JPH09199781A - レーザ増幅器 - Google Patents
レーザ増幅器Info
- Publication number
- JPH09199781A JPH09199781A JP2313996A JP2313996A JPH09199781A JP H09199781 A JPH09199781 A JP H09199781A JP 2313996 A JP2313996 A JP 2313996A JP 2313996 A JP2313996 A JP 2313996A JP H09199781 A JPH09199781 A JP H09199781A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- incident
- laser
- excitation
- angle
- amplifier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 55
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 3-morpholin-4-yl-1-oxa-3-azonia-2-azanidacyclopent-3-en-5-imine;hydrochloride Chemical compound Cl.[N-]1OC(=N)C=[N+]1N1CCOCC1 NCGICGYLBXGBGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 42
- 229910017502 Nd:YVO4 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 13
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 主発振器からのレーザビームを容易に結合で
きるレーザ増幅器を提供する。 【解決手段】 Nd:YVO4結晶1の側面からレーザ
ダイオード2によって励起光を入射する。励起面には二
波長コート6が施されている。入射ビーム3は、Nd:
YVO4結晶1の入射面に対して入射角θinがブルュー
スター角θbになるように入射させる。Nd:YVO4結
晶1の長さは、入射面の幅を2Wとするとき、2W/tan
{sin-1(sinθb/n)}の整数倍となるように設定する。
したがって、入射ビーム3は、励起面で反射され、入射
面に対向する面で反射され、再び入射面に戻り、出射ビ
ーム4は入射面から出射角θout(=入射角θin)で出
射される(入射角θin=ブルュースター角θb=出射角
θout)。
きるレーザ増幅器を提供する。 【解決手段】 Nd:YVO4結晶1の側面からレーザ
ダイオード2によって励起光を入射する。励起面には二
波長コート6が施されている。入射ビーム3は、Nd:
YVO4結晶1の入射面に対して入射角θinがブルュー
スター角θbになるように入射させる。Nd:YVO4結
晶1の長さは、入射面の幅を2Wとするとき、2W/tan
{sin-1(sinθb/n)}の整数倍となるように設定する。
したがって、入射ビーム3は、励起面で反射され、入射
面に対向する面で反射され、再び入射面に戻り、出射ビ
ーム4は入射面から出射角θout(=入射角θin)で出
射される(入射角θin=ブルュースター角θb=出射角
θout)。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、CW(連続発振)
あるいはパルス発振器の出力が小さく、レーザ加工する
際に、さらにパワーを求められる場合に用いられるレー
ザ増幅器の技術に関するものである。
あるいはパルス発振器の出力が小さく、レーザ加工する
際に、さらにパワーを求められる場合に用いられるレー
ザ増幅器の技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、主発振器のレーザパワーをさ
らに大きくするための手段として、レーザ増幅器(アン
プ)が用いられてきた。一般的なレーザアンプは、レー
ザロッドを用いたアンプであり、励起光はランプ励起方
式の場合、ロッド側面全体から入射される。即ち、励起
される体積はロッド全体である。主発振器からレーザア
ンプに結合されるビーム径は、ロッド径の6〜7割程度
であり、ロッドに蓄積されたエネルギーの内の約50%
が増幅ビームとして取り出される。即ち、取り出し効率
が0.5程度である。通常は、楕円筒集光器が用いら
れ、ロッド中心部が強く励起されるため、主発振器から
のビームをロッドアンプの中心に結合させた場合には、
もう少し効率よくエネルギーが取り出され、実際には
0.6〜0.7程度の取り出し効果が得られる。
らに大きくするための手段として、レーザ増幅器(アン
プ)が用いられてきた。一般的なレーザアンプは、レー
ザロッドを用いたアンプであり、励起光はランプ励起方
式の場合、ロッド側面全体から入射される。即ち、励起
される体積はロッド全体である。主発振器からレーザア
ンプに結合されるビーム径は、ロッド径の6〜7割程度
であり、ロッドに蓄積されたエネルギーの内の約50%
が増幅ビームとして取り出される。即ち、取り出し効率
が0.5程度である。通常は、楕円筒集光器が用いら
れ、ロッド中心部が強く励起されるため、主発振器から
のビームをロッドアンプの中心に結合させた場合には、
もう少し効率よくエネルギーが取り出され、実際には
