JPH09175864A - α型炭化ケイ素粉末の組成物及び焼結体の製造方法 - Google Patents
α型炭化ケイ素粉末の組成物及び焼結体の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高温での非常に望ましい化学的・物理的安定
性を有することが知られる炭化ケイ素焼結体の、複雑な
形状の焼結体を作成するに適当な焼結用組成物、及び焼
結体の製造方法を提供する。 【解決手段】 α型炭化ケイ素粉末、セラミック前駆体
のオルガノポリシロキサン、及びホウ素源とアルミニウ
ム源を含む均一な組成物であって、そのセラミック前駆
体のオルガノポリシロキサンの量は、熱分解の後に、炭
化ケイ素粉末の重量を基準に0.1重量%以上の遊離炭
素を生成する量であり、そのホウ素源の量は、炭化ケイ
素粉末の重量を基準に0.1〜3重量%のホウ素を提供
するに適切な量であり、そのアルミニウム源の量は、炭
化ケイ素粉末の重量を基準に0.1〜3重量%のアルミ
ニウムを提供するに適切な量であるα型炭化ケイ素の組
成物。この組成物を1900℃より高い温度で焼結して
焼結体を得る。
性を有することが知られる炭化ケイ素焼結体の、複雑な
形状の焼結体を作成するに適当な焼結用組成物、及び焼
結体の製造方法を提供する。 【解決手段】 α型炭化ケイ素粉末、セラミック前駆体
のオルガノポリシロキサン、及びホウ素源とアルミニウ
ム源を含む均一な組成物であって、そのセラミック前駆
体のオルガノポリシロキサンの量は、熱分解の後に、炭
化ケイ素粉末の重量を基準に0.1重量%以上の遊離炭
素を生成する量であり、そのホウ素源の量は、炭化ケイ
素粉末の重量を基準に0.1〜3重量%のホウ素を提供
するに適切な量であり、そのアルミニウム源の量は、炭
化ケイ素粉末の重量を基準に0.1〜3重量%のアルミ
ニウムを提供するに適切な量であるα型炭化ケイ素の組
成物。この組成物を1900℃より高い温度で焼結して
焼結体を得る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック前駆体
のオルガノポリシロキサン、α型炭化ケイ素粉末、及び
ホウ素源とアルミニウム源を含有する複数の焼結助剤を
含む混合物の熱分解によって高度に緻密なセラミック体
を製造する。これらの高度に緻密なセラミック体は、加
圧下の焼結によって、又は無加圧プロセスを使用して調
製される。
のオルガノポリシロキサン、α型炭化ケイ素粉末、及び
ホウ素源とアルミニウム源を含有する複数の焼結助剤を
含む混合物の熱分解によって高度に緻密なセラミック体
を製造する。これらの高度に緻密なセラミック体は、加
圧下の焼結によって、又は無加圧プロセスを使用して調
製される。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】炭化ケ
イ素セラミックは、当該技術において、高温での非常に
望ましい化学的・物理的安定性を有することが知られて
いる。このため、これらは、数多くの構造的用途に有用
性を見出しており、航空機や自動車のエンジンなどの部
品、化学プラントのような腐食性の条件下の材料などが
挙げられる。
イ素セラミックは、当該技術において、高温での非常に
望ましい化学的・物理的安定性を有することが知られて
いる。このため、これらは、数多くの構造的用途に有用
性を見出しており、航空機や自動車のエンジンなどの部
品、化学プラントのような腐食性の条件下の材料などが
挙げられる。
【0003】従来より、炭化ケイ素セラミックは、炭化
ケイ素粉末をホットプレスすることによって作成されて
いる。この技術は効果的であるものの、高温と高圧を必
要とするため、コストが非常に高い。また、このプロセ
スによって複雑な形状の物体を作成することは難しい。
このような問題を解決するため、種々の無加圧焼結法が
開発されている。この種の先行技術は、概ね、米国特許
第4004934号、同4041117号、同4081
284号、同4312954号、同4179299号、
同5444321号に開示されている。しかしながら、
これらの刊行物は、複数の焼結助剤の使用と、セラミッ
ク前駆体オルガノポリシロキサンの特長のいずれも開示
していない。
ケイ素粉末をホットプレスすることによって作成されて
いる。この技術は効果的であるものの、高温と高圧を必
要とするため、コストが非常に高い。また、このプロセ
スによって複雑な形状の物体を作成することは難しい。
このような問題を解決するため、種々の無加圧焼結法が
開発されている。この種の先行技術は、概ね、米国特許
第4004934号、同4041117号、同4081
284号、同4312954号、同4179299号、
同5444321号に開示されている。しかしながら、
これらの刊行物は、複数の焼結助剤の使用と、セラミッ
ク前駆体オルガノポリシロキサンの特長のいずれも開示
していない。
【0004】また、有機ケイ素ポリマーを用いたいろい
ろな焼結プロセスが、米国特許第4888376号、同
5422321号、特開昭60−16869号より公知
である。上記の刊行物に代表されるように、従来技術
は、α型炭化ケイ素粉末を高密度に焼結するためには、
一般に、β型炭化ケイ素を高密度に焼結するに使用する
方法とは異なるプロセスを必要とすることを述べてい
る。しかしながら、プロセス条件の相互関係は、関連文
献から把握することが困難な場合が多い。
ろな焼結プロセスが、米国特許第4888376号、同
5422321号、特開昭60−16869号より公知
である。上記の刊行物に代表されるように、従来技術
は、α型炭化ケイ素粉末を高密度に焼結するためには、
一般に、β型炭化ケイ素を高密度に焼結するに使用する
方法とは異なるプロセスを必要とすることを述べてい
る。しかしながら、プロセス条件の相互関係は、関連文
献から把握することが困難な場合が多い。
【0005】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】本願発明
は、オルガノポリシロキサン、α型炭化ケイ素粉末、及
びホウ素源とアルミニウム源を含む混合物を加熱するこ
とによって、高密度で高強度のα型炭化ケイ素セラミッ
ク生成物が得られることを最初に開示するものである。
本発明は、炭化ケイ素の焼結体を調製する新規な方法を
提供する。本方法は、α型炭化ケイ素粉末、オルガノポ
リシロキサン、ホウ素源、アルミニウム源、及びオルガ
ノポリシロキサンを均一な混合物にするための随意の硬
化剤の成分を配合することを含む。この混合物中に存在
するオルガノポリシロキサンの量は、混合物中の遊離炭
素量が、炭化ケイ素粉末の重量を基準に0.1重量%よ
りも多い量である。この混合物中に存在するホウ素の量
は、炭化ケイ素粉末の重量を基準にして0.1〜3重量
%である。また、存在するアルミニウムの量も、0.1
〜3重量%である。硬化剤は、存在するならば、オルガ
ノポリシロキサンを架橋させるに有効な量である。次い
でその均一な混合物が、圧力下で500℃未満の温度に
て所望の形状に成形され、ハンドリング可能なグリーン
体を得る。次いでこのグリーン体が1900℃より高い
温度の不活性雰囲気中で焼結され、2.9g/cm3 を
超える密度を有する焼結体を得る。
は、オルガノポリシロキサン、α型炭化ケイ素粉末、及
びホウ素源とアルミニウム源を含む混合物を加熱するこ
とによって、高密度で高強度のα型炭化ケイ素セラミッ
ク生成物が得られることを最初に開示するものである。
本発明は、炭化ケイ素の焼結体を調製する新規な方法を
提供する。本方法は、α型炭化ケイ素粉末、オルガノポ
リシロキサン、ホウ素源、アルミニウム源、及びオルガ
ノポリシロキサンを均一な混合物にするための随意の硬
化剤の成分を配合することを含む。この混合物中に存在
するオルガノポリシロキサンの量は、混合物中の遊離炭
素量が、炭化ケイ素粉末の重量を基準に0.1重量%よ
りも多い量である。この混合物中に存在するホウ素の量
