の鏡が
ほぼ平面で、(c)TEM00の損失が、寸法Wで自由空
間ガウス・モードを支持するには高すぎるので、有意な
空洞内導波が発生していた。
【0132】図1の実施例に対する実践の別の変形にお
いて、1対の球面曲率の鏡を使用した低倍率で部分的に
透過するマイナスのブランチ非安定共振器を使用し、
2.5×15.9mmの放電アパーチャ全体と結合し
て、ここから単一で均一強度の出力ビームを取り出し
た。図1の実施例の実践に対するさらに別の変形では、
米国特許第3,969,685 号で教示されたような軸回折結合
を使用した503mmの凹面鏡と497mmの球面曲率
の凹面鏡で形成された低倍率でマイナスのブランチ非安
定共振器を使用し、D=15.9mmおよびW=2.3
5mmに対応するフレネル数ND =11.9およびNW
=0.26を使用した対称形出力ビームに、単一モード
出力を生成した。この実践の変形では、側壁のスペーサ
は長さが37.7mm、出力アパーチャの直径が2.2
8mmで、アパーチャを曲率半径の小さい方の鏡の中心
に配置した。この実施例の非安定共振器の長さから、球
形の共振器の鏡は、セラミックの側壁スペーサの各端か
ら6cmに配置すると便利であったことが分かる。
いて、1対の球面曲率の鏡を使用した低倍率で部分的に
透過するマイナスのブランチ非安定共振器を使用し、
2.5×15.9mmの放電アパーチャ全体と結合し
て、ここから単一で均一強度の出力ビームを取り出し
た。図1の実施例の実践に対するさらに別の変形では、
米国特許第3,969,685 号で教示されたような軸回折結合
を使用した503mmの凹面鏡と497mmの球面曲率
の凹面鏡で形成された低倍率でマイナスのブランチ非安
定共振器を使用し、D=15.9mmおよびW=2.3
5mmに対応するフレネル数ND =11.9およびNW
=0.26を使用した対称形出力ビームに、単一モード
出力を生成した。この実践の変形では、側壁のスペーサ
は長さが37.7mm、出力アパーチャの直径が2.2
8mmで、アパーチャを曲率半径の小さい方の鏡の中心
に配置した。この実施例の非安定共振器の長さから、球
形の共振器の鏡は、セラミックの側壁スペーサの各端か
ら6cmに配置すると便利であったことが分かる。
【0133】RF励起CO2 レーザの当業者には、RF
励起、長方形断面のスラブの利得媒質は、空の空間領域
に他ならないことがよく理解される。たとえば、励起周
波数と電極の間隔とは完全に独立せず、形成されるプラ
ズマ・シース領域は、電極付近の放電動力学の複雑な性
質の現れであり、プラズマ・シース領域は、媒質の利
得、媒質の温度および媒質の均質性が最大勾配を呈する
領域であることがよく知られ、理解される。また、先行
技術の好ましい導波管・非安定スラブの光共振器からの
出力のうちの相当な割合、おそらく25%〜50%が、
シース領域の100%を通過する。これが、このような
先行技術のスラブ・デバイスからのビームの発散が、回
折で制限された動作から40%ないし100%外れるこ
との理由であろう。したがって、先行技術のスラブ・レ
ーザの非安定共振器はいずれも、空洞間モードか回折結
合した出力を、光学的に不均質で望ましくないシース領
域の100%には結合しないよう配置できるよう工夫で
きなかったことが、同業者には理解される。
励起、長方形断面のスラブの利得媒質は、空の空間領域
に他ならないことがよく理解される。たとえば、励起周
波数と電極の間隔とは完全に独立せず、形成されるプラ
ズマ・シース領域は、電極付近の放電動力学の複雑な性
質の現れであり、プラズマ・シース領域は、媒質の利
得、媒質の温度および媒質の均質性が最大勾配を呈する
領域であることがよく知られ、理解される。また、先行
技術の好ましい導波管・非安定スラブの光共振器からの
出力のうちの相当な割合、おそらく25%〜50%が、
シース領域の100%を通過する。これが、このような
先行技術のスラブ・デバイスからのビームの発散が、回
折で制限された動作から40%ないし100%外れるこ
との理由であろう。したがって、先行技術のスラブ・レ
ーザの非安定共振器はいずれも、空洞間モードか回折結
合した出力を、光学的に不均質で望ましくないシース領
域の100%には結合しないよう配置できるよう工夫で
きなかったことが、同業者には理解される。
【0134】たとえば、片面の倍率26%(M=1.2
6)のマイナス・ブランチ非安定共振器を使用した先行
技術のスラブ・レーザを、2mm間隔の幅44mm、長
さ6cmの1対の電極で規定された82MHzのRF励
起スラブ放電領域の空洞とするよう選択すると、特許第
5,123,028 号によって例証された先行技術で述べたよう
に、エッジ結合出力ビームは、2mm×9.08mmの
形状を有する。上記で参照したVitrukその他が定式化し
たスラブ放電の理論によると、プラズマ・シースの厚さ
はfDS =42mm−MHzで与えられ、82MHzの
RF励起では、プラズマ・シースの厚さは合計で2mm
の電極間隔の約0.5mmを占めるか、寸法2mmの空
洞モードの25%を占めることが指示される。したがっ
て、2mm×34.92mmの空洞間循環モードの25
%、および2mm×9.08mmの出力ビームの25%
も、電極間隔によって規定された導波管寸法のシース領
域の100%を通過する。160〜280mm−MHz
の範囲でfDの積でポンピングされたスラブCO2 レー
ザは、約12〜15%の最適化効率を有し、回折限界を
超過する50%ないし100%の範囲の出力ビームの質
を有する。
6)のマイナス・ブランチ非安定共振器を使用した先行
技術のスラブ・レーザを、2mm間隔の幅44mm、長
さ6cmの1対の電極で規定された82MHzのRF励
起スラブ放電領域の空洞とするよう選択すると、特許第
5,123,028 号によって例証された先行技術で述べたよう
に、エッジ結合出力ビームは、2mm×9.08mmの
形状を有する。上記で参照したVitrukその他が定式化し
たスラブ放電の理論によると、プラズマ・シースの厚さ
はfDS =42mm−MHzで与えられ、82MHzの
RF励起では、プラズマ・シースの厚さは合計で2mm
の電極間隔の約0.5mmを占めるか、寸法2mmの空
洞モードの25%を占めることが指示される。したがっ
て、2mm×34.92mmの空洞間循環モードの25
%、および2mm×9.08mmの出力ビームの25%
も、電極間隔によって規定された導波管寸法のシース領
域の100%を通過する。160〜280mm−MHz
の範囲でfDの積でポンピングされたスラブCO2 レー
ザは、約12〜15%の最適化効率を有し、回折限界を
超過する50%ないし100%の範囲の出力ビームの質
を有する。
【0135】比較のために、図1の実施例の実践の変形
では、27.12MHzの励起で、シースの厚さは約
1.4mmであった。したがって、電極間隔を44mm
にし、本明細書の教示により2mm×44mm×62c
mの放電領域にエネルギーを与えると、この領域は、2
7.12MHzの励起で約1.4mmのプラズマ・シー
スの厚さを有すると予想できた。倍率26%のマイナス
・ブランチ非安定共振器を、このタイプの放電領域に適
用すると、27MHzの励起でも、エッジ結合回折出力
ビームの8%、つまり1.4mm/9.08mmの約半
分しか、プラズマ・シース部分を通過できない。したが
って、本発明による長方形断面の放電レーザでは、2m
m×9.08mmの出力ビームの8%しか、一方の電極
付近のシース領域の100%を通過しない。したがっ
て、本発明により生成した長方形断面の放電は、先行技
術のスラブ放電の利得媒質の、最も望ましくなく、最も
不均質な領域を通過する出力ビームの部分を、3分の1
以上減少させる。プラズマ・シース領域は、CO2 レー
ザ光を吸収し、この領域を実質的に調整し、防止するい
かなる手段も、非生産的にポンピングされた放電体積の
一部を減少させ、テーパが大きい空間内モードのプロフ
ィールではなく、テーパが小さいプロフィールを促進す
る。
では、27.12MHzの励起で、シースの厚さは約
1.4mmであった。したがって、電極間隔を44mm
にし、本明細書の教示により2mm×44mm×62c
mの放電領域にエネルギーを与えると、この領域は、2
7.12MHzの励起で約1.4mmのプラズマ・シー
スの厚さを有すると予想できた。倍率26%のマイナス
・ブランチ非安定共振器を、このタイプの放電領域に適
用すると、27MHzの励起でも、エッジ結合回折出力
ビームの8%、つまり1.4mm/9.08mmの約半
分しか、プラズマ・シース部分を通過できない。したが
って、本発明による長方形断面の放電レーザでは、2m
m×9.08mmの出力ビームの8%しか、一方の電極
付近のシース領域の100%を通過しない。したがっ
て、本発明により生成した長方形断面の放電は、先行技
術のスラブ放電の利得媒質の、最も望ましくなく、最も
不均質な領域を通過する出力ビームの部分を、3分の1
以上減少させる。プラズマ・シース領域は、CO2 レー
ザ光を吸収し、この領域を実質的に調整し、防止するい
かなる手段も、非生産的にポンピングされた放電体積の
一部を減少させ、テーパが大きい空間内モードのプロフ
ィールではなく、テーパが小さいプロフィールを促進す
る。
【0136】理解されるように、本発明では、共振器の
倍率によって、また一方の電極付近のプラズマ・シース
の厚さによって、レーザの出力を取り出す鏡(つまり曲
率が最も小さい鏡)を寸法Wより小さくすると、片側導
波管非安定共振器の出力ビームのいかなる部分も、いか
なるシース領域も通過する必要がない。したがって、シ
ース領域を通過させることによって、出力に増幅を加え
ることがない限り、および媒質の光学的均質性の観点か
ら、シース領域が望ましくない限り、本発明による長方
形断面の放電レーザには、先行技術のスラブ・デバイス
と比較して、出力ビームの質に改善が見られる。
倍率によって、また一方の電極付近のプラズマ・シース
の厚さによって、レーザの出力を取り出す鏡(つまり曲
率が最も小さい鏡)を寸法Wより小さくすると、片側導
波管非安定共振器の出力ビームのいかなる部分も、いか
なるシース領域も通過する必要がない。したがって、シ
ース領域を通過させることによって、出力に増幅を加え
ることがない限り、および媒質の光学的均質性の観点か
ら、シース領域が望ましくない限り、本発明による長方
形断面の放電レーザには、先行技術のスラブ・デバイス
と比較して、出力ビームの質に改善が見られる。
【0137】R. Freiberg 、P. ChenauskyおよびC. Buc
zek が論文「An Experiment Studyof Confocal CO2 Res
onators( 共焦CO2 共振器の実験研究) 」(IEEE JQE V
ol.QE8, No.12, pp.882-892, 1972年12月) で報告し
た、フレネル数が大きい対称形の直流励起アパーチャに
わたって均一な利得プロフィールを有する非安定共振器
を有するCO2 レーザの、ほぼ回折限界の動作の測定値
と比較して、1次元非安定共振器を使用する先行技術の
スラブ・レーザの電極・シース領域の利得媒質の非均質
な性質は、懸念の種となる。たとえば、特許第5,123,02
8 号で開示されたタイプの先行技術のスラブ非安定共振
器で実施した実験は、1次元のマイナス・ブランチ非安
定共振器の出力が、回折限界より少なくとも40%少な
いことを示し、同様に上記で参照したJackson は、その
出力が回折限界から40ないし75%外れることを示
す。いずれの場合も、プレクシグラスの燃焼パターンの
1/e2 ポイントを用いて、回折限界動作からのスラブ
・レーザ出力の相対的違いを測定した。これに対して、
Freibergその他は、出力輝度プロフィールで30個の別
個のデータ・ポイントを使用して、非安定共振器の回折
特性を調査した。対称形のアパーチャの非安定共振器に
関する、共振器の循環光束の輝度プロフィールなどの詳
細な測定値は、半径方向にテーパリングした空洞内輝度
プロフィールが、均質または非半径方向にテーパリング
した空洞内輝度プロフィールと比較して、出力ビームの
質に望ましくない影響を及ぼし得ることを明らかにし
た。これに関して、以前に参照したColleyその他は、基
本的に、ピンホールにわたって出力を走査し、感度の高
いIR検出器で結果を観察することによって、1kWの
スラブCO2 レーザの出力プロフィールを、さらに詳細
に測定した。このスキャナ測定によって、導波管モード
の横軸およびプラス・ブランチ非安定共振器の横軸にお
けるレーザ種留翼のプロフィールに対応するオシロスコ
ープのトレースが生成された。出力プロフィールの、こ
のより詳細な測定値は、導波管寸法の回折限界からの違
いは30%で、非安定共振器寸法の回折限界からの違い
は少なくとも100%であることを明らかにした。RF
プラズマ・シースのCO2 利得は、陽光柱の場合と異な
り、電極付近に空間的な利得プロフィールが生成される
ことが明白である。最低でも、プラズマ・シース、循環
光束、回折出力ビーム、およびモード形状が先行技術の
RF励起スラブ・レーザと重複する程度が、理想的な自
由空間からのスラブ媒質の違いを強調する。
zek が論文「An Experiment Studyof Confocal CO2 Res
onators( 共焦CO2 共振器の実験研究) 」(IEEE JQE V
ol.QE8, No.12, pp.882-892, 1972年12月) で報告し
た、フレネル数が大きい対称形の直流励起アパーチャに
わたって均一な利得プロフィールを有する非安定共振器
を有するCO2 レーザの、ほぼ回折限界の動作の測定値
と比較して、1次元非安定共振器を使用する先行技術の
スラブ・レーザの電極・シース領域の利得媒質の非均質
な性質は、懸念の種となる。たとえば、特許第5,123,02
8 号で開示されたタイプの先行技術のスラブ非安定共振
器で実施した実験は、1次元のマイナス・ブランチ非安
定共振器の出力が、回折限界より少なくとも40%少な
いことを示し、同様に上記で参照したJackson は、その
出力が回折限界から40ないし75%外れることを示
す。いずれの場合も、プレクシグラスの燃焼パターンの
1/e2 ポイントを用いて、回折限界動作からのスラブ
・レーザ出力の相対的違いを測定した。これに対して、
Freibergその他は、出力輝度プロフィールで30個の別
個のデータ・ポイントを使用して、非安定共振器の回折
特性を調査した。対称形のアパーチャの非安定共振器に
関する、共振器の循環光束の輝度プロフィールなどの詳
細な測定値は、半径方向にテーパリングした空洞内輝度
プロフィールが、均質または非半径方向にテーパリング
した空洞内輝度プロフィールと比較して、出力ビームの
質に望ましくない影響を及ぼし得ることを明らかにし
た。これに関して、以前に参照したColleyその他は、基
本的に、ピンホールにわたって出力を走査し、感度の高
いIR検出器で結果を観察することによって、1kWの
スラブCO2 レーザの出力プロフィールを、さらに詳細
に測定した。このスキャナ測定によって、導波管モード
の横軸およびプラス・ブランチ非安定共振器の横軸にお
けるレーザ種留翼のプロフィールに対応するオシロスコ
ープのトレースが生成された。出力プロフィールの、こ
のより詳細な測定値は、導波管寸法の回折限界からの違
いは30%で、非安定共振器寸法の回折限界からの違い
は少なくとも100%であることを明らかにした。RF
プラズマ・シースのCO2 利得は、陽光柱の場合と異な
り、電極付近に空間的な利得プロフィールが生成される
ことが明白である。最低でも、プラズマ・シース、循環
光束、回折出力ビーム、およびモード形状が先行技術の
RF励起スラブ・レーザと重複する程度が、理想的な自
由空間からのスラブ媒質の違いを強調する。
【0138】図1の実施例を用いて、本発明により作成
したレーザの空洞内循環モードの輝度プロフィールの基
本的性質を、部分的に透過し倍率が非常に低いマイナス
・ブランチ非安定共振器を使用して調査した。調査した
放電領域は、電極間隔をD=15.9mmにし、27.
12MHzのRF源で励起した。3つの異なるWの値、
つまりW=2.57、1.8および1.35mmを用
い、Dは固定した。共振器は、503mmのCCの球面
全反射鏡と、497mmのCCの球面で95%反射する
ZnSeの鏡とを、互いから500mm間隔をあけて構
成した。したがって、鏡の曲率公差内で、空洞はM=
1.02の共焦で、上記のFreibergがおおむね検討した
ような、マイナス・ブランチ非安定共振器であった。W
のそれぞれのケースで、497mmのCCのZnSe出
力鏡の真ん前1cmで出力を観察し、その背面は、1
0.6μmの使用のために、ARで被覆した497mm
のCX表面であった。球面の鏡は、左右のセラミック・
スペーサ部片の端部から、6cmの間隔をあけた。すべ
てのWのケースで、UV照明した赤外線観察プレート上
で見られるモードの強度は、出力モード形状全体で均等
であった。15.9mmの電極間隔に近いモードの両縁
で、出力輝度は電極間の中間で見られるのと同じ輝度で
あるのが観察された。すべてのWのケースで、Wのモー
ドのサイズは、側壁間隔と対応することが観察され、W
にわたって均一であることが観察された。しかし、モー
ドは予想通り、Dで極めて均一であることが観察された
が、モード・パターンは、電極間隔より約1.4mm短
いことが、一貫して観察された。これは予想外であっ
た。ほぼ平面な光学系で形成された単一モード導波管の
多重モード安定自由空間ガウス共振器で、寸法Dのモー
ド・サイズの同じ違いが観察され、あらゆるケースで、
ミラー・マウントでの、あるいはミラー・マウントによ
るアパーチャは起きなかった。これらの結果に基づき、
図1の実施例に対する実施を変形したその後の様々な空
洞の分析で、電極表面またはその付近でレーザの出力が
ないのは、電極寸法に小さいモード・サイズを有する安
定な空洞を使用したせいではないことが指示された。し
たがって、電極間隔の寸法で測定した出力ビームの形状
に基づき、プラズマ・シース領域は、レーザの出力の一
部にしか寄与しないことが観察される。この観察結果お
よび結論は、非常に重要である。というのは、これまで
シース領域が部分的に吸収することが知られていなかっ
たからである。また、プラズマ・シース領域は吸収性な
ので、D/W≫1の放電幾何形状を生成して長い陽光柱
を生成し、それによってシース領域内で失われる全放電
出力の相対的な量を減少させ、全体的な放電効率および
ビームの質を改善することは明瞭である。
したレーザの空洞内循環モードの輝度プロフィールの基
本的性質を、部分的に透過し倍率が非常に低いマイナス
・ブランチ非安定共振器を使用して調査した。調査した
放電領域は、電極間隔をD=15.9mmにし、27.
