JPH09198701A - Optical pickup and optical pickup for phase change type optical disk - Google Patents
Optical pickup and optical pickup for phase change type optical diskInfo
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- JPH09198701A JPH09198701A JP8006341A JP634196A JPH09198701A JP H09198701 A JPH09198701 A JP H09198701A JP 8006341 A JP8006341 A JP 8006341A JP 634196 A JP634196 A JP 634196A JP H09198701 A JPH09198701 A JP H09198701A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光素子、光ディス
ク等への情報の記録又は再生を行う光ピックアップ及び
相変化型光ディスク用の光ピックアップに関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical pickup for recording or reproducing information on or from an optical element, an optical disc or the like, and an optical pickup for a phase change type optical disc.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、光ピックアップの小型化を目標と
した集積型の光ピックアップ素子が開発されており、実
用化に供しようとしている。図14は従来の光ピックア
ップの構成図である。501は、半導体レーザー等から
なる光源である。光源501から出射された光は光ガイ
ド部材505に入射する。そして光ガイド部材505の
内部に設けられた光学素子によって、所定の特性を有す
る光に変換され、光ガイド部材505から出射される。
この出射光は次に対物レンズ526に入射し、その後記
録媒体527上にフォーカスし、記録媒体527中に形
成されている情報記録面527aに記録されているデー
タによって、その性質を若干変化させて反射され、反射
光となる。この反射光は再び対物レンズ526に透過
し、光ガイド部材505に入射し、その後光ガイド部材
505に設けられている複数の反射膜等の光学部材によ
りその光路を複数に分割されながら受光素子513に導
かれ所定の信号を検出するものである。2. Description of the Related Art In recent years, an integrated optical pickup device has been developed with the aim of miniaturizing an optical pickup, and is going to be put to practical use. FIG. 14 is a block diagram of a conventional optical pickup. Reference numeral 501 is a light source composed of a semiconductor laser or the like. The light emitted from the light source 501 enters the light guide member 505. Then, it is converted into light having a predetermined characteristic by an optical element provided inside the light guide member 505 and is emitted from the light guide member 505.
The emitted light then enters the objective lens 526, is then focused on the recording medium 527, and its properties are slightly changed according to the data recorded on the information recording surface 527a formed in the recording medium 527. It is reflected and becomes reflected light. The reflected light is again transmitted to the objective lens 526 and is incident on the light guide member 505. After that, the optical path is divided into a plurality of optical members such as a plurality of reflection films provided on the light guide member 505, and the light receiving element 513 is divided. To detect a predetermined signal.
【0003】このとき光ガイド部材505に設けられて
いる複数の反射膜には金属反射膜が用いられていること
が多い。図15は従来の反射膜の断面図である。図15
において400は基板で基板400は通常ガラス等の光
の透過率の高い物質から構成されている。基板400中
を進行してきた光401は基板400の端面に形成され
た金属反射膜402に入射する。金属反射膜402に入
射した光401はそこで反射されて所定の位置に導かれ
る。At this time, a metal reflection film is often used for the plurality of reflection films provided on the light guide member 505. FIG. 15 is a cross-sectional view of a conventional reflective film. FIG.
In the above, reference numeral 400 denotes a substrate, and the substrate 400 is usually made of a material having a high light transmittance such as glass. The light 401 traveling through the substrate 400 is incident on the metal reflection film 402 formed on the end surface of the substrate 400. The light 401 incident on the metal reflection film 402 is reflected there and guided to a predetermined position.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の構成で用いられていた金属反射膜402はその内部
での光の吸収損失が比較的大きいため反射率を93%以
上とすることが非常に難しかった。そのため受光素子5
13に導かれる光量が減少してしまい、受光素子513
においてノイズレベルに対して信号レベルの高い良好な
信号を得ることが難しかった。また、金属反射膜402
のパターンを形成する際のフォトリソグラフィープロセ
スで用いられるいろいろな種類の有機溶剤等の化学薬品
に対しての耐性低いので、所定の膜厚で金属反射膜40
2を形成しても、その後の工程、例えばレジスト除去の
工程などで金属反射膜402が損傷してしまい、膜厚の
制御が難しい。さらには金属反射膜はガラス等の基板4
00の材料との接合力が弱いので、複数の基板を張り合
わせて基板ブロックを形成し、その基板ブロックを切断
して光ガイド部材505を得る場合には、切断時に各基
板間の接合部位がはがれてしまう等の問題点を有してい
た。However, since the metal reflection film 402 used in the above-described conventional structure has a relatively large light absorption loss inside, the reflectance is extremely set to 93% or more. was difficult. Therefore, the light receiving element 5
Since the amount of light guided to the light receiving element 13 decreases, the light receiving element 513
In, it was difficult to obtain a good signal having a high signal level with respect to the noise level. In addition, the metal reflection film 402
Since the resistance to various kinds of chemicals such as organic solvents used in the photolithography process when forming the pattern is low, the metal reflection film 40 having a predetermined thickness is formed.
Even if the layer 2 is formed, the metal reflection film 402 is damaged in the subsequent step, for example, the step of removing the resist, and it is difficult to control the film thickness. Further, the metal reflection film is a substrate 4 such as glass.
Since the bonding force with the material of No. 00 is weak, a plurality of substrates are bonded together to form a substrate block, and when the substrate block is cut to obtain the light guide member 505, the bonding site between the substrates is peeled off at the time of cutting. It had problems such as being lost.
【0005】本発明は上記課題を解決するもので、反射
膜を光の吸収損失が比較的小さく、有機溶剤等に対する
耐性が大きく、更に基板との接合力にも優れ、従って良
好な信号特性を有し、かつ、歩留まりの高い光ピックア
ップを提供することを目的としている。The present invention solves the above problems by providing a reflective film with a relatively small light absorption loss, a large resistance to organic solvents, etc., and an excellent bonding strength with a substrate. It is an object of the present invention to provide an optical pickup which has a high yield.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、光ガイド部材を構成する基板の所定の位置に誘電体
反射膜を形成するという構成を有している。In order to achieve this object, a dielectric reflecting film is formed at a predetermined position on a substrate which constitutes a light guide member.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】光源と、前記光源から照射された
光の入射方向に対して傾斜した複数の基板を有し、前記
基板の光路上に複数の誘電体層を積層して形成されてい
る反射膜を有し、前記光源からの光を光媒体に導くとと
もに、前記光媒体から反射してきた光を所定の位置に導
く光ガイド部材と、光を受光するとともに受光した光信
号を電気信号に変換する受光手段とを備えたことによ
り、反射膜での反射効率を高めることができるとともに
基板との接合性を良好にすることができる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A light source and a plurality of substrates that are inclined with respect to an incident direction of light emitted from the light source, and are formed by laminating a plurality of dielectric layers on an optical path of the substrate. And a light guide member for guiding the light from the light source to the optical medium and guiding the light reflected from the optical medium to a predetermined position, and receiving the light and receiving the received optical signal as an electrical signal. By including the light receiving means for converting to, it is possible to improve the reflection efficiency of the reflection film and to improve the bondability with the substrate.
【0008】複数の誘電体層中に屈折率の異なる誘電体
層を少なくとも一層形成したことにより、反射効率を向
上させることができる。Reflection efficiency can be improved by forming at least one dielectric layer having a different refractive index in the plurality of dielectric layers.
【0009】屈折率の高い誘電体層と屈折率の低い誘電
体層とを交互に積層したことにより、反射効率を更に向
上させることができる。By alternately laminating the dielectric layers having a high refractive index and the dielectric layers having a low refractive index, the reflection efficiency can be further improved.
【0010】基板に一番近い誘電体層を低い屈折率を有
する誘電体層としたことにより、屈折率を誘電体層での
屈折率の変化を防止することができる。By making the dielectric layer closest to the substrate a dielectric layer having a low refractive index, it is possible to prevent the refractive index from changing in the dielectric layer.
【0011】屈折率の高い誘電体層と屈折率の低い誘電
体層との屈折率の差を0.5以上としたことにより、誘
電体反射膜の厚さを非常に薄くすることができる。By setting the difference in refractive index between the dielectric layer having a high refractive index and the dielectric layer having a low refractive index to 0.5 or more, the thickness of the dielectric reflecting film can be made extremely thin.
【0012】複数の誘電体層をそれぞれの膜応力を打ち
消し合う方向に形成したことにより、基板の反りや反射
膜での反射率の位置依存性を防止することができる。By forming the plurality of dielectric layers in the directions in which the respective film stresses are canceled out, it is possible to prevent the warp of the substrate and the position dependence of the reflectance of the reflective film.
【0013】光ガイド部材の光出射面と光媒体との間に
λ/4板を設け、前記λ/4板と光の光軸とを略垂直に
配置することにより、光の利用効率を高めることができ
る。By providing a λ / 4 plate between the light emitting surface of the light guide member and the optical medium, and arranging the λ / 4 plate and the optical axis of the light substantially perpendicularly, the utilization efficiency of light is improved. be able to.
【0014】以下本発明の第一実施例における光ピック
アップのパッケージングについて図を参照しながら説明
する。The packaging of the optical pickup according to the first embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0015】図1及び図2はともに本発明の一実施の形
態における光ピックアップのパッケージングの構成を示
す断面図である。FIG. 1 and FIG. 2 are cross-sectional views each showing a configuration of packaging of an optical pickup according to an embodiment of the present invention.
【0016】1は光源で、光源1としては半導体レー
ザ,He−Ne等のガスレーザ等の各種レーザが考えら
れる。ここではこれらの中で最も小型で装置全体を小型
化でき、しかも単価の安い数mW〜数十mW程度の出力
を有する半導体レーザを用いる事が好ましい。半導体レ
ーザの材質としてはAlGaAs,InGaAsP,I
nGaAlP,ZnSe,GaN等が考えられ、ここで
は最も一般的に用いられており、安価なAlGaAsを
用いた。さらに高密度記録を行う場合には記録媒体上で
のスポット径をより小さくすることができ、AlGaA
sよりもさらに波長の短いInGaAlPやZnSe等
の半導体レーザを用いることが好ましい。Reference numeral 1 denotes a light source. As the light source 1, various lasers such as a semiconductor laser and a gas laser such as He-Ne can be considered. Here, it is preferable to use a semiconductor laser which is the smallest among these, can reduce the size of the entire device, and has an output of several mW to several tens mW which is inexpensive. Semiconductor lasers made of AlGaAs, InGaAsP, I
nGaAlP, ZnSe, GaN, and the like are conceivable. Here, AlGaAs, which is most commonly used and is inexpensive, is used. Furthermore, when performing high-density recording, the spot diameter on the recording medium can be made smaller, and
It is preferable to use a semiconductor laser such as InGaAlP or ZnSe having a shorter wavelength than s.
【0017】2はサブマウントで、サブマウント2はそ
の形状が直方体状若しくは板形状で、その上面には光源
1が取り付けられている。このサブマウント2は光源1
を載置するとともに、光源1で発生した熱を逃がす働き
を有している。サブマウント2と光源1との接合には熱
伝導率等を考慮するとAu−Sn,Sn−Pb,Sn−
Pb−In等の箔(厚さ数μm〜数十μm)を高温で圧
着する方法を用いることが好ましい。また光源1とサブ
マウント2は略水平に取り付けなければ光学系の収差や
結合効率の低下等の原因になる。従って接合の際には光
源1はサブマウント2に所定の位置に所定の高さで略水
平にマウントされることが好ましい。さらにサブマウン
ト2の上面には光源1の下面と電気的に接触するように
電極面2aが設けられている。この電極面2aは光源1
の電源供給用のもので、電極面2aを構成する金属膜と
しては導電性や耐食性を考慮してAuの薄膜を用いるこ
とが好ましい。更にサブマウント2は、光源1で発生す
る熱や光源1との取付等の問題から、熱伝導性が高く、
かつ、線膨張係数が光源1のそれ(約6.5×10 -6/
℃)に近い材質が好ましい。具体的には線膨張係数が3
〜10×10-6/℃で、熱伝導率が100w/mK以上
である物質、例えばAlN,SiC,T−cBN,Cu
/W,Cu/Mo,Si等を、特に高出力のレーザを用
いる場合で熱伝導率を非常に大きくしなければならない
ときにはダイアモンド等を用いることが好ましい。光源
1とサブマウント2の線膨張係数が同じか近い数値とな
るようにした場合、光源1とサブマウント2の間の歪み
の発生を抑制することができるので、光源1とサブマウ
ント2との取付部分が外れたり、光源1にクラックが入
る等の不都合を防止することができる。しかしながら本
範囲を外れた場合には、光源1とサブマウント2の間に
大きな歪みが生じてしまい、光源1とサブマウント2と
の取付部分が外れたり、光源1にクラック等を生じる可
能性が高くなる。またサブマウント2の熱伝導率をでき
るだけ大きく取ることにより、光源1で発生する熱を効
率よく外部に逃がすことができる。しかしながら熱伝導
率が本限定以下の場合には、光源1で発生した熱が外部
に逃げ難くなるため、光源1の温度が上昇し、光源1の
出力が低下したり、光源1の寿命が短くなったり、最悪
の場合には光源1が破壊されてしまう等の不都合が発生
しやすくなる。本実施例では比較的安価で、これらの2
つの特性のどちらにも非常に優れたAlNを用いた。更
にサブマウント2の上面には光源1との接合性を良くす
るために、サブマウント2から光源1に向かってTi,
Pt,Auの順に薄膜を形成することが好ましい。2 is a submount, and the submount 2 is
Has a rectangular parallelepiped shape or a plate shape, and the light source is
1 is attached. This submount 2 is a light source 1
Along with mounting, it works to release the heat generated by the light source 1.
have. Heat is required to bond the submount 2 and the light source 1.