は、炭化ケイ素粉末の重量を基準にして0.1〜3重量
%である。また、存在するアルミニウムの量も、0.1
〜3重量%である。硬化剤は、存在するならば、オルガ
ノポリシロキサンを架橋させるに有効な量である。次い
でその均一な混合物が、圧力下で500℃未満の温度に
て所望の形状に成形され、ハンドリング可能なグリーン
体を得る。次いでこのグリーン体が1900℃より高い
温度の不活性雰囲気中で焼結され、2.9g/cm3 を
超える密度を有する焼結体を得る。
【0006】本発明は、オルガノポリシロキサン、α型
炭化ケイ素粉末、及びホウ素源とアルミニウム源を含む
組成物から高度に緻密な一体の焼結体を調製することを
教示する。本発明によって得られる焼結体は、炭化ケイ
素の理論密度(3.21g/cm3 )の90%に相当す
る2.9g/cm3 を超える密度を有する。このような
焼結体は、α型炭化ケイ素粉末が、通常のプロセスに使
用されることが多いβ型炭化ケイ素よりも安価であると
いった点で経済的である。これらの高度に緻密化された
安価な焼結体は、軽量な耐熱性セラミックとして有用で
ある。
炭化ケイ素粉末、及びホウ素源とアルミニウム源を含む
組成物から高度に緻密な一体の焼結体を調製することを
教示する。本発明によって得られる焼結体は、炭化ケイ
素の理論密度(3.21g/cm3 )の90%に相当す
る2.9g/cm3 を超える密度を有する。このような
焼結体は、α型炭化ケイ素粉末が、通常のプロセスに使
用されることが多いβ型炭化ケイ素よりも安価であると
いった点で経済的である。これらの高度に緻密化された
安価な焼結体は、軽量な耐熱性セラミックとして有用で
ある。
【0007】本発明のプロセスは、従来技術の方法に勝
るいくつかの明確な特長を有する。第1に、ホウ素とア
ルミニウムの使用は、α型炭化ケイ素体の密度を高める
のに相乗効果を有する。第2に、グリーン体がより高い
強度を有し、したがって、焼結する前のハンドリングと
機械加工が容易である。第3に、本発明のオルガノポリ
シロキサンからの炭素の生成は、炭素が最終的な混合物
中で均一に分配されることを確かにする。この均一な分
配は、十分に緻密化された欠陥のないセラミックを得る
上で非常に重要である。最後に、本発明のセラミック前
駆体混合物の組成物は、各種の成形技術の例えば加圧・
焼結、又はトランスファー成形や射出成形と焼結などの
方法に適合するように調整されることができる。
るいくつかの明確な特長を有する。第1に、ホウ素とア
ルミニウムの使用は、α型炭化ケイ素体の密度を高める
のに相乗効果を有する。第2に、グリーン体がより高い
強度を有し、したがって、焼結する前のハンドリングと
機械加工が容易である。第3に、本発明のオルガノポリ
シロキサンからの炭素の生成は、炭素が最終的な混合物
中で均一に分配されることを確かにする。この均一な分
配は、十分に緻密化された欠陥のないセラミックを得る
上で非常に重要である。最後に、本発明のセラミック前
駆体混合物の組成物は、各種の成形技術の例えば加圧・
焼結、又はトランスファー成形や射出成形と焼結などの
方法に適合するように調整されることができる。
【0008】上記のように、本発明の焼結物体は、オル
ガノポリシロキサン、α型炭化ケイ素粉末、ホウ素源、
及びアルミニウム源を含む混合物から作成される。本願
で有用なオルガノポリシロキサンは、当該技術で広く知
られており、熱分解の後に許容できるチャー収率(char
yield)を有して十分な遊離炭素を与えるならば、殆ど全
てのものが使用可能である。
ガノポリシロキサン、α型炭化ケイ素粉末、ホウ素源、
及びアルミニウム源を含む混合物から作成される。本願
で有用なオルガノポリシロキサンは、当該技術で広く知
られており、熱分解の後に許容できるチャー収率(char
yield)を有して十分な遊離炭素を与えるならば、殆ど全
てのものが使用可能である。
【0009】一般に、それらのポリマーは、20重量%
を超えるセラミックチャー収率でセラミック材料に転化
することができる。チャー収率は、加熱の際のセラミッ
クの収縮と負の関係にあるため、例えば30重量%を超
えるような比較的高い収率の有するものが好ましいこと
が多い。一般に、少なくとも10重量%の遊離炭素を含
むセラミックチャーを有するオルガノポリシロキサンが
好ましく、少なくとも30重量%を含むものがより好ま
しい。
を超えるセラミックチャー収率でセラミック材料に転化
することができる。チャー収率は、加熱の際のセラミッ
クの収縮と負の関係にあるため、例えば30重量%を超
えるような比較的高い収率の有するものが好ましいこと
が多い。一般に、少なくとも10重量%の遊離炭素を含
むセラミックチャーを有するオルガノポリシロキサンが
好ましく、少なくとも30重量%を含むものがより好ま
しい。
【0010】オルガノポリシロキサンがこれらの基準に
合致すれば、それらの構造はそれ程重要ではない。オル
ガノポリシロキサンは一般構造単位〔R3 Si
O0.5 〕、〔R2 SiO〕、〔RSiO1.5 〕、〔Si
O2 〕を含むことができ、ここで、各々のRは、水素原
子、1〜20の炭素原子を含むアルキル基の例えばメチ
ル、エチル、プロピル、アリール基の例えばフェニル、
不飽和アルキレン基の例えばビニルからなる群より独立
して選択される。特定のオルガノポリシロキサン基の例
には、〔PhSiO1.5 〕、〔MeSiO1.5 〕、〔M
ePhSiO〕、〔Ph 2 SiO〕、〔PhViSi
O〕、〔ViSiO1.5 〕、〔MeHSiO〕、〔Me
ViSiO〕、〔Me2 SiO〕、及び〔Me3 SiO
0.5 〕などが挙げられる。また、オルガノポリシロキサ
ンの混合物も使用されてよい。上記において(下記も同
じ)、Meはメチル、Phはフェニル、Viはビニルで
ある。
合致すれば、それらの構造はそれ程重要ではない。オル
ガノポリシロキサンは一般構造単位〔R3 Si
O0.5 〕、〔R2 SiO〕、〔RSiO1.5 〕、〔Si
O2 〕を含むことができ、ここで、各々のRは、水素原
子、1〜20の炭素原子を含むアルキル基の例えばメチ
ル、エチル、プロピル、アリール基の例えばフェニル、
不飽和アルキレン基の例えばビニルからなる群より独立
して選択される。特定のオルガノポリシロキサン基の例
には、〔PhSiO1.5 〕、〔MeSiO1.5 〕、〔M
ePhSiO〕、〔Ph 2 SiO〕、〔PhViSi
O〕、〔ViSiO1.5 〕、〔MeHSiO〕、〔Me
ViSiO〕、〔Me2 SiO〕、及び〔Me3 SiO
0.5 〕などが挙げられる。また、オルガノポリシロキサ
ンの混合物も使用されてよい。上記において(下記も同
じ)、Meはメチル、Phはフェニル、Viはビニルで
ある。
【0011】一般に、フェニル基を有するオルガノポリ
シロキサンが好ましく、これは、セラミックチャーに遊
離炭素を付加するからである。また、ビニル基を有する
オルガノポリシロキサンも好ましく、これは、ケイ素に
結合したビニル基が、焼結前にポリマーを硬化させるこ
とができるメカニズムを与えるからである。Rが殆どメ
チル又は水素原子であるオルガノポリシロキサンは、一
般に、本発明の使用には適切でなく、これは、生成する
セラミックチャーの中に遊離炭素が十分に存在しないた
めである。
シロキサンが好ましく、これは、セラミックチャーに遊
離炭素を付加するからである。また、ビニル基を有する
オルガノポリシロキサンも好ましく、これは、ケイ素に
結合したビニル基が、焼結前にポリマーを硬化させるこ
とができるメカニズムを与えるからである。Rが殆どメ
チル又は水素原子であるオルガノポリシロキサンは、一
般に、本発明の使用には適切でなく、これは、生成する
セラミックチャーの中に遊離炭素が十分に存在しないた
めである。
【0012】本発明のオルガノポリシロキサンは、当該
技術で公知の方法によって調製される。使用される具体
的な方法は、それ程重要ではない。最も一般的には、オ
ルガノポリシロキサンは、オルガノクロロシランの加水
