JPH09203801A - 光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品 - Google Patents
光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品Info
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- JPH09203801A JPH09203801A JP8311851A JP31185196A JPH09203801A JP H09203801 A JPH09203801 A JP H09203801A JP 8311851 A JP8311851 A JP 8311851A JP 31185196 A JP31185196 A JP 31185196A JP H09203801 A JPH09203801 A JP H09203801A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】容易に製造可能な、耐擦傷性に優れた反射防止
性の光学薄膜、およびそれを用いた反射防止性物品を提
供することを目的とする。 【解決手段】(1) 一般式Ａ1 −Ｏ（ＣＨ2 ）n −Ｒｆ
−（ＣＨ2 ）n Ｏ−Ａ2 （ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオロメタ
アクリロイル基およびビニル基から選ばれ、Ｒｆはパー
フルオロアルキル基、ｎは０〜３の整数）で示される化
合物を主成分とする組成物を硬化してなり、かつ、Ｄ線
における屈折率が１．４５以下であることを特徴とする
光学薄膜。 (2) 上記(1) 項に記載の光学薄膜を基材に塗布してなる
ことを特徴とする反射防止性物品。
性の光学薄膜、およびそれを用いた反射防止性物品を提
供することを目的とする。 【解決手段】(1) 一般式Ａ1 −Ｏ（ＣＨ2 ）n −Ｒｆ
−（ＣＨ2 ）n Ｏ−Ａ2 （ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオロメタ
アクリロイル基およびビニル基から選ばれ、Ｒｆはパー
フルオロアルキル基、ｎは０〜３の整数）で示される化
合物を主成分とする組成物を硬化してなり、かつ、Ｄ線
における屈折率が１．４５以下であることを特徴とする
光学薄膜。 (2) 上記(1) 項に記載の光学薄膜を基材に塗布してなる
ことを特徴とする反射防止性物品。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、耐擦傷性に優れた
光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品に関し、特
に、テレビのブラウン管や液晶表示装置用の反射防止
膜、ＣＲＴモニター用反射防止フィルターなどの各種表
示装置の反射防止用のみならず、展示物のケースやショ
ーウインド、絵画の額、窓ガラス、光学レンズ、メガネ
レンズなどの反射防止などに好適に用いられる光学薄膜
および反射防止性物品に関する。
光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品に関し、特
に、テレビのブラウン管や液晶表示装置用の反射防止
膜、ＣＲＴモニター用反射防止フィルターなどの各種表
示装置の反射防止用のみならず、展示物のケースやショ
ーウインド、絵画の額、窓ガラス、光学レンズ、メガネ
レンズなどの反射防止などに好適に用いられる光学薄膜
および反射防止性物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】表示装置などに用いられる反射防止用フ
ィルターなどの反射防止性物品は、基板に低屈折率の光
学薄膜を単層で設けるか、もしくは高屈折率および低屈
折率の光学薄膜を交互に多層に設けて反射防止層として
いる場合が多い。
ィルターなどの反射防止性物品は、基板に低屈折率の光
学薄膜を単層で設けるか、もしくは高屈折率および低屈
折率の光学薄膜を交互に多層に設けて反射防止層として
いる場合が多い。
【０００３】このような光学薄膜を得る方法としては、
蒸着やスパッタなどによって無機物を基板に積層するの
が一般的であり、このようにして得られる反射防止膜は
低反射で耐擦傷性に優れる。しかし、無機物を蒸着やス
パッタして反射防止処理する方法は高性能な反射防止層
が得られるものの、真空を必要とする大がかりな装置を
用いるので生産性が悪く、製造コストは高価であった。
また、これらの方法は、蒸着もしくはスパッタ時に基板
が８０℃以上に加熱されるので、耐熱性の点などから使
用できる基板が限定されていた。
蒸着やスパッタなどによって無機物を基板に積層するの
が一般的であり、このようにして得られる反射防止膜は
低反射で耐擦傷性に優れる。しかし、無機物を蒸着やス
パッタして反射防止処理する方法は高性能な反射防止層
が得られるものの、真空を必要とする大がかりな装置を
用いるので生産性が悪く、製造コストは高価であった。
また、これらの方法は、蒸着もしくはスパッタ時に基板
が８０℃以上に加熱されるので、耐熱性の点などから使
用できる基板が限定されていた。
【０００４】また、近年、低屈折率の有機物質を溶媒に
溶解した後、基板に低屈折率の有機物質をコーティング
して低屈折率有機薄膜を形成して反射防止膜とする方法
が知られるようになった。このような溶液コーティング
法は、例えば特開平４−３５５４０１号公報や特開平６
−１８７０５号公報などに開示されている。これら溶液
コーティング法で用いられる低屈折率物質は、無機薄膜
で最も屈折率の低いフッ化マグネシウム薄膜より低い屈
折率を持つフッ素含有率の高い樹脂であり、優れた反射
防止特性を示している。また、これらは溶液コーティン
グにより薄膜を形成するので、無機物を蒸着やスパッタ