Considering the conductivity etc., Au-Sn, Sn-Pb, Sn-
A foil (thickness of several μm to several tens of μm) such as Pb-In is pressed at high temperature.
It is preferable to use the wearing method. Also, light source 1 and sub
If the mount 2 is not installed almost horizontally, the aberration of the optical system and
This may cause a decrease in coupling efficiency. Therefore, when joining
Source 1 is sub-mount 2 at a predetermined position and at a predetermined height with substantially water.
It is preferably mounted flat. Further sub-mount
The upper surface of the light source 2 should be in electrical contact with the lower surface of the light source 1.
An electrode surface 2a is provided. This electrode surface 2a is the light source 1
And a metal film that constitutes the electrode surface 2a.
In consideration of conductivity and corrosion resistance, use Au thin film.
Is preferred. Further, the submount 2 is generated by the light source 1.
Due to problems with heat and mounting with the light source 1, high thermal conductivity,
In addition, the coefficient of linear expansion is that of the light source 1 (about 6.5 × 10 -6/
A material close to ℃) is preferable. Specifically, the linear expansion coefficient is 3
~ 10 x 10-6Thermal conductivity of 100 w / mK or more at / ° C
A substance such as AlN, SiC, T-cBN, Cu
/ W, Cu / Mo, Si etc., especially for high power laser
Thermal conductivity must be very high when
Sometimes it is preferable to use diamond or the like. light source
1 and submount 2 have the same or similar linear expansion coefficient.
Distortion between the light source 1 and the submount 2
Since it is possible to suppress the occurrence of
The mounting part with the module 2 comes off or the light source 1 is cracked.
Inconveniences, such as a problem, can be prevented. However the book
If it is out of the range, between the light source 1 and the submount 2
A large amount of distortion occurs, and the light source 1 and submount 2
The mounting part of may come off, or the light source 1 may crack.
Higher efficiency. Also, the thermal conductivity of the submount 2 can be
The heat generated by the light source 1
Can be efficiently released to the outside. However heat conduction
If the rate is below this limit, the heat generated by the light source 1
The temperature of the light source 1 rises and the light source 1
The output is reduced, the life of the light source 1 is shortened,
In case of, inconvenience such as destruction of the light source 1 occurs
Easier to do. In this embodiment, it is relatively inexpensive and these two
AlN, which is very excellent in both of the two characteristics, was used. Change
In addition, the upper surface of the submount 2 has a good bonding property with the light source 1.
In order to move from the submount 2 toward the light source 1, Ti,
It is preferable to form a thin film in the order of Pt and Au.
【0018】3はブロックで、ブロック3は基本的には
直方体形状でその側面に大きな突起部3aを有してお
り、上面にはサブマウント2が取り付けられている。こ
のブロック3もまたサブマウント2と同様に、光源1で
発生する熱やサブマウント2との取付等の問題から、熱
伝導性が高く、かつ、線膨張係数がサブマウント2に近
い材質、例えばサブマウント2の材質例で示したもの以
外にMo,Cu,Fe,コバール,42アロイ等を用い
ることが好ましい。しかしながらこれらの特性値の要求
はサブマウント2に比べるとそれほど厳しくはないの
で、コストを重視して選択する方が好ましい。ここでは
AlNに比べて非常に安価で、これらの特性に比較的優
れたCu,Mo等の材料でブロック3を形成した。また
ブロック3とサブマウント2との接合には熱伝導率等を
考慮すると、やはりサブマウント2と光源1の場合と同
様に、多少高価ではあるがAu−Sn,Sn−Pb,S
n−Pb−In等の箔(厚さ数μm〜数十μm)を高温
で圧着することが好ましい。Reference numeral 3 denotes a block. The block 3 is basically a rectangular parallelepiped and has a large projection 3a on the side surface, and a submount 2 is mounted on the upper surface. Like the submount 2, the block 3 also has a high thermal conductivity and a material having a linear expansion coefficient close to that of the submount 2, for example, due to heat generated from the light source 1 and problems such as attachment to the submount 2. It is preferable to use Mo, Cu, Fe, Kovar, 42 alloy or the like other than those shown in the material examples of the submount 2. However, the requirements for these characteristic values are not so strict as compared with the submount 2, so that it is preferable to select them with emphasis on cost. Here, the block 3 is formed of a material such as Cu or Mo which is very inexpensive as compared with AlN and has relatively excellent characteristics. Further, in consideration of thermal conductivity and the like for joining the block 3 and the submount 2, Au-Sn, Sn-Pb, S, although slightly expensive, as in the case of the submount 2 and the light source 1.
It is preferable to press-bond a foil of n-Pb-In or the like (thickness: several μm to several tens of μm) at high temperature.
【0019】4は放熱板で、放熱板4は、光源1で発生
し、伝導によりサブマウント2,ブロック3を通って伝
わってきた熱を外部に放出する働きを有するとともに、
光ピックアップを形成する種々の部材が載置され、パッ
ケージングの基板となるものである。また放熱板4には
調整用の孔4aが設けてある。ブロック3はロウ付け,
半田箔等により放熱板4の上面に固定される。放熱板4
の材質としては、熱伝導性が高いCu,Al,Fe等が
考えられる。Reference numeral 4 denotes a radiator plate. The radiator plate 4 has a function of releasing heat generated by the light source 1 and transmitted through the submount 2 and the block 3 by conduction to the outside.
Various members forming the optical pickup are mounted thereon, and serve as a packaging substrate. The heat radiating plate 4 is provided with a hole 4a for adjustment. Block 3 is brazed,
It is fixed to the upper surface of the heat sink 4 by solder foil or the like. Heat sink 4
Cu, Al, Fe, etc., which have high thermal conductivity, can be considered as the material of the.
【0020】なおここではサブマウント2とブロック3
とを別体で形成していたが、光源1の出力が高く、これ
らの部材により高い熱伝導性が要求される場合には、熱
伝導性を良くするためにこれらの部材を一体で形成する
ことが好ましい。この場合それらの材質は、AlN等の
熱伝導性が非常に高いものを用いることが好ましい。Here, the submount 2 and the block 3
Are formed separately, but when the output of the light source 1 is high and a higher thermal conductivity is required for these members, these members are integrally formed in order to improve the thermal conductivity. Is preferred. In this case, it is preferable to use those having extremely high thermal conductivity such as AlN.
【0021】またブロック3はサブマウント2よりも大
きくして、放熱板4との接触面積を大きく取ることが望
ましい。It is desirable that the block 3 be larger than the submount 2 so as to have a large contact area with the heat sink 4.
【0022】また光源1には光軸に関して高い精度が要
求されるので、サブマウント2の上面は高い精度で水平
であることが好ましい。従ってサブマウント2,ブロッ
ク3及び放熱板4の取り付けについても細心の注意を払
うことが好ましい。Since the light source 1 is required to have high precision with respect to the optical axis, it is preferable that the upper surface of the submount 2 is horizontal with high precision. Therefore, it is preferable to pay close attention to the mounting of the submount 2, the block 3, and the heat sink 4.
【0023】5は光ガイド部材で、光ガイド部材5は直
方体形状をしており、その内部には複数の斜面及びそれ
らの斜面上に形成された各種膜を有しており、光源から
射出された光を出射するとともに、戻ってきた光を所定
の位置に導く働きを有している。また光ガイド部材5は
その側面でブロック3の突起部3aの端面部3bに接着
されている。これに用いられる接合材には大きな接着強
度,任意の瞬間に固定できる作業性,硬化前と硬化後の
体積の変化や温度・湿度の変化による体積の変化が小さ
い即ち低収縮率等の条件が要求され、これらを満たすこ
とにより作業性及び接合面の安定性等を向上させること
ができる。この様な接合材としてここでは紫外線を照射
することにより瞬時に硬化するUV接着剤を用いた。ま
た吸湿硬化型の瞬間接着剤を用いても良い。更に十分な
取り付け強度を持つようにするためにブロック3と光ガ
イド部材5の間の接触面積(S)はS>1mm2とする
ことが好ましい。Reference numeral 5 denotes a light guide member. The light guide member 5 has a rectangular parallelepiped shape, and has a plurality of slopes and various films formed on the slopes inside. It has a function of emitting the returned light and guiding the returned light to a predetermined position. The light guide member 5 is adhered on its side surface to the end surface 3b of the projection 3a of the block 3. The bonding material used for this purpose must have conditions such as high adhesive strength, workability that can be fixed at any moment, small changes in volume due to changes in volume before and after curing and changes in temperature and humidity, that is, low shrinkage. It is required, and by satisfying these, workability and stability of the joint surface can be improved. Here, a UV adhesive which is instantly cured by irradiating ultraviolet rays is used as such a bonding material. Further, a moisture-absorbing and curing instant adhesive may be used. It is preferable that the contact area (S) between the block 3 and the light guide member 5 is S> 1 mm 2 in order to have a sufficient mounting strength.
【0024】13は受光素子で、受光素子13は板形状
の半導体ウェハーに形成された各種の電気回路で構成さ
れており、光ガイド部材5の底面に取り付けられてい
る。取付の際には放熱板4に設けられた孔4aを用いて
位置の調整を行う。受光素子13と光ガイド部材5との
取り付けについては、大きな接着強度,任意の瞬間に固
定できる作業性,硬化前と硬化後の体積の変化や温度・
湿度による体積の変化が小さい即ち低収縮率等の条件が
要求され、これらを満たすことにより、作業性、接合面
の安定性が向上する。この様な接合材としてここでは紫
外線を照射することにより瞬時に硬化するため特に作業
性が良好なUV接着剤を用いた。なお吸湿硬化型の瞬間
接着剤を用いても良い。また受光素子13は光源1から
出射され、光ガイド部材5や記録媒体等で反射されて戻
ってきた光信号を受光する受光部を複数有している。こ
の受光部で検知された光信号は、その光量に応じて電気
信号に変換される。この電気信号は変換当初は電流値の
大きさである。しかしながらこの電流は非常に微弱であ
り、かつノイズを拾いやすいというデメリットがある。
このためここでは受光素子13として、電流値を相関す
る電圧値に変換して増幅する働きを持つI−Vアンプが
形成されているものを用いることが好ましい。ただし光
の入射周波数に対して出力電圧の応答が良好であること
が要求される。更に受光素子13の表面には受光した情
報を信号として取り出すためのAl等の薄膜で構成され
た複数の電極13aが設けてある。Reference numeral 13 denotes a light receiving element. The light receiving element 13 is composed of various electric circuits formed on a plate-shaped semiconductor wafer, and is attached to the bottom surface of the light guide member 5. At the time of attachment, the position is adjusted using the holes 4 a provided in the heat sink 4. Regarding the attachment of the light receiving element 13 and the light guide member 5, a large adhesive strength, workability that can be fixed at any moment, change in volume before and after curing, temperature and
Conditions such as a small change in volume due to humidity, that is, a low shrinkage ratio are required. By satisfying these conditions, workability and stability of the joint surface are improved. As such a bonding material, a UV adhesive having particularly good workability was used because it is instantaneously cured by irradiating ultraviolet rays. Note that a moisture-absorbing-curing instant adhesive may be used. The light receiving element 13 has a plurality of light receiving portions for receiving the light signal emitted from the light source 1 and reflected by the light guide member 5 and the recording medium and returned. The light signal detected by the light receiving unit is converted into an electric signal according to the light amount. This electric signal has the magnitude of the current value at the beginning of the conversion. However, this current has the disadvantages that it is very weak and that noise is easily picked up.
