JPH09186502A - High-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with perturbation structure and manufacturing method thereof - Google Patents

High-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with perturbation structure and manufacturing method thereof

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JPH09186502A
JPH09186502A JP8259758A JP25975896A JPH09186502A JP H09186502 A JPH09186502 A JP H09186502A JP 8259758 A JP8259758 A JP 8259758A JP 25975896 A JP25975896 A JP 25975896A JP H09186502 A JPH09186502 A JP H09186502A
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Japan
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temperature superconducting
bandpass filter
mode
thin film
dual
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Application number
JP8259758A
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Japanese (ja)
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Kan Kuwanyon
カン クワンヨン
Han Seo-Kukir
ハン セオークキル
Kim Jeha
キム ジェハ
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Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI
Original Assignee
Electronics and Telecommunications Research Institute ETRI
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Publication date
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10N60/00Superconducting devices
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    • H10N60/85Superconducting active materials

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  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マイクロ波特性に優れた高温超伝導エピタキ
シアル薄膜を用いて、製造方法が単純であり、小型化及
び高性能化が図れる摂動構造の高温超伝導二重モード5
極帯域通過フィルター及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 マイクロ波特性の優秀なMgO単結晶基
板5と;前記単結晶基板5上部の一角に形成され、パッ
ド用金薄膜2が蒸着された信号伝送用入出力端1a,1
bと;前記単結晶基板5上部の前記入出力端1a,1b
とマイクロストリップ結合線4間に信号の伝送エネルギ
ーを制御するかフィルターリングする摂動構造の環状共
振器二つを集積させた高温超伝導二重モード5極帯域通
過フィルターの回路パターン7と;前記単結晶基板5の
下部に蒸着させた接地平面用金属薄膜6とを含むもので
ある。
(57) 【Abstract】 PROBLEM TO BE SOLVED: To use a high-temperature superconducting epitaxial thin film having excellent microwave characteristics, to simplify the manufacturing method, and to realize miniaturization and high performance. 5
Provided are a pole band pass filter and a method for manufacturing the same. SOLUTION: An MgO single crystal substrate 5 having excellent microwave characteristics; and signal transmission input / output terminals 1a, 1 formed on one corner of the single crystal substrate 5 and having a pad gold thin film 2 deposited thereon.
b; the input / output terminals 1a and 1b above the single crystal substrate 5
A circuit pattern 7 of a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter in which two annular resonators having a perturbation structure for controlling or filtering signal transmission energy are integrated between the microstrip coupling line 4 and the microstrip coupling line 4; The ground plane metal thin film 6 deposited under the crystal substrate 5 is included.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、RF及びマイクロ
波通信用受信システムの前端部を構成する中核部品の一
つであるX−バンド用摂動構造の二重モード5極帯域通
過フィルター及びその製造方法に係り、特に、高温超伝
導二重モード5極帯域通過フィルター及びその製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure for the X-band, which is one of the core parts constituting the front end of a receiving system for RF and microwave communications, and its manufacture. More particularly, the present invention relates to a high-temperature superconducting dual-mode 5-pole bandpass filter and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、21世紀に向かって、電波サー
ビス需要が爆発的に増加するにつれて、高品位、大容量
の情報を高速に処理し得る優秀な情報通信システムの開
発は、各国の超高速情報通信網構築計画に便乗して、そ
の重要性が非常に大きくなっている。通信及び放送だけ
でなく、諸般産業分野での電波利用は、マイクロ波から
サブミリメートル波帯域まで非常に広範囲にわたってい
る。このため、この分野の独創的開発は重要度が高く、
緊急度も非常に高い。
2. Description of the Related Art Generally, with the explosive increase in demand for radio services toward the 21st century, the development of excellent information communication systems capable of processing high-quality, large-capacity information at high speed is extremely fast. Taking advantage of the information and communication network construction plan, its importance has grown significantly. The use of radio waves in various industrial fields as well as communication and broadcasting is extremely wide ranging from the microwave to the submillimeter wave band. For this reason, original development in this field is of high importance,
Urgency is also very high.

【0003】最近、優秀な性能を備えた無線通信及び移
動通信機器の必要性が切実になるにつれて、高温超伝導
薄膜を用いるマイクロ波通信用部品が段々注目を浴びて
おり、冷却装備(cryocooler)の小型化、高
性能化が現実化しつつ、通信用部品に対する研究開発も
なお一層活発になっている。
Recently, as the need for wireless communication and mobile communication equipment having excellent performance has become urgent, microwave communication parts using a high temperature superconducting thin film have been receiving more and more attention, and cooling equipments (cryocoolers). While the miniaturization and higher performance of the product has become a reality, research and development for communication components are becoming more active.

【0004】マイクロ波フィルターは、移動通信及び衛
星通信等の通信機器の核心部品を構成する核心素子であ
り、優秀な性能の通信システムを開発するためには、多
様な種類のフィルター、フィルタータンク、支持部品、
及び、これらを連結する特殊ケーブルと電子回路等が多
く必要とされる。このため、軽薄短小化が難しかった。
The microwave filter is a core element that constitutes a core part of communication equipment such as mobile communication and satellite communication. In order to develop a communication system with excellent performance, various types of filters, filter tanks, Support parts,
In addition, many special cables and electronic circuits that connect them are required. For this reason, it was difficult to reduce the size of the device.

【0005】従って、超小型冷却器の開発とともに、良
質の薄膜で製造した優秀な性能の軽薄短小型高温超伝導
マイクロ波フィルターや多様なマイクロ波部品の開発が
切実になっている。
Therefore, along with the development of the ultra-compact cooler, the development of light, thin, short and compact high-temperature superconducting microwave filters and various microwave parts manufactured with good quality thin films has become urgent.

【0006】従って、限定された電波資源を効率的に活
用するためには、非常に優秀なマイクロ波特性を発揮す
る材料の開発だけでなく、高性能、高信頼度、小型化を
達成し得るマイクロ波部品(サブシステム)の開発が切
実な状況である。
[0006] Therefore, in order to efficiently utilize limited radio wave resources, not only the development of materials exhibiting extremely excellent microwave characteristics, but also high performance, high reliability, and miniaturization are achieved. The development of microwave components (subsystems) to obtain is an urgent situation.

【0007】このような状況で、高良好度(Q−fac
tor)を発揮し、無損失及び無抵抗の特性を有する高
温超伝導体は、マイクロ波通信部品の特性向上と小型化
に大変適する素材として知られている。
In such a situation, a high degree of goodness (Q-fac
A high-temperature superconductor that exhibits a tor) and has no loss and no resistance is known as a material very suitable for improving the characteristics and miniaturizing the microwave communication component.

【0008】従って、マイクロ波特性に優れたMgO、
LaAlO3、NdGaO3、サファイア(Sapphi
re)等の単結晶基板に成長された良質の高温超伝導エ
ピタキシアル薄膜を用いて、最適に設計されたマイクロ
波素子(例えば、共振器、帯域/低域フィルター、遅延
線等)及び回路(例えば、製作が簡単である高温超伝導
マイクロ波モノリシック集積回路(HTS−MMIC
s)等)を開発すると、マイクロ波部品の小型化と高性
能化を成就し得ることが期待される。
Therefore, MgO having excellent microwave characteristics,
LaAlO 3 , NdGaO 3 , sapphire (Sapphi
re)) and other high-quality high-temperature superconducting epitaxial thin films grown on a single-crystal substrate, and are optimally designed for microwave devices (eg, resonators, band / low-pass filters, delay lines, etc.) and circuits ( For example, a high temperature superconducting microwave monolithic integrated circuit (HTS-MMIC) that is easy to fabricate.
It is expected that the miniaturization and high performance of microwave components can be achieved by developing (s) etc.).

【0009】一方、マイクロ波通信システム用核心部品
に使用する各種マイクロ波素子を開発するためには、設
計、製造及び評価により製造されたマイクロ波素子が、
理論値(設計値)とほぼ一致する損失特性を発揮しなけ
ればならない。
On the other hand, in order to develop various microwave elements used for core parts for microwave communication systems, microwave elements manufactured by design, manufacture and evaluation are
It must exhibit loss characteristics that closely match the theoretical value (design value).