12MHzのRF源で励起した。3つの異なるWの値、
つまりW=2.57、1.8および1.35mmを用
い、Dは固定した。共振器は、503mmのCCの球面
全反射鏡と、497mmのCCの球面で95%反射する
ZnSeの鏡とを、互いから500mm間隔をあけて構
成した。したがって、鏡の曲率公差内で、空洞はM=
1.02の共焦で、上記のFreibergがおおむね検討した
ような、マイナス・ブランチ非安定共振器であった。W
のそれぞれのケースで、497mmのCCのZnSe出
力鏡の真ん前1cmで出力を観察し、その背面は、1
0.6μmの使用のために、ARで被覆した497mm
のCX表面であった。球面の鏡は、左右のセラミック・
スペーサ部片の端部から、6cmの間隔をあけた。すべ
てのWのケースで、UV照明した赤外線観察プレート上
で見られるモードの強度は、出力モード形状全体で均等
であった。15.9mmの電極間隔に近いモードの両縁
で、出力輝度は電極間の中間で見られるのと同じ輝度で
あるのが観察された。すべてのWのケースで、Wのモー
ドのサイズは、側壁間隔と対応することが観察され、W
にわたって均一であることが観察された。しかし、モー
ドは予想通り、Dで極めて均一であることが観察された
が、モード・パターンは、電極間隔より約1.4mm短
いことが、一貫して観察された。これは予想外であっ
た。ほぼ平面な光学系で形成された単一モード導波管の
多重モード安定自由空間ガウス共振器で、寸法Dのモー
ド・サイズの同じ違いが観察され、あらゆるケースで、
ミラー・マウントでの、あるいはミラー・マウントによ
るアパーチャは起きなかった。これらの結果に基づき、
図1の実施例に対する実施を変形したその後の様々な空
洞の分析で、電極表面またはその付近でレーザの出力が
ないのは、電極寸法に小さいモード・サイズを有する安
定な空洞を使用したせいではないことが指示された。し
たがって、電極間隔の寸法で測定した出力ビームの形状
に基づき、プラズマ・シース領域は、レーザの出力の一
部にしか寄与しないことが観察される。この観察結果お
よび結論は、非常に重要である。というのは、これまで
シース領域が部分的に吸収することが知られていなかっ
たからである。また、プラズマ・シース領域は吸収性な
ので、D/W≫1の放電幾何形状を生成して長い陽光柱
を生成し、それによってシース領域内で失われる全放電
出力の相対的な量を減少させ、全体的な放電効率および
ビームの質を改善することは明瞭である。
【0139】先行技術のRFスラブ・レーザの導波管・
非安定共振器の空洞内モードは、プラズマ・シースの存
在によって光の擾乱が生じる表面、または擾乱に隣接す
る表面と直接接触する。したがって、先行技術のスラブ
・デバイスでは、導波寸法からシースを削除またはその
他のやり方で除去する方法がないことは明白である。同
様に、先行技術の幾何形状で、シース領域をWの縁部ま
たは先端部付近に集中させる方法もない。プラズマ・シ
ースが先行技術のレーザのモード特性に影響する程度を
正確に測定するには、プラズマ・シースに平行および直
角に伝播する導波管非安定モードの空洞内輝度プロフィ
ールを比較する必要がある。この作業を遂行できる単純
な分析操作はなく、所望のタイプの比較伝播をモデル化
できる光軸を、単純に実験的に再配置または回転するこ
とはできないので、先行技術のデバイスでは、所望の比
較ができなかった。本発明により作成したデバイスで、
部分的に透過する導波管非安定共振器を使用すること
が、これまでに予想しなかったRF励起放電の特徴を実
現できることを明らかにする唯一の方法のようである。
というのは、唯一、D/W≫1の幾何形状のみで、非安
定共振器の横軸が、電極表面に対して優先的に直角にな
り、先行技術のW/D≫1のスラブ・デバイスのように
電極表面に対して平行とはならないからである。この配
置構成を、非安定共振器の特性と組み合わせて、横軸の
サイズが光学系の制限アパーチャに延びるモードを生成
すると、電極付近のシース領域の光学的特性を、空洞内
光束で厳密に調べることができる。そのプラズマ・シー
スは、光学的に良性どころではないが、先行技術のスラ
ブ・デバイスでは検討または観察されなかった。という
のは、循環モードは、シースが存在する表面に接触し、
それによって電極間隔に指定されるモード・サイズを放
出しなければならないからである。プラズマ・シースが
良性でないという証拠は、これまでなかったので、この
領域が、上部プラズマ・シースと下部プラズマ・シース
が合体する箇所で、4枚壁の冷却から2枚壁の冷却へと
まだ移行中の箇所でもあるのに、先行技術のスラブ領域
では、先端付近のエッジ結合非安定共振器からの出力を
取り出すことは回避されなかった。
非安定共振器の空洞内モードは、プラズマ・シースの存
在によって光の擾乱が生じる表面、または擾乱に隣接す
る表面と直接接触する。したがって、先行技術のスラブ
・デバイスでは、導波寸法からシースを削除またはその
他のやり方で除去する方法がないことは明白である。同
様に、先行技術の幾何形状で、シース領域をWの縁部ま
たは先端部付近に集中させる方法もない。プラズマ・シ
ースが先行技術のレーザのモード特性に影響する程度を
正確に測定するには、プラズマ・シースに平行および直
角に伝播する導波管非安定モードの空洞内輝度プロフィ
ールを比較する必要がある。この作業を遂行できる単純
な分析操作はなく、所望のタイプの比較伝播をモデル化
できる光軸を、単純に実験的に再配置または回転するこ
とはできないので、先行技術のデバイスでは、所望の比
較ができなかった。本発明により作成したデバイスで、
部分的に透過する導波管非安定共振器を使用すること
が、これまでに予想しなかったRF励起放電の特徴を実
現できることを明らかにする唯一の方法のようである。
というのは、唯一、D/W≫1の幾何形状のみで、非安
定共振器の横軸が、電極表面に対して優先的に直角にな
り、先行技術のW/D≫1のスラブ・デバイスのように
電極表面に対して平行とはならないからである。この配
置構成を、非安定共振器の特性と組み合わせて、横軸の
サイズが光学系の制限アパーチャに延びるモードを生成
すると、電極付近のシース領域の光学的特性を、空洞内
光束で厳密に調べることができる。そのプラズマ・シー
スは、光学的に良性どころではないが、先行技術のスラ
ブ・デバイスでは検討または観察されなかった。という
のは、循環モードは、シースが存在する表面に接触し、
それによって電極間隔に指定されるモード・サイズを放
出しなければならないからである。プラズマ・シースが
良性でないという証拠は、これまでなかったので、この
領域が、上部プラズマ・シースと下部プラズマ・シース
が合体する箇所で、4枚壁の冷却から2枚壁の冷却へと
まだ移行中の箇所でもあるのに、先行技術のスラブ領域
では、先端付近のエッジ結合非安定共振器からの出力を
取り出すことは回避されなかった。
【0140】本発明に従って作成したデバイスととも
に、部分的に透過する導波管非安定共振器を予備的に使
用すると、全反射の光学系を有する導波管非安定共振器
の導波表面が、優先的にプラズマ・シースのない表面で
あるか、あるいはプラズマ・シースのある領域があって
も、シースを優先的に回避するなら、予想外の利点を実
現することができることが判明した。したがって、現在
では、プラズマ・シースは非安定共振器モードの輝度プ
ロフィールをテーパリングできることが、極めて明白で
あるので、シースが、導波管モードの輝度プロフィール
をテーパリングできることは明白である。先行技術のス
ラブ・レーザでは、プラズマ・シースは出力ビーム上の
輝度プロフィールを強制的にテーパリングすることがで
きるが、前記で参照したFreibergその他が指摘したよう
に、レーザ出力の発散が増加し、したがって先行技術の
デバイスにおける回折限界からの逸脱の源を、特定する
ことができたこともある。その場合は、導波管非安定空
洞の出力ビームの質を40%ないし100%改善でき、
これは、従来通りのスラブCO2 レーザ・デバイスが回
折限界動作から外れることが観察された範囲である。
に、部分的に透過する導波管非安定共振器を予備的に使
用すると、全反射の光学系を有する導波管非安定共振器
の導波表面が、優先的にプラズマ・シースのない表面で
あるか、あるいはプラズマ・シースのある領域があって
も、シースを優先的に回避するなら、予想外の利点を実
現することができることが判明した。したがって、現在
では、プラズマ・シースは非安定共振器モードの輝度プ
ロフィールをテーパリングできることが、極めて明白で
あるので、シースが、導波管モードの輝度プロフィール
をテーパリングできることは明白である。先行技術のス
ラブ・レーザでは、プラズマ・シースは出力ビーム上の
輝度プロフィールを強制的にテーパリングすることがで
きるが、前記で参照したFreibergその他が指摘したよう
に、レーザ出力の発散が増加し、したがって先行技術の
デバイスにおける回折限界からの逸脱の源を、特定する
ことができたこともある。その場合は、導波管非安定空
洞の出力ビームの質を40%ないし100%改善でき、
これは、従来通りのスラブCO2 レーザ・デバイスが回
折限界動作から外れることが観察された範囲である。
【0141】特許第5,048,048 号は、マイクロ波励起の
倍率10%のマイナス・ブランチ非安定導波管共振器を
使用したスラブCO2 レーザの生成について教示してい
る。この先行技術のデバイスでは、マイクロ波RF源に
よるリッジ導波管回路内で生成した放電電界は、光導波
表面Wに対して直角で、いつものようにW/D≫1であ
る。共振器のエッジ結合により、85Wの出力と12%
の放電効率が実現された。85Wの出力を実現するた
め、700Wを使用して、長さ40cmの水冷放電領域
にエネルギーを与え、ここでD=2mm、W=20mm
で、放電のpDは指定しなかった。一般に使用されてい
るSバンドの電子レンジのマグネトロンの場合、ISM
周波数は2450MHzであるので、特許第5,048,048
号のデバイスの放電fDは、4900mm−MHzと計
算される。43cmという空洞長、放電長およびアパー
チャに基づいて、マイクロ波スラブ・レーザはND =
0.219、NW =21.9、Pi =43.8W/cm
3 およびP0 =1.06W/cm2 で動作した。
倍率10%のマイナス・ブランチ非安定導波管共振器を
使用したスラブCO2 レーザの生成について教示してい
る。この先行技術のデバイスでは、マイクロ波RF源に
よるリッジ導波管回路内で生成した放電電界は、光導波
表面Wに対して直角で、いつものようにW/D≫1であ
る。共振器のエッジ結合により、85Wの出力と12%
の放電効率が実現された。85Wの出力を実現するた
め、700Wを使用して、長さ40cmの水冷放電領域
にエネルギーを与え、ここでD=2mm、W=20mm
で、放電のpDは指定しなかった。一般に使用されてい
るSバンドの電子レンジのマグネトロンの場合、ISM
周波数は2450MHzであるので、特許第5,048,048
号のデバイスの放電fDは、4900mm−MHzと計
算される。43cmという空洞長、放電長およびアパー
チャに基づいて、マイクロ波スラブ・レーザはND =
0.219、NW =21.9、Pi =43.8W/cm
3 およびP0 =1.06W/cm2 で動作した。
【0142】Jackson その他の「CO2 large-area disch
arge laser using an unstable-waveguide hybrid reso
nator(非安定導波管ハイブリッド共振器を使用したCO
2 大面積放電レーザ) 」(Appl Phy Lett, 54(20), 1989
年5 月15日, pp.1950-52) で教示されるように、125
MHz電源から長さ38cm、幅4.5cm、間隔2.
25mmの1対の水冷電極間の放電領域に、2000W
のRFを入力すると、放電効率12%で、240Wのレ
ーザ出力を生成することができる。倍率18.5%でマ
イナス・ブランチ非安定導波管空洞を使用したこのデバ
イスでは、pDは135T−mm、fDは281mm−
MHz、ND は.31、NW は123.7、Pi は5
1.9W/cm3 、P0 は1.4W/cm2 であった。
arge laser using an unstable-waveguide hybrid reso
nator(非安定導波管ハイブリッド共振器を使用したCO
2 大面積放電レーザ) 」(Appl Phy Lett, 54(20), 1989
年5 月15日, pp.1950-52) で教示されるように、125
MHz電源から長さ38cm、幅4.5cm、間隔2.
25mmの1対の水冷電極間の放電領域に、2000W
のRFを入力すると、放電効率12%で、240Wのレ
ーザ出力を生成することができる。倍率18.5%でマ
イナス・ブランチ非安定導波管空洞を使用したこのデバ
イスでは、pDは135T−mm、fDは281mm−
MHz、ND は.31、NW は123.7、Pi は5
1.9W/cm3 、P0 は1.4W/cm2 であった。
【0143】上記で参照したShackletonその他による教
示のように、長さ38.6cm、幅1.8cm、間隔
2.25mmの1対の水冷電極間で、125MHzで励
起したスラブ放電領域から、14%の放電効率で、13
3Wの多重モード出力を取り出すことができる。このデ
バイスでは、pDは170T−mm、fDは281mm
−MHz、ND は0.306、NW は19.6、Pi /
volは6W/cm3 、P0 は1.9W/cm2 であっ
た。
示のように、長さ38.6cm、幅1.8cm、間隔
2.25mmの1対の水冷電極間で、125MHzで励
起したスラブ放電領域から、14%の放電効率で、13
3Wの多重モード出力を取り出すことができる。このデ
バイスでは、pDは170T−mm、fDは281mm
−MHz、ND は0.306、NW は19.6、Pi /
volは6W/cm3 、P0 は1.9W/cm2 であっ
た。
【0144】特許第5,123,028 号は、倍率26%のマイ
ナス・ブランチ非安定共振器を使用して、幅4.4c
m、長さ61.5cm、間隔2mmの1対の水冷電極間
で、81.4MHzの励起を使用したスラブ放電領域か
ら、12%の放電効率で、220Wの出力を取り出すこ
とができる、と教示している。このデバイスでは、pD
は160T−mm、fDは163mm−MHz、ND
は.144、NW は69.7、Pi は33,3W/cm
3 、P0 は.8W/cm2 であった。
ナス・ブランチ非安定共振器を使用して、幅4.4c
m、長さ61.5cm、間隔2mmの1対の水冷電極間
で、81.4MHzの励起を使用したスラブ放電領域か
ら、12%の放電効率で、220Wの出力を取り出すこ
とができる、と教示している。このデバイスでは、pD
は160T−mm、fDは163mm−MHz、ND
は.144、NW は69.7、Pi は33,3W/cm
3 、P0 は.8W/cm2 であった。
【0145】特許第5,048,048 号のマイクロ波励起スラ
ブ・レーザのマイナス・ブランチ非安定導波管共振器の
出力、プラス・ブランチ非安定導波管共振器を使用した
Jackson その他のデバイスの出力、マイナス・ブランチ
非安定導波管空洞を使用した特許第5,123,028 号のデバ
イスの出力、およびShackletonその他のデバイスは、す
べて、同等の出力効率を有することが分かる。合わせて
考えると、このデータは、fDを163mm−MHzに
しても、281mm−MHzにしても、あるいは490
0mm−MHzという高い値にしても、従来のスラブC
O2 レーザの放電効率には比較的変化がないことを教示
する。
ブ・レーザのマイナス・ブランチ非安定導波管共振器の
出力、プラス・ブランチ非安定導波管共振器を使用した
Jackson その他のデバイスの出力、マイナス・ブランチ
非安定導波管空洞を使用した特許第5,123,028 号のデバ
イスの出力、およびShackletonその他のデバイスは、す
べて、同等の出力効率を有することが分かる。合わせて
考えると、このデータは、fDを163mm−MHzに
しても、281mm−MHzにしても、あるいは490
0mm−MHzという高い値にしても、従来のスラブC
O2 レーザの放電効率には比較的変化がないことを教示
する。
【0146】Vitrukその他は、約80MHzから400
MHzを超える範囲の周波数範囲で、プラズマ・シース
領域の出力損失は、約12%から約3%と、1/f2 で
下落すると教示する。特許第5,048,048 号および第5,12
3,028 号のデバイス、Jackson その他のデバイス、およ
びShackletonその他のデバイスの効率は、Vitrukその他
の理論によって説明できる。つまり、シース損失が、上
記の周波数範囲では高くないので、放電効率に大きな差
がないのである。
MHzを超える範囲の周波数範囲で、プラズマ・シース
領域の出力損失は、約12%から約3%と、1/f2 で
下落すると教示する。特許第5,048,048 号および第5,12
3,028 号のデバイス、Jackson その他のデバイス、およ
びShackletonその他のデバイスの効率は、Vitrukその他
の理論によって説明できる。つまり、シース損失が、上
記の周波数範囲では高くないので、放電効率に大きな差
がないのである。
【0147】Vitrukその他は、同様のαタイプのRF放
電パラメータの励起の周波数が80から25MHzへと
低下すると、シース損失が放電入力の50%以上に増加
する、と教示している。それと同時に、シース電圧が約
685Vへと増加すると予想でき、これは、10ないし
20mm範囲の電極間隔を有する25MHzの同様のα
タイプのRF放電では、αからγへの遷移電圧を超える
と予想される。したがって、理論は、RF周波数を80
MHzから25MHzへ減少させることにより、プラズ
マ・シースの損失が4倍以上増加し、したがってレーザ
放電効率が突然減少すると予想する。同様に、25MH
zの横RF放電は、γタイプの放電への遷移が基本的に
不可避なほど高いシース電圧を有する。
電パラメータの励起の周波数が80から25MHzへと
低下すると、シース損失が放電入力の50%以上に増加
する、と教示している。それと同時に、シース電圧が約
685Vへと増加すると予想でき、これは、10ないし
20mm範囲の電極間隔を有する25MHzの同様のα
タイプのRF放電では、αからγへの遷移電圧を超える
と予想される。したがって、理論は、RF周波数を80
MHzから25MHzへ減少させることにより、プラズ
マ・シースの損失が4倍以上増加し、したがってレーザ
放電効率が突然減少すると予想する。同様に、25MH
zの横RF放電は、γタイプの放電への遷移が基本的に
不可避なほど高いシース電圧を有する。
【0148】名目25MHzの励起に関するVitrukその
他の予想に基づき、図1の実施例に対する一連の変形
は、水冷でない電極を使用し、12ないし15%の範囲
の多重モード放電効率を生じないと予想される。このレ
ベルの放電効率は、10%の範囲のシース損失に相当す
るが、シース損失が50%以上へ増加すると、説明でき
ない。同様に、25MHzの励起で生成されるプラズマ
・シースの電圧は、高すぎて放電の安定性を維持できな
い、という予想は、αタイプの放電からγタイプの放電
への遷移が、冷却しない電極の放電領域へのPi =60
W/cm3 でも観察されなかった理由を、説明すること
ができない。従来通りのスラブ放電理論を考慮すると、
本発明の教示を利用したα放電の厳格な性質は、説明で