For this reason, it is preferable here to use, as the light receiving element 13, an element formed with an IV amplifier having a function of converting a current value to a correlated voltage value and amplifying it. However, it is required that the response of the output voltage be good with respect to the incident frequency of light. Further, on the surface of the light receiving element 13, there are provided a plurality of electrodes 13a made of a thin film of Al or the like for extracting the received information as a signal.
【0025】14はパッケージで、パッケージ14は、
放熱板4の上面に前述のブロック3や光ガイド部材5,
受光素子13等を囲むように設けられており、その内部
には受光素子13からの電気信号取り出しや光源1の電
源供給等に用いられるリードフレーム14aがモールド
されている。このパッケージ14の形状は中央部がくり
貫かれた直方体形状をしており、更にリードフレーム1
4aがモールドされている側のパッケージ14の内面に
はリードフレームの足14bを露出するように段差14
cが設けてある。なおパッケージ14の形状については
円筒形等であっても構わない。そして受光素子13から
の電気信号を取り出すためにパッケージ14に設けられ
た段差14cに露出しているリードフレームの足14b
と受光素子13の表面に設けられている複数の電極13
aとをAuやAl等で形成されたワイヤ14dでワイヤ
ボンディングにより接続している。また光源1の電源供
給のため、光源1の上面とパッケージ14に設けられた
段差14cに露出しているリードフレームの足14bと
をワイヤ14dでボンディングし、更にサブマウント2
の上面に光源1の下面と電気的に接触するように設けら
れている電極面2aとパッケージ14に設けられた段差
14cに露出しているリードフレームの足14bとを同
じくワイヤ14dでワイヤボンディングすることにより
接続している。パッケージ14の材質としては、低吸水
性や低アウトガス性などに優れていることが求められる
が、ここではICモールドとしては最も一般的なエポキ
シ樹脂等の熱硬化性の樹脂を用いている。またリードフ
レーム14aの材質としてはCu,42アロイ,Fe等
の金属にAgやAu等をメッキしたものを用いることが
多い。ここではCuにNiメッキをし、その上にAuメ
ッキを施したものを用いた。更にパッケージ14と放熱
板4との間の取り付けには、大きな接着強度,低い吸水
性,高い気密性(低いリーク特性)等の性質を有する接
合材を用いる。これにより接合面,接合位置の安定性を
向上させ、光ピックアップのパッケージング内部への不
純物の混入を防止することができる。ここではこれらの
特性に優れ、安価なエポキシ系接着剤を用いた。Reference numeral 14 denotes a package.
On the upper surface of the heat radiating plate 4, the above-described block 3 and the light guide member 5,
It is provided so as to surround the light receiving element 13 and the like, and a lead frame 14a used for extracting an electric signal from the light receiving element 13, supplying power to the light source 1, and the like is molded therein. The shape of the package 14 is a rectangular parallelepiped shape with a hollow central portion.
The step 14 is formed on the inner surface of the package 14 on the side where the mold 4a is molded so as to expose the legs 14b of the lead frame.
c is provided. Note that the shape of the package 14 may be a cylindrical shape or the like. Then, the legs 14b of the lead frame exposed on the steps 14c provided on the package 14 for extracting an electric signal from the light receiving element 13
And a plurality of electrodes 13 provided on the surface of the light receiving element 13
a is connected by wire bonding with a wire 14d made of Au, Al, or the like. In order to supply power to the light source 1, the upper surface of the light source 1 and the leg 14 b of the lead frame exposed on the step 14 c provided on the package 14 are bonded by wires 14 d, and
The electrode surface 2a provided on the upper surface of the light source 1 so as to be in electrical contact with the lower surface of the light source 1 and the leg 14b of the lead frame exposed on the step 14c provided on the package 14 are also wire-bonded with the wire 14d. By connecting. The material of the package 14 is required to be excellent in low water absorption, low outgassing, and the like. Here, a thermosetting resin such as an epoxy resin, which is the most common, is used as the IC mold. As the material of the lead frame 14a, a metal such as Cu, 42 alloy or Fe plated with Ag or Au is often used. Here, Cu plated with Ni and Au plated thereon was used. Further, for attachment between the package 14 and the heat radiating plate 4, a bonding material having properties such as high adhesive strength, low water absorption, and high airtightness (low leak characteristics) is used. As a result, the stability of the bonding surface and bonding position can be improved, and impurities can be prevented from entering the inside of the packaging of the optical pickup. Here, an inexpensive epoxy adhesive excellent in these characteristics was used.
【0026】15はシェルで、シェル15もまたパッケ
ージ14と同様に直方体の中心部をくり貫いたような外
形をしており、その水平方向の断面はパッケージ14の
それとほぼ同一形状をしている。またその材質にはパッ
ケージング内部への不純物混入を防止する意味で、低吸
水性や低アウトガス性等の特性が求められる。ここでは
それらの特性に優れたポリプチレンテレフタレート(以
下PBTとする)を用いた。ただし、特に強度や寸法精
度等に優れた特性が要求される場合には、PBTよりも
高価ではあるがこれらの特性に優れたLCPを用いても
良い。そしてシェル15とパッケージ14との接着は、
前述のパッケージ14と放熱板4との取り付けと同様の
理由で、エポキシ系接着剤を用いた。なおこのシェル1
5を用いる代わりにパッケージ14の側壁部分の高さ
を、光ガイド部材5よりも高くなるようにして代替して
も良い。Reference numeral 15 denotes a shell, and the shell 15 also has an outer shape penetrating the center of the rectangular parallelepiped similarly to the package 14, and its horizontal cross section has substantially the same shape as that of the package 14. . The material is required to have characteristics such as low water absorption and low outgassing in order to prevent impurities from being mixed into the interior of the packaging. Here, polybutylene terephthalate (hereinafter referred to as PBT) having excellent properties is used. However, in particular, when characteristics excellent in strength, dimensional accuracy, and the like are required, an LCP that is more expensive than PBT but has these characteristics may be used. And the adhesion between the shell 15 and the package 14 is
An epoxy adhesive was used for the same reason as the attachment of the package 14 and the heat sink 4 described above. This shell 1
Instead of using 5, the height of the side wall portion of the package 14 may be made higher than that of the light guide member 5 for substitution.
【0027】16はカバー部材で、カバー部材16は光
ガイド部材5や受光素子13等にごみ,ほこり等が付着
するのを防止するもので、シェル15の上面にエポキシ
系の接着剤により取り付けられている。またカバー部材
16の材質としては、BK−7,FK−1,K−3等の
ガラスや、ウレタン,ポリカーボネート,アクリル等の
光透過率の高い樹脂等を用いることがことが好ましい。
更にカバー部材16の上下両面には反射防止のために反
射防止膜16aを形成することが好ましい。この反射防
止膜16aはMgF2 等の材質で形成することが好まし
い。Reference numeral 16 denotes a cover member. The cover member 16 prevents dust and dirt from adhering to the light guide member 5, the light receiving element 13, and the like. The cover member 16 is attached to the upper surface of the shell 15 with an epoxy-based adhesive. ing. Further, as the material of the cover member 16, it is preferable to use glass such as BK-7, FK-1, and K-3, or resin having high light transmittance such as urethane, polycarbonate, and acrylic.
Further, it is preferable to form anti-reflection films 16a on both upper and lower surfaces of the cover member 16 to prevent reflection. This antireflection film 16a is preferably formed of a material such as MgF 2 .
【0028】このカバー部材16と光ガイド部材5との
位置関係は、両者を接触させる場合と両者の間に空間を
設ける場合とが考えられる。両者を接触させる場合、光
ガイド部材5はカバー部材16の底部にエポキシ系の接
着剤やUV接着剤等で取り付けられる。この時のカバー
部材16の厚さ(t1)を0.3≦t1≦3.0(m
m)とすることが好ましい。この理由は、下限について
はこれ以上薄くすると取り付けられている光ガイド部材
5等の重さや、接着剤が固まる際の張力等にカバー部材
16が耐えられず破損する恐れがあるためである。また
上限については、カバー部材16は空気に比べて屈折率
が大きいため光に収束作用が生まれ、光が広がらないの
で、結果としてカバー部材16とコリメータレンズ(無
限系光学系の場合)或いは対物レンズ(有限系光学系の
場合)との距離を長くせざるを得ないくなってしまい、
ピックアップユニットの小型化に不利になるからであ
る。この様な構成を用いることにより光ピックアップの
高さをより低くでき、十分な取付強度を保ちながらもピ
ックアップユニットを小型化することができる。The positional relationship between the cover member 16 and the light guide member 5 can be considered when the two members are brought into contact with each other or when a space is provided between them. When the two are brought into contact, the light guide member 5 is attached to the bottom of the cover member 16 with an epoxy-based adhesive or a UV adhesive. At this time, the thickness (t1) of the cover member 16 is set to 0.3 ≦ t1 ≦ 3.0 (m
m) is preferable. The reason for this is that if the lower limit is made thinner than this, the cover member 16 may not be able to withstand the weight of the light guide member 5 or the like attached thereto or the tension when the adhesive is hardened, and may be damaged. Regarding the upper limit, since the cover member 16 has a larger refractive index than air, a converging action is generated on the light and the light does not spread. As a result, the cover member 16 and the collimator lens (in the case of an infinite optical system) or the objective lens (In the case of a finite optical system), you have to increase the distance from
This is because it is disadvantageous in downsizing the pickup unit. By using such a configuration, the height of the optical pickup can be further reduced, and the pickup unit can be downsized while maintaining sufficient mounting strength.
【0029】これに対して両者の間に空間を設ける場合
は、カバー部材16の厚さ(t2)を0.1≦t2≦
3.0(mm),カバー部材16と光ガイド部材5との
間の距離(d)を同じく0.1≦d≦3.0(mm)と
することが好ましい。この理由はt2の下限については
前例とは違って光ガイド部材5が取り付けられておら
ず、ただ振動等の外部要因にさえ耐えられればよいから
である。またdについては、小さければ小さい程良いの
だが、組立時の精度の誤差を0.1mm以下にできない
可能性があり、この場合組立時にカバー部材16が光ガ
イド部材5に接触し、破損してしまう恐れがある。この
様な構成を用いることにより光ガイド部材5と、光源
1,サブマウント2,ブロック3の間の取り付け相対位
置精度を向上させつつブロック3若しくはサブマウント
2を他の部材に熱的に接触させることが可能であり、こ
れにより光源1で発生する熱を外部に容易に放出するこ
とができる。On the other hand, when a space is provided between the two, the thickness (t2) of the cover member 16 is set to 0.1 ≦ t2 ≦
3.0 (mm), and the distance (d) between the cover member 16 and the light guide member 5 is also preferably 0.1 ≦ d ≦ 3.0 (mm). The reason for this is that the lower limit of t2 is different from the previous example in that the light guide member 5 is not attached, and it is only necessary to withstand external factors such as vibration. Also, as for d, the smaller the better, the better. However, there is a possibility that the accuracy error during assembly cannot be reduced to 0.1 mm or less. In this case, the cover member 16 comes into contact with the light guide member 5 during assembly and breaks. There is a risk that it will. By using such a configuration, the block 3 or the submount 2 is brought into thermal contact with another member while improving the relative positional accuracy between the light guide member 5 and the light source 1, the submount 2, and the block 3. Therefore, the heat generated in the light source 1 can be easily released to the outside.
【0030】なお光ピックアップの内部は光源1及び受
光素子13の酸化防止や光ガイド部材5,カバー部材1
6での結露防止等の観点から、N2等のガスやAr,N
e,He等の不活性ガスを充填することが好ましい。そ
の場合、放熱板4と受光素子13との間に存在する隙間
17を小さな収縮率,低い吸水性,高い気密性(優れた
リーク特性)等の特性を有する接合材、例えばエポキシ
系のポッティング剤や半田等で埋める必要がある。これ
により内部の気密性を高めることができる。The inside of the optical pickup includes a light guide 1 and a cover member 1 for preventing oxidation of the light source 1 and the light receiving element 13.
