JPH0920588A - 気相成長装置 - Google Patents
気相成長装置Info
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- JPH0920588A JPH0920588A JP16877595A JP16877595A JPH0920588A JP H0920588 A JPH0920588 A JP H0920588A JP 16877595 A JP16877595 A JP 16877595A JP 16877595 A JP16877595 A JP 16877595A JP H0920588 A JPH0920588 A JP H0920588A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応容器内で各ウエハの膜形成面が内向きに
配置されたタイプでも、その設置位置の違いによる膜厚
のバラツキが発生するのを防止する。 【解決手段】 公転駆動手段としての気体駆動モータ１
３で公転駆動する回転体２を反応容器１内に配置する。
回転体２の周方向に複数のトレー３を支持させる。各ト
レー３には回転体２の回転軸心５側を各ウエハ６の膜形
成面が向くように支持するウエハ支持部７を設ける。反
応容器１には各ウエハ支持部７のウエハ６の膜形成面に
向けて原料ガスを供給するガス供給部１１を設ける。各
トレー３にはこれらを自転させるトレー自転駆動機構３
５を設ける。トレー自転駆動機構３５は回転体２の回転
を利用して各トレー３を自転させる構造にする。
配置されたタイプでも、その設置位置の違いによる膜厚
のバラツキが発生するのを防止する。 【解決手段】 公転駆動手段としての気体駆動モータ１
３で公転駆動する回転体２を反応容器１内に配置する。
回転体２の周方向に複数のトレー３を支持させる。各ト
レー３には回転体２の回転軸心５側を各ウエハ６の膜形
成面が向くように支持するウエハ支持部７を設ける。反
応容器１には各ウエハ支持部７のウエハ６の膜形成面に
向けて原料ガスを供給するガス供給部１１を設ける。各
トレー３にはこれらを自転させるトレー自転駆動機構３
５を設ける。トレー自転駆動機構３５は回転体２の回転
を利用して各トレー３を自転させる構造にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反応容器内の周方
向に沿って複数のウエハを、その膜形成面を内向きにし
て配置し、これらウエハに原料ガスを供給して気相成長
を行わせる気相成長装置に関するものである。
向に沿って複数のウエハを、その膜形成面を内向きにし
て配置し、これらウエハに原料ガスを供給して気相成長
を行わせる気相成長装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の気相成長装置では、図３
に示すように、各ウエハ６をその膜形成面が内向きとな
るようにそれぞれトレー３で支持させ、これらトレー３
の位置で反応容器１の側壁をそれぞれ貫通するトレー支
軸３０に各トレー３を支持させ、反応容器１内及び各ト
レー３をヒータ８で加熱し、反応容器１内の中央から各
ウエハ６の膜形成面に向けて原料ガスをガス供給部１１
から供給し、各トレー支軸３０を図示しないウエハ自転
駆動手段で駆動する構造であった（特開平２−９４４２
９号）。
に示すように、各ウエハ６をその膜形成面が内向きとな
るようにそれぞれトレー３で支持させ、これらトレー３
の位置で反応容器１の側壁をそれぞれ貫通するトレー支
軸３０に各トレー３を支持させ、反応容器１内及び各ト
レー３をヒータ８で加熱し、反応容器１内の中央から各
ウエハ６の膜形成面に向けて原料ガスをガス供給部１１
から供給し、各トレー支軸３０を図示しないウエハ自転
駆動手段で駆動する構造であった（特開平２−９４４２
９号）。
【０００３】このような構造によれば、ウエハ６の表面
の各位置が該ウエハ６の自転により変わるので、ウエハ
表面の各位置の違いによる膜厚のバラツキを防止できる
利点がある。
の各位置が該ウエハ６の自転により変わるので、ウエハ
表面の各位置の違いによる膜厚のバラツキを防止できる
利点がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構造の気相成長装置では、反応容器１内に原料ガス
を供給するガス供給部１１の周方向の位置の違いによる
吹き出される原料ガスの微妙な違いにより、各ウエハ６
にその設置位置の違いによる膜厚のバラツキが発生する
のを防止できない問題点があった。
うな構造の気相成長装置では、反応容器１内に原料ガス
