JPH09190224A - Ｘｙステージ制御装置 - Google Patents
Ｘｙステージ制御装置Info
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- JPH09190224A JPH09190224A JP1698696A JP1698696A JPH09190224A JP H09190224 A JPH09190224 A JP H09190224A JP 1698696 A JP1698696 A JP 1698696A JP 1698696 A JP1698696 A JP 1698696A JP H09190224 A JPH09190224 A JP H09190224A
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- Japan
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- stage
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＸＹステージの制御装置において、軌跡が直
交して隣り合う動作区間でＸＹステージをより簡単に高
速動作できるようにする。 【解決手段】 順次与えられるＸ軸およびＹ軸の目標位
置に基づいてＸＹステージ１０のＸ軸およびＹ軸の位置
指令値を生成する位置指令手段４と、この位置指令値に
追従するようにＸＹステージのＸおよびＹステージ８，
９を駆動制御するサーボ装置６，７とを備え、一方のス
テージの動作区間と他方のステージの動作区間とが隣り
合うＸＹステージ駆動を行うＸＹステージ制御装置にお
いて、位置指令手段は、一方のステージの動作区間にお
ける減速開始時または減速期間中に他方のステージの動
作区間における加速を開始させるべくその位置指令値を
サーボ装置に出力するものである。
交して隣り合う動作区間でＸＹステージをより簡単に高
速動作できるようにする。 【解決手段】 順次与えられるＸ軸およびＹ軸の目標位
置に基づいてＸＹステージ１０のＸ軸およびＹ軸の位置
指令値を生成する位置指令手段４と、この位置指令値に
追従するようにＸＹステージのＸおよびＹステージ８，
９を駆動制御するサーボ装置６，７とを備え、一方のス
テージの動作区間と他方のステージの動作区間とが隣り
合うＸＹステージ駆動を行うＸＹステージ制御装置にお
いて、位置指令手段は、一方のステージの動作区間にお
ける減速開始時または減速期間中に他方のステージの動
作区間における加速を開始させるべくその位置指令値を
サーボ装置に出力するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スキャン型半導体
露光装置等に用いられるＸＹステージの制御装置に関
し、特に隣り合う直交した軌跡を補間して連続動作を可
能にしたものに関する。
露光装置等に用いられるＸＹステージの制御装置に関
し、特に隣り合う直交した軌跡を補間して連続動作を可
能にしたものに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＸＹステージの制御において、Ｘ
方向の動作からＹ方向の動作に移る際、あるいはＹ方向
の動作からＸ方向の動作に移る際、いったんＸＹステー
ジが停止する動作を行っている。そのため、移動方向を
変更する度に減速、停止および加速を行う必要があるの
で、高速動作を行うことができない。これは、特に半導
体製造装置の用途においては生産性の向上を妨げる要因
の１つとして非常に大きな問題である。
方向の動作からＹ方向の動作に移る際、あるいはＹ方向
の動作からＸ方向の動作に移る際、いったんＸＹステー
ジが停止する動作を行っている。そのため、移動方向を
変更する度に減速、停止および加速を行う必要があるの
で、高速動作を行うことができない。これは、特に半導
体製造装置の用途においては生産性の向上を妨げる要因
の１つとして非常に大きな問題である。
【０００３】これに対して、特開昭６２−８４３０４号
公報では、産業用ロボットの任意の隣り合う軌跡に関し
て、隣接する動作区間の減速時と加速時の目標速度パタ
ーンを合成することによって高速でなめらかな動作を実
現することを提案している。また、特開昭６３−１０２