分解によって調製される。このような方法及びその他の
方法は、文献「Noll、Chemistry and Technology ofSil
icones, Chapter 5 (translated 2d Ger. Ed., Academi
c Press, 1968) 」に記載されている。
技術で公知の方法によって調製される。使用される具体
的な方法は、それ程重要ではない。最も一般的には、オ
ルガノポリシロキサンは、オルガノクロロシランの加水
分解によって調製される。このような方法及びその他の
方法は、文献「Noll、Chemistry and Technology ofSil
icones, Chapter 5 (translated 2d Ger. Ed., Academi
c Press, 1968) 」に記載されている。
【0013】セラミック前駆体オルガノポリシロキサン
は、本発明の組成物中に、混合物の遊離炭素量が炭化ケ
イ素の重量を基準に0.1重量%を超えるレベルで存在
する。「混合物の遊離炭素量」とは、炭化ケイ素粉末の
重量を基準にした重量%として表される、熱分解の際に
オルガノポリシロキサンに由来する遊離又は過剰炭素
(即ち、Siに結合した炭素ではない)の量を意味す
る。
は、本発明の組成物中に、混合物の遊離炭素量が炭化ケ
イ素の重量を基準に0.1重量%を超えるレベルで存在
する。「混合物の遊離炭素量」とは、炭化ケイ素粉末の
重量を基準にした重量%として表される、熱分解の際に
オルガノポリシロキサンに由来する遊離又は過剰炭素
(即ち、Siに結合した炭素ではない)の量を意味す
る。
【0014】オルガノポリシロキサンに由来する遊離炭
素の量は、炭化ケイ素粉末を含まないポリマーを、高温
の不活性雰囲気中で安定なセラミックチャーが得られる
まで熱分解することによって測定される。本発明におい
て、「安定なセラミックチャー」とは、さらに高い温度
に曝しても有意に重量が減少しない、高温で得られたセ
ラミックチャーと定義される。通常は、アルゴン中で1
800℃において30分間熱分解することにより、安定
なセラミックチャーが生成される。安定なセラミックチ
ャーを得るために、別な高温が採用されることもできる
が、その高温が1800℃より低い温度であれば、その
温度に曝す時間は長くする必要があろう。
素の量は、炭化ケイ素粉末を含まないポリマーを、高温
の不活性雰囲気中で安定なセラミックチャーが得られる
まで熱分解することによって測定される。本発明におい
て、「安定なセラミックチャー」とは、さらに高い温度
に曝しても有意に重量が減少しない、高温で得られたセ
ラミックチャーと定義される。通常は、アルゴン中で1
800℃において30分間熱分解することにより、安定
なセラミックチャーが生成される。安定なセラミックチ
ャーを得るために、別な高温が採用されることもできる
が、その高温が1800℃より低い温度であれば、その
温度に曝す時間は長くする必要があろう。
【0015】次いで安定なセラミックチャーのセラミッ
ク収率と、ケイ素含有率、炭素含有率が測定される。安
定なセラミックチャーの中のSiCと遊離炭素の量は計
算により求められる(チャーの中の「遊離炭素」の量
は、存在する全炭素から、ケイ素に結合した炭素の量を
差し引くことによって求められる)。このようにして計
算された遊離炭素の量は、通常、セラミック前駆体オル
ガノポリシロキサンの1グラムあたりに生成した量とし
て表される。オルガノポリシロキサンの熱分解によって
生成する遊離炭素の量を知ることにより、所望の遊離炭
素量を含むオルガノポリシロキサン/炭化ケイ素の混合
物を得るのに必要なポリマーの量を決めることができ
る。
ク収率と、ケイ素含有率、炭素含有率が測定される。安
定なセラミックチャーの中のSiCと遊離炭素の量は計
算により求められる(チャーの中の「遊離炭素」の量
は、存在する全炭素から、ケイ素に結合した炭素の量を
差し引くことによって求められる)。このようにして計
算された遊離炭素の量は、通常、セラミック前駆体オル
ガノポリシロキサンの1グラムあたりに生成した量とし
て表される。オルガノポリシロキサンの熱分解によって
生成する遊離炭素の量を知ることにより、所望の遊離炭
素量を含むオルガノポリシロキサン/炭化ケイ素の混合
物を得るのに必要なポリマーの量を決めることができ
る。
【0016】本混合物の遊離炭素量は、炭化ケイ素粉末
の重量を基準に0.1重量%より多い必要がある。遊離
炭素量が0.1重量%未満であると、焼結体の密度は
2.9g/cm3 を下回るであろう。混合物の遊離炭素
量は0.5%より多いことが好ましく、より好ましく
は、この量は0.5〜3重量%である。混合物の遊離炭
素量が1.0〜3.0重量%のときに最大密度が得られ
る。
の重量を基準に0.1重量%より多い必要がある。遊離
炭素量が0.1重量%未満であると、焼結体の密度は
2.9g/cm3 を下回るであろう。混合物の遊離炭素
量は0.5%より多いことが好ましく、より好ましく
は、この量は0.5〜3重量%である。混合物の遊離炭
素量が1.0〜3.0重量%のときに最大密度が得られ
る。
【0017】所望とする遊離炭素量がポリマー中に含ま
れることができない場合、付加的な炭素源を加えること
もできる。例として、元素状炭素、フェノール樹脂、コ
ールタール、高分子量の芳香族化合物、多核芳香族炭化
水素の誘導体(コールタール中に含まれる)、芳香族炭
化水素のポリマーなどが挙げられる。添加されるセラミ
ック前駆体オルガノポリシロキサンの量は5〜30重量
%の範囲であり、但し、そのポリマーと何らかの付加的
な炭素源が、上記の特定の遊離炭素の必要量を供給する
ことが必要である。
れることができない場合、付加的な炭素源を加えること
もできる。例として、元素状炭素、フェノール樹脂、コ
ールタール、高分子量の芳香族化合物、多核芳香族炭化
水素の誘導体(コールタール中に含まれる)、芳香族炭
化水素のポリマーなどが挙げられる。添加されるセラミ
ック前駆体オルガノポリシロキサンの量は5〜30重量
%の範囲であり、但し、そのポリマーと何らかの付加的
な炭素源が、上記の特定の遊離炭素の必要量を供給する
ことが必要である。
【0018】ホウ素は、本発明において、焼結を促進す
るために必要である。混合物に添加されるホウ素の量
は、炭化ケイ素粉末の全重量を基準に0.1〜3.0重
量%である。これより少ない量は、適切な焼結を阻害
し、これより多い量は、所望の密度を有しない生成物を
生じることが多い。好ましくは、混合物に添加されるホ
ウ素の量は、炭化ケイ素粉末の重量を基準に0.1〜
1.0重量%である。
るために必要である。混合物に添加されるホウ素の量
は、炭化ケイ素粉末の全重量を基準に0.1〜3.0重
量%である。これより少ない量は、適切な焼結を阻害
し、これより多い量は、所望の密度を有しない生成物を
生じることが多い。好ましくは、混合物に添加されるホ
ウ素の量は、炭化ケイ素粉末の重量を基準に0.1〜
1.0重量%である。
【0019】ホウ素は、元素状ホウ素、又はホウ素を含
有する有機又は無機化合物の例えば炭化ホウ素、水素化
ホウ素リチウム、トリビニルホウ素、トリフェニルホウ
素、六ホウ化ケイ素、H3 BO3 、B2 O3 などの形態
で添加される。また、本発明においては、焼結を促進す
るためにアルミニウムが必要である。混合物に添加され
るアルミニウムの量は、炭化ケイ素粉末を基準に同じく
0.1〜3.0重量%である。これより少ない量は、適
切な焼結を阻害することがあり、これより多い量は、所
望の密度を有しない生成物をもたらすことが多い。好ま
しくは、添加されるアルミニウムの量は、炭化ケイ素粉
末の重量を基準に0.1〜1.0重量%である。アルミ
ニウムは、元素状アルミニウム、又はアルミニウムを含
有する有機又は無機系焼結助剤の例えば酸化アルミニウ
ム、窒化アルミニウム、二ホウ化アルミニウム、アルミ
ニウムイソプロポキシドの形態で添加される。