を供給するガス供給部１１の周方向の位置の違いによる
吹き出される原料ガスの微妙な違いにより、各ウエハ６
にその設置位置の違いによる膜厚のバラツキが発生する
のを防止できない問題点があった。
【０００５】また、図示のように各トレー支軸３０が反
応容器１の側壁を貫通していたのでは、反応容器１の構
造が複雑化し、その製作が面倒になると共に各トレー支
軸３０の貫通箇所での反応容器１のガスシールが面倒に
なる問題点があった。
応容器１の側壁を貫通していたのでは、反応容器１の構
造が複雑化し、その製作が面倒になると共に各トレー支
軸３０の貫通箇所での反応容器１のガスシールが面倒に
なる問題点があった。
【０００６】更に、各トレー支軸３０が反応容器１の側
壁を貫通していたのでは、各ウエハ６を公転させること
ができない問題点があった。
壁を貫通していたのでは、各ウエハ６を公転させること
ができない問題点があった。
【０００７】本発明の目的は、反応容器内で各ウエハの
膜形成面が内向きに配置されたタイプでも、その設置位
置の違いによる膜厚のバラツキが発生するのを防止でき
る気相成長装置を提供することにある。
膜形成面が内向きに配置されたタイプでも、その設置位
置の違いによる膜厚のバラツキが発生するのを防止でき
る気相成長装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に係る気相成長装
置は、公転駆動手段で公転駆動される回転体が反応容器
内に配置され、回転体の周方向に複数のトレーが支持さ
れ、各トレーには回転体の回転軸心側を各ウエハの膜形
成面が向くように支持するウエハ支持部が設けられ、反
応容器には各ウエハ支持部のウエハの膜形成面に向けて
原料ガスを供給するガス供給部が設けられ、各トレーに
はこれらを自転させるトレー自転駆動機構が設けられて
いることを特徴とする。
置は、公転駆動手段で公転駆動される回転体が反応容器
内に配置され、回転体の周方向に複数のトレーが支持さ
れ、各トレーには回転体の回転軸心側を各ウエハの膜形
成面が向くように支持するウエハ支持部が設けられ、反
応容器には各ウエハ支持部のウエハの膜形成面に向けて
原料ガスを供給するガス供給部が設けられ、各トレーに
はこれらを自転させるトレー自転駆動機構が設けられて
いることを特徴とする。
【０００９】このようにな構造にすると、反応容器内で
各ウエハの膜形成面が内向きに配置されたタイプでも、
各ウエハが自公転されるので、その設置位置の違いによ
る膜厚のバラツキが各ウエハに発生するのを防止でき
る。また、この構造では、各ウエハの膜形成面に向けて
原料ガスが供給されるので、前述した作用と相俟って、
効率良く膜厚の均等な気相成長を行わせることができ
る。
各ウエハの膜形成面が内向きに配置されたタイプでも、
各ウエハが自公転されるので、その設置位置の違いによ
る膜厚のバラツキが各ウエハに発生するのを防止でき
る。また、この構造では、各ウエハの膜形成面に向けて
原料ガスが供給されるので、前述した作用と相俟って、
効率良く膜厚の均等な気相成長を行わせることができ
る。
【００１０】この場合、トレー自転駆動機構は回転体の
回転を利用して各トレーを自転させる構造にすることが
できる。
回転を利用して各トレーを自転させる構造にすることが
できる。
【００１１】このようにトレー自転駆動機構が回転体の
回転を利用して各トレーを自転させる構造になっている
と、反応容器の側壁に各トレーを自転させる各回転軸を
貫通させないので、反応容器の構造が複雑化することも
なく、その製作も容易であると共に各回転軸の貫通箇所
での反応容器のガスシールの問題もなくなる。しかも、
このようなトレー自転駆動機構によれば、別にトレー自
転用の駆動源を設ける必要がなく、ウエハの自公転の障
害にならなくなる。
回転を利用して各トレーを自転させる構造になっている
と、反応容器の側壁に各トレーを自転させる各回転軸を
貫通させないので、反応容器の構造が複雑化することも
なく、その製作も容易であると共に各回転軸の貫通箇所
での反応容器のガスシールの問題もなくなる。しかも、
このようなトレー自転駆動機構によれば、別にトレー自
転用の駆動源を設ける必要がなく、ウエハの自公転の障
害にならなくなる。
【００１２】また、公転駆動手段は回転体をロータとす
る気体駆動モータで構成することができる。
る気体駆動モータで構成することができる。
【００１３】このように公転駆動手段が回転体をロータ
とする気体駆動モータで構成されていると、回転体を気
体で冷却しつつ回転駆動することができる。また、反応
容器内で回転体を電気を用いずに駆動でき、電気の使用
