JPH09172261A - 多層プリント配線板の製造方法 - Google Patents

多層プリント配線板の製造方法

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JPH09172261A
JPH09172261A JP34853395A JP34853395A JPH09172261A JP H09172261 A JPH09172261 A JP H09172261A JP 34853395 A JP34853395 A JP 34853395A JP 34853395 A JP34853395 A JP 34853395A JP H09172261 A JPH09172261 A JP H09172261A
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JP34853395A
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Masaru Hanamori
優 花森
Kenji Komatsu
健治 小松
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Nippon Avionics Co Ltd
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Nippon Avionics Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビヤホールの加工工数を減らし、特に基板の
積層枚数が多い場合の製造工程数を著しく減らして生産
性を高める。 【解決手段】 3層以上のの層間の回路パターンを接続
するビヤホールを、一度のレーザによる穴あけ加工と、
一度の銅めっき処理とを用いて形成する。また隣接しな
い層間を接続するビアホールにこれら両層の間の回路パ
ターンが接触しないように回路パターンを形成してお
き、積層後に一度のレーザによる穴あけ加工とめっき処
理でビアホールを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、ビヤホールにより
異なる層間の接続を行う多層プリント配線板の製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】多層プリント配線板においては、異なる
層間の電気接続を行うためにビアホール(via hole、バ
イアホールともいう)を設けている。このビアホールを
形成するのにレーザを用いることが従来より知られてい
る。
【0003】図4、5は従来のレーザを用いたビアホー
ルの加工工程の一例を示す図である。この方法は3層以
上の隣接する内層回路を接続するものである。これらの
図で(A)〜(H)は加工工程を順に示す。まず絶縁性
基板10を準備する(図4の工程(A))。この基板1
0はガラス繊維などレーザにより加工が不可能または困
難な基材を含んでいてもよい。この基板10の両面には
銅箔12、12が接着されている。
【0004】この基板10の両面に回路パターン12
A、12Aを公知の方法、例えばフォトエッチング法に
より形成する(同図の工程(B))。この基板10の両
面に他の基板14、14あるいは銅箔を接着剤シート等
により接着し積層する(図4の工程(C))。ここに用
いる接着剤シートはガラス繊維を含まないものとする。
この基板14、14は前記基板10と同様にガラス繊維
を含まない樹脂板とするのが望ましい。また両基板1
4、14の外側の面には銅箔16、16がそれぞれ接着
されている。
【0005】この積層体18の銅箔16、16はビアホ
ールを形成する位置を例えばフォトエッチングによって
除去して小孔を形成しておく。なおこのビアホールは、
前記基板10の銅箔12、12に形成した回路パターン
のランドに重なる位置にある。そしてこの積層体18に
レーザを用いて穴あけ加工を行う(図4の工程
(D))。
【0006】ここに用いるレーザはビアホール用に積層
体18の銅箔16、16を除去した小孔の部分に照射さ
れる。このレーザの照射により銅箔16の小孔の下方で
基板14、14の樹脂が消失し、ビアホール孔20が形
成される。レーザは基板10の回路パターン12Aに形
成したランドに到達すると、このランドが銅箔であるた
めにランドに孔をあけることができない。このためビア
ホール孔20はこのランドまでの深さとなり、それより
下の基板10には変化を及ぼさない。なお実際のビアホ
ール孔20は下層に向って次第に小径となる円錐状とな
るが、この図4、5では簡略にするため円柱状に表示し
ている。
【0007】このようにビアホール孔20を形成した
後、無電解めっき処理によりビアホール孔20の内面に
導電性を付与し、さらに電解銅めっきを行う。そして積
層体18の外面に回路パターン16Aを形成する(図4
の工程(E))。この銅めっき処理によって基板10の
回路パターン12Aと、基板14の回路パターン16A
との異なる層間が電気的に接続される。すなわちビアホ
ール20Aが形成される。
【0008】このようにビアホール20Aを形成した積
層体18には、さらに他の基板22、22あるいは銅箔
が積層されて積層体18Aが形成される。この時に用い
る接着剤シートはガラス繊維を含まない。この接着剤シ
ートに含まれる接着剤がビアホール20A内に流入して
このビアホール20Aを埋める(図5の工程(F))。
なおこの基板22、22も前記基板14と同様に片面に
銅箔24、24を張ったものであり、この銅箔24を外