有する有機又は無機化合物の例えば炭化ホウ素、水素化
ホウ素リチウム、トリビニルホウ素、トリフェニルホウ
素、六ホウ化ケイ素、H3 BO3 、B2 O3 などの形態
で添加される。また、本発明においては、焼結を促進す
るためにアルミニウムが必要である。混合物に添加され
るアルミニウムの量は、炭化ケイ素粉末を基準に同じく
0.1〜3.0重量%である。これより少ない量は、適
切な焼結を阻害することがあり、これより多い量は、所
望の密度を有しない生成物をもたらすことが多い。好ま
しくは、添加されるアルミニウムの量は、炭化ケイ素粉
末の重量を基準に0.1〜1.0重量%である。アルミ
ニウムは、元素状アルミニウム、又はアルミニウムを含
有する有機又は無機系焼結助剤の例えば酸化アルミニウ
ム、窒化アルミニウム、二ホウ化アルミニウム、アルミ
ニウムイソプロポキシドの形態で添加される。
【0020】また、本発明の組成物はα型炭化ケイ素粉
末を含むことを必要とする。この粉末は、3C(立方晶
又はβ型)以外の炭化ケイ素のポリタイプ(限定される
ものではないが、4H、6H、15Rなど)の全てを含
む。これらの材料の多くは市販されており、当該技術で
周知である。一般に、10μm未満の重量平均粒子サイ
ズを有するSiC粉末が好ましい。5μm未満の重量平
均粒子サイズを有する粉末がより好ましく、1μm未満
の重量平均粒子サイズを有する粉末がさらに好ましい。
こられの粉末は、少量の遊離炭素、β型炭化ケイ素及び
/又は他の不純物を含んでよい。遊離炭素が存在すると
しても、焼結に必要な遊離炭素の計算に用いない。
末を含むことを必要とする。この粉末は、3C(立方晶
又はβ型)以外の炭化ケイ素のポリタイプ(限定される
ものではないが、4H、6H、15Rなど)の全てを含
む。これらの材料の多くは市販されており、当該技術で
周知である。一般に、10μm未満の重量平均粒子サイ
ズを有するSiC粉末が好ましい。5μm未満の重量平
均粒子サイズを有する粉末がより好ましく、1μm未満
の重量平均粒子サイズを有する粉末がさらに好ましい。
こられの粉末は、少量の遊離炭素、β型炭化ケイ素及び
/又は他の不純物を含んでよい。遊離炭素が存在すると
しても、焼結に必要な遊離炭素の計算に用いない。
【0021】また、本発明の組成物は、焼結前にオルガ
ノポリシロキサンを架橋するために使用される硬化剤を
含むことができる。このようにして作成されるグリーン
体は、このため未硬化の物体よりも高い強度を有し、し
たがって、焼結前のハンドリングや機械加工に適切に耐
えることができる。これらの硬化剤は、硬化剤を含むグ
リーン体を50〜300℃の温度に加熱することによっ
て活性化されることができ(例えば、フリーラジカル前
駆体を活性化させる)、又は室温で架橋させてもよい。
ノポリシロキサンを架橋するために使用される硬化剤を
含むことができる。このようにして作成されるグリーン
体は、このため未硬化の物体よりも高い強度を有し、し
たがって、焼結前のハンドリングや機械加工に適切に耐
えることができる。これらの硬化剤は、硬化剤を含むグ
リーン体を50〜300℃の温度に加熱することによっ
て活性化されることができ(例えば、フリーラジカル前
駆体を活性化させる)、又は室温で架橋させてもよい。
【0022】上記の硬化剤もまた当該技術で周知であ
る。例として、フリーラジカル前駆体の有機系過酸化
物、例えばジベンゾイルペルオキシド、ビス-p- クロロ
ベンゾイルペルオキシド、ビス-2,4- ジクロロベンゾイ
ルペルオキシド、ジ-t- ブチルペルオキシド、ジクミル
ペルオキシド、t-ブチルペルベンゾエート、2,5-ビス(t
-ブチルペルオキシ)-2,3-ジメチルヘキサン、t-ブチル
ペルアセテート、及び白金含有硬化剤の例えば白金金
属、H2 PtCl6 、((C4 H9)3 P)2PtCl2 など
が挙げられる。当該技術で公知のその他の通常の硬化剤
も使用されてよい。硬化剤は有効量で存在し、即ち、オ
ルガノポリシロキサンの架橋を誘引するに十分な量であ
る。したがって、硬化剤の実際の量は、使用される硬化
剤の活性と存在するオルガノポリシロキサンの量に依存
する。ここで、通常過酸化物の硬化剤は、硬化される化
合物の重量を基準に0.1〜5.0重量%で存在し、よ
り好ましい量は2.0重量%である。白金含有硬化剤が
使用される場合、その量は、一般に、硬化される化合物
の重量を基準に白金が1〜1000ppmで存在する量
であり、好ましい量は、50〜150ppmの白金であ
る。
る。例として、フリーラジカル前駆体の有機系過酸化
物、例えばジベンゾイルペルオキシド、ビス-p- クロロ
ベンゾイルペルオキシド、ビス-2,4- ジクロロベンゾイ
ルペルオキシド、ジ-t- ブチルペルオキシド、ジクミル
ペルオキシド、t-ブチルペルベンゾエート、2,5-ビス(t
-ブチルペルオキシ)-2,3-ジメチルヘキサン、t-ブチル
ペルアセテート、及び白金含有硬化剤の例えば白金金
属、H2 PtCl6 、((C4 H9)3 P)2PtCl2 など
が挙げられる。当該技術で公知のその他の通常の硬化剤
も使用されてよい。硬化剤は有効量で存在し、即ち、オ
ルガノポリシロキサンの架橋を誘引するに十分な量であ
る。したがって、硬化剤の実際の量は、使用される硬化
剤の活性と存在するオルガノポリシロキサンの量に依存
する。ここで、通常過酸化物の硬化剤は、硬化される化
合物の重量を基準に0.1〜5.0重量%で存在し、よ
り好ましい量は2.0重量%である。白金含有硬化剤が
使用される場合、その量は、一般に、硬化される化合物
の重量を基準に白金が1〜1000ppmで存在する量
であり、好ましい量は、50〜150ppmの白金であ
る。
【0023】室温硬化性架橋剤の例には、シラン、シラ
ザン、シロキサンのような多官能価の有機ケイ素化合物
が挙げられる。潤滑剤、消泡剤、分散剤のようなその他
の加工助剤の添加も、本発明において可能である。この
ような化合物の例には、ステアリン酸、ミネラルオイ
ル、パラフィン、ステアリン酸カルシウム、ステアリン
酸アルミニウム、琥珀酸、琥珀酸イミド、無水琥珀酸、
又は種々の市販の製品の例えばOLOA1200(商
標)などが挙げられる。使用される場合、これらの助剤
は、10重量%未満の量で存在する。
ザン、シロキサンのような多官能価の有機ケイ素化合物
が挙げられる。潤滑剤、消泡剤、分散剤のようなその他
の加工助剤の添加も、本発明において可能である。この
ような化合物の例には、ステアリン酸、ミネラルオイ
ル、パラフィン、ステアリン酸カルシウム、ステアリン
酸アルミニウム、琥珀酸、琥珀酸イミド、無水琥珀酸、
又は種々の市販の製品の例えばOLOA1200(商
標)などが挙げられる。使用される場合、これらの助剤
は、10重量%未満の量で存在する。
【0024】所望の量の種々の成分が、焼結生成物の全
体にわたって、部分的な密度変化をを防ぐように、均一
で迅速な混合を保証する仕方で混合される。これらの混
合物は、例えば種々の粉末を乾式又は湿式で混合する、
又は超音波分散するなどの通常の混合技術を用いて作成
される。好ましくは湿式粉砕であり、種々の粉末が有機
溶媒とともに混合・粉砕され、次いで溶媒が除去され
る。その他の有用な混合・粉砕法は、当業者には明らか
であろう。
体にわたって、部分的な密度変化をを防ぐように、均一
で迅速な混合を保証する仕方で混合される。これらの混
合物は、例えば種々の粉末を乾式又は湿式で混合する、
又は超音波分散するなどの通常の混合技術を用いて作成
される。好ましくは湿式粉砕であり、種々の粉末が有機
溶媒とともに混合・粉砕され、次いで溶媒が除去され
る。その他の有用な混合・粉砕法は、当業者には明らか
であろう。
【0025】次いで均一でよく混じり合った混合物が、
所望の形状のハンドリング可能なグリーン体に形成され
る。「ハンドリング可能なグリーン体」の用語は、焼結
前に、所望の形状に機械加工する又はハンドリングする
に十分なグリーン強度を有するグリーン体を表現する用