に伴うトラブルを回避することができる。
とする気体駆動モータで構成されていると、回転体を気
体で冷却しつつ回転駆動することができる。また、反応
容器内で回転体を電気を用いずに駆動でき、電気の使用
に伴うトラブルを回避することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る気相成長装
置の第１の実施の形態を示したものである。本例の気相
成長装置は、反応容器１内にリング状の回転体２が回転
自在に配置されている。該回転体２の上面には、周方向
に複数のトレー３が垂直向きでトレー支持体４を介して
支持されている。各トレー３には、回転体２の回転軸心
５側を各ウエハ６の膜形成面が向くように支持する凹部
よりなるウエハ支持部７が設けられている。各トレー３
の背面側の反応容器１内にはヒータ８が配置され、該ヒ
ータ８にはヒータ電源９から給電されて抵抗発熱するよ
うになっている。ヒータ８には通気孔８ａが設けられて
いる。また、各トレー３の背面側には排気口１０が設け
られている。反応容器１には、各ウエハ支持部７のウエ
ハ６の膜形成面に向けて原料ガスを供給するガス供給部
１１が設けられている。また、反応容器１内には、各ウ
エハ６の膜形成面に向けて原料ガスを供給するガイドを
行う傘状のフローガイド１２が設けられている。
置の第１の実施の形態を示したものである。本例の気相
成長装置は、反応容器１内にリング状の回転体２が回転
自在に配置されている。該回転体２の上面には、周方向
に複数のトレー３が垂直向きでトレー支持体４を介して
支持されている。各トレー３には、回転体２の回転軸心
５側を各ウエハ６の膜形成面が向くように支持する凹部
よりなるウエハ支持部７が設けられている。各トレー３
の背面側の反応容器１内にはヒータ８が配置され、該ヒ
ータ８にはヒータ電源９から給電されて抵抗発熱するよ
うになっている。ヒータ８には通気孔８ａが設けられて
いる。また、各トレー３の背面側には排気口１０が設け
られている。反応容器１には、各ウエハ支持部７のウエ
ハ６の膜形成面に向けて原料ガスを供給するガス供給部
１１が設けられている。また、反応容器１内には、各ウ
エハ６の膜形成面に向けて原料ガスを供給するガイドを
行う傘状のフローガイド１２が設けられている。
【００１５】回転体２は、公転駆動手段としての気体駆
動モータ１３により回転駆動されるようになっている。
該気体駆動モータ１３は該回転体２をロータとして回転
するようになっている。該気体駆動モータ１３は、外周
に多数の縦向き突起よりなる回転用受圧部１４が設けら
れている回転体２と、該回転体２を環状溝１５に収容す
る環状のステータ１６と、環状溝１５の下のステータ１
６内に設けられた浮上用均圧室１７と、該浮上用均圧室
１７から供給される浮上用ガスを回転体２の底面に吹付
けて回転体２を浮上させるためにステータ１６に設けら
れた多数の浮上用ガスノズル１８と、環状溝１５の周囲
のステータ１６内に設けられた回転用均圧室１９と、該
回転用均圧室１９から供給される回転用ガスを回転体２
の回転用受圧部１４に吹付けて回転体２を回転させるた
めにステータ１６に設けられた多数の回転用ガスノズル
２０とを備えて構成されている。
動モータ１３により回転駆動されるようになっている。
該気体駆動モータ１３は該回転体２をロータとして回転
するようになっている。該気体駆動モータ１３は、外周
に多数の縦向き突起よりなる回転用受圧部１４が設けら
れている回転体２と、該回転体２を環状溝１５に収容す
る環状のステータ１６と、環状溝１５の下のステータ１
６内に設けられた浮上用均圧室１７と、該浮上用均圧室
１７から供給される浮上用ガスを回転体２の底面に吹付
けて回転体２を浮上させるためにステータ１６に設けら
れた多数の浮上用ガスノズル１８と、環状溝１５の周囲
のステータ１６内に設けられた回転用均圧室１９と、該
回転用均圧室１９から供給される回転用ガスを回転体２
の回転用受圧部１４に吹付けて回転体２を回転させるた
めにステータ１６に設けられた多数の回転用ガスノズル
２０とを備えて構成されている。
【００１６】気体駆動モータ１３のステータ１６は、ホ
ルダー２１に搭載されて支持されている。ホルダー２１
は昇降軸２２で昇降自在に支持されている。これら昇降
軸２２とホルダー２１には、浮上用均圧室１７に浮上用
ガスを供給する浮上用ガス供給通路２３と回転用均圧室
１９に回転用ガスを供給する回転用ガス供給通路２４と
が設けられている。浮上用ガス供給通路２３には、マス
フローコントローラ２５を経て一定量の浮上用ガスとし
て窒素ガス等の不活性ガスが供給されるようになってい
