JPH09187613A - ガスを除塵するための装置ならびに該装置のフィルタを浄化するための方法 - Google Patents
ガスを除塵するための装置ならびに該装置のフィルタを浄化するための方法Info
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- JPH09187613A JPH09187613A JP9000351A JP35197A JPH09187613A JP H09187613 A JPH09187613 A JP H09187613A JP 9000351 A JP9000351 A JP 9000351A JP 35197 A JP35197 A JP 35197A JP H09187613 A JPH09187613 A JP H09187613A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フィルタの安定性、高い寿命ならびに高い温
度および低い温度に対する耐性を提供し、容器内部で良
好に浄化可能にする。 【解決手段】 粗ガス室２９を仕切る容器と、粗ガス室
に突入したフィルタ１９と、粗ガス室からフィルタを通
じてガスを案内するためのガス案内手段８１とが設けら
れており、各フィルタ１９が、ガス透過孔を有する金属
性の支持エレメント１２２と、該支持エレメントを取り
囲む濾過エレメント１２５とを備えた周壁１２１を有し
ており、濾過エレメントが、支持エレメントによって支
持されていて、粗ガス室２９に隣接した外面と、ガス透
過孔とを有しており、該ガス透過孔が、支持エレメント
１２２のガス透過孔よりも小さな内径を有しており、濾
過エレメント１２５が金属性であり、該濾過エレメント
の内面のほぼ全体が、支持エレメント１２２に接触し
て、該支持エレメントによって形状安定的に支持されて
いる。
度および低い温度に対する耐性を提供し、容器内部で良
好に浄化可能にする。 【解決手段】 粗ガス室２９を仕切る容器と、粗ガス室
に突入したフィルタ１９と、粗ガス室からフィルタを通
じてガスを案内するためのガス案内手段８１とが設けら
れており、各フィルタ１９が、ガス透過孔を有する金属
性の支持エレメント１２２と、該支持エレメントを取り
囲む濾過エレメント１２５とを備えた周壁１２１を有し
ており、濾過エレメントが、支持エレメントによって支
持されていて、粗ガス室２９に隣接した外面と、ガス透
過孔とを有しており、該ガス透過孔が、支持エレメント
１２２のガス透過孔よりも小さな内径を有しており、濾
過エレメント１２５が金属性であり、該濾過エレメント
の内面のほぼ全体が、支持エレメント１２２に接触し
て、該支持エレメントによって形状安定的に支持されて
いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス、特に粒子状
の原料を通って案内されたガスを除塵するための装置で
あって、粗ガス室を仕切る容器と、粗ガス室に突入した
少なくとも１つのフィルタと、粗ガス室からフィルタを
通じてガスを案内するためのガス案内手段とが設けられ
ており、各フィルタが、ガス透過孔を有する金属性の支
持エレメントと、該支持エレメントを取り囲む濾過エレ
メントとを備えた周壁を有しており、該濾過エレメント
が、前記支持エレメントによって支持されていて、内面
と、粗ガス室に隣接した外面と、ガス透過孔とを有して
おり、該ガス透過孔が、前記支持エレメントのガス透過
孔よりも小さな内径を有している形式のものに関する。
の原料を通って案内されたガスを除塵するための装置で
あって、粗ガス室を仕切る容器と、粗ガス室に突入した
少なくとも１つのフィルタと、粗ガス室からフィルタを
通じてガスを案内するためのガス案内手段とが設けられ
ており、各フィルタが、ガス透過孔を有する金属性の支
持エレメントと、該支持エレメントを取り囲む濾過エレ
メントとを備えた周壁を有しており、該濾過エレメント
が、前記支持エレメントによって支持されていて、内面
と、粗ガス室に隣接した外面と、ガス透過孔とを有して
おり、該ガス透過孔が、前記支持エレメントのガス透過
孔よりも小さな内径を有している形式のものに関する。
【０００２】さらに本発明は、このような形式の装置に
設けられた少なくとも１つのフィルタを浄化するための
方法に関する。
設けられた少なくとも１つのフィルタを浄化するための
方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】まず、以下において使用する用語「粗ガ
ス室」および「純ガス室」について説明する。「粗ガス
室」とは、濾過してかつ除塵したいガスを有する、少な
くとも１つのフィルタに隣接した室を意味する。この粗
ガス室からガスがフィルタに流入する。「純ガス室」と
は、ガスがフィルタを貫流した後に流入する、前記少な
くとも１つのフィルタに隣接した室を意味する。
ス室」および「純ガス室」について説明する。「粗ガス
室」とは、濾過してかつ除塵したいガスを有する、少な
くとも１つのフィルタに隣接した室を意味する。この粗
ガス室からガスがフィルタに流入する。「純ガス室」と
は、ガスがフィルタを貫流した後に流入する、前記少な
くとも１つのフィルタに隣接した室を意味する。
【０００４】このような装置は、粗ガス室を取り囲む少
なくとも１つの容器と、粗ガス室に突入した少なくとも
１つのフィルタとを有している。このような装置は、た
とえば原料容器を有していて、ガスを粗ガス室と、この
粗ガス室内に存在する粒子状の原料とに通して案内し
て、この原料を運動させて処理するために形成されてい
る。この場合、原料に、たとえばガスによって流動層を
付与し、かつ／または原料を、粗ガス室を下側で仕切
る、板を有するロータによって運動させることができ
る。このような装置はたとえば、少なくとも１種の製薬
学的な作用物質、つまり生物学的な作用を生ぜしめる作
用物質を有する医薬品を形成するために規定されている
粒子状の原料を運動させかつ処理するために働くことが
できる。この作用物質は、たとえば固形の状態、乾燥し
た状態または湿った状態で原料容器に導入された粒子状
の原料に含有されている。しかし、原料容器内で粒子状
の原料に、場合によっては溶解された作用物質または分
散された作用物質を含有する液体を噴霧することも可能
である。この装置は原料容器に対して付加的に、または
原料容器の代わりに後除塵器および／またはその他の濾
過装置を有していてよい。この後除塵器および／または
その他の濾過装置の容器は、使用時に粒子状の原料自体
は有しないが、しかしこの容器には、粒子状の原料を有
する別の原料容器から、除塵したいガスが供給される。
さらに、この装置は噴霧乾燥器として形成されていても
よい。
なくとも１つの容器と、粗ガス室に突入した少なくとも
１つのフィルタとを有している。このような装置は、た
とえば原料容器を有していて、ガスを粗ガス室と、この
粗ガス室内に存在する粒子状の原料とに通して案内し
て、この原料を運動させて処理するために形成されてい
る。この場合、原料に、たとえばガスによって流動層を
付与し、かつ／または原料を、粗ガス室を下側で仕切
る、板を有するロータによって運動させることができ
る。このような装置はたとえば、少なくとも１種の製薬
学的な作用物質、つまり生物学的な作用を生ぜしめる作
用物質を有する医薬品を形成するために規定されている
粒子状の原料を運動させかつ処理するために働くことが
できる。この作用物質は、たとえば固形の状態、乾燥し
た状態または湿った状態で原料容器に導入された粒子状
の原料に含有されている。しかし、原料容器内で粒子状
の原料に、場合によっては溶解された作用物質または分
散された作用物質を含有する液体を噴霧することも可能
である。この装置は原料容器に対して付加的に、または
原料容器の代わりに後除塵器および／またはその他の濾
過装置を有していてよい。この後除塵器および／または
その他の濾過装置の容器は、使用時に粒子状の原料自体
は有しないが、しかしこの容器には、粒子状の原料を有
する別の原料容器から、除塵したいガスが供給される。
さらに、この装置は噴霧乾燥器として形成されていても
よい。
【０００５】米国特許第４６４５５２０号明細書に基づ
き公知の流動層装置の容器は、上側で、内側の壁部分に
よって仕切られた流動層・粗ガス室を有している。この
内側の壁部分には、粗ガス室に突入したフィルタが固定
されている。各フィルタは、ガス透過孔を有する円筒状
の支持エレメントと、この支持エレメントの外側に配置
されかつこの支持エレメントによって支持された濾過エ
レメントと、この濾過エレメントを前記支持エレメント
に固定するために働くバンドとを備えた周壁を有してい
る。濾過エレメントは、紙または繊維織布から成る、折
り目（ひだ）を有するフレキシブルなチューブによって
形成されている。各フィルタはフィルタ内室を仕切って
おり、このフィルタ内室は、内側の壁部分を貫通する通
過部によって、内側の壁部分の上方に位置する純ガス室
に接続されている。各フィルタのためには、浄化ガス入
口が設けられており、この浄化ガス入口は純ガス室の側
から前記通過部を通ってフィルタ内室に突入して、フィ
ルタのほぼ下端部にまで延びている。この浄化ガス入口
は前記通過部を選択的に閉鎖するための、膨張可能なベ
ローズを有している。
き公知の流動層装置の容器は、上側で、内側の壁部分に
よって仕切られた流動層・粗ガス室を有している。この
内側の壁部分には、粗ガス室に突入したフィルタが固定
されている。各フィルタは、ガス透過孔を有する円筒状
の支持エレメントと、この支持エレメントの外側に配置
されかつこの支持エレメントによって支持された濾過エ
レメントと、この濾過エレメントを前記支持エレメント
に固定するために働くバンドとを備えた周壁を有してい
る。濾過エレメントは、紙または繊維織布から成る、折
り目（ひだ）を有するフレキシブルなチューブによって
形成されている。各フィルタはフィルタ内室を仕切って
おり、このフィルタ内室は、内側の壁部分を貫通する通
過部によって、内側の壁部分の上方に位置する純ガス室
に接続されている。各フィルタのためには、浄化ガス入
口が設けられており、この浄化ガス入口は純ガス室の側
から前記通過部を通ってフィルタ内室に突入して、フィ
ルタのほぼ下端部にまで延びている。この浄化ガス入口
は前記通過部を選択的に閉鎖するための、膨張可能なベ
ローズを有している。
【０００６】前記公知の装置には、次のような欠点が認
められる。すなわち、紙または繊維織布から成る濾過エ
レメントが、小さな強度と短い寿命しか有しておらず、
高い温度に対しても耐性を有していない。また特に、フ
ィルタに浄化ガスを吹き付ける際に濾過エレメントが損
傷を受ける、という大きな危険も生じる。したがって、
浄化ガスは濾過エレメントに、比較的低い圧力しか加え
ることができない。しかし、低い浄化ガス圧では、濾過
エレメントの不十分な浄化しか可能にならない。さら
に、濾過エレメントの折り目（ひだ）が、濾過エレメン
トの浄化可能性を損なってしまう。この公知の装置はさ
らに、容器の内部でフィルタを洗浄するための装置をも
有していない。また、この公知の装置のフィルタを容器
の内部で、圧力下にある浄化液の噴霧によってきれいに
洗浄することは、実質的にほとんど不可能である。なぜ
ならば、これによって濾過エレメントの寿命が一層短縮
されてしまうからである。したがって、フィルタは洗浄
のためにその都度、容器から取り出されなければなら
ず、このことは時間的に極めて大きな手間を要し、しか
も周辺環境やオペレータ自身を汚染する恐れがある。
められる。すなわち、紙または繊維織布から成る濾過エ
レメントが、小さな強度と短い寿命しか有しておらず、
高い温度に対しても耐性を有していない。また特に、フ
ィルタに浄化ガスを吹き付ける際に濾過エレメントが損
傷を受ける、という大きな危険も生じる。したがって、
浄化ガスは濾過エレメントに、比較的低い圧力しか加え
ることができない。しかし、低い浄化ガス圧では、濾過
エレメントの不十分な浄化しか可能にならない。さら
に、濾過エレメントの折り目（ひだ）が、濾過エレメン
トの浄化可能性を損なってしまう。この公知の装置はさ
らに、容器の内部でフィルタを洗浄するための装置をも
有していない。また、この公知の装置のフィルタを容器
の内部で、圧力下にある浄化液の噴霧によってきれいに
洗浄することは、実質的にほとんど不可能である。なぜ
ならば、これによって濾過エレメントの寿命が一層短縮
されてしまうからである。したがって、フィルタは洗浄
のためにその都度、容器から取り出されなければなら
ず、このことは時間的に極めて大きな手間を要し、しか
も周辺環境やオペレータ自身を汚染する恐れがある。
【０００７】米国特許第４６４５５２０号明細書に基づ
き公知の装置で使用されるベローズによって通過部を完
全に閉鎖しようとする場合、このベローズを極めて強力
に膨張させて、変形させなければならない。したがっ
て、このベローズは通過部を実際には恐らく不十分にし
か閉鎖していないので、フィルタの浄化時には、フィル
タ内室に流入した浄化ガスのかなりの部分が、前記通過
部を通って純ガス室に流入してしまい、フィルタの浄化
のためには全く役立たない。ベローズは膨張時および引
き続き行われる収縮時に著しく負荷され、かつ著しい摩
耗にさらされるので、このベローズは恐らく既に比較的
短い作動時間の後に交換されなければならない。さら
に、恐らく天然ゴムおよび／または合成ゴムから成るベ
ローズは高い温度に対してほとんど耐性を有しておら
ず、また低い温度では壊れやすくなる。さらに、米国特
許第４６４５５２０号明細書に記載の構成による濾過エ
レメントおよびベローズは、場合によっては粗ガス室内
で行われるダスト爆発および／または溶剤爆発に抵抗す
るための十分な耐圧性、耐熱性および耐火性を有してい
ないので、この濾過エレメントおよびベローズはこのよ
うな爆発によって破壊され、フィルタを通じて爆発の伝
播を可能にしてしまう。
き公知の装置で使用されるベローズによって通過部を完
全に閉鎖しようとする場合、このベローズを極めて強力
に膨張させて、変形させなければならない。したがっ
て、このベローズは通過部を実際には恐らく不十分にし
か閉鎖していないので、フィルタの浄化時には、フィル
タ内室に流入した浄化ガスのかなりの部分が、前記通過
部を通って純ガス室に流入してしまい、フィルタの浄化
のためには全く役立たない。ベローズは膨張時および引
き続き行われる収縮時に著しく負荷され、かつ著しい摩
耗にさらされるので、このベローズは恐らく既に比較的
短い作動時間の後に交換されなければならない。さら
に、恐らく天然ゴムおよび／または合成ゴムから成るベ
ローズは高い温度に対してほとんど耐性を有しておら
ず、また低い温度では壊れやすくなる。さらに、米国特
許第４６４５５２０号明細書に記載の構成による濾過エ
レメントおよびベローズは、場合によっては粗ガス室内
で行われるダスト爆発および／または溶剤爆発に抵抗す
るための十分な耐圧性、耐熱性および耐火性を有してい
ないので、この濾過エレメントおよびベローズはこのよ
うな爆発によって破壊され、フィルタを通じて爆発の伝
播を可能にしてしまう。
【０００８】別の公知の流動層装置およびガスを除塵す
るためのその他の装置は、やはり紙または繊維材料から
成るフレキシブルなチューブから成っていて、かつたい
てい軸方向の円形または螺旋状の折り目（ひだ）を有し
ている濾過エレメントを備えたフィルタを有している。