語である。一般に、本発明の実施において3.45MP
a(500psi)以上のグリーン強度が得られる。
所望の形状のハンドリング可能なグリーン体に形成され
る。「ハンドリング可能なグリーン体」の用語は、焼結
前に、所望の形状に機械加工する又はハンドリングする
に十分なグリーン強度を有するグリーン体を表現する用
語である。一般に、本発明の実施において3.45MP
a(500psi)以上のグリーン強度が得られる。
【0026】グリーン体は、当該技術で公知の常套法に
よって作成される。このような方法には、加圧成形、一
軸成形、等方成形、押出、トランスファー成形、射出成
形などが挙げられる。本発明は、この成形の面に関して
特に有利であり、これは、セラミック焼結前混合物中の
セラミック前駆体オルガノポリシロキサンの量が、焼結
生成物の品質に影響を及ぼすことなく、いろいろな成形
法に適用するように容易に変えることができるからであ
る。
よって作成される。このような方法には、加圧成形、一
軸成形、等方成形、押出、トランスファー成形、射出成
形などが挙げられる。本発明は、この成形の面に関して
特に有利であり、これは、セラミック焼結前混合物中の
セラミック前駆体オルガノポリシロキサンの量が、焼結
生成物の品質に影響を及ぼすことなく、いろいろな成形
法に適用するように容易に変えることができるからであ
る。
【0027】上記の成形体は、好ましくは、その最終的
な成形の前に硬化される。硬化方法は当該技術で周知で
あり、その物体を50〜300℃の温度範囲に、好まし
くはアルゴンや窒素のような不活性雰囲気中で加熱する
ことによって行われる。セラミック前駆体混合物はオル
ガノポリシロキサンを含有するため、上記の方法によっ
て得られたグリーン体は、ハンドリングされ又は機械加
工やフライス加工のような方法でさらに成形されるに十
分な強度を有する。このことは、脆い物体をハンドリン
グするに伴う問題を解決するだけでなく、製品設計の対
応性のおかげで、より複雑な形状を作成することを可能
にする。
な成形の前に硬化される。硬化方法は当該技術で周知で
あり、その物体を50〜300℃の温度範囲に、好まし
くはアルゴンや窒素のような不活性雰囲気中で加熱する
ことによって行われる。セラミック前駆体混合物はオル
ガノポリシロキサンを含有するため、上記の方法によっ
て得られたグリーン体は、ハンドリングされ又は機械加
工やフライス加工のような方法でさらに成形されるに十
分な強度を有する。このことは、脆い物体をハンドリン
グするに伴う問題を解決するだけでなく、製品設計の対
応性のおかげで、より複雑な形状を作成することを可能
にする。
【0028】最終的な形状にされた後、その成形体は、
不活性雰囲気及び/又は真空中で1900℃以上の温度
において焼結される。好ましい焼結温度は1950〜2
150℃であり、2070℃が最も好ましい。本発明の
プロセスは、従来法の逃散するバインダーを除去するた
めの加熱工程が必要ない点で特に有益である。本発明の
組成物は、加圧又は無加圧プロセスのいずれの使用でも
焼結される。加圧を用いるプロセスは、一般に、比較的
高い密度のセラミック物品を生成し得るため、この方法
は、最大密度が望まれる場合に適切である。ここで、一
般に、無加圧プロセスは必要な操作が簡単であるため好
ましい。
不活性雰囲気及び/又は真空中で1900℃以上の温度
において焼結される。好ましい焼結温度は1950〜2
150℃であり、2070℃が最も好ましい。本発明の
プロセスは、従来法の逃散するバインダーを除去するた
めの加熱工程が必要ない点で特に有益である。本発明の
組成物は、加圧又は無加圧プロセスのいずれの使用でも
焼結される。加圧を用いるプロセスは、一般に、比較的
高い密度のセラミック物品を生成し得るため、この方法
は、最大密度が望まれる場合に適切である。ここで、一
般に、無加圧プロセスは必要な操作が簡単であるため好
ましい。
【0029】酸素がセラミックに取り込まれることを防
ぐため、熱分解の際には不活性雰囲気が使用される。そ
れによって、焼結プロセスが適切にされると同時に焼結
生成物の密度が高められる。本発明において、不活性雰
囲気とは、不活性ガス、真空、及びこれらの双方の併用
を含む。不活性ガスが使用される場合、アルゴン、ヘリ
ウム、又は窒素が選ばれる。真空が使用される場合、例
えば13.3Pa〜26.6kPa(0.1〜200ト
ール)、好ましくは13.3〜40.0kPa(0.1
〜0.3トール)の範囲である。併用プロセスの代表的
例として、組成物を1150℃までアルゴン中で加熱
し、1150〜1575℃を真空中で加熱し、1575
℃〜2070℃をアルゴン中で加熱する。
ぐため、熱分解の際には不活性雰囲気が使用される。そ
れによって、焼結プロセスが適切にされると同時に焼結
生成物の密度が高められる。本発明において、不活性雰
囲気とは、不活性ガス、真空、及びこれらの双方の併用
を含む。不活性ガスが使用される場合、アルゴン、ヘリ
ウム、又は窒素が選ばれる。真空が使用される場合、例
えば13.3Pa〜26.6kPa(0.1〜200ト
ール)、好ましくは13.3〜40.0kPa(0.1
〜0.3トール)の範囲である。併用プロセスの代表的
例として、組成物を1150℃までアルゴン中で加熱
し、1150〜1575℃を真空中で加熱し、1575
℃〜2070℃をアルゴン中で加熱する。
【0030】焼結は、炉内温度を調節する手段を備えた
任意の通常の高温炉(例えば、グラファイト炉)で行わ
れる。このような炉は当該技術で周知であり、市販され
ている。焼結の温度スケジュールは、加熱される成形体
の体積及び混合物組成の双方に依存する。比較的小さい
物品においては、温度は割合に急速に高めてよい。しか
し、比較的大きい物品又は高濃度のオルガノポリシロキ
サンを含む物品については、均一なセラミック体を形成
するには、より長時間のプログラムが必要とされる。
任意の通常の高温炉(例えば、グラファイト炉)で行わ
れる。このような炉は当該技術で周知であり、市販され
ている。焼結の温度スケジュールは、加熱される成形体
の体積及び混合物組成の双方に依存する。比較的小さい
物品においては、温度は割合に急速に高めてよい。しか
し、比較的大きい物品又は高濃度のオルガノポリシロキ
サンを含む物品については、均一なセラミック体を形成
するには、より長時間のプログラムが必要とされる。
【0031】理論に束縛される意図はないが、オルガノ
ポリシロキサンに由来する遊離炭素は、高密度焼結体の
生成において、2つの異なる役割を果たすように考えら
れる。第1は、炭化ケイ素粉末中に存在する酸素を除去
する助けをし、第2は、付加的な焼結助剤として作用す
ると思われる。炭化ケイ素粉末は、いわゆる「遊離炭
素」を含むことが多い。ここで、炭化ケイ素粉末中に存
在する「遊離炭素」は、オルガノポリシロキサンからそ
の場で生成した遊離炭素と同様には活性又は効果的でな
いように思われる。その場で生成した遊離炭素が化学的
により活性であるのか、単により均一に分散されている
のかは明らかでない。いずれにしても、混合物中の遊離
炭素量(前述に定義)が1.5重量%であれば、最大密
度の焼結体が得られる。
ポリシロキサンに由来する遊離炭素は、高密度焼結体の
生成において、2つの異なる役割を果たすように考えら
れる。第1は、炭化ケイ素粉末中に存在する酸素を除去
する助けをし、第2は、付加的な焼結助剤として作用す
ると思われる。炭化ケイ素粉末は、いわゆる「遊離炭
素」を含むことが多い。ここで、炭化ケイ素粉末中に存
在する「遊離炭素」は、オルガノポリシロキサンからそ
の場で生成した遊離炭素と同様には活性又は効果的でな
いように思われる。その場で生成した遊離炭素が化学的
により活性であるのか、単により均一に分散されている
のかは明らかでない。いずれにしても、混合物中の遊離
炭素量(前述に定義)が1.5重量%であれば、最大密
度の焼結体が得られる。
【0032】また、焼結助剤としてのホウ素とアルミニ