る。回転用ガス供給通路２４には、マスフローコントロ
ーラ２６を経て回転用ガスとして窒素ガスが供給される
ようになっている。マスフローコントローラ２６は、セ
ンサ２７を介してトレー３の公転数を検出する回転計２
８と、該回転計２８の出力によりガス量の制御信号を出
す制御器２９とを経てガス量の制御が行われるようにな
っている。このため気体駆動モータ１３は、任意の公転
数の設定が行えるようになっている。
ルダー２１に搭載されて支持されている。ホルダー２１
は昇降軸２２で昇降自在に支持されている。これら昇降
軸２２とホルダー２１には、浮上用均圧室１７に浮上用
ガスを供給する浮上用ガス供給通路２３と回転用均圧室
１９に回転用ガスを供給する回転用ガス供給通路２４と
が設けられている。浮上用ガス供給通路２３には、マス
フローコントローラ２５を経て一定量の浮上用ガスとし
て窒素ガス等の不活性ガスが供給されるようになってい
る。回転用ガス供給通路２４には、マスフローコントロ
ーラ２６を経て回転用ガスとして窒素ガスが供給される
ようになっている。マスフローコントローラ２６は、セ
ンサ２７を介してトレー３の公転数を検出する回転計２
８と、該回転計２８の出力によりガス量の制御信号を出
す制御器２９とを経てガス量の制御が行われるようにな
っている。このため気体駆動モータ１３は、任意の公転
数の設定が行えるようになっている。
【００１７】各トレー３はその背面の中央に突設された
トレー支軸３０を軸受３１を介してトレー支持体４に支
持させることにより、トレー支持体４に回転自在に支持
されている。トレー支持体４を通り抜けたトレー支軸３
０の端部には、それぞれトレー自転用歯車３２が取付け
られている。これらトレー自転用歯車３２は固定リング
歯車３３に噛み合わされ、該固定リング歯車３３はステ
ータ１６に立設されたスタンド３４に支持されている。
トレー支軸３０を軸受３１を介してトレー支持体４に支
持させることにより、トレー支持体４に回転自在に支持
されている。トレー支持体４を通り抜けたトレー支軸３
０の端部には、それぞれトレー自転用歯車３２が取付け
られている。これらトレー自転用歯車３２は固定リング
歯車３３に噛み合わされ、該固定リング歯車３３はステ
ータ１６に立設されたスタンド３４に支持されている。
【００１８】これらトレー支軸３０，軸受３１，トレー
自転用歯車３２，固定リング歯車３３，スタンド３４に
て、回転体２の回転を利用して各トレー３を自転させる
トレー自転駆動機構３５が構成されている。
自転用歯車３２，固定リング歯車３３，スタンド３４に
て、回転体２の回転を利用して各トレー３を自転させる
トレー自転駆動機構３５が構成されている。
【００１９】ヒータ８の温度は、熱電対よりなる温度セ
ンサ３６で測定されるようになっている。
ンサ３６で測定されるようになっている。
【００２０】ウエハ６を取り出すために反応容器１の下
にゲート弁３７を介してプレチャンバ３８が設けられて
いる。プレチャンバ３８には、ウエハ取出し部３９が開
閉自在に設けられている。フローガイド１２は支持体４
０を介してステータ１６に支持されている。
にゲート弁３７を介してプレチャンバ３８が設けられて
いる。プレチャンバ３８には、ウエハ取出し部３９が開
閉自在に設けられている。フローガイド１２は支持体４
０を介してステータ１６に支持されている。
【００２１】昇降軸２２は、反応容器１の底面を軸シー
ルを兼ねたＯリングよりなる軸受４１介して貫通して昇
降されるようになっている。
ルを兼ねたＯリングよりなる軸受４１介して貫通して昇
降されるようになっている。
【００２２】各トレー３及び気体駆動モータ１３を搭載
したホルダー２１は、昇降軸２２を介して昇降駆動機構
４２で昇降されるようになっている。昇降駆動機構４２
は、昇降軸２２の下部に固定されて回り止めされた状態
で昇降する昇降体４３と、該昇降体４３にネジ結合で貫
通されているネジ軸４４と、該ネジ軸４４に取り付けら
れているプーリ４５と、該プーリ４５にベルト４６を介
して回転力を与えるプーリ４７と、プーリ４７を回転す
るモータ４８とで構成されている。
したホルダー２１は、昇降軸２２を介して昇降駆動機構
４２で昇降されるようになっている。昇降駆動機構４２
は、昇降軸２２の下部に固定されて回り止めされた状態
で昇降する昇降体４３と、該昇降体４３にネジ結合で貫
通されているネジ軸４４と、該ネジ軸４４に取り付けら
れているプーリ４５と、該プーリ４５にベルト４６を介
して回転力を与えるプーリ４７と、プーリ４７を回転す
るモータ４８とで構成されている。
【００２３】このような気相成長装置では、気体駆動モ