して反射防止処理する方法とは異なり、生産性よく反射
防止膜を形成することが可能である。
溶解した後、基板に低屈折率の有機物質をコーティング
して低屈折率有機薄膜を形成して反射防止膜とする方法
が知られるようになった。このような溶液コーティング
法は、例えば特開平４−３５５４０１号公報や特開平６
−１８７０５号公報などに開示されている。これら溶液
コーティング法で用いられる低屈折率物質は、無機薄膜
で最も屈折率の低いフッ化マグネシウム薄膜より低い屈
折率を持つフッ素含有率の高い樹脂であり、優れた反射
防止特性を示している。また、これらは溶液コーティン
グにより薄膜を形成するので、無機物を蒸着やスパッタ
して反射防止処理する方法とは異なり、生産性よく反射
防止膜を形成することが可能である。
【０００５】しかしながら、特開平４−３５５４０１号
公報あるいは特開平６−１８７０５号公報に記載の含フ
ッ素樹脂からなる有機薄膜は、溶液コーティングが可能
なので生産性がよく、低屈折率のため優れた反射防止特
性を示すが、これらの含フッ素樹脂硬化物は架橋密度が
低いので表面硬度が低く、耐擦傷性に劣るという問題が
あった。さらに、コーティングした後、加熱硬化を必要
とするため、耐熱性の点などから使用できる基板が限定
されていた。
公報あるいは特開平６−１８７０５号公報に記載の含フ
ッ素樹脂からなる有機薄膜は、溶液コーティングが可能
なので生産性がよく、低屈折率のため優れた反射防止特
性を示すが、これらの含フッ素樹脂硬化物は架橋密度が
低いので表面硬度が低く、耐擦傷性に劣るという問題が
あった。さらに、コーティングした後、加熱硬化を必要
とするため、耐熱性の点などから使用できる基板が限定
されていた。
【０００６】また、表面硬度が高く架橋密度の高い含フ
ッ素樹脂として米国特許第ＵＳＰ３，３１０，６０６号
公報に開示されているパーフルオロジビニルエーテルの
硬化物が挙げられているが、この硬化物は溶剤に不溶で
高温、高圧下で成型する必要があるため光学薄膜を得る
ことはできない。
ッ素樹脂として米国特許第ＵＳＰ３，３１０，６０６号
公報に開示されているパーフルオロジビニルエーテルの
硬化物が挙げられているが、この硬化物は溶剤に不溶で
高温、高圧下で成型する必要があるため光学薄膜を得る
ことはできない。
【０００７】さらに、特開平８−２３９４３０号公報で
は、本願発明において一般式で示した含フッ素ジ（メ
タ）アクリレート１００重量部に対して、多官能（メ
タ）アクリレート１０〜９０重量部含有する撥水・撥油
性及び耐擦傷性を備えた含フッ素硬化性組成物を開示し
ている。しかしながら、特開平８−２３９４３０号公報
に記載の技術では多官能（メタ）アクリレートの配合量
が多すぎて、Ｄ線における屈折率が１．４５を越える傾
向があり、本願発明の目的とする反射防止性能を得にく
いという問題がある。
は、本願発明において一般式で示した含フッ素ジ（メ
タ）アクリレート１００重量部に対して、多官能（メ
タ）アクリレート１０〜９０重量部含有する撥水・撥油
性及び耐擦傷性を備えた含フッ素硬化性組成物を開示し
ている。しかしながら、特開平８−２３９４３０号公報
に記載の技術では多官能（メタ）アクリレートの配合量
が多すぎて、Ｄ線における屈折率が１．４５を越える傾
向があり、本願発明の目的とする反射防止性能を得にく
いという問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、低反射性で
耐擦傷性に優れ、容易に光学薄膜を得ることのできる反
射防止性の光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品
を提供することを目的とする。
耐擦傷性に優れ、容易に光学薄膜を得ることのできる反
射防止性の光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために下記の構成を有する。
成するために下記の構成を有する。
【００１０】「(1) 一般式Ａ1 −Ｏ（ＣＨ2 ）n −Ｒｆ
−（ＣＨ2 ）n Ｏ−Ａ2 （ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオロメタ
アクリロイル基およびビニル基から選ばれ、Ｒｆはパー
フルオロアルキル基、ｎは０〜３の整数）で示される化
合物を主成分とする組成物を硬化してなり、かつ、Ｄ線
における屈折率が１．４５以下であることを特徴とする
光学薄膜。
−（ＣＨ2 ）n Ｏ−Ａ2 （ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオロメタ
アクリロイル基およびビニル基から選ばれ、Ｒｆはパー
フルオロアルキル基、ｎは０〜３の整数）で示される化
合物を主成分とする組成物を硬化してなり、かつ、Ｄ線
における屈折率が１．４５以下であることを特徴とする
光学薄膜。
【００１１】(2) 上記(1) 項に記載の光学薄膜を基材に
塗布してなることを特徴とする反射防止性物品。」
塗布してなることを特徴とする反射防止性物品。」
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明で光学薄膜とは、光線が上
部に薄膜が存在している基材に入射した時、光線が屈折
率の異なる境界で交差して干渉をおこす薄膜をいう。光
学薄膜では、反射光は入射光の干渉光として出現する。
例えば、透明基板上に透明な光学薄膜を一層設けたと
き、入射反射光の一部は空気と薄膜との境界で反射し、
一部は薄膜と基板境界面で反射し、全体として反射光は
それらの干渉光となる。干渉光は結果的に基材の反射率
を低減もしくは増加させる。光学薄膜は、光が干渉作用
をおこす程度に薄く、基板の反射率は光学薄膜の屈折率
と膜厚に依存する。
部に薄膜が存在している基材に入射した時、光線が屈折
率の異なる境界で交差して干渉をおこす薄膜をいう。光