きず、予想外である。
他の予想に基づき、図1の実施例に対する一連の変形
は、水冷でない電極を使用し、12ないし15%の範囲
の多重モード放電効率を生じないと予想される。このレ
ベルの放電効率は、10%の範囲のシース損失に相当す
るが、シース損失が50%以上へ増加すると、説明でき
ない。同様に、25MHzの励起で生成されるプラズマ
・シースの電圧は、高すぎて放電の安定性を維持できな
い、という予想は、αタイプの放電からγタイプの放電
への遷移が、冷却しない電極の放電領域へのPi =60
W/cm3 でも観察されなかった理由を、説明すること
ができない。従来通りのスラブ放電理論を考慮すると、
本発明の教示を利用したα放電の厳格な性質は、説明で
きず、予想外である。
【0149】従来のスラブ放電の理論は、高いシース電
圧と非常に低い放電効率とは、低い励起周波数の使用を
伴うと予想するので、少なくとも一部の先行技術のスラ
ブ理論が、D/W≫1の放電幾何形状に当てはまらない
のは明白である。本発明を用いた放電が、27MHzの
励起で明らかに非常に安定しているという事実は、D/
W≫1の放電の陽光柱の長さをさらに長くすると、放電
効率が高くなることを示す。この結果は、陽光柱の長さ
が増加するとともに陽光柱の電圧は増加するが、シース
電圧は変化しないままであるという事実に従う。
圧と非常に低い放電効率とは、低い励起周波数の使用を
伴うと予想するので、少なくとも一部の先行技術のスラ
ブ理論が、D/W≫1の放電幾何形状に当てはまらない
のは明白である。本発明を用いた放電が、27MHzの
励起で明らかに非常に安定しているという事実は、D/
W≫1の放電の陽光柱の長さをさらに長くすると、放電
効率が高くなることを示す。この結果は、陽光柱の長さ
が増加するとともに陽光柱の電圧は増加するが、シース
電圧は変化しないままであるという事実に従う。
【0150】導波管非安定共振器を有する先行技術のス
ラブCO2 レーザで、本明細書で開示した36.6MH
zの実施例とほぼ同じ程度低い導波管周波数の積を示す
ものはない。実際、このような先行技術のデバイスは、
12.2MHzで励起し、電極間隔3mmのデバイスに
相当するので、このような先行技術のデバイスがレーザ
を発することは、非常に疑わしい。したがって、本明細
書の教示で示した動作の基本的範囲は、D/W≫1の放
電領域とD/W≪1の先行技術の放電領域との基本的差
を強調する。本発明の低いfWの積と低い周波数動作と
の組合せは、P.Vitruk その他の「High power continuo
us wave atomic Xe laser with radiofrequency excita
tion( ラジオ周波数で励起した高出力連続波原子Xeレ
ーザ)」(Appl Phys Lett, 67(10), 1995 年9 月4 日, p
p.1366-68) が述べた低周波数励起の使用に有利な赤外
線レーザの、新しく現れたクラスに、特に関係がある。
ラブCO2 レーザで、本明細書で開示した36.6MH
zの実施例とほぼ同じ程度低い導波管周波数の積を示す
ものはない。実際、このような先行技術のデバイスは、
12.2MHzで励起し、電極間隔3mmのデバイスに
相当するので、このような先行技術のデバイスがレーザ
を発することは、非常に疑わしい。したがって、本明細
書の教示で示した動作の基本的範囲は、D/W≫1の放
電領域とD/W≪1の先行技術の放電領域との基本的差
を強調する。本発明の低いfWの積と低い周波数動作と
の組合せは、P.Vitruk その他の「High power continuo
us wave atomic Xe laser with radiofrequency excita
tion( ラジオ周波数で励起した高出力連続波原子Xeレ
ーザ)」(Appl Phys Lett, 67(10), 1995 年9 月4 日, p
p.1366-68) が述べた低周波数励起の使用に有利な赤外
線レーザの、新しく現れたクラスに、特に関係がある。
【0151】放電のエリア冷却と非安定導波管共振器と
を組み合わせた、本発明に従って設計したレーザの実験
的測定および観察に基づき、先行技術のレーザ・デバイ
スのプラズマ・シースの性質に関する非常に基本的な特
性は、以前の仮定とは大幅に異なることが判明した。以
前は、W/D≫1のデバイスのシース領域は、基本的に
良性であると仮定されていた。しかし、図1で描いたよ
うなD/W≫1のレーザの動作は、シース領域が良性で
ないことが予想外に明白に判明した。シース領域が良性
でなく、電極間隔対ガイド幅間隔D/W≫1の長方形断
面のRF放電チャンバでのレーザ出力に完全には寄与し
ていないので、W/D≫1の先行技術のデバイスでは、
輝度プロフィールのテーパリングが発生することが予期
される。この輝度プロフィールのテーパリングは、先行
技術では観察されていない。というのは、導波がシース
領域で起こり、従ってシース領域の特性が隠蔽されるか
らである。本発明の教示を用い、上記で検討した予想外
の発見に基づいて、非安定導波管空洞からのエッジ結合
出力モードと空洞内循環モードとが、シース領域と最小
限の干渉しかしないよう放電アパーチャ内でプラズマ・
シース領域の位置を単に操作することによって、D/W
≫1のRF励起放電幾何形状の意図的な利点が得られ
る。シース領域の修正のための、より洗練された戦略に
は、RF電界に直流のバイアスをかけ、所定のシース領
域を拡縮することが含まれる。シース領域をほぼ回避で
きる場合は、循環光束のテーパリングが小さくなり、先
行技術のデバイスに対して、回折ビームの品質を最大1
00%改善できる可能性がある。
を組み合わせた、本発明に従って設計したレーザの実験
的測定および観察に基づき、先行技術のレーザ・デバイ
スのプラズマ・シースの性質に関する非常に基本的な特
性は、以前の仮定とは大幅に異なることが判明した。以
前は、W/D≫1のデバイスのシース領域は、基本的に
良性であると仮定されていた。しかし、図1で描いたよ
うなD/W≫1のレーザの動作は、シース領域が良性で
ないことが予想外に明白に判明した。シース領域が良性
でなく、電極間隔対ガイド幅間隔D/W≫1の長方形断
面のRF放電チャンバでのレーザ出力に完全には寄与し
ていないので、W/D≫1の先行技術のデバイスでは、
輝度プロフィールのテーパリングが発生することが予期
される。この輝度プロフィールのテーパリングは、先行
技術では観察されていない。というのは、導波がシース
領域で起こり、従ってシース領域の特性が隠蔽されるか
らである。本発明の教示を用い、上記で検討した予想外
の発見に基づいて、非安定導波管空洞からのエッジ結合
出力モードと空洞内循環モードとが、シース領域と最小
限の干渉しかしないよう放電アパーチャ内でプラズマ・
シース領域の位置を単に操作することによって、D/W
≫1のRF励起放電幾何形状の意図的な利点が得られ
る。シース領域の修正のための、より洗練された戦略に
は、RF電界に直流のバイアスをかけ、所定のシース領
域を拡縮することが含まれる。シース領域をほぼ回避で
きる場合は、循環光束のテーパリングが小さくなり、先
行技術のデバイスに対して、回折ビームの品質を最大1
00%改善できる可能性がある。
【0152】横RF励起対称導波管およびRF励起スラ
ブ導波管放電レーザの当業者には、本発明に従って作成
したレーザの有利な態様が、放電電界を光導波管壁に対
して直角に確立したデバイスでは実現されないことが、
容易に理解される。あらゆるタイプの先行技術の放電チ
ャンバにおいて、放電の陽光柱内の電子に与えられた平
均ドリフト速度は、放電チャンバの短い寸法の方向であ
る。プラズマ動力学によると、RF放電チャンバの広い
壁に対して直角の方向に平均ドリフト速度およびドリフ
ト方向を有するのは、高電流、低インピーダンスのプラ
ズマの特徴であり、広い壁の放射に対する寄与を最小で
はなく、最大にする。先行技術のデバイスでは、短い電
極間隔と高周波数の励起を結合するので、低周波数励起
の利点が得られない。たとえば、最適に励起した先行技
術のスラブ・レーザのサイクル逆転時間は、数10-9秒
の範囲で、プラズマ非安定化の蓄積時間より2ないし3
桁速い。したがって、D/W≫1の放電幾何形状では、
励起周波数の大幅な減少が可能な一方、それと同時にプ
ラズマ・シースの厚さに対して長い陽光柱を生成して、
レーザ・ビームの質および放電効率の改善を探求する。
ブ導波管放電レーザの当業者には、本発明に従って作成
したレーザの有利な態様が、放電電界を光導波管壁に対
して直角に確立したデバイスでは実現されないことが、
容易に理解される。あらゆるタイプの先行技術の放電チ
ャンバにおいて、放電の陽光柱内の電子に与えられた平
均ドリフト速度は、放電チャンバの短い寸法の方向であ
る。プラズマ動力学によると、RF放電チャンバの広い
壁に対して直角の方向に平均ドリフト速度およびドリフ
ト方向を有するのは、高電流、低インピーダンスのプラ
ズマの特徴であり、広い壁の放射に対する寄与を最小で
はなく、最大にする。先行技術のデバイスでは、短い電
極間隔と高周波数の励起を結合するので、低周波数励起
の利点が得られない。たとえば、最適に励起した先行技
術のスラブ・レーザのサイクル逆転時間は、数10-9秒
の範囲で、プラズマ非安定化の蓄積時間より2ないし3
桁速い。したがって、D/W≫1の放電幾何形状では、
励起周波数の大幅な減少が可能な一方、それと同時にプ
ラズマ・シースの厚さに対して長い陽光柱を生成して、
レーザ・ビームの質および放電効率の改善を探求する。
【0153】したがって、本発明による長方形断面の放
電レーザでは、放電アパーチャの一部が、アパーチャの
隣接した部分とは異なる放電E/pで動作する実施例が
望ましい。1つの可能性は、1つのRF周波数での放電
励起を、たとえば、これより低いRF周波数のような別
の励起で増大して、単一励起源を使用した自給式のRF
放電のシース領域が、2つの別個に制御した励起源を使
用した、イオン化装置と持続器とを組み合わせたタイプ
の放電を有する放電のシース領域とは異なるか判別する
ことである。
電レーザでは、放電アパーチャの一部が、アパーチャの
隣接した部分とは異なる放電E/pで動作する実施例が
望ましい。1つの可能性は、1つのRF周波数での放電
励起を、たとえば、これより低いRF周波数のような別
の励起で増大して、単一励起源を使用した自給式のRF
放電のシース領域が、2つの別個に制御した励起源を使
用した、イオン化装置と持続器とを組み合わせたタイプ
の放電を有する放電のシース領域とは異なるか判別する
ことである。
【0154】パルス状RF励起レーザの当業者には、本
発明の教示により、セラミックの誘導壁間の間隔Wを多
少大きくしながら、高い縦横比の長方形の断面を維持
し、所定の放電長およびアパーチャのためのより大きい
放電体積に対応できることが理解される。このような制
約を受けながら、より大きい放電体積が必要な場合は、
光共振器を、寸法Wの安定な自由空間ガウスおよび寸法
Dの非安定に設計することができる。たとえば、Wは6
mmの範囲にすることができ、これは、50cmの空洞
長の場合、NW が1.7の範囲になり、寸法Dが等しけ
れば、W=2mmのデバイスの3倍の放電体積を有す
る。エリア冷却CO2 レーザの当業者には、このような
デバイスの平均出力能力は、側壁によるエリア冷却が1
/Wの従属性を有するので、2mmの誘導壁間隔に対し
て減少することが認識される。0.5W/cm2 の比
出力を使用すると、D=2.5cm、W=0.6cmお
よびD/W=4.17で長さ50cmのレーザは、6
2.5Wの密封平均出力能力を有し、ND=29.5、
NW=1.7のCO2フレネル数で作動し、Wの安定な自
由空間ガウス空洞およびDの1次元非安定共振器にとっ
て理想的である。50Tの圧力で動作し、30kWの1
3.56MHzのRF電源で600J/LAでポンピン
グすると、10%効率のレーザは、約200HzのPR
Fに、300mJ/パルスを放射することができる。し
たがって、0.5W/cm2の比エリア冷却はそれほど
高くなく、このようなデバイスの高いピーク出力および
高いパルス単位の出力エネルギー能力は、所定のマーキ
ング・プロセスまたはセンサ・ミッションのためにパル
ス・エネルギーおよびPRFを最適化できるマーキング
またはレーザ・レーダーのような多種多様な用途におい
て、非常に有利であることが証明できる。このように、
本発明によるデバイスでは、電極間隔の非安定共振器モ
ードと、側壁間隔の自由空間ガウス・モードとは、パル
ス間の期間を長くして、より広い側壁間隔のエリア冷却
能力に入るようにすると、高い比ピークおよび平均入力
で操作できた。
発明の教示により、セラミックの誘導壁間の間隔Wを多
少大きくしながら、高い縦横比の長方形の断面を維持
し、所定の放電長およびアパーチャのためのより大きい
放電体積に対応できることが理解される。このような制
約を受けながら、より大きい放電体積が必要な場合は、
光共振器を、寸法Wの安定な自由空間ガウスおよび寸法
Dの非安定に設計することができる。たとえば、Wは6
mmの範囲にすることができ、これは、50cmの空洞
長の場合、NW が1.7の範囲になり、寸法Dが等しけ
れば、W=2mmのデバイスの3倍の放電体積を有す
る。エリア冷却CO2 レーザの当業者には、このような
デバイスの平均出力能力は、側壁によるエリア冷却が1
/Wの従属性を有するので、2mmの誘導壁間隔に対し
て減少することが認識される。0.5W/cm2 の比
出力を使用すると、D=2.5cm、W=0.6cmお
よびD/W=4.17で長さ50cmのレーザは、6
2.5Wの密封平均出力能力を有し、ND=29.5、
NW=1.7のCO2フレネル数で作動し、Wの安定な自
由空間ガウス空洞およびDの1次元非安定共振器にとっ
て理想的である。50Tの圧力で動作し、30kWの1
3.56MHzのRF電源で600J/LAでポンピン
グすると、10%効率のレーザは、約200HzのPR
Fに、300mJ/パルスを放射することができる。し
たがって、0.5W/cm2の比エリア冷却はそれほど
高くなく、このようなデバイスの高いピーク出力および
高いパルス単位の出力エネルギー能力は、所定のマーキ
ング・プロセスまたはセンサ・ミッションのためにパル
ス・エネルギーおよびPRFを最適化できるマーキング
またはレーザ・レーダーのような多種多様な用途におい
て、非常に有利であることが証明できる。このように、
本発明によるデバイスでは、電極間隔の非安定共振器モ
ードと、側壁間隔の自由空間ガウス・モードとは、パル
ス間の期間を長くして、より広い側壁間隔のエリア冷却
能力に入るようにすると、高い比ピークおよび平均入力
で操作できた。
【0155】図1に示した実施例を使用した実施の一連
の変形において、12.7mmおよび15.9mmの電
極間隔Dを、様々な組合せの1.8mmから4mm以上
の側壁間隔とともに使用した。特に、共通の電極間隔1
2.7mmを、それぞれ3.2mmおよび4mmの放電
幅とともに使用した。左右のセラミック・スペーサの長
さは、37.7cmに固定し、空洞の端部の鏡を、それ
ぞれセラミック・スペーサの端部からさらに1.5cm
外側に配置した。したがって、放電空洞は、全長が4
0.7cmであった。3.2mmの放電幅の場合、空洞
のフレネル数NWは0.59で、空洞のフレネル数ND
は9.3であった。空洞共振器は、第1端部を、10P
20のCO2 レーザ光用の、2mの凹球面を有し、背面
にARを塗布した反射率95%のZnSeの鏡で区切っ
た。空洞共振器の他方の端部は、4mの凹球面を有する
最大反射率のシリコン鏡で区切った。したがって、安定
な光共振器gの値は、1から鏡の間隔と鏡の曲率との割
合を引いた値として定義され、空洞の鏡と対応し、それ
ぞれ0.8および0.9で、レーザ出力は、Dの方向で
多重モードの安定であった。27.12MHzの励起を
使用する別の一連の変形では、電極と幅の間隔D/W=
1の電極を使用した出力、つまりfD=179mm−M
Hzの対称形断面の放電を使用した出力は、放電電極お
よび側壁をD/W=7.3およびfD=431mm−M
Hzのようにすると、43%増加して33Wとなった。
出力は、Wで単一モード導波管であることが観察され、
寸法Dでは約9個の個々のモード・スポットを有してい
た。この実施の変形は、空洞光学系を、Wを規定するセ
ラミック・スペーサ・ピースの端部の付近に配置でき
る、1組のミラー・マウントを使用する必要があった。
セラミックの側壁スペーサの端部から約2mmに配置し
たほぼ平面・平面の共振器光学系を使用した放電長3
2.5cmからの平均出力が33Wの場合、最適化され
ていない比出力は>101W/mであった。この出力
は、寸法D、つまり導波管・自由空間ガウス空洞でのみ
多重モードの出力ビームで実現された。
の変形において、12.7mmおよび15.9mmの電
極間隔Dを、様々な組合せの1.8mmから4mm以上
の側壁間隔とともに使用した。特に、共通の電極間隔1
2.7mmを、それぞれ3.2mmおよび4mmの放電
幅とともに使用した。左右のセラミック・スペーサの長
さは、37.7cmに固定し、空洞の端部の鏡を、それ
ぞれセラミック・スペーサの端部からさらに1.5cm
外側に配置した。したがって、放電空洞は、全長が4
0.7cmであった。3.2mmの放電幅の場合、空洞
のフレネル数NWは0.59で、空洞のフレネル数ND
は9.3であった。空洞共振器は、第1端部を、10P
20のCO2 レーザ光用の、2mの凹球面を有し、背面
にARを塗布した反射率95%のZnSeの鏡で区切っ
た。空洞共振器の他方の端部は、4mの凹球面を有する
最大反射率のシリコン鏡で区切った。したがって、安定
な光共振器gの値は、1から鏡の間隔と鏡の曲率との割
合を引いた値として定義され、空洞の鏡と対応し、それ
ぞれ0.8および0.9で、レーザ出力は、Dの方向で
多重モードの安定であった。27.12MHzの励起を
使用する別の一連の変形では、電極と幅の間隔D/W=
1の電極を使用した出力、つまりfD=179mm−M
Hzの対称形断面の放電を使用した出力は、放電電極お
よび側壁をD/W=7.3およびfD=431mm−M
Hzのようにすると、43%増加して33Wとなった。
出力は、Wで単一モード導波管であることが観察され、
寸法Dでは約9個の個々のモード・スポットを有してい
た。この実施の変形は、空洞光学系を、Wを規定するセ
ラミック・スペーサ・ピースの端部の付近に配置でき
る、1組のミラー・マウントを使用する必要があった。
セラミックの側壁スペーサの端部から約2mmに配置し
たほぼ平面・平面の共振器光学系を使用した放電長3
2.5cmからの平均出力が33Wの場合、最適化され
ていない比出力は>101W/mであった。この出力
は、寸法D、つまり導波管・自由空間ガウス空洞でのみ
多重モードの出力ビームで実現された。
【0156】上述した実施の変形に関する試験は、6:
1:1の割合のHe−N2 −CO2の混合気に5%のキ
セノンを添加し、27.12MHzの周波数でエネルギ
ーを与えると、最大出力が、放電幅4mm時の37.5
Torrから放電幅3.2mm使用時の50Torrに
増加することを実証した。この試験は、可変出力のRF
電源を使用し、電源出力を、500HzのPRFで名目
1.1msecの放電パルスにゲートで制御して実施し
た。特許第4,908,585 号で教示されたような、単一の直
列インダクタRF変圧器を使用し、放電インピーダンス
を50Ω出力インピーダンスのソリッド・ステートまた
はパワー・グリッドRF電源のインピーダンスに整合さ
