JPH09186230A - 縦型ウェーハボート - Google Patents
縦型ウェーハボートInfo
- Publication number
- JPH09186230A JPH09186230A JP35236795A JP35236795A JPH09186230A JP H09186230 A JPH09186230 A JP H09186230A JP 35236795 A JP35236795 A JP 35236795A JP 35236795 A JP35236795 A JP 35236795A JP H09186230 A JPH09186230 A JP H09186230A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- arm
- vertical
- wafer boat
- boat
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims abstract description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000007665 sagging Methods 0.000 abstract 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の縦型ウェーハボートにおいては、ウェ
ーハの中心部が垂れ下がり変形する欠点があった。 【解決手段】 本発明の縦型ウェーハボートにおいて
は、ウェーハの外周部分と、中心部分と、半径方向中間
部分を支持するアームを支柱に取り付ける。
ーハの中心部が垂れ下がり変形する欠点があった。 【解決手段】 本発明の縦型ウェーハボートにおいて
は、ウェーハの外周部分と、中心部分と、半径方向中間
部分を支持するアームを支柱に取り付ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は縦型ウェーハボー
ト、特に、ウェーハの自重による垂れ下がりを防止する
ようにした縦型ウェーハボートに関するものである。
ト、特に、ウェーハの自重による垂れ下がりを防止する
ようにした縦型ウェーハボートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２及び図３は従来の縦型ウェーハボー
トを示し、１は略円筒状の縦型ウェーハボート本体、２
はその天板、３は底板、４は上記天板２と底板３間を連
結する、円周方向に互いに離間して配置された円柱状の
支柱、５は略円板状をなすシリコン基板等のウェーハ、
６は支柱４の横断面の略内側半分に亘り形成されたウェ
ーハ支持用スリットであり、上記縦型ウェーハボート本
体１の一側より挿入されたウェーハ５をスリット６によ
って支持するように構成されている。
トを示し、１は略円筒状の縦型ウェーハボート本体、２
はその天板、３は底板、４は上記天板２と底板３間を連
結する、円周方向に互いに離間して配置された円柱状の
支柱、５は略円板状をなすシリコン基板等のウェーハ、
６は支柱４の横断面の略内側半分に亘り形成されたウェ
ーハ支持用スリットであり、上記縦型ウェーハボート本
体１の一側より挿入されたウェーハ５をスリット６によ
って支持するように構成されている。
【０００３】図４及び図５は従来の他の縦型ウェーハボ
ートを示し、この例では円柱状の各支柱４の内周側に半
径方向内方に延びるウェーハ受けアーム７を一体に取り
付け、このウェーハ受けアーム７の先端上面に筒状の受
け８を形成し、この受け８によって各ウェーハ５を支え
るようにしている。
ートを示し、この例では円柱状の各支柱４の内周側に半
径方向内方に延びるウェーハ受けアーム７を一体に取り
付け、このウェーハ受けアーム７の先端上面に筒状の受
け８を形成し、この受け８によって各ウェーハ５を支え
るようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、上記従来
の縦型ウェーハボートでは、ウェーハ５の中央部の支持
がなされておらず、大径のものではウェーハ５の中心部
がウェーハ５の自重により垂れ下がり、縦型ウェーハボ
ートを加熱炉内に入れ処理ガスを流して反応処理して製
膜せしめた際、ガス通路が不規則となるばかりでなくウ
ェーハ５が変形し、この変形は、ウェーハ５毎にバラツ
キがあるため製膜の精度が悪くなる等の欠点があった。
の縦型ウェーハボートでは、ウェーハ５の中央部の支持
がなされておらず、大径のものではウェーハ５の中心部
がウェーハ５の自重により垂れ下がり、縦型ウェーハボ
ートを加熱炉内に入れ処理ガスを流して反応処理して製
膜せしめた際、ガス通路が不規則となるばかりでなくウ
ェーハ５が変形し、この変形は、ウェーハ５毎にバラツ
キがあるため製膜の精度が悪くなる等の欠点があった。
【０００５】本発明は上記の欠点を除くようにしたもの
である。
である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の縦型ウェーハボ
ートは、円周方向に互いに離間して配置した支柱と、こ
の支柱の任意のものに設けた、ウェーハの中心部分を支
持するための第１のアームと、上記支柱の他のものに設
けたウェーハの円周部分を支持するための第２のアーム
とより成る。
ートは、円周方向に互いに離間して配置した支柱と、こ
の支柱の任意のものに設けた、ウェーハの中心部分を支
持するための第１のアームと、上記支柱の他のものに設
けたウェーハの円周部分を支持するための第２のアーム
とより成る。
【０００７】上記支柱の更に他のものは、上記ウェーハ
の半径方向中間部分を支持する第３のアームを有する。
の半径方向中間部分を支持する第３のアームを有する。
【０００８】上記第１のアームは、ウェーハの挿入され
る直径方向の端部に位置する第１の支柱に設けられてお
り、上記第３のアームが、上記ウェーハの挿入される直
径方向と直交する直径方向の両側部に位置する第２の支
柱に、ウェーハの挿入口側に向かって斜めに延びるよう
に設けられており、上記第２のアームが、上記第１，第
３の支柱の中間に位置する第３の支柱に設けられてい
る。
る直径方向の端部に位置する第１の支柱に設けられてお
り、上記第３のアームが、上記ウェーハの挿入される直
径方向と直交する直径方向の両側部に位置する第２の支
柱に、ウェーハの挿入口側に向かって斜めに延びるよう
に設けられており、上記第２のアームが、上記第１，第
３の支柱の中間に位置する第３の支柱に設けられてい
る。
【０００９】本発明の縦型ウェーハボートのためのハン
ドリングツールは、挿入方向先端中央部から挿入方向内
側に延びる、ウェーハ支持用アームを逃げるための溝を
有する。
ドリングツールは、挿入方向先端中央部から挿入方向内
側に延びる、ウェーハ支持用アームを逃げるための溝を
有する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下図面によって本発明の実施例
を説明する。
を説明する。