学薄膜では、反射光は入射光の干渉光として出現する。
例えば、透明基板上に透明な光学薄膜を一層設けたと
き、入射反射光の一部は空気と薄膜との境界で反射し、
一部は薄膜と基板境界面で反射し、全体として反射光は
それらの干渉光となる。干渉光は結果的に基材の反射率
を低減もしくは増加させる。光学薄膜は、光が干渉作用
をおこす程度に薄く、基板の反射率は光学薄膜の屈折率
と膜厚に依存する。
【００１３】本発明は、反射率の低減を目的とした低屈
折率の光学薄膜を提供するものであり、光学薄膜の膜厚
は、λ／４の奇数倍が好ましい。ここで、λは薄膜内で
の光の波長を示し、光の波長がある程度の幅で存在して
いる場合は、λは光の中心波長を示す。本発明で対象と
なる光の波長は、多くの場合、可視光であり、中心波長
は通常人間が敏感に感じる５００〜５５０ｎｍに設定す
るのが好ましい。
折率の光学薄膜を提供するものであり、光学薄膜の膜厚
は、λ／４の奇数倍が好ましい。ここで、λは薄膜内で
の光の波長を示し、光の波長がある程度の幅で存在して
いる場合は、λは光の中心波長を示す。本発明で対象と
なる光の波長は、多くの場合、可視光であり、中心波長
は通常人間が敏感に感じる５００〜５５０ｎｍに設定す
るのが好ましい。
【００１４】本発明の光学薄膜の膜厚は、薄膜の屈折率
にもよるが、好ましくは、３０〜７００ｎｍ、より好ま
しくは、４０〜１２０ｎｍである。光学薄膜の膜厚が３
０ｎｍ未満の場合は、可視光における光干渉による反射
率の低減が不十分となる場合がある。また光学薄膜の膜
厚が７００ｎｍを越える場合も、反射率はほぼ空気と薄
膜界面の反射のみに依存するようになるので可視光にお
ける光干渉による反射率の低減が不十分となる傾向があ
る。
にもよるが、好ましくは、３０〜７００ｎｍ、より好ま
しくは、４０〜１２０ｎｍである。光学薄膜の膜厚が３
０ｎｍ未満の場合は、可視光における光干渉による反射
率の低減が不十分となる場合がある。また光学薄膜の膜
厚が７００ｎｍを越える場合も、反射率はほぼ空気と薄
膜界面の反射のみに依存するようになるので可視光にお
ける光干渉による反射率の低減が不十分となる傾向があ
る。
【００１５】低屈折率膜を光学膜厚よりも厚く物品の表
面に設けて反射防止を付与した場合は、光干渉による反
射率の低減効果はなく、基材表面の屈折率が低いことに
よる反射率の低減のみにとどまるので、光学薄膜を設け
た場合にくらべ反射率が高くなり反射防止効果は劣る。
例えば、屈折率１．６の基材に屈折率１．３８の薄膜を
設ける場合、膜厚が最適な光学膜厚のときは反射率は１
％以下となるが、数μ以上の膜厚の場合は反射率はおよ
そ３％となる。また、その光学薄膜の屈折率が１．４５
よりも高い場合は、ポリメチルメタクリレート（以下、
ＰＭＭＡという）やガラスなどの比較的屈折率の低い基
材に対する反射防止処理効果は顕著に認められない。
面に設けて反射防止を付与した場合は、光干渉による反
射率の低減効果はなく、基材表面の屈折率が低いことに
よる反射率の低減のみにとどまるので、光学薄膜を設け
た場合にくらべ反射率が高くなり反射防止効果は劣る。
例えば、屈折率１．６の基材に屈折率１．３８の薄膜を
設ける場合、膜厚が最適な光学膜厚のときは反射率は１
％以下となるが、数μ以上の膜厚の場合は反射率はおよ
そ３％となる。また、その光学薄膜の屈折率が１．４５
よりも高い場合は、ポリメチルメタクリレート（以下、
ＰＭＭＡという）やガラスなどの比較的屈折率の低い基
材に対する反射防止処理効果は顕著に認められない。
【００１６】本発明の光学薄膜では、硬化後の表面硬度
が鉛筆硬度Ｈ以上であることが好ましい。表面硬度が低
いと、耐擦傷性が劣り、耐久性が低下するためである。
が鉛筆硬度Ｈ以上であることが好ましい。表面硬度が低
いと、耐擦傷性が劣り、耐久性が低下するためである。
【００１７】本発明では、一般式Ａ1 −Ｏ（ＣＨ2 ）n
−Ｒｆ−（ＣＨ2 ）n Ｏ−Ａ2 で示される化合物が用い
られる。ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタク
リロイル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオ
ロメタアクリロイル基、ビニル基から選ばれ、好ましく
は、アクリロイル基、メタクリロイル基から選ばれる。
また、Ｒｆはパーフルオロアルキル基であり、（Ｃ
Ｆ2 ）ｍ（ｍは２以上の整数、より好ましくは４〜１６
の整数）であることが好ましい。さらに、ｎは０〜３の
整数である。
−Ｒｆ−（ＣＨ2 ）n Ｏ−Ａ2 で示される化合物が用い
られる。ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタク
リロイル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオ
ロメタアクリロイル基、ビニル基から選ばれ、好ましく
は、アクリロイル基、メタクリロイル基から選ばれる。
また、Ｒｆはパーフルオロアルキル基であり、（Ｃ
Ｆ2 ）ｍ（ｍは２以上の整数、より好ましくは４〜１６
の整数）であることが好ましい。さらに、ｎは０〜３の
整数である。
【００１８】このような不飽和二重結合を２つ有する含
フッ素化合物としては、例えば、下記の化合物が例示さ
れる。
フッ素化合物としては、例えば、下記の化合物が例示さ
れる。
【００１９】
【化１】 上記に示した不飽和二重結合を２つ有する含フッ素化合
物の他に、本発明では硬度、上下層との密着性、屈折率
の調整や性能向上の目的で、以下に例示するような、そ
の他の多官能モノマを、本発明の含フッ素化合物１００
重量部に対し、１０重量部未満、好ましくは９重量部以
下含む。多官能モノマを１０重量部以上を含む場合は、
Ｄ線における屈折率が１．４５を越え、本発明の目的と
する反射防止性能を得ることができない。
物の他に、本発明では硬度、上下層との密着性、屈折率