このようなフィルタも、米国特許第４６４５５２０号明
細書に基づき公知の前記フィルタとほとんど同様の欠点
を有している。
るためのその他の装置は、やはり紙または繊維材料から
成るフレキシブルなチューブから成っていて、かつたい
てい軸方向の円形または螺旋状の折り目（ひだ）を有し
ている濾過エレメントを備えたフィルタを有している。
このようなフィルタも、米国特許第４６４５５２０号明
細書に基づき公知の前記フィルタとほとんど同様の欠点
を有している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
で述べた形式の装置を改良して、公知の装置の欠点が回
避され、しかも特に各フィルタが安定性、高い寿命なら
びに高い温度および低い温度に対する耐性を有してい
て、容器内部で良好に浄化可能となるような装置を提供
することである。
で述べた形式の装置を改良して、公知の装置の欠点が回
避され、しかも特に各フィルタが安定性、高い寿命なら
びに高い温度および低い温度に対する耐性を有してい
て、容器内部で良好に浄化可能となるような装置を提供
することである。
【００１０】さらに本発明の課題は、このような装置の
フィルタを浄化するための方法を提供することである。
フィルタを浄化するための方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、前記濾過エレメントが金属性であ
り、該濾過エレメントの内面のほぼ全体が、前記支持エ
レメントに接触して、該支持エレメントによって形状安
定的に支持されているようにした。
に本発明の構成では、前記濾過エレメントが金属性であ
り、該濾過エレメントの内面のほぼ全体が、前記支持エ
レメントに接触して、該支持エレメントによって形状安
定的に支持されているようにした。
【００１２】さらにこの課題を解決するために本発明の
方法では、フィルタ内に設けられたフィルタ内室に浄化
ガスを導入し、かつ／またはフィルタの濾過エレメント
の外面に浄化液を噴霧するようにした。
方法では、フィルタ内に設けられたフィルタ内室に浄化
ガスを導入し、かつ／またはフィルタの濾過エレメント
の外面に浄化液を噴霧するようにした。
【００１３】
【発明の効果】本発明によれば、フィルタが安定性、耐
久性ならびに高い温度および低い温度に対する耐性を有
しているので、このフィルタは容器の内部で浄化ガスお
よび浄化液によって良好に浄化することができる。
久性ならびに高い温度および低い温度に対する耐性を有
しているので、このフィルタは容器の内部で浄化ガスお
よび浄化液によって良好に浄化することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を図
面につき詳しく説明する。
面につき詳しく説明する。
【００１５】図１に示した流動層装置１は、原料・流動
層容器３を有しており、この原料・流動層容器３は一般
に、鉛直な容器軸線４に対して回転対称的に形成されて
いる。この原料・流動層容器３は壁５を有している。こ
の壁５はフレーム（図示しない）に保持されている。壁
５は、互いに密にかつ解離可能に結合された複数の壁部
分を有しており、つまりたとえば下方から上方に向かっ
て見て底壁部分６と、下側の円錐状の壁部分７と、上側
の円錐状の壁部分８と、円筒状の壁部分９と、カバー壁
部分１０とを有している。底壁部分６の上端部には、原
料・流動層容器３内で篩底部１３が配置されており、こ
の篩底部１３は支承・旋回手段１４によって支承されて
いて、水平な旋回軸線を中心として旋回可能で、かつ種
々の旋回位置に位置固定可能となる。原料・流動層容器
３はさらに、円筒状の壁部分９の上側の半部に配置され
た内側の容器部分もしくは内側の壁部分１７を有してお
り、この内側の壁部分１７は円筒状の壁部分９に固くか
つ密に結合されていて、隔壁として働く。
層容器３を有しており、この原料・流動層容器３は一般
に、鉛直な容器軸線４に対して回転対称的に形成されて
いる。この原料・流動層容器３は壁５を有している。こ
の壁５はフレーム（図示しない）に保持されている。壁
５は、互いに密にかつ解離可能に結合された複数の壁部
分を有しており、つまりたとえば下方から上方に向かっ
て見て底壁部分６と、下側の円錐状の壁部分７と、上側
の円錐状の壁部分８と、円筒状の壁部分９と、カバー壁
部分１０とを有している。底壁部分６の上端部には、原
料・流動層容器３内で篩底部１３が配置されており、こ
の篩底部１３は支承・旋回手段１４によって支承されて
いて、水平な旋回軸線を中心として旋回可能で、かつ種
々の旋回位置に位置固定可能となる。原料・流動層容器
３はさらに、円筒状の壁部分９の上側の半部に配置され
た内側の容器部分もしくは内側の壁部分１７を有してお
り、この内側の壁部分１７は円筒状の壁部分９に固くか
つ密に結合されていて、隔壁として働く。
【００１６】内側の壁部分１７は少なくとも１つのフィ
ルタ１９を有しており、この実施例では複数のフィルタ
１９を有している。この場合、たとえば図２に示したよ
うに４つのフィルタ１９が設けられており、これらのフ
ィルタ１９は原料・流動層容器３内で容器軸線４を取り
囲むように分配されていて、かつ互いに間隔を置いて配
置されている。各フィルタ１９は内側の壁部分１７に着
脱可能に固定されていて、この内側の壁部分１７から離
れる方向で下方に向かって突出している。内側の壁部分
１７には、各フィルタ１９のためにガス浄化装置２０
（図１に概略的に示す）が固定されている。このガス浄
化装置２０は閉鎖装置２１と浄化ガス入口２２とを備え
ている。内側の壁部分１７はさらに、フィルタ１９を湿
式浄化するための湿式浄化手段をも保持している。この
湿式浄化手段は少なくとも１つの湿式浄化装置もしくは
洗浄装置、つまりこの実施例では４つの第１の湿式浄化
装置２３と、１つの大型の第２の湿式浄化装置２５とを
有している。
ルタ１９を有しており、この実施例では複数のフィルタ
１９を有している。この場合、たとえば図２に示したよ
うに４つのフィルタ１９が設けられており、これらのフ
ィルタ１９は原料・流動層容器３内で容器軸線４を取り
囲むように分配されていて、かつ互いに間隔を置いて配
置されている。各フィルタ１９は内側の壁部分１７に着
脱可能に固定されていて、この内側の壁部分１７から離
れる方向で下方に向かって突出している。内側の壁部分
１７には、各フィルタ１９のためにガス浄化装置２０
（図１に概略的に示す）が固定されている。このガス浄
化装置２０は閉鎖装置２１と浄化ガス入口２２とを備え
ている。内側の壁部分１７はさらに、フィルタ１９を湿
式浄化するための湿式浄化手段をも保持している。この
湿式浄化手段は少なくとも１つの湿式浄化装置もしくは
洗浄装置、つまりこの実施例では４つの第１の湿式浄化
装置２３と、１つの大型の第２の湿式浄化装置２５とを
有している。
【００１７】前記壁部分６，７，８，９，１０は一緒に
なって壁５の外壁を形成していて、内室２７を周囲に対
して密にシールしている。篩底部１３と、隔壁として働
く内側の壁部分１７と、この内側の壁部分１７に固定さ
れたフィルタ１９と、閉鎖装置２１と、湿式浄化装置２
３，２５とは、内室２７を３つの部分に分割しており、
つまり下方から上方に向かって見てガス分配室２８と、
流動層・粗ガス室２９と、純ガス室３０とに分割してい
る。
なって壁５の外壁を形成していて、内室２７を周囲に対
して密にシールしている。篩底部１３と、隔壁として働
く内側の壁部分１７と、この内側の壁部分１７に固定さ
れたフィルタ１９と、閉鎖装置２１と、湿式浄化装置２
３，２５とは、内室２７を３つの部分に分割しており、
つまり下方から上方に向かって見てガス分配室２８と、
流動層・粗ガス室２９と、純ガス室３０とに分割してい
る。
【００１８】各湿式浄化装置２３，２５は、内側の壁部
分１７の上方で原料・流動層容器３内に位置するハウジ
ングと、噴霧機構とを有している。各ハウジングは、純
ガス室３０に対して密に閉鎖されたハウジング内室を仕
切っている。各湿式浄化装置２３，２５の噴霧機構は対
応するハウジング内に、調節可能でかつ鉛直方向に移動
可能に案内されていて、選択的に休止位置と浄化位置と
にもたらされるようになっている。この噴霧機構は休止
位置において、対応するハウジングの内部に位置してい
て、その場合、内側の壁部分１７の下面とほぼ同一平面
に位置するか、または正確に同一平面に位置している。
噴霧機構は浄化位置においては少なくとも部分的に流動
層・粗ガス室２９内に位置している。噴霧機構に設けら
れた噴霧ノズルもしくは流出開口はこの場合、たとえば
ほぼフィルタ１９の上側の端区分の高さに位置してい
る。
分１７の上方で原料・流動層容器３内に位置するハウジ
ングと、噴霧機構とを有している。各ハウジングは、純
ガス室３０に対して密に閉鎖されたハウジング内室を仕
切っている。各湿式浄化装置２３，２５の噴霧機構は対
応するハウジング内に、調節可能でかつ鉛直方向に移動
可能に案内されていて、選択的に休止位置と浄化位置と
にもたらされるようになっている。この噴霧機構は休止
位置において、対応するハウジングの内部に位置してい
て、その場合、内側の壁部分１７の下面とほぼ同一平面
に位置するか、または正確に同一平面に位置している。
噴霧機構は浄化位置においては少なくとも部分的に流動
層・粗ガス室２９内に位置している。噴霧機構に設けら
れた噴霧ノズルもしくは流出開口はこの場合、たとえば
ほぼフィルタ１９の上側の端区分の高さに位置してい
る。
【００１９】底壁部分６はガス入口３３と、閉鎖可能な
原料出口３４とを備えている。さらに、噴霧装置４３を
設けることもできる。この噴霧装置４３は、流動層・粗
ガス室２９内に配置された少なくとも１つの噴霧機構４
４を備えており、この噴霧機構４４は結合剤または被覆
材料を噴霧するための少なくとも１つのノズルを有して
いる。円筒状の壁部分９は内側の壁部分１７の上面の所
定の周面個所において、選択的に開放・遮断可能な液体
出口４８を備えていて、さらに内側の壁部分１７の上方
にガス出口４９を備えている。
原料出口３４とを備えている。さらに、噴霧装置４３を
設けることもできる。この噴霧装置４３は、流動層・粗
ガス室２９内に配置された少なくとも１つの噴霧機構４
４を備えており、この噴霧機構４４は結合剤または被覆
材料を噴霧するための少なくとも１つのノズルを有して
いる。円筒状の壁部分９は内側の壁部分１７の上面の所
定の周面個所において、選択的に開放・遮断可能な液体
出口４８を備えていて、さらに内側の壁部分１７の上方
にガス出口４９を備えている。
【００２０】流動層装置１はさらに後除塵器５１を有し
ている。この後除塵器５１は後除塵器容器５３を有して
おり、この後除塵器容器５３の壁５５は一般に、鉛直な
容器軸線５４に対して回転対称的に形成されていて、互
いに解離可能に結合された複数の壁部分を有しており、
つまり下方に向かって先細りになったほぼ円錐状の底壁
部分５６と、円筒状の壁部分５７と、カバー壁部分５８
とを有している。この後除塵器容器５３には、内側の容
器部分もしくは内側の壁部分６１が固定されており、こ
の内側の壁部分６１は隔壁を形成している。内側の壁部
分６１には、フィルタ６３が着脱可能に固定されてい
る。このフィルタ６３には、各１つのガス浄化装置６４
が対応しており、このガス浄化装置６４は閉鎖装置６５
と浄化ガス入口６６とを備えている。さらに、内側の壁
部分６１には、第１の湿式浄化装置もしくは洗浄装置６
７と、第２の湿式浄化装置もしくは洗浄装置６８とが着
脱可能に固定されている。
ている。この後除塵器５１は後除塵器容器５３を有して
おり、この後除塵器容器５３の壁５５は一般に、鉛直な
容器軸線５４に対して回転対称的に形成されていて、互
いに解離可能に結合された複数の壁部分を有しており、
つまり下方に向かって先細りになったほぼ円錐状の底壁
部分５６と、円筒状の壁部分５７と、カバー壁部分５８
とを有している。この後除塵器容器５３には、内側の容
器部分もしくは内側の壁部分６１が固定されており、こ
の内側の壁部分６１は隔壁を形成している。内側の壁部
分６１には、フィルタ６３が着脱可能に固定されてい
る。このフィルタ６３には、各１つのガス浄化装置６４
が対応しており、このガス浄化装置６４は閉鎖装置６５
と浄化ガス入口６６とを備えている。さらに、内側の壁
部分６１には、第１の湿式浄化装置もしくは洗浄装置６
７と、第２の湿式浄化装置もしくは洗浄装置６８とが着
脱可能に固定されている。
【００２１】前記壁部分５６，５７，５８は一緒になっ
て壁５５の外壁を形成していて、内室６９を周囲に対し
て密に閉鎖している。隔壁として働く内側の壁部分６１
と、この内側の壁部分６１に固定されたフィルタ６３
と、ガス浄化装置６４と、各湿式浄化装置６７，６８と
は、内室６９を粗ガス室７０と純ガス室７１とに分割し
ている。この場合、粗ガス室７０は内側の壁部分６１の
下方に位置しており、純ガス室７１は内側の壁部分６１
の上方に位置している。後除塵器容器５３は、粗ガス室
７０に開口したガス入口７３と、底壁部分５６の下端部
に配置された、選択的に閉鎖・開放可能な出口７４と、
純ガス室７１から導出されたガス出口７５と、内側の壁
部分６１の上面の所定の周面個所に配置された、選択的
に開放・遮断可能な液体出口７８とを有している。
て壁５５の外壁を形成していて、内室６９を周囲に対し
て密に閉鎖している。隔壁として働く内側の壁部分６１
と、この内側の壁部分６１に固定されたフィルタ６３
と、ガス浄化装置６４と、各湿式浄化装置６７，６８と
は、内室６９を粗ガス室７０と純ガス室７１とに分割し
ている。この場合、粗ガス室７０は内側の壁部分６１の
下方に位置しており、純ガス室７１は内側の壁部分６１
の上方に位置している。後除塵器容器５３は、粗ガス室
７０に開口したガス入口７３と、底壁部分５６の下端部
に配置された、選択的に閉鎖・開放可能な出口７４と、
純ガス室７１から導出されたガス出口７５と、内側の壁
部分６１の上面の所定の周面個所に配置された、選択的
に開放・遮断可能な液体出口７８とを有している。
【００２２】前記両容器３；５３の壁５；５５は主とし
て（つまり種々の壁部分の間に存在するシール部材や窓
等は別として）金属性の材料から、つまりステンレス鋼
から成っている。各窓はたとえば少なくとも１つのガラ
ス板を有している。
て（つまり種々の壁部分の間に存在するシール部材や窓
等は別として）金属性の材料から、つまりステンレス鋼
から成っている。各窓はたとえば少なくとも１つのガラ
ス板を有している。
【００２３】流動層装置１はさらに、プロセスガス、つ
まり空気を下方から上方に向かって両容器３，５３に通
して案内するためにガス案内手段８１を有している。こ
のガス案内手段８１は、両容器３，５３の周囲に対して
開いた空気入口８３を有している。この空気入口８３は
ガス管路８４と、遮断装置および／または制御装置８５
と、ダストフィルタ８６と、ガス調製装置８７とを介し
て、原料・流動層容器３のガス入口３３に接続されてい
る。ガス調製装置８７は、たとえば加熱装置および／ま
たは冷却装置および／または除湿装置を有している。原
料・流動層容器３のガス出口４９はガス管路８９を介し
て後除塵器容器５３のガス入口７３に接続されている。
後除塵器容器５３のガス出口７５はガス管路９１と吸込
装置９２とを介して、周囲に開口した空気出口９３に接
続されている。
まり空気を下方から上方に向かって両容器３，５３に通