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、優秀な
マイクロ波特性を有する高温超伝導エピタキシアル薄膜
の成長と薄膜製造用の誘電体単結晶基板の開発、回路パ
ターンの鋭利度を高めるリソグラフィー工程、低温マイ
クロ波特性測定用試験ジグの開発、超小型低温冷却装置
の開発等が、解決すべき課題として多く残っている実情
にある。さらに、マイクロ波帯域の電波高度利用技術に
も積極的に活用し得なければならない。
However, the growth of a high temperature superconducting epitaxial thin film having excellent microwave characteristics and the development of a dielectric single crystal substrate for thin film production, a lithography process for increasing the sharpness of a circuit pattern, The development of test jigs for measuring low-temperature microwave characteristics and the development of ultra-compact low-temperature cooling equipment remain many issues to be solved. Furthermore, it must be able to be actively utilized for advanced radio wave utilization technology in the microwave band.

【0011】従って、本発明は、このような技術的背景
下で案出されたもので、その目的は、マイクロ波特性に
優れた高温超伝導エピタキシアル薄膜を用いて、製造方
法が単純であり、小型化及び高性能化が図れる摂動構造
の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルター及びそ
の製造方法を提供することにある。
Therefore, the present invention was devised under such a technical background, and an object thereof is to use a high-temperature superconducting epitaxial thin film excellent in microwave characteristics and to provide a simple manufacturing method. Accordingly, it is an object of the present invention to provide a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure that can be miniaturized and have high performance, and a manufacturing method thereof.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明は、X−バンド用摂動構造の環状高温超伝導二
重モード5極帯域通過フィルターの回路パターンが、マ
イクロ波フィルター設計理論に基づいて、摂動構造の二
重モード共振器とこれを集積した二重モード帯域通過フ
ィルターを設計し、マイクロ波部品開発用設計システム
(S/W:Supercompact TM)をソフトウ
エアとして用いて最適化した後、最適フィルターパター
ンが備えられたマイクロ波素子製造用マスク(回路原
板)を製造し、製造したエピ薄膜及びマスクとフォトリ
ソグラフィー及び食刻(エッチング)工程等の微細形状
化(patterning)工程により具現されること
を特徴とする。
According to the present invention for achieving the above object, the circuit pattern of an annular high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure for X-band is based on the microwave filter design theory. Based on this, we designed a dual-mode resonator with a perturbation structure and a dual-mode bandpass filter that integrates it, and optimized it by using a microwave component development design system (S / W: Supercompact ) as software. After that, a mask (circuit original plate) for manufacturing a microwave device provided with an optimum filter pattern is manufactured, and the manufactured epi thin film and mask are realized by a fine patterning process such as photolithography and etching (etching) process. It is characterized by being done.

【0013】又、本発明は、マイクロ波特性の良好なM
gO(誘電常数=9.6)単結晶基板(サイズ:1.5
cm×1.5cm×0.5cmt)を使用して、良質の
高温超伝導薄膜を製造し、接地平面用としてTi層/A
g層の二重金属薄膜を形成することにより、マイクロ波
用試験ジグ(test−jig)との優秀な接触及び整
合を達成し得ることを特徴とする。
Further, the present invention provides an M having good microwave characteristics.
gO (dielectric constant = 9.6) single crystal substrate (size: 1.5
cm × 1.5 cm × 0.5 cmt) to produce a high-quality high-temperature superconducting thin film, and a Ti layer / A for a ground plane.
By forming a g-layer double metal thin film, excellent contact and alignment with a microwave test-jig can be achieved.

【0014】本発明の他の特徴は、X−バンド用摂動構
造の環状高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルター
が、マイクロ波特性の優秀なMgO単結晶基板と;前記
単結晶基板上部の一角に形成され、パッド用金属薄膜、
例えば、金薄膜が形成された信号伝送用入出力端と;前
記単結晶基板上部の前記入出力端とマイクロストリップ
結合線間に、信号の伝送エネルギーを制御するかフィル
ターリングする摂動構造の環状共振器二つを集積させた
高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルターの回路パ
ターンと;前記単結晶基板の下部に、例えば、蒸着等に
より形成した接地平面用金属薄膜とを含んで構成される
ことにある。
Another feature of the present invention is that an annular high temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure for X-band has a MgO single crystal substrate excellent in microwave characteristics; and an upper portion of the single crystal substrate. A metal thin film for pads, which is formed in one corner
For example, a signal transmission input / output terminal on which a gold thin film is formed; and a ring resonance of a perturbation structure for controlling or filtering signal transmission energy between the input / output terminal on the single crystal substrate and the microstrip coupling line. And a circuit pattern of a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter in which two devices are integrated; and a ground plane metal thin film formed by, for example, vapor deposition under the single crystal substrate. Especially.

【0015】ここで、信号の伝送エネルギーを制御する
とは、例えば、信号の強さの調節を行うことをいう。ま
た、信号の伝送エネルギーをフィルタリングするとは、
特定の周波数帯域だけを通過させることをいう。
Here, controlling the transmission energy of a signal means, for example, adjusting the strength of the signal. Also, filtering the transmitted energy of a signal means
Passing only a specific frequency band.

【0016】本発明のさらに他の特徴は、MgO単結晶
基板上部にパルス−レーザー蒸着法により高温超伝導Y
BCO/MgO薄膜を成長し、パッド用金属薄膜を、例
えば、金等の金属を蒸着して形成した後、前記金薄膜を
通常のフォトリソグラフィー方法によりパターニングす
る第1段階と;前記第1段階の遂行後、フォトリソグラ
フィー工程である、高速回転塗布器でフォトレジストを
前記高温超伝導薄膜上に塗布し、ソフトベーキングを遂
行する第2段階と;前記第2段階の遂行後、接触整列器
で位置決めすると共に、紫外線源を用いて露光工程を行
い、感光されたフォトレジスト膜を除去する第3段階
と;前記第3段階の遂行後、湿式又は乾式の食刻、例え
ば、EDTA( Ethylenedeaminetetraacetic Acid:エ
チレンジアミン四酢酸:)湿式食刻又はECR(電子サイ
クロトロン共鳴)イオンミリング(ion milli
ng)乾式食刻により前記高温超伝導薄膜を目的の形状
に形成し、フォトレジスト膜と除去する第4段階と;前
記第4段階の遂行後、コネクタピンとの接触のための金
属パッド、例えば、金パッドを形成した後、前記高温超
伝導二重モード5極帯域通過フィルターパターンの表面
と汚染された基板表面を洗浄する第5段階と;前記第5
段階の遂行により高温超伝導二重モード帯域通過フィル
ターが完成されると、Ti層/Ag層で構成される二重
金属薄膜を、例えば、電子線蒸発器で蒸着して形成し
て、基板背面の接地平面を製造する第6段階とを含んで
遂行することにある。
Still another feature of the present invention is that the high temperature superconducting Y is formed on the MgO single crystal substrate by the pulse-laser deposition method.
A first step of growing a BCO / MgO thin film, forming a metal thin film for a pad by evaporating a metal such as gold, and then patterning the gold thin film by a normal photolithography method; After performing the photolithography process, a photoresist is coated on the high temperature superconducting thin film with a high speed spin coater, and a soft baking is performed. Second step; After performing the second step, positioning is performed by a contact aligner. And a third step of performing an exposure process using an ultraviolet light source to remove the exposed photoresist film; and after performing the third step, wet or dry etching, for example, EDTA (Ethylenedeaminetetraacetic Acid: ethylenediamine). Tetraacetic acid :) Wet etching or ECR (electron cyclotron resonance) ion milling (ion milli)
ng) a fourth step of forming the high-temperature superconducting thin film into a desired shape by dry etching and removing the photoresist film, and a metal pad for contacting with the connector pin after performing the fourth step, eg, A fifth step of cleaning the surface of the high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter pattern and the contaminated substrate surface after forming the gold pad;
When the high temperature superconducting dual mode bandpass filter is completed by performing the steps, a double metal thin film composed of a Ti layer / Ag layer is formed by, for example, an electron beam evaporator to form a double metal thin film. And the sixth step of manufacturing the ground plane.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づい
て詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0018】本発明の要旨は、高温超伝導エピタキシア
ル薄膜を用いてマイクロ波核心素子を製造することにあ
る。
The gist of the present invention is to manufacture a microwave core element using a high temperature superconducting epitaxial thin film.