6, gas such as N 2 or Ar, N
It is preferable to fill an inert gas such as e or He. In this case, the gap 17 existing between the heat radiating plate 4 and the light receiving element 13 is filled with a bonding material having characteristics such as a small shrinkage ratio, low water absorption, and high airtightness (excellent leak characteristics), for example, an epoxy potting agent. It is necessary to fill with solder or solder. Thereby, the inside airtightness can be improved.
【0031】以上示してきた構成を用いることにより、
光源1で発生する熱を容易に外部に放出することがで
き、更にパッケージングの両端面に計2個所の開口部を
設けることにより、酸化防止ガスの封入を容易に行うこ
とができる。また光学系においては光源1,光ガイド部
材5及び受光素子13の相対的な位置関係を正しくかつ
強固に保持することができるので、それらの位置のずれ
による誤動作や余分な光学的収差等が発生しない。By using the configuration shown above,
The heat generated by the light source 1 can be easily released to the outside, and the antioxidant gas can be easily sealed by providing a total of two openings on both end surfaces of the packaging. Further, in the optical system, the relative positional relationship between the light source 1, the light guide member 5, and the light receiving element 13 can be correctly and firmly maintained. do not do.
【0032】またこの光ピックアップのパッケージング
全体での熱抵抗は35℃/w以下とすることがより効率
よく熱をパッケージ外に逃がすことができるので好まし
い。次に本発明の第一実施例における光ピックアップの
動作について、図面を参照しながら説明する。図3は本
発明の一実施の形態における光ピックアップの動作の概
念図、図4は本発明の一実施の形態における光ガイド部
材の斜視図である。It is preferable that the thermal resistance of the entire optical pickup is 35 ° C./w or less because the heat can be more efficiently released outside the package. Next, the operation of the optical pickup according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 3 is a conceptual diagram of the operation of the optical pickup according to the embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a perspective view of the light guide member according to the embodiment of the present invention.
【0033】図3及び図4において放熱板4上にサブマ
ウント2及びブロック3を介して水平にマウントされた
光源1から水平に放出されたレーザ光は、平行な複数の
斜面を有する光ガイド部材5の面5fから光ガイド部材
5に入射し、光ガイド部材5の第二の斜面5bに形成さ
れかつ入射する光の拡散角に対して射出する光の拡散角
を変換する(以下NAを変換すると呼ぶ)機能を有する
反射型の拡散角変換ホログラム7に到達する。拡散角変
換ホログラム7によってNAを変換されかつ反射した光
は第一の斜面5aに形成された反射型の回折格子6によ
って0次回折光(以下メインビームと呼ぶ)と±1次回
折光(以下サイドビームと呼ぶ)とに分けられる。回折
格子6によって発生するメインビーム及びサイドビーム
は第1の偏光選択性のあるビームスプリッター膜9(以
下単に第一のビームスプリッター膜と呼ぶ)に入射す
る。第一のビームスプリッター膜9は入射面に対して平
行な振動成分を有する光(以下単にP偏光成分と呼ぶ)
に対してほぼ100%の透過率を有し、垂直な振動成分
(以下単にS偏光成分と呼ぶ)に対しては一定の反射率
を有する。第一のビームスプリッター膜9に入射する光
のうち第一のビームスプリッター膜9を透過する光は光
源1からの射出光のモニター光として利用される。ま
た、第一のビームスプリッター膜9で反射されたS偏光
成分に直線偏光したメインビーム及びサイドビームは、
光ガイド部材5の面5e及びカバー部材16を透過、対
物レンズ26に入射し、対物レンズ26の集光作用によ
って記録媒体27の記録媒体面27aに結像される。こ
の時、記録媒体面27a上において2つのサイドビーム
のビームスポット29a及び29cはメインビームのビ
ームスポット29bを中心としてほぼ対称な位置に結像
される。記録媒体面27aに対してメインビーム及びサ
イドビームのビームスポット29b及び29a、29c
により情報の記録または再生信号及びトラッキング、フ
ォーカシングいわゆるサーボ信号の読みだしを行う。In FIGS. 3 and 4, the laser light horizontally emitted from the light source 1 horizontally mounted on the heat radiating plate 4 via the submount 2 and the block 3 is a light guide member having a plurality of parallel inclined surfaces. 5 from the surface 5f of the light guide member 5, and converts the diffusion angle of the emitted light to the diffusion angle of the incident light formed on the second inclined surface 5b of the light guide member 5 (hereinafter, NA is converted). Hologram 7 of a reflection type having a function. The light whose NA has been converted and reflected by the diffusion angle conversion hologram 7 is reflected by the reflection type diffraction grating 6 formed on the first slope 5a as a 0th-order diffracted light (hereinafter referred to as a main beam) and ± 1st-order diffracted light (hereinafter referred to as a side beam). ). The main beam and side beam generated by the diffraction grating 6 are incident on a first polarization-selective beam splitter film 9 (hereinafter simply referred to as a first beam splitter film). The first beam splitter film 9 is a light having a vibration component parallel to the incident surface (hereinafter simply referred to as a P-polarized component).
And has a constant reflectance with respect to a vertical vibration component (hereinafter simply referred to as S-polarized component). Of the light that enters the first beam splitter film 9, the light that passes through the first beam splitter film 9 is used as the monitor light of the light emitted from the light source 1. Further, the main beam and side beam linearly polarized into the S-polarized light component reflected by the first beam splitter film 9 are:
The light passes through the surface 5 e of the light guide member 5 and the cover member 16, enters the objective lens 26, and is focused on the recording medium surface 27 a of the recording medium 27 by the light condensing action of the objective lens 26. At this time, the beam spots 29a and 29c of the two side beams are imaged on the recording medium surface 27a at positions substantially symmetric about the beam spot 29b of the main beam. Beam spots 29b, 29a, and 29c of the main beam and side beams with respect to the recording medium surface 27a
To read out information recording or reproduction signals and tracking and focusing so-called servo signals.
【0034】拡散角変換ホログラム7は、光源1からの
射出光のうち拡散角変換ホログラム7へ入射することの
できる光束の拡散角に対して、拡散角変換ホログラム7
からの反射光の拡散角を変換する。また、拡散角変換ホ
ログラム7によって拡散角をまったく持たない平行光に
も変換可能である。また、同じ拡散角変換ホログラム7
によって図3に示されるように光ガイド部材5射出後の
光束が途中経路で積算された波面収差が取り除かれた理
想球面波30となる。したがって、対物レンズ26への
入射光は理想球面波30となり、対物レンズ26による
記録媒体27でのビームスポットはほぼ回折限界まで絞
り込まれ理想的な大きさとなり、情報の記録または再生
を容易に行うことができる。The divergence angle conversion hologram 7 is provided for the divergence angle conversion hologram 7 of the light emitted from the light source 1 and which can enter the divergence angle conversion hologram 7.
The angle of diffusion of the light reflected from the object is converted. Further, the light can be converted into parallel light having no diffusion angle by the diffusion angle conversion hologram 7. Also, the same diffusion angle conversion hologram 7
Thus, as shown in FIG. 3, the light flux emitted from the light guide member 5 becomes an ideal spherical wave 30 from which the wavefront aberration accumulated in the midway path is removed. Therefore, the incident light on the objective lens 26 becomes an ideal spherical wave 30, and the beam spot on the recording medium 27 by the objective lens 26 is narrowed down to the diffraction limit to an ideal size, and information recording or reproduction is easily performed. be able to.
【0035】記録媒体27の記録媒体面27aによって
反射されたメインビーム及びサイドビームの戻り光は対
物レンズ26、光ガイド部材5の面5eを再び通過し、
光ガイド部材の第二の斜面5bに形成された第一のビー
ムスプリッター膜9に入射する。The return light of the main beam and the side beam reflected by the recording medium surface 27a of the recording medium 27 passes through the objective lens 26 and the surface 5e of the light guide member 5 again.
The light enters the first beam splitter film 9 formed on the second inclined surface 5b of the light guide member.
【0036】記録媒体27からの戻り光のうち第一のビ
ームスプリッター膜9から透過する光は光ガイド部材5
の第一の斜面5aに平行な第三の斜面5c上に形成され
た第2の偏光選択性のあるビームスプリッター膜11
(以下単に第二のビームスプリッター膜と呼ぶ)に入射
する。第二のビームスプリッター膜11は第一のビーム
スプリッター膜9と同様にP偏光成分に対してほぼ10
0%の透過率を有し、S偏光成分に対しては一定の反射
率を有する。The light transmitted from the first beam splitter film 9 among the return light from the recording medium 27 is the light guide member 5
The second polarization-selective beam splitter film 11 formed on the third slope 5c parallel to the first slope 5a of FIG.
(Hereinafter simply referred to as a second beam splitter film). The second beam splitter film 11 is similar to the first beam splitter film 9 in that the P beam component is almost 10
It has a transmittance of 0% and a constant reflectance for the S-polarized light component.
【0037】ここで第二のビームスプリッター膜11に
入射した光束の内、透過光117に関して説明する。透
過光117は第三の斜面5c上に積層された偏光面変換
基板31に入射する。Here, the transmitted light 117 of the light beam incident on the second beam splitter film 11 will be described. The transmitted light 117 enters the polarization plane conversion substrate 31 laminated on the third inclined surface 5c.
【0038】図5は本発明の一実施の形態における光ピ
ックアップの偏光面変換基板の斜視図、図6は本発明の
一実施の形態における光ピックアップの受光部配置及び
信号処理を示す図である。偏光面変換基板31は第1の
その他の斜面31a(以下単に第1他斜面と呼ぶ)とそ
の第1他斜面31aに略平行な第2のその他の斜面31
b(以下単に第2他斜面と呼ぶ)を有し、第1他斜面3
1aには反射膜126が、第2他斜面31bには偏光分
離膜12が夫々形成されている。透過光117は第2他
斜面31b上に形成された偏光分離膜12に入射する。
第2他斜面31bは透過光117の偏光面117aと入
射面128とのなす角が略45×(2n+1)゜:(n
は整数)になるように形成されている。その結果透過光
117のP偏光成分117PとS偏光成分117Sは略
1:1の強度比を有するようになる。入射面128と平
行な偏光成分を有するP偏光成分117Pは偏光分離膜
12によってほぼ100%透過し、一方、入射面128
に垂直な偏光成分を有するS偏光成分117Sは第2他
斜面31b上の偏光分離膜12によって略100%反射
し第1他斜面31a面上に入射し、反射膜126によっ
て反射され受光素子13へ導かれる。受光素子13に導
かれたP偏向成分117Pは受光部170へ、同じくS
偏向成分は受光部171へ到達してRF信号を作成す
る。FIG. 5 is a perspective view of a polarization plane conversion substrate of an optical pickup according to one embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a diagram showing a light receiving portion arrangement and signal processing of the optical pickup according to one embodiment of the present invention. . The polarization plane conversion substrate 31 includes a first other slope 31a (hereinafter, simply referred to as a first other slope) and a second other slope 31 substantially parallel to the first other slope 31a.
b (hereinafter simply referred to as a second other slope) and a first other slope 3
A reflection film 126 is formed on 1a, and a polarization separation film 12 is formed on the second other slope 31b. The transmitted light 117 enters the polarization splitting film 12 formed on the second other slope 31b.
The angle formed between the polarization plane 117a of the transmitted light 117 and the entrance plane 128 is approximately 45 × (2n + 1) ゜: (n
Is an integer). As a result, the P-polarized light component 117P and the S-polarized light component 117S of the transmitted light 117 have an intensity ratio of about 1: 1. The P-polarized light component 117P having a polarized light component parallel to the incident surface 128 is transmitted by the polarization splitting film 12 almost 100%.
The S-polarized component 117S having a polarization component perpendicular to is reflected by the polarization splitting film 12 on the second other slope 31b substantially 100%, is incident on the first other slope 31a, is reflected by the reflection film 126, and is transmitted to the light receiving element 13. Be guided. The P deflection component 117P guided to the light receiving element 13 is sent to the light receiving unit 170 and is also converted into S
The deflection component reaches the light receiving unit 171 and creates an RF signal.