せた。
1:1の割合のHe−N2 −CO2の混合気に5%のキ
セノンを添加し、27.12MHzの周波数でエネルギ
ーを与えると、最大出力が、放電幅4mm時の37.5
Torrから放電幅3.2mm使用時の50Torrに
増加することを実証した。この試験は、可変出力のRF
電源を使用し、電源出力を、500HzのPRFで名目
1.1msecの放電パルスにゲートで制御して実施し
た。特許第4,908,585 号で教示されたような、単一の直
列インダクタRF変圧器を使用し、放電インピーダンス
を50Ω出力インピーダンスのソリッド・ステートまた
はパワー・グリッドRF電源のインピーダンスに整合さ
せた。
【0157】上記で検討した試験では、スペーサ16と
18との間隔を3.2mmにすると、4mmの間隔と比
較して高い出力が観察された。この結果は、放電を狭く
しても、平均入力を高くすれば、幾分高い圧力で操作で
きることに帰される。しかし、放電幅3.2mmのレー
ザの全体的な効率は、空洞内放射の波面曲率と空洞の鏡
との整合低下による光学的損失のため、つまり鏡とセラ
ミックの側壁スペーサの端部との間があきすぎたため
に、放電幅4mmのレーザより低かった。
18との間隔を3.2mmにすると、4mmの間隔と比
較して高い出力が観察された。この結果は、放電を狭く
しても、平均入力を高くすれば、幾分高い圧力で操作で
きることに帰される。しかし、放電幅3.2mmのレー
ザの全体的な効率は、空洞内放射の波面曲率と空洞の鏡
との整合低下による光学的損失のため、つまり鏡とセラ
ミックの側壁スペーサの端部との間があきすぎたため
に、放電幅4mmのレーザより低かった。
【0158】図1に図示した本発明の実施例では、低い
デューティ・サイクル、高いデューティ・サイクル、お
よびcwポンピングで一連の実験を実施し、様々な励起
状態での出力を測定した。データ・ランごとに、レーザ
を<1×10-6Torrまでガス抜きしてから、事前に
混合した組成のガスで再度充填した。完全に密封した非
フローの実験からのデータを、図2にまとめた。平均入
力を約100W以下にして、10ないし12%の放電効
率が容易に達成された。これは、パルス状入力のデュー
ティ・サイクルを下げて平均入力を維持し、したがって
媒質の温度を低く維持しながら、高いピーク入力で放電
をポンピングして生成した媒質の飽和特性、およびcw
より高い小信号利得によるものである。しかし、平均入
力が約280Wを上回ると、様々な組合せの気圧(35
〜60Torr)、ガス組成(通常は、1:6:6のC
O2 −N2 −Heに5%のXeを添加)、出力鏡の反射
率および曲率90ないし95%、ほぼ平面)、ガイド幅
(2.3または2.6mm)を使用しても、10%を上
回り放電効率は達成されなかった。使用したRF電力増
幅器の限界である約280Wないし715W以上までの
平均入力では、放電効率が低下し、最終的には4.5%
に達した。これらの試験では、真空エンベロープのOD
の空冷のみ使用した。この冷却では、レーザ真空エンベ
ロープのODの温度測定で、10ないし15分の動作
で、ODの表面温度が46℃にも到達することが判明し
た。図2の715Wという最高の平均入力では、放電チ
ャンバのサイズは、D=15.9mm、W=2.3mm
で、放電長Ldis =32.6cmであり、その結果、放
電体積は11.9cm3,放電面積は51.8cm2とな
った。上記の条件で、放電に対する比体積入力は59.
7W/cm3で、冷却面積に基づく比入力は13.8W
/cm2であった。このような励起条件では、レーザの
比多重モード出力は0.64W/cm2 であった。
デューティ・サイクル、高いデューティ・サイクル、お
よびcwポンピングで一連の実験を実施し、様々な励起
状態での出力を測定した。データ・ランごとに、レーザ
を<1×10-6Torrまでガス抜きしてから、事前に
混合した組成のガスで再度充填した。完全に密封した非
フローの実験からのデータを、図2にまとめた。平均入
力を約100W以下にして、10ないし12%の放電効
率が容易に達成された。これは、パルス状入力のデュー
ティ・サイクルを下げて平均入力を維持し、したがって
媒質の温度を低く維持しながら、高いピーク入力で放電
をポンピングして生成した媒質の飽和特性、およびcw
より高い小信号利得によるものである。しかし、平均入
力が約280Wを上回ると、様々な組合せの気圧(35
〜60Torr)、ガス組成(通常は、1:6:6のC
O2 −N2 −Heに5%のXeを添加)、出力鏡の反射
率および曲率90ないし95%、ほぼ平面)、ガイド幅
(2.3または2.6mm)を使用しても、10%を上
回り放電効率は達成されなかった。使用したRF電力増
幅器の限界である約280Wないし715W以上までの
平均入力では、放電効率が低下し、最終的には4.5%
に達した。これらの試験では、真空エンベロープのOD
の空冷のみ使用した。この冷却では、レーザ真空エンベ
ロープのODの温度測定で、10ないし15分の動作
で、ODの表面温度が46℃にも到達することが判明し
た。図2の715Wという最高の平均入力では、放電チ
ャンバのサイズは、D=15.9mm、W=2.3mm
で、放電長Ldis =32.6cmであり、その結果、放
電体積は11.9cm3,放電面積は51.8cm2とな
った。上記の条件で、放電に対する比体積入力は59.
7W/cm3で、冷却面積に基づく比入力は13.8W
/cm2であった。このような励起条件では、レーザの
比多重モード出力は0.64W/cm2 であった。
【0159】図1の実施例を用いると、32.6cm放
電長からの比出力は>101W/mであり、名目室温、
正方形ボアの横励起RF放電レーザでこれまでに観察さ
れた84W/mよりはるかに高かった。これに関して
は、上記で検討したNewmanおよびHartの研究を参照しな
ければならない。したがって、電極間隔が側壁間隔を上
回る横RF励起放電チャンバ、つまりD/W>1の放電
チャンバで初めて、エリア冷却が明白に実証されたのは
明らかである。さらに、特許第4,755,990 号の開示によ
って例証されたような先行技術のレーザと比較して、放
電を安定に保つために強力な横方向の電界や複雑な安定
器付き電極構造のように何らかの高度化手段の恩恵を受
けずに、単純な2個の電極構造を使用して、D/Wの割
合がほぼ9という高品質の放電が観察された。
電長からの比出力は>101W/mであり、名目室温、
正方形ボアの横励起RF放電レーザでこれまでに観察さ
れた84W/mよりはるかに高かった。これに関して
は、上記で検討したNewmanおよびHartの研究を参照しな
ければならない。したがって、電極間隔が側壁間隔を上
回る横RF励起放電チャンバ、つまりD/W>1の放電
チャンバで初めて、エリア冷却が明白に実証されたのは
明らかである。さらに、特許第4,755,990 号の開示によ
って例証されたような先行技術のレーザと比較して、放
電を安定に保つために強力な横方向の電界や複雑な安定
器付き電極構造のように何らかの高度化手段の恩恵を受
けずに、単純な2個の電極構造を使用して、D/Wの割
合がほぼ9という高品質の放電が観察された。
【0160】図2のデータでは、劇的なレーザ放電効率
の低下が見られず、上記の実験でγ放電を生成できなか
ったので、より効率的なレーザ動作を維持するには、特
に入力が約280W以上に増加する場合に、媒質の温度
が高すぎると疑われる。ある意味で、図1の実施例は、
250Wをはるかに上回る入力では熱的に飽和してい
る。レーザにはいかなる種類の水冷も使用しなかったと
いう事実を考え、さらにセラミック側壁スペーサの外面
とレーザの金属製真空エンベロープ10の内側との広い
名目14.5mmのスペースにわたり、熱伝導が非常に
悪いことを考えると、図1の実施例には、長方形断面の
放電領域の温度を緩和するための効果的な熱伝達手段が
ない。さらに、プレクシグラスの端壁が空洞のミラー・
マウントに置換された場合に見られるように、限られた
放電チャンバの断面を放電が完全に満たしているのが観
察されるので、γ放電が形成されると、放電アパーチャ
が完全に曖昧になってしまう。この高損失領域は、同様
の側壁間隔を有する対称形のRF励起導波管レーザの場
合と同様、CO2 レーザの動作には致命的である。平均
入力715Wまでは、レーザ出力にこのような突然の低
下が発生しないことは、高電流γ放電モードへの遷移が
抑圧されていることを示す。図1の本発明の実施例にお
ける電極付近の領域では、プラズマ・シースが、電極自
体によって、および両方のセラミック側壁によって冷却
される。側壁が非常に近接していることは、高い比入力
でシース領域の形状を変化させるように見え、したがっ
て望ましいαタイプの放電から望ましくないγタイプの
放電への遷移を効果的に妨げる追加の衝突による安定化
および冷却を提供するように見える。この結果は予想外
であり、以前に観察あるいは発表されていないと考えら
れる。上記で参照したYatsivその他の論文に記載の空冷
デバイスは、21.4W/cm3 の入力で.4W/cm
2 の出力を達成したが、それと比較して、60W/cm
3 の入力で.64W/cm2 の出力は競争的どころでは
なく、特に、図1の実施例で実施した試験で使用した2
7.12MHzという励起周波数が、実際にYatsivその
他が使用した周波数より低いことを考慮すると、なおさ
らである。
の低下が見られず、上記の実験でγ放電を生成できなか
ったので、より効率的なレーザ動作を維持するには、特
に入力が約280W以上に増加する場合に、媒質の温度
が高すぎると疑われる。ある意味で、図1の実施例は、
250Wをはるかに上回る入力では熱的に飽和してい
る。レーザにはいかなる種類の水冷も使用しなかったと
いう事実を考え、さらにセラミック側壁スペーサの外面
とレーザの金属製真空エンベロープ10の内側との広い
名目14.5mmのスペースにわたり、熱伝導が非常に
悪いことを考えると、図1の実施例には、長方形断面の
放電領域の温度を緩和するための効果的な熱伝達手段が
ない。さらに、プレクシグラスの端壁が空洞のミラー・
マウントに置換された場合に見られるように、限られた
放電チャンバの断面を放電が完全に満たしているのが観
察されるので、γ放電が形成されると、放電アパーチャ
が完全に曖昧になってしまう。この高損失領域は、同様
の側壁間隔を有する対称形のRF励起導波管レーザの場
合と同様、CO2 レーザの動作には致命的である。平均
入力715Wまでは、レーザ出力にこのような突然の低
下が発生しないことは、高電流γ放電モードへの遷移が
抑圧されていることを示す。図1の本発明の実施例にお
ける電極付近の領域では、プラズマ・シースが、電極自
体によって、および両方のセラミック側壁によって冷却
される。側壁が非常に近接していることは、高い比入力
でシース領域の形状を変化させるように見え、したがっ
て望ましいαタイプの放電から望ましくないγタイプの
放電への遷移を効果的に妨げる追加の衝突による安定化
および冷却を提供するように見える。この結果は予想外
であり、以前に観察あるいは発表されていないと考えら
れる。上記で参照したYatsivその他の論文に記載の空冷
デバイスは、21.4W/cm3 の入力で.4W/cm
2 の出力を達成したが、それと比較して、60W/cm
3 の入力で.64W/cm2 の出力は競争的どころでは
なく、特に、図1の実施例で実施した試験で使用した2
7.12MHzという励起周波数が、実際にYatsivその
他が使用した周波数より低いことを考慮すると、なおさ
らである。
【0161】先行技術のスラブ・デバイスでは、側壁に
は基本的に何のエリア冷却も設けない。本発明の放電幾
何形状では、側壁の冷却により、fDの積は従来のpD
の積と完全に切り離される。たとえば、fW=36.7
mm−MHzで、体積入力および出力が高い安定な放電
領域を実現でき、このfWの積は、先行技術のスラブ・
レーザのシース領域のみの42mm−MHzというfD
S の積より小さい。したがって、距離W=数mm以内の
短い側壁間隔は、放電を衝突または壁によって安定させ
るのに、主要な役割を果たしている。名目6.6mmの
対称形の放電チャンバの場合は、長方形断面の幾何形状
で実現できる60W/cm3 付近の入力で、安定な放電
動作を維持できない。さらに、このような高い比入力レ
ベルでは、800〜1000T−mmでのpDの積は、
D/W≫1の長方形の放電チャンバで容易に実現され
る。これらのpDの積は、先行技術のスラブ・デバイス
を最適ポンピングする理論で示唆された積より、はるか
に大きい。実際、先行技術は、この条件で不安定な放電
を予想している。上記で参照したVitrukその他のデバイ
スで最高の比入力は、75W/cm3 と22.5W/c
m2 であり、水冷電極を使用した比較的成熟したデバイ
ス技術で達成された。本明細書で開示した教示および実
施例に従って作成されたデバイスは、Vitrukその他が報
告したレベルおよびそれ以上の比入力を達成できると予
想できる。
は基本的に何のエリア冷却も設けない。本発明の放電幾
何形状では、側壁の冷却により、fDの積は従来のpD
の積と完全に切り離される。たとえば、fW=36.7
mm−MHzで、体積入力および出力が高い安定な放電
領域を実現でき、このfWの積は、先行技術のスラブ・
レーザのシース領域のみの42mm−MHzというfD
S の積より小さい。したがって、距離W=数mm以内の
短い側壁間隔は、放電を衝突または壁によって安定させ
るのに、主要な役割を果たしている。名目6.6mmの
対称形の放電チャンバの場合は、長方形断面の幾何形状
で実現できる60W/cm3 付近の入力で、安定な放電
動作を維持できない。さらに、このような高い比入力レ
ベルでは、800〜1000T−mmでのpDの積は、
D/W≫1の長方形の放電チャンバで容易に実現され
る。これらのpDの積は、先行技術のスラブ・デバイス
を最適ポンピングする理論で示唆された積より、はるか
に大きい。実際、先行技術は、この条件で不安定な放電
を予想している。上記で参照したVitrukその他のデバイ
スで最高の比入力は、75W/cm3 と22.5W/c
m2 であり、水冷電極を使用した比較的成熟したデバイ
ス技術で達成された。本明細書で開示した教示および実
施例に従って作成されたデバイスは、Vitrukその他が報
告したレベルおよびそれ以上の比入力を達成できると予
想できる。
【0162】Vitrukその他の理論は、DとWの独立した
役割、およびプラズマ・シースの配置構成のために、本
発明の幾何形状には、自信を持って適用できない。先行
技術の誘導で、27.12MHzよりはるかに低い励起
周波数への使用に適用できるものはないのである。たと
えば、電極の間隔がD=50mmの場合、励起周波数を
5MHzとすると、fDの積は250mm−MHzとな
る。同様に、側壁の間隔をW=2mmとすると、60T
の圧力でpWの積は120T−mmとなる。したがっ
て、250mm−MHzおよび120T−mmというf
DおよびpDが望ましく、従来のW/D=25のスラブ
放電デバイスにほぼ最適のパラメータであるが、このよ
うなD/W=25のデバイスの動作特性は、完全に未知
である。しかし、27MHzの予想外の結果に基づき、
fD、pW の積の独立した性質を探求して、このような
低周波数、高縦横比のD/Wデバイスの励起プロセスを
最適化できると考えられる。
役割、およびプラズマ・シースの配置構成のために、本
発明の幾何形状には、自信を持って適用できない。先行
技術の誘導で、27.12MHzよりはるかに低い励起
周波数への使用に適用できるものはないのである。たと
えば、電極の間隔がD=50mmの場合、励起周波数を
5MHzとすると、fDの積は250mm−MHzとな
る。同様に、側壁の間隔をW=2mmとすると、60T
の圧力でpWの積は120T−mmとなる。したがっ
て、250mm−MHzおよび120T−mmというf
DおよびpDが望ましく、従来のW/D=25のスラブ
放電デバイスにほぼ最適のパラメータであるが、このよ
うなD/W=25のデバイスの動作特性は、完全に未知
である。しかし、27MHzの予想外の結果に基づき、
fD、pW の積の独立した性質を探求して、このような
低周波数、高縦横比のD/Wデバイスの励起プロセスを
最適化できると考えられる。
【0163】図3に示すデータを参照すると、高レベル
のピーク出力RFポンピングの場合に、図1で開示され
た実施例に従って確立された長方形の放電領域は、20
μsecないし4000μsecの範囲の放電パルス幅
でおおむね10%以上の放電効率を達成できる。図3の
最低の2本の曲線では、放電デューティ・サイクルが2
0%で一定に維持され、レーザへのピーク入力がそれぞ
れ408および513Wで一定に維持される一方、放電
パルス幅は増加し、放電PRFは低下して、一定のデュ
ーティ・サイクルを維持する。0.2(409)=8
1.8Wという平均入力で示されるように、RFからC
O2 光への約10%という変換効率が一定に維持され
る一方、放電パルス幅は100ずつ増加した。予想され
るように、81.8Wは、図2に関して検討した名目2
75Wの熱飽和レベルよりはるかに低いので、わずかな
レーザ出力の低下は、所定の放電パルス内での何らかの
加熱が、長い放電パルス幅で発生していることを示す。
平均入力が0.2(513)=102.6Wの場合、4
09Wのピーク入力を使用して示される傾向は、わずか
により明白なだけである。PRFを100Hzで一定に
し、パルス幅を100μsecから400μsecへ増
加させて、ピーク入力935Wでのパルス状レーザ出力
を測定した。これは、多数の医療用および歯科用レーザ
用途に関係があるパルス幅の範囲である。この範囲で、
放電デューティ・サイクルが1%から4%に増加するに
つれ、放電効率は11%以上から約10%へ多少低下し
た。このレベルで、ピーク比入力および出力は、それぞ
れ17.6W/cm2 およびほぼ2W/cm2 であっ
た。側壁冷却手段をさらに効率的にすれば、cw励起
で、この動作状態をさらに拡張することができる。ピー
ク入力409、513および935Wでのデータを、約
715T−mmの放電pDでとった。これはVitrukその
他が検討した最適値より、はるかに高いpDである。励
起周波数、誘導幅の積が<49mm−MHzで生成でき
る非常に均質な放電は、本発明の斬新さと効用を強調す
る。100HzのPRF(1%のデューティ・サイク
ル)で1612Wのピーク入力で得た単一のデータ・ポ
イントは、非常に高レベルのポンピングで11%の放電
効率が達成できることを示し、PRFを500Hz(1
%のデューティ・サイクル)に増加しても、出力への効
果はほとんど観察されなかった。1600Wより幾分低
いピーク入力を用いて、14.4%のピーク放電効率が
観察され、入力ピークを幾分高くすると、10%を超え
る放電効率で180Wというピーク出力が達成された。
この後者の>1600Wという入力は、電極対側壁の割
合が6.1:1または6.9:1の長方形の放電断面
が、放電利得長にわたって非常に均等にポンピングされ
ることを示す。D/Wの割合が6.9:1の場合、50
0HzのPRFで620J/LAの比入力が実現され、
これは150MHzの領域の励起周波数を使用する従来
のスラブ放電幾何形状で報告された値より、はるかに高
い。図3のデータのフレネル数は、ND=15.7およ
びNW =0.33または.42で、出力はすべて、Dが
多重モードの安定な自由空間ガウスで、Wは単一導波管
モードであった。約1800Wのピーク入力は、γ放電
によって制限されたのではなく、図1の上部RF電極か
