JPH09176808A - 析出硬化形の銅合金の製造方法 - Google Patents

析出硬化形の銅合金の製造方法

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JPH09176808A
JPH09176808A JP8311041A JP31104196A JPH09176808A JP H09176808 A JPH09176808 A JP H09176808A JP 8311041 A JP8311041 A JP 8311041A JP 31104196 A JP31104196 A JP 31104196A JP H09176808 A JPH09176808 A JP H09176808A
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Dong Woo Lee
東雨 李
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的および物理的な性質を損なうことなく
熱間圧延を省略して製造工程の減少による利点および製
造原価の低減を図る析出硬化形の銅合金の製造方法を提
供する。 【解決手段】 各種原料を鉄1.5〜3.0重量%、リ
ン0.01〜0.5重量%、亜鉛0.01〜0.5重量
%、残りは銅と必至不純物との組成に適宜配合し溶解す
る。溶解した鎔湯を30mm以下の厚さに鋳造して鋳片
を鋳造形成する。鋳片を冷間圧延する。冷間圧延後の鋳
片を450℃以上540℃以下の温度で4〜12時間析
出処理し、銅合金を形成する。薄い鋳片は十分な急冷効
果を有し、鋳片内での析出物の生成および成長を抑制
し、溶質元素を過飽和固溶する。鋳片の冷間圧延により
析出のための駆動力が増大し、圧延組織が微細化し、析
出処理段階で十分な析出効果を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、析出処理する析出
硬化形の銅合金の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】銅合金は、導電率や加工性などの諸特性
が優れているため、従来よりリードフレーム材(lead f
rame)およびコネクタ(connector)などの電気および電
子用の部品材料に広く利用されている。このような電気
および電子用の部品材料に利用される銅合金材料は、そ
の強化法に、固溶強化形、析出硬化形、スピノダル(Sp
inodal)形に大別できる。この中でも、析出硬化形は、
一般材料の特性とは異なり、強度と電気伝導度を同時に
増加させることができるので、電気および電子用材料の
銅合金の製造に広く用いられている。
【0003】図2は、析出硬化形の合金の一般的な状態
図を示すもので、一般的な析出処理は、溶体化処理、す
なわち試料を固溶限界線以上に加熱維持した後に冷却し
て過飽和固溶体を作り、固溶限界線以下の適正温度に維
持させて、第3の析出相の出現により合金の硬化現象を
図っている。
【0004】ところで、電気および電子用の素材とし
て、OLIN社のCDA194は普遍的に広く使われ、
この基本合金組成は、鉄(Fe)が1.5重量%以上
3.0重量%以下、リン(P)が0.01重量%以上
0.5重量%以下、亜鉛(Zn)が0.01重量%以上
0.5重量%以下、残りは銅(Cu)の組成で、強度は
スプリング硬質材の場合、49kg/mm2 以上〜53kg/
mm2 以下、電気伝導度は約60%以上を示している。そ
して、この銅合金の製造方法は、溶体化処理である熱間
圧延後、冷間圧延して析出処理である時効処理してい
る。
【0005】また、大韓民国特許第18126号公報に
記載の銅合金であるPMC102および大韓民国特許公
開第94−10455号公報に記載の銅合金であるPM
C102Mが知られている。これらの銅合金は、ニッケ
ル(Ni)−珪素(Si)−リン(P)、または、この
組成にマグネシウム(Mg)が添加された組成で、高強
度、優れた電気伝導度、および熱的安定性を図ってい
る。そして、これらの銅合金の製造方法は、溶体化処理
である熱間圧延して急冷し冷間圧延した後に析出処理で
ある時効処理などを行う工程からなっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た各種銅合金は、析出処理である時効処理前にインゴッ