【0019】超伝導体は、臨界温度以下で電気抵抗を有
しなくなり、外部磁場も排除するため、100GHz以
上の超高周波領域でも伝送エネルギーを分散させず、
又、減衰による損失なしに、大容量の情報を歪みなしに
伝送させることができる。
Since the superconductor has no electric resistance below the critical temperature and eliminates the external magnetic field, it does not disperse the transmission energy even in the super high frequency region of 100 GHz or more,
In addition, a large amount of information can be transmitted without distortion without loss due to attenuation.

【0020】特に、本発明で使用した高温超伝導エピタ
キシアル薄膜は、既存の金属薄膜に比べてマイクロ波表
面抵抗が非常に小さいため(約1/20程度)、平面形
マイクロ波伝送性素子の性能向上と小型化を達成し得、
最近、日に日に発展している素子製造工程とパッケージ
ング技術の助けを受けて性能を向上させることができ
る。
Particularly, since the high temperature superconducting epitaxial thin film used in the present invention has a very small microwave surface resistance (about 1/20) as compared with the existing metal thin film, it can be used as a planar microwave transmitting element. Can achieve performance improvement and miniaturization,
Recently, performance can be improved with the help of device manufacturing processes and packaging technology which have been developed day by day.

【0021】図1は、本発明による二つの摂動構造の環
状二重モード共振器を集積した高温超伝導二重モード5
極帯域通過フィルターの平面図である。
FIG. 1 shows a high-temperature superconducting dual mode 5 integrating two perturbed annular dual mode resonators according to the present invention.
It is a top view of a pole band pass filter.

【0022】図1に示すように、信号伝送用入力端1a
と出力端1bは、約50Ωの抵抗を有する高温超伝導マ
イクロストリップ線で製作され、試験ジグのハウジング
に付着されたK−型コネクタピンのガラスビード(gl
ass bead)と接触される。この際に、接触抵抗
と損失を最大限減らすため、図1に示すように、高温超
伝導マイクロストリップ導体上に金パッド2を電子線蒸
発で厚さ2μm程度蒸着して、形成している。
As shown in FIG. 1, a signal transmission input end 1a.
And the output end 1b are made of a high temperature superconducting microstrip wire having a resistance of about 50Ω and a glass bead (gl) of a K-type connector pin attached to the housing of the test jig.
ass bead). At this time, in order to reduce the contact resistance and the loss to the maximum, as shown in FIG. 1, the gold pad 2 is formed on the high temperature superconducting microstrip conductor by electron beam evaporation to a thickness of about 2 μm.

【0023】そして、本発明は、基板5として、MgO
単結晶(ε=9.6)基板を使用する。ここで、MgO
単結晶基板5を用いているのは、MgO単結晶基板が、
SrTiO3やLaAlO3等の他の種類の薄膜蒸着用基
板に比べて、マイクロ波の特性が優秀であるためであ
る。また、入出力端1a,1bの線幅は、0.49mm
にしている。
In the present invention, MgO is used as the substrate 5.
A single crystal (ε = 9.6) substrate is used. Where MgO
The single crystal substrate 5 is used because the MgO single crystal substrate is
This is because the microwave characteristics are excellent as compared with other types of thin film deposition substrates such as SrTiO 3 and LaAlO 3 . The line width of the input / output terminals 1a and 1b is 0.49 mm.
I have to.

【0024】一方、本発明の核心である、二重モード5
極帯域通過フィルターを構成する主要部分は、摂動構造
7を有する環状二重モード共振器を構成する導体3a,
3bとマイクロストリップ結合線4である。摂動構造7
の二重モード共振器については、後で詳しく説明する。
摂動構造7を有する二重モード共振器は、2極帯域通過
フィルターを形成する。また、マイクロストリップ結合
線4の数が一つであるので、本発明の総極数は5極とな
る。二重モード帯域通過フィルターの中心周波数(ce
nter frequency)fo=10GHz、帯
域幅(bandwidth)は500MHzとなるよう
に設計する。前記結合線4は、素子パターンの大きさを
減らし、良好な結合のために図1の形態に限らず多様な
形態に具現することができる。
On the other hand, the dual mode 5 which is the core of the present invention
The main part of the pole band pass filter is a conductor 3a that constitutes an annular dual mode resonator having a perturbation structure 7.
3b and the microstrip coupling line 4. Perturbation structure 7
The dual mode resonator will be described in detail later.
The dual mode resonator with the perturbation structure 7 forms a two-pole bandpass filter. Moreover, since the number of the microstrip coupling lines 4 is one, the total number of poles of the present invention is five. Center frequency of the dual-mode bandpass filter (ce
It is designed such that the inter frequency is fo = 10 GHz and the bandwidth is 500 MHz. The bonding line 4 may be implemented in various shapes, not limited to the shape of FIG. 1, for reducing the size of the device pattern and achieving good bonding.

【0025】本発明で使用したMgO基板5は、マイク
ロ波特性にも優れ、また、前記基板上に製造した高温超
伝導YBa2Cu37-d(本明細書中では、YBCOと
いう)エピタキシアル薄膜の電気的特性や表面特性も非
常に良好となる。この高温超伝導YBa2Cu37-d
ピタキシアル薄膜により、入出力端1a、1b、導体3
a,3b、結合線4が形成される。
The MgO substrate 5 used in the present invention is also excellent in microwave characteristics, and the high temperature superconducting YBa 2 Cu 3 O 7-d (referred to as YBCO in this specification) produced on the substrate. The electrical properties and surface properties of the epitaxial thin film are also very good. With this high temperature superconducting YBa 2 Cu 3 O 7-d epitaxial thin film, the input / output terminals 1a and 1b, the conductor 3
a, 3b and the connecting line 4 are formed.

【0026】試験ジグの内部底面との優秀な電気的整合
及び接触のために、接地平面用Ti層/Ag層二重薄膜
6が、電子線蒸発器により均一に蒸着されて形成され
る。このTi層/Ag層二重薄膜6は、前記MgO単結
晶基板5との接着も良好である。また、このTi層/A
g層二重薄膜6は、一般にマイクロ波通信部品に使用さ
れる金(Au)薄膜に比べて、マイクロ波特性が良好で
あり、蒸着費用も低廉であるので、接地平面としては非
常に望ましい。
For excellent electrical matching and contact with the inner bottom surface of the test jig, a ground plane Ti layer / Ag layer double thin film 6 is uniformly deposited by an electron beam evaporator. The Ti layer / Ag layer double thin film 6 has good adhesion to the MgO single crystal substrate 5. Also, this Ti layer / A
The g-layer double thin film 6 has excellent microwave characteristics and is inexpensive in vapor deposition as compared with a gold (Au) thin film that is generally used for microwave communication parts, and is therefore highly desirable as a ground plane. .

【0027】以下、前記のような構成のX−バンド用摂
動構造の環状高温超伝導二重モード5極帯域通過フィル
ターの製造工程を図2〜図7を参照して説明する。
The manufacturing process of the annular high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having the X-band perturbation structure having the above-mentioned structure will be described below with reference to FIGS.

【0028】図2〜図7の工程断面図は、摂動構造の環
状二重モード5極帯域通過フィルターを完成するため、
MgO基板を表面処理した後、YBCOエピタキシャル
薄膜を形成する段階から基板背面に接地平面を形成する
段階までを示すものである。
The process cross-sectional views of FIGS. 2 to 7 are for the purpose of completing an annular dual mode five-pole bandpass filter with a perturbation structure.
It shows from the step of forming a YBCO epitaxial thin film to the step of forming a ground plane on the back surface of the substrate after the surface treatment of the MgO substrate.