【0039】次に図3中に示す第二のビームスプリッタ
ー膜11に入射した光束のうち反射光123に関して説
明する。反射光123は第二の斜面5b上の反射型のホ
ログラムで形成された非点収差発生ホログラム10に入
射する。反射光123は非点収差発生ホログラム10に
よって非点収差を発生しつつ、さらに反射膜124,反
射膜125で反射されて、メインビームの戻り光は受光
素子13上の受光部172に、サイドビームの戻り光は
受光素子13上の受光部176及び177に到達する。Next, the reflected light 123 of the light beam incident on the second beam splitter film 11 shown in FIG. 3 will be described. The reflected light 123 is incident on the astigmatism generating hologram 10 formed by a reflection type hologram on the second inclined surface 5b. The reflected light 123 generates astigmatism by the astigmatism generation hologram 10 and is further reflected by the reflecting films 124 and 125, and the return light of the main beam is transmitted to the light receiving section 172 on the light receiving element 13 to the side beam. The returning light of the above reaches the light receiving portions 176 and 177 on the light receiving element 13.
【0040】次に本発明の第二実施例について図を参照
しながら説明する。第二実施例は、特に相変化型光ディ
スクに対応した光ピックアップの構成について説明する
ものである。相変化型光ディスクは光を照射することで
記録媒体中の結晶構造を変化させて情報を記録するもの
で、結晶構造を変化させるために従来の光記録再生装置
に比べてより多くの光量を必要とするので、より効率の
良い光学系を必要とする。図7は本発明の一実施の形態
における相変化型光ディスク用の光ピックアップの構成
図である。なお図1,図2及び図3に示したものと番号
が同一の部材については、その働き及び構成が同様であ
るので説明を省略する。Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The second embodiment particularly describes the configuration of an optical pickup that is compatible with a phase change optical disc. Phase-change optical discs record information by irradiating light to change the crystal structure in the recording medium, and require more light than conventional optical recording / reproducing devices to change the crystal structure. Therefore, a more efficient optical system is required. FIG. 7 is a configuration diagram of an optical pickup for a phase-change optical disk according to an embodiment of the present invention. Note that members having the same numbers as those shown in FIGS. 1, 2 and 3 have the same functions and configurations, and thus description thereof will be omitted.
【0041】光源1から放出されたレーザ光は、平行な
複数の斜面を有する光ガイド部材41の面41fから光
ガイド部材41に入射し、拡散角変換ホログラム7、回
折格子6及び偏光選択性のあるビームスプリッター膜3
5(以下ビームスプリッター膜と呼ぶ)を通って光ガイ
ド部材41の面41eから出射される。ここでビームス
プリッター膜35は第一実施例の場合とは異なりS偏光
成分の反射率は95%以上でP偏光成分の反射率はおよ
そ1%程度である。ビームスプリッター膜35に入射す
る光のうちビームスプリッター膜35を透過する光(P
偏光成分で全光量の数パーセント程度)は光源1からの
射出光のモニター光として利用される。光ガイド部材4
1の面41eから出射された光はカバー部材16に設け
られたλ/4板33を透過する。図8はλ/4板の概観
図である。λ/4板33は光ガイド部材41からの入射
光偏光面に対して、その異常光軸がπ/4・(2m−
1);(ただしmは自然数:以下同じ)の方向に設置さ
れており、入射光の異常光成分と常光成分の位相差をπ
/2・(2m−1)だけ発生させる機能を有している。
λ/4板33を構成する材料としては一般に一軸性結晶
材料を用いる。その中でも低コストで、光透過性に優れ
た水晶を用いることが好ましい。一軸性結晶では異常光
軸616と常光軸617があり、それぞれの光軸に対し
て異常光屈折率ne及び常光屈折率noと呼ばれる異なる
屈折率を有している。異常光と常光では光学的距離が異
なるので、λ/4板33の基板厚をQD,入射光波長を
λとして次の関係式で決まる位相差Δが発生する。λ/
4板33の厚さQDはこの位相差Δがπ/2・(2m−
1)となるように決定されている。The laser light emitted from the light source 1 enters the light guide member 41 from the surface 41f of the light guide member 41 having a plurality of parallel inclined surfaces, and the diffusion angle conversion hologram 7, the diffraction grating 6 and the polarization selective light. A certain beam splitter film 3
5 (hereinafter, referred to as a beam splitter film), and is emitted from the surface 41 e of the light guide member 41. Here, unlike the case of the first embodiment, the beam splitter film 35 has an S-polarized component reflectance of 95% or more and a P-polarized component reflectance of about 1%. Of the light that enters the beam splitter film 35, the light that passes through the beam splitter film 35 (P
The polarized light component (about several percent of the total light amount) is used as the monitor light of the light emitted from the light source 1. Light guide member 4
The light emitted from the first surface 41 e passes through the λ / 4 plate 33 provided on the cover member 16. FIG. 8 is a schematic view of a λ / 4 plate. The λ / 4 plate 33 has an extraordinary optical axis of π / 4 · (2m−) with respect to the plane of polarization of the incident light from the light guide member 41.
1); (where m is a natural number: the same applies below), and the phase difference between the extraordinary component and the ordinary component of the incident light is π
It has the function of generating only 2/2 (2m-1).
Generally, a uniaxial crystal material is used as a material forming the λ / 4 plate 33. Among them, it is preferable to use quartz which is low in cost and excellent in light transmittance. In uniaxial crystals have abnormal optical axis 616 and ordinary light axis 617, and has a different refractive index, called extraordinary refractive index n e and ordinary index n o for each of the optical axes. Since the optical distance is different between the extraordinary light and the ordinary light, a phase difference Δ is generated which is determined by the following relational expression, where QD is the substrate thickness of the λ / 4 plate 33 and λ is the wavelength of the incident light. λ /
The thickness QD of the four plates 33 has a phase difference Δ of π / 2 · (2m−
It is decided to be 1).
【0042】Δ=2π・(ne−no)・QD/λ 本実施例では、波長λ=790nm、異常光屈折率ne
=1.5477、常光屈折率no=1.5388(ただ
し屈折率は基板の切り出し角で異なる。ここでは異常光
軸及び常光軸の双方の軸を含む平面に平行に切り出し
た。)という条件に対してλ/4板33の基板厚は2
1.9・(2m−1)μmとなる。この様な条件にする
ことにより、直線偏光で入射角0度で入射してきた光を
円偏向の光に変換することができる。即ち光源1から出
射されたS偏向成分のみを含む直線偏光を円偏光に変換
することができる。なおここではλ/4板33としてカ
バー部材16上に21.9μmの水晶を設けていたが、
光ガイド部材の面41eや対物レンズ26に設けること
もある。Δ = 2π · (n e −n o ) · QD / λ In this embodiment, the wavelength λ = 790 nm and the extraordinary light refractive index ne.
= 1.5477, and ordinary refractive index no = 1.5388 (however, the refractive index differs depending on the cutting angle of the substrate. Here, the refractive index is cut parallel to a plane including both the extraordinary optical axis and the ordinary optical axis). On the other hand, the substrate thickness of the λ / 4 plate 33 is 2
1.9 · (2m−1) μm. By setting such conditions, it is possible to convert linearly polarized light that is incident at an incident angle of 0 degree into circularly polarized light. That is, the linearly polarized light including only the S-polarized component emitted from the light source 1 can be converted into circularly polarized light. Here, 21.9 μm crystal was provided on the cover member 16 as the λ / 4 plate 33,
It may be provided on the surface 41 e of the light guide member or the objective lens 26.
【0043】λ/4板33を透過して円偏向となった光
は対物レンズ26に入射し、対物レンズ26の集光作用
によって記録媒体27の記録媒体面27aに結像され、
反射される。記録媒体面で反射された円偏光化した光は
その回転方向が逆転するので、戻り光は対物レンズ26
を透過し、再びλ/4板33を透過する際に、P偏光成
分のみを含む直線偏光に変換される。この様に変換され
た戻り光は光ガイド部材41の面41eを再び通過し、
再び光ガイド部材の第二の斜面41bに形成されたビー
ムスプリッター膜35に入射する。前述のようにビーム
スプリッター膜35はP偏光成分に対してほぼ100%
の透過率を有し、S偏光成分に対してはほぼ100%の
反射率を有する。従ってP偏光成分しか有さない戻り光
はビームスプリター膜35をほぼ透過する。The light that has been circularly polarized after passing through the λ / 4 plate 33 enters the objective lens 26 and is focused on the recording medium surface 27a of the recording medium 27 by the condensing action of the objective lens 26.
Is reflected. Since the direction of rotation of the circularly polarized light reflected on the recording medium surface is reversed, the return light is
When the light passes through the λ / 4 plate 33 again, the light is converted into linearly polarized light containing only the P-polarized light component. The return light thus converted passes again through the surface 41e of the light guide member 41,
The light again enters the beam splitter film 35 formed on the second inclined surface 41b of the light guide member. As described above, the beam splitter film 35 has almost 100% of the P polarization component.
And a reflectance of about 100% for the S-polarized component. Therefore, the return light having only the P-polarized component almost passes through the beam splitter film 35.
【0044】そして戻り光は光ガイド部材41の第一の
斜面41aに平行な第三の斜面41c上に形成されたハ
ーフミラー34に入射する。ハーフミラー34は入射し
た光のうち所定の量を反射して、残りを透過する働きを
有している。Then, the return light enters the half mirror 34 formed on the third slope 41c parallel to the first slope 41a of the light guide member 41. The half mirror 34 has a function of reflecting a predetermined amount of the incident light and transmitting the rest.
【0045】ここでハーフミラー34に入射した光束の
内、透過光117は受光素子36上に設けられている受
光部37へ導かれる。Here, of the light beam incident on the half mirror 34, the transmitted light 117 is guided to the light receiving section 37 provided on the light receiving element 36.
【0046】次に図3中に示すハーフミラー34に入射
した光束のうち反射光123に関して説明する。図9は
本発明の一実施の形態における相変化型光ディスク用の
光ピックアップの受光素子に設けられた受光部の配置図
である。反射光123は第二の斜面41b上の反射型の
ホログラムで形成された非点収差発生ホログラム10に
入射する。反射光123は非点収差発生ホログラム10
によって非点収差を発生しつつ、さらに反射膜124,
反射膜125で反射されて、メインビームの戻り光は受
光素子36上の受光部38に、サイドビームの戻り光は
受光素子36上の受光部39及び40に到達する。Next, the reflected light 123 of the light beam incident on the half mirror 34 shown in FIG. 3 will be described. FIG. 9 is a layout diagram of a light receiving portion provided in a light receiving element of an optical pickup for a phase change optical disc according to an embodiment of the present invention. The reflected light 123 is incident on the astigmatism generating hologram 10 formed of a reflection type hologram on the second inclined surface 41b. The reflected light 123 is the astigmatism generating hologram 10
While astigmatism is generated by the reflection film 124,
The light reflected by the reflection film 125 returns the main beam to the light receiving section 38 on the light receiving element 36, and returns the side beam to the light receiving sections 39 and 40 on the light receiving element 36.
【0047】以上のような構成を有する光ピックアップ
ではλ/4板をビームスプリッター膜35と記録媒体2
7との間に設け、S偏光成分の直線偏光である出射光を
円偏光化した光に変換し、その後記録媒体27で反射さ
れ回転方向が逆転した円偏光化した光をP偏光成分のみ
を有する直線偏光に変換してビームスプリッター膜35
に入射させることにより記録媒体27で反射された光を
ほぼ100%受光素子36上に導くことができるので、
ビームスプリッター膜35のS偏光成分の反射率を大幅
に高くすることができ、従って記録媒体27に照射され
る光量を大きくすることができる。即ち限られた光源1
の出力を効率よく記録媒体27に照射でき、かつ、記録
媒体27からの反射光を効率よく受光素子37に導くこ
とができる。In the optical pickup having the above-described configuration, the λ / 4 plate is combined with the beam splitter film 35 and the recording medium 2.
7, and converts the output light, which is linearly polarized light of the S-polarized light component, into circularly polarized light, and then converts the circularly polarized light reflected by the recording medium 27, whose rotation direction is reversed, to the P-polarized light component only. Beam splitter film 35 by converting into linearly polarized light having
, The light reflected by the recording medium 27 can be guided almost 100% onto the light receiving element 36.