の調整や性能向上の目的で、以下に例示するような、そ
の他の多官能モノマを、本発明の含フッ素化合物１００
重量部に対し、１０重量部未満、好ましくは９重量部以
下含む。多官能モノマを１０重量部以上を含む場合は、
Ｄ線における屈折率が１．４５を越え、本発明の目的と
する反射防止性能を得ることができない。
【００２０】本発明に含まれるその他の多官能モノマの
例を挙げると、エチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、１，１，１−ト
リス［（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシ］
プロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
トトリ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレートなどがあ
る。 これらの多官能モノマのうち、本発明で特に好ま
しく用いられるのは、光学薄膜の硬度を向上する目的で
加える３官能以上の（メタ）アクリレート類であり、単
独または２種以上を混合した状態で使用される。
例を挙げると、エチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、１，１，１−ト
リス［（メタ）アクリロイルオキシエトキシエトキシ］
プロパン、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレー
トトリ（メタ）アクリレート、トリス（ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレートなどがあ
る。 これらの多官能モノマのうち、本発明で特に好ま
しく用いられるのは、光学薄膜の硬度を向上する目的で
加える３官能以上の（メタ）アクリレート類であり、単
独または２種以上を混合した状態で使用される。
【００２１】上記の他に、必要に応じて、不飽和二重結
合を１つ含む化合物（単官能モノマ）、重合開始剤を組
成物中に加えることができる。これらのモノマや化合物
は、適宜、硬度、屈折率の調整、コーティング性の調整
などのために加えられ、硬化して光学薄膜とすることが
できる。
合を１つ含む化合物（単官能モノマ）、重合開始剤を組
成物中に加えることができる。これらのモノマや化合物
は、適宜、硬度、屈折率の調整、コーティング性の調整
などのために加えられ、硬化して光学薄膜とすることが
できる。
【００２２】このような不飽和二重結合を１つ含む含フ
ッ素単官能モノマとしては、例えば、２，２，２−トリ
フルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，４，
４，４−ヘキサフロロブチルメタクリレート、１Ｈ，１
Ｈ，３Ｈ，２Ｈ−パーフロデカノールアクリレート、β
−（パーフロロオクチル）エチルメタアクリレートなど
が挙げられる。光学薄膜の屈折率を下げるためには、不
飽和二重結合を１つ含むフッ素含有量の多い化合物を添
加するのが好ましい。また、ジフルオロビニル化合物を
少量添加して光学薄膜の硬度を上げることもできる。
ッ素単官能モノマとしては、例えば、２，２，２−トリ
フルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３−テト
ラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，３，４，
４，４−ヘキサフロロブチルメタクリレート、１Ｈ，１
Ｈ，３Ｈ，２Ｈ−パーフロデカノールアクリレート、β
−（パーフロロオクチル）エチルメタアクリレートなど
が挙げられる。光学薄膜の屈折率を下げるためには、不
飽和二重結合を１つ含むフッ素含有量の多い化合物を添
加するのが好ましい。また、ジフルオロビニル化合物を
少量添加して光学薄膜の硬度を上げることもできる。
【００２３】さらに、フッ素を含まない単官能モノマの
例としては、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェ
ノキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる
が、相溶性がよく、屈折率が１．４５以下となる硬化物
が得られるものであれば限定されない。
例としては、メチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェ
ノキシプロピル（メタ）アクリレートなどが挙げられる
が、相溶性がよく、屈折率が１．４５以下となる硬化物
が得られるものであれば限定されない。
【００２４】さらにコーティング性を良くするためにレ
ベリング剤を添加してもよく添加量は、好ましくは硬化
物全体の０．０５〜５重量％、より好ましくは０．１〜
２重量％である。
ベリング剤を添加してもよく添加量は、好ましくは硬化
物全体の０．０５〜５重量％、より好ましくは０．１〜
２重量％である。
【００２５】本発明の光学薄膜において、熱重合法、電
子線重合法、光重合法（ＵＶ重合法）など硬化の方法は
特に限定されないが、好ましくは、基板の耐熱性に影響
を受けない光重合法により硬化される。光重合開始剤と
しては、例えば、２−ヒドロキシ２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１などが
挙げられるが、特に限定されない。光重合開始剤の添加
量は、硬化物組成全体の０．１〜２０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％である。
子線重合法、光重合法（ＵＶ重合法）など硬化の方法は
特に限定されないが、好ましくは、基板の耐熱性に影響
を受けない光重合法により硬化される。光重合開始剤と