ータ１３の浮上用ガスノズル１８からの浮上用ガスの吹
き出しにより回転体２が浮上され、かかる状態での回転
用ガスノズル２０からの回転用ガスの吹き出しにより回
転体２が公転され、この回転体２の公転により各トレー
３が公転される。各トレー３の公転数は、これらトレー
３の公転数を検出する回転計２８と、該回転計２８の出
力によりガス量の制御信号を出す制御器２９とによって
所定の公転数に設定される。
ータ１３の浮上用ガスノズル１８からの浮上用ガスの吹
き出しにより回転体２が浮上され、かかる状態での回転
用ガスノズル２０からの回転用ガスの吹き出しにより回
転体２が公転され、この回転体２の公転により各トレー
３が公転される。各トレー３の公転数は、これらトレー
３の公転数を検出する回転計２８と、該回転計２８の出
力によりガス量の制御信号を出す制御器２９とによって
所定の公転数に設定される。
【００２４】また、各トレー３とトレー自転用歯車３２
が回転体２と共に公転されると、固定リング歯車３３に
トレー自転用歯車３２が噛み合っているので、各トレー
３が自転駆動される。
が回転体２と共に公転されると、固定リング歯車３３に
トレー自転用歯車３２が噛み合っているので、各トレー
３が自転駆動される。
【００２５】このように自公転しつつある各トレー３に
支持されたウエハ６は、ヒータ８により加熱され、かか
る状態でガス供給部１１から直交する向きで原料ガスが
供給されて気相成長が行われる。
支持されたウエハ６は、ヒータ８により加熱され、かか
る状態でガス供給部１１から直交する向きで原料ガスが
供給されて気相成長が行われる。
【００２６】このような気相成長装置によれば、各トレ
ー３を支持した回転体２が自転しつつ公転するので、反
応容器１内で各ウエハ６の膜形成面が内向きに配置され
たタイプでも、その設置位置の違いによる膜厚のバラツ
キが発生するのを防止することができる。
ー３を支持した回転体２が自転しつつ公転するので、反
応容器１内で各ウエハ６の膜形成面が内向きに配置され
たタイプでも、その設置位置の違いによる膜厚のバラツ
キが発生するのを防止することができる。
【００２７】この場合、ガス供給部１１と各ウエハ６と
の距離は、できるだけ長い方がガスの拡散が十分に行わ
れるため膜質の均一性は高い。ガス供給部１１と各ウエ
ハ６との距離が短い時には、中間部にメッシュやバッフ
ル板を設けると、膜質の均一性を向上させることができ
る。
の距離は、できるだけ長い方がガスの拡散が十分に行わ
れるため膜質の均一性は高い。ガス供給部１１と各ウエ
ハ６との距離が短い時には、中間部にメッシュやバッフ
ル板を設けると、膜質の均一性を向上させることができ
る。
【００２８】各ウエハ６の気相成長が終了したら、各ト
レー３及び気体駆動モータ１３を搭載したホルダー２１
を昇降軸２２を介して昇降駆動機構４２で下降させ、ゲ
ート弁３７を閉じ、プレチャンバ３８内を窒素ガス等で
置換した後に、ウエハ取出し部３９から各ウエハ６を取
り出し、次に処理すべき各ウエハ６を各トレー３に取り
付ける。
レー３及び気体駆動モータ１３を搭載したホルダー２１
を昇降軸２２を介して昇降駆動機構４２で下降させ、ゲ
ート弁３７を閉じ、プレチャンバ３８内を窒素ガス等で
置換した後に、ウエハ取出し部３９から各ウエハ６を取
り出し、次に処理すべき各ウエハ６を各トレー３に取り
付ける。
【００２９】図２は、本発明に係る気相成長装置の第２
の実施の形態を示したものである。本例の気相成長装置
は、反応容器１内に円盤状の回転体２が回転自在に配置
されている。該回転体２の上面には、周方向に複数のト
レー３が垂直向きでトレー支持体４を介して支持されて
いる。各トレー３には、回転体２の回転軸心５側を各ウ
エハ６の膜形成面が向くように支持する凹部よりなるウ
エハ支持部７が設けられている。各トレー３の背面側の
反応容器１内にはヒータ８が配置され、該ヒータ８には
ヒータ電源９から給電されて抵抗発熱するようになって
いる。ヒータ８には通気孔８ａが設けられている。ま
た、各トレー３の背面側には排気口１０が設けられてい
る。反応容器１には、各ウエハ支持部７のウエハ６の膜
形成面に向けて原料ガスを供給するガス供給部１１が設
けられている。また、反応容器１内には、各ウエハ支持
部７のウエハ６の膜形成面に向けて原料ガスを供給する
ガイドを行う傘状のフローガイド１２が設けられてい
る。
の実施の形態を示したものである。本例の気相成長装置
は、反応容器１内に円盤状の回転体２が回転自在に配置
されている。該回転体２の上面には、周方向に複数のト
レー３が垂直向きでトレー支持体４を介して支持されて
いる。各トレー３には、回転体２の回転軸心５側を各ウ