ら、セラミック側壁スペーサの端部から2mmしか間隔
をあけていないミラー・マウントへ発生した寄生放電に
よって制限されたことが分かる。65J/LAのポンピ
ング・レベルで実現されたD/Wの割合が6.1:1の
デバイスからの最高平均出力は、40μsec放電パル
ス幅を使用して5000Hzで、56.7W/mであっ
た。したがって、ポンピング・レベルは上記で参照した
Brown その他のレベルより低かったが、達成したPRF
は8倍以上高かった。D/W=6.1の長方形断面の放
電デバイスの56.7W/mという出力は、高レベルの
パルスで励起した対称形のアパーチャ導波管でこれまで
に報告された最高の出力レベルの39.2W/mより高
いので、本発明の教示に従って作成したデバイスのセラ
ミック製側壁によるエリア冷却は、このタイプの励起で
も明白に実証された。
のピーク出力RFポンピングの場合に、図1で開示され
た実施例に従って確立された長方形の放電領域は、20
μsecないし4000μsecの範囲の放電パルス幅
でおおむね10%以上の放電効率を達成できる。図3の
最低の2本の曲線では、放電デューティ・サイクルが2
0%で一定に維持され、レーザへのピーク入力がそれぞ
れ408および513Wで一定に維持される一方、放電
パルス幅は増加し、放電PRFは低下して、一定のデュ
ーティ・サイクルを維持する。0.2(409)=8
1.8Wという平均入力で示されるように、RFからC
O2 光への約10%という変換効率が一定に維持され
る一方、放電パルス幅は100ずつ増加した。予想され
るように、81.8Wは、図2に関して検討した名目2
75Wの熱飽和レベルよりはるかに低いので、わずかな
レーザ出力の低下は、所定の放電パルス内での何らかの
加熱が、長い放電パルス幅で発生していることを示す。
平均入力が0.2(513)=102.6Wの場合、4
09Wのピーク入力を使用して示される傾向は、わずか
により明白なだけである。PRFを100Hzで一定に
し、パルス幅を100μsecから400μsecへ増
加させて、ピーク入力935Wでのパルス状レーザ出力
を測定した。これは、多数の医療用および歯科用レーザ
用途に関係があるパルス幅の範囲である。この範囲で、
放電デューティ・サイクルが1%から4%に増加するに
つれ、放電効率は11%以上から約10%へ多少低下し
た。このレベルで、ピーク比入力および出力は、それぞ
れ17.6W/cm2 およびほぼ2W/cm2 であっ
た。側壁冷却手段をさらに効率的にすれば、cw励起
で、この動作状態をさらに拡張することができる。ピー
ク入力409、513および935Wでのデータを、約
715T−mmの放電pDでとった。これはVitrukその
他が検討した最適値より、はるかに高いpDである。励
起周波数、誘導幅の積が<49mm−MHzで生成でき
る非常に均質な放電は、本発明の斬新さと効用を強調す
る。100HzのPRF(1%のデューティ・サイク
ル)で1612Wのピーク入力で得た単一のデータ・ポ
イントは、非常に高レベルのポンピングで11%の放電
効率が達成できることを示し、PRFを500Hz(1
%のデューティ・サイクル)に増加しても、出力への効
果はほとんど観察されなかった。1600Wより幾分低
いピーク入力を用いて、14.4%のピーク放電効率が
観察され、入力ピークを幾分高くすると、10%を超え
る放電効率で180Wというピーク出力が達成された。
この後者の>1600Wという入力は、電極対側壁の割
合が6.1:1または6.9:1の長方形の放電断面
が、放電利得長にわたって非常に均等にポンピングされ
ることを示す。D/Wの割合が6.9:1の場合、50
0HzのPRFで620J/LAの比入力が実現され、
これは150MHzの領域の励起周波数を使用する従来
のスラブ放電幾何形状で報告された値より、はるかに高
い。図3のデータのフレネル数は、ND=15.7およ
びNW =0.33または.42で、出力はすべて、Dが
多重モードの安定な自由空間ガウスで、Wは単一導波管
モードであった。約1800Wのピーク入力は、γ放電
によって制限されたのではなく、図1の上部RF電極か
ら、セラミック側壁スペーサの端部から2mmしか間隔
をあけていないミラー・マウントへ発生した寄生放電に
よって制限されたことが分かる。65J/LAのポンピ
ング・レベルで実現されたD/Wの割合が6.1:1の
デバイスからの最高平均出力は、40μsec放電パル
ス幅を使用して5000Hzで、56.7W/mであっ
た。したがって、ポンピング・レベルは上記で参照した
Brown その他のレベルより低かったが、達成したPRF
は8倍以上高かった。D/W=6.1の長方形断面の放
電デバイスの56.7W/mという出力は、高レベルの
パルスで励起した対称形のアパーチャ導波管でこれまで
に報告された最高の出力レベルの39.2W/mより高
いので、本発明の教示に従って作成したデバイスのセラ
ミック製側壁によるエリア冷却は、このタイプの励起で
も明白に実証された。
【0164】セラミック・スペーサ間の間隔を広げる
と、これより狭い放電の場合ほど効果的な壁面冷却での
放電が得られず、対称形のボアから、電極間隔15.9
mmおよび側壁間隔2.3mmのチャンバへの傾向が、
レーザの出力を増加させたことに留意されたい。また、
図1の構成では、セラミック側壁スペーサ16および1
8は、レーザの金属製真空エンベロープ10の内部とま
ったく接触しないことにも留意されたい。図1に示した
幾何形状でのエリア冷却は、以下で検討するように、非
常に改善された。さらに、セラミック側壁スペーサの外
側とレーザの真空エンベロープの内側との間の領域に、
望ましくない放電または寄生放電が観察された。この放
電領域は、共振器のモード体積に入らないので、測定さ
れたレーザ放電効率は、この放電領域に非導電材が充満
し、このような望ましくない放電の形成を防止した場合
より、明らかに低い。したがって、より広い放電及びレ
ーザ効率を実現すると、空洞損失は少なくなるが、より
大きいWで許容できる最大入力が低くなり、したがって
最大出力も小さくなる。この結果は、何らかの寄生放電
領域が偶発的に生成されるというその後の観察結果に、
部分的に帰することができる。
と、これより狭い放電の場合ほど効果的な壁面冷却での
放電が得られず、対称形のボアから、電極間隔15.9
mmおよび側壁間隔2.3mmのチャンバへの傾向が、
レーザの出力を増加させたことに留意されたい。また、
図1の構成では、セラミック側壁スペーサ16および1
8は、レーザの金属製真空エンベロープ10の内部とま
ったく接触しないことにも留意されたい。図1に示した
幾何形状でのエリア冷却は、以下で検討するように、非
常に改善された。さらに、セラミック側壁スペーサの外
側とレーザの真空エンベロープの内側との間の領域に、
望ましくない放電または寄生放電が観察された。この放
電領域は、共振器のモード体積に入らないので、測定さ
れたレーザ放電効率は、この放電領域に非導電材が充満
し、このような望ましくない放電の形成を防止した場合
より、明らかに低い。したがって、より広い放電及びレ
ーザ効率を実現すると、空洞損失は少なくなるが、より
大きいWで許容できる最大入力が低くなり、したがって
最大出力も小さくなる。この結果は、何らかの寄生放電
領域が偶発的に生成されるというその後の観察結果に、
部分的に帰することができる。
【0165】要するに、本発明によるエリア冷却レーザ
の放電効率のレベルは、少なくとも、先行技術のデバイ
スで達成できるのと同程度に良好で、この同等の体積効
率は、比較的低い放電励起周波数、およびはるかに単純
で、したがって費用のかからないデバイスを使用して達
成できる。
の放電効率のレベルは、少なくとも、先行技術のデバイ
スで達成できるのと同程度に良好で、この同等の体積効
率は、比較的低い放電励起周波数、およびはるかに単純
で、したがって費用のかからないデバイスを使用して達
成できる。
【0166】図1に示す本発明の実施例に従ってエリア
冷却したレーザから得られる出力を増大させるのは、セ
ラミック・スペーサ16、18間の距離を小さくして放
電幅を狭くし、50〜80Torrの範囲のレーザ圧力
媒質を使用し、放電に隣接するセラミック壁に、放電駆
動の金の触媒を使用し、放電入力を増大させ、放電を制
限する側壁スペーサと金属製真空エンベロープとの間に
伝熱性の高い路を設け、側壁材料に純度94%ではなく
純度99.5%のアルミナを使用して側壁の伝熱性を改
善して放電温度を下げ、放電電極の間隔と長さとの両方
を増大させることによって可能である。
冷却したレーザから得られる出力を増大させるのは、セ
ラミック・スペーサ16、18間の距離を小さくして放
電幅を狭くし、50〜80Torrの範囲のレーザ圧力
媒質を使用し、放電に隣接するセラミック壁に、放電駆
動の金の触媒を使用し、放電入力を増大させ、放電を制
限する側壁スペーサと金属製真空エンベロープとの間に
伝熱性の高い路を設け、側壁材料に純度94%ではなく
純度99.5%のアルミナを使用して側壁の伝熱性を改
善して放電温度を下げ、放電電極の間隔と長さとの両方
を増大させることによって可能である。
【0167】図4を参照すると、短辺と長辺を有する長
方形断面のRF放電が、間隔Wを有する1対のセラミッ
ク側壁16、18と、間隔Dが側壁によってD/W≫1
に維持され、Wが1〜4mmの範囲であることが好まし
い1対の電極12、14との間に確立されている。前記
と同様、放電電界は導波管の壁と平行で、電極は、電極
による放電への壁またはエリア冷却の影響が最小になる
よう配備される。上部RF電極は、第3のセラミック・
スペーサ20によって地面から絶縁される。この実施例
では、3個の基本的なセラミック・ブロック、つまり上
部スペーサ20および2個の側壁スペーサ16、18
は、基本的に断面が等しい。上部ピースは、RFフィー
ドスルーを挿入する穴がある点で、2個の側壁ピースと
異なる。2個の側壁ピースは、互いに等しいが、上部電
極12の下方部分が配置される小さい切り目がある点
で、上部ピースと異なる。アルミナ製スペーサの共通性
によって、レーザの生産量が比較的少なくても、セラミ
ック・ピースの量による費用削減が達成できる。図4に
示す実施例の外側の真空エンベロープ10は、外形寸法
が1.00”×2.00”、肉厚が.065”の、普通
に入手可能な酸素を含まない高導電性の(OFHC)W
R187の銅製のマイクロ波導波管で作成されている。
このタイプの真空エンベロープは、比較的安価で、容易
にトーチまたは炉でステンレス鋼の端部フランジにロウ
付けし、そこに様々なタイプの光共振器の空洞ミラー・
マウントを取り付けることができる。図4の実施例に従
って作成したデバイスの気体を抜くと、薄い銅製の導波
管の壁がわずかに反り(約.010”)、これによって
側壁スペーサ16、18と真空エンベロープ10自体と
の間に、強制的に低い熱損失の接触を生じる。当業者に
は周知のように、炉でロウ付けする場合は、銅の調質度
を完全に失わないよう注意しなければならない。図4で
開示した構造のヘリウムのリークを詳細に検査すると、
統合されたヘリウムのリーク速度は、5×10-10 大気
圧cm3/sec 未満が実現でき、これは気体触媒を使用し
て、放電中のCO2 の電離を防止するなら、数年以上の
レーザ寿命を保証するのに十分である。
方形断面のRF放電が、間隔Wを有する1対のセラミッ
ク側壁16、18と、間隔Dが側壁によってD/W≫1
に維持され、Wが1〜4mmの範囲であることが好まし
い1対の電極12、14との間に確立されている。前記
と同様、放電電界は導波管の壁と平行で、電極は、電極
による放電への壁またはエリア冷却の影響が最小になる
よう配備される。上部RF電極は、第3のセラミック・
スペーサ20によって地面から絶縁される。この実施例
では、3個の基本的なセラミック・ブロック、つまり上
部スペーサ20および2個の側壁スペーサ16、18
は、基本的に断面が等しい。上部ピースは、RFフィー
ドスルーを挿入する穴がある点で、2個の側壁ピースと
異なる。2個の側壁ピースは、互いに等しいが、上部電
極12の下方部分が配置される小さい切り目がある点
で、上部ピースと異なる。アルミナ製スペーサの共通性
によって、レーザの生産量が比較的少なくても、セラミ
ック・ピースの量による費用削減が達成できる。図4に
示す実施例の外側の真空エンベロープ10は、外形寸法
が1.00”×2.00”、肉厚が.065”の、普通
に入手可能な酸素を含まない高導電性の(OFHC)W
R187の銅製のマイクロ波導波管で作成されている。
このタイプの真空エンベロープは、比較的安価で、容易
にトーチまたは炉でステンレス鋼の端部フランジにロウ
付けし、そこに様々なタイプの光共振器の空洞ミラー・
マウントを取り付けることができる。図4の実施例に従
って作成したデバイスの気体を抜くと、薄い銅製の導波
管の壁がわずかに反り(約.010”)、これによって
側壁スペーサ16、18と真空エンベロープ10自体と
の間に、強制的に低い熱損失の接触を生じる。当業者に
は周知のように、炉でロウ付けする場合は、銅の調質度
を完全に失わないよう注意しなければならない。図4で
開示した構造のヘリウムのリークを詳細に検査すると、
統合されたヘリウムのリーク速度は、5×10-10 大気
圧cm3/sec 未満が実現でき、これは気体触媒を使用し
て、放電中のCO2 の電離を防止するなら、数年以上の
レーザ寿命を保証するのに十分である。
【0168】図4に示す実施例では、3個のセラミック
・スペーサを、ほぼ等しい断面で作成すれば、WR18
7導波管で19mmの電極間隔に容易に対応できる。こ
の電極間隔は、直径1”の空洞鏡のクリアなアパーチャ
に使用するのに適している。当業者には、普通に入手可
能な99.5%濃度のAl2 O3 のセラミック側壁を使
用して、放電を比較的低温で維持できることが理解され
る。0.995のアルミナの伝熱性を既知の0.36
[W/cm2][ ℃/cm]とすると、アルミナの側壁が
11.9℃しか温度上昇しなければ、放電冷却面積の電
力伝達が4.5W/cm2 になることが、容易に判断
できる。4.5W/cm2 という放電冷却面積の値
は、放電への合計入力が10W/cm2 であることを
示し、その放電効率はわずか10%で、1W/cm2
のレーザ出力に相当する。Dierbergerその他
の「Low Cost 1000W. 300 Vol
t RFPower Amplifier for 1
3.56 MHzs( 13.56MHzのための10
00W、300ボルトの低価格RF電力増幅器) 」
(Advanced Power Technolog
y, RF Design, 1995 年8 月,
pp.46−52) に記載された新しいMOSFET
のRF電源技術を使用すると、完全にkW平均出力のR
F電源の費用は、300Vdcの電源の費用を含めて
も、$500未満、つまり0.5$/W未満と予想され
る。先行技術のスラブCO 2 レーザの、1995年に
おける典型的な費用は275$/Wで、82MHzのR
F電源の費用は5$/Wである。したがって、本発明に
従って作成した単純なRF励起空冷CO2 レーザによ
る相対的な経済性は明白である。
・スペーサを、ほぼ等しい断面で作成すれば、WR18
7導波管で19mmの電極間隔に容易に対応できる。こ
の電極間隔は、直径1”の空洞鏡のクリアなアパーチャ
に使用するのに適している。当業者には、普通に入手可
能な99.5%濃度のAl2 O3 のセラミック側壁を使
用して、放電を比較的低温で維持できることが理解され
る。0.995のアルミナの伝熱性を既知の0.36
[W/cm2][ ℃/cm]とすると、アルミナの側壁が
11.9℃しか温度上昇しなければ、放電冷却面積の電
力伝達が4.5W/cm2 になることが、容易に判断
できる。4.5W/cm2 という放電冷却面積の値
は、放電への合計入力が10W/cm2 であることを
示し、その放電効率はわずか10%で、1W/cm2
のレーザ出力に相当する。Dierbergerその他
の「Low Cost 1000W. 300 Vol
t RFPower Amplifier for 1
3.56 MHzs( 13.56MHzのための10
00W、300ボルトの低価格RF電力増幅器) 」
(Advanced Power Technolog
y, RF Design, 1995 年8 月,
pp.46−52) に記載された新しいMOSFET
のRF電源技術を使用すると、完全にkW平均出力のR
F電源の費用は、300Vdcの電源の費用を含めて
も、$500未満、つまり0.5$/W未満と予想され
る。先行技術のスラブCO 2 レーザの、1995年に
おける典型的な費用は275$/Wで、82MHzのR
F電源の費用は5$/Wである。したがって、本発明に
従って作成した単純なRF励起空冷CO2 レーザによ
る相対的な経済性は明白である。
【0169】図4に示す実施例に関して、複数の平行な
RF励起の対称形導波管CO2 レーザの発振器および増
幅器の当業者には、図4のような幾つかの放電アパーチ
ャは、電気的に並列に配置できて有利であることが理解
される。たとえば、w=2.5mm、D=2.5cm
で、それぞれ長さが25cmの25の領域を、幅7.5
mm、高さ2.5cm、長さ約25cmのセラミック側
壁で分離すると、それぞれがD/W=10の25の放電
領域を有する非常にコンパクトなエリア冷却デバイスを
作成できる。この放電によって得られる冷却面積は、合
計で1562.5cm2 となる。領域は並んで配置され
るので、長方形断面の放電の25の領域全体を、名目サ
イズが25cm×25cmの単一の高いRF電位電極で
容易に通電でき、レーザ・デバイス全体を、約3”×1
2”×12”(7.6cm×30cm×30cm)より
それほど大きくない真空エンベロープに、適切に収容す
ることができた。折り返し光共振器の当業者には認識さ
れるように、長さ25cmの個々の放電の両端にある折
り返し鏡は、隣接する幅2.5mm、高さ2.5cmの
放電領域を光学的に接続するコーナー反射鏡の形で作成
し、フレネル数ND が2.4より多少小さい幅2.5m
m、高さ2.5cm、長さ625cmの同等の放電領域
を形成することができる。したがって、D/Wの割合が
10.1と認識されても、媒質が長いので、このような
デバイスのフレネル数は大きくならない。Dに自由空間
ガウス空洞、Wに導波管空洞を有するCO2レーザ発振
器として構成されたこのようなデバイスは、非常に高エ
ネルギーでコンパクトになる可能性がある。たとえば、
比出力が放電冷却面積の0.5W/cm2 でも、500
0Wの入力で750Wの合計出力を予想することができ
る。圧力40Tで、13.56MHzの合計入力を50
00Wにして、放電インピーダンスを予備的に見積もる
と、約145Ωとなる。13.56MHzのRF電源の
直流部分とRF部分とを組み合わせた費用は、$150
0の範囲となる。このようなデバイスは、利得長625
cmのレーザ出力増幅器としても構成することができ
る。このような増幅器の構成では、小信号利得が、50
Wの範囲ではCO 光入力でほぼ飽和し、350Wの範
囲の出力を生成するが、これは高いレーザ出力およびラ
インの調節性を必要とする用途には理想的である。高力
CO レーザの当業者には、このようなコンパクトなレ
ーザ構造には、液体から気体への熱交換システムによる
冷却が必要であるが、先行技術のスラブ技術では、この
ようにコンパクトかつ高力で、ラインを調節できるCO
レーザ増幅器は不可能であることが理解される。
RF励起の対称形導波管CO2 レーザの発振器および増