0.6〜0.7程度の取り出し効果が得られる。
【0003】アンプからエネルギーをできるだけ効率よ
く取り出すには、できるだけ主発振器からのビーム径を
拡げて、アンプに結合した方が良くなる。これはLD励
起方式のアンプであっても、基本的に同様である。もち
ろん、主発振器からのビームを拡げてアンプに入射させ
ることは、アンプにおける利得の飽和密度への到達を遅
らせることになり、この点からも望ましいと言える。
く取り出すには、できるだけ主発振器からのビーム径を
拡げて、アンプに結合した方が良くなる。これはLD励
起方式のアンプであっても、基本的に同様である。もち
ろん、主発振器からのビームを拡げてアンプに入射させ
ることは、アンプにおける利得の飽和密度への到達を遅
らせることになり、この点からも望ましいと言える。
【0004】以上のようにして、アンプの取り出し効率
を向上させられるほか、別の手段としては、スラブ状の
結晶を用いたアンプが考えられる。スラブアンプは通
常、スラブ状の活性媒質において、入射された主発振器
からのレーザ光がスラブの側面において多重反射を繰り
返し、励起された領域をできるだけ多く通るように設計
され、入力された励起エネルギーを無駄なく利用しよう
とするものである。たとえば、IEEE J.Quantum Electro
n.27(1991)pp.2327に見られるように、励起領域にデッ
ドスペースができないように設計時工夫される。スラブ
増幅器は、スラブ冷却の容易さ、効率の良さ等を考慮す
ると、活性媒質の大きな励起領域に対して、より大きな
励起エネルギーを入力させることができ、前述したロッ
ド状のアンプより優れた方式と言える。
を向上させられるほか、別の手段としては、スラブ状の
結晶を用いたアンプが考えられる。スラブアンプは通
常、スラブ状の活性媒質において、入射された主発振器
からのレーザ光がスラブの側面において多重反射を繰り
返し、励起された領域をできるだけ多く通るように設計
され、入力された励起エネルギーを無駄なく利用しよう
とするものである。たとえば、IEEE J.Quantum Electro
n.27(1991)pp.2327に見られるように、励起領域にデッ
ドスペースができないように設計時工夫される。スラブ
増幅器は、スラブ冷却の容易さ、効率の良さ等を考慮す
ると、活性媒質の大きな励起領域に対して、より大きな
励起エネルギーを入力させることができ、前述したロッ
ド状のアンプより優れた方式と言える。
【0005】スラブの形状に関しては、米国特許第5,29
9,220号やIEEE J.Quantum Electron28(1992)pp.986に示
されているように、従来より、端面を鋭角にカットさ
せ、スラブ側面にてジグザグ反射しながら、レーザビー
ムが伝搬される設計になっている。
9,220号やIEEE J.Quantum Electron28(1992)pp.986に示
されているように、従来より、端面を鋭角にカットさ
せ、スラブ側面にてジグザグ反射しながら、レーザビー
ムが伝搬される設計になっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の第1の
問題点は、励起領域とスラブ結晶中のレーザビームとの
モード重なり効率を決定するスラブ端面への入射角の調
整が困難であるということである。入射角の調整がずれ
ていると、重なり効率が設計値よりも下がりパワーが取
り出されなくなる問題があった。また、入射面と向かい
合う面の出射面の中心から設計どおりに増幅光が取り出
せなくなることから、特にハイパワースラブアンプの場
合、調整が不十分のまま増幅させると、出射端面の鋭角
にカットされているエッジ付近、あるいは反対側のエッ
ジ付近に増幅ビームが照射されることがある。この場
合、反射光がスラブのホルダー部等に照射され、大きな
ダメージを与えることがあり問題であった。最悪の場
合、この熱でスラブ自身の端面が歪み、破壊されること
もあり、大変高価なスラブ破損につながるおそれもあっ
た。
問題点は、励起領域とスラブ結晶中のレーザビームとの
モード重なり効率を決定するスラブ端面への入射角の調
整が困難であるということである。入射角の調整がずれ
ていると、重なり効率が設計値よりも下がりパワーが取
り出されなくなる問題があった。また、入射面と向かい
合う面の出射面の中心から設計どおりに増幅光が取り出
せなくなることから、特にハイパワースラブアンプの場
合、調整が不十分のまま増幅させると、出射端面の鋭角
にカットされているエッジ付近、あるいは反対側のエッ
ジ付近に増幅ビームが照射されることがある。この場
合、反射光がスラブのホルダー部等に照射され、大きな
ダメージを与えることがあり問題であった。最悪の場
合、この熱でスラブ自身の端面が歪み、破壊されること
もあり、大変高価なスラブ破損につながるおそれもあっ
た。
【0007】第2の問題点は、スラブレーザ端面に鋭角
なカットを形成しなければならないということである。
一般のスラブレーザは、スラブ側面で全反射しながら、
できるだけ励起領域に対してデッドスペースを作らない
ように設計されている。このため、スラブ端面は鋭角な
カットが施されており、スラブ製作上のコストがかかる
だけでなく、取り扱いにも細心の注意が必要となる箇所
である。また、この端面部は通常は冷却できないところ
であり、ハイパワースラブレーザを実用化する上で、熱
歪みによるスラブ結晶破壊の問題が最後まで残るネック
になっていた。
なカットを形成しなければならないということである。