しては、例えば、２−ヒドロキシ２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシ
ルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン−１などが
挙げられるが、特に限定されない。光重合開始剤の添加
量は、硬化物組成全体の０．１〜２０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％である。
【００２６】本発明では、多官能モノマ、重合開始剤、
単官能モノマ、レベリング剤等を含む組成物をそのま
ま、もしくは適当な溶剤で希釈して基板の上に塗布し、
反射防止性を付与することができる。その塗布方法は、
基板に均一に塗布できる方法であれば特に限定されず、
例えば、スピンコート、ディップコート、ダイコート、
スプレーコーティング、バーコーターコーティング、ロ
ールコーティング、カーテンフローコーティングなどの
塗布方法が挙げられる。
単官能モノマ、レベリング剤等を含む組成物をそのま
ま、もしくは適当な溶剤で希釈して基板の上に塗布し、
反射防止性を付与することができる。その塗布方法は、
基板に均一に塗布できる方法であれば特に限定されず、
例えば、スピンコート、ディップコート、ダイコート、
スプレーコーティング、バーコーターコーティング、ロ
ールコーティング、カーテンフローコーティングなどの
塗布方法が挙げられる。
【００２７】本発明の光学薄膜となる組成物は、好まし
くは、光学膜厚に均一に塗布された後、低圧もしくは高
圧水銀灯、キセノン灯などを用いた紫外線照射などによ
り硬化させることができる。本発明の光学薄膜により反
射防止性能を施す基板は、特に限定されないが、例え
ば、通常のガラスや、厚さ１ｍｍ以下の薄板ガラス、ポ
リカーボネートやＰＭＭＡなどのアクリル樹脂等の樹脂
透明基板、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの
フィルム類などが挙げられる。
くは、光学膜厚に均一に塗布された後、低圧もしくは高
圧水銀灯、キセノン灯などを用いた紫外線照射などによ
り硬化させることができる。本発明の光学薄膜により反
射防止性能を施す基板は、特に限定されないが、例え
ば、通常のガラスや、厚さ１ｍｍ以下の薄板ガラス、ポ
リカーボネートやＰＭＭＡなどのアクリル樹脂等の樹脂
透明基板、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの
フィルム類などが挙げられる。
【００２８】また、本発明の光学薄膜を基材に形成する
場合、密着性や塗布性を向上させるなどの目的で、必要
に応じて、基材を表面処理したり、中間層をもうけるこ
とができる。中間膜に高屈折率の光学薄膜を用いた場合
は、反射防止効果が高まり、さらに、高屈折率薄膜と本
発明の光学薄膜を交互に多数積層することにより、より
優れた反射防止膜を得ることができる。反射防止効果を
高めるためには、高屈折率膜は、基材と同等もしくはそ
れ以上の屈折率が必要であり、その屈折率は１．５８以
上であることが好ましく、さらに好ましくは、１．６以
上、より好ましくは、１．７以上である。
場合、密着性や塗布性を向上させるなどの目的で、必要
に応じて、基材を表面処理したり、中間層をもうけるこ
とができる。中間膜に高屈折率の光学薄膜を用いた場合
は、反射防止効果が高まり、さらに、高屈折率薄膜と本
発明の光学薄膜を交互に多数積層することにより、より
優れた反射防止膜を得ることができる。反射防止効果を
高めるためには、高屈折率膜は、基材と同等もしくはそ
れ以上の屈折率が必要であり、その屈折率は１．５８以
上であることが好ましく、さらに好ましくは、１．６以
上、より好ましくは、１．７以上である。
【００２９】また、本発明の光学薄膜は、反射防止性能
の他にフッ素元素の効果による撥水効果があり、酸化ケ
イ素等のポーラスな基板に本発明の光学薄膜を塗布する
と、低反射性のみならず、撥水性を付与することができ
る。
の他にフッ素元素の効果による撥水効果があり、酸化ケ
イ素等のポーラスな基板に本発明の光学薄膜を塗布する
と、低反射性のみならず、撥水性を付与することができ
る。
【００３０】
【実施例】本発明を実施例を用いて具体的に説明するが
これに限定されるものではない。 実施例１ 下記のフッ素含有ジアクリレート ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ2 （ＣＦ2 ）8 ＣＨ2 −Ｏ
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 １０重量部と、光開始剤として２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン０．４重量部、
イソプロピルアルコール１８０重量部を混合、攪拌し
て、塗布液を作成した。その塗布液をディップコート法
でハードコートされたポリカーボネート基板に膜厚１０
０ｎｍとなるように塗布した後、高圧水銀灯を用いて３
分間で５０００ｍＪ／ｃｍ2 ＵＶ照射し硬化させた。
これに限定されるものではない。 実施例１ 下記のフッ素含有ジアクリレート ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ2 （ＣＦ2 ）8 ＣＨ2 −Ｏ
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 １０重量部と、光開始剤として２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン０．４重量部、
イソプロピルアルコール１８０重量部を混合、攪拌し
て、塗布液を作成した。その塗布液をディップコート法
でハードコートされたポリカーボネート基板に膜厚１０
０ｎｍとなるように塗布した後、高圧水銀灯を用いて３