して案内するためにガス案内手段８１を有している。こ
のガス案内手段８１は、両容器３，５３の周囲に対して
開いた空気入口８３を有している。この空気入口８３は
ガス管路８４と、遮断装置および／または制御装置８５
と、ダストフィルタ８６と、ガス調製装置８７とを介し
て、原料・流動層容器３のガス入口３３に接続されてい
る。ガス調製装置８７は、たとえば加熱装置および／ま
たは冷却装置および／または除湿装置を有している。原
料・流動層容器３のガス出口４９はガス管路８９を介し
て後除塵器容器５３のガス入口７３に接続されている。
後除塵器容器５３のガス出口７５はガス管路９１と吸込
装置９２とを介して、周囲に開口した空気出口９３に接
続されている。
【００２４】流動層装置１は、浄化ガス供給手段９５
（概略的にのみ図示する）を有しており、この浄化ガス
供給手段９５は少なくとも１つの圧縮ガス源を備えてお
り、この圧縮ガス源は、たとえばフィルタと、圧縮機
と、圧縮空気容器とを有している。浄化ガス供給手段９
５はさらに、各圧縮ガス源に接続された遮断装置、たと
えば原料・流動層容器３の近くに配置された、電気的ま
たはニューマチック的に操作可能な弁を有している。こ
の弁の出口はガス管路（破線矢印で示す）によって浄化
ガス入口２２，６６に接続されている。この場合、たと
えばフィルタ１９；６３に対応する各浄化ガス入口２
２；６６は別個の専用のガス管路を介して対応する弁に
接続されているので、各フィルタには圧縮空気から成る
浄化ガスを別個に供給することができる。しかし、２つ
またはそれ以上の浄化ガス入口２２；６６を１つの共通
のガス管路によって１つの共通の弁に接続することも可
能である。
（概略的にのみ図示する）を有しており、この浄化ガス
供給手段９５は少なくとも１つの圧縮ガス源を備えてお
り、この圧縮ガス源は、たとえばフィルタと、圧縮機
と、圧縮空気容器とを有している。浄化ガス供給手段９
５はさらに、各圧縮ガス源に接続された遮断装置、たと
えば原料・流動層容器３の近くに配置された、電気的ま
たはニューマチック的に操作可能な弁を有している。こ
の弁の出口はガス管路（破線矢印で示す）によって浄化
ガス入口２２，６６に接続されている。この場合、たと
えばフィルタ１９；６３に対応する各浄化ガス入口２
２；６６は別個の専用のガス管路を介して対応する弁に
接続されているので、各フィルタには圧縮空気から成る
浄化ガスを別個に供給することができる。しかし、２つ
またはそれ以上の浄化ガス入口２２；６６を１つの共通
のガス管路によって１つの共通の弁に接続することも可
能である。
【００２５】流動層装置１はさらに、浄化液供給手段９
６（概略的にのみ図示する）を有している。この浄化液
供給手段９６は、たとえば少なくとも１つのポンプと、
少なくとも１つの液体リザーバと、遮断装置、たとえば
電気的またはニューマチック的に操作可能な弁とを有し
ている。この弁は液体管路（破線矢印で示す）によっ
て、両容器３，５３に配置された各湿式浄化装置２３，
２５，６７，６８に接続されている。
６（概略的にのみ図示する）を有している。この浄化液
供給手段９６は、たとえば少なくとも１つのポンプと、
少なくとも１つの液体リザーバと、遮断装置、たとえば
電気的またはニューマチック的に操作可能な弁とを有し
ている。この弁は液体管路（破線矢印で示す）によっ
て、両容器３，５３に配置された各湿式浄化装置２３，
２５，６７，６８に接続されている。
【００２６】引き続き、図３〜図５につきフィルタ１９
の構成を詳しく説明する。各フィルタ１９のためには、
スリーブ状の支持体１１３が設けられている。この支持
体１１はプレート１１１に設けられた孔１１１ｂを貫通
して、このプレート１１１に固くかつ密に結合されてお
り、つまり溶接されている。支持体１１３は鉛直方向
の、ほぼ円筒状の孔１１３ａを有しており、さらに支持
体１３の、プレート１１１の下方に位置する端部は、半
径方向の平らな環状面と、この環状面から離れる方向で
下方に突出したつばとを有しており、このつばには、半
径方向外側に突出した複数のピン１１５が固定されてい
る。支持体１１３の、プレート１１１の上方に位置する
端部には、環状フランジ１１７が複数のねじ１１８によ
って着脱可能に固定されている。ホルダ１１９は２つま
たはそれ以上の鉛直な脚部を備えた上側部分１１９ａ
と、脚部の下端部を互いに結合する、ウェブまたは複数
の半径方向のアームを有する結合部材と、この結合部材
から離れる方向で鉛直方向に下方に向かって突出した軸
部１１９ｂとを有している。軸部１１９ｂは雄ねじ山１
１９ｃを備えている。
の構成を詳しく説明する。各フィルタ１９のためには、
スリーブ状の支持体１１３が設けられている。この支持
体１１はプレート１１１に設けられた孔１１１ｂを貫通
して、このプレート１１１に固くかつ密に結合されてお
り、つまり溶接されている。支持体１１３は鉛直方向
の、ほぼ円筒状の孔１１３ａを有しており、さらに支持
体１３の、プレート１１１の下方に位置する端部は、半
径方向の平らな環状面と、この環状面から離れる方向で
下方に突出したつばとを有しており、このつばには、半
径方向外側に突出した複数のピン１１５が固定されてい
る。支持体１１３の、プレート１１１の上方に位置する
端部には、環状フランジ１１７が複数のねじ１１８によ
って着脱可能に固定されている。ホルダ１１９は２つま
たはそれ以上の鉛直な脚部を備えた上側部分１１９ａ
と、脚部の下端部を互いに結合する、ウェブまたは複数
の半径方向のアームを有する結合部材と、この結合部材
から離れる方向で鉛直方向に下方に向かって突出した軸
部１１９ｂとを有している。軸部１１９ｂは雄ねじ山１
１９ｃを備えている。
【００２７】各フィルタ１９は、容器軸線４に対して平
行な鉛直方向のフィルタ軸線１２０に対してほぼ回転対
称的に形成されている。このフィルタ軸線１２０は孔１
１１ｂおよび支持体１１３の軸線をも形成している。各
フィルタ１９はほぼ形状固定的なカートリッジフィルタ
として形成されていて、フィルタ軸線１２０に対して同
軸的でかつほぼ回転対称的な、つまりほぼ円筒状のガス
透過性の周壁１２１を有している。この周壁１２１は内
部に、図５に示したような中空の金属性の支持エレメン
ト１２２を有している。この支持エレメント１２２は比
較的粗い少なくとも１つの線材織布から成っており、つ
まり図示の実施例では内側の粗い方の線材織布１２３
と、外側の微細な方の、比較的細い線材から形成された
線材織布１２４とから成っている。周壁１２１はさら
に、支持エレメント１２２を取り囲みかつこの支持エレ
メント１２２に接触した、周壁１２１の最も外側の制限
部を形成する金属性の濾過エレメント１２５を有してい
る。この濾過エレメント１２５は、支持エレメント１２
２の外側の線材織布１２４よりも一層細い線材から形成
された一層微細な線材織布から成っている。この線材織
布のメッシュの間に存在する隙間はガス透過孔を形成し
ている。支持エレメント１２２の内側の線材織布１２３
は、たとえば約０．５〜１ｍｍの直径を有する線材から
成っていて、たとえば約５〜１０ｍｍのメッシュ内径
（目開き）を有している。支持エレメント１２２の外側
の線材織布１２４は、たとえば約０．３〜０．５ｍｍの
太さの線材から成っていて、たとえば約１〜３ｍｍのメ
ッシュ内径（目開き）を有している。支持エレメント１
２２に形成されたガス透過孔の内径は、外側の、つまり
微細な方の線材織布１２４のメッシュ内径（目開き）に
等しい。濾過エレメント１２５は、たとえば０．０１〜
０．５ｍｍの直径と、たとえば０．０１〜０．５ｍｍの
メッシュ内径（目開き）とを有する線材織布によって形
成されている。濾過エレメント１２５は、最も微細なガ
ス透過孔が濾過エレメントの外面に配置されるように形
成されていると有利である。これにより、フィルタ１９
の使用時ではダストが少なくとも大部分、実際には完全
に、周壁１２１の最も外側の制限部を形成する、濾過エ
レメントの外面で分離される。前記３つの線材織布はス
テンレス鋼から成っている。同一の線材織布に所属の線
材および種々異なる線材織布に所属の線材も、これらの
線材が互いに交差して接触する接触個所において互いに
解離不能に固く結合されている。つまりこれらの線材は
互いに焼結されている。
行な鉛直方向のフィルタ軸線１２０に対してほぼ回転対
称的に形成されている。このフィルタ軸線１２０は孔１
１１ｂおよび支持体１１３の軸線をも形成している。各
フィルタ１９はほぼ形状固定的なカートリッジフィルタ
として形成されていて、フィルタ軸線１２０に対して同
軸的でかつほぼ回転対称的な、つまりほぼ円筒状のガス
透過性の周壁１２１を有している。この周壁１２１は内
部に、図５に示したような中空の金属性の支持エレメン
ト１２２を有している。この支持エレメント１２２は比
較的粗い少なくとも１つの線材織布から成っており、つ
まり図示の実施例では内側の粗い方の線材織布１２３
と、外側の微細な方の、比較的細い線材から形成された
線材織布１２４とから成っている。周壁１２１はさら
に、支持エレメント１２２を取り囲みかつこの支持エレ
メント１２２に接触した、周壁１２１の最も外側の制限
部を形成する金属性の濾過エレメント１２５を有してい
る。この濾過エレメント１２５は、支持エレメント１２
２の外側の線材織布１２４よりも一層細い線材から形成
された一層微細な線材織布から成っている。この線材織
布のメッシュの間に存在する隙間はガス透過孔を形成し
ている。支持エレメント１２２の内側の線材織布１２３
は、たとえば約０．５〜１ｍｍの直径を有する線材から
成っていて、たとえば約５〜１０ｍｍのメッシュ内径
（目開き）を有している。支持エレメント１２２の外側
の線材織布１２４は、たとえば約０．３〜０．５ｍｍの
太さの線材から成っていて、たとえば約１〜３ｍｍのメ
ッシュ内径（目開き）を有している。支持エレメント１
２２に形成されたガス透過孔の内径は、外側の、つまり
微細な方の線材織布１２４のメッシュ内径（目開き）に
等しい。濾過エレメント１２５は、たとえば０．０１〜
０．５ｍｍの直径と、たとえば０．０１〜０．５ｍｍの
メッシュ内径（目開き）とを有する線材織布によって形
成されている。濾過エレメント１２５は、最も微細なガ
ス透過孔が濾過エレメントの外面に配置されるように形
成されていると有利である。これにより、フィルタ１９
の使用時ではダストが少なくとも大部分、実際には完全
に、周壁１２１の最も外側の制限部を形成する、濾過エ
レメントの外面で分離される。前記３つの線材織布はス
テンレス鋼から成っている。同一の線材織布に所属の線
材および種々異なる線材織布に所属の線材も、これらの
線材が互いに交差して接触する接触個所において互いに
解離不能に固く結合されている。つまりこれらの線材は
互いに焼結されている。
【００２８】周壁１２１に設けられた支持エレメント１
２２および濾過エレメント１２５は、周壁１２１の上端
部で全周にわたって、金属性の、つまりステンレス鋼か
ら成るリング１２７と溶接されているか、または場合に
よってはろう接されている。このリング１２７は各ピン
１１５のためにリング内縁部でこのリングに突入した半
径方向の切込み１２７ａを備えている。ピン１１５およ
び切込み１２７ａは一緒になって、バヨネット結合に似
た固定手段を形成している。ピン１１５および切込み１
２７ａは、内側の壁部分１７にフィルタ１９を固定する
ためにリング１２７を鉛直方向で上方に向かって移動さ
せて、各ピン１１５を対応する切込み１２７ａに嵌合さ
せることができるように形成されている。この場合、各
ピン１１５が、対応する切込み１２７ａに嵌合させられ
た後に、フィルタをその鉛直方向の軸線を中心にして少
しだけねじることができるので、ピン１１５はリング１
２７の下端面に作用して、フィルタを一時的に緩くかつ
軸方向の遊びを持って支持体１１３に保持する。
２２および濾過エレメント１２５は、周壁１２１の上端
部で全周にわたって、金属性の、つまりステンレス鋼か
ら成るリング１２７と溶接されているか、または場合に
よってはろう接されている。このリング１２７は各ピン
１１５のためにリング内縁部でこのリングに突入した半
径方向の切込み１２７ａを備えている。ピン１１５およ
び切込み１２７ａは一緒になって、バヨネット結合に似
た固定手段を形成している。ピン１１５および切込み１
２７ａは、内側の壁部分１７にフィルタ１９を固定する
ためにリング１２７を鉛直方向で上方に向かって移動さ
せて、各ピン１１５を対応する切込み１２７ａに嵌合さ
せることができるように形成されている。この場合、各
ピン１１５が、対応する切込み１２７ａに嵌合させられ
た後に、フィルタをその鉛直方向の軸線を中心にして少
しだけねじることができるので、ピン１１５はリング１
２７の下端面に作用して、フィルタを一時的に緩くかつ
軸方向の遊びを持って支持体１１３に保持する。
【００２９】周壁１２１の、リング１２７とは反対の側
の下端部は、その全周にわたって、金属性の、たとえば
ステンレス鋼から成る板１２９と溶接されているか、ま
たは場合によってはろう接されている。この板１２９は
中央部に、フィルタ軸線１２０に対して同軸的な、一貫
して延びる孔１２９ａを有している。さらに板１２９の
上端面には、フィルタ軸線１２０と孔１２９ａとから離
れる方向で軽度の円錐状に下方に傾けられた円錐状面１
２９ｂが設けられている。板１２９に設けられた孔１２
９ａには、フィルタ軸線１２０に対して同軸的なスリー
ブ１３０の上端部が差し込まれていて、この板１２９と
溶接されているか、または場合によってはろう接されて
いる。スリーブ１３０はこの板１２９から離れる方向で
下方に向かって突出していて、しかも一貫して延びる軸
方向の孔を有している。板１２９には、下方に向かって
円錐状に先細りになったコンパクトな、つまり孔を有し
ない金属性の端壁１３１の上縁部が溶接されているか、
またはろう接されており、この端壁１３１の下縁部はス
リーブ１３０に溶接されているか、またはろう接されて
いる。細長い固定エレメント１３２は、スリーブ１３０
を貫通する円筒状の区分と、板１２９の上方に設けられ
た、少しだけ細い円筒状の端区分と、スリーブ１３０お
よび固有のフィルタから突出した下端部に設けられた、
スリーブ１３０の半径方向の端面に接触したつば１３２
ａと、スパナまたはその他の工具を係合させるための非
回転対称的な工具作用面を有するヘッドとを有してい
る。この固定エレメント１３２は、その上端面に開口し
た軸方向の盲孔１３２ｂを有しており、この盲孔１３２
ｂは雌ねじ山１３２ｃを備えている。この雌ねじ山１３
２ｃはホルダ１１９に設けられた雄ねじ山１１９ｃと螺
合されている。ホルダ１１９と固定エレメント１３２と
は、一緒になって固定装置を形成していて、板１２９の
孔１２９ａを通じてフィルタ１９を支持体１１３に解離
可能に結合しており、さらにフィルタ１９のリング１２
７を支持体１１３の、半径方向の平らな環状面に押圧し
ている。支持体１１３とリング１２７とは、たとえばリ
ング１２７に設けられた環状溝内に保持されたシール部
材１３３によって互いにシールされている。さらに、固
定エレメント１３２はスリーブ１３０に設けられた環状
溝内に保持されたシール部材１３４によって、スリーブ
１３０に対してシールされている。支持体１１３に設け
られた軸方向の盲孔内に摺動可能に案内された、金属性
の導電性のコンタクトピン１３５は、同じ盲孔内に配置
されたばね１３６によってリング１２７に押圧されて、
フィルタを内側の壁部分１７に導電接続接続し、ひいて