【0029】図2は、基板の前処理後、パルス−レーザ
ー蒸着法による高温超伝導YBa2Cu37-dの薄膜蒸
着及びパッド用金(Au)薄膜を形成する工程を示す。
この工程では、まず、MgO基板10(図1の基板5)
の表面をより平坦にするための前処理工程として、主に
ECRイオンミリングで食刻するか、食刻液(etch
ant)を用いて短時間に表面食刻を行う。次いで、パ
ルスレーザー蒸着法により高温超伝導YBCO薄膜11
を成長させ、パッド用金薄膜12を蒸着した後、前記金
薄膜12を通常のフォトリソグラフィー方法でパターニ
ングする。これにより、図1の金パッド2が形成され
る。
FIG. 2 shows a step of forming a high temperature superconducting YBa 2 Cu 3 O 7-d thin film by a pulse laser deposition method and forming a gold (Au) thin film for a pad after pretreatment of a substrate.
In this step, first, the MgO substrate 10 (substrate 5 in FIG. 1)
As a pre-treatment process for making the surface of the surface more flat, etching is mainly performed by ECR ion milling or an etching liquid (etch).
Ant) is used to perform surface etching in a short time. Then, the high temperature superconducting YBCO thin film 11 is formed by the pulse laser deposition method.
Is grown and the gold thin film 12 for pad is deposited, and then the gold thin film 12 is patterned by a normal photolithography method. As a result, the gold pad 2 of FIG. 1 is formed.

【0030】図3は、高温超伝導YBa2Cu37-d
薄膜11のフォトリソグラフィー工程を遂行するための
フォトレジスト膜を塗布する工程を示す。この工程で
は、高温超伝導マイクロ波素子を製造するための第1段
階であるフォトリソグラフィー工程を遂行する。即ち、
先ず、高速回転塗布器(spincoater)でフォ
トレジスト(AZ−5214E)13を高温超伝導薄膜
11上に塗布し、ソフトベーキング(soft−bak
ing)を行う。
FIG. 3 shows a process of applying a photoresist film for performing a photolithography process of the thin film 11 of high temperature superconducting YBa 2 Cu 3 O 7-d . In this process, a photolithography process, which is the first step for manufacturing a high temperature superconducting microwave device, is performed. That is,
First, a photoresist (AZ-5214E) 13 is coated on the high temperature superconducting thin film 11 with a high speed spin coater, and soft baking (soft-bak) is performed.
ing).

【0031】図4は、露光後、感光されたフォトレジス
ト膜の除去工程を示す。この工程では、図4に示すよう
に、接触整列器によって位置決めを行うと共に、紫外線
源(UV−ソース(10W))で露光工程を行い、現像
液を使用して、感光されたフォトレジスト膜を除去す
る。
FIG. 4 shows a step of removing the exposed photoresist film after exposure. In this step, as shown in FIG. 4, positioning is performed by a contact aligner, and an exposure step is performed by an ultraviolet source (UV-source (10 W)), and the exposed photoresist film is removed using a developing solution. Remove.

【0032】図5は、食刻工程(EDTA(エチレンジ
アミン四酢酸)湿式食刻)による高温超伝導薄膜の形状
化(patterning)工程を示す。図5に示すよ
うに、食刻工程(EDTA湿式食刻又はECRイオンミ
リングによる乾式食刻)により、高温超伝導薄膜11を
パターニング、すなわち、目的の形状(図1の入出力端
1a、1b、導体3a,3b,結合線4の形状)に形成
する。
FIG. 5 shows a patterning process of a high temperature superconducting thin film by an etching process (EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid) wet etching). As shown in FIG. 5, the high temperature superconducting thin film 11 is patterned by an etching process (wet etching by EDTA or dry etching by ECR ion milling), that is, a target shape (input / output ends 1a, 1b in FIG. 1, The conductors 3a, 3b and the connecting line 4 are formed).

【0033】図6は、アセトンによる、感光されなかっ
たフォトレジスト膜13の除去、金パッド12露出及び
不純物洗浄工程を示す。図6に示すように、アセトンに
より、感光されなかったフォトレジスト膜を除去し、コ
ネクタピンとの優秀な接触のため、金パッド12を露出
させた後、不要な不純物等を洗浄する。
FIG. 6 shows the steps of removing the unexposed photoresist film 13, exposing the gold pad 12, and cleaning the impurities with acetone. As shown in FIG. 6, the unexposed photoresist film is removed by acetone, and the gold pad 12 is exposed for excellent contact with the connector pins, and then unnecessary impurities are washed away.

【0034】図7は、基板背面の接地平面の蒸着工程を
示す。図2から図6までの工程により、高温超伝導二重
モード多極帯域通過フィルターが完成されると、図7に
示すように、基板10の背面に接地平面を製造するた
め、電子線蒸発器でTi 層/Ag層の二重薄膜14を
蒸着させる。ここでは、基板10の背面に、まず、第1
層として、 Ti層を、例えば、20〜300nm成膜
し、ついで、その上に、第2層として、 Ag層を、例
えば、1〜2μm成膜する。
FIG. 7 shows the deposition process of the ground plane on the backside of the substrate. When the high-temperature superconducting dual-mode multipole bandpass filter is completed by the steps of FIGS. 2 to 6, as shown in FIG. Then, a double thin film 14 of Ti layer / Ag layer is deposited. Here, on the back surface of the substrate 10, first, the first
As a layer, a Ti layer is formed to a thickness of, for example, 20 to 300 nm, and then, as a second layer, an Ag layer is formed to be, for example, a thickness of 1 to 2 μm.

【0035】ここで高温超伝導薄膜11のフォトリソグ
ラフィー工程過程をさらに具体的に説明すると次のよう
である。
The photolithography process of the high temperature superconducting thin film 11 will be described in more detail below.

【0036】実験室用高速回転塗布器(spin co
ater)のヘッド(チャック)上に成長したYBCO
/MgO薄膜11,10を置き、先ずHMDS(Hexame
thldisilazan)を塗布して(5000rpm、30秒
間)、異物質を除去し表面平坦化を行う。
Laboratory high speed spin coater (spin co
YBCO grown on the head (chuck)
/ MgO thin films 11 and 10 are placed, and HMDS (Hexame
Thldisilazan) is applied (5000 rpm, 30 seconds) to remove foreign substances and flatten the surface.

【0037】次いで、フォトレジスト(PR:AZ−5
214E)を塗布して(5000rpm、30秒間)、
均一なフォトレジスト膜13を高温超伝導YBCO薄膜
11上に被せる。
Then, a photoresist (PR: AZ-5) is used.
214E) is applied (5000 rpm, 30 seconds),
A uniform photoresist film 13 is overlaid on the high temperature superconducting YBCO thin film 11.

【0038】そして、ソフトベーキング(80℃、5分
間)工程によりフォトレジスト膜を適宜硬化させた後、
フォトレジスト膜を被せた試料を実験室用小型接触整列
器上に置き、試料と電子線マスクとを整列させた後、1
0W用UV光源で5分間露光させる。
Then, after appropriately curing the photoresist film by a soft baking (80 ° C., 5 minutes) process,
The sample covered with the photoresist film is placed on a small contact aligner for a laboratory, and the sample and the electron beam mask are aligned, and then 1
It is exposed with a UV light source for 0 W for 5 minutes.

【0039】露光させた試料を現像液で3分間処理し
て、感光されたフォトレジスト膜を除去した後、蒸留水
で素子表面を洗浄する。
The exposed sample is treated with a developing solution for 3 minutes to remove the exposed photoresist film, and then the surface of the device is washed with distilled water.

【0040】次いで、YBCO薄膜11を食刻して回路
パターンをパターニングするためには、湿式食刻である
場合、EDTA(エチレンジアミン四酢酸)類で食刻し
(化学食刻)、乾式食刻である場合、ECRイオンミリ
ングで食刻を行う(物理食刻)。
Next, in order to pattern the circuit pattern by etching the YBCO thin film 11, in the case of wet etching, it is etched with EDTA (ethylenediaminetetraacetic acid) and the like (chemical etching), and dry etching is used. In some cases, etching is performed by ECR ion milling (physical etching).