分間で５０００ｍＪ／ｃｍ2 ＵＶ照射し硬化させた。
【００３１】光学薄膜基板の５４０ｎｍにおける反射率
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
【００３２】得られた光学薄膜基板は低反射であり耐擦
傷性に優れたものであった。
傷性に優れたものであった。
【００３３】なお、薄膜の耐ケシゴム性は、ＬＩＯＮ、
Ｎｏ５０の消しゴムを用い、１Ｋｇ加重のもとで５往復
した後の傷の発生の有無を観察して評価した。
Ｎｏ５０の消しゴムを用い、１Ｋｇ加重のもとで５往復
した後の傷の発生の有無を観察して評価した。
【００３４】実施例２ 下記のフッ素含有ジアクリレート ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ2 （ＣＦ2 ）8 ＣＨ2 −Ｏ
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 ８０重量部と、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ，２Ｈ−パーフロデカ
ノールアクリレート１５重量部、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート５重量部、イソブチルアルコール９
００重量部および開始剤として１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン１重量部を混合、攪拌して、塗布
液を作成した。ハードコートしたポリカーボネート基板
の上に、塗布液をスピンコート法で膜厚１００ｎｍとな
るように塗布した後、高圧水銀灯を用いて３分間で５０
００ｍＪ／ｃｍ2 ＵＶ照射し硬化させた。
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 ８０重量部と、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ，２Ｈ−パーフロデカ
ノールアクリレート１５重量部、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート５重量部、イソブチルアルコール９
００重量部および開始剤として１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン１重量部を混合、攪拌して、塗布
液を作成した。ハードコートしたポリカーボネート基板
の上に、塗布液をスピンコート法で膜厚１００ｎｍとな
るように塗布した後、高圧水銀灯を用いて３分間で５０
００ｍＪ／ｃｍ2 ＵＶ照射し硬化させた。
【００３５】光学薄膜基板の５４０ｎｍにおける反射率
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
【００３６】得られた光学薄膜基板は低反射であり耐擦
傷性に優れたものであった。
傷性に優れたものであった。
【００３７】実施例３ 下記のフッ素含有ジアクリレート ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ2 （ＣＦ2 ）10ＣＨ2 −Ｏ
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 ４２重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート３
重量部、および光開始剤として２−メチル−１−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン
−１を１重量部、さらに、レベリング剤としてＳＨ１９
０（東レタウコーニングシリコーン製）を０．３重量
部、溶剤として酢酸−ｎ−ブチル４５０重量部を混合、
攪拌して、塗布液を作成した。ポリカーボネート基板の
上に、酸化アンチモンゾルとペンタエリスリトールトリ
アクリレートの混合物からなる１５０ｎｍの厚みで屈折
率１．７のハードコートを形成し、さらにその上に、上
記塗布液をスピンコート法で膜厚１００ｎｍとなるよう
に塗布した後、高圧水銀灯を用いて３分間で５０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 ＵＶ照射し硬化させ、ポリカーボネート基
板上に高屈折率薄膜および低屈折率薄膜の２層膜を設け
た。
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 ４２重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート３
重量部、および光開始剤として２−メチル−１−［４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパノン
−１を１重量部、さらに、レベリング剤としてＳＨ１９
０（東レタウコーニングシリコーン製）を０．３重量
部、溶剤として酢酸−ｎ−ブチル４５０重量部を混合、
攪拌して、塗布液を作成した。ポリカーボネート基板の
上に、酸化アンチモンゾルとペンタエリスリトールトリ
アクリレートの混合物からなる１５０ｎｍの厚みで屈折
率１．７のハードコートを形成し、さらにその上に、上
記塗布液をスピンコート法で膜厚１００ｎｍとなるよう
に塗布した後、高圧水銀灯を用いて３分間で５０００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 ＵＶ照射し硬化させ、ポリカーボネート基
板上に高屈折率薄膜および低屈折率薄膜の２層膜を設け
た。
【００３８】光学薄膜基板の５４０ｎｍにおける反射率
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
【００３９】得られた光学薄膜基板は低反射であり耐擦
傷性に優れたものであった。