トを溶体化処理温度区間で熱間圧延しなければならない
工程が伴われているため、製造工程が増大し製造原価が
上昇する問題がある。
【0007】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、機械的および物理的な性質を損なうことなく熱間圧
延を省略して製造工程の減少による利点および製造原価
の低減を図る析出硬化形の銅合金の製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の析出硬化
形の銅合金の製造方法は、ニッケル(Ni)が0.05
重量%以上3.0重量%以下、珪素(Si)が0.01
重量%以上1.0重量%以下、リン(P)が0.01重
量%以上0.16重量%以下、または、ニッケル(N
i)が0.05重量%以上3.0重量%以下、珪素(S
i)が0.01重量%以上1.0重量%以下、リン
(P)が0.01重量%以上0.16重量%以下、マグ
ネシウム(Mg)が0.02重量%以上0.2重量%以
下で、残りは銅(Cu)と不純物とを含有する組成の銅
合金において、前記組成となる条件で溶解して30mm
以下の厚さを有する鋳片を鋳造形成し、この鋳片を冷間
圧延した後、450℃以上540℃以下の温度で4時間
以上12時間以下析出処理するものである。そして、ニ
ッケル(Ni)が0.05重量%以上3.0重量%以
下、珪素(Si)が0.01重量%以上1.0重量%以
下、リン(P)が0.01重量%以上0.16重量%以
下、または、ニッケル(Ni)が0.05重量%以上
3.0重量%以下、珪素(Si)が0.01重量%以上
1.0重量%以下、リン(P)が0.01重量%以上
0.16重量%以下、マグネシウム(Mg)が0.02
重量%以上0.2重量%以下で、残りは銅(Cu)と不
純物とを含有する組成となるように溶解して30mm以
下の厚さを有する鋳片を鋳造形成し、厚さが薄いために
高熱伝導性の銅合金を主成分とすることから十分な急冷
効果が得られることにより、溶質元素が過飽和固溶され
て析出物の生成および成長が抑制され、この状態の鋳片
を冷間圧延することにより圧延組織が微細化し、さらに
450℃以上540℃以下の温度で4時間以上12時間
以下析出処理することにより、充分な析出効果が得ら
れ、優れた電気伝導度および機械的な性質を有する銅合
金が得られる。なお、鋳片の厚さが30mmより厚い寸
法の場合には、十分な急冷効果が得られず、溶質元素が
十分に過飽和固溶されずに析出物の生成および成長が生
じ、冷間圧延の際に圧延組織が微細化しないとともに、
析出処理の際に十分な析出が得られないため、鋳片を3
0mm以下の厚さに鋳造形成する。
【0009】請求項2記載の析出硬化形の銅合金の製造
方法は、鉄(Fe)が1.5重量%以上3.0重量%以
下、リン(P)が0.01重量%以上0.5重量%以
下、亜鉛(Zn)が0.01重量%以上0.5重量%以
下で、残りは銅(Cu)と不純物とを含有する組成の銅
(Cu)合金において、前記組成となる条件で溶解して
30mm以下の厚さを有する鋳片を鋳造形成し、この鋳
片を冷間圧延した後、450℃以上540℃以下の温度
で4時間以上12時間以下析出処理するものである。そ
して、鉄(Fe)が1.5重量%以上3.0重量%以
下、リン(P)が0.01重量%以上0.5重量%以
下、亜鉛(Zn)が0.01重量%以上0.5重量%以
下で、残りは銅(Cu)と不純物とを含有する組成とな
るように溶解して30mm以下の厚さを有する鋳片を鋳
造形成し、厚さが薄いために高熱伝導性の銅合金を主成
分とすることから充分な急冷効果が得られることによ
り、溶質元素が過飽和固溶されて析出物の生成および成
長が抑制され、この状態の鋳片を冷間圧延することによ
り圧延組織が微細化し、さらに450℃以上540℃以
下の温度で4時間以上12時間以下析出処理することに
より、充分な析出効果が得られ、優れた電気伝導度およ
び機械的な性質を有する銅合金が得られる。なお、鋳片
の厚さが30mmより厚い寸法の場合には、十分な急冷
効果が得られず、溶質元素が十分に過飽和固溶されずに
析出物の生成および成長が生じ、冷間圧延の際に圧延組
織が微細化しないとともに、析出処理の際に十分な析出