側にして積層する。
【0009】この銅箔24には、この基板22に形成す
るビアホールの位置に対応する部分を例えばフォトエッ
チングにより除去することにより小孔が形成される。そ
してレーザを用いてこの基板22にビアホール孔26を
穴あけ加工する(図5の工程(G))。このビアホール
孔26の底は、基板14の回路パターン16Aのランド
となっている。そしてこの積層体18Aのスルーホール
孔26に無電解めっきにより導電性を付与した後、電解
めっきを施し、最外層の回路パターン24Aを形成する
(図5の工程(H))。この結果回路パターン24Aと
内層回路パターン16Aとを接続するビアホール26A
が形成される。
【0010】図7は隣接しない2つの層間を接続する従
来のビアホールの加工方法を示す図である。この図にお
いて100はコアとなる絶縁性基板、102、104、
106はこの基板100に積層された基板である。これ
ら基板100、102、104にはそれぞれ内層回路パ
ターン108、110、112が形成され、最上層の基
板106には外層回路パターン114が形成されてい
る。
【0011】ここに内層回路パターン108と110と
はビアホール116により接続され、内層回路パターン
110と112とはビアホール118により接続され
る。また内層回路パターン112と114とはビアホー
ル120により接続される。ビアホール116は基板1
00に基板102を積層した状態でレーザを用いて基板
102の回路パターン110側から小孔を穿設し、銅め
っき処理することにより形成される。
【0012】同様にビアホール118は基板104を積
層した状態で加工され、ビアホール120は基板106
を積層した状態で加工される。このように従来は、隣接
しない2つの層間の接続を行うために、その間の各層ご
とに順番に接続していたから、各基板102、104、
106を積層する度にビアホール116、118、12
0を加工する必要があった。
【0013】
【従来技術の問題点】このように従来の方法は、基板を
積層する度にこの新たに積層した基板にレーザによりビ
ヤホール孔20、26、66、68、70を形成するも
のであった。またビヤホール孔20、26、66、6
8、70を形成する度にその内面に銅めっきを施して隣
接する層間の電気的接続を得る必要があった。このため
基板の積層枚数の増加に対応して製造工程数が著しく増
えるという問題があった。
【0014】
【発明の目的】本発明はこのような事情に鑑みなされた
ものであり、ビヤホールの加工工数を減らし、特に基板
の積層枚数が多い場合の製造工程数を著しく減らして生
産性を高めることができる多層プリント配線板の製造方
法を提供することを目的とする。
【0015】
【発明の構成】本発明によればこの目的は、回路パター
ンを形成した複数の絶縁性基板を絶縁層を介して積層圧
着する一方、異なる3層以上の層間の回路パターンをビ
アホールで接続する多層プリント配線板の製造方法にお
いて、複数の内層回路パターンは積層体の厚さ方向に重
なるランドをそれぞれ持ち、これらランドのうち最下層
のランド以外のランドには積層体の表面側から順に小径
となる小孔が略同軸上に形成され、前記積層体の表面か
ら複数のランドの小孔を貫通して前記最下層のランドに
到達するビアホール孔をレーザを用いて形成し、前記ビ
アホール孔に銅めっきを施して異なる層間の回路パター
ンを接続することを特徴とする多層プリント配線板の製
造方法、により達成される。
【0016】また同一の目的は、回路パターンを形成し
た複数の絶縁性基板を絶縁層を介して3層以上に積層圧
着する一方、隣接しない異なる層間の回路パターンをビ
アホールで接続する多層プリント配線板の製造方法にお
いて、隣接しない2つの層の内層回路パターンはこれら
2つの層の間の内層回路パターンに重ならないで積層体
の厚さ方向に重なるランドをそれぞれ持ち、これらラン
ドのうち外層のランドに小孔を形成し、前記積層体の表
面から上層のランドの小孔を貫通して前記下層のランド
に到達するビアホール孔をレーザを用いて形成し、前記
ビアホール孔に銅めっきを施して異なる層間の回路パタ
ーンを接続することを特徴とする多層プリント配線板の
製造方法、により達成される。
【0017】
【発明の実施の態様】図1および図2は本発明の一実施
態様の加工工程を示す図、図3は図1の工程Fの一部で
あるII矢視部分の拡大図である。この実施例は3層以上
の回路パターンを接続するビアホールを形成するもので
ある。図1において工程(A)〜(C)は前記図4に示
したものと同じであるから、同一部分に同一符号を付し
てその説明は繰り返えさない。
【0018】この実施態様では、基板10の両面に片面
に銅箔を張った基板14、14を積層した後(図1の工
程(C))、回路パターン16A、16Aを形成する
(図1の工程(D))。すなわちビアホール孔を加工せ
ずにまず回路パターン16Aを形成するものである。そ
してこの積層体18の両面にさらに他の基板50、50
あるいは銅箔を接着剤シートなどを介して積層する(工
程(E))。この基板50、50も片面に銅箔52、5
2を張ったものである。
【0019】このように基板50、50を積層した積層
体54の銅箔52、52には、ビアホールを形成する位
置をフォトエッチングなどによって除去して小孔56
(図3参照)を形成しておく。またこのビアホールを形
成する位置には前記基板10、14に形成した回路パタ
ーン12A、16Aのランド12B、16B(図3)が
積層体54の厚さ方向に重なる。そしてビアホールの底
となる回路パターン12Aのランド12Bを除き、その