はこの壁部分１７を介してフィルタをアースに接続す
る。周壁１２１とリング１２７と板１２９とは、一緒に
なってフィルタ１９の中空のフィルタ内室１３７を仕切
っている。この場合、周壁１２１の支持エレメント１２
２の、フィルタ内室１３７を取り囲む内面は、いずれの
場所でもホルダ１１９から間隔を置いて位置している。
の下端部は、その全周にわたって、金属性の、たとえば
ステンレス鋼から成る板１２９と溶接されているか、ま
たは場合によってはろう接されている。この板１２９は
中央部に、フィルタ軸線１２０に対して同軸的な、一貫
して延びる孔１２９ａを有している。さらに板１２９の
上端面には、フィルタ軸線１２０と孔１２９ａとから離
れる方向で軽度の円錐状に下方に傾けられた円錐状面１
２９ｂが設けられている。板１２９に設けられた孔１２
９ａには、フィルタ軸線１２０に対して同軸的なスリー
ブ１３０の上端部が差し込まれていて、この板１２９と
溶接されているか、または場合によってはろう接されて
いる。スリーブ１３０はこの板１２９から離れる方向で
下方に向かって突出していて、しかも一貫して延びる軸
方向の孔を有している。板１２９には、下方に向かって
円錐状に先細りになったコンパクトな、つまり孔を有し
ない金属性の端壁１３１の上縁部が溶接されているか、
またはろう接されており、この端壁１３１の下縁部はス
リーブ１３０に溶接されているか、またはろう接されて
いる。細長い固定エレメント１３２は、スリーブ１３０
を貫通する円筒状の区分と、板１２９の上方に設けられ
た、少しだけ細い円筒状の端区分と、スリーブ１３０お
よび固有のフィルタから突出した下端部に設けられた、
スリーブ１３０の半径方向の端面に接触したつば１３２
ａと、スパナまたはその他の工具を係合させるための非
回転対称的な工具作用面を有するヘッドとを有してい
る。この固定エレメント１３２は、その上端面に開口し
た軸方向の盲孔１３２ｂを有しており、この盲孔１３２
ｂは雌ねじ山１３２ｃを備えている。この雌ねじ山１３
２ｃはホルダ１１９に設けられた雄ねじ山１１９ｃと螺
合されている。ホルダ１１９と固定エレメント１３２と
は、一緒になって固定装置を形成していて、板１２９の
孔１２９ａを通じてフィルタ１９を支持体１１３に解離
可能に結合しており、さらにフィルタ１９のリング１２
７を支持体１１３の、半径方向の平らな環状面に押圧し
ている。支持体１１３とリング１２７とは、たとえばリ
ング１２７に設けられた環状溝内に保持されたシール部
材１３３によって互いにシールされている。さらに、固
定エレメント１３２はスリーブ１３０に設けられた環状
溝内に保持されたシール部材１３４によって、スリーブ
１３０に対してシールされている。支持体１１３に設け
られた軸方向の盲孔内に摺動可能に案内された、金属性
の導電性のコンタクトピン１３５は、同じ盲孔内に配置
されたばね１３６によってリング１２７に押圧されて、
フィルタを内側の壁部分１７に導電接続接続し、ひいて
はこの壁部分１７を介してフィルタをアースに接続す
る。周壁１２１とリング１２７と板１２９とは、一緒に
なってフィルタ１９の中空のフィルタ内室１３７を仕切
っている。この場合、周壁１２１の支持エレメント１２
２の、フィルタ内室１３７を取り囲む内面は、いずれの
場所でもホルダ１１９から間隔を置いて位置している。
【００３０】支持エレメント１２２は形状固定的であ
る。濾過エレメント１２５は場合によってはそれ自体単
独ではかなりフレキシブルに形成されている。しかしこ
の濾過エレメントはフィルタ軸線に対してほぼ回転対称
的、つまり円筒状に形成されていて、折り目（ひだ）や
波状隆起部を有しておらず、その内面全体にわたって支
持エレメントの外面に接触しており、さらに全ての接触
個所においてこの支持エレメントと焼結されている。し
たがって、濾過エレメント１２５は支持エレメント１２
２によって支持されるので、濾過エレメント１２５も、
ひいては周壁全体も、ほぼ形状固定的でかつ形状安定的
に形成されている。支持エレメントの外面および内面な
らびに濾過エレメント１２５の外面によって形成された
周壁全体の外面は、ほぼ円筒状、つまり線材織布の、互
いに巡り合うように曲げられた各線材は別として円筒状
で、かつ横断面円形に形成されている。濾過エレメント
１２５がほぼその内面全体で、かつ特に両端部でもその
全周にわたって支持エレメント１２２に接触しているこ
と、支持エレメント１２２の両端部が、その全周にわた
ってリング１２７もしくは板１２９に接触しているこ
と、および支持エレメントと濾過エレメントとが全周に
わたってリング１２７もしくは板１２９と溶接またはろ
う接されていることに基づき、支持エレメントならびに
濾過エレメントと、リング１２７および板１２９との安
定した耐久性の良い結合が得られる。支持体１１３に設
けられた軸方向の孔１１３ａと、この孔１３３ａと合致
した、環状フランジ１１７に設けられた軸方向の孔と
は、一緒になって第１の通過部１３８を形成している。
この第１の通過部１３８は内側の壁部分１７を通じてフ
ィルタ内室１３７を純ガス室３０に接続する。この第１
の通過部１３８は当該フィルタ１９に対応する閉鎖装置
２１によって選択的に開閉され得る。
る。濾過エレメント１２５は場合によってはそれ自体単
独ではかなりフレキシブルに形成されている。しかしこ
の濾過エレメントはフィルタ軸線に対してほぼ回転対称
的、つまり円筒状に形成されていて、折り目（ひだ）や
波状隆起部を有しておらず、その内面全体にわたって支
持エレメントの外面に接触しており、さらに全ての接触
個所においてこの支持エレメントと焼結されている。し
たがって、濾過エレメント１２５は支持エレメント１２
２によって支持されるので、濾過エレメント１２５も、
ひいては周壁全体も、ほぼ形状固定的でかつ形状安定的
に形成されている。支持エレメントの外面および内面な
らびに濾過エレメント１２５の外面によって形成された
周壁全体の外面は、ほぼ円筒状、つまり線材織布の、互
いに巡り合うように曲げられた各線材は別として円筒状
で、かつ横断面円形に形成されている。濾過エレメント
１２５がほぼその内面全体で、かつ特に両端部でもその
全周にわたって支持エレメント１２２に接触しているこ
と、支持エレメント１２２の両端部が、その全周にわた
ってリング１２７もしくは板１２９に接触しているこ
と、および支持エレメントと濾過エレメントとが全周に
わたってリング１２７もしくは板１２９と溶接またはろ
う接されていることに基づき、支持エレメントならびに
濾過エレメントと、リング１２７および板１２９との安
定した耐久性の良い結合が得られる。支持体１１３に設
けられた軸方向の孔１１３ａと、この孔１３３ａと合致
した、環状フランジ１１７に設けられた軸方向の孔と
は、一緒になって第１の通過部１３８を形成している。
この第１の通過部１３８は内側の壁部分１７を通じてフ
ィルタ内室１３７を純ガス室３０に接続する。この第１
の通過部１３８は当該フィルタ１９に対応する閉鎖装置
２１によって選択的に開閉され得る。
【００３１】図３に示したフィルタに対応するガス浄化
装置２０ならびにその閉鎖装置２１は、同じく図３に示
したように、フィルタ軸線１２０に対して同軸的なスリ
ーブ１４１を有している。このスリーブ１４１は円筒状
の周壁１４２と、板状の閉鎖エレメント１４３とを有し
ている。この閉鎖エレメント１４３は周壁１４２の、フ
ィルタ１９とは反対の側の上端部で周壁１４２に固くか
つ密に結合されている。周壁１４２と閉鎖エレメント１
４３とは、たとえば互いに溶接された別個の金属性の部
分から成っている。フィルタ軸線を中心にして分配され
たＬ字形の３つの保持ロッドは、閉鎖エレメント１４３
に固定された水平な脚部と、環状フランジ１１７に固定
された鉛直な脚部とを有している。すなわち、環状フラ
ンジ１１７はフィルタ１９を固定するためにも、ガス浄
化装置２０を固定するためにも働くわけである。周壁１
４２の下端部は開いていて、環状フランジ１１７から間
隔を置いて位置している。
装置２０ならびにその閉鎖装置２１は、同じく図３に示
したように、フィルタ軸線１２０に対して同軸的なスリ
ーブ１４１を有している。このスリーブ１４１は円筒状
の周壁１４２と、板状の閉鎖エレメント１４３とを有し
ている。この閉鎖エレメント１４３は周壁１４２の、フ
ィルタ１９とは反対の側の上端部で周壁１４２に固くか
つ密に結合されている。周壁１４２と閉鎖エレメント１
４３とは、たとえば互いに溶接された別個の金属性の部
分から成っている。フィルタ軸線を中心にして分配され
たＬ字形の３つの保持ロッドは、閉鎖エレメント１４３
に固定された水平な脚部と、環状フランジ１１７に固定
された鉛直な脚部とを有している。すなわち、環状フラ
ンジ１１７はフィルタ１９を固定するためにも、ガス浄
化装置２０を固定するためにも働くわけである。周壁１
４２の下端部は開いていて、環状フランジ１１７から間
隔を置いて位置している。
【００３２】図３に示したガス浄化装置２０の、フィル
タ軸線１２１に対して同軸的な浄化ガス入口２２は、浄
化ガス供給手段９５の管路（図示しない）に接続されて
いて、主構成要素として短い管１４８を有している。こ
の短い管１４８はスリーブ１４１を貫通していて、上部
および下部でこのスリーブ４１から突出しており、さら
に下端部で環状フランジ１１７の中央の孔に突入してい
る。この管１４８は円筒状の２つの区分を有する段付け
された外面と、閉鎖エレメント１４３の半径方向の下面
に接触した肩部面とを有していて、閉鎖エレメント１４
３に設けられた孔を貫通しており、さらに閉鎖エレメン
ト１４３にたとえば溶接によって密に固定されている。
管１４８の、環状フランジ１１７に突入した区分の直径
は、環状フランジ１１７の内径よりも著しく小さく形成
されている。したがって、浄化ガス入口２２の、第１の
通過部１３８に突入した端区分は、この第１の通過部１
３８の環状の自由空間範囲によって取り囲まれている。
この管１４８は軸方向の円筒状の貫通孔を有していて、
さらに閉鎖エレメント１４３のすぐ下方には少なくとも
１つの半径方向の孔１４８ａ、有利には管１４８の周面
に沿って分配された複数の孔１４８ａを有している。管
１４８の軸方向の貫通孔の下側の端区分は、雌ねじ山を
備えており、この雌ねじ山には、軸方向の貫通孔を有す
るスリーブ状の絞り１４９が着脱可能にねじ込まれてい
る。浄化ガス入口２２の管１４８と絞り１４９とに設け
られた軸方向の貫通孔は、一緒になって軸方向の第２の
通過部１５１を形成している。この第２の通過部１５１
は、絞り１４９に設けられた貫通孔によって形成された
狭隘部１５２を有しており、この狭隘部１５２は孔１４
８ａと、第２の通過部１５１の、第１の通過部１３８に
開口した端部との間に位置している。
タ軸線１２１に対して同軸的な浄化ガス入口２２は、浄
化ガス供給手段９５の管路（図示しない）に接続されて
いて、主構成要素として短い管１４８を有している。こ
の短い管１４８はスリーブ１４１を貫通していて、上部
および下部でこのスリーブ４１から突出しており、さら
に下端部で環状フランジ１１７の中央の孔に突入してい
る。この管１４８は円筒状の２つの区分を有する段付け
された外面と、閉鎖エレメント１４３の半径方向の下面
に接触した肩部面とを有していて、閉鎖エレメント１４
３に設けられた孔を貫通しており、さらに閉鎖エレメン
ト１４３にたとえば溶接によって密に固定されている。
管１４８の、環状フランジ１１７に突入した区分の直径
は、環状フランジ１１７の内径よりも著しく小さく形成
されている。したがって、浄化ガス入口２２の、第１の
通過部１３８に突入した端区分は、この第１の通過部１
３８の環状の自由空間範囲によって取り囲まれている。
この管１４８は軸方向の円筒状の貫通孔を有していて、
さらに閉鎖エレメント１４３のすぐ下方には少なくとも
１つの半径方向の孔１４８ａ、有利には管１４８の周面
に沿って分配された複数の孔１４８ａを有している。管
１４８の軸方向の貫通孔の下側の端区分は、雌ねじ山を
備えており、この雌ねじ山には、軸方向の貫通孔を有す
るスリーブ状の絞り１４９が着脱可能にねじ込まれてい
る。浄化ガス入口２２の管１４８と絞り１４９とに設け
られた軸方向の貫通孔は、一緒になって軸方向の第２の
通過部１５１を形成している。この第２の通過部１５１
は、絞り１４９に設けられた貫通孔によって形成された
狭隘部１５２を有しており、この狭隘部１５２は孔１４
８ａと、第２の通過部１５１の、第１の通過部１３８に
開口した端部との間に位置している。
【００３３】閉鎖機構１５５は、管１４８を取り囲みか
つ管１４８によって移動可能に案内された中空のロッド
１５６と、このロッド１５６の下端部に固定された、た
とえば金属性の板１５７とを有している。板１５７の縁
部の近くでは板１５７の下面に、環状の弾性変形可能な
シール部材１５８が固定されている。板１５７の直径と
シール部材１５８の直径とは、環状フランジ１１７の中
心の孔の直径よりも少しだけ大きく形成されている。板
１５７およびシール部材１５８は図３に示した、閉鎖機
構１５５の作動位置において、環状フランジ１１７から
間隔を置いて位置している。この閉鎖機構１１５は閉鎖
位置へ移動させることができる（さらに詳しく説明す
る）。この閉鎖位置では、板１５７が、正確に言うとこ
の板１５７に固定されたシール部材１５８が、環状フラ
ンジ１１７の上端面に設けられた環状面に載置される。
すなわち、環状フランジ１１７は弁座をも形成している
わけである。中空のロッド１５６の上端部には、金属性
の環状の板から成るピストン１５９が、たとえば溶接に
よって密に固定されている。環状のピストン１５９はス
リーブ１４１の、周壁１４２と管１４８との間に設けら
れた横断面環状の内室１６１に位置している。この内室
１６１は閉鎖エレメント１４３とピストン１５９との間
に存在する内室範囲１６２を有している。この内室範囲
１６２には前記孔１４８ａが開口している。ピストン１
５９および中空のロッド１５６は管１４８もしくは周壁
１４２に対して多くとも小さな半径遊びしか有していな
い。この場合、周壁１４２の内面とピストン１５９との
間には、極めて小幅な、たとえば多くとも１ｍｍまたは
約１ｍｍの幅を有する環状ギャップが存在していると有
利である。ピストン１５９および中空のロッド１５６は
容易に移動可能であって、内室範囲１６２を完全に密に
は閉鎖していないが、しかし純ガス室３０の自由空間範
囲に対しては内室範囲１６２を十分に密に閉鎖してい
る。さらに、ピストン１５９および中空のロッド１５６
を周壁１４２もしくは管１４８に対してシールするため
に、必要に応じてさらにシール部材を設けることができ
る。
つ管１４８によって移動可能に案内された中空のロッド
１５６と、このロッド１５６の下端部に固定された、た
とえば金属性の板１５７とを有している。板１５７の縁
部の近くでは板１５７の下面に、環状の弾性変形可能な
シール部材１５８が固定されている。板１５７の直径と
シール部材１５８の直径とは、環状フランジ１１７の中
心の孔の直径よりも少しだけ大きく形成されている。板
１５７およびシール部材１５８は図３に示した、閉鎖機
構１５５の作動位置において、環状フランジ１１７から
間隔を置いて位置している。この閉鎖機構１１５は閉鎖
位置へ移動させることができる（さらに詳しく説明す
る）。この閉鎖位置では、板１５７が、正確に言うとこ
の板１５７に固定されたシール部材１５８が、環状フラ
ンジ１１７の上端面に設けられた環状面に載置される。