が得られないため、鋳片を30mm以下の厚さに鋳造形
成する。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の析出硬化形の銅
(Cu)合金の製造方法について説明する。
【0011】まず、各種原料を鉄(Fe)が1.5重量
%以上3.0重量%以下、リン(P)が0.01重量%
以上0.5重量%以下、亜鉛(Zn)が0.01重量%
以上0.5重量%以下で、残りは銅(Cu)と必至の不
純物とからなる組成となるように適宜配合して溶解し、
この溶解した鎔湯を30mm以下の厚さとなるように鋳
造して鋳片を鋳造形成する。
【0012】次に、この鋳片を冷間圧延する。
【0013】さらに、この冷間圧延後の鋳片を、450
℃以上540℃以下の温度で4時間以上12時間以下析
出処理、すなわち時効処理して、例えば電気部品および
電子部品用に利用される銅(Cu)合金を形成する。
【0014】次に、上記実施の形態の作用を説明する。
【0015】溶解した鎔湯を鋳造して30mm以下の厚
さの鋳片を形成する際、銅合金は、熱伝導性が優秀であ
るため、この鋳片は厚さ寸法が30mm以下と薄いた
め、十分な急冷効果がある。このため、鋳片内での析出
物の生成および成長が抑制され、溶質元素が過飽和固溶
される。したがって、従来の銅合金の製造方法で用いら
れている熱間圧延して溶体化処理する際の温度調節失敗
による析出効果の減少を防止できる。
【0016】また、この鋳造形成された鋳片を冷間圧延
することにより、析出のための駆動力が増大、すなわち
析出する際の格子歪みのエネルギが増大し、さらに、圧
延組織が微細化する。
【0017】このため、冷間圧延後に450℃以上54
0℃以下の温度で4時間以上12時間以下で時効処理す
ることにより、この時効処理段階で十分な析出効果が得
られ、優れた電気伝導度および機械的な性質を有した良
好な機械的および物理的の合金が、従来のように熱間圧
延による溶体化処理を行わずとも製造でき、製造工程を
簡素化でき、製造性を向上できるなどの製造工程の減少
による各種利点が得られるとともに、製造原価を低減で
きる。
【0018】次に、他の実施の形態について説明する。
【0019】上述した実施の一形態と同様に、各種原料
をニッケル(Ni)が0.05重量%以上3.0重量%
以下、珪素(Si)が0.01重量%以上1.0重量%
以下、リン(P)が0.01重量%以上0.16重量%
以下で、残りは銅(Cu)と必至の不純物とからなる組
成となるように適宜配合して溶解し、この溶解した鎔湯
を30mm以下の厚さとなるように鋳造して鋳片を鋳造
形成する。
【0020】次に、この鋳片を冷間圧延する。
【0021】さらに、この冷間圧延後の鋳片を、450
℃以上540℃以下の温度で4時間以上12時間以下析
出処理、すなわち時効処理して、銅(Cu)合金を形成
する。
【0022】この組成の銅(Cu)合金のものでも同様
に、優れた電気伝導度および機械的な性質を有した良好
な機械的および物理的の合金が、従来のように熱間圧延
による溶体化処理を行わずとも製造でき、製造工程を簡
素化でき、製造性を向上できるなどの製造工程の減少に
よる各種利点が得られるとともに、製造原価を低減でき
る。
【0023】次に、さらに他の実施の形態について説明
する。
【0024】上述した実施の一形態および他の実施の形
態と同様に、各種原料をニッケル(Ni)が0.05重
量%以上3.0重量%以下、珪素(Si)が0.01重
量%以上1.0重量%以下、リン(P)が0.01重量
%以上0.16重量%以下、マグネシウム(Mg)が
0.02重量%以上0.2重量%以下で、残りは銅(C
u)と必至の不純物とからなる組成となるように適宜配
合して溶解し、この溶解した鎔湯を30mm以下の厚さ
となるように鋳造して鋳片を鋳造形成する。
【0025】次に、この鋳片を冷間圧延する。
【0026】さらに、この冷間圧延後の鋳片を、450
℃以上540℃以下の温度で4時間以上12時間以下析
出処理、すなわち時効処理して、銅(Cu)合金を形成
する。
【0027】この組成の銅合金のものでも同様に、優れ
た電気伝導度および機械的な性質を有した良好な機械的
および物理的の合金が、従来のように熱間圧延による溶
体化処理を行わずとも製造でき、製造工程を簡素化で
き、製造性を向上できるなどの製造工程の減少による各