The reflectance of the S-polarized light component of the beam splitter film 35 can be greatly increased, and therefore, the amount of light applied to the recording medium 27 can be increased. That is, limited light source 1
Can be efficiently applied to the recording medium 27, and the reflected light from the recording medium 27 can be efficiently guided to the light receiving element 37.
【0048】次に光ガイド部材5及び光ガイド部材41
の内部に形成されている反射膜124,125,126
(以下単に誘電体反射膜と称す)についてその詳細を図
を参照しながら説明する。Next, the light guide member 5 and the light guide member 41.
Reflection films 124, 125, 126 formed inside the
The details (hereinafter, simply referred to as a dielectric reflection film) will be described with reference to the drawings.
【0049】図10は本発明の一実施の形態における誘
電体反射膜の構成を示す断面図である。FIG. 10 is a sectional view showing a structure of a dielectric reflecting film according to one embodiment of the present invention.
【0050】誘電体反射膜52は光ガイド部材5及び4
1を構成する基板51の表面の所定の位置に形成されて
いるもので、入射してきた光を反射して所定の位置に導
くものである。そしてその構成は図10に示すように高
い屈折率を有する誘電体膜53と低い屈折率を有する誘
電体膜54を交互に積層して形成されている。高い屈折
率を有する誘電体膜53の材料としてはZrO2,Ti
O2,CeO2,Ta2O 5,ZnS等の材料を用いること
が好ましい。また低い屈折率を有する誘電体膜54の材
料としては、MgF2,SiO2等の材料を用いることが
好ましい。またこれらの低い屈折率を有する低い屈折率
を有する誘電体膜54と高い屈折率を有する誘電体膜5
3とを組み合わせて誘電体反射膜52を形成する際に
は、それぞれの膜応力の分布を考慮に入れることが好ま
しい。即ち、交互に形成される高い屈折率を有する誘電
体膜53および低い屈折率を有する誘電体膜54を、そ
れぞれの膜応力を相互に打ち消し合う方向に形成するこ
とが好ましい。このような構成とすることにより、膜応
力が一定の方向に加わってしまい、このため基板にひず
みが発生して、基板が変形したり、誘電体反射膜52が
光軸対してずれてしまうといった問題を回避することが
できるので、光ガイド部材5及び41の歩留まりを向上
させることができるとともに光ピックアップの信頼性を
向上させることができる。The dielectric reflection film 52 is formed by the light guide members 5 and 4.
Is formed at a predetermined position on the surface of the substrate 51 constituting
That reflects the incident light and guides it to a predetermined position.
It is a spider. And its structure is high as shown in FIG.
The dielectric film 53 having a high refractive index and the dielectric film 53 having a low refractive index
The electric film 54 is alternately laminated. High refraction
As a material of the dielectric film 53 having a refractive index, ZrOTwo, Ti
OTwo, CeOTwo, TaTwoO Five, Materials such as ZnS are used
Is preferred. Further, the material of the dielectric film 54 having a low refractive index
As the material, MgFTwo, SiOTwoMaterials such as
preferable. Also these low refractive index has a low refractive index
Film 54 having a high refractive index and the dielectric film 5 having a high refractive index
When the dielectric reflecting film 52 is formed by combining 3 and
Should take into account the distribution of each film stress.
New That is, dielectrics having a high refractive index that are alternately formed
The body film 53 and the dielectric film 54 having a low refractive index are
Forming the respective film stresses in directions that cancel each other out.
Is preferred. With this configuration, the membrane response
Force is applied in a certain direction, which causes the board to be distorted.
May occur, the substrate may be deformed, or the dielectric reflection film 52 may
It is possible to avoid the problem of misalignment with respect to the optical axis.
Therefore, the yield of the light guide members 5 and 41 can be improved.
And the reliability of the optical pickup
Can be improved.
【0051】先に示した高い屈折率を有する誘電体膜5
3の材料と低い屈折率を有する誘電体膜54の材料の中
でも特にSiO2とTiO2との組み合わせを用いること
が、非常に好ましい。なぜならばこの二つの材料はほぼ
同程度の引張応力と圧縮応力を有しているので、TiO
2とSiO2を交互に積層することにより、全体として膜
応力を打ち消し合うような構成とすることが容易にでき
るからである。更に基板として用いられる光学ガラス
(主にBK−7やコバルコガラス等)の線膨張係数は、
TiO2とSiO2の線膨張係数のほぼ中間となっている
ので、温度変化によって基板が膨張収縮しても、全体と
しての一定の割合で膨張収縮が起こるので、基板と誘電
体反射膜との間での乖離の発生を抑制することができ、
従って温度変化に強い高性能な光ガイド部材を提供する
ことができる。Dielectric film 5 having high refractive index shown above
Among the materials of No. 3 and the material of the dielectric film 54 having a low refractive index, it is very preferable to use a combination of SiO 2 and TiO 2 . Because the two materials have almost the same tensile stress and compressive stress, TiO 2
This is because by alternately stacking 2 and SiO 2 , it is possible to easily form a structure in which the film stress is canceled out as a whole. Furthermore, the coefficient of linear expansion of optical glass (mainly BK-7, Cobalco glass, etc.) used as a substrate is
Since the linear expansion coefficient of TiO 2 and SiO 2 is almost in the middle, even if the substrate expands and contracts due to temperature change, expansion and contraction occur at a constant rate as a whole, so that the substrate and the dielectric reflection film are It is possible to suppress the occurrence of divergence between
Therefore, it is possible to provide a high-performance light guide member that is resistant to temperature changes.
【0052】更に基板51に形成する誘電体層のうち、
直接基板51上に形成される第一層には屈折率の低い誘
電体膜を形成することが好ましい。一般に屈折率の低い
物質の方が化学的に安定であり、比較的汚れている基板
表面に膜を形成してもその界面における屈折率の変化は
ほとんどない。これに対して屈折率の高い誘電体膜を比
較的汚れている基板表面に形成すると負の不均一、即ち
界面付近における屈折率が本来その物質が持つ屈折率よ
りも異常に高くなってしまう現象が発生してしまうの
で、膜厚が見かけ上厚くなったようになり、反射率が変
化してしまう。従って基板上に最初に屈折率の低い誘電
体層を形成することにより、基板との界面付近で負の不
均一が発生せず、常に安定した反射率を実現することが
できる。Further, among the dielectric layers formed on the substrate 51,
It is preferable to form a dielectric film having a low refractive index on the first layer formed directly on the substrate 51. In general, a substance having a low refractive index is more chemically stable, and even if a film is formed on the surface of a relatively dirty substrate, the refractive index at the interface hardly changes. On the other hand, when a dielectric film with a high refractive index is formed on a relatively dirty substrate surface, negative non-uniformity, that is, the refractive index near the interface becomes abnormally higher than the original refractive index of the substance Occurs, the film thickness seems to be thicker and the reflectance changes. Therefore, by forming the dielectric layer having a low refractive index first on the substrate, negative nonuniformity does not occur near the interface with the substrate, and a stable reflectance can always be realized.
【0053】そしてこの屈折率の差が大きければ大きい
ほど一つの界面における反射率は大きくなるので、界面
の数、即ち積層する誘電体層の数が少なくても十分な反
射率を確保することができる。従って屈折率の差をでき
るだけ大きく、好ましくは0.5以上とすることによ
り、誘電体反射膜52の厚さを薄くすることができるの
で、膜形成のための工程数を削減することができる。更
に誘電体反射膜を薄くできることにより、基板から突出
する誘電体反射膜の高さが低くなり、各基板を接合する
際の接合層の厚さを薄くすることができるので、基板5
1間の接合強度が向上し、基板の接合部位に発生するは
がれを減少させることができる。特に屈折率の差が0.
5以上にした場合には非常に容易に97%以上の反射率
を実現することができるので更に好ましい。The greater the difference in the refractive index, the greater the reflectance at one interface. Therefore, sufficient reflectance can be ensured even if the number of interfaces, that is, the number of dielectric layers to be laminated is small. it can. Therefore, by making the difference in refractive index as large as possible, preferably 0.5 or more, the thickness of the dielectric reflection film 52 can be made thin, so that the number of steps for film formation can be reduced. Further, since the thickness of the dielectric reflection film can be reduced, the height of the dielectric reflection film protruding from the substrate can be reduced, and the thickness of the bonding layer when bonding the substrates can be reduced.
The joint strength between the two can be improved, and peeling that occurs at the joint portion of the substrate can be reduced. In particular, the difference in refractive index is 0.
When it is 5 or more, a reflectance of 97% or more can be realized very easily, which is more preferable.
【0054】次に誘電体反射膜の膜厚について説明す
る。誘電体反射膜の膜厚は、誘電体膜の屈折率をn、光
の波長をλ、誘電体膜に対する光の入射面の垂線とのな
す角(以下入射角と称す)をθとしたときに、 n×d=λ÷(4cosθ) の関係を満たすようにすることが好ましい。本実施の形
態では特にその厚さを1000Å〜3000Åとするこ
とが比較的薄い膜でも、十分な反射率を得ることができ
るので好ましい。また高屈折率の層と低屈折率の層を9
以上積層することが製膜時の屈折率変動等に十分に対応
することができ、更に十分な反射率を得ることができる
ので、高性能で、高信頼性を有する誘電体反射膜とする
ことができる。更に誘電体反射膜の最外層については、
低屈折率を有する物質の膜厚を誘電体層中で積層される
膜厚よりも厚くする、好ましくは所定の膜厚の奇数倍と
することが、湿度による誘電体反射膜の劣化や機械的損
傷等のプロセス上の保護の観点で、信頼性を向上させる
ことができるので好ましい構成である。Next, the film thickness of the dielectric reflecting film will be described. The film thickness of the dielectric reflection film is such that when the refractive index of the dielectric film is n, the wavelength of light is λ, and the angle formed by the perpendicular to the incident surface of the light with respect to the dielectric film (hereinafter referred to as incident angle) is θ. In addition, it is preferable to satisfy the relationship of n × d = λ ÷ (4 cos θ). In the present embodiment, it is particularly preferable that the thickness is 1000 Å to 3000 Å because a sufficient reflectance can be obtained even with a relatively thin film. Also, a high refractive index layer and a low refractive index layer
Since the above-mentioned lamination can sufficiently cope with the fluctuation of the refractive index at the time of film formation and can further obtain a sufficient reflectance, the dielectric reflection film should have high performance and high reliability. You can Furthermore, regarding the outermost layer of the dielectric reflection film,
Deterioration of the dielectric reflection film due to humidity or mechanical deterioration can be caused by increasing the film thickness of the substance having a low refractive index to a film thickness laminated in the dielectric layer, preferably an odd multiple of the predetermined film thickness. This is a preferable configuration because the reliability can be improved from the viewpoint of process protection such as damage.
【0055】以上のような構成を有する誘電体反射膜に
ついてその特性を調べた。以下その実験及びそれに対す
る比較実験について、図を参照しながら説明する。The characteristics of the dielectric reflecting film having the above structure were examined. Hereinafter, the experiment and the comparative experiment will be described with reference to the drawings.
【0056】図11は本実験の概略図である。70は三
角プリズムで、三角プリズム70はその断面の形状が図
に示すように直角二等辺三角形で、その外面は全て乱反
射を起こさないように研磨されており、その研磨された
底面70aには図12に示すような誘電体反射膜71が
2つの三角プリズム70に挟み込まれるように形成され
ている。なお三角プリズム70の底面70aに誘電体反
射膜71については、シンクロン社のイオンビーム成膜
装置を用いて、三角プリズム70上にまず最初に低い屈
折率を有するSiO2膜71a(屈折率1.45)を6
045Å形成し、次に高い屈折率を有するTiO2膜7
1b(屈折率2.10)を1092Å形成し、SiO2
膜71cを2015Å形成する。この順にTiO2膜7
1bを計7層,SiO2膜71cを計6層交互に蒸着
し、最後に再びSiO2膜71cを2015Å形成して
誘電体反射膜71を形成した。FIG. 11 is a schematic diagram of this experiment. Reference numeral 70 denotes a triangular prism, and the triangular prism 70 has a cross-sectional shape of an isosceles right triangle as shown in the figure. A dielectric reflection film 71 as shown in 12 is formed so as to be sandwiched between the two triangular prisms 70. Regarding the dielectric reflection film 71 on the bottom surface 70a of the triangular prism 70, an SiO 2 film 71a having a low refractive index (refractive index 1. 45) to 6
045Å formed TiO 2 film 7 having the next highest refractive index
1b (refractive index 2.10) is formed 1092Å and SiO 2
The film 71c is formed in 2015Å. TiO 2 film 7 in this order
A total of 7 layers of 1b and a total of 6 layers of SiO 2 films 71c were alternately deposited, and finally, a SiO 2 film 71c was formed again 2015Å to form a dielectric reflection film 71.