幅器の当業者には、図4のような幾つかの放電アパーチ
ャは、電気的に並列に配置できて有利であることが理解
される。たとえば、w=2.5mm、D=2.5cm
で、それぞれ長さが25cmの25の領域を、幅7.5
mm、高さ2.5cm、長さ約25cmのセラミック側
壁で分離すると、それぞれがD/W=10の25の放電
領域を有する非常にコンパクトなエリア冷却デバイスを
作成できる。この放電によって得られる冷却面積は、合
計で1562.5cm2 となる。領域は並んで配置され
るので、長方形断面の放電の25の領域全体を、名目サ
イズが25cm×25cmの単一の高いRF電位電極で
容易に通電でき、レーザ・デバイス全体を、約3”×1
2”×12”(7.6cm×30cm×30cm)より
それほど大きくない真空エンベロープに、適切に収容す
ることができた。折り返し光共振器の当業者には認識さ
れるように、長さ25cmの個々の放電の両端にある折
り返し鏡は、隣接する幅2.5mm、高さ2.5cmの
放電領域を光学的に接続するコーナー反射鏡の形で作成
し、フレネル数ND が2.4より多少小さい幅2.5m
m、高さ2.5cm、長さ625cmの同等の放電領域
を形成することができる。したがって、D/Wの割合が
10.1と認識されても、媒質が長いので、このような
デバイスのフレネル数は大きくならない。Dに自由空間
ガウス空洞、Wに導波管空洞を有するCO2レーザ発振
器として構成されたこのようなデバイスは、非常に高エ
ネルギーでコンパクトになる可能性がある。たとえば、
比出力が放電冷却面積の0.5W/cm2 でも、500
0Wの入力で750Wの合計出力を予想することができ
る。圧力40Tで、13.56MHzの合計入力を50
00Wにして、放電インピーダンスを予備的に見積もる
と、約145Ωとなる。13.56MHzのRF電源の
直流部分とRF部分とを組み合わせた費用は、$150
0の範囲となる。このようなデバイスは、利得長625
cmのレーザ出力増幅器としても構成することができ
る。このような増幅器の構成では、小信号利得が、50
Wの範囲ではCO 光入力でほぼ飽和し、350Wの範
囲の出力を生成するが、これは高いレーザ出力およびラ
インの調節性を必要とする用途には理想的である。高力
CO レーザの当業者には、このようなコンパクトなレ
ーザ構造には、液体から気体への熱交換システムによる
冷却が必要であるが、先行技術のスラブ技術では、この
ようにコンパクトかつ高力で、ラインを調節できるCO
レーザ増幅器は不可能であることが理解される。
【0170】図4の実施例の様々な眺めを描いた図5お
よび6を参照すると、先行技術のスラブ技術で達成でき
なかった幾つかの特徴が見られる。たとえば、1〜3m
mの導波構造および13.56MHzの励起が、258
mm−MHzというfDの積と両立できることがわか
り、27MHzで図1の実施例で行った実験に基づき、
プラズマ・シースが、低い放電効率から得られるほど厚
くないことが予想される。図4の電極およびスペーサを
使用して、電極構造の容量は50pFと測定された。こ
の電極容量の測定値に基づき、長さ50cmのWR−1
87マイクロ波導波管本体内で、電極間隔3.5cmで
生成した175cm2 の冷却面積を有する放電領域の容
量は、約70pFとなり、これに対して、上記で参照し
たようにLapucci その他が検討した同等の大きさのスラ
ブ・デバイスでは、400pFである。図4の実施例の
長さ50cmタイプのシース容量は、はるかに小さい電
極面積および低い周波数に合わせて計算で調節され、非
常に小さい。したがって、図4の実施例に整合ネットワ
ーク(図示せず)を使用することにより、放電シースの
生成によるレーザ回路容量の増加には、ほとんど対応し
ない。図4ないし6の実施例によって熱除去が改良され
たので、銅製レーザ本体の強制空気対流冷却は効果的で
費用のかからない冷却手段であり、これによって、先行
技術のスラブ技術の使用時に通常必要とされる液体から
空気への熱交換機が不必要となる。内部のセラミック・
ピース16、18および20は、熱膨張が小さい「背
骨」としても働き、レーザが通電されて温度が上昇して
も、空洞共振器の位置合わせを維持する。また、放電容
量が低く、その上13.56MHzの励起を使用するこ
とで、先行技術のスラブ・デバイスで必要とされる無数
の分岐共振インダクタなしで動作できることも理解され
る。実際、図5で最もよく分かる、縦方向に輪郭を有す
る下部電極14”を使用すると、分岐インダクタを使用
しなくても、レーザ放電をさらに長くすることができ
る。さらに、放電チャンバを適宜、台形の断面を有する
ように作成できることを理解されたい。また、図5およ
び6で図示するように、ミラー・マウント26、28、
およびミラー・マウントの位置は、非安定または安定な
自由空間ガウス共振器で側壁間隔Wに規定され、電極間
隔Dに規定されたケース1、2または3の1次元導波管
空洞のあらゆる組合せに対応することを理解されたい。
よび6を参照すると、先行技術のスラブ技術で達成でき
なかった幾つかの特徴が見られる。たとえば、1〜3m
mの導波構造および13.56MHzの励起が、258
mm−MHzというfDの積と両立できることがわか
り、27MHzで図1の実施例で行った実験に基づき、
プラズマ・シースが、低い放電効率から得られるほど厚
くないことが予想される。図4の電極およびスペーサを
使用して、電極構造の容量は50pFと測定された。こ
の電極容量の測定値に基づき、長さ50cmのWR−1
87マイクロ波導波管本体内で、電極間隔3.5cmで
生成した175cm2 の冷却面積を有する放電領域の容
量は、約70pFとなり、これに対して、上記で参照し
たようにLapucci その他が検討した同等の大きさのスラ
ブ・デバイスでは、400pFである。図4の実施例の
長さ50cmタイプのシース容量は、はるかに小さい電
極面積および低い周波数に合わせて計算で調節され、非
常に小さい。したがって、図4の実施例に整合ネットワ
ーク(図示せず)を使用することにより、放電シースの
生成によるレーザ回路容量の増加には、ほとんど対応し
ない。図4ないし6の実施例によって熱除去が改良され
たので、銅製レーザ本体の強制空気対流冷却は効果的で
費用のかからない冷却手段であり、これによって、先行
技術のスラブ技術の使用時に通常必要とされる液体から
空気への熱交換機が不必要となる。内部のセラミック・
ピース16、18および20は、熱膨張が小さい「背
骨」としても働き、レーザが通電されて温度が上昇して
も、空洞共振器の位置合わせを維持する。また、放電容
量が低く、その上13.56MHzの励起を使用するこ
とで、先行技術のスラブ・デバイスで必要とされる無数
の分岐共振インダクタなしで動作できることも理解され
る。実際、図5で最もよく分かる、縦方向に輪郭を有す
る下部電極14”を使用すると、分岐インダクタを使用
しなくても、レーザ放電をさらに長くすることができ
る。さらに、放電チャンバを適宜、台形の断面を有する
ように作成できることを理解されたい。また、図5およ
び6で図示するように、ミラー・マウント26、28、
およびミラー・マウントの位置は、非安定または安定な
自由空間ガウス共振器で側壁間隔Wに規定され、電極間
隔Dに規定されたケース1、2または3の1次元導波管
空洞のあらゆる組合せに対応することを理解されたい。
【0171】図7を参照すると、分割RF放電レーザを
生成する電極配置を使用する、本発明の実施例の顕著な
特徴が図示されている。このようにして生成した放電
は、断面が長方形で、長辺と短辺とを有する。前述のよ
うに、放電の短辺は1対の側壁の間隔によって決定さ
れ、その間隔Wは、1〜4mmの範囲であることが好ま
しく、電極12、30、32の間の間隔DをD≫Wに維
持する。長方形断面の放電の長辺は、側壁間隔Wおよび
空洞の光軸に対して互いに垂直であるが、放電の電界に
は平行である。セラミックの側壁スペーサ16、18
は、大面積の放電冷却手段、および空洞内導波管モード
を支持する手段の両方の働きをする。空洞のモードは、
寸法Wでは導波管モード、寸法nDでは安定な自由空間
ガウス・モードまたは非安定モードであることが好まし
く、ここでnは横方向の放電セグメントの数である。理
解されるように、このタイプの配置構成は、セラミック
側壁16、18と厚肉真空エンベロープ10との間の熱
損失の小さい接触に関連する改良点と、低容量の分割電
極12、30および32の使用とを組み込む。1対の接
地電極30、32を真空エンベロープ10の内部に接続
する無数の方法は、当業者には明白であるので、本明細
書では示さない。しかし、セラミックの基板に厚さ1ミ
リメートル未満の金属を被覆し、当業者にはRF周波数
の平方根と反比例することが分かるRF表皮効果によっ
て所定の領域の電流を制限する安定器手段として効果的
に作用させ、接地電極を作成できることを指摘してお
く。さらに理解されるように、セラミックの側壁スペー
サ16、18は、鏡をレーザ本体の両端に取り付ける前
に、エンベロープの端部から真空エンベロープに挿入す
ることができる。インジウム線を圧縮することによって
密封に適したOリング溝で、ミラー・マウントをレーザ
本体に密封できる方法の詳細は、金属製真空エンベロー
プでガス・レーザを密封する当業者に理解され、よく知
られている。バキューム内ピースを金属本体に挿入した
後、レーザのガスを抜くと、真空エンベロープの外側に
深い連続溝または壕を機械加工することによって作成し
た金属ウェブを曲げることができ、大気圧によって与え
られた力が、バキューム内の要素を所定の位置にしっか
り維持し、さらにセラミック側壁と金属製エンベロープ
の壁との間の熱損失の少ない接触を保証する。十分に大
きい電極間隔Dの場合は、AM波タイプのRF増幅器技
術を用いて、本明細書の教示に従って作成したレーザに
エネルギーを与えることができた。RF放電技術の当業
者には理解されるように、プラズマが安定するのに要す
る時間は、エリア冷却したCO2 レーザに関連する圧
力、混合気および側壁間隔については、マイクロ秒の範
囲になり得る。したがって、約300μsecのサイク
ル反転時間を有する1.5MHz電源は、高力レーザの
使用に容易に適合できるRF電源技術を示す。また、図
7の実施例は、真空エンベロープの内部に、レーザ・デ
バイスに費用的に有意の影響を与える基本的に等しいバ
キューム内要素が2個しかないことも理解されたい。プ
ラズマ・シースに関する前記の検討に基づき、横RF放
電デバイスの当業者には、図7の分割放電実施例の中央
のRF電極12は、一方のセラミック側壁の表面に1m
mないし2mmの窪みを形成して作成できることが理解
される。電極12を窪みに入れることによって、活性の
共振器体積からプラズマ・シース領域を除去し、これに
よってこの領域の空洞内循環光束を改善することができ
る。
生成する電極配置を使用する、本発明の実施例の顕著な
特徴が図示されている。このようにして生成した放電
は、断面が長方形で、長辺と短辺とを有する。前述のよ
うに、放電の短辺は1対の側壁の間隔によって決定さ
れ、その間隔Wは、1〜4mmの範囲であることが好ま
しく、電極12、30、32の間の間隔DをD≫Wに維
持する。長方形断面の放電の長辺は、側壁間隔Wおよび
空洞の光軸に対して互いに垂直であるが、放電の電界に
は平行である。セラミックの側壁スペーサ16、18
は、大面積の放電冷却手段、および空洞内導波管モード
を支持する手段の両方の働きをする。空洞のモードは、
寸法Wでは導波管モード、寸法nDでは安定な自由空間
ガウス・モードまたは非安定モードであることが好まし
く、ここでnは横方向の放電セグメントの数である。理
解されるように、このタイプの配置構成は、セラミック
側壁16、18と厚肉真空エンベロープ10との間の熱
損失の小さい接触に関連する改良点と、低容量の分割電
極12、30および32の使用とを組み込む。1対の接
地電極30、32を真空エンベロープ10の内部に接続
する無数の方法は、当業者には明白であるので、本明細
書では示さない。しかし、セラミックの基板に厚さ1ミ
リメートル未満の金属を被覆し、当業者にはRF周波数
の平方根と反比例することが分かるRF表皮効果によっ
て所定の領域の電流を制限する安定器手段として効果的
に作用させ、接地電極を作成できることを指摘してお
く。さらに理解されるように、セラミックの側壁スペー
サ16、18は、鏡をレーザ本体の両端に取り付ける前
に、エンベロープの端部から真空エンベロープに挿入す
ることができる。インジウム線を圧縮することによって
密封に適したOリング溝で、ミラー・マウントをレーザ
本体に密封できる方法の詳細は、金属製真空エンベロー
プでガス・レーザを密封する当業者に理解され、よく知
られている。バキューム内ピースを金属本体に挿入した
後、レーザのガスを抜くと、真空エンベロープの外側に
深い連続溝または壕を機械加工することによって作成し
た金属ウェブを曲げることができ、大気圧によって与え
られた力が、バキューム内の要素を所定の位置にしっか
り維持し、さらにセラミック側壁と金属製エンベロープ
の壁との間の熱損失の少ない接触を保証する。十分に大
きい電極間隔Dの場合は、AM波タイプのRF増幅器技
術を用いて、本明細書の教示に従って作成したレーザに
エネルギーを与えることができた。RF放電技術の当業
者には理解されるように、プラズマが安定するのに要す
る時間は、エリア冷却したCO2 レーザに関連する圧
力、混合気および側壁間隔については、マイクロ秒の範
囲になり得る。したがって、約300μsecのサイク
ル反転時間を有する1.5MHz電源は、高力レーザの
使用に容易に適合できるRF電源技術を示す。また、図
7の実施例は、真空エンベロープの内部に、レーザ・デ
バイスに費用的に有意の影響を与える基本的に等しいバ
キューム内要素が2個しかないことも理解されたい。プ
ラズマ・シースに関する前記の検討に基づき、横RF放
電デバイスの当業者には、図7の分割放電実施例の中央
のRF電極12は、一方のセラミック側壁の表面に1m
mないし2mmの窪みを形成して作成できることが理解
される。電極12を窪みに入れることによって、活性の
共振器体積からプラズマ・シース領域を除去し、これに
よってこの領域の空洞内循環光束を改善することができ
る。
【0172】図8を参照すると、図7と同様の単一分割
のRF放電実施例の動作を強化するために、直流電源ま
たはエネルギー源を適用する様子が描かれている。図8
の実施例では、その間の放電を制限して、導波表面とし
て作用するセラミック・スペーサ16、18は、等し
く、その間にWの間隔を有し、D≫Wの電極間隔が維持
されている。レーザ・ガスの直流絶縁破壊を生じるのに
必要な値より低い電位まで充電するエネルギー保存コン
デンサ中央の直流電極34にあらかじめ接続されている
場合は、特許第5,097,472 号がその図4の励起方式で教
示したように、RF電力を電極36に印加してRF放電
が開始すると、このエネルギーがRF放電に切り替わ
る。したがって、図8の実施例では、電力レベルP1 の
RFを、中心の1個の電極で直流と同時に供給し、別の
電力レベルP2 を他方の中心の電極36で、非同時的に
供給することができる。パルス状RF放電を使用したレ
ーザの当業者に認識されるように、図8の実施例では、
わずか2個の別個の電力入力ポートから、3つの非常に
異なる電力レベル、つまりP1 、P2 およびP2 +dc
(およびパルス幅)で媒質をポンピングすることができ
る。このタイプの励起構成では、整合ネットワークを動
的に調節して、3つの異なるRF電力レベルに対応する
必要がない。この動的調節が正しくないと、放電から反
射したRF電力によって、RF電源を損なうことがあ
る。非常に異なる入力電力で放電インピーダンスに動的
インピーダンスを整合させることは、横RF励起CO2
レーザの当業者には、非常に困難であることがこれまで
認識されていた。
のRF放電実施例の動作を強化するために、直流電源ま
たはエネルギー源を適用する様子が描かれている。図8
の実施例では、その間の放電を制限して、導波表面とし
て作用するセラミック・スペーサ16、18は、等し
く、その間にWの間隔を有し、D≫Wの電極間隔が維持
されている。レーザ・ガスの直流絶縁破壊を生じるのに
必要な値より低い電位まで充電するエネルギー保存コン
デンサ中央の直流電極34にあらかじめ接続されている
場合は、特許第5,097,472 号がその図4の励起方式で教
示したように、RF電力を電極36に印加してRF放電
が開始すると、このエネルギーがRF放電に切り替わ
る。したがって、図8の実施例では、電力レベルP1 の
RFを、中心の1個の電極で直流と同時に供給し、別の
電力レベルP2 を他方の中心の電極36で、非同時的に
供給することができる。パルス状RF放電を使用したレ
ーザの当業者に認識されるように、図8の実施例では、
わずか2個の別個の電力入力ポートから、3つの非常に
異なる電力レベル、つまりP1 、P2 およびP2 +dc
(およびパルス幅)で媒質をポンピングすることができ
る。このタイプの励起構成では、整合ネットワークを動
的に調節して、3つの異なるRF電力レベルに対応する
必要がない。この動的調節が正しくないと、放電から反
射したRF電力によって、RF電源を損なうことがあ
る。非常に異なる入力電力で放電インピーダンスに動的
インピーダンスを整合させることは、横RF励起CO2
レーザの当業者には、非常に困難であることがこれまで
認識されていた。
【0173】図8の実施例を二重に分割した放電の実施
態様を、図9に示す。前記で教示したように、セラミッ
ク・スペーサは距離Wだけ間隔があき、電極も同様に距
離Dだけ間隔をあけ、ここではD≫Wである。この実施
例では、電力レベルが異なることもある2つの別個のR
F周波数RF1 およびRF2 におけるRF励起を、概略
的に示す。米国特許第5,097,472 号で教示されているよ
うに、直流を使用してRFレーザの動作を強化した2電
極のRFデバイスを用いた以前の実験で、RF放電に直
流を加えると、一方のRF電極に隣接するプラズマ・シ
ース領域が収縮し、対向する電極におけるシース領域が
拡張することが分かっている。直流の極性を反転する
と、以前は収縮したシース領域が拡張し、以前に拡張し
た領域が収縮する。27MHzで励起すると、電極付近
の放電の発光効率に基づき、直流の同時供給によるシー
ス厚さの見かけの誘導拡縮は、100%未満である。こ
のような観察結果から、自給式RF放電のプラズマ・シ
ースの厚さは、励起周波数に反比例する一方、別個の第
2の低周波数でRFを、第1のより高い周波数でRF電
源が既に開始し維持している放電へ加えても、同時に励
起されたRF放電のプラズマ・シースの厚さが、第2の
放電電源の周波数と反対に増加するとは限らないことが
理解される。したがって、図9では、高い方の周波数R
F2 のRFを使用して、電極40と30、40と36、
42と32、および42と36との間に第1系列の放電
を起動する。第2電源RF2 は、中央に配置された下部
電極36を介してすべての放電セグメントに追加の電力
を供給する。あるいは、ある周波数F2 のRFを使用し
て、2つの外側の放電セグメント、つまり電極対30、
40および32、42の間に1対の放電を起動し、別の
周波数F1 のRFを使用して、2つの内側の放電セグメ
ント、つまり電極対36、40および36、42の間に
放電を起動することができる。多重周波数励起方式のさ
らに別の変形は、3つの別個のRF励起周波数を使用し
て別個の横方向のセクションにエネルギーを与え、アパ