種利点が得られるとともに、製造原価を低減できる。
【0028】
【実施例】上記実施の形態の製造方法により製造した銅
合金を従来の一般的な製造方法により製造した銅合金と
比較した。なお、銅合金の組成としては、従来のCDA
194合金(Cu−Fe−Zn−P)と同一となるよう
に原料を適宜配合して、本実施例のものは鎔湯を30m
m厚さの鋳片に鋳造し、従来の製造方法によるものは、
通常の厚さのインゴットに鋳造して熱間圧延して鋳片を
形成した。さらに、それぞれの鋳片を同一の条件で冷間
圧延および時効処理した。その結果を表1に示す。
【0029】
【表1】 この表1に示す結果から、熱間圧延である溶体化過程を
省略した本実施例の試片の銅合金は、従来の一般的な製
造方法により製造した試片の銅合金と同様の特性が得ら
れることが分かった。
【0030】次に、同様な方法で、銅合金の組成として
従来のPMC102M(Cu−Ni−Si−P−Mg)
と同一となるように製造した。その結果を表2、図1お
よび図3に示す。
【0031】
【表2】 この表2に示す結果から、析出処理後の物性値を比較す
ると、溶体化処理過程を省略した本発明の方法で製造さ
れた試片が一般的な方法で製造された試片と同等以上に
良好な特性が得られることが分かった。
【0032】また、図3は、一般的な方法で製造された
PMC102M試片の析出処理後のSEM断面写真であ
り、図1は、本発明の方法で製造されたPMC102M
試片の析出処理後のSEM断面写真である。
【0033】これら図1および図3を比較すると、双方
とも非常に微細に分散された析出物が形成されている
が、図1の本実施例の試片は、図3の従来の試片に比し
て析出物がより微細に分散されていることが分かる。
【0034】次に、さらに同様の方法で、合金元素が多
量添加された場合について比較検討した。その結果を表
3に示す。
【0035】
【表3】 この表3に示す結果から、合金元素が多量添加された場
合、溶体化過程を省略した本実施例の試片は、同時効条
件で、一般的に製造した試片より析出が速く進行される
ことが分かる。したがって、合金成分の量の多い場合に
は、一般的な製造方法と比較して、時効処理時、従来の
場合より時効時間を短くできるか、あるいは時効温度を
低くすることができることが分かった。
【0036】
【発明の効果】請求項1記載の析出硬化形の銅合金の製
造方法によれば、所定の組成となるように溶解して30
mm以下の厚さを有する鋳片を鋳造形成するので、厚さ
が薄いために高熱伝導性の銅合金を主成分とすることか
ら十分な急冷効果が得られ、溶質元素が過飽和固溶され
て析出物の生成および成長を抑制でき、この状態の鋳片
を冷間圧延するので圧延組織を微細化でき、さらに45
0℃以上540℃以下の温度で4時間以上12時間以下
析出処理するので、充分な析出効果が得られ、優れた電
気伝導度および機械的な性質を有する銅合金が得られ
る。
【0037】請求項2記載の析出硬化形の銅合金の製造
方法によれば、所定の組成となるように溶解して30m
m以下の厚さを有する鋳片を鋳造形成するので、厚さが
薄いために高熱伝導性の銅合金を主成分とすることから
充分な急冷効果が得られ、溶質元素が過飽和固溶されて
析出物の生成および成長を抑制でき、この状態の鋳片を
冷間圧延するので圧延組織を微細化でき、さらに450
℃以上540℃以下の温度で4時間以上12時間以下析
出処理するので、充分な析出効果が得られ、優れた電気
伝導度および機械的な性質を有する銅合金が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の析出硬化形の銅合金の製造方法で製造
されたCu−Ni−Si−P−Mg合金の析出処理後の
電子顕微鏡写真である。
【図2】析出硬化形の合金を示す一般的な状態図であ
る。
【図3】従来の析出硬化形の銅合金の製造方法で製造さ
れたCu−Ni−Si−P−Mg合金の析出処理後の電
子顕微鏡写真である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ニッケル(Ni)が0.05重量%以上
    3.0重量%以下、珪素(Si)が0.01重量%以上
    1.0重量%以下、リン(P)が0.01重量%以上
    0.16重量%以下、または、ニッケル(Ni)が0.