【0057】そしてレーザ72からの光を三角プリズム
70の面70bから三角プリズム70に入射させる。こ
のとき入射する光の光軸が面70bに対して垂直になる
ようにそれらの配置には十分に留意する必要がある。そ
して三角プリズム70に入射した光は底面70aに入射
して誘電体反射膜71で反射される。このときもまた底
面70aに入射する光の入射角は45°となっている。
そして誘電体反射膜71で反射された光は、面70cを
通って三角プリズム70から出射され、センサ73に到
達する。また誘電体反射膜71の裏面の反射率を測定す
る実験も行った。裏面の反射率を測定する場合には図1
1に示すようにレーザ72からの光を面70b及び面7
0cを介して、誘電体反射膜71の裏面に光を照射して
そこでの光の反射率を測定する。なお三角プリズム70
の材質としてはここでは光学ガラスBK−7を用いてい
る。また実験には波長が790nmの光を用いた。更に
反射率の測定には日立製自記分光光度計U−4000を
用いた。Then, the light from the laser 72 is made incident on the triangular prism 70 from the surface 70b of the triangular prism 70. At this time, it is necessary to pay sufficient attention to their arrangement so that the optical axis of the incident light is perpendicular to the surface 70b. Then, the light that has entered the triangular prism 70 enters the bottom surface 70 a and is reflected by the dielectric reflection film 71. Also at this time, the incident angle of the light incident on the bottom surface 70a is 45 °.
Then, the light reflected by the dielectric reflecting film 71 passes through the surface 70c, is emitted from the triangular prism 70, and reaches the sensor 73. An experiment was also conducted to measure the reflectance of the back surface of the dielectric reflecting film 71. When measuring the reflectance on the back side,
As shown in FIG. 1, the light from the laser 72 is directed to the surfaces 70b and 7b.
The back surface of the dielectric reflection film 71 is irradiated with light through 0c and the reflectance of the light there is measured. The triangular prism 70
Optical glass BK-7 is used here as the material. Light having a wavelength of 790 nm was used for the experiment. Further, a Hitachi self-recording spectrophotometer U-4000 was used for measuring the reflectance.
【0058】次に本実験の比較例として更に2つの実験
を行った。第一比較例として、光学ガラスBK−7の三
角プリズムの上にイオンビーム蒸着装置を用いてAg反
射膜を0.1μmの厚さに成膜した試料と、第二比較例
として、光学ガラスBK−7の三角プリズムの上にAN
ERLVA社製のイオンビーム蒸着装置EVC−150
1を用いてTiの下地を0.025μm成膜した上に、
さらにAg反射膜を0.1μmの厚さに成膜した試料と
を作製し、本実験と同様の実験を行い、合計3つの試料
について、その表面及び裏面における反射率を測定し
た。Next, two more experiments were conducted as comparative examples of this experiment. As a first comparative example, a sample in which an Ag reflective film was formed to a thickness of 0.1 μm on a triangular prism of optical glass BK-7 using an ion beam vapor deposition apparatus, and as a second comparative example, optical glass BK was used. AN on a -7 triangular prism
Ion beam vapor deposition device EVC-150 manufactured by ERLVA
1 was used to form a Ti underlayer of 0.025 μm, and
Further, a sample in which an Ag reflective film was formed to a thickness of 0.1 μm was prepared, the same experiment as this experiment was performed, and the reflectances on the front surface and the back surface of the three samples in total were measured.
【0059】更に各試料における反射膜と基板との間の
付着力を検査するためにガラス基板上に形成されたそれ
ぞれの試料の反射膜をJIS−K−5400に規定され
る碁盤目テープ方法を用いて測定した。Further, in order to inspect the adhesive force between the reflective film and the substrate in each sample, the reflective film of each sample formed on the glass substrate is subjected to the cross-cut tape method defined in JIS-K-5400. It was measured using.
【0060】また膜形成時に用いられる代表的な薬品で
あるアセトン及びリムーバーの薬液にガラス基板上に形
成されたそれぞれの試料を浸して、それぞれの反射膜の
耐薬品性を調べた。Further, each sample formed on the glass substrate was immersed in a chemical solution of acetone and a remover, which are typical chemicals used in film formation, and the chemical resistance of each reflective film was examined.
【0061】以上表面の反射率、裏面の反射率、付着力
及び耐薬品性の計4点についての実験の結果を(表1)
に示した。また本実施の形態における誘電体反射膜の表
面及び裏面での反射率と入射光の波長との間の関係を図
13に示している。The results of the experiment on the total of 4 points of the reflectance of the front surface, the reflectance of the back surface, the adhesive force and the chemical resistance are shown in Table 1 below.
It was shown to. Further, FIG. 13 shows the relationship between the reflectance on the front surface and the back surface of the dielectric reflecting film and the wavelength of incident light in the present embodiment.
【0062】[0062]
【表1】 [Table 1]
【0063】(表1)から明らかなように本発明の誘電
体反射膜は、リムーバーについての耐薬品性において、
第一比較例及び第二比較例のいずれと比べても非常に優
れた耐薬品性を有しており、更に付着力においても三試
料中最も優れた付着力を有していることがわかる。更に
反射率においても光ピックアップで用いられるS偏光成
分について非常に良好な反射率を有していることがわか
る。As is clear from (Table 1), the dielectric reflection film of the present invention has the following chemical resistance with respect to the remover.
It can be seen that it has extremely excellent chemical resistance as compared with both the first comparative example and the second comparative example, and also has the best adhesive force among the three samples in terms of adhesive force. Further, it can be seen that the reflectance has a very good reflectance with respect to the S-polarized component used in the optical pickup.
【0064】従って反射膜として本発明の誘電体反射膜
を用いることにより、その表面、裏面の両面において、
金属反射膜に比べて吸収損失が非常に小さいので、極め
て高い反射率を実現することができる。よって各誘電体
反射膜における光の損失が少ないので十分な光量を受光
素子13に導くことができる。Therefore, by using the dielectric reflecting film of the present invention as the reflecting film, both the front surface and the back surface of the dielectric reflecting film of the present invention are
Since the absorption loss is much smaller than that of the metal reflection film, an extremely high reflectance can be realized. Therefore, since the loss of light in each dielectric reflection film is small, a sufficient amount of light can be guided to the light receiving element 13.
【0065】また有機溶剤に対する耐薬品性が非常に高
いので、誘電体反射膜を形成した後の他の薄膜等の製造
工程において用いられる各種有機溶剤によって誘電体反
射膜の膜厚が変化することがほとんどない。従って設計
通りの反射率を実現することができるので効率よく光を
受光素子13に導くことができる。Further, since the chemical resistance to the organic solvent is very high, the film thickness of the dielectric reflection film may be changed by various organic solvents used in the manufacturing process of other thin films after forming the dielectric reflection film. There is almost no. Therefore, since the reflectance as designed can be realized, the light can be efficiently guided to the light receiving element 13.
【0066】更にガラス基板との付着力が非常に高いの
で、全光学素子を形成した後に各基板を張り合わせて基
板ブロックを形成し、それを所定の形に切り出す光ガイ
ド部材5及び41の製造工程において、反射膜と基板と
の間の付着力が弱いために発生する基板のはがれ等を防
止することができ、従って歩留まりの高い、かつ信頼性
の高い光ガイド部材ひいては光ピックアップとすること
ができる。Further, since the adhesive force to the glass substrate is very high, the manufacturing process of the light guide members 5 and 41 for forming the substrate block by laminating the substrates after forming all the optical elements and cutting the substrate block into a predetermined shape. In the above, it is possible to prevent the peeling of the substrate or the like that occurs due to the weak adhesion between the reflective film and the substrate, and thus to provide a highly reliable and highly reliable optical guide member and thus an optical pickup. .
【0067】[0067]
【発明の効果】基板の光路上に複数の誘電体層を積層し
て形成されている反射膜を設けたことにより、反射膜で
の反射効率を高めることができるとともに基板との接合
性を良好にすることができるので、受光素子に導かれる
光の光量を確保することができ、さらに光ガイド部材製
造時に発生していた基板のはがれを防止することができ
る。EFFECTS OF THE INVENTION By providing a reflective film formed by laminating a plurality of dielectric layers on the optical path of the substrate, the reflection efficiency of the reflective film can be increased and the bondability with the substrate is good. Therefore, it is possible to secure the amount of light guided to the light receiving element, and further it is possible to prevent the peeling of the substrate that has occurred during the manufacture of the light guide member.
【0068】また複数の誘電体層中に屈折率の異なる誘
電体層を少なくとも一層形成したことにより、反射効率
を向上させることができるので、受光素子上での光量を
ある程度十分に確保することができる。Further, since the reflection efficiency can be improved by forming at least one dielectric layer having a different refractive index in the plurality of dielectric layers, it is possible to secure a sufficient amount of light on the light receiving element. it can.
【0069】そして屈折率の高い誘電体層と屈折率の低
い誘電体層とを交互に積層したことにより、反射効率を
更に向上させることができるので、受光素子上での光量
を十分に確保することができ、従って受光素子で受光し
た光から良好なRF信号を形成することができる。従っ
て光ピックアップの性能を向上させることができる。By alternately laminating the dielectric layers having a high refractive index and the dielectric layers having a low refractive index, the reflection efficiency can be further improved, so that a sufficient amount of light on the light receiving element can be secured. Therefore, a good RF signal can be formed from the light received by the light receiving element. Therefore, the performance of the optical pickup can be improved.
【0070】さらに基板に一番近い誘電体層を低い屈折
率を有する誘電体層としたことにより、誘電体層での屈
折率の変化を防止することができるので、反射率を安定
させることができ、従ってRF信号の光ピックアップご
との個体差を低減することができる。Further, by making the dielectric layer closest to the substrate a dielectric layer having a low refractive index, it is possible to prevent a change in the refractive index in the dielectric layer, so that the reflectance can be stabilized. Therefore, it is possible to reduce the individual difference of the RF signal for each optical pickup.
【0071】屈折率の高い誘電体層と屈折率の低い誘電
体層との屈折率の差を0.5以上としたことにより、誘
電体反射膜の厚さを非常に薄くすることができるので、
膜形成のための作業所用時間を低減することができる。
更に誘電体反射膜を薄くできることにより、基板から突
出する誘電体反射膜の高さが低くなり、各基板を接合す
る際の接合層の厚さを薄くすることができるので、基板
間の接合強度が向上し、基板の接合部位に発生するはが
れを減少させることができる。By setting the difference in refractive index between the dielectric layer having a high refractive index and the dielectric layer having a low refractive index to 0.5 or more, the thickness of the dielectric reflecting film can be made extremely thin. ,
The work time for film formation can be reduced.
Furthermore, since the thickness of the dielectric reflection film can be made thinner, the height of the dielectric reflection film protruding from the substrate can be lowered, and the thickness of the bonding layer when bonding the respective substrates can be made thin. It is possible to reduce the peeling that occurs at the bonding portion of the substrate.
【0072】複数の誘電体層をそれぞれの膜応力を打ち
消し合う方向に形成したことにより、基板の反りや反射
膜での反射率の位置依存性を防止することができるの
で、光ガイド部材の歩留まりを向上させることができる
とともに光ピックアップの信頼性を向上させることがで
きる。By forming the plurality of dielectric layers in the directions in which the respective film stresses are canceled out, it is possible to prevent the warp of the substrate and the position dependence of the reflectance of the reflective film, and thus the yield of the light guide member is improved. And the reliability of the optical pickup can be improved.