【0041】食刻が完了すると、フィルターパターンの
鋭利度を高め、不要な(感光されなかった)フォトレジ
スト膜又はその他の異物質を除去するため、蒸留水(D
I−water)とアセトンで洗浄した後、乾燥(ha
rd baking)させて、摂動構造の高温超伝導二
重モード5極帯域通過フィルターの製造工程を終了す
る。
When the etching is completed, the sharpness of the filter pattern is increased, and unnecessary (non-exposed) photoresist film or other foreign substances are removed to remove distilled water (D
I-water) and acetone, and then dried (ha
rd baking), and the manufacturing process of the high-temperature superconducting dual-mode 5-pole bandpass filter with a perturbation structure is completed.

【0042】一方、具現された高温超伝導二重モード帯
域通過フィルターの反対側、つまり基板の背面には蒸発
器を使用して真空チャンバー(10-2Torr、500
℃)でTi層/Ag層二重金属薄膜14を連続的に蒸着
する。
On the other hand, on the opposite side of the embodied high-temperature superconducting dual-mode bandpass filter, that is, on the back surface of the substrate, an evaporator is used to form a vacuum chamber (10 -2 Torr, 500).
Ti layer / Ag layer double metal thin film 14 is continuously deposited at (° C.).

【0043】前記Ti層/Ag層二重金属薄膜14は、
MgO基板10との接着が優秀であり、薄膜蒸着も容易
である。特に、銀(Ag)は、高温超伝導YBCOエピ
薄膜の特性を向上させるだけでなく、YBCO薄膜11
への他の物質の汚染を防ぐことができる利点を有する。
そして、銀薄膜は、マイクロ波特性だけでなく電気伝導
性にも非常に優れるため、フィルターのマイクロ波特性
の測定時、試験ジグの内部底面と優秀な接触整合にも寄
与する。 ここで、Ti層/Ag層二重金属薄膜14の
Ti層は、YBCOのTc(89K)以下の低温で使用
される際に、Ag層が基板10からはがれるのを防止す
る。これにより、Ag層が基板からはがれ、接地効果が
得られなくなることによるマイクロ波特性を防止するこ
とができる。なお、Ag層の代わりに、Au層、Cu
層、Ag層を用いることができるが、発明者らの実験に
よれば、Ag層の方が密着性に優れている。
The Ti layer / Ag layer double metal thin film 14 is
Adhesion with the MgO substrate 10 is excellent, and thin film deposition is easy. In particular, silver (Ag) not only improves the characteristics of the high temperature superconducting YBCO epitaxial thin film, but also improves the characteristics of the YBCO thin film 11.
It has the advantage of being able to prevent contamination of other substances to the.
And, since the silver thin film is excellent not only in microwave characteristics but also in electrical conductivity, it contributes to excellent contact matching with the inner bottom surface of the test jig when measuring the microwave characteristics of the filter. Here, the Ti layer of the Ti layer / Ag layer double metal thin film 14 prevents the Ag layer from peeling off from the substrate 10 when used at a low temperature of Tc (89K) or less of YBCO. As a result, the microwave characteristics due to the Ag layer peeling off from the substrate and the grounding effect being lost can be prevented. Note that instead of the Ag layer, an Au layer, Cu
Although a layer and an Ag layer can be used, according to the experiments conducted by the inventors, the Ag layer is superior in adhesiveness.

【0044】以上の工程を経ると、中心周波数が10G
Hz、帯域幅500MHzである摂動構造の環状高温超
伝導二重モード5極帯域通過フィルターが完成される。
After the above steps, the center frequency is 10G
A circular high-temperature superconducting dual-mode 5-pole bandpass filter with a perturbation structure having a frequency of Hz and a bandwidth of 500 MHz is completed.

【0045】すなわち、図1の二重モード5極帯域通過
フィルターの入力端1aに金パッド2を介して、信号が
入力されると、 入力信号のうち中心周波数が10GH
z、帯域幅500MHzの信号が出力端1bから出力さ
れる。
That is, when a signal is input to the input end 1a of the dual mode 5-pole band pass filter of FIG. 1 via the gold pad 2, the center frequency of the input signal is 10 GHz.
A signal having z and a bandwidth of 500 MHz is output from the output end 1b.

【0046】前記完成された二重モード帯域通過フィル
ターの低温マイクロ波特性は、高周波特性に優れたK−
型コネクタ(2.9mmΦ,〜40GHz、Wiltr
on社(米国)製品)をハウジングに付着させた3−成
分試験ジグに内装して測定することができる。
The low temperature microwave characteristics of the completed dual mode band pass filter are excellent in high frequency characteristics K-
Type connector (2.9mmΦ, ~ 40GHz, Wiltr
on (US) product can be installed in a 3-component test jig attached to the housing for measurement.

【0047】本発明は、移動通信、衛星通信及び衛星放
送に使用される核心部品(マルチプレクサ、ミキサー
等)を構成する核心素子である帯域通過フィルター及び
その製造方法に関するものである。本発明による帯域通
過フィルターは、通過帯域(pass band)では
信号を殆ど損失なしに通過させ、通過帯域両側の阻止帯
域(stop band)では信号伝送を阻止すること
ができるフィルターである。
The present invention relates to a bandpass filter which is a core element constituting core parts (multiplexer, mixer, etc.) used in mobile communication, satellite communication and satellite broadcasting, and a method for manufacturing the same. The band pass filter according to the present invention is a filter that allows a signal to pass in the pass band with almost no loss and to block signal transmission in the stop band on both sides of the pass band.

【0048】本発明は、摂動構造の環状二重モード共振
器二つを集積させる方法を採ったものであるが、ここ
で、摂動構造の二重モード共振器について説明する。本
発明における摂動(perturbation)構造とは、完全なリ
ング形状や円盤形状のような正常状態に、切り欠き(図
1の摂動構造7)のような、わずかな非正常状態を刺激
として加えた構造の相対的な概念をいう。すなわち、図
1のように、二重モード共振器を二つ結合させ5極の帯
域通過フィルタを構成する場合、一般的なリング型共振
器の導体3a,3bに直角形状の溝型の切り欠きを加え
ることにより、特異で優秀な共振特性が得られたため、
本発明ではこれを摂動構造と呼ぶ。
The present invention adopts a method of integrating two annular double-mode resonators having a perturbation structure. Here, a double-mode resonator having a perturbation structure will be described. The perturbation structure in the present invention means a structure in which a normal state such as a perfect ring shape or a disk shape is added with a slight abnormal state such as a notch (perturbation structure 7 in FIG. 1) as a stimulus. Refers to the relative concept of. That is, as shown in FIG. 1, when two double-mode resonators are coupled to form a 5-pole bandpass filter, a groove-shaped notch with a rectangular shape is formed in the conductors 3a and 3b of a general ring resonator. By adding, a unique and excellent resonance characteristic was obtained,
In the present invention, this is called a perturbation structure.

【0049】一般的に、単一モードの円盤型やリング型
の共振器は、所望の特定の周波数の一つの共振ピークの
みを有する。しかし、この円盤形やリング型の共振器に
わずかな摂動構造7を加え、入出力端方向が直交するよ
う形状を変えることにより、図16のように単一モード
ではない、二重モード(dual mode)のピークが生じ
る。すなわち、特定周波数の上下に鋭利な共振ピークが
生じる。例えば、特定周波数f0が5GHzの場合、上
側の共振ピークは、5.1GHz、下側の共振ピークは
4.9GHzというように、鋭利な共振ピークが生じる
のである。図16では、1番目のピークに、S11とS21
の二つの共振ピークが生じている。
Generally, a single-mode disc type or ring type resonator has only one resonance peak at a desired specific frequency. However, by adding a slight perturbation structure 7 to this disk-shaped or ring-shaped resonator and changing the shape so that the input and output end directions are orthogonal, a dual mode (dual mode) that is not a single mode as in FIG. mode) peak occurs. That is, sharp resonance peaks occur above and below the specific frequency. For example, when the specific frequency f 0 is 5 GHz, a sharp resonance peak occurs such that the upper resonance peak is 5.1 GHz and the lower resonance peak is 4.9 GHz. In FIG. 16, S 11 and S 21 are added to the first peak.
There are two resonance peaks.

【0050】このような二重モード共振現象を有する共
振器を二つ結合させた開発したものが、本発明の摂動構
造の二重モード5極帯域通過フィルターである。
The two-mode five-pole bandpass filter of the perturbation structure of the present invention was developed by combining two resonators having such a dual-mode resonance phenomenon.