一般のスラブレーザは、スラブ側面で全反射しながら、
できるだけ励起領域に対してデッドスペースを作らない
ように設計されている。このため、スラブ端面は鋭角な
カットが施されており、スラブ製作上のコストがかかる
だけでなく、取り扱いにも細心の注意が必要となる箇所
である。また、この端面部は通常は冷却できないところ
であり、ハイパワースラブレーザを実用化する上で、熱
歪みによるスラブ結晶破壊の問題が最後まで残るネック
になっていた。
【0008】第3の問題点は、スラブレーザアンプのス
ケラビリティ(scalability)の問題である。アンプゲ
インを上げていく場合、通常スラブの長手方向の長さを
増していく。ところが、レーザ結晶のブールの限界か
ら、長さはせいぜい200mm程度である。これ以上、長
くすることは不可能であるので、どうしてもさらなるゲ
インを得たい場合には、スラブをタンデム(tandem)に
結合させていくことになる。ところが、ロッド状のアン
プをタンデムに結合させる場合と違って、スラブをタン
デムに結合させるのは、レーザ増幅光がスラブ端面から
真っ直ぐに出射されないため大変困難であった。
ケラビリティ(scalability)の問題である。アンプゲ
インを上げていく場合、通常スラブの長手方向の長さを
増していく。ところが、レーザ結晶のブールの限界か
ら、長さはせいぜい200mm程度である。これ以上、長
くすることは不可能であるので、どうしてもさらなるゲ
インを得たい場合には、スラブをタンデム(tandem)に
結合させていくことになる。ところが、ロッド状のアン
プをタンデムに結合させる場合と違って、スラブをタン
デムに結合させるのは、レーザ増幅光がスラブ端面から
真っ直ぐに出射されないため大変困難であった。
【0009】以上のような、スラブアンプの原理的な問
題点が存在していた。
題点が存在していた。
【0010】そこで、本発明の目的は、主発振器からの
レーザビームを容易にスラブアンプに結合できる構成を
レーザ増幅器を提供することにある。また、このときの
調整は単純なままで、スラブ励起領域とのオーバーラッ
プ効率が高くなるようにすることである。さらには、従
来のように高価なスラブでなく、できるだけ安価に製作
できる構造・構成にすることを目的としている。
レーザビームを容易にスラブアンプに結合できる構成を
レーザ増幅器を提供することにある。また、このときの
調整は単純なままで、スラブ励起領域とのオーバーラッ
プ効率が高くなるようにすることである。さらには、従
来のように高価なスラブでなく、できるだけ安価に製作
できる構造・構成にすることを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明においては、励起光源を用いてレーザ媒質を
励起し、利得を発生させるレーザ増幅器において、レー
ザ媒質に、互いに平行な第1の面および第2の面を形成
し、第1の面と第2の面との間に、励起光源からの光を
入射する励起面を第1および第2の面に対して直角に形
成し、増幅されるレーザ光は第1の面に対してブリュー
スター角で入射され、励起面で反射されて第2の面に到
達するようにした。
め、本発明においては、励起光源を用いてレーザ媒質を
励起し、利得を発生させるレーザ増幅器において、レー
ザ媒質に、互いに平行な第1の面および第2の面を形成
し、第1の面と第2の面との間に、励起光源からの光を
入射する励起面を第1および第2の面に対して直角に形
成し、増幅されるレーザ光は第1の面に対してブリュー
スター角で入射され、励起面で反射されて第2の面に到
達するようにした。
【0012】以上のようにすれば、レーザ媒質の入出射
面は、その長手方向に対して垂直に研磨すればよいの
で、入出射面が鋭角であった従来装置に比べて1/2〜
2/3のコストで制作が可能になる。
面は、その長手方向に対して垂直に研磨すればよいの
で、入出射面が鋭角であった従来装置に比べて1/2〜
2/3のコストで制作が可能になる。
【0013】また、入射ビームをブルュースター角で入
射させることにより、増幅された出射ビームも自動的に
同じブルュースター角で出射させることが可能となり、
構成が簡単になる。
射させることにより、増幅された出射ビームも自動的に
同じブルュースター角で出射させることが可能となり、
構成が簡単になる。
【0014】さらに、入出射面に無反射コートを付ける
ことが不要となる。通常のYAG,YLF,YVO4な
どのレーザ媒質を用いれば、ジグザグ反射させるスラブ
の長手方向の側面への入射角も臨界角よりも大きくなる
ため、全反射コートも不要となる。以上のように、先述
した研磨コストが少なくなるばかりか、コーティング代
も不要となる構成を構築できる。
ことが不要となる。通常のYAG,YLF,YVO4な
どのレーザ媒質を用いれば、ジグザグ反射させるスラブ
の長手方向の側面への入射角も臨界角よりも大きくなる
ため、全反射コートも不要となる。以上のように、先述
した研磨コストが少なくなるばかりか、コーティング代
も不要となる構成を構築できる。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例について、
図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1実
施例の構成図である。図1(a)は正面図、(b)は側
面図である。本実施例では、スラブとして、Nd:YV
O4結晶1を用いた例を挙げたが、レーザ媒質としては