０７号公報では、厳密な位置決めを必要としない通過点
に関して、ある補正比率を定めて線形補間によって新た
な教示点を求めることによって滑らかな目標位置を求め
ることを提案している。
公報では、産業用ロボットの任意の隣り合う軌跡に関し
て、隣接する動作区間の減速時と加速時の目標速度パタ
ーンを合成することによって高速でなめらかな動作を実
現することを提案している。また、特開昭６３−１０２
０７号公報では、厳密な位置決めを必要としない通過点
に関して、ある補正比率を定めて線形補間によって新た
な教示点を求めることによって滑らかな目標位置を求め
ることを提案している。
【０００４】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、特
開昭６２−８４３０４号公報の構成では、利用対象が産
業用ロボットであり、隣接する動作区間の動作軸が同じ
であるような任意の軌跡に対応するために、減速時と加
速時の目標速度パターンを合成する必要があるうえに、
目標速度パターンを積分して目標位置を求める必要があ
り、全体としてアルゴリズムが複雑になってしまうとい
う問題がある。
開昭６２−８４３０４号公報の構成では、利用対象が産
業用ロボットであり、隣接する動作区間の動作軸が同じ
であるような任意の軌跡に対応するために、減速時と加
速時の目標速度パターンを合成する必要があるうえに、
目標速度パターンを積分して目標位置を求める必要があ
り、全体としてアルゴリズムが複雑になってしまうとい
う問題がある。
【０００５】また、特開昭６３−１０２０７号公報の構
成では、新たな教示点を求める計算が必要であり、アル
ゴリズムが複雑になるという問題がある。
成では、新たな教示点を求める計算が必要であり、アル
ゴリズムが複雑になるという問題がある。
【０００６】本発明の目的は、この従来技術の問題点に
鑑み、ＸＹステージの制御装置において、軌跡が直交し
て隣り合う動作区間でＸＹステージをより簡単に高速動
作できるようにすることにある。
鑑み、ＸＹステージの制御装置において、軌跡が直交し
て隣り合う動作区間でＸＹステージをより簡単に高速動
作できるようにすることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、順次与えられるＸ軸およびＹ軸の目標
位置に基づいてＸＹステージのＸ軸およびＹ軸の位置指
令値を生成する位置指令手段と、この位置指令値に追従
するようにＸＹステージのＸおよびＹステージを駆動制
御するサーボ装置とを備え、一方のステージの動作区間
と他方のステージの動作区間とが隣り合うＸＹステージ
駆動を行うＸＹステージ制御装置において、位置指令手
段は、一方のステージの動作区間における減速開始時ま
たは減速期間中に他方のステージの動作区間における加
速を開始させるべくその位置指令値をサーボ装置に出力
するものであることを特徴とする。
め、本発明では、順次与えられるＸ軸およびＹ軸の目標
位置に基づいてＸＹステージのＸ軸およびＹ軸の位置指
令値を生成する位置指令手段と、この位置指令値に追従
するようにＸＹステージのＸおよびＹステージを駆動制
御するサーボ装置とを備え、一方のステージの動作区間
と他方のステージの動作区間とが隣り合うＸＹステージ
駆動を行うＸＹステージ制御装置において、位置指令手
段は、一方のステージの動作区間における減速開始時ま
たは減速期間中に他方のステージの動作区間における加
速を開始させるべくその位置指令値をサーボ装置に出力
するものであることを特徴とする。
【０００８】
【作用】これによれば、一方のステージの動作区間にお
ける減速開始時に、隣り合う他方の動作区間の加速が開
始される。したがって、ステージの移動を高速に行うこ
とができる。
ける減速開始時に、隣り合う他方の動作区間の加速が開
始される。したがって、ステージの移動を高速に行うこ
とができる。
【０００９】
［実施例１］図１は、本発明の一実施例に係るＸＹステ
ージ制御装置の構成を示すブロック図である。同図にお
いて、１は目標加速度、目標速度、目標位置等を格納す
る記憶手段、２はＸ軸の位置目標値を生成するＸ軸位置
目標値生成手段、３はＹ軸の位置目標値を生成するＹ軸
位置目標値生成手段、４はＸ軸位置目標値生成手段２お
よびＹ軸位置目標値生成手段３からなる位置目標値生成