ウムの組み合わせは、比較的低い焼結温度で緻密化を開
始させる一時的な液体相の生成をもたらすと考えられ
る。上記の方法によって、理論密度の90%を超えるセ
ラミック体が生成する。セラミック体の密度は3.05
g/cm3 (理論密度の95%)を超えることが好まし
い。
ウムの組み合わせは、比較的低い焼結温度で緻密化を開
始させる一時的な液体相の生成をもたらすと考えられ
る。上記の方法によって、理論密度の90%を超えるセ
ラミック体が生成する。セラミック体の密度は3.05
g/cm3 (理論密度の95%)を超えることが好まし
い。
【0033】本プロセスによって得られる材料の微細構
造(ASTMのE−112の公知のセラミック画像技術
により測定)は、通常の単一成分の焼結助剤を用いて得
られた微細構造と相違する。例えば、オルガノポリシロ
キサンバインダーと0.75重量%のB4 Cを用いて調
製されたサンプルを、0.25重量%のAl及びB4C
を含むサンプルと比較すると、後者は20μmを超える
グレインをより高い割合で有することが見出されている
(面積において約6%と2.5%)。最大のグレインを
比較すると、後者は30μmのオーダーであり、前者は
20μmのオーダーである。
造(ASTMのE−112の公知のセラミック画像技術
により測定)は、通常の単一成分の焼結助剤を用いて得
られた微細構造と相違する。例えば、オルガノポリシロ
キサンバインダーと0.75重量%のB4 Cを用いて調
製されたサンプルを、0.25重量%のAl及びB4C
を含むサンプルと比較すると、後者は20μmを超える
グレインをより高い割合で有することが見出されている
(面積において約6%と2.5%)。最大のグレインを
比較すると、後者は30μmのオーダーであり、前者は
20μmのオーダーである。
【0034】本発明者が見出したもう1つの特徴は、本
発明のオルガノポリシロキサンバインダーを用いて調製
されたサンプルの微細構造の、通常の有機バインダーを
用いて調製された類似サンプルに比較した精密性(refin
ement)である。例えば、オルガノポリシロキサンと0.
25重量%のAl及びB4 Cを用いて調製されたサンプ
ルは、20μmを超えるグレインを比較的少ない割合で
有する(面積において約6%と16%)。また、最大グ
レインを比較すると、前者は30μmのオーダーであ
り、後者は45μmのオーダーである。
発明のオルガノポリシロキサンバインダーを用いて調製
されたサンプルの微細構造の、通常の有機バインダーを
用いて調製された類似サンプルに比較した精密性(refin
ement)である。例えば、オルガノポリシロキサンと0.
25重量%のAl及びB4 Cを用いて調製されたサンプ
ルは、20μmを超えるグレインを比較的少ない割合で
有する(面積において約6%と16%)。また、最大グ
レインを比較すると、前者は30μmのオーダーであ
り、後者は45μmのオーダーである。
【0035】本発明の複数の焼結助剤は単一の焼結助剤
に比較して粗い微細構造を生成するといった、競合性の
グレイン成長メカニズムがあるように思われる。一方
で、本発明のオルガノポリシロキサンの使用は、従来の
有機バインダーよりも微細構造を小さく維持する助けを
する。当業者が本発明をより的確に認識し理解できるよ
うに、次の例を用意した。特に明記がない限り、%はい
ずれも重量%である。
に比較して粗い微細構造を生成するといった、競合性の
グレイン成長メカニズムがあるように思われる。一方
で、本発明のオルガノポリシロキサンの使用は、従来の
有機バインダーよりも微細構造を小さく維持する助けを
する。当業者が本発明をより的確に認識し理解できるよ
うに、次の例を用意した。特に明記がない限り、%はい
ずれも重量%である。
【0036】
【発明の実施の形態】次の例において使用した分析方法
は以下の通りである。プロトンNMRスペクトルは、V
arian(商標)EM390スペクトロメーターを用
いて測定し、結果をppm単位で表した。フーリェ変換
IRスペクトルをPerkin Elmer(商標)シ
リーズ1600スペクトロメーターを用いて測定した。
型式600Eのシステムズコントローラー、型式490
のUV、型式410の差分ディフラクトメーター検出器
を備えたWaters(商標)GPCを用いてゲル透過
クロマトグラフィー(GPC)のデータを求め、測定値
をいずれもポリスチレンと対比した。Omnither
m(商標)2066コンピューターに連結したDuPo
nt(商標)940熱機械分析器(TMA)にデータを
記憶させた。
は以下の通りである。プロトンNMRスペクトルは、V
arian(商標)EM390スペクトロメーターを用
いて測定し、結果をppm単位で表した。フーリェ変換
IRスペクトルをPerkin Elmer(商標)シ
リーズ1600スペクトロメーターを用いて測定した。
型式600Eのシステムズコントローラー、型式490
のUV、型式410の差分ディフラクトメーター検出器
を備えたWaters(商標)GPCを用いてゲル透過
クロマトグラフィー(GPC)のデータを求め、測定値
をいずれもポリスチレンと対比した。Omnither
m(商標)2066コンピューターに連結したDuPo
nt(商標)940熱機械分析器(TMA)にデータを
記憶させた。
【0037】炭素と水素の分析は、コントロールエクイ
ップメント社の240−XA元素分析器を用いて行っ
た。ケイ素は融解法によって測定し、ある物質をケイ素
の溶融可能な形態に変化させ、次いでその溶質を原子吸
光法によって全ケイ素を分析した。試験片は実験用プレ
スによって作成した。熱分解は、自動コントローラーを
備えたバキュウムインダストリィズ社のグラファイト素
子の炉の中で行った。その炉は、900℃以上の温度を
モニターするIrcon(商標)光高温計を備えた。焼
結後密度は、ASTMのC373−72による水浸漬法
によって測定した。
ップメント社の240−XA元素分析器を用いて行っ
た。ケイ素は融解法によって測定し、ある物質をケイ素
の溶融可能な形態に変化させ、次いでその溶質を原子吸
光法によって全ケイ素を分析した。試験片は実験用プレ
スによって作成した。熱分解は、自動コントローラーを
備えたバキュウムインダストリィズ社のグラファイト素
子の炉の中で行った。その炉は、900℃以上の温度を
モニターするIrcon(商標)光高温計を備えた。焼
結後密度は、ASTMのC373−72による水浸漬法
によって測定した。
【0038】使用したSiC粉末は、シュタルク社のU
F−15炭化ケイ素であった。ホウ素源は、ワッカー社
のESK1500炭化ホウ素粉末(<5μm)であっ
た。アルミニウム粉末はCerac(商標)A1183
(1μm)、炭化アルミニウム粉末は44μm(325
メッシュ)未満のCerac(商標)A1010、窒化
アルミニウム粉末は74μm(200メッシュ)未満の
Cerac(商標)1119であった。
F−15炭化ケイ素であった。ホウ素源は、ワッカー社
のESK1500炭化ホウ素粉末(<5μm)であっ
た。アルミニウム粉末はCerac(商標)A1183
(1μm)、炭化アルミニウム粉末は44μm(325
メッシュ)未満のCerac(商標)A1010、窒化
アルミニウム粉末は74μm(200メッシュ)未満の
Cerac(商標)1119であった。
【0039】例1−〔PhSiO1.5 〕0.27〔MeSi
O1.5 〕0.18〔Me2 SiO〕0.18〔MeViSiO〕
0.25〔Ph2 SiO〕0.12を用いた焼結体の作成 A)ポリマーの合成 ドレンコック、温度計、コンデンサー、上部に取り付け
た機械式スターラー、及び漏斗を備えた5リットルの3
つ口フラスコに、1790gの水と324gのイソプロ
ピルアルコールを加えた。792gのトルエンに溶かし
た134.6g(0.90モル)のMeSiCl3 、1
16.1g(0.90モル)のMe2 SiCl2 、28
5.5g(1.35モル)のPhSiCl3 、151.