傷性に優れたものであった。
【００４０】実施例４ 実施例１において、塗料塗布基板をＰＭＭＡとした他
は、実施例１と同様にして光学薄膜基板を作成した。
は、実施例１と同様にして光学薄膜基板を作成した。
【００４１】光学薄膜基板の５４０ｎｍにおける反射率
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
【００４２】得られた光学薄膜基板は低反射であり耐擦
傷性に優れたものであった。
傷性に優れたものであった。
【００４３】実施例５ 下記のフッ素含有ジアクリレート ＣＨ2 ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ2 （ＣＦ2 ）10ＣＨ2 −Ｏ
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 ９３重量部とペンタエリスリトールトリアクリレート７
重量部、イソプロピルアルコール８５０重量部および開
始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン１重量部を混合、攪拌して、塗布液を作成した。ハー
ドコートしたポリカーボネート基板の上に、塗布液をス
ピンコート法で膜厚１００ｎｍとなるように塗布した
後、高圧水銀灯を用いて３分間で５０００ｍＪ／ｃｍ2
ＵＶ照射し硬化させた。
ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2 ９３重量部とペンタエリスリトールトリアクリレート７
重量部、イソプロピルアルコール８５０重量部および開
始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン１重量部を混合、攪拌して、塗布液を作成した。ハー
ドコートしたポリカーボネート基板の上に、塗布液をス
ピンコート法で膜厚１００ｎｍとなるように塗布した
後、高圧水銀灯を用いて３分間で５０００ｍＪ／ｃｍ2
ＵＶ照射し硬化させた。
【００４４】光学薄膜基板の５４０ｎｍにおける反射率
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
【００４５】得られた光学薄膜基板は低反射であり耐擦
傷性に優れたものであった。
傷性に優れたものであった。
【００４６】比較例１ ネオペンチルグリコールジアクリレート５部と、光開始
剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン０．４部、イソプロピルアルコール９
０部を混合、攪拌して、塗布液を作成した。その塗布液
をディップコート法でハードコートされたポリカーボネ
ート基板に膜厚１００ｎｍとなるように塗布した後、高
圧水銀灯を用いて３分間で５０００ｍＪ／ｃｍ2 ＵＶ
照射し硬化させた。
剤として２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン０．４部、イソプロピルアルコール９
０部を混合、攪拌して、塗布液を作成した。その塗布液
をディップコート法でハードコートされたポリカーボネ
ート基板に膜厚１００ｎｍとなるように塗布した後、高
圧水銀灯を用いて３分間で５０００ｍＪ／ｃｍ2 ＵＶ
照射し硬化させた。
【００４７】光学薄膜基板の５４０ｎｍにおける反射率
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
および、硬化物の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜
の耐ケシゴム性を表１に示す。
【００４８】得られた薄膜の反射防止効果は低かった。
【００４９】比較例２ 基板としてＰＭＭＡを用いた他は、比較例１と同様にし
て、ＰＭＭＡ基板上に薄膜を形成した。
て、ＰＭＭＡ基板上に薄膜を形成した。
【００５０】５４０ｎｍにおける反射率および、硬化物
の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜の耐ケシゴム性
を表１に示す。
の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜の耐ケシゴム性
を表１に示す。
【００５１】得られた薄膜の反射防止効果は低かった。
【００５２】比較例３ 下記化学式
【化２】 で表される市販のフッ素含有樹脂（旭硝子（株）製、サ
イトップ）の２％溶液をハードコートされたポリカボネ
ート基板に膜厚１００ｎｍになるようにディップコート
法で塗布した後、９０℃で１時間乾燥させて光学薄膜を
得た。
イトップ）の２％溶液をハードコートされたポリカボネ
ート基板に膜厚１００ｎｍになるようにディップコート
法で塗布した後、９０℃で１時間乾燥させて光学薄膜を
得た。
【００５３】５４０ｎｍにおける反射率および、硬化物
の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜の耐ケシゴム性
を表１に示す。
の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜の耐ケシゴム性
を表１に示す。
【００５４】柔らかい硬化物となり、ケシゴムにより傷
が発生した。
が発生した。
【００５５】比較例４ 下記化学式
【化３】 で表される市販のフッ素含有樹脂（三菱レイヨン（株）
製、ＦＭ１７）３重量部をパーフルオロ−２−ブチルテ
トラヒドロフラン９７重量部に溶解して得られた３％溶
液を、ハードコートされたポリカボネート基板に膜厚１
００ｎｍになるようにディップコート法で塗布した後、
８０℃で１時間乾燥させて光学薄膜を得た。
製、ＦＭ１７）３重量部をパーフルオロ−２−ブチルテ
トラヒドロフラン９７重量部に溶解して得られた３％溶
液を、ハードコートされたポリカボネート基板に膜厚１