手段、５はＸ軸位置目標値生成手段２およびＹ軸位置目
標値生成手段３によって生成された位置目標値をそれぞ
れ位置指令値としてＸ軸サーボ装置６およびＹ軸サーボ
装置７に出力する軌跡補間手段、６は軌跡補間手段５か
ら入力されたＸ軸の位置指令値にＸステージ８が追従す
るようにＸステージ８を駆動させるＸ軸サーボ装置、７
は軌跡補間手段５から入力されたＹ軸の位置指令値にＹ
ステージ９が追従するようにＹステージ９を駆動させる
Ｙ軸サーボ装置、８は駆動対象であるＸステージ、９は
駆動対象であるＹステージ、１０はＸステージ８および
Ｙステージ９から構成されるＸＹステージである。
ージ制御装置の構成を示すブロック図である。同図にお
いて、１は目標加速度、目標速度、目標位置等を格納す
る記憶手段、２はＸ軸の位置目標値を生成するＸ軸位置
目標値生成手段、３はＹ軸の位置目標値を生成するＹ軸
位置目標値生成手段、４はＸ軸位置目標値生成手段２お
よびＹ軸位置目標値生成手段３からなる位置目標値生成
手段、５はＸ軸位置目標値生成手段２およびＹ軸位置目
標値生成手段３によって生成された位置目標値をそれぞ
れ位置指令値としてＸ軸サーボ装置６およびＹ軸サーボ
装置７に出力する軌跡補間手段、６は軌跡補間手段５か
ら入力されたＸ軸の位置指令値にＸステージ８が追従す
るようにＸステージ８を駆動させるＸ軸サーボ装置、７
は軌跡補間手段５から入力されたＹ軸の位置指令値にＹ
ステージ９が追従するようにＹステージ９を駆動させる
Ｙ軸サーボ装置、８は駆動対象であるＸステージ、９は
駆動対象であるＹステージ、１０はＸステージ８および
Ｙステージ９から構成されるＸＹステージである。
【００１０】以上のように構成されたＸＹステージ制御
装置の動作について説明する。
装置の動作について説明する。
【００１１】Ｘ軸位置目標値生成手段２は、記憶手段１
に格納されている目標加速度、目標速度、Ｘ軸の目標位
置およびＸ軸移動開始位置から数１式に従ってＸ軸位置
目標値ｘr を計算する。
に格納されている目標加速度、目標速度、Ｘ軸の目標位
置およびＸ軸移動開始位置から数１式に従ってＸ軸位置
目標値ｘr を計算する。
【００１２】
【数１】 Ｙ軸位置目標値生成手段３もＸ軸位置目標値生成手段２
と同様に数２式に従ってＹ軸位置目標値を計算する。
と同様に数２式に従ってＹ軸位置目標値を計算する。
【００１３】
【数２】 図２は、位置目標値生成手段４によって生成される台形
状速度パターンの位置目標値を示したものであり、位置
目標値パターンの速度成分と加速度成分とを同時に示し
たものである。
状速度パターンの位置目標値を示したものであり、位置
目標値パターンの速度成分と加速度成分とを同時に示し
たものである。
【００１４】Ｘ軸サーボ装置６は、軌跡補間手段５から
入力されたＸ軸位置指令値にＸステージ８が追従するよ
うに制御を行い、Ｙ軸サーボ装置７は軌跡補間手段５か
ら入力されたＹ軸位置指令値にＹステージ９が追従する
ように制御を行うため、全体としてＸＹ平面上の所望の
位置にＸＹステージ１０を移動することができる。
入力されたＸ軸位置指令値にＸステージ８が追従するよ
うに制御を行い、Ｙ軸サーボ装置７は軌跡補間手段５か
ら入力されたＹ軸位置指令値にＹステージ９が追従する
ように制御を行うため、全体としてＸＹ平面上の所望の
位置にＸＹステージ１０を移動することができる。
【００１５】軌跡補間手段５は、記憶手段１に格納され
ている目標位置データ列から目標位置データを１つづつ
取り出し、位置目標値生成手段４へのパラメータとして
与える。そして、ＸＹステージ１０が目標位置に到達し
たと判断すると、次の目標位置データを記憶手段１から
取り出すという手続きを繰り返すことによって、ＸＹス
テージ１０上のウエハ全体をスキャンしていく。
ている目標位置データ列から目標位置データを１つづつ
取り出し、位置目標値生成手段４へのパラメータとして
与える。そして、ＸＹステージ１０が目標位置に到達し
たと判断すると、次の目標位置データを記憶手段１から
取り出すという手続きを繰り返すことによって、ＸＹス
テージ１０上のウエハ全体をスキャンしていく。
【００１６】図４は、図１の装置における軌跡補間手段
５の動作アルゴリズムを示すフローチャートである。軌
跡補間手段５は、まずステップＳ１において、記憶手段