すなわち、環状フランジ１１７は弁座をも形成している
わけである。中空のロッド１５６の上端部には、金属性
の環状の板から成るピストン１５９が、たとえば溶接に
よって密に固定されている。環状のピストン１５９はス
リーブ１４１の、周壁１４２と管１４８との間に設けら
れた横断面環状の内室１６１に位置している。この内室
１６１は閉鎖エレメント１４３とピストン１５９との間
に存在する内室範囲１６２を有している。この内室範囲
１６２には前記孔１４８ａが開口している。ピストン１
５９および中空のロッド１５６は管１４８もしくは周壁
１４２に対して多くとも小さな半径遊びしか有していな
い。この場合、周壁１４２の内面とピストン１５９との
間には、極めて小幅な、たとえば多くとも１ｍｍまたは
約１ｍｍの幅を有する環状ギャップが存在していると有
利である。ピストン１５９および中空のロッド１５６は
容易に移動可能であって、内室範囲１６２を完全に密に
は閉鎖していないが、しかし純ガス室３０の自由空間範
囲に対しては内室範囲１６２を十分に密に閉鎖してい
る。さらに、ピストン１５９および中空のロッド１５６
を周壁１４２もしくは管１４８に対してシールするため
に、必要に応じてさらにシール部材を設けることができ
る。
【００３４】後除塵器５１のフィルタ６３と、ガス浄化
装置６４と、湿式浄化装置６７，６８とは、たとえば原
料・流動層容器３に配置されたフィルタ１９もしくはガ
ス浄化装置２０もしくは湿式浄化装置２３，２５と同じ
か、または類似して形成されている。
装置６４と、湿式浄化装置６７，６８とは、たとえば原
料・流動層容器３に配置されたフィルタ１９もしくはガ
ス浄化装置２０もしくは湿式浄化装置２３，２５と同じ
か、または類似して形成されている。
【００３５】各フィルタおよび各ガス浄化装置の金属性
の周壁１２１および別の金属性の構成部分は、高い温度
にまで耐熱性を有していて、当然ながら低い温度におい
ても靭性および耐低温性を有している。シール部材１３
３，１３４，１５８および場合によってはさらに設けら
れる別のシール部材も、これらのシール部材、ひいては
フィルタ全体ならびにガス浄化装置全体が少なくとも２
００℃の温度にまで耐熱性を有し、かつ０℃よりも低い
温度でもまだ靭性および耐低温性を有して使用可能とな
るように形成されている。
の周壁１２１および別の金属性の構成部分は、高い温度
にまで耐熱性を有していて、当然ながら低い温度におい
ても靭性および耐低温性を有している。シール部材１３
３，１３４，１５８および場合によってはさらに設けら
れる別のシール部材も、これらのシール部材、ひいては
フィルタ全体ならびにガス浄化装置全体が少なくとも２
００℃の温度にまで耐熱性を有し、かつ０℃よりも低い
温度でもまだ靭性および耐低温性を有して使用可能とな
るように形成されている。
【００３６】内側の壁部分１７，６１は図１では図面の
簡略化のために平らでかつ水平方向に図示されている。
しかし、内側の壁部分１７，６１およびその、純ガス室
３０，７１に隣接した上面は、実際には正確に平らでか
つ水平に形成されているのではなく（ガス浄化装置２
０，６４、このガス浄化装置に所属の閉鎖装置２１，６
５および湿式浄化装置２３，２５，６７，６８から成る
部分の、純ガス室に隣接した上面も同様）、水平な平面
に対して少なくとも軽度に傾けられて形成されており、
つまりたとえば少なくとも部分的に平らでかつ傾けられ
て形成されており、かつ／または円錐状に形成されてお
り、かつ／または湾曲させられて形成されており、この
場合、湿式浄化時では、前記上面に到達した浄化液が液
体出口に向かって迅速に流出して、この液体出口を通じ
て導出されるようになる。内側の壁部分１７，６１は、
たとえば中央に向かって少なくとも部分的に僅かに上方
に向かって湾曲させられ、かつさらに一般に少しだけ傾
けられているので、内側の壁部分１７，６１の縁部によ
って規定される平面は、水平方向の平面と共に、たとえ
ば約２゜または場合によっては最大約５゜の傾斜角度を
形成しており、内側の壁部分１７，６１の上面の最も低
い個所は液体出口４８；７８に位置している。したがっ
て、内側の壁部分１７の主構成要素を形成するプレート
１１１および内側の壁部分６１の主構成要素を形成す
る、対応するプレートは、やはり少なくとも部分的に僅
かに湾曲させられていて、一般に少しだけ傾けられてい
る（プレート１１１の、図３に認められる区分参照）。
フィルタを支持するプレート区分の形状および傾斜角度
は、種々のフィルタにおいて種々異なっていてよい。ガ
ス浄化装置２０の閉鎖装置２１の、図３に認められる構
成部分、つまり環状フランジ１１７と閉鎖エレメント１
４３と閉鎖機構１５５との上面は、たとえば円錐状に外
方に向かって、水平方向の平面に対して約２゜または少
なくとも２゜の傾斜角度で下方に向かって傾けられてい
る。それにもかかわらず、フィルタ１９，６３のフィル
タ軸線は全て鉛直方向でかつ容器軸線４；５４に対して
平行に延びている。湿式浄化装置２３，２５，６７，６
８の軸線は、内側の壁部分の、各湿式浄化装置を支持す
る区分に接線方向で接する平らな面に対してほぼ直角ま
たは正確に直角に延びている。
簡略化のために平らでかつ水平方向に図示されている。
しかし、内側の壁部分１７，６１およびその、純ガス室
３０，７１に隣接した上面は、実際には正確に平らでか
つ水平に形成されているのではなく（ガス浄化装置２
０，６４、このガス浄化装置に所属の閉鎖装置２１，６
５および湿式浄化装置２３，２５，６７，６８から成る
部分の、純ガス室に隣接した上面も同様）、水平な平面
に対して少なくとも軽度に傾けられて形成されており、
つまりたとえば少なくとも部分的に平らでかつ傾けられ
て形成されており、かつ／または円錐状に形成されてお
り、かつ／または湾曲させられて形成されており、この
場合、湿式浄化時では、前記上面に到達した浄化液が液
体出口に向かって迅速に流出して、この液体出口を通じ
て導出されるようになる。内側の壁部分１７，６１は、
たとえば中央に向かって少なくとも部分的に僅かに上方
に向かって湾曲させられ、かつさらに一般に少しだけ傾
けられているので、内側の壁部分１７，６１の縁部によ
って規定される平面は、水平方向の平面と共に、たとえ
ば約２゜または場合によっては最大約５゜の傾斜角度を
形成しており、内側の壁部分１７，６１の上面の最も低
い個所は液体出口４８；７８に位置している。したがっ
て、内側の壁部分１７の主構成要素を形成するプレート
１１１および内側の壁部分６１の主構成要素を形成す
る、対応するプレートは、やはり少なくとも部分的に僅
かに湾曲させられていて、一般に少しだけ傾けられてい
る（プレート１１１の、図３に認められる区分参照）。
フィルタを支持するプレート区分の形状および傾斜角度
は、種々のフィルタにおいて種々異なっていてよい。ガ
ス浄化装置２０の閉鎖装置２１の、図３に認められる構
成部分、つまり環状フランジ１１７と閉鎖エレメント１
４３と閉鎖機構１５５との上面は、たとえば円錐状に外
方に向かって、水平方向の平面に対して約２゜または少
なくとも２゜の傾斜角度で下方に向かって傾けられてい
る。それにもかかわらず、フィルタ１９，６３のフィル
タ軸線は全て鉛直方向でかつ容器軸線４；５４に対して
平行に延びている。湿式浄化装置２３，２５，６７，６
８の軸線は、内側の壁部分の、各湿式浄化装置を支持す
る区分に接線方向で接する平らな面に対してほぼ直角ま
たは正確に直角に延びている。
【００３７】次に、流動層装置１の運転に関して詳しく
説明する。運転開始時では、まず、たとえば医薬品を形
成するために役立つ粒子状の原料９９のチャージが、た
とえば閉鎖可能な原料入口（図示しない）を通じて流動
層・粗ガス室２９に導入される。
説明する。運転開始時では、まず、たとえば医薬品を形
成するために役立つ粒子状の原料９９のチャージが、た
とえば閉鎖可能な原料入口（図示しない）を通じて流動
層・粗ガス室２９に導入される。
【００３８】粒子状の原料９９を処理するための流動層
装置の、以下にまず説明する「標準の」運転時では、ガ
ス案内手段８１によって、濾過されかつ調製された空気
から成るプロセスガスが下方から上方に向かって、原料
・流動層容器３と後除塵器容器５３とを通って案内され
る。これによって、粒子状の原料９９に流動層が付与さ
れて、この原料９９が処理される。このとき、たとえば
まず噴霧機構４４によって原料の粒子に液体が噴霧さ
れ、これにより粒子はより大きな粒子に凝集しかつ／ま
たは粒子に被覆体が付与される。引き続き、原料９９は
液体噴霧なしに流動層を付与されて、乾燥させられる。
しかし原料はあらかじめ液体噴霧することなしに、単に
乾燥させることもできる。
装置の、以下にまず説明する「標準の」運転時では、ガ
ス案内手段８１によって、濾過されかつ調製された空気
から成るプロセスガスが下方から上方に向かって、原料
・流動層容器３と後除塵器容器５３とを通って案内され
る。これによって、粒子状の原料９９に流動層が付与さ
れて、この原料９９が処理される。このとき、たとえば
まず噴霧機構４４によって原料の粒子に液体が噴霧さ
れ、これにより粒子はより大きな粒子に凝集しかつ／ま
たは粒子に被覆体が付与される。引き続き、原料９９は
液体噴霧なしに流動層を付与されて、乾燥させられる。
しかし原料はあらかじめ液体噴霧することなしに、単に
乾燥させることもできる。
【００３９】フィルタの標準運転時では、フィルタに浄
化ガスは供給されない。この場合、閉鎖装置２１の閉鎖
機構１５５は、吸込装置９２によって原料・流動層容器
３を通じて吸い込まれる空気によって持ち上げられて、
図３に示した開放位置を取っている。フィルタの標準の
運転時では、原料・流動層容器３内の空気が粗ガス室２
９からフィルタ１９の周壁１２１を通ってフィルタ内室
１３７に流入して、このフィルタ内室１３７から第１の
通過部１３８を通って、全てのフィルタ１９にとって共
通の純ガス室３０に流入する。後除塵器５１では、同様
に空気が粗ガス室７０からフィルタ６３の周壁を通っ
て、フィルタ６３内に存在するフィルタ内室に流入し
て、このフィルタ内室から純ガス室７１に流入する。
化ガスは供給されない。この場合、閉鎖装置２１の閉鎖
機構１５５は、吸込装置９２によって原料・流動層容器
３を通じて吸い込まれる空気によって持ち上げられて、
図３に示した開放位置を取っている。フィルタの標準の
運転時では、原料・流動層容器３内の空気が粗ガス室２
９からフィルタ１９の周壁１２１を通ってフィルタ内室
１３７に流入して、このフィルタ内室１３７から第１の
通過部１３８を通って、全てのフィルタ１９にとって共
通の純ガス室３０に流入する。後除塵器５１では、同様
に空気が粗ガス室７０からフィルタ６３の周壁を通っ
て、フィルタ６３内に存在するフィルタ内室に流入し
て、このフィルタ内室から純ガス室７１に流入する。
【００４０】プロセスガスを形成する、流動層から上方
に向かってフィルタ１９に流入する空気は通常、ダス
ト、たとえば粒子状の原料の摩耗材料や、場合によって
は噴霧された液体に溶けているか、または分散されてい
る固形物の粒子をも含有している。この空気はフィルタ
１９の標準の運転時ではフィルタ１９の周壁１２１によ
って濾過され、この場合、ダストは周壁１２１に外側で
設けられた濾過エレメント１２５において、濾過エレメ
ント１２５の外面で分離除去される。後除塵器５１に流
入するプロセスガスも、同じくまだ少しだけ微細ダスト
を含有している場合があり、その場合、ダストは後除塵
器のフィルタ６３によって分離除去される。
に向かってフィルタ１９に流入する空気は通常、ダス
ト、たとえば粒子状の原料の摩耗材料や、場合によって
は噴霧された液体に溶けているか、または分散されてい
る固形物の粒子をも含有している。この空気はフィルタ
１９の標準の運転時ではフィルタ１９の周壁１２１によ
って濾過され、この場合、ダストは周壁１２１に外側で
設けられた濾過エレメント１２５において、濾過エレメ
ント１２５の外面で分離除去される。後除塵器５１に流
入するプロセスガスも、同じくまだ少しだけ微細ダスト
を含有している場合があり、その場合、ダストは後除塵
器のフィルタ６３によって分離除去される。
【００４１】フィルタ１９，６３によって空気から分離
除去されて、フィルタの周壁１２１の外面に付着したダ
ストは、フィルタの透過性を減少させる。したがって、
各フィルタ１９；６３は原料９９の流動層形成の間に時
折、浄化ガスによって浄化される。この浄化ガスは、た
とえば環境周囲から吸い込まれて濾過され、かつ浄化ガ
ス供給手段９５の圧縮機によって圧縮された空気から成
っているので、圧力は周辺空気圧や、通常では周辺空気
圧よりも少しだけ低い、粗ガス室２９；７０内の圧力よ
りも大きく形成されており、しかも有利には少なくとも
１００ｋＰａ、たとえば２００ｋＰａ〜１０００ｋＰａ
だけ大きく形成されている。浄化ガス供給手段９５がた
とえば図３に示した浄化ガス入口２２に、浄化ガスとし
て働く圧縮空気を供給すると、この圧縮空気の一部、た
とえば圧縮空気の大部分は浄化ガス入口２２に設けられ
た第２の通過部１５１を通じて、支持体１１３と環状フ
ランジ１１７とによって仕切られた第１の通過部１３８
に流入する。圧縮空気の供給の開始時では閉鎖機構１５
５がまだ開放位置に位置しているので、浄化ガス入口２
２を通じて第１の通過部１３８に流入した空気は一部は
純ガス室３０に流入し、一部はフィルタ内室１３７に流
入する。圧縮空気が浄化ガス入口２２の第２の通過部１
５１を通じて第１の通過部１３８に流入するとき、第２
の通過部１５１、特にその狭隘部１５２には圧力低下が
生じる。したがって、圧縮空気も浄化ガス入口の孔１４
８ａを通じてスリーブ１４１の内室範囲１６２に流入す
る。内室範囲１６２内の圧力は、スリーブ１４１の内室
１６１の、純ガス室３０に接続された残りの部分におけ
る圧力よりも大きく形成されるので、環状のピストン１
５９は下方に向かって移動させられて、閉鎖機構１５５
を閉鎖位置へ移動させ、さらにこの閉鎖機構１５５を環
状フランジ１１７によって形成された座面に押圧する。
このピストン１５９は、浄化ガス入口２２に圧縮空気が
供給される限り、閉鎖機構１５５を閉鎖位置に保持す
る。浄化ガス入口２２に供給された圧縮空気は、ピスト
ン１５９および閉鎖機構１５５において場合によって生
じる小さな漏れ損失は別として、両通過部１５１，１３
８を通じてフィルタ内室１３７に流入し、さらにフィル
タ１９のガス透過性の周壁１２１を通じて粗ガス室２９
に流入する。この場合、浄化ガスとして働く圧縮空気
は、フィルタ１９の周壁１２１の外面に付着したダスト
をほぼ完全にフィルタ１９から離れる方向で流動層・粗
ガス室２９に吹き込む。閉鎖機構１５５がこの浄化過程
の間に第１の通過部１３８を閉鎖し、かつ浄化ガスとし
て働く圧縮空気の圧力が、プロセスガスとして流動層・
粗ガス室を通じて吸い込まれた空気の圧力よりも大きく
形成されているので、フィルタへの浄化ガスの供給の
間、プロセスガスは粗ガス室からフィルタ内に流入しな
い。したがって、フィルタから吹き付け除去されたダス
トは少なくとも部分的に流動層内へ降下し、（少なくと
も、原料９９の粒子がまだ湿っている場合には）原料９
９の粒子に固着する。浄化ガスとして働く圧縮空気が供
給されないフィルタ１９は、フィルタの浄化の間、プロ
セスガスを濾過する。
除去されて、フィルタの周壁１２１の外面に付着したダ
ストは、フィルタの透過性を減少させる。したがって、