ーチャの多様性を獲得し、レーザ出力を走査することが
できた。
態様を、図9に示す。前記で教示したように、セラミッ
ク・スペーサは距離Wだけ間隔があき、電極も同様に距
離Dだけ間隔をあけ、ここではD≫Wである。この実施
例では、電力レベルが異なることもある2つの別個のR
F周波数RF1 およびRF2 におけるRF励起を、概略
的に示す。米国特許第5,097,472 号で教示されているよ
うに、直流を使用してRFレーザの動作を強化した2電
極のRFデバイスを用いた以前の実験で、RF放電に直
流を加えると、一方のRF電極に隣接するプラズマ・シ
ース領域が収縮し、対向する電極におけるシース領域が
拡張することが分かっている。直流の極性を反転する
と、以前は収縮したシース領域が拡張し、以前に拡張し
た領域が収縮する。27MHzで励起すると、電極付近
の放電の発光効率に基づき、直流の同時供給によるシー
ス厚さの見かけの誘導拡縮は、100%未満である。こ
のような観察結果から、自給式RF放電のプラズマ・シ
ースの厚さは、励起周波数に反比例する一方、別個の第
2の低周波数でRFを、第1のより高い周波数でRF電
源が既に開始し維持している放電へ加えても、同時に励
起されたRF放電のプラズマ・シースの厚さが、第2の
放電電源の周波数と反対に増加するとは限らないことが
理解される。したがって、図9では、高い方の周波数R
F2 のRFを使用して、電極40と30、40と36、
42と32、および42と36との間に第1系列の放電
を起動する。第2電源RF2 は、中央に配置された下部
電極36を介してすべての放電セグメントに追加の電力
を供給する。あるいは、ある周波数F2 のRFを使用し
て、2つの外側の放電セグメント、つまり電極対30、
40および32、42の間に1対の放電を起動し、別の
周波数F1 のRFを使用して、2つの内側の放電セグメ
ント、つまり電極対36、40および36、42の間に
放電を起動することができる。多重周波数励起方式のさ
らに別の変形は、3つの別個のRF励起周波数を使用し
て別個の横方向のセクションにエネルギーを与え、アパ
ーチャの多様性を獲得し、レーザ出力を走査することが
できた。
【0174】図10を参照すると、RF−DC操作に合
わせて改造した図9の実施例を示す。この実施例では、
単一の電源50からのRFを2個の上部真空フィードス
ルー・コネクタ52、54に供給し、4つの放電セグメ
ントすべてを起動する。起動すると、下部真空電力コネ
クタ56を通して予め供給された直流が、エネルギー保
存手段58(つまりコンデンサ)から地面までの2つの
放電セグメントのそれぞれに流れ込む。理解されるよう
に、この構成は最高の直流電圧を使用して媒質をパルス
励起し、それと同時にRFを使用して、電気的に並列に
動作する4つのRF放電に効果的にエネルギーを与え
る。間隔の広い電極36、30および36、32の分割
放電対に、比較的高い直流電圧を使用すると、所定の保
存エネルギーに対して比較的低い値の保存容量を使用す
るのに役立ち、さらに、放電パルスを高速化し、ピーク
・レーザ出力を増大するのに役立つ。先行技術の長方形
断面のRFスラブ放電に直流を追加することが望ましい
場合は、プラズマ・シースの1つが否応なく収縮して放
電が不安定になる前に適応できる直流のレベルが、非常
に限られることが理解される。さらに、所定のエネルギ
ー保存について、必要な容量は比較的大きく、したがっ
て高速の放電パルスには好ましくない。横RF励起CO
2 レーザの当業者には、電極の分離および放電セグメン
トの数を用い、広帯域トロイダルRF変圧器を使用する
ことによって、本発明の実施例に従って作成したレーザ
の一体放電インピーダンスを、特定のタイプの整合回路
にとって最適のレベルに調整することができることも理
解される。この点で、RF放電の当業者には、地面と直
流入力ポートとの間に接続されたRF短絡回路の機能
は、直流ポートをRF接地することであるのが理解され
る。このようなRF短絡回路は、RF励起周波数で共振
する直列LC回路で構成することができる。
わせて改造した図9の実施例を示す。この実施例では、
単一の電源50からのRFを2個の上部真空フィードス
ルー・コネクタ52、54に供給し、4つの放電セグメ
ントすべてを起動する。起動すると、下部真空電力コネ
クタ56を通して予め供給された直流が、エネルギー保
存手段58(つまりコンデンサ)から地面までの2つの
放電セグメントのそれぞれに流れ込む。理解されるよう
に、この構成は最高の直流電圧を使用して媒質をパルス
励起し、それと同時にRFを使用して、電気的に並列に
動作する4つのRF放電に効果的にエネルギーを与え
る。間隔の広い電極36、30および36、32の分割
放電対に、比較的高い直流電圧を使用すると、所定の保
存エネルギーに対して比較的低い値の保存容量を使用す
るのに役立ち、さらに、放電パルスを高速化し、ピーク
・レーザ出力を増大するのに役立つ。先行技術の長方形
断面のRFスラブ放電に直流を追加することが望ましい
場合は、プラズマ・シースの1つが否応なく収縮して放
電が不安定になる前に適応できる直流のレベルが、非常
に限られることが理解される。さらに、所定のエネルギ
ー保存について、必要な容量は比較的大きく、したがっ
て高速の放電パルスには好ましくない。横RF励起CO
2 レーザの当業者には、電極の分離および放電セグメン
トの数を用い、広帯域トロイダルRF変圧器を使用する
ことによって、本発明の実施例に従って作成したレーザ
の一体放電インピーダンスを、特定のタイプの整合回路
にとって最適のレベルに調整することができることも理
解される。この点で、RF放電の当業者には、地面と直
流入力ポートとの間に接続されたRF短絡回路の機能
は、直流ポートをRF接地することであるのが理解され
る。このようなRF短絡回路は、RF励起周波数で共振
する直列LC回路で構成することができる。
【0175】図11を参照すると、DCを増大した動作
に合わせて改造した図9の実施例を示す。ここで、反復
パルスRF電源60を、単一の中心の電極36に供給
し、2つの外側の接地電極30、32間に規定されたレ
ーザのアパーチャ全体に連結された2つの長い放電を起
動する。レーザのアパーチャの中心、つまり電極40、
42間に連結された単一の中心の放電にのみ直流を切り
換えるよう、RFパルス間に選択した既定の時間で、予
め接続したエネルギー源コンデンサを、所望の電圧まで
コマンド充電することができる。このようなアパーチャ
が多様な方式は、レーザの角指向性を変更することな
く、レーザの発散を変更することが望ましいレーザへ適
用するのに有用である。
に合わせて改造した図9の実施例を示す。ここで、反復
パルスRF電源60を、単一の中心の電極36に供給
し、2つの外側の接地電極30、32間に規定されたレ
ーザのアパーチャ全体に連結された2つの長い放電を起
動する。レーザのアパーチャの中心、つまり電極40、
42間に連結された単一の中心の放電にのみ直流を切り
換えるよう、RFパルス間に選択した既定の時間で、予
め接続したエネルギー源コンデンサを、所望の電圧まで
コマンド充電することができる。このようなアパーチャ
が多様な方式は、レーザの角指向性を変更することな
く、レーザの発散を変更することが望ましいレーザへ適
用するのに有用である。
【0176】図9、10または11で実施されるような
多電極方式を用いて、全共振器アパーチャの一部にのみ
連結する媒質を生成することができ、この方式を用いて
レーザの出力を変更したり、レーザの出力フレネル数を
変更したり、レーザの出力の発散を変更したり、あるい
はレーザの出力を角度で走査したりすることができるこ
とが理解される。このような多重方式を使用して、RF
出力結合回路に伴う出力損失を回避できることも認識さ
れる。
多電極方式を用いて、全共振器アパーチャの一部にのみ
連結する媒質を生成することができ、この方式を用いて
レーザの出力を変更したり、レーザの出力フレネル数を
変更したり、レーザの出力の発散を変更したり、あるい
はレーザの出力を角度で走査したりすることができるこ
とが理解される。このような多重方式を使用して、RF
出力結合回路に伴う出力損失を回避できることも認識さ
れる。
【0177】長方形断面の放電を生成する構成を、金属
真空エンベロープを除き、2個の外側の電極40、42
を地面に接続せずに図12に示す。この実施例では、空
洞の光軸62は、図7〜11の実施例で図示した薄い電
極に平行ではなく垂直に延びるよう、概略的に示す。こ
の実施例では、空洞の光軸に対して横方向に、長方形断
面の放電が生成され、前記放電は、短辺と長辺とを有す
る。前記放電の短辺は、Wで表され、1ないし4mmの
範囲であることが好ましく、光導波管構造の壁として働
くと同時に放電をエリア冷却する手段としても働くセラ
ミック製側壁スペーサの間隔によって規定される。電極
36、40’および36、42’間の間隔Dは等しく、
セラミック製側壁スペーサによってD≫Wとなるよう維
持される。この構成は、上述したすべての実施例と同
様、側壁に平行な放電電界を生成する。前記長方形断面
の放電の長辺は、前記放電短辺および光共振器の軸に対
して互いに垂直であり、電極の長さによってほぼ決定さ
れ、安定な自由空間ガウス・モードまたは非安定共振器
モードをこの寸法で指示するのに適した寸法を有する。
本明細書の教示に従い、中心の電極36にエネルギーを
与え、2つの外部電極40、42を接地することによっ
て生成した放電は、セラミック側壁間に制約され、間隔
Dの電極間に確立され、このように側壁に平行な放電電
界が生成される。
真空エンベロープを除き、2個の外側の電極40、42
を地面に接続せずに図12に示す。この実施例では、空
洞の光軸62は、図7〜11の実施例で図示した薄い電
極に平行ではなく垂直に延びるよう、概略的に示す。こ
の実施例では、空洞の光軸に対して横方向に、長方形断
面の放電が生成され、前記放電は、短辺と長辺とを有す
る。前記放電の短辺は、Wで表され、1ないし4mmの
範囲であることが好ましく、光導波管構造の壁として働
くと同時に放電をエリア冷却する手段としても働くセラ
ミック製側壁スペーサの間隔によって規定される。電極
36、40’および36、42’間の間隔Dは等しく、
セラミック製側壁スペーサによってD≫Wとなるよう維
持される。この構成は、上述したすべての実施例と同
様、側壁に平行な放電電界を生成する。前記長方形断面
の放電の長辺は、前記放電短辺および光共振器の軸に対
して互いに垂直であり、電極の長さによってほぼ決定さ
れ、安定な自由空間ガウス・モードまたは非安定共振器
モードをこの寸法で指示するのに適した寸法を有する。
本明細書の教示に従い、中心の電極36にエネルギーを
与え、2つの外部電極40、42を接地することによっ
て生成した放電は、セラミック側壁間に制約され、間隔
Dの電極間に確立され、このように側壁に平行な放電電
界が生成される。
【0178】横RF励起ガス・レーザの当業者にとっ
て、図12のレーザの実施例は、縦方向の光軸を有し、
放電空間がRF電界で励起され、前記放電空間は、縦方
向の光軸に対して垂直の断面を有する。放電電界を有す
る1対の間隔をあけた非導電側壁から成る前記放電空間
は、前記非導電性側壁に対してほぼ平行に確立され、前
記放電空間は、短い方の平均寸法と前記短い方の寸法に
対して横方向の長い方の平均寸法によって特徴付けられ
た断面を有する。また、短い方の寸法は、前記側壁の間
であり、前記長い方の寸法は、非安定共振器モードの横
軸またはガウス自由空間共振器モードの横軸に平行な方
向である。短い方の寸法は、さらに、導波管モードまた
は自由空間ガウス・モードの横軸に対して平行な方向と
も言える。したがって、本明細書で教示する長方形断面
の放電空間にとって好ましい共振器のタイプは、まず第
1に長い方の断面寸法、第2に短い方の断面寸法で呼ぶ
と、非安定と導波管、非安定と自由空間ガウス、自由空
間ガウスと導波管、および自由空間ガウスと自由空間ガ
ウスである。
て、図12のレーザの実施例は、縦方向の光軸を有し、
放電空間がRF電界で励起され、前記放電空間は、縦方
向の光軸に対して垂直の断面を有する。放電電界を有す
る1対の間隔をあけた非導電側壁から成る前記放電空間
は、前記非導電性側壁に対してほぼ平行に確立され、前
記放電空間は、短い方の平均寸法と前記短い方の寸法に
対して横方向の長い方の平均寸法によって特徴付けられ
た断面を有する。また、短い方の寸法は、前記側壁の間
であり、前記長い方の寸法は、非安定共振器モードの横
軸またはガウス自由空間共振器モードの横軸に平行な方
向である。短い方の寸法は、さらに、導波管モードまた
は自由空間ガウス・モードの横軸に対して平行な方向と
も言える。したがって、本明細書で教示する長方形断面
の放電空間にとって好ましい共振器のタイプは、まず第
1に長い方の断面寸法、第2に短い方の断面寸法で呼ぶ
と、非安定と導波管、非安定と自由空間ガウス、自由空
間ガウスと導波管、および自由空間ガウスと自由空間ガ
ウスである。
【0179】当業者には、図12の実施例の放電領域は
共振器の光軸を固定し、放電をエリア冷却する導波表面
に対して垂直に延びる軸を中心に、放電構造を90°回
転させることによって、図7〜11の実施例にほぼ等し
いような外観にすることができることが認識される。長
方形断面の放電および導波管・非安定または導波管・安
定共振器の幾何形状の当業者には、この2つの好ましい
共振器タイプの空洞内モードも出力モードも、下部電極
付近に形成されたプラズマ・シース領域の100%を通
過することも理解される。しかし、それと同時に、空洞
の循環光束が通過できるプラズマ・シースの全体積は、
エリア冷却したレーザを図12の実施例に従って作成す
ると、RF励起周波数を賢明に選択することにより、非
常に小さくできることも、当業者には理解される。図1
2のデバイスの幾何形状は、先行技術のスラブ放電デバ
イスのfDとpDの積の関係の反結合による利点を受け
る。図12の幾何形状によって提供されるもう一つの利
点は、典型的に接地された空洞ミラー・マウントと高い
電位のRF電極との間の距離を最小にできることである
ことも、さらに理解される。
共振器の光軸を固定し、放電をエリア冷却する導波表面
に対して垂直に延びる軸を中心に、放電構造を90°回
転させることによって、図7〜11の実施例にほぼ等し
いような外観にすることができることが認識される。長
方形断面の放電および導波管・非安定または導波管・安
定共振器の幾何形状の当業者には、この2つの好ましい
共振器タイプの空洞内モードも出力モードも、下部電極
付近に形成されたプラズマ・シース領域の100%を通
過することも理解される。しかし、それと同時に、空洞
の循環光束が通過できるプラズマ・シースの全体積は、
エリア冷却したレーザを図12の実施例に従って作成す
ると、RF励起周波数を賢明に選択することにより、非
常に小さくできることも、当業者には理解される。図1
2のデバイスの幾何形状は、先行技術のスラブ放電デバ
イスのfDとpDの積の関係の反結合による利点を受け
る。図12の幾何形状によって提供されるもう一つの利
点は、典型的に接地された空洞ミラー・マウントと高い
電位のRF電極との間の距離を最小にできることである
ことも、さらに理解される。
【0180】本明細書で開示した実施例とは反対に、本
発明に従って生成した長方形断面の放電領域の独特の特
徴をモデル化したり保存したりする放電領域を示すこと
ができる、先行技術のRF励起スラブ放電の幾何形状を
分析または実験のために回転できる軸はないことが理解
される。
発明に従って生成した長方形断面の放電領域の独特の特
徴をモデル化したり保存したりする放電領域を示すこと
ができる、先行技術のRF励起スラブ放電の幾何形状を
分析または実験のために回転できる軸はないことが理解
される。
【0181】好ましい実施例について図示し、述べてき
たが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、
本発明に様々な修正および代用ができる。したがって、
本発明について例証によって述べたもので、制限するも
のではないことが理解される。
たが、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、
本発明に様々な修正および代用ができる。したがって、
本発明について例証によって述べたもので、制限するも
のではないことが理解される。
【図1】本発明の第1の実施例による長方形放電レーザ
の、概略断面立面図である。
の、概略断面立面図である。
【図2】本発明に従って構築したレーザの様々な励起パ
ルス幅とピーク・レーザ出力のプロット図である。
ルス幅とピーク・レーザ出力のプロット図である。
【図3】本発明に従って構築したレーザの平均RF入力
の関数としての、平均レーザ出力のプロット図である。
の関数としての、平均レーザ出力のプロット図である。
【図4】横方向に輪郭を描いた下部電極、RF−DC励
起、および薄肉真空エンベロープに対する強化した伝導
冷却を示す、本発明の第2の実施例による長方形放電レ
ーザの概略断面立面図である。
起、および薄肉真空エンベロープに対する強化した伝導
冷却を示す、本発明の第2の実施例による長方形放電レ
ーザの概略断面立面図である。
【図5】図4に示した長方形放電レーザを、図4の横方
向で切り取った断面側面図で、空洞鏡と誇張して縦方向
に輪郭を描いた下部電極とを概略的に示す。
向で切り取った断面側面図で、空洞鏡と誇張して縦方向
に輪郭を描いた下部電極とを概略的に示す。
【図6】図4および5の長方形放電レーザの縦方向の上
面断面図で、長方形の空洞鏡の使用を概略的に示す。
面断面図で、長方形の空洞鏡の使用を概略的に示す。
【図7】分割放電、真空屈曲スロット、薄肉真空エンベ
ロープへの強化伝導冷却、およびRFのみの励起の使用
を組み込んだ、本発明の第3の実施例による長方形放電
レーザの概略断面立面図である。
ロープへの強化伝導冷却、およびRFのみの励起の使用
を組み込んだ、本発明の第3の実施例による長方形放電
レーザの概略断面立面図である。
【図8】RF−DC励起の使用を示す、本発明の第4の
実施例による長方形放電レーザの概略断面立面図であ
る。
実施例による長方形放電レーザの概略断面立面図であ
る。
【図9】2つの異なった周波数でのRF励起の使用を概
略的に示す、レーザの第5の実施例による長方形放電レ
ーザの概略断面立面図である。
略的に示す、レーザの第5の実施例による長方形放電レ
ーザの概略断面立面図である。
【図10】RF−DC励起の使用を概略的に示す、レー
ザの第5の実施例による長方形放電レーザの概略断面立
面図である。
ザの第5の実施例による長方形放電レーザの概略断面立
面図である。
【図11】べつのRF−DC励起手段を概略的に示す、
レーザの第5の実施例による長方形放電レーザの概略断
面立面図である。
レーザの第5の実施例による長方形放電レーザの概略断
面立面図である。
【図12】本発明の第6の実施例による、伝熱性および
導電性真空エンベロープのない長方形放電レーザの、部
分的に透視した概略図で、縦方向の長方形断面のRF励
起のために配置構成された分割放電を組み込む。
導電性真空エンベロープのない長方形放電レーザの、部
分的に透視した概略図で、縦方向の長方形断面のRF励
起のために配置構成された分割放電を組み込む。
10 真空エンベロ−プ 12 上部電極 14 下部電極 16 セラミック・スペ−サ・ピ−ス 30 分割電極 36 電極 40 電極 50 電源 52 フィ−ルドスル−・コネクタ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成8年12月26日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【FlG・2】