【0051】摂動構造7は、図1、図8、図9、図1
0、図11、図12、図15、図17のように、円盤型
やリング型の共振器を溝形に切り欠いた形状にすること
もできるし、図13、図15のように、円盤形やリング
型の共振器から突出させた形状にすることもできる。こ
の摂動構造7の位置により、二重モードが得られるか得
られないかが決まる。摂動構造7の位置は、入出力端の
方向からの角度が45度もしくは、135度にすること
が非常に重要であり、合わせて、2つの共振器について
対称な位置に配置して初めてフィルタ特性をよく発揮さ
せることができる。
The perturbation structure 7 is shown in FIG. 1, FIG. 8, FIG.
0, FIG. 11, FIG. 12, FIG. 15, and FIG. 17, the disk-type or ring-type resonator may be formed into a groove-shaped notch, or as illustrated in FIG. 13 and FIG. The shape may also be such that it projects from a ring-shaped or ring-shaped resonator. The position of this perturbation structure 7 determines whether a dual mode is obtained or not. It is very important that the position of the perturbation structure 7 is 45 ° or 135 ° from the direction of the input / output end. Can be demonstrated well.

【0052】特に、本発明のように、高温超伝導薄膜を
用いたマイクロストリップ形共振器やフィルタにするこ
とにより、マイクロ波素子の大きさを縮小することがで
き、合わせて、性能を向上させることができる。
In particular, as in the present invention, the size of the microwave element can be reduced by using the microstrip resonator or the filter using the high temperature superconducting thin film, and at the same time, the performance is improved. be able to.

【0053】よって、本発明の高温超伝導二重モード5
極帯域通過フィルターは、共振器の形状としては、環状
に限定されるものではなく、例えば、円盤型でもよい。
また、摂動構造7も切り欠きのほか突出型でもよいた
め、図8〜図15および図17に示すように、多様な形
態が考えられ、また、マイクロストリップ結合線4も図
1の形態のほか、図8や図10、図17にしめすように
多様な形態を取ることができる。
Therefore, the high temperature superconducting dual mode 5 of the present invention
The shape of the resonator of the pole band pass filter is not limited to a ring shape, and may be, for example, a disk shape.
Further, since the perturbation structure 7 may be not only a notch but also a protruding type, various forms are possible as shown in FIGS. 8 to 15 and 17, and the microstrip coupling line 4 is not limited to the form shown in FIG. As shown in FIG. 8, FIG. 10, and FIG. 17, it can take various forms.

【0054】一方、前記二重モード帯域通過フィルター
を設計する場合にも、マイクロ波回路解釈理論を適用
し、実際の場合、使用基板10(主に、MgO)の誘導
常数(ε=9.6)及び厚さ(0.5mmt)、基板上
に成長させる高温超伝導YBCOエピタキシアル薄膜1
1の厚さ(450nm)及びマイクロ波物性、帯域通過
フィルターの周波数/電力特性に鑑み、入出力端(伝送
線路)1a,1b及びマイクロストリップ結合線4の線
幅、長さ、そして摂動構造の環状導体とマイクロストリ
ップ結合線間のギャップ等を決めることとなる。
On the other hand, the microwave circuit interpretation theory is also applied when designing the dual mode bandpass filter, and in practice, the induction constant (ε = 9.6) of the substrate 10 (mainly MgO) used. ) And thickness (0.5 mmt), a high temperature superconducting YBCO epitaxial thin film 1 grown on a substrate 1.
In consideration of the thickness (450 nm) of 1 and the microwave physical properties, and the frequency / power characteristics of the bandpass filter, the line widths and lengths of the input / output terminals (transmission lines) 1a and 1b and the microstrip coupling line 4, and the perturbation structure The gap between the annular conductor and the microstrip coupling line will be determined.

【0055】そして、通過帯域の平坦度又は阻止帯域ま
でのスカート特性を所望程度まで得るため、摂動構造の
環状二重モード共振器の数、直径、摂動構造の大きさ等
を考慮しなければならない。
In order to obtain the flatness of the pass band or the skirt characteristic up to the stop band to a desired degree, the number, diameter, size of the perturbation structure, etc. of the annular double mode resonator of the perturbation structure must be taken into consideration. .

【0056】次いで、数回にわたってシミュレーション
(電算模擬)により、高温超伝導環状二重モード5極帯
域通過フィルターの最適回路パターンを得た。このよう
なパターンの理論的なマイクロ波伝送(周波数)応答特
性もさらに考慮する。
Then, the optimum circuit pattern of the high-temperature superconducting annular dual mode 5-pole bandpass filter was obtained by simulation (computer simulation) several times. The theoretical microwave transmission (frequency) response characteristic of such a pattern is further considered.

【0057】その結果、最適に設計された二重モード帯
域通過パターンを移しておいたマスク(glass m
ask、回路原板)を製作することができる。
As a result, the mask (glass m) to which the optimally designed dual-mode bandpass pattern has been transferred.
ask, a circuit board) can be manufactured.

【0058】そして、優秀なマイクロ用高温超伝導マイ
クロストリップ伝送素子を製作するためには、良質のエ
ピタキシアル薄膜が要求されるので、本発明では、薄膜
の製造が簡便であり、優秀性が立証されたパルスレーザ
ー蒸着装備、例えば、波長が308nmであるXeCl
エキシマーレーザーを用いて高温超伝導YBCO/Mg
Oエピタキシアル薄膜を蒸着している。
In order to manufacture an excellent high-temperature superconducting microstrip transmission device for micros, a high-quality epitaxial thin film is required. Therefore, in the present invention, the thin film can be manufactured easily and its excellence is proved. Pulsed laser deposition equipment, eg XeCl with wavelength of 308 nm
High temperature superconducting YBCO / Mg using excimer laser
An O epitaxial film is deposited.

【0059】そして、良質の高温超伝導YBCOエピタ
キシアル薄膜の製造が可能であるように、表面がよく錬
磨されたMgO基板(15mm×15mm×0.5mm
t)を使用する。
Then, a MgO substrate (15 mm × 15 mm × 0.5 mm) whose surface is well polished so that a high-quality high-temperature superconducting YBCO epitaxial thin film can be manufactured.
Use t).

【0060】本発明で製造される高温超伝導YBCO/
MgO薄膜の臨界温度(Tc)は89Kであり、エピタ
キシアル薄膜であることを色々の分析装備(XRD、T
EM、AFM等)を使用して確認した。
High temperature superconducting YBCO / produced by the present invention
The critical temperature (Tc) of the MgO thin film is 89K, and various analytical equipments (XRD, T
EM, AFM, etc.).

【0061】成長した良質のYBCO/MgO薄膜と最
適設計されたフィルターパターンを転写させたマスク
(回路原板)を用意した後、フォトリソグラフィー工程
と食刻工程(EDTA湿式食刻又はECRイオンミリン
グ)により、マイクロ波用摂動構造(環状又は円盤形)
の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルターを具現
した。
After preparing a grown good quality YBCO / MgO thin film and a mask (circuit original plate) on which an optimally designed filter pattern is transferred, a photolithography process and an etching process (EDTA wet etching or ECR ion milling) are performed. , Microwave perturbation structure (annular or disc-shaped)
The high-temperature superconducting dual-mode 5-pole bandpass filter of

【0062】本発明の製造方法により具現したマイクロ
波用高温超伝導摂動構造の二重モード5極帯域通過フィ
ルターは、良質の高温超伝導薄膜を用いたマイクロスト
リップ方式のマイクロ波素子であるので、製造が容易で
あり、高温超伝導体の無損失、無抵抗特性を用いるた
め、優秀な性能及び信頼度(再現性)を有する。
The dual-mode five-pole bandpass filter of the high-temperature superconducting perturbation structure for microwaves embodied by the manufacturing method of the present invention is a microstrip type microwave element using a high-quality high-temperature superconducting thin film. It is easy to manufacture and has excellent performance and reliability (reproducibility) because it uses the lossless and resistanceless characteristics of high temperature superconductors.