上方のランド16Bおよび最外層の銅箔52には、表面
側に向って順に大径となるように小孔58、56が形成
されている(図3)。
【0020】従ってレーザを積層体54の表面に対して
垂直に小孔56に向って照射すれば、基板50に対して
は小孔56と略同径のビアホール孔60が、また基板1
4に対しては小孔58と略同径のビアホール孔62が一
度に同軸上に連続して形成される。(図2の工程
(F))。
【0021】このようにしてビアホール孔60、62を
加工した後、銅めっきを行ってビアホール孔60、62
の内面に導電性を与え、さらに最外層に回路パターン5
2Aを形成する(図2の工程(G))。この結果内層回
路パターン12A、16Aと外層回路パターン52Aと
を接続するビアホール64が形成される。勿論この時最
外層の基板50だけを貫通するビアホール64Aを同時
に形成してもよい。
【0022】この実施態様では3層の回路パターン12
A、16A、52Aを接続するビアホール64を形成す
るが、4層以上の回路パターンを接続するビアホールも
勿論可能である。なお最外層の回路パターン52Aや内
層のランド16Bに形成する小孔56、58は、表面側
から順に小径としたが、積層時の各層の位置決め精度が
高ければこれら小孔の径の差は小さくできる。
【0023】図6は他の実施態様を示す図であり、前記
図7に示した隣接しない2つの層間を接続するものであ
る。すなわち最下層と最上層の回路パターン108Aと
114Aの接続を行う場合に、両層間に挟まれる回路パ
ターン110A、112Aは回路パターン108Aと1
14Aのランド間に挟まれないように形成しておくもの
である。
【0024】そして最上層の回路パターン114Aに設
けた小孔から最下層の回路パターン108Aに到達する
ビアホール孔をレーザーにより加工し、めっき処理を施
すものである。このようにして形成されたビアホール1
22は、1度の加工処理により形成することができる。
【0025】また本発明における穴あけ加工で用いるレ
ーザは、XeClやKrFなどのエキシマレーザが好適
である。使用するレーザはエキシマレーザに限定され
ず、CO2レーザ、YAGレーザなどであってもよい。
【0026】
【発明の効果】請求項1の発明は以上のように、3層以
上のの層間の回路パターンを接続するビヤホールを、一
度のレーザによる穴あけ加工と、一度の銅めっき処理と
を用いて形成することができるから、従来の方法のよう
に基板を1枚積層する度に穴あけ加工と銅めっき処理と
を施す必要がなくなり、加工工数を著しく減らすことが
可能になる。このため多層プリント配線板の生産性が向
上する。
【0027】また請求項2の発明によれば、隣接しない
層間を接続するビアホールにこれら両層の間の回路パタ
ーンが接触しないように回路パターンを形成しておき、
積層後に一度のレーザによる穴あけ加工とめっき処理で
ビアホールを形成するものであるから、加工工数を著し
く減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施態様の加工工程(前半)を示す
【図2】本発明の一実施態様の加工工数(後半)を示す
【図3】図1における工程Fの一部拡大図
【図4】従来の加工工程(前半)を示す図
【図5】従来加工工程(後半)を示す図
【図6】本発明の他の実施態様の加工方法を示す図
【図7】従来の加工方法を示す図
【符号の説明】
10、14、22、50、100、102、104、1
06 基板 12、16、24、52 銅箔 12A、16A、24A、52A、108A、110
A、112A、114A回路パターン 20、26、60、62 ビヤホール孔 20A、26A、64、64A、122 ビヤホール

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路パターンを形成した複数の絶縁性基
    板を絶縁層を介して積層圧着する一方、異なる3層以上
    の層間の回路パターンをビアホールで接続する多層プリ
    ント配線板の製造方法において、複数の内層回路パター
    ンは積層体の厚さ方向に重なるランドをそれぞれ持ち、
    これらランドのうち最下層のランド以外のランドには積
    層体の表面側から順に小径となる小孔が略同軸上に形成
    され、前記積層体の表面から複数のランドの小孔を貫通
    して前記最下層のランドに到達するビアホール孔をレー
    ザを用いて形成し、前記ビアホール孔に銅めっきを施し
    て異なる層間の回路パターンを接続することを特徴とす
    る多層プリント配線板の製造方法。
  2. 【請求項2】 回路パターンを形成した複数の絶縁性基
    板を絶縁層を介して3層以上に積層圧着する一方、隣接
    しない異なる層間の回路パターンをビアホールで接続す
    る多層プリント配線板の製造方法において、隣接しない
    2つの層の内層回路パターンはこれら2つの層の間の内
    層回路パターンに重ならないで積層体の厚さ方向に重な
    るランドをそれぞれ持ち、これらランドのうち外層のラ
    ンドに小孔を形成し、前記積層体の表面から上層のラン
    ドの小孔を貫通して前記下層のランドに到達するビアホ
    ール孔をレーザを用いて形成し、前記ビアホール孔に銅
    めっきを施して異なる層間の回路パターンを接続するこ
    とを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
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