【FlG・3】
【FlG・1】
【FlG・4】
【FlG・5】
【FlG・6】
【FlG・7】
【FlG・8】
【FlG・9】
【FlG・11】
【FlG・10】
【FlG・12】
Claims (7)
- 【請求項1】 縦方向の光軸と放電空間とを有するRF
励起ガス・レーザ・デバイスであって、前記放電空間
は、おおむね長方形で前記縦方向光軸に対して垂直方向
の断面を有し、 1対の間隔をあけた非導電性側壁を備え、前記放電断面
は、一部が前記側壁によって規定され、平均すると短い
方の寸法および前記短い方の寸法に対して横方向の平均
して長い方の寸法を特徴とし、前記短い方の寸法は、前
記非導電性側面の間にあり、前記短い方の寸法はレーザ
光の誘導に適し、さらに前記放電空間の各端部に配置さ
れたレーザ共振器ミラーと、 前記放電空間に配置されたレーザ・ガスと、 前記放電空間内に少なくとも10kHzの周波数を有す
る励起電界を確立する手段とを備え、前記電界確立手段
によって、前記励起電界が偶数のセグメント内に確立さ
れ、前記励起電界セグメントが、前記放電空間の断面の
前記短い方の寸法に対してほぼ垂直の方向である、前記
デバイス。 - 【請求項2】 前記励起電界確立手段が、さらに、前記
第1および第2電極の近傍に配置された少なくとも1つ
の第3電極を含み、最も距離がある前記電極間の間隔
が、前記非安定な共振器動作モードを支持する、請求項
1記載のレーザ・デバイス。 - 【請求項3】 縦方向の光軸と、第2電界および少なく
とも10kHzの周波数を有する第1電界によって同時
励起される放電空間とを有するガス・レーザ・デバイス
であって、 少なくとも第1、第2および第3の間隔をあけた細長い
電極と、 1対の間隔をあけた非導電性側壁とを備え、前記側壁
は、一部が気体放電領域を規定し、前記放電領域は、前
記縦方向光軸に対して垂直の断面を有し、前記放電領域
の断面は、平均して短い方の寸法と平均して長い方の寸
法とによって特徴付けられ、前記長い方の寸法は、前記
短い方の寸法に対して横方向で、励起電界が前記短い方
の寸法に対しておおむね横方向に確立され、前記短い方
の寸法が、前記側壁の間で、これに対してほぼ横方向
で、前記短い方の寸法はレーザ光の誘導に適し、さら
に、 前記放電空間の各端部に配置されたレーザ共振器ミラー
を備え、前記ミラーは共同して前記縦方向光軸を規定
し、さらに、 前記放電空間に配置されたレーザ・ガスと、 前記励起電界を確立する手段とを備え、前記電界確立手
段はRFエネルギーの電源を含み、 前記電界確立手段は、前記電極間に、その間隔を最小に
して前記第1電界を確立し、前記第3電極とその他の前
記電極のうち少なくとも1つとの間に第2電界を確立す
る、前記デバイス。 - 【請求項4】 前記短い方の寸法が、安定な放電を維持
するレーザ光発生の間に、前記放電領域から前記側壁へ
の熱伝達率に比例する、請求項1および3記載のレーザ
・デバイス。 - 【請求項5】 放電領域の圧力Pが、前記短い方の寸法
と比例する、請求項1および3に記載のレーザ。 - 【請求項6】 前記長い方の寸法が、RF励起周波数f
と比例する、請求項1、3および5に記載のレーザ。 - 【請求項7】 前記長い方の寸法が、少なくとも1より
大きいフレネル数を有するレーザ光の放電アパーチャを
規定する、請求項1、3、5および6記載のレーザ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US56299895A | 1995-11-27 | 1995-11-27 | |
| US08/562,998 | 1995-11-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09172214A true JPH09172214A (ja) | 1997-06-30 |
Family
ID=24248658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8353432A Pending JPH09172214A (ja) | 1995-11-27 | 1996-11-26 | 矩形放出ガスレーザ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0776073B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09172214A (ja) |
| AT (1) | ATE226766T1 (ja) |
| DE (1) | DE69624447T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008535254A (ja) * | 2005-03-28 | 2008-08-28 | ライトレーザー エルエルシー | レーザ電源 |
| JP2013500790A (ja) * | 2009-07-30 | 2013-01-10 | ネイサン ポール モンティー, | 中範囲のガス圧を用いる歯科用レーザシステム |
| CN104396100A (zh) * | 2012-03-30 | 2015-03-04 | 相干公司 | 紧凑型co2片状激光器 |
| JP2015065410A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-04-09 | ビアメカニクス株式会社 | ガスレーザ発振器 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1095605C (zh) * | 1998-08-25 | 2002-12-04 | 哈尔滨工业大学 | 射频激励双通道不等长波导二氧化碳激光器电极 |
| US6879616B2 (en) | 2003-01-24 | 2005-04-12 | Trumpf, Inc. | Diffusion-cooled laser system |
| EP2603958B1 (en) * | 2010-08-10 | 2019-07-24 | Dentaray Ltd. | Laser arrangement and system, and a medical laser treatment system thereof |
| CA2968848A1 (en) | 2014-11-26 | 2016-06-02 | Convergent Dental, Inc. | Systems and methods for supplying power to and cooling dental laser systems |
| CN112684256B (zh) * | 2020-12-11 | 2024-11-15 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种离子推力器放电室等效复阻抗测试装置及方法 |
| CN114269058B (zh) * | 2021-11-25 | 2023-07-28 | 河北大学 | 一种在水面上产生大尺度片状等离子体羽的装置及方法 |
| CN120764752B (zh) * | 2025-06-25 | 2026-04-14 | 国瑞新能源(广州)有限公司 | 一种统调负荷进行任意时间尺度的机器学习预测方法及系统 |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3969685A (en) | 1974-12-06 | 1976-07-13 | United Technologies Corporation | Enhanced radiation coupling from unstable laser resonators |
| US4088965A (en) | 1976-07-12 | 1978-05-09 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Charge transfer reaction laser with preionization means |
| US4169251A (en) | 1978-01-16 | 1979-09-25 | Hughes Aircraft Company | Waveguide gas laser with high frequency transverse discharge excitation |
| US4363126A (en) | 1980-12-10 | 1982-12-07 | United Technologies Corporation | Tuned-circuit RF-excited laser |
| US4443877A (en) | 1982-02-01 | 1984-04-17 | United Technologies Corporation | Uniformly excited RF waveguide laser |
| US4651325A (en) | 1983-02-28 | 1987-03-17 | Hughes Aircraft Company | RF-pumped infrared laser using transverse gas flow |
| US4755999A (en) | 1985-03-25 | 1988-07-05 | Macken John A | Laser apparatus utilizing a magnetically enhanced electrical discharge |
| US4908585A (en) | 1985-04-30 | 1990-03-13 | Chenausky Peter P | RF transformer and diagnostic technique therefor |
| US4751717A (en) | 1985-04-30 | 1988-06-14 | Peter Chenausky | RF transformer and diagnostic technique therefor |
| US4719639B1 (en) | 1987-01-08 | 1994-06-28 | Boreal Laser Inc | Carbon dioxide slab laser |
| US4756000A (en) | 1987-02-18 | 1988-07-05 | Macken John A | Discharge driven gold catalyst with application to a CO2 laser |
| US4803694A (en) * | 1987-07-08 | 1989-02-07 | Amada Company, Limited | Laser resonator |
| DE3729053A1 (de) | 1987-08-31 | 1989-03-16 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Hochleistungs-bandleiterlaser |
| US4755990A (en) | 1987-10-08 | 1988-07-05 | Karl Suss America, Inc. | Collision avoidance in a multinode data communication network |
| US4787090A (en) | 1988-03-28 | 1988-11-22 | United Technologies Corporation | Compact distributed inductance RF-excited waveguide gas laser arrangement |
| US5048048A (en) | 1989-08-11 | 1991-09-10 | Mitsubishi Denki K.K. | Gas laser device |
| US5097472A (en) | 1990-02-22 | 1992-03-17 | Chenausky Peter P | Preionized transversely excited laser |
| US5123028A (en) | 1990-10-12 | 1992-06-16 | Coherent, Inc. | RF Excited CO2 slab waveguide laser |
| DE69501917T2 (de) * | 1994-06-08 | 1998-11-05 | Qsource Inc | Gaslaser mit rechteckigem Entladungsraum |
-
1996
- 1996-11-25 AT AT96118839T patent/ATE226766T1/de not_active IP Right Cessation
- 1996-11-25 EP EP96118839A patent/EP0776073B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-11-25 DE DE69624447T patent/DE69624447T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-26 JP JP8353432A patent/JPH09172214A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008535254A (ja) * | 2005-03-28 | 2008-08-28 | ライトレーザー エルエルシー | レーザ電源 |
| JP2013500790A (ja) * | 2009-07-30 | 2013-01-10 | ネイサン ポール モンティー, | 中範囲のガス圧を用いる歯科用レーザシステム |
| CN104396100A (zh) * | 2012-03-30 | 2015-03-04 | 相干公司 | 紧凑型co2片状激光器 |
| JP2015065410A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-04-09 | ビアメカニクス株式会社 | ガスレーザ発振器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69624447T2 (de) | 2003-06-18 |
| EP0776073A1 (en) | 1997-05-28 |
| DE69624447D1 (de) | 2002-11-28 |
| EP0776073B1 (en) | 2002-10-23 |
| ATE226766T1 (de) | 2002-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5748663A (en) | Retangular discharge gas laser | |
| US4464760A (en) | Elongated chambers for use in combination with a transversely excited gas laser | |
| US4618961A (en) | Configuration of electrodes for transversely excited gas lasers | |
| WO1999022428A1 (en) | All metal electrode sealed gas laser | |
| US4955035A (en) | Microwave-pumped, high-pressure, gas-discharge laser | |
| Nishimae et al. | Development of CO2 laser excited by 2.45-GHz microwave discharge | |
| US4589114A (en) | Optical mode control for a gas laser | |
| US4891819A (en) | RF excited laser with internally folded resonator | |
| JPH09172214A (ja) | 矩形放出ガスレーザ | |
| US20080061669A1 (en) | Dielectric barrier discharge excimer light source | |
| US4620306A (en) | Elongated chambers for use in combination with a transversely excited gas laser | |
| US5379317A (en) | Microwave-excited slab waveguide laser with all metal sealed cavity | |
| JPH0690048A (ja) | パルス波co2レーザー | |
| US5596593A (en) | Orthogonal RFDC transverse excited gas laser | |
| US5131004A (en) | RF excited CO2 slab waveguide laser | |
| US7778303B2 (en) | Laser having distributed inductances | |
| US20070133643A1 (en) | Effective excitation, optical energy extraction and beamlet stacking in a multi-channel radial array laser system | |
| US6711201B2 (en) | Truncated ridge waveguide for all-metal gas laser excitation | |
| US5684821A (en) | Microwave excited laser with uniform gas discharge | |
| RU2164048C1 (ru) | Устройство для свч возбуждения и поддержания генерации газоразрядного лазера при помощи создания плазменной коаксиальной линии | |
| Marz et al. | Microwave excitation of a diffusion-cooled CO2 laser | |
| RU2354019C1 (ru) | Активная среда для электроразрядного со-лазера или усилителя и способ ее накачки | |
| Hall et al. | RF excitation of diffusion cooled and fast axial flow lasers | |
| EP0687044B1 (en) | Rectangular discharge gas laser | |
| Mineev et al. | A microwave-pumped slab CO2 laser |