【0063】さらに、以前に開発した並行結合線方式の
高温超伝導多極(従来の4極及び6極)帯域通過フィル
ターと、本実施の形態の摂動構造の二重モード5極帯域
通過フィルターとを、同等の中心周波数、帯域幅、局
数、特性インピーダンスをもつ構成で比較した場合、本
実施の形態の回路パターンの大きさが小さくなり、回路
解釈の結果ともよく一致した。よって、本実施の形態の
摂動構造の二重モード5極帯域通過フィルターは、従来
のものと比較してサイズを減少させることができる。
Furthermore, the previously developed parallel-coupling wire type high-temperature superconducting multipole (conventional 4-pole and 6-pole) bandpass filter and the perturbation-structured dual-mode 5-pole bandpass filter of the present embodiment. When compared with a configuration having the same center frequency, bandwidth, number of stations, and characteristic impedance, the size of the circuit pattern of the present embodiment was small, and the results of circuit interpretation were in good agreement. Therefore, the size of the perturbation-structured dual-mode five-pole bandpass filter of this embodiment can be reduced as compared with the conventional one.

【0064】特に、帯域(通過帯域)両側の勾配(スカ
ート特性)が向上され、通過帯域の挿入損失は、類似し
た程度(1.0dB以下)で小さく、脈流(rippl
e)の振幅も非常に小さく平坦な特性を有する。
Particularly, the slope (skirt characteristic) on both sides of the band (pass band) is improved, the insertion loss in the pass band is small to a similar degree (1.0 dB or less), and the ripple current (rippl).
The amplitude of e) is also very small and has a flat characteristic.

【0065】また、本実施の形態の摂動構造の二重モー
ド5極帯域通過フィルターは、入出力端の線幅1a,1
bの線幅や、摂動構造の環状もしくは円盤状の二重モー
ド共振器3a,3bの線幅や径等のパラメータを変える
ことにより、入力端1aから入力された信号に対する出
力端1bから出力される信号の強度比を調節することが
可能である。すなわち、摂動構造の二重モード5極帯域
通過フィルターの特性インピーダンスを調節することが
できる。よって、特性インピーダンスが任意の値になる
ように上述のパラメータを設計することにより、本実施
の形態の二重モード5極帯域通過フィルターを用いて、
出力端から出力するエネルギー強度を制御することも可
能である。
The dual-mode five-pole bandpass filter of the perturbation structure of this embodiment has the line widths 1a and 1a at the input and output ends.
By changing parameters such as the line width of b and the line width and diameter of the perturbed annular or discoidal dual mode resonators 3a and 3b, the output from the output end 1b for the signal input from the input end 1a is output. It is possible to adjust the intensity ratio of the signals to be read. That is, the characteristic impedance of the perturbation-structured dual-mode five-pole bandpass filter can be adjusted. Therefore, by designing the above parameters so that the characteristic impedance has an arbitrary value, the dual-mode five-pole bandpass filter of the present embodiment is used to
It is also possible to control the energy intensity output from the output end.

【0066】以上説明したように、本発明を用いると、
電波の高度利用技術に関連したマイクロ波通信システム
のサブシステム(部品)の小型化を期待することがで
き、情報通信システム又はマイクロ波部品の性能を向上
させる効果を得ることができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to expect miniaturization of the subsystem (component) of the microwave communication system related to the advanced use technology of radio waves, and it is possible to obtain the effect of improving the performance of the information communication system or the microwave component.

【0067】そして、高温超伝導エピ薄膜を使用するた
め、軽薄短小化と高性能を備えた通信部品を製作し得る
ので、次世代移動通信及び衛星通信(衛星放送、〜12
GHz以下)に使用可能な新機能、新構造のマイクロ波
素子及び回路(HTS−MMICs)の創出にも大きい
効果を得ることができ、急増する高品位電波サービスの
需要に能動的に対処し得る優秀なマイクロ波通信システ
ムの開発も期待することができる。
Since the high-temperature superconducting epi-thin film is used, it is possible to manufacture a communication component having a small size, lightness, shortness, and high performance. Therefore, next-generation mobile communication and satellite communication (satellite broadcasting, ~ 12
It is possible to obtain a great effect in the creation of microwave elements and circuits (HTS-MMICs) having a new structure and a new structure that can be used for (GHz and below), and can actively respond to the rapidly increasing demand for high-quality radio service. Development of an excellent microwave communication system can also be expected.

【0068】[0068]

【発明の効果】上述してきたように、本発明によれば、
マイクロ波特性に優れた高温超伝導エピタキシアル薄膜
を用いて、製造方法が単純であり、小型化及び高性能化
が図れる摂動構造の高温超伝導二重モード5極帯域通過
フィルター及びその製造方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
A high-temperature superconducting dual-mode 5-pole bandpass filter with a perturbation structure, which is simple in manufacturing method and can be miniaturized and has high performance, using a high-temperature superconducting epitaxial thin film having excellent microwave characteristics, and a method for manufacturing the same. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による摂動構造の環状高温超伝導二重モ
ード5極帯域通過フィルターの平面図。
FIG. 1 is a plan view of an annular high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure according to the present invention.

【図2】本発明の帯域フィルターの製造工程のうち、基
板の先処理後、パルス−レーザー蒸着法による高温超伝
導YBa2Cu37-dの薄膜蒸着及びパッド用金(A
u)薄膜を形成する段階を示す工程断面図。
FIG. 2 is a view showing a process of manufacturing a bandpass filter according to the present invention, in which a high temperature superconducting YBa 2 Cu 3 O 7 -d thin film is deposited by pulse-laser deposition and gold for pad (A) after pretreatment of a substrate.
u) Process sectional views showing a step of forming a thin film.

【図3】本発明の帯域フィルターの製造工程のうち、フ
ォトリソグラフィー工程を遂行するためのフォトレジス
ト膜を塗布する工程を示す工程断面図。
FIG. 3 is a process cross-sectional view showing a process of applying a photoresist film for performing a photolithography process in the process of manufacturing the bandpass filter of the present invention.

【図4】本発明の帯域フィルターの製造工程のうち、露
光後、感光されたフォトレジスト膜の除去工程を示す工
程断面図。
FIG. 4 is a process cross-sectional view showing a step of removing the exposed photoresist film after exposure in the step of manufacturing the bandpass filter of the present invention.

【図5】本発明の帯域フィルターの製造工程のうち、食
刻工程(EDTA−湿式食刻)による高温超伝導薄膜の
形状化(patterning)工程を示す工程断面
図。
FIG. 5 is a process cross-sectional view showing a patterning process of a high temperature superconducting thin film by an etching process (EDTA-wet etching) in the process of manufacturing the bandpass filter of the present invention.

【図6】本発明の帯域フィルターの製造工程のうち、ア
セトンによる、感光されなかったフォトレジスト膜の除
去、金パッド形成及び不純物洗浄工程を示す工程断面
図。
FIG. 6 is a process cross-sectional view showing a process of removing a photoresist film which has not been exposed to light, formation of a gold pad, and cleaning of impurities by acetone in the process of manufacturing the bandpass filter of the present invention.

【図7】本発明の帯域フィルターの製造工程のうち、基
板背面の接地平面の蒸着工程を示す工程断面図。
FIG. 7 is a process cross-sectional view showing a vapor deposition process of a ground plane on the back surface of the substrate in the manufacturing process of the bandpass filter of the present invention.

【図8】本発明による帯域通過フィルターの他の例を示
す平面図。
FIG. 8 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図9】本発明による帯域通過フィルターの他の例を示
す平面図。
FIG. 9 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図10】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 10 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図11】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 11 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図12】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 12 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図13】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 13 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図14】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 14 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図15】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 15 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【図16】円盤形の共振器に摂動構造7を加えることに
より、共振ピークが二重モードになることを示すグラ
フ。
FIG. 16 is a graph showing that the resonance peak becomes a dual mode by adding the perturbation structure 7 to the disk-shaped resonator.