他にYAG,YLF,YVO4等を使用することもでき
る。
図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の第1実
施例の構成図である。図1(a)は正面図、(b)は側
面図である。本実施例では、スラブとして、Nd:YV
O4結晶1を用いた例を挙げたが、レーザ媒質としては
他にYAG,YLF,YVO4等を使用することもでき
る。
【0016】励起はLD励起方式である。Nd:YVO
4結晶1の入射面に直交する側面のうちの少なくとも一
方より、レーザダイオード(LD)2の励起光を入射さ
せる構成である。本実施例では、LD2は発光部10m
m×1mmのダイオードアレイ(スタック)を使用した
例を示した。励起光源としては他にアークランプやフラ
ッシュランプ等を用いてもよい。
4結晶1の入射面に直交する側面のうちの少なくとも一
方より、レーザダイオード(LD)2の励起光を入射さ
せる構成である。本実施例では、LD2は発光部10m
m×1mmのダイオードアレイ(スタック)を使用した
例を示した。励起光源としては他にアークランプやフラ
ッシュランプ等を用いてもよい。
【0017】LD2は結合光学系を用いないでNd:Y
VO4結晶1に近接させて励起している。Nd:YVO4
結晶1の異常光線(p偏光)に対する屈折率はn=2.1
652(λ=1064nm)であるから、ブルュースタ
ー角θbは65.21°である(θb=tan-1n)。入射
ビーム3を入射角θin=ブリュースター角θbで入射面
(第1の面)に入射させると、Nd:YVO4結晶1内
へ24.79°で出射される。したがって、LD2の励
起光が入射される励起面には、65.21°で入射され
る。
VO4結晶1に近接させて励起している。Nd:YVO4
結晶1の異常光線(p偏光)に対する屈折率はn=2.1
652(λ=1064nm)であるから、ブルュースタ
ー角θbは65.21°である(θb=tan-1n)。入射
ビーム3を入射角θin=ブリュースター角θbで入射面
(第1の面)に入射させると、Nd:YVO4結晶1内
へ24.79°で出射される。したがって、LD2の励
起光が入射される励起面には、65.21°で入射され
る。
【0018】Nd:YVO4結晶1のp偏光成分の臨界
角はθc=27.5°であるから、励起面に入射された
ビームは、たとえこの励起面にθ=65.21°入射の
全反射コーティングがなされていなくても全反射され
る。励起面で全反射された増幅光は、入射面と向かい合
った面(第2の面)から、出射ビーム4として、入射角
θinと等しい出射角θout=65.21°で出射される
(すなわち、出射角θout=入射角θin=ブリュースタ
ー角θb)。
角はθc=27.5°であるから、励起面に入射された
ビームは、たとえこの励起面にθ=65.21°入射の
全反射コーティングがなされていなくても全反射され
る。励起面で全反射された増幅光は、入射面と向かい合
った面(第2の面)から、出射ビーム4として、入射角
θinと等しい出射角θout=65.21°で出射される
(すなわち、出射角θout=入射角θin=ブリュースタ
ー角θb)。
【0019】Nd:YVO4結晶1の場合、LD励起光
に対する吸収係数は大きく、励起光のスペクトル幅が狭
く、Ndの吸収波長809nmに正確に合っている場合
は、Nd濃度が1at.%でも31cm-1と大きく、1
mm厚で約95%の吸収があることになる。発明者ら実
験によれば、実際には市販されているLDのスペクトル
幅は4〜5nm程度の拡がりを有しているため、実際に
は約2.0〜2.5mmでほぼ100%の吸収があるこ
とが判っている。したがって、本実施例においても、励
起光は励起入射表面から2mmの深さでほぼ完全な励起
エネルギーの吸収がある。そこで、φ4mmの入射ビー
ム3をLD励起入射面より2.3mmのところから入れ
ることによって、Nd:YVO4結晶1の励起領域との
モードマッチングを、100%近くにできる。
に対する吸収係数は大きく、励起光のスペクトル幅が狭
く、Ndの吸収波長809nmに正確に合っている場合
は、Nd濃度が1at.%でも31cm-1と大きく、1
mm厚で約95%の吸収があることになる。発明者ら実
験によれば、実際には市販されているLDのスペクトル
幅は4〜5nm程度の拡がりを有しているため、実際に
は約2.0〜2.5mmでほぼ100%の吸収があるこ
とが判っている。したがって、本実施例においても、励
起光は励起入射表面から2mmの深さでほぼ完全な励起
エネルギーの吸収がある。そこで、φ4mmの入射ビー
ム3をLD励起入射面より2.3mmのところから入れ
ることによって、Nd:YVO4結晶1の励起領域との
モードマッチングを、100%近くにできる。
【0020】次に、本発明の第2実施例について図2を
用いて説明する。本実施例では、Nd:YVO4結晶1
の入射面の幅を2Wとするとき、結晶の長さを2W/t
an{sin-1(sinθb/n)}に設定し、入射面
と向かい合う面(第2の面)に、増幅させようとする入
射光レーザの波長に対する全反射膜を付けた。入射ビー
ム3は、入射面の中心(幅2Wの端からWの位置)より
入射させる。また、LD励起光は、入射面と隣り合う両
側面(結晶の長手方向)より、第1実施例と同様な方法
にて入射させている。第2実施例においても、LD2は
10mm幅のLDアレイを使用している。このため、結
晶の長さを10mmとしており、W=2.3mmとして
いる。入射ビーム3をブルュースター角(θb)65.