【００１１】本発明においては図１に示すように、ウェ
ーハ５の挿入される直径方向の端部に位置する支柱４ａ
に設けた半径方向内側に延びるアーム７ａを縦型ウェー
ハボート本体１の略中心部位置迄延ばし、ウェーハ５の
挿入される直径方向と直交する直径方向の両側部に位置
する支柱４ｂ，４ｂからのアーム７ｂ，７ｂをウェーハ
５の挿入口側に向かってウェーハ５の半径の略半分の位
置迄斜めに延びるようにする。
ーハ５の挿入される直径方向の端部に位置する支柱４ａ
に設けた半径方向内側に延びるアーム７ａを縦型ウェー
ハボート本体１の略中心部位置迄延ばし、ウェーハ５の
挿入される直径方向と直交する直径方向の両側部に位置
する支柱４ｂ，４ｂからのアーム７ｂ，７ｂをウェーハ
５の挿入口側に向かってウェーハ５の半径の略半分の位
置迄斜めに延びるようにする。
【００１２】なお、ウェーハ５を縦型ウェーハボート本
体１の上記アーム７，７ａ，７ｂ上に載置せしめるため
のハンドリングツール９には、その挿入方向先端部中央
から挿入方向内側に延びる上記支柱４ａのアーム７ａを
逃げるための溝１０を設ける。
体１の上記アーム７，７ａ，７ｂ上に載置せしめるため
のハンドリングツール９には、その挿入方向先端部中央
から挿入方向内側に延びる上記支柱４ａのアーム７ａを
逃げるための溝１０を設ける。
【００１３】
【発明の効果】本発明の縦型ウェーハボートは上記のよ
うな構成であるから、ウェーハ５の中心部が自重で垂れ
下がることがなく、従ってウェーハが変形する等の従来
の欠点を一掃できる大きな利益がある。
うな構成であるから、ウェーハ５の中心部が自重で垂れ
下がることがなく、従ってウェーハが変形する等の従来
の欠点を一掃できる大きな利益がある。
【図１】本発明の縦型ウェーハボートの要部の説明用平
面図である。
面図である。
【図２】従来の縦型ウェーハボートの説明用正面図であ
る。
る。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】従来の他の縦型ウェーハボートの説明用平面図
である。
である。
【図５】図４のＢ−Ｂ線断面図である。
１ 縦型ウェーハボート本体 ２ 天板 ３ 底板 ４ 支柱 ４ａ 支柱 ４ｂ 支柱 ５ ウェーハ ６ ウェーハ支持用スリット ７ アーム ７ａ アーム ７ｂ アーム ８ 受け ９ ハンドリングツール １０ 溝
Claims (4)
- 【請求項１】 円周方向に互いに離間して配置した支柱
と、この支柱の任意のものに設けた、ウェーハの中心部
分を支持するための第１のアームと、上記支柱の他のも
のに設けたウェーハの円周部分を支持するための第２の
アームとより成ることを特徴とする縦型ウェーハボー
ト。 - 【請求項２】 上記支柱の更に他のものが、上記ウェー
ハの半径方向中間部分を支持する第３のアームを有する
ことを特徴とする請求項１記載の縦型ウェーハボート。 - 【請求項３】 上記第１のアームが、ウェーハの挿入さ
れる直径方向の端部に位置する第１の支柱に設けられて
おり、上記第３のアームが、上記ウェーハの挿入される
直径方向と直交する直径方向の両側部に位置する第２の
支柱に、ウェーハの挿入口側に向かって斜めに延びるよ
うに設けられており、上記第２のアームが、上記第１，
第３の支柱の中間に位置する第３の支柱に設けられてい
ることを特徴とする請求項２記載の縦型ウェーハボー
ト。 - 【請求項４】 挿入方向先端中央部から挿入方向内側に
延びる、ウェーハ支持用アームを逃げるための溝を有す
ることを特徴とするウェーハを縦型ウェーハボートに格
納するためのハンドリングツール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35236795A JPH09186230A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 縦型ウェーハボート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35236795A JPH09186230A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 縦型ウェーハボート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09186230A true JPH09186230A (ja) | 1997-07-15 |
Family
ID=18423582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35236795A Pending JPH09186230A (ja) | 1995-12-28 | 1995-12-28 | 縦型ウェーハボート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09186230A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496133B1 (ko) * | 2002-11-30 | 2005-06-17 | 주식회사 테라세미콘 | 반도체 제조장치 |
| WO2006081104A3 (en) * | 2005-01-24 | 2006-09-14 | Memc Electronic Materials | Semiconductor wafer boat for a vertical furnace |
| US9064915B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Support method, high-temperature treatment method using same, and support jig |
-
1995
- 1995-12-28 JP JP35236795A patent/JPH09186230A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100496133B1 (ko) * | 2002-11-30 | 2005-06-17 | 주식회사 테라세미콘 | 반도체 제조장치 |
| WO2006081104A3 (en) * | 2005-01-24 | 2006-09-14 | Memc Electronic Materials | Semiconductor wafer boat for a vertical furnace |
| US9064915B2 (en) | 2011-02-28 | 2015-06-23 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Support method, high-temperature treatment method using same, and support jig |
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