【図1】本発明の一実施の形態における光ピックアップ
のパッケージングの構成を示す断面図FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of packaging of an optical pickup according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一実施の形態における光ピックアップ
のパッケージングの構成を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the optical pickup packaging according to the embodiment of the present invention;
【図3】本発明の一実施の形態における光ピックアップ
の動作の概念図FIG. 3 is a conceptual diagram of an operation of the optical pickup according to the embodiment of the present invention;
【図4】本発明の一実施の形態における光ガイド部材の
斜視図FIG. 4 is a perspective view of a light guide member according to one embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一実施の形態における光ピックアップ
の偏光面変換基板の斜視図FIG. 5 is a perspective view of a polarization plane conversion substrate of the optical pickup according to the embodiment of the present invention;
【図6】本発明の一実施の形態における光ピックアップ
の受光部配置及び信号処理を示す図FIG. 6 is a diagram showing a light receiving unit arrangement and signal processing of the optical pickup according to one embodiment of the present invention;
【図7】本発明の一実施の形態における相変化型光ディ
スク用の光ピックアップの構成図FIG. 7 is a configuration diagram of an optical pickup for a phase-change optical disc according to an embodiment of the present invention.
【図8】本発明の一実施の形態におけるλ/4板の概観
図FIG. 8 is a schematic view of a λ / 4 plate according to an embodiment of the present invention.
【図9】本発明の一実施の形態における相変化型光ディ
スク用の光ピックアップの受光素子に設けられた受光部
の配置図FIG. 9 is a layout diagram of a light receiving section provided in a light receiving element of an optical pickup for a phase change optical disk according to an embodiment of the present invention.
【図10】本発明の一実施の形態における誘電体反射膜
の構成を示す断面図FIG. 10 is a sectional view showing the structure of a dielectric reflecting film according to an embodiment of the present invention.
【図11】本実験の概略図FIG. 11 is a schematic diagram of this experiment.
【図12】本発明の一実施の形態に反射膜の断面図FIG. 12 is a sectional view of a reflective film according to an embodiment of the present invention.
【図13】本発明の一実施の形態における誘電体反射膜
の表面及び裏面での反射率と入射光の波長との間の関係
図FIG. 13 is a relationship diagram between the reflectance on the front surface and the back surface of the dielectric reflecting film and the wavelength of incident light in the embodiment of the present invention.
【図14】従来の光ピックアップの構成図FIG. 14 is a configuration diagram of a conventional optical pickup.
【図15】従来の反射膜の断面図FIG. 15 is a sectional view of a conventional reflection film.
1 光源 2 サブマウント 2a 電極面 3 ブロック 3a 突起部 3b 端面部 4 放熱板 4a 孔 5 光ガイド部材 5a 第一の斜面 5b 第二の斜面 5c 第三の斜面 5e 面 5f 面 6 回折格子 7 拡散角変換ホログラム 9 第一のビームスプリッター膜 9a 保護膜 10 非点収差発生ホログラム 11 第二のビームスプリッター膜 12 偏光分離膜 13 受光素子 13a 電極 14 パッケージ 14a リードフレーム 14b リードフレームの足 14c 段差 14d ワイヤ 15 シェル 16 カバー部材 16a 反射防止膜 17 隙間 26 対物レンズ 27 記録媒体 27a 記録媒体面 28 第2のビームスプリッター膜 29a,29b,29c ビームスポット 30 理想球面波 31 偏光面変換基板 31a 第1他斜面 31b 第2他斜面 31c 第一面 31d 第二面 33 λ/4板 34 ハーフミラー 35 ビームスプリッター膜 36 受光素子 37,38,39,40 受光部 41 光ガイド部材 41a 第一の斜面 41b 第二の斜面 41c 第三の斜面 41e 面 41f 面 51 基板 52 誘電体反射膜 53 高い屈折率を有する誘電体膜 54 低い屈折率を有する誘電体膜 70 三角プリズム 70a 底面 70b 面 70c 面 71 誘電体反射膜 71a SiO2膜 71b TiO2膜 72 レーザ 73 センサ 117 透過光 117a 偏光面 117S S偏光成分 117P P偏光成分 123 反射光 124 反射膜 125 反射膜 126 反射膜 128 入射面 170,171,172,172a,172b,172
c,172d,176,177 受光部 616 異常光軸 617 常光軸DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 light source 2 submount 2a electrode surface 3 block 3a protrusion 3b end surface 4 heat sink 4a hole 5 light guide member 5a first slope 5b second slope 5c third slope 5e surface 5f surface 6 diffraction grating 7 diffusion angle Conversion hologram 9 First beam splitter film 9a Protective film 10 Astigmatism generation hologram 11 Second beam splitter film 12 Polarization separation film 13 Light receiving element 13a Electrode 14 Package 14a Lead frame 14b Lead frame foot 14c Step 14d Wire 15 Shell 16 cover member 16a antireflection film 17 gap 26 objective lens 27 recording medium 27a recording medium surface 28 second beam splitter film 29a, 29b, 29c beam spot 30 ideal spherical wave 31 polarization plane conversion substrate 31a first other slope 31b second Other slope 31c One surface 31d Second surface 33 λ / 4 plate 34 Half mirror 35 Beam splitter film 36 Light receiving element 37, 38, 39, 40 Light receiving portion 41 Light guide member 41a First slope 41b Second slope 41c Third slope 41e Surface 41f surface 51 substrate 52 dielectric reflection film 53 dielectric film having high refractive index 54 dielectric film having low refractive index 70 triangular prism 70a bottom surface 70b surface 70c surface 71 dielectric reflection film 71a SiO 2 film 71b TiO 2 film 72 Laser 73 Sensor 117 Transmitted light 117a Polarization plane 117S S polarization component 117P P polarization component 123 Reflection light 124 Reflective film 125 Reflective film 126 Reflective film 128 Incident surface 170, 171, 172, 172a, 172b, 172
c, 172d, 176, 177 Light receiving part 616 Extraordinary optical axis 617 Ordinary optical axis
Claims (17)
方向に対して傾斜した複数の基板を有し、前記基板の光
路上に複数の誘電体層を積層して形成されている反射膜
を有し、前記光源からの光を光媒体に導くとともに、前
記光媒体から反射してきた光を所定の位置に導く光ガイ
ド部材と、光を受光するとともに受光した光信号を電気
信号に変換する受光手段とを備えたことを特徴とする光
ピックアップ。1. A reflection having a light source and a plurality of substrates inclined with respect to an incident direction of light emitted from the light source, the reflection being formed by laminating a plurality of dielectric layers on an optical path of the substrate. An optical guide member that has a film and guides the light from the light source to the optical medium and guides the light reflected from the optical medium to a predetermined position, and receives the light and converts the received optical signal into an electrical signal. An optical pickup, comprising:
層を少なくとも一層形成したことを特徴とする請求項1
記載の光ピックアップ。2. A dielectric layer having different refractive indexes is formed in each of a plurality of dielectric layers.
Optical pickup as described.
体層とが交互に積層されていることを特徴とする請求項
1,2いずれか1記載の光ピックアップ。3. The optical pickup according to claim 1, wherein dielectric layers having a high refractive index and dielectric layers having a low refractive index are alternately laminated.
する誘電体層としたことを特徴とする請求項3記載の光
ピックアップ。4. The optical pickup according to claim 3, wherein the dielectric layer closest to the substrate is a dielectric layer having a low refractive index.
体層との屈折率の差が0.5以上あることを特徴とする
請求項3,4光ピックアップいずれか1記載の光ピック
アップ。5. The optical pickup according to claim 3, wherein a difference in refractive index between the dielectric layer having a high refractive index and the dielectric layer having a low refractive index is 0.5 or more. pick up.
ち消し合う方向に形成されていることを特徴とする請求
項1〜5いずれか1記載の光ピックアップ。6. The optical pickup according to claim 1, wherein the plurality of dielectric layers are formed in directions in which the respective film stresses are canceled out.
い誘電体層の厚さよりも厚くしたことを特徴とする請求
項3〜6いずれか1記載の光ピックアップ。7. The optical pickup according to claim 3, wherein the dielectric layer having a low refractive index is thicker than the dielectric layer having a low refractive index.
方向に対して傾斜した複数の基板を有し、前記基板表面
の光路上に複数の誘電体層を積層して形成されている反
射膜を有し、前記光源からの光を光媒体に導くととも
に、前記光媒体から反射してきた光を所定の位置に導く
光ガイド部材と、光を受光するとともに受光した光信号
を電気信号に変換する受光手段とを備えたことを特徴と
する相変化型光ディスク用の光ピックアップ。8. A light source and a plurality of substrates inclined with respect to an incident direction of light emitted from the light source, wherein a plurality of dielectric layers are laminated on an optical path on the surface of the substrate. An optical guide member that has a reflection film and guides the light from the light source to the optical medium and guides the light reflected from the optical medium to a predetermined position, and receives the light and converts the received optical signal into an electrical signal. An optical pickup for a phase-change optical disc, comprising: a light receiving unit for converting.
層を少なくとも一層形成したことを特徴とする請求項8
記載の相変化型光ディスク用の光ピックアップ。9. A dielectric layer having at least one different refractive index is formed in each of the plurality of dielectric layers.
An optical pickup for the described phase change optical disc.
電体層とが交互に積層されていることを特徴とする請求
項8,9いずれか1記載の相変化型光ディスク用の光ピ
ックアップ。10. The light for a phase-change optical disk according to claim 8, wherein dielectric layers having a high refractive index and dielectric layers having a low refractive index are alternately laminated. pick up.
有する誘電体層としたことを特徴とする請求項10記載
の相変化型光ディスク用の光ピックアップ。11. The optical pickup for a phase-change optical disk according to claim 10, wherein the dielectric layer facing the substrate is a dielectric layer having a low refractive index.
電体層との屈折率の差が0.5以上あることを特徴とす
る請求項10,11いずれか1記載の相変化型光ディス
ク用の光ピックアップ。12. The phase-change type according to claim 10, wherein the difference in refractive index between the dielectric layer having a high refractive index and the dielectric layer having a low refractive index is 0.5 or more. Optical pickup for optical disc.
打ち消し合う方向に形成されていることを特徴とする請
求項8〜12いずれか1記載の相変化型光ディスク用の
光ピックアップ。13. An optical pickup for a phase change type optical disk according to claim 8, wherein a plurality of dielectric layers are formed in directions in which respective film stresses are canceled out.
低い誘電体層の厚さよりも厚くしたことを特徴とする請
求項10〜13いずれか1記載の相変化型光ディスク用
の光ピックアップ。14. The phase-change optical disk according to claim 10, wherein the dielectric layer having a low refractive index is thicker than the dielectric layer having a low refractive index. Optical pickup.
にλ/4板を設け、前記λ/4板と光の光軸とが略垂直
であることを特徴とする請求項8〜14いずれか1記載
の相変化型光ディスク用の光ピックアップ。15. A λ / 4 plate is provided between the light emitting surface of the light guide member and the optical medium, and the λ / 4 plate and the optical axis of the light are substantially perpendicular to each other. (14) An optical pickup for a phase change type optical disc according to any one of (1) to (14).
を行う導光手段を傾斜面に備え、前記傾斜面を介して、
光媒体からの反射光を受光手段に導くことを特徴とする
請求項8〜15いずれか1記載の相変化型光ディスク用
の光ピックアップ。16. An inclined surface is provided with a light guide means for transmitting or reflecting light and at least one of the light guiding means is provided through the inclined surface.
The optical pickup for a phase-change type optical disc according to any one of claims 8 to 15, wherein the reflected light from the optical medium is guided to a light receiving means.
徴とする請求項16記載の相変化型光ディスク用の光ピ
ックアップ。17. The optical pickup for a phase-change optical disk according to claim 16, wherein the light guiding means is a half mirror.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8006341A JPH09198701A (en) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | Optical pickup and optical pickup for phase change type optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8006341A JPH09198701A (en) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | Optical pickup and optical pickup for phase change type optical disk |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09198701A true JPH09198701A (en) | 1997-07-31 |
Family
ID=11635673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8006341A Pending JPH09198701A (en) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | Optical pickup and optical pickup for phase change type optical disk |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09198701A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006134535A (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Konica Minolta Opto Inc | Beam splitter and optical pickup device |
| JP2008530596A (en) * | 2005-02-09 | 2008-08-07 | ウェイヴィーン・インコーポレイテッド | Etendue-efficient combination of multiple light sources |
-
1996
- 1996-01-18 JP JP8006341A patent/JPH09198701A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006134535A (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Konica Minolta Opto Inc | Beam splitter and optical pickup device |
| JP2008530596A (en) * | 2005-02-09 | 2008-08-07 | ウェイヴィーン・インコーポレイテッド | Etendue-efficient combination of multiple light sources |
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