エハ６の膜形成面が向くように支持する凹部よりなるウ
エハ支持部７が設けられている。各トレー３の背面側の
反応容器１内にはヒータ８が配置され、該ヒータ８には
ヒータ電源９から給電されて抵抗発熱するようになって
いる。ヒータ８には通気孔８ａが設けられている。ま
た、各トレー３の背面側には排気口１０が設けられてい
る。反応容器１には、各ウエハ支持部７のウエハ６の膜
形成面に向けて原料ガスを供給するガス供給部１１が設
けられている。また、反応容器１内には、各ウエハ支持
部７のウエハ６の膜形成面に向けて原料ガスを供給する
ガイドを行う傘状のフローガイド１２が設けられてい
る。
【００３０】回転体２は、回転昇降軸４９によりその中
心が支持されている。該回転昇降軸４９は反応容器１の
底面を軸シールを兼ねたＯリングよりなる軸受４１介し
て回転自在に貫通して昇降されるようになっている。反
応容器１の底面を通り抜けた回転昇降軸４９の下端には
プーリ５０が取付けられ、該プーリ５０にはベルト５１
を介してプーリ５２が結合され、該プーリ５２はモータ
５３の出力軸に支持されている。本例では、これらプー
リ５０，ベルト５１，プーリ５２，モータ５３により回
転体２を公転させる公転駆動手段が構成されている。
心が支持されている。該回転昇降軸４９は反応容器１の
底面を軸シールを兼ねたＯリングよりなる軸受４１介し
て回転自在に貫通して昇降されるようになっている。反
応容器１の底面を通り抜けた回転昇降軸４９の下端には
プーリ５０が取付けられ、該プーリ５０にはベルト５１
を介してプーリ５２が結合され、該プーリ５２はモータ
５３の出力軸に支持されている。本例では、これらプー
リ５０，ベルト５１，プーリ５２，モータ５３により回
転体２を公転させる公転駆動手段が構成されている。
【００３１】本例では、昇降駆動機構４２は昇降体４３
が軸受５４を介して回転昇降軸４９に連結され、該回転
昇降軸４９を介して回転体２を昇降させるようになって
いる。その他の該昇降駆動機構４２の構成は図１と同様
である。
が軸受５４を介して回転昇降軸４９に連結され、該回転
昇降軸４９を介して回転体２を昇降させるようになって
いる。その他の該昇降駆動機構４２の構成は図１と同様
である。
【００３２】また、本例では、スタンド３４は軸受５５
を介して回転体２に支持されている。また、該スタンド
３４は所定以上の曲げ力が加わると破断される係止ピン
５６を介して回転不能に反応容器１に固定されている。
を介して回転体２に支持されている。また、該スタンド
３４は所定以上の曲げ力が加わると破断される係止ピン
５６を介して回転不能に反応容器１に固定されている。
【００３３】その他の構成は、図１と同様になってい
る。
る。
【００３４】このような気相成長装置では、公転駆動手
段のモータ５３により回転体２が公転され、この回転体
２の公転により各トレー３が公転される。
段のモータ５３により回転体２が公転され、この回転体
２の公転により各トレー３が公転される。
【００３５】このようにして、各トレー３とトレー自転
用歯車３２が回転体２と共に公転されると、固定リング
歯車３３にトレー自転用歯車３２が噛み合っているの
で、各トレー３が自転駆動される。
用歯車３２が回転体２と共に公転されると、固定リング
歯車３３にトレー自転用歯車３２が噛み合っているの
で、各トレー３が自転駆動される。
【００３６】このように自公転しつつある各トレー３に
支持されたウエハ６は、ヒータ８により加熱され、かか
る状態でガス供給部１１から直交する向きで原料ガスが
供給されて気相成長が行われる。
支持されたウエハ６は、ヒータ８により加熱され、かか
る状態でガス供給部１１から直交する向きで原料ガスが
供給されて気相成長が行われる。
【００３７】このような気相成長装置によれば、各トレ
ー３を支持した回転体２が自転しつつ公転するので、反
応容器１内で各ウエハ６の膜形成面が内向きに配置され
たタイプでも、その設置位置の違いによる膜厚のバラツ
キが発生するのを防止することができる。
ー３を支持した回転体２が自転しつつ公転するので、反
応容器１内で各ウエハ６の膜形成面が内向きに配置され
たタイプでも、その設置位置の違いによる膜厚のバラツ
キが発生するのを防止することができる。
【００３８】この場合、ガス供給部１１と各ウエハ６と
の距離は、できるだけ長い方がガスの拡散が十分に行わ
れるため膜質の均一性は高い。ガス供給部１１と各ウエ
ハ６との距離が短い時には、中間部にメッシュやバッフ
ル板を設けると、膜質の均一性を向上させることができ
る。
の距離は、できるだけ長い方がガスの拡散が十分に行わ