8g(0.60モル)のPh2 SiCl2 、176g
(1.25モル)のMeViSiCl2 を水面下に15
分間にわたって添加した。添加の際に、反応温度は45
℃まで上昇した。反応混合物を5分間攪拌した。採取し
た有機物層を温かい水道水で2回洗浄し、次いで共沸的
に乾燥し、オクタン酸亜鉛を添加した(bodied)(ポリマ
ーの全重量を基準に0.1%)。溶媒を除去し、樹脂を
150℃の2.7kPa(20トール)で乾燥した。生
成物の収量は535g(91.2%)であった。
O1.5 〕0.18〔Me2 SiO〕0.18〔MeViSiO〕
0.25〔Ph2 SiO〕0.12を用いた焼結体の作成 A)ポリマーの合成 ドレンコック、温度計、コンデンサー、上部に取り付け
た機械式スターラー、及び漏斗を備えた5リットルの3
つ口フラスコに、1790gの水と324gのイソプロ
ピルアルコールを加えた。792gのトルエンに溶かし
た134.6g(0.90モル)のMeSiCl3 、1
16.1g(0.90モル)のMe2 SiCl2 、28
5.5g(1.35モル)のPhSiCl3 、151.
8g(0.60モル)のPh2 SiCl2 、176g
(1.25モル)のMeViSiCl2 を水面下に15
分間にわたって添加した。添加の際に、反応温度は45
℃まで上昇した。反応混合物を5分間攪拌した。採取し
た有機物層を温かい水道水で2回洗浄し、次いで共沸的
に乾燥し、オクタン酸亜鉛を添加した(bodied)(ポリマ
ーの全重量を基準に0.1%)。溶媒を除去し、樹脂を
150℃の2.7kPa(20トール)で乾燥した。生
成物の収量は535g(91.2%)であった。
【0040】B)計算 1%のジクミルペルオキシドを混合した上記のポリマー
のサンプルを200℃にて1時間硬化させた。硬化した
ポリマーをアルゴン中で15℃/分の速度で1900℃
まで加熱し、1900℃で2時間保持した。得られたチ
ャーは、42%の質量を保有し、42.4%の炭素と5
2.2%のケイ素を含んだ。次の計算をした。即ち、硬
化したポリマーの100gが、34.2gのSiCと8
gの遊離炭素を含む42gのセラミックチャーを生成し
たことになる。つまり、ポリマーの1gにつき、熱分解
の後に0.342gのSiCと0.080gの遊離炭素
を生成する。
のサンプルを200℃にて1時間硬化させた。硬化した
ポリマーをアルゴン中で15℃/分の速度で1900℃
まで加熱し、1900℃で2時間保持した。得られたチ
ャーは、42%の質量を保有し、42.4%の炭素と5
2.2%のケイ素を含んだ。次の計算をした。即ち、硬
化したポリマーの100gが、34.2gのSiCと8
gの遊離炭素を含む42gのセラミックチャーを生成し
たことになる。つまり、ポリマーの1gにつき、熱分解
の後に0.342gのSiCと0.080gの遊離炭素
を生成する。
【0041】C)試験片の作成 α型SiC粉末、上記Aのオルガノポリシロキサン、硬
化剤、分散剤、アルミニウム、及びホウ素を含む5通り
の混合物を作成した。混合物は、1500gのHCシュ
タルク(商標)UF−15α型SiC粉末(表面積=1
6m2 /g、平均サイズ=0.6μm、Al=160p
pm、酸素=1.4%、遊離炭素=0.2%)、100
部あたり上記Aで作成したポリマーを13.8部、10
0部あたりLupersol(商標)101(2,5-ビス
(t- ブチルペルオキシ)-2,3- ジメチルヘキサン)を
2.7部、100部あたりLubrizol(商標)2
2994B分散剤を0.4部、100部あたり189部
のトルエンを含み、さらに次の濃度のホウ素とアルミニ
ウムを含んだ。
化剤、分散剤、アルミニウム、及びホウ素を含む5通り
の混合物を作成した。混合物は、1500gのHCシュ
タルク(商標)UF−15α型SiC粉末(表面積=1
6m2 /g、平均サイズ=0.6μm、Al=160p
pm、酸素=1.4%、遊離炭素=0.2%)、100
部あたり上記Aで作成したポリマーを13.8部、10
0部あたりLupersol(商標)101(2,5-ビス
(t- ブチルペルオキシ)-2,3- ジメチルヘキサン)を
2.7部、100部あたりLubrizol(商標)2
2994B分散剤を0.4部、100部あたり189部
のトルエンを含み、さらに次の濃度のホウ素とアルミニ
ウムを含んだ。
【0042】混合物1は1.0部の炭化ホウ素と0.0
部のアルミニウム 混合物2は0.0部の炭化ホウ素と0.0部のアルミニ
ウム 混合物3は1.0部の炭化ホウ素と1.0部のアルミニ
ウム 混合物4は0.0部の炭化ホウ素と1.0部のアルミニ
ウム 混合物5は0.5部の炭化ホウ素と0.5部のアルミニ
ウム なお、混合物の遊離炭素量は1.1部であった。
部のアルミニウム 混合物2は0.0部の炭化ホウ素と0.0部のアルミニ
ウム 混合物3は1.0部の炭化ホウ素と1.0部のアルミニ
ウム 混合物4は0.0部の炭化ホウ素と1.0部のアルミニ
ウム 混合物5は0.5部の炭化ホウ素と0.5部のアルミニ
ウム なお、混合物の遊離炭素量は1.1部であった。
【0043】これらの混合物を、Niro(商標)アト
マイザーモービルマイナースプレードライヤーを用いて
90℃で噴霧乾燥し、流動性の顆粒(50〜90μm)
を作成した。残存する溶媒は、真空中の80℃で追加乾
燥することにより顆粒から除去した。得られた顆粒を、
必要により配合して、表1の組成物を作成した。
マイザーモービルマイナースプレードライヤーを用いて
90℃で噴霧乾燥し、流動性の顆粒(50〜90μm)
を作成した。残存する溶媒は、真空中の80℃で追加乾
燥することにより顆粒から除去した。得られた顆粒を、
必要により配合して、表1の組成物を作成した。
【0044】これらの顆粒を1.28cm×5.3cm
の金型の中で室温において1288kg/cm2 の圧力
でダイプレスし、平均厚さ0.53cmの7gの試験片
を作成した。試験片を金型から取り出し、秤量し、寸法
を測定した。試験片を硬化させ、2070℃で焼結し
た。温度プログラムを用い、300℃まではアルゴン中
で3℃/分の速度で昇温し、300℃で0.5時間アル
ゴン中に保持し、300℃から1150℃まではアルゴ
ン中で5℃/分の速度で昇温し、1150℃から150
0℃までは真空中で2.5℃/分の速度で昇温し、15
00℃において真空中で4時間保持し、1500℃から
2070℃まではアルゴン中で2.5℃/分の速度で昇
温し、2070℃においてアルゴン中で1時間保持し
た。次いで炉を真空下で2070℃から1150℃まで
8℃/分の速度で降温し、1150℃から95℃まで5
℃/分の速度で降温した。
の金型の中で室温において1288kg/cm2 の圧力
でダイプレスし、平均厚さ0.53cmの7gの試験片
を作成した。試験片を金型から取り出し、秤量し、寸法
を測定した。試験片を硬化させ、2070℃で焼結し
た。温度プログラムを用い、300℃まではアルゴン中
で3℃/分の速度で昇温し、300℃で0.5時間アル
ゴン中に保持し、300℃から1150℃まではアルゴ
ン中で5℃/分の速度で昇温し、1150℃から150
0℃までは真空中で2.5℃/分の速度で昇温し、15
00℃において真空中で4時間保持し、1500℃から
2070℃まではアルゴン中で2.5℃/分の速度で昇
温し、2070℃においてアルゴン中で1時間保持し
た。次いで炉を真空下で2070℃から1150℃まで
8℃/分の速度で降温し、1150℃から95℃まで5
℃/分の速度で降温した。
【0045】試験片は3本セットで処理し、アルキメデ
ス法によって焼結密度を測定した。3本の試験片の平均
を計算し、表1に示した。
ス法によって焼結密度を測定した。3本の試験片の平均
を計算し、表1に示した。
【0046】
【表1】
【0047】例2 この例においては、比較的大きい試験片を作成し、比較
的厚い横断面に及ぼす2種の焼結助剤の作用を評価した
(比較的厚い横断面のものは緻密化が比較的難しいこと
が知られている)。例1と同じ顆粒を室温において12
88kg/cm2 の圧力で1.28cm×5.3cmの
金型の中でダイプレスし、平均厚さ1.45cmで17
gの試験片を作成した。この試験片を取り出し、秤量
し、寸法を測定した。この試験片を例1と同じ仕方で焼
結した。
的厚い横断面に及ぼす2種の焼結助剤の作用を評価した
(比較的厚い横断面のものは緻密化が比較的難しいこと