    05重量%以上3.0重量%以下、珪素(Si)が0.
    01重量%以上1.0重量%以下、リン(P)が0.0
    1重量%以上0.16重量%以下、マグネシウム(M
    g)が0.02重量%以上0.2重量%以下で、残りは
    銅(Cu)と不純物とを含有する組成の銅合金におい
    て、 前記組成となる条件で溶解して30mm以下の厚さを有
    する鋳片を鋳造形成し、 この鋳片を冷間圧延した後、450℃以上540℃以下
    の温度で4時間以上12時間以下析出処理することを特
    徴とした析出硬化形の銅合金の製造方法。
  2. 【請求項2】 鉄(Fe)が1.5重量%以上3.0重
    量%以下、リン(P)が0.01重量%以上0.5重量
    %以下、亜鉛(Zn)が0.01重量%以上0.5重量
    %以下で、残りは銅(Cu)と不純物とを含有する組成
    の銅(Cu)合金において、 前記組成となる条件で溶解して30mm以下の厚さを有
    する鋳片を鋳造形成し、 この鋳片を冷間圧延した後、450℃以上540℃以下
    の温度で4時間以上12時間以下析出処理することを特
    徴とした析出硬化形の銅合金の製造方法。
JP8311041A 1995-12-08 1996-11-21 析出硬化形の銅合金の製造方法 Pending JPH09176808A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010140915A1 (ru) * 2009-06-04 2010-12-09 Kostln Sergei Alekseevich Способ получения дисперсионно твердеющего низколегированного сплава на медной основе и способ производства из него металлопродукции
JP2014095151A (ja) * 2012-11-09 2014-05-22 Poongsan Corp 電気・電子部品用銅合金材料およびその製造方法
WO2022139466A1 (ko) * 2020-12-23 2022-06-30 한국재료연구원 G-phase을 포함하는 구리-니켈-규소-망간 합금 및 이의 제조방법

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2751990B1 (fr) * 1996-07-30 1998-10-02 Griset Ets Alliage a base de cuivre a conductivite electrique et a temperature d'adoucissement elevees pour des applications dans l'electronique
DE102010056146A1 (de) * 2010-12-20 2012-06-21 Kienle + Spiess Gmbh Verfahren zur Herstellung von Produkten, die Kupfer oder Kupferlegierung aufweisen, für elektrische Anwendungen
US11965398B2 (en) * 2019-06-27 2024-04-23 Schlumberger Technology Corporation Wear resistant self-lubricating additive manufacturing parts and part features

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3522112A (en) * 1967-06-26 1970-07-28 Olin Corp Process for treating copper base alloy
DE3417273C2 (de) * 1984-05-10 1995-07-20 Poong San Metal Corp Kupfer-Nickel-Legierung für elektrisch leitendes Material für integrierte Schaltkreise
US4594221A (en) * 1985-04-26 1986-06-10 Olin Corporation Multipurpose copper alloys with moderate conductivity and high strength
US4728372A (en) * 1985-04-26 1988-03-01 Olin Corporation Multipurpose copper alloys and processing therefor with moderate conductivity and high strength
DE4126079C2 (de) * 1991-08-07 1995-10-12 Wieland Werke Ag Bandgießverfahren für ausscheidungsbildende und/oder spannungsempfindliche und/oder seigerungsanfällige Kupferlegierungen

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010140915A1 (ru) * 2009-06-04 2010-12-09 Kostln Sergei Alekseevich Способ получения дисперсионно твердеющего низколегированного сплава на медной основе и способ производства из него металлопродукции
JP2014095151A (ja) * 2012-11-09 2014-05-22 Poongsan Corp 電気・電子部品用銅合金材料およびその製造方法
WO2022139466A1 (ko) * 2020-12-23 2022-06-30 한국재료연구원 G-phase을 포함하는 구리-니켈-규소-망간 합금 및 이의 제조방법
CN114981459A (zh) * 2020-12-23 2022-08-30 韩国材料研究院 包含g相的铜-镍-硅-锰合金及其制备方法

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