１に格納されている目標位置データから、現在の動作区
間でＸ軸のみが動作しているか否かを判断する。Ｘ軸の
みが動作していると判断した場合は、ステップＳ２にお
いて、次の動作区間でＹ軸のみが動作するか否かを判断
する。そして、Ｙ軸のみが動作すると判断した場合に
は、ステップＳ３において、現在の動作区間でＸ軸の減
速を開始しているか否かを判断する。減速を開始してい
る場合には、ステップＳ４において、次の動作区間に関
してＹ軸位置目標値生成手段３を起動してＹ軸の加速を
開始する。また、ステップＳ３において減速を開始して
いないと判断した場合には、Ｘ軸位置目標値生成手段２
によって生成された目標位置をＸサーボ装置６に入力し
てＸ軸の駆動を続ける。
５の動作アルゴリズムを示すフローチャートである。軌
跡補間手段５は、まずステップＳ１において、記憶手段
１に格納されている目標位置データから、現在の動作区
間でＸ軸のみが動作しているか否かを判断する。Ｘ軸の
みが動作していると判断した場合は、ステップＳ２にお
いて、次の動作区間でＹ軸のみが動作するか否かを判断
する。そして、Ｙ軸のみが動作すると判断した場合に
は、ステップＳ３において、現在の動作区間でＸ軸の減
速を開始しているか否かを判断する。減速を開始してい
る場合には、ステップＳ４において、次の動作区間に関
してＹ軸位置目標値生成手段３を起動してＹ軸の加速を
開始する。また、ステップＳ３において減速を開始して
いないと判断した場合には、Ｘ軸位置目標値生成手段２
によって生成された目標位置をＸサーボ装置６に入力し
てＸ軸の駆動を続ける。
【００１７】一方、ステップＳ１においてＸ軸のみが動
作していないと判断した場合は、ステップＳ５に移行
し、現在の動作区間でＹ軸のみが動作しているか否かを
判断する。Ｙ軸のみが動作していると判断した場合に
は、ステップＳ６において、次の動作区間でＸ軸のみが
動作するか否かを判断する。そして、Ｘ軸のみが動作す
ると判断した場合には、ステップＳ７において、現在の
動作区間でＹ軸の減速を開始しているか否かを判断す
る。減速を開始している場合には、ステップＳ８におい
て、次の動作区間に関してＸ軸位置目標値生成手段２を
起動してＸ軸の加速を開始する。また、ステップＳ７に
おいて減速を開始していないと判断した場合には、Ｙ軸
位置目標値生成手段３によって生成された目標位置をＹ
軸サーボ装置７に入力してＹ軸の駆動を続ける。
作していないと判断した場合は、ステップＳ５に移行
し、現在の動作区間でＹ軸のみが動作しているか否かを
判断する。Ｙ軸のみが動作していると判断した場合に
は、ステップＳ６において、次の動作区間でＸ軸のみが
動作するか否かを判断する。そして、Ｘ軸のみが動作す
ると判断した場合には、ステップＳ７において、現在の
動作区間でＹ軸の減速を開始しているか否かを判断す
る。減速を開始している場合には、ステップＳ８におい
て、次の動作区間に関してＸ軸位置目標値生成手段２を
起動してＸ軸の加速を開始する。また、ステップＳ７に
おいて減速を開始していないと判断した場合には、Ｙ軸
位置目標値生成手段３によって生成された目標位置をＹ
軸サーボ装置７に入力してＹ軸の駆動を続ける。
【００１８】現在の動作区間で両方の軸が動作している
場合には、ＸＹステージ１０が目標位置に到達したと判
断して現在の動作区間が終了するまで軸の駆動を続け
る。
場合には、ＸＹステージ１０が目標位置に到達したと判
断して現在の動作区間が終了するまで軸の駆動を続け
る。
【００１９】上述の位置目標値生成手段４および軌跡補
間手段５は、図示しないＣＰＵのアルゴリズムとして実
現している。
間手段５は、図示しないＣＰＵのアルゴリズムとして実
現している。
【００２０】例えば、現在の動作軸がＸ軸のみで動作
し、次の動作軸がＹ軸のみで動作する場合のＸ軸速度と
Ｙ軸速度の変化の様子を図３に示す。また、ＸＹ平面上
でＸＹステージ１０のある点の動きを観察すると図５の
ようになる。図中、Ｐk は目標位置、Ｑk は減速開始位
置、Ｒk は加速終了位置を示す（ｋはｎまたはｎ＋
１）。ＸＹステージ１０は、Ｐk で停止することなく、
頂角の内側を滑らかにカーブして通過する。
し、次の動作軸がＹ軸のみで動作する場合のＸ軸速度と
Ｙ軸速度の変化の様子を図３に示す。また、ＸＹ平面上
でＸＹステージ１０のある点の動きを観察すると図５の