各フィルタ１９；６３は原料９９の流動層形成の間に時
折、浄化ガスによって浄化される。この浄化ガスは、た
とえば環境周囲から吸い込まれて濾過され、かつ浄化ガ
ス供給手段９５の圧縮機によって圧縮された空気から成
っているので、圧力は周辺空気圧や、通常では周辺空気
圧よりも少しだけ低い、粗ガス室２９；７０内の圧力よ
りも大きく形成されており、しかも有利には少なくとも
１００ｋＰａ、たとえば２００ｋＰａ〜１０００ｋＰａ
だけ大きく形成されている。浄化ガス供給手段９５がた
とえば図３に示した浄化ガス入口２２に、浄化ガスとし
て働く圧縮空気を供給すると、この圧縮空気の一部、た
とえば圧縮空気の大部分は浄化ガス入口２２に設けられ
た第２の通過部１５１を通じて、支持体１１３と環状フ
ランジ１１７とによって仕切られた第１の通過部１３８
に流入する。圧縮空気の供給の開始時では閉鎖機構１５
５がまだ開放位置に位置しているので、浄化ガス入口２
２を通じて第１の通過部１３８に流入した空気は一部は
純ガス室３０に流入し、一部はフィルタ内室１３７に流
入する。圧縮空気が浄化ガス入口２２の第２の通過部１
５１を通じて第１の通過部１３８に流入するとき、第２
の通過部１５１、特にその狭隘部１５２には圧力低下が
生じる。したがって、圧縮空気も浄化ガス入口の孔１４
８ａを通じてスリーブ１４１の内室範囲１６２に流入す
る。内室範囲１６２内の圧力は、スリーブ１４１の内室
１６１の、純ガス室３０に接続された残りの部分におけ
る圧力よりも大きく形成されるので、環状のピストン１
５９は下方に向かって移動させられて、閉鎖機構１５５
を閉鎖位置へ移動させ、さらにこの閉鎖機構１５５を環
状フランジ１１７によって形成された座面に押圧する。
このピストン１５９は、浄化ガス入口２２に圧縮空気が
供給される限り、閉鎖機構１５５を閉鎖位置に保持す
る。浄化ガス入口２２に供給された圧縮空気は、ピスト
ン１５９および閉鎖機構１５５において場合によって生
じる小さな漏れ損失は別として、両通過部１５１，１３
８を通じてフィルタ内室１３７に流入し、さらにフィル
タ１９のガス透過性の周壁１２１を通じて粗ガス室２９
に流入する。この場合、浄化ガスとして働く圧縮空気
は、フィルタ１９の周壁１２１の外面に付着したダスト
をほぼ完全にフィルタ１９から離れる方向で流動層・粗
ガス室２９に吹き込む。閉鎖機構１５５がこの浄化過程
の間に第１の通過部１３８を閉鎖し、かつ浄化ガスとし
て働く圧縮空気の圧力が、プロセスガスとして流動層・
粗ガス室を通じて吸い込まれた空気の圧力よりも大きく
形成されているので、フィルタへの浄化ガスの供給の
間、プロセスガスは粗ガス室からフィルタ内に流入しな
い。したがって、フィルタから吹き付け除去されたダス
トは少なくとも部分的に流動層内へ降下し、（少なくと
も、原料９９の粒子がまだ湿っている場合には）原料９
９の粒子に固着する。浄化ガスとして働く圧縮空気が供
給されないフィルタ１９は、フィルタの浄化の間、プロ
セスガスを濾過する。
【００４２】フィルタへの浄化ガスの供給が中断される
と、吸込装置の吸込作用に基づき閉鎖機構１５５が再び
環状フランジ１１７から持ち上げられて、開放位置へ移
動させられる。すなわち、フィルタの浄化ガス入口２２
に圧縮空気が供給されなくなると、当該フィルタに対応
する閉鎖装置２１は逆止弁のように働くわけである。
と、吸込装置の吸込作用に基づき閉鎖機構１５５が再び
環状フランジ１１７から持ち上げられて、開放位置へ移
動させられる。すなわち、フィルタの浄化ガス入口２２
に圧縮空気が供給されなくなると、当該フィルタに対応
する閉鎖装置２１は逆止弁のように働くわけである。
【００４３】浄化ガス供給手段９５はフィルタの浄化の
目的で連続的な浄化ガス脈動を発生させて、たとえば各
フィルタ１９に周期的に交互に浄化ガス脈動を供給す
る。このことは、プロセスガスが原料・流動層容器３お
よび後除塵器容器５３を通って案内される間の時間のほ
ぼ全体にわたって行われる。こうして、全てのフィルタ
１９は個々に周期的に交互に吹き付け浄化される。場合
によってはその代わりにフィルタ１９のグループに同時
に浄化ガス脈動を供給することもできる。しかし全ての
フィルタ１９または全てのフィルタ６３に同時に浄化ガ
スを供給しないほうが望ましい。これにより、所定のフ
ィルタ１９またはフィルタ６３の吹き付け浄化時には、
別のフィルタ１９；６３が相変わらずプロセスガスの濾
過のために使用可能となる。浄化ガス供給手段９５は調
節手段を有していると有利である。この調節手段によ
り、約０．５ｓ〜約５ｓの個々の脈動の長さもしくは時
間および約０．５ｓ〜１０ｓまたは〜１００ｓの、連続
する脈動の間の時間間隔が調節可能となる。
目的で連続的な浄化ガス脈動を発生させて、たとえば各
フィルタ１９に周期的に交互に浄化ガス脈動を供給す
る。このことは、プロセスガスが原料・流動層容器３お
よび後除塵器容器５３を通って案内される間の時間のほ
ぼ全体にわたって行われる。こうして、全てのフィルタ
１９は個々に周期的に交互に吹き付け浄化される。場合
によってはその代わりにフィルタ１９のグループに同時
に浄化ガス脈動を供給することもできる。しかし全ての
フィルタ１９または全てのフィルタ６３に同時に浄化ガ
スを供給しないほうが望ましい。これにより、所定のフ
ィルタ１９またはフィルタ６３の吹き付け浄化時には、
別のフィルタ１９；６３が相変わらずプロセスガスの濾
過のために使用可能となる。浄化ガス供給手段９５は調
節手段を有していると有利である。この調節手段によ
り、約０．５ｓ〜約５ｓの個々の脈動の長さもしくは時
間および約０．５ｓ〜１０ｓまたは〜１００ｓの、連続
する脈動の間の時間間隔が調節可能となる。
【００４４】後除塵器５１のフィルタ６３は同様に交互
に個々にまたはグループ毎に浄化ガスによって浄化する
ことができる。後除塵器５１に流入する空気は極めて少
量のダストしか有しないので、後除塵器のフィルタは原
料・流動層容器内に設けられたフィルタの場合ほど頻繁
に浄化される必要はない。フィルタ６３から吹き付け除
去されたダストは後除塵器の底壁部分５６に溜められ
て、時折、出口７４を通じて後除塵器容器５３から排出
され得る。
に個々にまたはグループ毎に浄化ガスによって浄化する
ことができる。後除塵器５１に流入する空気は極めて少
量のダストしか有しないので、後除塵器のフィルタは原
料・流動層容器内に設けられたフィルタの場合ほど頻繁
に浄化される必要はない。フィルタ６３から吹き付け除
去されたダストは後除塵器の底壁部分５６に溜められ
て、時折、出口７４を通じて後除塵器容器５３から排出
され得る。
【００４５】流動層装置を製造する場合、種々異なる内
径を有する狭隘部１５２を形成する絞り１４９が製造さ
れる。絞り１４９は管１４８内に着脱可能にねじ込まれ
ているので、この絞り１４９は簡単かつ迅速に交換する
ことができる。したがって、浄化ガス入口２２への圧縮
空気の供給時に絞り１４９もしくは狭隘部１５２によっ
て形成される圧力低下は、装置製造時に規定の装置寸法
および規定の運転パラメータに合わせて容易に調整する
ことができ、また必要に応じてあとから変えることもで
きる。
径を有する狭隘部１５２を形成する絞り１４９が製造さ
れる。絞り１４９は管１４８内に着脱可能にねじ込まれ
ているので、この絞り１４９は簡単かつ迅速に交換する
ことができる。したがって、浄化ガス入口２２への圧縮
空気の供給時に絞り１４９もしくは狭隘部１５２によっ
て形成される圧力低下は、装置製造時に規定の装置寸法
および規定の運転パラメータに合わせて容易に調整する
ことができ、また必要に応じてあとから変えることもで
きる。
【００４６】粒子状の原料９９のチャージの処理が終了
すると、吸込装置９２が遮断され、プロセスガスの圧送
が終了され、原料９９が原料・流動層容器３から取り出
される。
すると、吸込装置９２が遮断され、プロセスガスの圧送
が終了され、原料９９が原料・流動層容器３から取り出
される。
【００４７】標準運転が終了して原料・流動層容器３が
空にされた後に、フィルタ１９，６３およびその他の構
成部分を湿式浄化に施すか、もしくは洗浄することがで
きる。浄化液供給手段９６は選択的に種々の湿式浄化装
置２３，２５，６７，６８に浄化液を供給することがで
きる。この浄化液の圧力は、たとえば２００〜６００ｋ
Ｐａであり、浄化液の温度は０℃よりも高く、たとえば
２０〜１００℃または場合によっては２０〜１５０℃で
ある。浄化液供給手段９６が少なくとも１つの湿式浄化
装置２３；２５に一時的に、圧力下にある浄化液を供給
すると、当該湿式浄化装置の噴霧機構は粗ガス室２９内
へ移動させられて、浄化液を噴霧する。この浄化液は部
分的にフィルタ１９の、当該湿式浄化装置の近くに位置
する周壁１２１に衝突する。フィルタへの液体噴霧時に
このフィルタには、浄化ガス供給手段９５によって脈動
的に周期的に交互に、ガス浄化装置２０，６４を介して
浄化ガス、つまり圧縮空気が供給されるので、フィルタ
は間欠的に吹き付け浄化される。フィルタへの液体噴霧
が終了すると、フィルタはやはりまだ規定の時間の間、
浄化ガスによって間欠的または連続的に吹き付け浄化さ
れる。
空にされた後に、フィルタ１９，６３およびその他の構
成部分を湿式浄化に施すか、もしくは洗浄することがで
きる。浄化液供給手段９６は選択的に種々の湿式浄化装
置２３，２５，６７，６８に浄化液を供給することがで
きる。この浄化液の圧力は、たとえば２００〜６００ｋ
Ｐａであり、浄化液の温度は０℃よりも高く、たとえば
２０〜１００℃または場合によっては２０〜１５０℃で
ある。浄化液供給手段９６が少なくとも１つの湿式浄化
装置２３；２５に一時的に、圧力下にある浄化液を供給
すると、当該湿式浄化装置の噴霧機構は粗ガス室２９内
へ移動させられて、浄化液を噴霧する。この浄化液は部
分的にフィルタ１９の、当該湿式浄化装置の近くに位置
する周壁１２１に衝突する。フィルタへの液体噴霧時に
このフィルタには、浄化ガス供給手段９５によって脈動
的に周期的に交互に、ガス浄化装置２０，６４を介して
浄化ガス、つまり圧縮空気が供給されるので、フィルタ
は間欠的に吹き付け浄化される。フィルタへの液体噴霧
が終了すると、フィルタはやはりまだ規定の時間の間、
浄化ガスによって間欠的または連続的に吹き付け浄化さ
れる。
【００４８】後除塵器５１のフィルタ６３は、原料・流
動層容器内のフィルタと同様に湿式浄化に施すことがで
きる。
動層容器内のフィルタと同様に湿式浄化に施すことがで
きる。
【００４９】フィルタ１９，６３および特にこれらのフ
ィルタの金属性の周壁は、安定的で、高い温度および低
い温度に対して耐性を有し、しかも良好な耐久性を有し
ている。したがって、このフィルタは、紙または繊維材
料から成る濾過エレメントを有する公知のフィルタより
も著しく高い寿命を有している。さらに、周壁の安定し
た構成に基づき、フィルタが浄化ガスもしくは浄化液に
よって損傷されることなしに、良好な浄化のために役立
つ比較的大きな圧力を用いる浄化において、浄化ガスと
浄化液とを供給することが可能となる。
ィルタの金属性の周壁は、安定的で、高い温度および低
い温度に対して耐性を有し、しかも良好な耐久性を有し
ている。したがって、このフィルタは、紙または繊維材
料から成る濾過エレメントを有する公知のフィルタより
も著しく高い寿命を有している。さらに、周壁の安定し
た構成に基づき、フィルタが浄化ガスもしくは浄化液に
よって損傷されることなしに、良好な浄化のために役立
つ比較的大きな圧力を用いる浄化において、浄化ガスと
浄化液とを供給することが可能となる。
【００５０】フィルタ１９，６３の周壁１２１は、波形
隆起部または折り目を有しない、濾過エレメント１２５
によって形成された横断面円形の円筒状の外面を有して
いて、しかも流動層装置の標準運転時にダストがフィル
タの周壁の外面に堆積されるように形成されているの
で、フィルタは浄化ガスを用いた乾式浄化の場合にも、
浄化液を用いた浄化の場合にも、全ての場所で良好に浄
化され得る。フィルタの周壁１２１の種々の線材織布の
線材は交差個所において互いに焼結されているので、互
いに交差する線材の間にダストが侵入することはない。
このことは、フィルタの浄化において同じく、良好な浄
化を可能にするために役立つ。
隆起部または折り目を有しない、濾過エレメント１２５
によって形成された横断面円形の円筒状の外面を有して
いて、しかも流動層装置の標準運転時にダストがフィル
タの周壁の外面に堆積されるように形成されているの
で、フィルタは浄化ガスを用いた乾式浄化の場合にも、
浄化液を用いた浄化の場合にも、全ての場所で良好に浄
化され得る。フィルタの周壁１２１の種々の線材織布の
線材は交差個所において互いに焼結されているので、互
いに交差する線材の間にダストが侵入することはない。
このことは、フィルタの浄化において同じく、良好な浄
化を可能にするために役立つ。
【００５１】フィルタの良好な浄化可能性および耐久性
に基づき、このフィルタは浄化または検査または修理の
ために頻繁に分解される必要はない。このことは特に有
毒物質またはその他の健康に有害な物質の処理において
有利になる。なぜならば、フィルタの分解に伴う、環境
周囲およびオペレータの汚染の危険がほぼ完全に回避さ
れるからである。さらに、フィルタの浄化は十分に自動
化することができる。このことは、製造された製品の不
変の純度および品質ならびに装置の経済的な運転を得る
ために役立つ。
に基づき、このフィルタは浄化または検査または修理の
ために頻繁に分解される必要はない。このことは特に有
毒物質またはその他の健康に有害な物質の処理において
有利になる。なぜならば、フィルタの分解に伴う、環境
周囲およびオペレータの汚染の危険がほぼ完全に回避さ
れるからである。さらに、フィルタの浄化は十分に自動
化することができる。このことは、製造された製品の不
変の純度および品質ならびに装置の経済的な運転を得る
ために役立つ。
【００５２】フィルタの周壁および特にフィルタの濾過
エレメントが金属性の材料から成り、かつ周壁が極めて
安定的に形成されていて、しかも特に、極めて細い線材
織布から成る濾過エレメント１２５の内面のほぼ全体が
支持エレメント１２２に接触して、この支持エレメント
１２２に結合されているので、装置の運転時では、場合
によって生じる、粗ガス室中での爆発時に濾過エレメン
トが十分に損傷無く留まり、かつ爆発が純ガス室内へ伝
播しないことを十分に保証することができる。
エレメントが金属性の材料から成り、かつ周壁が極めて
安定的に形成されていて、しかも特に、極めて細い線材
織布から成る濾過エレメント１２５の内面のほぼ全体が
支持エレメント１２２に接触して、この支持エレメント
１２２に結合されているので、装置の運転時では、場合
によって生じる、粗ガス室中での爆発時に濾過エレメン
トが十分に損傷無く留まり、かつ爆発が純ガス室内へ伝
播しないことを十分に保証することができる。
【００５３】フィルタの、上で説明したような着脱可能
な固定は、流動層装置１の組立て時にフィルタを迅速か
つ簡単に組み付けることを可能にする。同様に、フィル
タの良好な浄化可能性および高い寿命にもかかわらず
（希な事例において）、必要に応じてあとから僅かな時
間をかけるだけでフィルタを一時的に原料・流動層容器
３もしくは後除塵器容器５３から取り外して、浄化しか
つ／または検査するか、または交換することもできる。
フィルタの組込みまたは取外しの際には、フィルタを固