が知られている)。例1と同じ顆粒を室温において12
88kg/cm2 の圧力で1.28cm×5.3cmの
金型の中でダイプレスし、平均厚さ1.45cmで17
gの試験片を作成した。この試験片を取り出し、秤量
し、寸法を測定した。この試験片を例1と同じ仕方で焼
結した。
【0048】平均密度の結果を表2に示す。
【0049】
【表2】
【0050】これらの表のデータは、ホウ素とアルミニ
ウムの双方を焼結助剤として使用することが、これらの
物質の単独での使用に凌駕して、密度の増加に相乗効果
をもたらすことを明確に示している。密度の向上は割合
に小さく見えるかもしれないが、説明したような高密度
を課題にする上で非常に意義が深いものである。
ウムの双方を焼結助剤として使用することが、これらの
物質の単独での使用に凌駕して、密度の増加に相乗効果
をもたらすことを明確に示している。密度の向上は割合
に小さく見えるかもしれないが、説明したような高密度
を課題にする上で非常に意義が深いものである。
フロントページの続き (72)発明者 ルイス ゲイツ マホーン アメリカ合衆国,ミシガン 48640,ミッ ドランド,ダートマス コート 3611 (72)発明者 ラリー ガレン マッコイ アメリカ合衆国,ミシガン 48642,ミッ ドランド,ウッドランド エステイツ ド ライブ 2468
Claims (2)
- 【請求項1】 α型炭化ケイ素粉末、セラミック前駆体
のオルガノポリシロキサン、及びホウ素源とアルミニウ
ム源を含む均一な組成物であって、そのセラミック前駆
体のオルガノポリシロキサンの量は、熱分解の後に、炭
化ケイ素粉末の重量を基準に0.1重量%以上の遊離炭
素を生成する量であり、そのホウ素源の量は、炭化ケイ
素粉末の重量を基準に0.1〜3重量%のホウ素を提供
するに適切な量であり、そのアルミニウム源の量は、炭
化ケイ素粉末の重量を基準に0.1〜3重量%のアルミ
ニウムを提供するに適切な量であることを特徴とするα
型炭化ケイ素の組成物。 - 【請求項2】 (a)請求項1に記載の均一な組成物を
作成し、(b)その均一な組成物を500℃未満の温度
で加圧して所望の形状を作成し、ハンドリング可能なグ
リーン体を形成し、(c)そのハンドリング可能なグリ
ーン体を不活性雰囲気中で1900℃より高い温度で焼
結し、2.9g/cm3 を超える密度を有するα型炭化
ケイ素の焼結を作成する、ことを特徴とするα型炭化ケ
イ素焼結体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US55463695A | 1995-11-06 | 1995-11-06 | |
| US08/554636 | 1995-11-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09175864A true JPH09175864A (ja) | 1997-07-08 |
Family
ID=24214107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8293711A Withdrawn JPH09175864A (ja) | 1995-11-06 | 1996-11-06 | α型炭化ケイ素粉末の組成物及び焼結体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0771770A3 (ja) |
| JP (1) | JPH09175864A (ja) |
| CA (1) | CA2189517A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100972601B1 (ko) | 2007-10-26 | 2010-07-27 | 주식회사 썬세라텍 | 탄화규소 나노분말의 제조방법 |
| JP5883796B2 (ja) | 2010-09-29 | 2016-03-15 | 日本碍子株式会社 | 炭化珪素質セラミックスの製造方法及びハニカム構造体の製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4004934A (en) | 1973-10-24 | 1977-01-25 | General Electric Company | Sintered dense silicon carbide |
| US4312954A (en) | 1975-06-05 | 1982-01-26 | Kennecott Corporation | Sintered silicon carbide ceramic body |
| US4041117A (en) | 1975-06-30 | 1977-08-09 | General Electric Company | Silicon carbide sintered body |
| US4081284A (en) | 1976-08-04 | 1978-03-28 | General Electric Company | Silicon carbide-boron carbide sintered body |
| US4179299A (en) | 1978-05-01 | 1979-12-18 | The Carborundum Company | Sintered alpha silicon carbide ceramic body having equiaxed microstructure |
| JPS6016869A (ja) | 1983-07-02 | 1985-01-28 | 黒崎窯業株式会社 | 炭化珪素焼結体の製造方法 |
| US4942011A (en) * | 1988-05-03 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing silicon carbide fibers |
| US4888376A (en) | 1988-09-26 | 1989-12-19 | Dow Corning Corporation | Curable organopolysiloxanes filled with silicon carbide powders and highly densified sintered bodies therefrom |
| US4929573A (en) * | 1988-09-26 | 1990-05-29 | Dow Corning Corporation | Highly densified bodies from organopolysiloxanes filled with silicon carbide powders |
| CA2031583A1 (en) * | 1989-12-28 | 1991-06-29 | Gary T. Burns | Multicomponent binders for sic powders |
| US5422321A (en) | 1992-02-27 | 1995-06-06 | Ford Motor Company | Composition and process for making an engine valve |
| JP2768162B2 (ja) | 1992-09-03 | 1998-06-25 | 株式会社日立製作所 | 誘導子型交流発電機 |
-
1996
- 1996-11-04 CA CA 2189517 patent/CA2189517A1/en not_active Abandoned
- 1996-11-04 EP EP96307971A patent/EP0771770A3/en not_active Withdrawn
- 1996-11-06 JP JP8293711A patent/JPH09175864A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0771770A3 (en) | 1997-07-23 |
| EP0771770A2 (en) | 1997-05-07 |
| CA2189517A1 (en) | 1997-05-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040106 |