ようになる。図中、Ｐk は目標位置、Ｑk は減速開始位
置、Ｒk は加速終了位置を示す（ｋはｎまたはｎ＋
１）。ＸＹステージ１０は、Ｐk で停止することなく、
頂角の内側を滑らかにカーブして通過する。
【００２１】この装置によって、ウエハ上を全面スキャ
ンする時間を短縮することができ、スループットの向上
に寄与することができる。
ンする時間を短縮することができ、スループットの向上
に寄与することができる。
【００２２】なお、本実施例の位置目標値生成手段４で
は、一方の軸の減速開始後ただちに他方の軸の加速を開
始しているが、図６に示すように、他方の軸の加速開始
を所定の時刻だけ遅らせた構成も考えられる。また、本
実施例では、図２に示すような一般に台形状速度パター
ンと言われる目標値を生成しているが、図７に示すよう
なパターンの目標値を生成することにより、さらに滑ら
かでＸＹステージ１０の振動を励起しにくくすることが
できる。
は、一方の軸の減速開始後ただちに他方の軸の加速を開
始しているが、図６に示すように、他方の軸の加速開始
を所定の時刻だけ遅らせた構成も考えられる。また、本
実施例では、図２に示すような一般に台形状速度パター
ンと言われる目標値を生成しているが、図７に示すよう
なパターンの目標値を生成することにより、さらに滑ら
かでＸＹステージ１０の振動を励起しにくくすることが
できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
その上を通過する必要がない目標位置で停止せずに、頂
角の内側をカーブを描いて動くことができるため、ステ
ージの移動を高速に行うことができる。
その上を通過する必要がない目標位置で停止せずに、頂
角の内側をカーブを描いて動くことができるため、ステ
ージの移動を高速に行うことができる。
【００２４】また、カーブを構成する点の目標位置を細
かく与えることなく、簡単なアルゴリズムを追加するこ
とにより、ステージの移動を高速に行うことができる。
かく与えることなく、簡単なアルゴリズムを追加するこ
とにより、ステージの移動を高速に行うことができる。
【００２５】さらに、位置目標値を直接サーボ装置に与
えればよいため、速度目標値を積分するという手間が不
要となり、積分の際の数値誤差を考慮する必要がなくな
る。
えればよいため、速度目標値を積分するという手間が不
要となり、積分の際の数値誤差を考慮する必要がなくな
る。
【図１】 本発明の一実施例に係るＸＹステージ制御装
置の構成を示すブロック図である。
置の構成を示すブロック図である。
【図２】 図１の装置におけるＸ軸位置目標値生成手段
およびＹ軸位置目標値生成手段によって生成される目標
値パターンを示す図である。
およびＹ軸位置目標値生成手段によって生成される目標
値パターンを示す図である。
【図３】 図１の装置においてＸ軸速度とＹ軸速度の変
化の様子を示す図である。
化の様子を示す図である。
【図４】 図１の装置における軌跡補間手段の動作を説
明するフローチャートである。
明するフローチャートである。
【図５】 図１の装置におけるＸＹステージのＸＹ平面
上での動きを示す図である。
上での動きを示す図である。
【図６】 図１の装置においてＸ軸速度とＹ軸速度の他
の変化の様子を示す図である。
の変化の様子を示す図である。
【図７】 図１の装置におけるＸ軸位置目標値生成手段
およびＹ軸位置目標値生成手段によって生成される他の
目標値パターンを示す図である。
およびＹ軸位置目標値生成手段によって生成される他の
目標値パターンを示す図である。
１：記憶手段、２：Ｘ軸位置目標値生成手段、３：Ｙ軸
位置目標値生成手段、４：位置目標値生成手段、５：軌
跡補間手段、６：Ｘ軸サーボ装置、７：Ｙ軸サーボ装
置、８：Ｘステージ、９：Ｙステージ、１０：ＸＹステ
ージ。
位置目標値生成手段、４：位置目標値生成手段、５：軌
跡補間手段、６：Ｘ軸サーボ装置、７：Ｙ軸サーボ装
置、８：Ｘステージ、９：Ｙステージ、１０：ＸＹステ
ージ。
Claims (1)
- 【請求項１】 順次与えられるＸ軸およびＹ軸の目標位
置に基づいてＸＹステージのＸ軸およびＹ軸の位置指令
値を生成する位置指令手段と、この位置指令値に追従す
るように前記ＸＹステージのＸおよびＹステージを駆動
制御するサーボ装置とを備え、一方のステージの動作区