定するために唯一つの固定エレメント１３２しか必要と
ならず、またフィルタが組み付けられた状態で固定エレ
メント１３２がフィルタの下端部に位置しているので、
この固定エレメントが粗ガス室の側から、つまり下方か
ら良好に接近可能となることが特に有利である。
な固定は、流動層装置１の組立て時にフィルタを迅速か
つ簡単に組み付けることを可能にする。同様に、フィル
タの良好な浄化可能性および高い寿命にもかかわらず
（希な事例において）、必要に応じてあとから僅かな時
間をかけるだけでフィルタを一時的に原料・流動層容器
３もしくは後除塵器容器５３から取り外して、浄化しか
つ／または検査するか、または交換することもできる。
フィルタの組込みまたは取外しの際には、フィルタを固
定するために唯一つの固定エレメント１３２しか必要と
ならず、またフィルタが組み付けられた状態で固定エレ
メント１３２がフィルタの下端部に位置しているので、
この固定エレメントが粗ガス室の側から、つまり下方か
ら良好に接近可能となることが特に有利である。
【００５４】図６には、内側の容器部分もしくは内側の
壁部分２５１が示されている。この内側の壁部分２５１
は原料・流動層容器または後除塵器容器の隔壁を形成し
ていて、プレート２５３を有している。このプレート２
５３は下面２５３ａと、一貫して延びる円筒状の少なく
とも１つの孔２５３ｂとを有している。内側の壁部分２
５１は必要に応じて各孔２５３ｂにおいて、プレート２
５３の上面に載置されかつたとえば溶接によりプレート
２５３に固くかつ密に結合された補強リング２５４を備
えている。この補強リング２５４に設けられた孔は孔２
５３ｂと整合する。
壁部分２５１が示されている。この内側の壁部分２５１
は原料・流動層容器または後除塵器容器の隔壁を形成し
ていて、プレート２５３を有している。このプレート２
５３は下面２５３ａと、一貫して延びる円筒状の少なく
とも１つの孔２５３ｂとを有している。内側の壁部分２
５１は必要に応じて各孔２５３ｂにおいて、プレート２
５３の上面に載置されかつたとえば溶接によりプレート
２５３に固くかつ密に結合された補強リング２５４を備
えている。この補強リング２５４に設けられた孔は孔２
５３ｂと整合する。
【００５５】フィルタ２５５は各孔２５３ｂにおいて、
内側の壁部分２５１に固定されている。フィルタ２５５
は鉛直方向のフィルタ軸線２５６を規定していて、この
フィルタ軸線２５６に対してほぼ回転対称的に形成され
ている。フィルタ２５５は横断面円形の円筒状の、形状
固定的なガス透過性の周壁２５７を有している。この周
壁２５７は図３に示した周壁１２１と同様に形成されて
いて、支持エレメントと濾過エレメントとを有してい
る。このフィルタ２５５は、周壁２５７の下端部にたと
えば溶接または場合によってはろう接により結合され
た、下方に向かって円錐状に先細りになった端壁２５９
を有している。この端壁２５９は第１実施例によるフィ
ルタ１９の端壁１３１とは異なりガス透過性に形成され
ている。この端壁２５９は周壁２５７と同様に形成され
ていて、支持エレメントと、この支持エレメントの外面
に接触した濾過エレメントととから成っている。この場
合、支持エレメントと濾過エレメントとは水平方向の全
ての横断面平面において円形に形成されている。端壁２
５９の支持エレメントは、少なくとも１つの線材織布、
有利には第１実施例による支持エレメント１２２と同様
に内側の比較的粗い線材織布と、外側の比較的微細な線
材織布とから成っている。端壁２５９の濾過エレメント
は、端壁２５９の支持エレメントの内側の線材織布より
も一層微細な線材織布から成っている。したがって、濾
過エレメントは支持エレメントよりも狭いガス透過孔を
有している。種々の線材織布の線材は交差個所におい
て、第１実施例による周壁１２１の場合と同様に互いに
焼結されている。円錐状の端壁２５９の狭い下端部に
は、この端壁２５９にたとえば溶接または場合によって
はろう接により固くかつ密に結合されたガス密な閉鎖エ
レメント２６０が設けられている。フィルタ２５５はさ
らにリング２６３を有しており、このリング２６３は内
側の壁部分２５１の上側から、内側の壁部分２５１に補
強リング２５４の孔とプレート２５３の孔２５３ｂとに
よって形成された孔に突入し、かつ場合によってはこの
孔を貫く区分を備えている。この区分には、周壁２５７
の上端部がその全周にわたって、たとえば溶接または場
合によってはろう接により固定されている。リング２６
３は補強リング２５４の上面に載置されたつばを有して
いて、このつばの全周にわたって分配された固定エレメ
ントによって、つまり補強リングに設けられたねじ山付
孔にねじ込まれたねじまたはねじ山付ピン２６４によっ
て、下側の壁部分２５１に着脱可能に固定されて、さら
にシール部材２６５によって下側の壁部分２５１に対し
てシールされている。
内側の壁部分２５１に固定されている。フィルタ２５５
は鉛直方向のフィルタ軸線２５６を規定していて、この
フィルタ軸線２５６に対してほぼ回転対称的に形成され
ている。フィルタ２５５は横断面円形の円筒状の、形状
固定的なガス透過性の周壁２５７を有している。この周
壁２５７は図３に示した周壁１２１と同様に形成されて
いて、支持エレメントと濾過エレメントとを有してい
る。このフィルタ２５５は、周壁２５７の下端部にたと
えば溶接または場合によってはろう接により結合され
た、下方に向かって円錐状に先細りになった端壁２５９
を有している。この端壁２５９は第１実施例によるフィ
ルタ１９の端壁１３１とは異なりガス透過性に形成され
ている。この端壁２５９は周壁２５７と同様に形成され
ていて、支持エレメントと、この支持エレメントの外面
に接触した濾過エレメントととから成っている。この場
合、支持エレメントと濾過エレメントとは水平方向の全
ての横断面平面において円形に形成されている。端壁２
５９の支持エレメントは、少なくとも１つの線材織布、
有利には第１実施例による支持エレメント１２２と同様
に内側の比較的粗い線材織布と、外側の比較的微細な線
材織布とから成っている。端壁２５９の濾過エレメント
は、端壁２５９の支持エレメントの内側の線材織布より
も一層微細な線材織布から成っている。したがって、濾
過エレメントは支持エレメントよりも狭いガス透過孔を
有している。種々の線材織布の線材は交差個所におい
て、第１実施例による周壁１２１の場合と同様に互いに
焼結されている。円錐状の端壁２５９の狭い下端部に
は、この端壁２５９にたとえば溶接または場合によって
はろう接により固くかつ密に結合されたガス密な閉鎖エ
レメント２６０が設けられている。フィルタ２５５はさ
らにリング２６３を有しており、このリング２６３は内
側の壁部分２５１の上側から、内側の壁部分２５１に補
強リング２５４の孔とプレート２５３の孔２５３ｂとに
よって形成された孔に突入し、かつ場合によってはこの
孔を貫く区分を備えている。この区分には、周壁２５７
の上端部がその全周にわたって、たとえば溶接または場
合によってはろう接により固定されている。リング２６
３は補強リング２５４の上面に載置されたつばを有して
いて、このつばの全周にわたって分配された固定エレメ
ントによって、つまり補強リングに設けられたねじ山付
孔にねじ込まれたねじまたはねじ山付ピン２６４によっ
て、下側の壁部分２５１に着脱可能に固定されて、さら
にシール部材２６５によって下側の壁部分２５１に対し
てシールされている。
【００５６】さらに図６に示したように、ガス浄化装置
２６６が設けられている。このガス浄化装置２６６は、
リング２６３に、ひいては内側の壁部分２５１に着脱可
能に固定された環状フランジ２６７を有している。この
ガス浄化装置２６６はその他の点では第１実施例による
ガス浄化装置２０と同様に形成されている。
２６６が設けられている。このガス浄化装置２６６は、
リング２６３に、ひいては内側の壁部分２５１に着脱可
能に固定された環状フランジ２６７を有している。この
ガス浄化装置２６６はその他の点では第１実施例による
ガス浄化装置２０と同様に形成されている。
【００５７】内側の壁部分２５１はプレート２５３の下
面２５３ａで粗ガス室２６９に隣接していて、この粗ガ
ス室２６９を、内側の壁部分２５１の上方に位置する純
ガス室２７０から隔離している。フィルタ２５５はフィ
ルタ内室２７１を取り囲んでいる。このフィルタ内室２
７１は、少なくとも部分的にリング２６３と環状フラン
ジ２６７とによって仕切られた第１の通過部２７２によ
って純ガス室２７０に接続されている。ガス浄化装置２
６６は、第１の通過部２７２に開口した第２の通過部を
有する浄化ガス入口と、閉鎖装置とを有している。この
閉鎖装置によって第１の通過部２７２を開閉することが
できる。
面２５３ａで粗ガス室２６９に隣接していて、この粗ガ
ス室２６９を、内側の壁部分２５１の上方に位置する純
ガス室２７０から隔離している。フィルタ２５５はフィ
ルタ内室２７１を取り囲んでいる。このフィルタ内室２
７１は、少なくとも部分的にリング２６３と環状フラン
ジ２６７とによって仕切られた第１の通過部２７２によ
って純ガス室２７０に接続されている。ガス浄化装置２
６６は、第１の通過部２７２に開口した第２の通過部を
有する浄化ガス入口と、閉鎖装置とを有している。この
閉鎖装置によって第１の通過部２７２を開閉することが
できる。
【００５８】第１実施例で使用されたフィルタ１９は内
側の壁部分１７の下側からこの壁部分に取り付けられる
のに対して、第２実施例によるフィルタ２５５は組付け
時に内側の壁部分の上側から、この壁部分の孔に導入さ
れる。フィルタ２５５が使用されると、周壁２５７を通
じても、端壁２５９を通じても、プロセスガスが粗ガス
室１６９からフィルタ内室２７１へ流入する。その他の
点において、フィルタ２５５は第１実施例で使用された
フィルタ１９，６３と同様の特性を有していて、第１実
施例で使用されたフィルタ１９，６３と同様に使用され
る。
側の壁部分１７の下側からこの壁部分に取り付けられる
のに対して、第２実施例によるフィルタ２５５は組付け
時に内側の壁部分の上側から、この壁部分の孔に導入さ
れる。フィルタ２５５が使用されると、周壁２５７を通
じても、端壁２５９を通じても、プロセスガスが粗ガス
室１６９からフィルタ内室２７１へ流入する。その他の
点において、フィルタ２５５は第１実施例で使用された
フィルタ１９，６３と同様の特性を有していて、第１実
施例で使用されたフィルタ１９，６３と同様に使用され
る。
【００５９】フィルタの数およびフィルタを浄化するた
めに働く湿式浄化装置の数は、図２に示した配置の場合
よりも小さいか、または大きくてもよい。しかし、原料
・流動層容器は少なくとも２つのフィルタを有している
と有利である。それに対して、後除塵器容器は場合によ
っては１つのフィルタしか有しなくてもよい。
めに働く湿式浄化装置の数は、図２に示した配置の場合
よりも小さいか、または大きくてもよい。しかし、原料
・流動層容器は少なくとも２つのフィルタを有している
と有利である。それに対して、後除塵器容器は場合によ
っては１つのフィルタしか有しなくてもよい。
【００６０】流動層装置およびその運転形式はさらに別
の点で変えることができる。たとえば、図３および図６
に示したフィルタの特徴と、フィルタを固定するために
働く固定手段の特徴とを組み合わせることができる。さ
らに、プレート２５３が十分な厚さを有している場合に
は、内側の壁部分２５１において補強リング２５４を場
合によっては不要にすることもできる。
の点で変えることができる。たとえば、図３および図６
に示したフィルタの特徴と、フィルタを固定するために
働く固定手段の特徴とを組み合わせることができる。さ
らに、プレート２５３が十分な厚さを有している場合に
は、内側の壁部分２５１において補強リング２５４を場
合によっては不要にすることもできる。
【００６１】さらに、浄化ガス入口はフィルタ内室にま
で突入していてもよい。さらに、移動可能な閉鎖機構１
５５に、環状フランジ１１７；２６７に向けられた力ま
たは環状フランジ１１７；２６７から離れる方向に向け
られた力を加えるために、各閉鎖装置が場合によっては
さらに少なくとも１つのばねを有していてもよい。
で突入していてもよい。さらに、移動可能な閉鎖機構１
５５に、環状フランジ１１７；２６７に向けられた力ま
たは環状フランジ１１７；２６７から離れる方向に向け
られた力を加えるために、各閉鎖装置が場合によっては
さらに少なくとも１つのばねを有していてもよい。
【００６２】さらに、フィルタと、各フィルタに対応す
るガス浄化装置と、湿式浄化装置とを、容器内に設けら
れた内側の壁部分に固定する代わりに、容器外壁に所属
の壁部分、たとえば容器のカバー壁部分に固定すること
もできる。その場合、フィルタに対応する各ガス浄化装
置を、カバーの上面に固定されたキャップによってカバ
ーすることができる。このキャップは（当該の）フィル
タに対応する純ガス室をも仕切る。
るガス浄化装置と、湿式浄化装置とを、容器内に設けら
れた内側の壁部分に固定する代わりに、容器外壁に所属
の壁部分、たとえば容器のカバー壁部分に固定すること
もできる。その場合、フィルタに対応する各ガス浄化装
置を、カバーの上面に固定されたキャップによってカバ
ーすることができる。このキャップは（当該の）フィル
タに対応する純ガス室をも仕切る。
【００６３】さらに、プロセスガスおよび／または浄化
ガスとして空気の代わりに別のガス、たとえば窒素を使
用することもできる。
ガスとして空気の代わりに別のガス、たとえば窒素を使
用することもできる。
【図１】粒子状の原料を処理するための流動層装置の原
料・流動層容器と後除塵器容器との鉛直方向断面図であ
る。
料・流動層容器と後除塵器容器との鉛直方向断面図であ
る。
【図２】図１のＩＩ―ＩＩ線に沿った水平方向の断面図
である。
である。
【図３】図１および図２に示した原料・流動層容器内に
配置されたフィルタと、対応する閉鎖装置との軸方向断
面図である。
配置されたフィルタと、対応する閉鎖装置との軸方向断
面図である。
【図４】図３のＩＶ―ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】図３および図４に示したフィルタの周壁の一部
を拡大して示す軸方向断面図である。
を拡大して示す軸方向断面図である。
【図６】フィルタの第２実施例を示す軸方向断面図であ
る。
る。
１ 流動層装置、 ３ 原料・流動層容器、 ４ 容器
軸線、 ５ 壁、 ６底壁部分、 ７，８ 円錐状の壁
部分、 ９ 円筒状の壁部分、 １０ カバー壁部分、
１３ 篩底部、 １４ 支承・旋回手段、 １７ 内
側の壁部分、１９ フィルタ、 ２０ ガス浄化装置、
２１ 閉鎖装置、 ２２ 浄化ガス入口、 ２３，２
５ 湿式浄化装置、 ２７ 内室、 ２８ ガス分配
室、２９ 流動層・粗ガス室、 ３０ 純ガス室、 ３
３ ガス入口、 ３４ 原料出口、 ４３ 噴霧装置、
４４ 噴霧機構、 ４８ 液体出口、 ４９ ガス出
口、 ５１ 後除塵器、 ５３ 後除塵器容器、 ５４
容器軸線、 ５５壁、 ５６ 底壁部分、 ５７ 円
筒状の壁部分、 ５８ カバー壁部分、 ６１ 内側の
壁部分、 ６３ フィルタ、 ６４ ガス浄化装置、
６５ 閉鎖装置、 ６６ 浄化ガス入口、 ６７，６８
湿式浄化装置、 ６９ 内室、 ７０ 粗ガス室、
７１ 純ガス室、 ７３ ガス入口、 ７４ 出口、
７５ガス出口、 ７８ 液体出口、 ８１ ガス案内手