れるため膜質の均一性は高い。ガス供給部１１と各ウエ
ハ６との距離が短い時には、中間部にメッシュやバッフ
ル板を設けると、膜質の均一性を向上させることができ
る。
【００３９】各ウエハ６の気相成長が終了したら、各ト
レー３を搭載した回転体２を回転昇降軸４９を介して昇
降駆動機構４２で下降させ、ゲート弁３７を閉じ、プレ
チャンバ３８内を窒素ガス等で置換した後に、ウエハ取
出し部３９から各ウエハ６を取り出し、次に処理すべき
各ウエハ６を各トレー３に取り付ける。
レー３を搭載した回転体２を回転昇降軸４９を介して昇
降駆動機構４２で下降させ、ゲート弁３７を閉じ、プレ
チャンバ３８内を窒素ガス等で置換した後に、ウエハ取
出し部３９から各ウエハ６を取り出し、次に処理すべき
各ウエハ６を各トレー３に取り付ける。
【００４０】このような気相成長の過程で、トレー自転
用歯車３２と固定リング歯車３３との噛み合い部分に異
常な負荷が加わった場合には、係止ピン５６が破断され
て歯車３２，３３等の破損を防止する。
用歯車３２と固定リング歯車３３との噛み合い部分に異
常な負荷が加わった場合には、係止ピン５６が破断され
て歯車３２，３３等の破損を防止する。
【００４１】なお、プーリ４５，４７，５０，５２の代
りにスプロケットを用い、ベルト４６の代りにチェーン
を用いることもできる。
りにスプロケットを用い、ベルト４６の代りにチェーン
を用いることもできる。
【００４２】
【発明の効果】本発明に係る気相成長装置では、公転駆
動手段で公転駆動される回転体を反応容器内に配置し、
回転体の周方向に複数のトレーを支持させ、各トレーに
は回転体の回転軸心側を各ウエハの膜形成面が向くよう
に支持するウエハ支持部を設け、反応容器には各ウエハ
支持部のウエハの膜形成面に向けて原料ガスを供給する
ガス供給部を設け、各トレーにはこれらを自転させるト
レー自転駆動機構を設けたので、反応容器内で各ウエハ
の膜形成面が内向きに配置されたタイプでも、各ウエハ
が自公転されることになり、その設置位置の違いによる
膜厚のバラツキが各ウエハに発生するのを防止すること
ができる。また、この構造では、各ウエハの膜形成面に
向けて原料ガスを供給するので、前述した作用と相俟っ
て、効率良く膜厚の均等な気相成長を行わせることがで
きる。
動手段で公転駆動される回転体を反応容器内に配置し、
回転体の周方向に複数のトレーを支持させ、各トレーに
は回転体の回転軸心側を各ウエハの膜形成面が向くよう
に支持するウエハ支持部を設け、反応容器には各ウエハ
支持部のウエハの膜形成面に向けて原料ガスを供給する
ガス供給部を設け、各トレーにはこれらを自転させるト
レー自転駆動機構を設けたので、反応容器内で各ウエハ
の膜形成面が内向きに配置されたタイプでも、各ウエハ
が自公転されることになり、その設置位置の違いによる
膜厚のバラツキが各ウエハに発生するのを防止すること
ができる。また、この構造では、各ウエハの膜形成面に
向けて原料ガスを供給するので、前述した作用と相俟っ
て、効率良く膜厚の均等な気相成長を行わせることがで
きる。
【００４３】また、トレー自転駆動機構が回転体の回転
を利用して各トレーを自転させる構造になっていると、
反応容器の側壁に各トレーを自転させる各回転軸を貫通
させないので、反応容器の構造が複雑化することもな
く、その製作も容易であると共に各回転軸の貫通箇所で
の反応容器のガスシールの問題もなくなる利点がある。
しかも、このようなトレー自転駆動機構によれば、別に
トレー自転用の駆動源を設ける必要がなく、ウエハの自
公転の障害にならなくなる利点がある。
を利用して各トレーを自転させる構造になっていると、
反応容器の側壁に各トレーを自転させる各回転軸を貫通
させないので、反応容器の構造が複雑化することもな
く、その製作も容易であると共に各回転軸の貫通箇所で
の反応容器のガスシールの問題もなくなる利点がある。
しかも、このようなトレー自転駆動機構によれば、別に
トレー自転用の駆動源を設ける必要がなく、ウエハの自
公転の障害にならなくなる利点がある。
【００４４】また、回転体をロータとする気体駆動モー
タで公転駆動手段を構成すると、回転体を気体で冷却し
つつ回転駆動することができる。また、反応容器内で回
転体を電気を用いずに駆動でき、電気の使用に伴うトラ
ブルを回避することができる。
タで公転駆動手段を構成すると、回転体を気体で冷却し
つつ回転駆動することができる。また、反応容器内で回
転体を電気を用いずに駆動でき、電気の使用に伴うトラ
ブルを回避することができる。
【図１】本発明に係る気相成長装置の第１の実施の形態
を示した縦断面図である。
を示した縦断面図である。