間と他方のステージの動作区間とが隣り合う前記ＸＹス
テージ駆動を行うＸＹステージ制御装置において、前記
位置指令手段は、一方のステージの動作区間における減
速開始時または減速期間中に他方のステージの動作区間
における加速を開始させるべくその位置指令値を前記サ
ーボ装置に出力するものであることを特徴とするＸＹス
テージ制御装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1698696A JPH09190224A (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | Ｘｙステージ制御装置 |
| EP96309565A EP0785571B1 (en) | 1996-01-08 | 1996-12-31 | Exposure method and apparatus therefore |
| DE69610691T DE69610691T2 (de) | 1996-01-08 | 1996-12-31 | Belichtungsverfahren und Belichtungsvorrichtung |
| KR1019970000253A KR100219824B1 (ko) | 1996-01-08 | 1997-01-08 | 노광방법 및 장치, 그리고 그것을 사용한 디바이스제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1698696A JPH09190224A (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | Ｘｙステージ制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09190224A true JPH09190224A (ja) | 1997-07-22 |
Family
ID=11931370
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1698696A Pending JPH09190224A (ja) | 1996-01-08 | 1996-01-08 | Ｘｙステージ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09190224A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999016113A1 (en) * | 1997-09-19 | 1999-04-01 | Nikon Corporation | Stage device, a scanning aligner and a scanning exposure method, and a device manufactured thereby |
-
1996
- 1996-01-08 JP JP1698696A patent/JPH09190224A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999016113A1 (en) * | 1997-09-19 | 1999-04-01 | Nikon Corporation | Stage device, a scanning aligner and a scanning exposure method, and a device manufactured thereby |
| US6331885B1 (en) | 1997-09-19 | 2001-12-18 | Nikon Corporation | Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same |
| US6906782B2 (en) | 1997-09-19 | 2005-06-14 | Nikon Corporation | Stage apparatus, scanning type exposure apparatus, and device produced with the same |
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