段、 ８３ 空気入口、 ８４ ガス管路、 ８５ 遮
断装置および／または制御装置、 ８６ ダストフィル
タ、 ８７ ガス調製装置、 ８９，９１ ガス管路、
９２ 吸込装置、９３ 空気出口、 ９５ 浄化ガス
供給手段、 ９６ 浄化液供給手段、 ９９原料、 １
１１ プレート、 １１１ｂ 孔、 １１３ 支持体、
１１３ａ孔、 １１５ ピン、 １１７ 環状フラン
ジ、 １１８ ねじ、 １１９ホルダ、 １１９ａ 上
側部分、 １１９ｂ 軸部、 １１９ｃ 雄ねじ山、１
２０ フィルタ軸線、 １２１ 周壁、 １２２ 支持
エレメント、 １２３，１２４ 線材織布、 １２５
濾過エレメント、 １２７ リング、 １２７ａ 切込
み、 １２９ 板、 １２９ａ 孔、 １２９ｂ 円錐
状面、 １３０スリーブ、 １３１ 端壁、 １３２
固定エレメント、 １３２ａ つば、１３２ｂ 盲孔、
１３２ｃ 雌ねじ山、 １３３，１３４ シール部
材、１３５ コンタクトピン、 １３６ ばね、 １３
７ フィルタ内室、 １３８第１の通過部、 １４１
スリーブ、 １４２ 周壁、 １４３ 閉鎖エレメン
ト、 １４８ 管、 １４８ａ 孔、 １４９ 絞り、
１５１ 第２の通過部、 １５２ 狭隘部、 １５５
閉鎖機構、 １５６ ロッド、 １５７ 板、 １５
８ シール部材、 １５９ ピストン、 １６１ 内
室、 １６２ 内室範囲、 ２５１ 内側の壁部分、
２５３ プレート、 ２５３ａ 下面、２５３ｂ 孔、
２５４ 補強リング、 ２５５ フィルタ、 ２５６
フィルタ軸線、 ２５７ 周壁、 ２５９ 端壁、
２６０ 閉鎖エレメント、 ２６３ リング、 ２６４
ねじまたはねじ山付ピン、 ２６５ シール部材、
２６６ ガス浄化装置、 ２６７ 環状フランジ、 ２
６９ 粗ガス室、 ２７０純ガス室、 ２７１ フィル
タ内室、 ２７２ 第１の通過部
軸線、 ５ 壁、 ６底壁部分、 ７，８ 円錐状の壁
部分、 ９ 円筒状の壁部分、 １０ カバー壁部分、
１３ 篩底部、 １４ 支承・旋回手段、 １７ 内
側の壁部分、１９ フィルタ、 ２０ ガス浄化装置、
２１ 閉鎖装置、 ２２ 浄化ガス入口、 ２３，２
５ 湿式浄化装置、 ２７ 内室、 ２８ ガス分配
室、２９ 流動層・粗ガス室、 ３０ 純ガス室、 ３
３ ガス入口、 ３４ 原料出口、 ４３ 噴霧装置、
４４ 噴霧機構、 ４８ 液体出口、 ４９ ガス出
口、 ５１ 後除塵器、 ５３ 後除塵器容器、 ５４
容器軸線、 ５５壁、 ５６ 底壁部分、 ５７ 円
筒状の壁部分、 ５８ カバー壁部分、 ６１ 内側の
壁部分、 ６３ フィルタ、 ６４ ガス浄化装置、
６５ 閉鎖装置、 ６６ 浄化ガス入口、 ６７，６８
湿式浄化装置、 ６９ 内室、 ７０ 粗ガス室、
７１ 純ガス室、 ７３ ガス入口、 ７４ 出口、
７５ガス出口、 ７８ 液体出口、 ８１ ガス案内手
段、 ８３ 空気入口、 ８４ ガス管路、 ８５ 遮
断装置および／または制御装置、 ８６ ダストフィル
タ、 ８７ ガス調製装置、 ８９，９１ ガス管路、
９２ 吸込装置、９３ 空気出口、 ９５ 浄化ガス
供給手段、 ９６ 浄化液供給手段、 ９９原料、 １
１１ プレート、 １１１ｂ 孔、 １１３ 支持体、
１１３ａ孔、 １１５ ピン、 １１７ 環状フラン
ジ、 １１８ ねじ、 １１９ホルダ、 １１９ａ 上
側部分、 １１９ｂ 軸部、 １１９ｃ 雄ねじ山、１
２０ フィルタ軸線、 １２１ 周壁、 １２２ 支持
エレメント、 １２３，１２４ 線材織布、 １２５
濾過エレメント、 １２７ リング、 １２７ａ 切込
み、 １２９ 板、 １２９ａ 孔、 １２９ｂ 円錐
状面、 １３０スリーブ、 １３１ 端壁、 １３２
固定エレメント、 １３２ａ つば、１３２ｂ 盲孔、
１３２ｃ 雌ねじ山、 １３３，１３４ シール部
材、１３５ コンタクトピン、 １３６ ばね、 １３
７ フィルタ内室、 １３８第１の通過部、 １４１
スリーブ、 １４２ 周壁、 １４３ 閉鎖エレメン
ト、 １４８ 管、 １４８ａ 孔、 １４９ 絞り、
１５１ 第２の通過部、 １５２ 狭隘部、 １５５
閉鎖機構、 １５６ ロッド、 １５７ 板、 １５
８ シール部材、 １５９ ピストン、 １６１ 内
室、 １６２ 内室範囲、 ２５１ 内側の壁部分、
２５３ プレート、 ２５３ａ 下面、２５３ｂ 孔、
２５４ 補強リング、 ２５５ フィルタ、 ２５６
フィルタ軸線、 ２５７ 周壁、 ２５９ 端壁、
２６０ 閉鎖エレメント、 ２６３ リング、 ２６４
ねじまたはねじ山付ピン、 ２６５ シール部材、
２６６ ガス浄化装置、 ２６７ 環状フランジ、 ２
６９ 粗ガス室、 ２７０純ガス室、 ２７１ フィル
タ内室、 ２７２ 第１の通過部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 47/06 Ｂ０１Ｄ 47/06 Ａ (72)発明者 マッティアス トンダー ドイツ連邦共和国 ハウゼン イム ヴィ ーゼンタール バーンホーフシュトラーセ 10
Claims (19)
- 【請求項１】 ガスを除塵するための装置であって、粗
ガス室（２９，７０，２６９）を仕切る容器（３，５
３）と、粗ガス室（２９，７０，２６９）に突入した少
なくとも１つのフィルタ（１９，６３，２５５）と、粗
ガス室（２９，７０，２６９）からフィルタ（１９，６
３，２５５）を通じてガスを案内するためのガス案内手
段（８１）とが設けられており、各フィルタ（１９，６
３，２５５）が、ガス透過孔を有する金属性の支持エレ
メント（１２２）と、該支持エレメント（１２２）を取
り囲む濾過エレメント（１２５）とを備えた周壁（１２
１，２５７）を有しており、該濾過エレメント（１２
５）が、前記支持エレメント（１２２）によって支持さ
れていて、内面と、粗ガス室（２９，７０，２６９）に
隣接した外面と、ガス透過孔とを有しており、該ガス透
過孔が、前記支持エレメント（１２２）のガス透過孔よ
りも小さな内径を有している形式のものにおいて、前記
濾過エレメント（１２５）が金属性であり、該濾過エレ
メント（１２５）の内面のほぼ全体が、前記支持エレメ
ント（１２２）に接触して、該支持エレメント（１２
２）によって形状安定的に支持されていることを特徴と
する、ガスを除塵するための装置。 - 【請求項２】 各フィルタ（１９，６３，２５５）が、
フィルタ軸線（１２０，２５６）を規定していて、該フ
ィルタ軸線（１２０，２５６）に対して前記支持エレメ
ント（１２２）と前記濾過エレメント（１２５）とが、
ほぼ回転対称的に形成されており、前記濾過エレメント
（１２５）が折り目（ひだ）および／または波状隆起部
なしに形成されている、請求項１記載の装置。 - 【請求項３】 前記支持エレメント（１２２）と前記濾
過エレメント（１２５）とが、ほぼ円筒状に形成されて
いる、請求項１または２記載の装置。 - 【請求項４】 前記支持エレメント（１２２）が、少な
くとも１つの線材織布（１２３，１２４）を有してお
り、前記濾過エレメント（１２５）が１つの線材織布を
有していて、前記支持エレメント（１２２）の線材織布
（１２３，１２４）との接触個所で該線材織布（１２
３，１２４）と焼結されており、前記周壁（１２１，２
５７）の全ての線材織布（１２３，１２４）が、ステン
レス鋼から成っている、請求項１から３までのいずれか
１項記載の装置。 - 【請求項５】 前記支持エレメント（１２２）が、内側
の線材織布（１２３）と、該内側の線材織布（１２３）
との接触個所で該内側の線材織布（１２３）と焼結され
た外側の線材織布（１２４）とを有しており、該外側の
線材織布（１２４）が、前記濾過エレメント（１２５）
と焼結されており、しかも外側の線材織布（１２４）
が、内側の線材織布（１２３）よりも小さなメッシュ径
（目開き）を有していて、内側の線材織布（１２３）よ
りも細い線材から形成されている、請求項４記載の装
置。 - 【請求項６】 各フィルタ（１９，６３，２５５）が、
前記容器（３，５３）の壁部分（１７，６１，２５１）
に固定されていて、フィルタ内室（１３７，２７１）を
仕切っており、該フィルタ内室（１３７，２７１）が、
通過部（１３８，２７２）を介して、前記壁部分（１
７，６１，２５１）の、粗ガス室（２９，７０，２６
９）とは反対の側に位置する純ガス室（３０，７１，２
７０）に接続されており、さらに、浄化ガス入口（２
２，６６）と、該浄化ガス入口（２２，６６）への浄化
ガスの供給時に前記通過部（１３８，２７２）を閉鎖し
て、浄化ガスをフィルタ内室（１３７，２７１）に導入
するための閉鎖装置（２１，６５）とが設けられてい
る、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項７】 前記浄化ガス入口（２２，６６）を横断
面で見て取り囲む周壁（１４２）と、該周壁（１４２）
内で移動可能な、閉鎖機構（１５５）に結合されたピス
トン（１５９）とが設けられており、前記周壁（１４
２）が、前記ピストン（１５９）の、フィルタ（１９，
６３，２５５）とは反対の側で、閉鎖エレメント（１４
３）によって密に閉鎖されており、前記浄化ガス入口
（２２，６６）が、前記ピストン（１５９）と前記閉鎖
機構（１５５）とを貫通していて、フィルタ内室（１３
７，２７１）に開口した第２の通過部（１５１）を取り
囲んでおり、さらに前記浄化ガス入口（２２，６６）
が、少なくとも１つの孔（１４８ａ）を有しており、該
孔（１４８ａ）が、前記第２の通過部（１５１）を、前
記周壁（１４２）によって取り囲まれた、前記閉鎖エレ
メント（１４３）と前記ピストン（１５９）との間に設
けられた内室範囲（１６２）に接続している、請求項６
記載の装置。 - 【請求項８】 前記第２の通過部（１５１）が、前記孔
（１４８ａ）と、前記ピストン（１５９）の、前記孔
（１４８ａ）とは反対の側に位置する、前記第２の通過
部（１５１）の端部との間に、狭隘部（１５２）を有し
ており、前記浄化ガス入口（２２，６６）が、雌ねじ山
を備えた管（１４８）を有しており、該管（１４８）の
雌ねじ山に、前記狭隘部（１５２）を形成する絞り（１
４９）が、着脱可能にねじ込まれている、請求項７記載
の装置。 - 【請求項９】 前記濾過エレメント（１２５）の外面に
浄化液を噴霧するために、少なくとも１つの湿式浄化装
置（２３，２５，６７，６８）が設けられており、前記
壁部分（１７，６１，２５１）が、その上側に位置す
る、前記純ガス室（３０，７１，２７０）に隣接した面
を有しており、前記閉鎖装置（２１，６５）と前記湿式
浄化装置（２３，２５，６７，６８）とが、前記純ガス
室（３０，７１，２７０）に隣接した、当該閉鎖装置
（２１，６５）および湿式浄化装置（２３，２５，６
７，６８）の一部の上側に位置する少なくとも１つの面
を有しており、前記容器（３，５３）が、遮断可能な液
体出口（４８，７８）を備えており、前記純ガス室（３
０，７１，２７０）に隣接した前記面が傾けられてい
て、場合によっては前記面に衝突する浄化液が、前記液
体出口（４８，７８）に向かって流れて、該液体出口
（４８，７８）を通じて導出されるようになっている、
請求項６から８までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１０】 前記フィルタ（１９，６３，２５５）
が、前記容器（３，５３）の壁部分（１７，６１，２５
１）に着脱可能に固定されている、請求項１から９まで
のいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１１】 前記フィルタ（１９，６３）が、前記
壁部分（１７，６１）の、前記純ガス室に面した面に取
外し可能に接触していて、前記粗ガス室（２９，７０）
の側から着脱可能な固定エレメント（１３２）によって
前記壁部分（１７，６１）に固定されており、しかも該
固定エレメント（１３２）が、前記フィルタ（１９，６
３）の、前記壁部分（１７，６１）とは反対の側の端部
で接近可能である、請求項１０記載の装置。 - 【請求項１２】 前記フィルタ（１９，６３，２５５）
の一方の端部がリング（１２７，２６３）を有してお
り、前記支持エレメント（１２２）と前記濾過エレメン
ト（１２５）との一方の端部が、その全周にわたって前
記リング（１２７，２６３）と溶接されているか、また
はろう接されており、前記リング（１２７，２６３）が
前記壁部分（１７，６１，２５１）に取外し可能に接触
している、請求項１０または１１記載の装置。 - 【請求項１３】 前記支持エレメント（１２２）と前記
濾過エレメント（１２５）との、前記壁部分（１７，６
１）とは反対の側の端部が、その全周にわたって板（１
２９）と溶接されているか、またはろう接されており、
該板（１２９）が、前記壁部分（１７，６１）に面し
た、外方に向かって前記壁部分（１７，６１）から離れ
る方向で傾けられた面（１２９ｂ）を有している、請求
項１から１２までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１４】 前記板（１２９）が中央部に孔（１２
９ａ）を有しており、前記フィルタ（１９，６３）が、
前記板（１２９）の前記孔（１２９ａ）を貫通する固定
手段によって前記壁部分（１７，６１）に着脱可能に固
定されている、請求項１３記載の装置。 - 【請求項１５】 前記板（１２９）が、該板とフィルタ
の前記周壁（１２１）とから離れる方向で突出しかつ前
記板（１２９）から離れる方向で先細りになった端壁
（１３１）と溶接されているか、またはろう接されてお
り、前記板（１２９）と前記端壁（１３１）とが、前記
板（１２９）に設けられた孔（１２９ａ）に対して同軸
的な、一貫して延びる軸方向の孔を有するスリーブ（１
３０）によって互いに固く結合されている、請求項１４
記載の装置。 - 【請求項１６】 前記支持エレメントと前記濾過エレメ
ントとの、前記壁部分（２５１）とは反対の側の端部
が、前記壁部分（２５１）から離れる方向で先細りにな
ったガス透過性の端壁（２５９）と溶接されているか、
またはろう接されており、該端壁（２５９）が、内側
に、ガス透過孔を備えた支持エレメントを有していて、
外側にガス透過孔を備えた濾過エレメントを有してお
り、該濾過エレメントのガス透過孔の内径（目開き）
が、前記端壁（２５９）の前記支持エレメントのガス透
過孔の内径（目開き）よりも小さく形成されている、請
求項１０から１２までのいずれか１項記載の装置。 - 【請求項１７】 請求項１から１６までのいずれか１項
記載の、ガスを除塵するための装置に設けられた少なく
とも１つのフィルタ（１９，６３，２５５）を浄化する
ための方法において、フィルタ（１９，６３，２５５）
内に設けられたフィルタ内室（１３７，２７１）に浄化
ガスを導入し、かつ／またはフィルタ（１９，６３，２
５５）の濾過エレメント（１２５）の外面に浄化液を噴
霧することを特徴とする、ガスを除塵するための装置の
フィルタを浄化するための方法。 - 【請求項１８】 前記濾過エレメント（１２５）に液体
を噴霧する間、液体噴霧されるフィルタ（１９，６３，
２５５）のフィルタ内室（１３７，２７１）に間欠的に
浄化ガスを導入する、請求項１７記載の方法。 - 【請求項１９】 前記濾過エレメント（１２５）に液体
を噴霧した後に、規定の時間の間、フィルタ内室（１３
７，２７１）に間欠的または連続的に浄化ガスを導入す
る、請求項１７または１８記載の方法。
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