21°で入射面の幅4.6mmのちょうど中心より入射
させることにより、増幅されたレーザ光が入射した点と
同じ点から、出射ビーム4として、出射角(θout)6
5.21°で結晶長手方向の軸に対して入射ビーム3と
完全に対称な方向に取り出される。
用いて説明する。本実施例では、Nd:YVO4結晶1
の入射面の幅を2Wとするとき、結晶の長さを2W/t
an{sin-1(sinθb/n)}に設定し、入射面
と向かい合う面(第2の面)に、増幅させようとする入
射光レーザの波長に対する全反射膜を付けた。入射ビー
ム3は、入射面の中心(幅2Wの端からWの位置)より
入射させる。また、LD励起光は、入射面と隣り合う両
側面(結晶の長手方向)より、第1実施例と同様な方法
にて入射させている。第2実施例においても、LD2は
10mm幅のLDアレイを使用している。このため、結
晶の長さを10mmとしており、W=2.3mmとして
いる。入射ビーム3をブルュースター角(θb)65.
21°で入射面の幅4.6mmのちょうど中心より入射
させることにより、増幅されたレーザ光が入射した点と
同じ点から、出射ビーム4として、出射角(θout)6
5.21°で結晶長手方向の軸に対して入射ビーム3と
完全に対称な方向に取り出される。
【0021】第1実施例で説明したとおり、入射ビーム
径を2Wの90%近くに選び、そしてLD2と励起光入
射面との間隔を調整して入射端面でビーム直径と一致さ
せることによって、励起光に対してほぼ100%のモー
ドマッチングを得ることが可能であり、YVO4のスラ
ブ結晶に蓄積されたエネルギーを効率よく取り出すこと
ができる。
径を2Wの90%近くに選び、そしてLD2と励起光入
射面との間隔を調整して入射端面でビーム直径と一致さ
せることによって、励起光に対してほぼ100%のモー
ドマッチングを得ることが可能であり、YVO4のスラ
ブ結晶に蓄積されたエネルギーを効率よく取り出すこと
ができる。
【0022】なお、本実施例において、励起光入射面に
は、レーザ光(1064nm)に対して全反射し、励起
光(809nm)に対して無反射となる二波長性コート
6(ダイクロイックコート)を施した例を示した。増幅
されるレーザ光はスラブ結晶内で全反射するにもかかわ
らずコートを施した理由は、二波長性コート6を施すこ
とにより、励起光の損失分(約13.6%)を減ずるこ
とができるからである。Nd:YVO4結晶1は屈折率
が大きいために端面の反射率が大きくなるので、コーテ
ィングした方が良いと判断される。たとえば屈折率の小
さなYLF結晶では反射率が4%程度であり、この場合
はコーティング無しでも問題ない。このように励起光の
損失に関しては、使用されるスラブアンプ結晶の種類に
よって大きく異なる。したがって、コーティングを付け
るかどうかの判断は、結晶の種類によって判断されるべ
きである。
は、レーザ光(1064nm)に対して全反射し、励起
光(809nm)に対して無反射となる二波長性コート
6(ダイクロイックコート)を施した例を示した。増幅
されるレーザ光はスラブ結晶内で全反射するにもかかわ
らずコートを施した理由は、二波長性コート6を施すこ
とにより、励起光の損失分(約13.6%)を減ずるこ
とができるからである。Nd:YVO4結晶1は屈折率
が大きいために端面の反射率が大きくなるので、コーテ
ィングした方が良いと判断される。たとえば屈折率の小
さなYLF結晶では反射率が4%程度であり、この場合
はコーティング無しでも問題ない。このように励起光の
損失に関しては、使用されるスラブアンプ結晶の種類に
よって大きく異なる。したがって、コーティングを付け
るかどうかの判断は、結晶の種類によって判断されるべ
きである。
【0023】次に、本発明の第3実施例について図3を
用いて説明する。本実施例では、第2実施例で示した入
射面と向かい合う面(第2の面)からも励起光を入射さ
せる構成である。この面は増幅されるレーザ光の波長
(1064nm)に対して全反射し、励起光波長(80
9nm)に対して無反射となる二波長コート8を施して
ある。また、本実施例ではLDの発光幅10mmに対し
て、4.6mmまでビーム幅を縮小させるためのレンズ
ダクト(レデューサー7)を用いて、励起光をNd:Y
VO4結晶1まで導入させている。本実施例において
も、励起光入射面には二波長性コート6を施してある。
本実施例によれば、励起光を追加することにより、レー
ザ増幅器の増幅率をアップさせることができる。
用いて説明する。本実施例では、第2実施例で示した入
射面と向かい合う面(第2の面)からも励起光を入射さ
せる構成である。この面は増幅されるレーザ光の波長
(1064nm)に対して全反射し、励起光波長(80
9nm)に対して無反射となる二波長コート8を施して
ある。また、本実施例ではLDの発光幅10mmに対し
て、4.6mmまでビーム幅を縮小させるためのレンズ
ダクト(レデューサー7)を用いて、励起光をNd:Y
VO4結晶1まで導入させている。本実施例において
も、励起光入射面には二波長性コート6を施してある。
本実施例によれば、励起光を追加することにより、レー
ザ増幅器の増幅率をアップさせることができる。
【0024】次に、本発明の第4実施例を図4に示す。
本実施例は、第2実施例で示したNd:YVO4結晶1
の長手方向の長さを2倍にして、励起体積を2倍に増や
した例である。これにより、レーザ増幅器の増幅率をア
ップさせることができる。
本実施例は、第2実施例で示したNd:YVO4結晶1
の長手方向の長さを2倍にして、励起体積を2倍に増や
した例である。これにより、レーザ増幅器の増幅率をア
ップさせることができる。
【0025】次に、本発明の第5実施例について図5を
用いて説明する。本実施例では、第1実施例で示した励
起光入射面で1回反射させ出射していた光を、結晶長手
方向の軸に対して対称に配置された2段目のアンプに入
射させる構成にしている。同様にして、タンデムにアン
プを並べることによって、スケラビリティのあるアンプ
を構成できる。第4実施例では、入手可能な結晶長に限
界があり、スラブ励起体積増加には限界がある。これに
対して、本実施例によればアンプの段数を増やすことに
より所望する増幅度を得られるという効果がある。
用いて説明する。本実施例では、第1実施例で示した励