【図17】本発明による帯域通過フィルターの他の例を
示す平面図。
FIG. 17 is a plan view showing another example of the bandpass filter according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a 入力端 1b 出力端 2 金パッド 3a,3b 導体 4 結合線 5 MgO基板 6 Ti層/Ag層二重薄膜 7 摂動構造 10 MgO基板 11 YBCO薄膜 12 金薄膜 13 フォトレジスト膜 14 Ti層/Ag層二重薄膜 1a Input end 1b Output end 2 Gold pad 3a, 3b Conductor 4 Coupling wire 5 MgO substrate 6 Ti layer / Ag layer Double thin film 7 Perturbation structure 10 MgO substrate 11 YBCO thin film 12 Gold thin film 13 Photoresist film 14 Ti layer / Ag layer Double thin film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01P 11/00 ZAA H01P 11/00 ZAAG (72)発明者 ジェハ キム 大韓民国、デェジョン、ユソンク、ジュン ミンドン 464−1、エキスポ アパート メント 101−603─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location H01P 11/00 ZAA H01P 11/00 ZAAG (72) Inventor Jeha Kim South Korea, Daejeong, Yusungk, Jun Min Dong 464-1, Expo Apartment 101-603

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 マイクロ波特性を有するMgO単結晶基
板と;前記単結晶基板上部の一角に形成され、パッド用
金属薄膜が形成された信号伝送用入出力端と;前記単結
晶基板上部の前記入出力端とマイクロストリップ結合線
間に、信号の伝送エネルギーを制御するかフィルターリ
ングするための、摂動構造の環状共振器二つを集積させ
た高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルターの回路
パターンと;前記単結晶基板の下部に形成した接地平面
用金属薄膜とを含んで構成されることを特徴とするマイ
クロ波用摂動構造の高温超伝導二重モード5極帯域通過
フィルター。
1. An MgO single crystal substrate having microwave characteristics; a signal transmission input / output end formed on a corner of the single crystal substrate and having a pad metal thin film formed thereon; A high-temperature superconducting dual-mode 5-pole bandpass filter having two ring resonators of a perturbation structure integrated for controlling or filtering signal transmission energy between the input / output terminal and the microstrip coupling line. A high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure for microwaves, characterized in that it comprises a circuit pattern and a ground plane metal thin film formed below the single crystal substrate.
【請求項2】 前記所定の回路パターンによる前記二重
モード帯域通過フィルターの中心周波数が3〜33GH
zであることを特徴とする請求項1記載のマイクロ波用
摂動構造の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルタ
ー。
2. The center frequency of the dual-mode bandpass filter according to the predetermined circuit pattern is 3 to 33 GH.
The high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with a perturbation structure for microwaves according to claim 1, wherein z is z.
【請求項3】 前記単結晶基板は、15mm×15mm
×0.5mmtのサイズを有するMgO単結晶基板であ
ることを特徴とする請求項1記載のマイクロ波用摂動構
造の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルター。
3. The single crystal substrate is 15 mm × 15 mm
The high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter according to claim 1, wherein the substrate is a MgO single crystal substrate having a size of × 0.5 mmt.
【請求項4】 前記高温超伝導回路パターンは、YBa
2Cu37-dで構成されたことを特徴とする請求項1記
載のマイクロ波用摂動構造の高温超伝導二重モード5極
帯域通過フィルター。
4. The high-temperature superconducting circuit pattern is made of YBa.
The high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter according to claim 1, wherein the high-temperature superconducting dual-mode bandpass filter is constituted by 2 Cu 3 O 7-d .
【請求項5】 前記接地平面形金属薄膜は、前記基板と
の接着性を有し、かつ、電気伝導性を有するTi層/A
g層で構成される二重金属薄膜を使用することを特徴と
する請求項1記載のマイクロ波用摂動構造の高温超伝導
二重モード5極帯域通過フィルター。
5. The ground plane type metal thin film has a Ti layer / A having adhesiveness with the substrate and electrical conductivity.
The high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with a perturbation structure for microwaves according to claim 1, wherein a double metal thin film composed of g layers is used.
【請求項6】 MgO単結晶基板上部にパルス−レーザ
ー蒸着法により高温超伝導薄膜を成長し、パッド用金属
薄膜を形成した後、前記金属薄膜をフォトリソグラフィ
ー方法によりパターニングする第1段階と;前記第1段
階の遂行後、フォトリソグラフィー工程として、高速回
転塗布器でフォトレジストを前記高温超伝導薄膜上に塗
布し、ソフトベーキングを遂行する第2段階と;前記第
2段階の遂行後、接触整列器で位置決めすると共に、紫
外線源を用いて露光工程を行い、感光されたフォトレジ
スト膜を除去する第3段階と;前記第3段階の遂行後、
湿式食刻又は乾式食刻により前記高温超伝導薄膜を目的
の形状に形成し、フォトレジスト膜を除去する第4段階
と;前記第4段階の遂行後、コネクタピンと接触するた
めの金属パッドを形成した後、前記高温超伝導二重モー
ド5極帯域通過フィルターパターンの表面と汚染された
基板表面を洗浄する第5段階と;前記第5段階の遂行に
より高温超伝導二重モード帯域通過フィルターを形成し
た後、金属薄膜を形成して基板背面の接地平面を製造す
る第6段階とを含んで遂行することを特徴とするマイク
ロ波用摂動構造の高温超伝導二重モード5極帯域通過フ
ィルターの製造方法。
6. A first step of growing a high temperature superconducting thin film on a MgO single crystal substrate by a pulse laser deposition method to form a metal thin film for a pad, and then patterning the metal thin film by a photolithography method; After performing the first step, as a photolithography process, a photoresist is coated on the high-temperature superconducting thin film by a high speed spin coater, and a soft baking is performed; and a contact alignment is performed after performing the second step. And exposing the photoresist film by using an ultraviolet source to position the wafer, and removing the exposed photoresist film; and, after performing the third step,
A fourth step of forming the high temperature superconducting thin film into a desired shape by wet etching or dry etching and removing a photoresist film; and, after performing the fourth step, forming a metal pad for contacting the connector pin. And a fifth step of cleaning the surface of the high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter pattern and the contaminated substrate surface; and performing the fifth step to form a high-temperature superconducting dual-mode bandpass filter. And then performing a sixth step of forming a metal thin film to form a ground plane on the back surface of the substrate, and manufacturing the high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter of the perturbation structure for microwaves. Method.
【請求項7】 前記所定の回路パターンによる前記二重
モード帯域通過フィルターの中心周波数が3〜33GH
zであることを特徴とする請求項6記載のマイクロ波用
摂動構造の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルタ
ーの製造方法。
7. The center frequency of the dual-mode bandpass filter according to the predetermined circuit pattern is 3 to 33 GH.
7. The method for manufacturing a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter having a perturbation structure for microwaves according to claim 6, wherein z is z.
【請求項8】 前記単結晶基板は、15mm×15mm
×0.5mmtのサイズを有するMgO単結晶基板であ
ることを特徴とする請求項6記載のマイクロ波用摂動構
造の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィルターの製
造方法。
8. The single crystal substrate is 15 mm × 15 mm
The method for manufacturing a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter according to claim 6, wherein the substrate is a MgO single crystal substrate having a size of × 0.5 mmt.
【請求項9】 前記高温超伝導体は、YBa2Cu3
7-dであることを特徴とする請求項6記載のマイクロ波
用摂動構造の高温超伝導二重モード5極帯域通過フィル
ターの製造方法。
9. The high temperature superconductor is YBa 2 Cu 3 O.
7. The method for manufacturing a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with a perturbation structure for microwaves according to claim 6, which is 7-d .
【請求項10】 前記接地平面形金属薄膜は、前記基板
との接着性を有し、かつ、電気伝導性を有するTi層/
Ag層で構成される二重金属薄膜を使用することを特徴
とする請求項6記載のマイクロ波用摂動構造の高温超伝
導二重モード5極帯域通過フィルターの製造方法。
10. The ground plane type metal thin film has a Ti layer / adhesiveness with the substrate and an electrical conductivity.
The method of manufacturing a high-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with a perturbation structure for microwaves according to claim 6, wherein a double metal thin film composed of an Ag layer is used.
JP8259758A 1995-12-22 1996-09-30 High-temperature superconducting dual-mode five-pole bandpass filter with perturbation structure and manufacturing method thereof Pending JPH09186502A (en)

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