００ｎｍになるようにディップコート法で塗布した後、
８０℃で１時間乾燥させて光学薄膜を得た。
【００５６】５４０ｎｍにおける反射率および、硬化物
の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜の耐ケシゴム性
を表１に示す。
の鉛筆硬度、Ｄ線における屈折率、薄膜の耐ケシゴム性
を表１に示す。
【００５７】柔らかい硬化物となり、ケシゴムにより傷
が発生した。
が発生した。
【００５８】
【表１】
【００５９】
【発明の効果】本発明により、耐磨耗性、耐候性、耐熱
性に優れ、塗布が容易な反射防止性の光学薄膜を提供す
ることができる。
性に優れ、塗布が容易な反射防止性の光学薄膜を提供す
ることができる。
【００６０】また、本発明の光学薄膜を用いた反射防止
性物品は、テレビのブラウン管や液晶表示装置用の反射
防止膜、ＣＲＴモニター用反射防止フィルターなどの各
種表示装置の反射防止用、展示物のケースやショーウイ
ンド、絵画の額、窓ガラス、光学レンズ、メガネレンズ
などとして好適に利用できる。
性物品は、テレビのブラウン管や液晶表示装置用の反射
防止膜、ＣＲＴモニター用反射防止フィルターなどの各
種表示装置の反射防止用、展示物のケースやショーウイ
ンド、絵画の額、窓ガラス、光学レンズ、メガネレンズ
などとして好適に利用できる。
Claims (10)
- 【請求項１】一般式Ａ1 −Ｏ（ＣＨ2 ）n −Ｒｆ−（Ｃ
Ｈ2 ）n Ｏ−Ａ2 （ここでＡ1 、Ａ2 は、アクリロイル基、メタクリロイ
ル基、α−フルオロアクリロイル基、トリフルオロメタ
アクリロイル基およびビニル基から選ばれ、Ｒｆはパー
フルオロアルキル基、ｎは０〜３の整数）で示される化
合物を主成分とする組成物を硬化してなり、かつ、Ｄ線
における屈折率が１．４５以下であることを特徴とする
光学薄膜。 - 【請求項２】膜厚が３０〜７００ｎｍであることを特徴
とする請求項１に記載の光学薄膜。 - 【請求項３】該一般式において、Ｒｆが（ＣＦ2 ）
m （ｍは２以上の整数）であることを特とする請求項１
または２記載の光学薄膜。 - 【請求項４】該一般式において、Ｒｆが（ＣＦ2 ）
m （ｍは６以上の整数）であることを特徴とする請求項
１〜３のいずれかに記載の光学薄膜。 - 【請求項５】該一般式において、Ａ1 、Ａ2 がアクリロ
イル基であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載の光学薄膜。 - 【請求項６】該一般式において、Ａ1 、Ａ2 がメタクリ
ロイル基であることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
かに記載の光学薄膜。 - 【請求項７】該一般式で示される化合物１００重量部に
対し、多官能（メタ）アクリレートを１０重量部未満含
有していることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに
記載の光学薄膜。 - 【請求項８】光により硬化することを特徴とする請求項
１〜７のいずれかに記載の光学薄膜。 - 【請求項９】請求項１〜８のいずれかに記載の光学薄膜
を基材に塗布してなることを特徴とする反射防止性物
品。 - 【請求項１０】屈折率１．５８以上の被膜を設けた基材
に、該光学薄膜を塗布してなることを特徴とする請求項
９記載の反射防止性物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31185196A JP3835712B2 (ja) | 1995-11-22 | 1996-11-22 | 光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-304469 | 1995-11-22 | ||
| JP30446995 | 1995-11-22 | ||
| JP31185196A JP3835712B2 (ja) | 1995-11-22 | 1996-11-22 | 光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09203801A true JPH09203801A (ja) | 1997-08-05 |
| JP3835712B2 JP3835712B2 (ja) | 2006-10-18 |
Family
ID=26563923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31185196A Expired - Fee Related JP3835712B2 (ja) | 1995-11-22 | 1996-11-22 | 光学薄膜およびそれを用いた反射防止性物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3835712B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010085844A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 光学用積層フィルム |
-
1996
- 1996-11-22 JP JP31185196A patent/JP3835712B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010085844A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 光学用積層フィルム |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3835712B2 (ja) | 2006-10-18 |
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