起光入射面で1回反射させ出射していた光を、結晶長手
方向の軸に対して対称に配置された2段目のアンプに入
射させる構成にしている。同様にして、タンデムにアン
プを並べることによって、スケラビリティのあるアンプ
を構成できる。第4実施例では、入手可能な結晶長に限
界があり、スラブ励起体積増加には限界がある。これに
対して、本実施例によればアンプの段数を増やすことに
より所望する増幅度を得られるという効果がある。
【0026】次に、本発明の第6実施例を図6に示す。
本実施例では、第4実施例の構成を一枚ないしは二枚の
結合ミラー(図において全反射ミラー9)を用いてタン
デムに結合した場合の例である。これにより、図4に示
すダブルパスアンプ構成(第1の面から入射したビーム
を第2の面で反射させて再び第1の面から出射させる構
成)を簡単に結合することができる。
本実施例では、第4実施例の構成を一枚ないしは二枚の
結合ミラー(図において全反射ミラー9)を用いてタン
デムに結合した場合の例である。これにより、図4に示
すダブルパスアンプ構成(第1の面から入射したビーム
を第2の面で反射させて再び第1の面から出射させる構
成)を簡単に結合することができる。
【0027】次に、本発明の第7実施例について図7を
用いて説明する。本実施例は、第6実施例の構成をさら
に段数を重ねられるようにした構成例である。Nd:Y
VO4結晶1を2個、図7に示すように、横に配置し、
そのペアを縦方向に4つ連続させて配置した。図7の左
列のNd:YVO4結晶1の各々には、Nd:YVO4結
晶1の左端面からレデューサー8を介してLD2によっ
て励起光が照射され、図7の右列のNd:YVO4結晶
1の各々には、Nd:YVO4結晶1の右端面からレデ
ューサー8を介してLD2によって励起光が照射され
る。励起光が入射するNd:YVO4結晶1の端面のそ
れぞれには二波長コート8が施されている。すなわち、
本実施例では励起光をスラブ結晶1の長手方向の側面か
ら入射させるのではなく、スラブアンプへの入出力端面
と向かい合う面(折り返しのための全反射膜8が付いて
いる面)より入射させている。
用いて説明する。本実施例は、第6実施例の構成をさら
に段数を重ねられるようにした構成例である。Nd:Y
VO4結晶1を2個、図7に示すように、横に配置し、
そのペアを縦方向に4つ連続させて配置した。図7の左
列のNd:YVO4結晶1の各々には、Nd:YVO4結
晶1の左端面からレデューサー8を介してLD2によっ
て励起光が照射され、図7の右列のNd:YVO4結晶
1の各々には、Nd:YVO4結晶1の右端面からレデ
ューサー8を介してLD2によって励起光が照射され
る。励起光が入射するNd:YVO4結晶1の端面のそ
れぞれには二波長コート8が施されている。すなわち、
本実施例では励起光をスラブ結晶1の長手方向の側面か
ら入射させるのではなく、スラブアンプへの入出力端面
と向かい合う面(折り返しのための全反射膜8が付いて
いる面)より入射させている。
【0028】向かい合うスラブアンプユニットの両端面
の間隔をdとすれば、dtanθbで与えられる間隔で
Nd:YVO4結晶1の長手方向と直交する方向に順々
に積み重ねていくことにより、スケーラブルな構成とす
ることが可能である。入射ビーム3は図7の右列最上段
のNd:YVO4結晶1へ入射角θin(ブリュースター
角θb)で入射され、図に示すようにジグザグに各N
d:YVO4結晶1を通過し、全反射ミラー9で反射さ
れ、再びジグザグに各Nd:YVO4結晶1を通過し、
出射ビーム4として出射角θout(=入射角θin)で出
力される。
の間隔をdとすれば、dtanθbで与えられる間隔で
Nd:YVO4結晶1の長手方向と直交する方向に順々
に積み重ねていくことにより、スケーラブルな構成とす
ることが可能である。入射ビーム3は図7の右列最上段
のNd:YVO4結晶1へ入射角θin(ブリュースター
角θb)で入射され、図に示すようにジグザグに各N
d:YVO4結晶1を通過し、全反射ミラー9で反射さ
れ、再びジグザグに各Nd:YVO4結晶1を通過し、
出射ビーム4として出射角θout(=入射角θin)で出
力される。
【0029】第5実施例では一方向のみに長く伸びてい
くのに対し、本実施例の方法を用いればよりコンパクト
に構成できる。本構成を採れば、非常に小型に大出力ア
ンプを構成させることが可能である。
くのに対し、本実施例の方法を用いればよりコンパクト
に構成できる。本構成を採れば、非常に小型に大出力ア
ンプを構成させることが可能である。
【0030】なお、上記実施例のスラブアンプは、入射
端面とその向かい合う面が平行であるため、1段に大き
な励起エネルギーを強くすると寄生発振することがあ
る。このような場合、1段あたりの励起エネルギーを抑
えタンデムに重ねることにより、所望するゲインを得る
ことが可能である。
端面とその向かい合う面が平行であるため、1段に大き
な励起エネルギーを強くすると寄生発振することがあ
る。このような場合、1段あたりの励起エネルギーを抑
えタンデムに重ねることにより、所望するゲインを得る
ことが可能である。
【0031】
【発明の効果】本発明の第1の効果は、本発明によるレ
ーザ増幅器を用いることによって、製造コストが少なく
て済むことである。その理由は、従来のようにスラブ端
面が鋭角でないため、研磨が簡単となるからである。ま
た、研磨するための母材の体積も最小限で済む。さら
に、少なくとも入射面には無反射コーティング付けなく
て済むことからもコストが下がる。
ーザ増幅器を用いることによって、製造コストが少なく
て済むことである。その理由は、従来のようにスラブ端
面が鋭角でないため、研磨が簡単となるからである。ま
た、研磨するための母材の体積も最小限で済む。さら
に、少なくとも入射面には無反射コーティング付けなく
て済むことからもコストが下がる。
【0032】第2の効果は、アンプに蓄積されたエネル
ギーの取り出し効率が高いことである。その理由は、形
状が単純であるが故に、研磨精度も出しやすく、スラブ
アンプの設計値を高い精度で実現できるからである。こ
の結果、励起領域と入射レーザビームとのオーバーラッ
プ効率は設計どおりの高い値を実現できる。さらに、入
射面への入射レーザビームの入射角をブリュースター角