【図２】本発明に係る気相成長装置の第２の実施の形態
を示した縦断面図である。
を示した縦断面図である。
【図３】従来の気相成長装置の縦断面図である。
１ 反応容器 ２ 回転体 ３ トレー ４ トレー支持体 ５ 回転軸心 ６ ウエハ ７ ウエハ支持部 ８ ヒータ ８ａ 通気孔 ９ ヒータ電源 １０ 排気口 １１ ガス供給部 １２ フローガイド １３ 気体駆動モータ １４ 回転用受圧部 １５ 環状溝 １６ ステータ １７ 浮上用均圧室 １８ 浮上用ガスノズル １９ 回転用均圧室 ２０ 回転用ガスノズル ２１ ホルダー ２２ 昇降軸 ２３ 浮上用ガス供給通路 ２４ 回転用ガス供給通路 ２５，２６ マスフローコントローラ ２７ センサ ２８ 回転計 ２９ 制御器 ３０ トレー支軸 ３１ 軸受 ３２ トレー自転用歯車 ３３ 固定リング歯車 ３４ スタンド ３５ トレー自転駆動機構 ３６ 温度センサ ３７ ゲート弁 ３８ プレチャンバ ３９ ウエハ取出し部 ４０ 支持体 ４１ 軸受 ４２ 昇降駆動機構 ４３ 昇降体 ４４ ネジ軸 ４５ プーリ ４６ ベルト ４７ プーリ ４８ モータ ４９ 回転昇降軸 ５０ プーリ ５１ ベルト ５３ モータ ５４，５５ 軸受 ５６ 係止ピン
Claims (3)
- 【請求項１】 公転駆動手段で公転駆動される回転体が
反応容器内に配置され、前記回転体の周方向に複数のト
レーが支持され、前記各トレーには前記回転体の回転軸
心側を各ウエハの膜形成面が向くように支持するウエハ
支持部が設けられ、前記反応容器には前記各ウエハ支持
部の前記ウエハの膜形成面に向けて原料ガスを供給する
ガス供給部が設けられ、前記各トレーにはこれらを自転
させるトレー自転駆動機構が設けられていることを特徴
とする気相成長装置。 - 【請求項２】 前記トレー自転駆動機構は前記回転体の
回転を利用して前記各トレーを自転させる構造になって
いることを特徴とする請求項１に記載の気相成長装置。 - 【請求項３】 前記公転駆動手段は前記回転体をロータ
とする気体駆動モータで構成されていることを特徴とす
る請求項１または２に記載の気相成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16877595A JP2880429B2 (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16877595A JP2880429B2 (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 気相成長装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0920588A true JPH0920588A (ja) | 1997-01-21 |
| JP2880429B2 JP2880429B2 (ja) | 1999-04-12 |
Family
ID=15874239
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16877595A Expired - Lifetime JP2880429B2 (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | 気相成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2880429B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013054876A1 (ja) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | 東洋炭素株式会社 | Ｃｖｄ装置、該ｃｖｄ装置を用いたサセプターの製造方法、及びサセプター |
-
1995
- 1995-07-04 JP JP16877595A patent/JP2880429B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013054876A1 (ja) * | 2011-10-14 | 2013-04-18 | 東洋炭素株式会社 | Ｃｖｄ装置、該ｃｖｄ装置を用いたサセプターの製造方法、及びサセプター |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2880429B2 (ja) | 1999-04-12 |
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