に、且つ、入射位置を入射面の中心に正確に導入するだ
けの調整で、後は自動的に設計どおりのパスを通り、そ
して設計どおりの出射位置・出射角度で増幅ビームを出
射させることが可能である。
ギーの取り出し効率が高いことである。その理由は、形
状が単純であるが故に、研磨精度も出しやすく、スラブ
アンプの設計値を高い精度で実現できるからである。こ
の結果、励起領域と入射レーザビームとのオーバーラッ
プ効率は設計どおりの高い値を実現できる。さらに、入
射面への入射レーザビームの入射角をブリュースター角
に、且つ、入射位置を入射面の中心に正確に導入するだ
けの調整で、後は自動的に設計どおりのパスを通り、そ
して設計どおりの出射位置・出射角度で増幅ビームを出
射させることが可能である。
【0033】第3の効果は、タンデムに結合することが
容易であり、段数を増やして大きなトータルゲインを得
ることができることである。その理由は、スラブアンプ
に入射するレーザビームの入射角と増幅されたビームの
出射角が同じになる特徴を有しているからである。この
ため、連結させて結合させる際、構成が容易になる。特
にダブルパスアンプ構成をとるとき、1枚ないしは2枚
の折り返し反射鏡を用いて本発明のスラブを結合するだ
けで、このペアになったアンプを何重にも積み重ね、簡
単に大出力アンプを構成できる。
容易であり、段数を増やして大きなトータルゲインを得
ることができることである。その理由は、スラブアンプ
に入射するレーザビームの入射角と増幅されたビームの
出射角が同じになる特徴を有しているからである。この
ため、連結させて結合させる際、構成が容易になる。特
にダブルパスアンプ構成をとるとき、1枚ないしは2枚
の折り返し反射鏡を用いて本発明のスラブを結合するだ
けで、このペアになったアンプを何重にも積み重ね、簡
単に大出力アンプを構成できる。
【図1】本発明の第1実施例を示す構成図であり、
(a)は正面図、(b)は側面図。
(a)は正面図、(b)は側面図。
【図2】本発明の第2実施例を示す構成図。
【図3】本発明の第3実施例を示す構成図。
【図4】本発明の第4実施例を示す構成図。
【図5】本発明の第5実施例を示す構成図。
【図6】本発明の第6実施例を示す構成図。
【図7】本発明の第7実施例を示す構成図。
1 Nd:YVO4結晶 2 LD(レーザダイオード) 3 入射ビーム 4 出射ビーム(増幅光) 5 全反射コート(1064nm HR θ=24.79°) 6 二波長コート(1064nm HR θ=65.21°,809nm AR
θ=0°) 7 レデューサ(結合光学系) 8 二波長コート(1064nm HR θ=24.79°,809nm AR
θ=0°) 9 全反射ミラー
θ=0°) 7 レデューサ(結合光学系) 8 二波長コート(1064nm HR θ=24.79°,809nm AR
θ=0°) 9 全反射ミラー
Claims (5)
- 【請求項1】 励起光源を用いてレーザ媒質を励起し、
利得を発生させるレーザ増幅器において、前記レーザ媒
質に、互いに平行な第1の面および第2の面を形成し、
前記第1の面と第2の面との間に、前記励起光源からの
励起光を入射する励起面を前記第1および第2の面に対
して直角に形成し、増幅されるレーザ光は前記第1の面
に対してブリュースター角で入射され、前記励起面で反
射されて前記第2の面に到達することを特徴とするレー
ザ増幅器。 - 【請求項2】 前記レーザ媒質のp偏光に対する屈折率
をn、前記第1の面の幅を2W、前記ブリュースター角
をθbとするとき、前記1の面と第2の面との間の長さ
が、2W/tan{sin-1(sinθb/n)}の整
数倍である請求項1に記載のレーザ増幅器。 - 【請求項3】 前記レーザ媒質に、前記励起面に対して
平行な反射面を形成し、前記第2の面に、入射角がsi
n-1(sinθb/n)で全反射する薄膜コーティング
を施し、増幅されるレーザ光を前記第1の面の中心に入
射させる請求項2に記載のレーザ増幅器。 - 【請求項4】 前記励起光を前記励起面のみから入射す
るのではなく、前記励起面、前記反射面、前記第2の面
のいずれか1つまたは2つまたはすべてから入射する請
求項3に記載のレーザ増幅器。 - 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか1項に記載
のレーザ増幅器を複数配置し、1つのレーザ増幅器から
の出射ビームを他のレーザ増幅器の入射ビームとするこ
とを特徴とするレーザ増幅器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2313996A JPH09199781A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | レーザ増幅器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2313996A JPH09199781A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | レーザ増幅器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09199781A true JPH09199781A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=12102231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2313996A Pending JPH09199781A (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | レーザ増幅器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09199781A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007036195A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-02-08 | National Institute Of Information & Communication Technology | 多重光路の固体スラブレーザロッドまたは非線形光学結晶を用いたレーザ装置 |
| JP2014229738A (ja) * | 2013-05-22 | 2014-12-08 | 三菱電機株式会社 | 平面導波路型レーザ装置 |
| JP2015528217A (ja) * | 2012-08-03 | 2015-09-24 | スチュアート,マーティン,エー. | スラブレーザおよび増幅器ならびに使用方法 |
| JP2017181429A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社トプコン | レーザスキャナ |
-
1996
- 1996-01-16 JP JP2313996A patent/JPH09199781A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007036195A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-02-08 | National Institute Of Information & Communication Technology | 多重光路の固体スラブレーザロッドまたは非線形光学結晶を用いたレーザ装置 |
| JP2015528217A (ja) * | 2012-08-03 | 2015-09-24 | スチュアート,マーティン,エー. | スラブレーザおよび増幅器ならびに使用方法 |
| EP3185373B1 (en) * | 2012-08-03 | 2021-04-07 | Stephen Lee Cunningham | Slab laser and amplifier |
| JP2014229738A (ja) * | 2013-05-22 | 2014-12-08 | 三菱電機株式会社 | 平面導波路型レーザ装置 |
| JP2017181429A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社トプコン | レーザスキャナ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4837771A (en) | High-efficiency mode-matched solid-state laser with transverse pumping and cascaded amplifier stages | |
| EP0401054A2 (en) | High efficiency mode-matched solid-state laser with transverse pumping and cascaded amplifier stages | |
| US5181223A (en) | High-efficiency mode-matched transversely-pumped solid state laser amplifier | |
| US4785459A (en) | High efficiency mode matched solid state laser with transverse pumping | |
| US7826702B2 (en) | Optically coupling into highly uniform waveguides | |
| JP4584513B2 (ja) | 固体レーザー用の光増幅器装置(Verstaerker−Anordnung) | |
| US4894839A (en) | High efficiency mode-matched solid-state laser with transverse pumping | |
| EP2475054A1 (en) | Collinearly pumped multiple thin disk active medium and its pumping scheme | |
| JP2008522409A (ja) | 高利得ダイオード励起レーザ増幅器 | |
| US9484705B2 (en) | Optically end-pumped slab amplifier comprising pump modules arranged in a distributed manner | |
| JP2010034413A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| CN100438236C (zh) | 光放大装置、光源、其组合以及用于放大光学辐射的方法 | |
| JP2004296671A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| US7061960B2 (en) | Diode-pumped alkali amplifier | |
| US7003011B2 (en) | Thin disk laser with large numerical aperture pumping | |
| JPH09199781A (ja) | レーザ増幅器 | |
| US7505499B2 (en) | Slab laser amplifier with parasitic oscillation suppression | |
| JPH04137573A (ja) | コンポジットスラブレーザ媒体及びレーザ装置 | |
| JPH09312430A (ja) | ジグザグスラブ固体レーザ及び増幅器 | |
| JP2003163394A (ja) | 異方性レーザー結晶をポンピングするための装置 | |
| JP7097236B2 (ja) | レーザ装置 | |
| WO2005069454A1 (ja) | 固体レーザ励起モジュール及びレーザ発振器 | |
| JP7584732B2 (ja) | レーザ装置 | |
| US5838710A (en) | Optical amplification device | |
| JP2014139969A (ja) | 固体レーザ増幅装置および多段レーザ増幅装置 |