JPH09207305A - Offset printing apparatus and image forming apparatus - Google Patents

Offset printing apparatus and image forming apparatus

Info

Publication number
JPH09207305A
JPH09207305A JP2137296A JP2137296A JPH09207305A JP H09207305 A JPH09207305 A JP H09207305A JP 2137296 A JP2137296 A JP 2137296A JP 2137296 A JP2137296 A JP 2137296A JP H09207305 A JPH09207305 A JP H09207305A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ink
work
blanket
offset printing
plate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2137296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Yanagisawa
芳浩 柳沢
Tetsuya Kaneko
哲也 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2137296A priority Critical patent/JPH09207305A/en
Publication of JPH09207305A publication Critical patent/JPH09207305A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cold Cathode And The Manufacture (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 1枚のワークの印刷工程において、凹版上と
ワーク上の両方で1回ずつ空走があるため、タクトタイ
ムが長くかかった。 【解決手段】 第1のワーク定盤1、版定盤2、第2の
ワーク定盤3をこの順番でブランケット11の回転移動
方向に対して直列に配置した構成のオフセット印刷装置
である。
(57) 【Abstract】 PROBLEM TO BE SOLVED: In the printing process of one work, the takt time is long because there is one free run on both the intaglio and the work. An offset printing apparatus has a structure in which a first work surface plate 1, a plate surface plate 2, and a second work surface plate 3 are arranged in series in this order in the rotational movement direction of a blanket 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷機
及びオフセット印刷によって電子機器の機能素子パター
ンを形成する方法に関し、さらにはこのオフセット印刷
を用いて作製される画像形成装置、主に平面型表示装置
に関する。また、該画像形成装置に用いる表面伝導型電
子放出素子、該電子放出素子を用いた電子源、該電子源
を用いた画像形成装置及び該電子放出素子の製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an offset printing machine and a method for forming a functional element pattern of an electronic device by offset printing, and further, an image forming apparatus manufactured by using this offset printing, mainly a flat type display. Regarding the device. The present invention also relates to a surface conduction electron-emitting device used in the image forming apparatus, an electron source using the electron emitting device, an image forming apparatus using the electron source, and a method for manufacturing the electron emitting device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、オフセット印刷はグラフィックス
印刷用として主に人間の視覚に感知されるパターンの印
刷に多く用いられている。また近年、電子機器への応用
として記録用サーマルヘッドの電極や液晶表示装置のカ
ラーフィルター等を作製するための技術開発が成されて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, offset printing has been widely used for printing graphics, mainly for printing patterns that are perceptible to human eyes. Further, in recent years, technological developments have been made for producing electrodes of recording thermal heads, color filters of liquid crystal display devices, and the like as applications to electronic devices.

【0003】図7は、従来の平台校正機型オフセット印
刷装置を示す平面図である。この図に示されるように従
来例のオフセット印刷装置は平板状の本体フレーム10
8を備える。この本体フレーム108上には、インキロ
ーラー104でインキ107が展開されるインキ練り台
101と、凹版105を固定する版定盤102と、ガラ
ス基板等の被印刷物であるワーク106を固定するワー
ク定盤103とがこの順番で一列に固定配置されてい
る。この様な一列に並んだ3つの定盤の両側には2本の
ラックギア109,110が相対して配置されている。
そのラックギア109,110の上にはそれぞれ、円柱
形状のブランケット113を間に持つギア111,11
2が噛み合わせられている。ブランケット113の両端
の軸はそれぞれキャリッジ114,115で固定されて
いる。このキャリッジ114,115は本体フレーム1
08の下部からのクランクアーム116のクランク動作
によって前後進することで、ブランケット113はイン
キ練り台101、凹版105、ワーク106の上を順次
回転摺動する。なお、ブランケット113の表面はゴム
状のブランケットラバーが取り付けてある。
FIG. 7 is a plan view showing a conventional flatbed proofing machine type offset printing apparatus. As shown in this figure, the conventional offset printing apparatus has a flat body frame 10
8 is provided. On the main body frame 108, an ink mixing table 101 on which ink 107 is spread by an ink roller 104, a plate surface plate 102 for fixing an intaglio plate 105, and a work plate for fixing a work 106 such as a glass substrate to be printed. The board 103 is fixedly arranged in a line in this order. Two rack gears 109 and 110 are arranged opposite to each other on both sides of the three surface plates arranged in a line.
On the rack gears 109 and 110, there are gears 111 and 11 having a blanket 113 of a cylindrical shape therebetween.
2 is engaged. The shafts at both ends of the blanket 113 are fixed by carriages 114 and 115, respectively. The carriages 114 and 115 are the main body frame 1
By moving forward and backward by the crank operation of the crank arm 116 from the lower part of 08, the blanket 113 sequentially rotationally slides on the ink kneading base 101, the intaglio plate 105, and the work 106. In addition, a rubber blanket rubber is attached to the surface of the blanket 113.

【0004】図8は、図7に示したオフセット印刷装置
による印刷工程を説明するための図である。この図にお
いて、インキ練り台101、版定盤102、ワーク定盤
103が図面視左側から一列に並んで配置されている。
インキローラー104、ブレード117、ブランケット
113は図面視左側から一列に並んで配置され、ブラン
ケット113による印刷時には一体となって移動する。
また、ブレード117はその先端が根元より図面視右側
に傾けて取り付けられている。
FIG. 8 is a diagram for explaining a printing process by the offset printing apparatus shown in FIG. In this figure, an ink mixing table 101, a plate surface plate 102, and a work surface plate 103 are arranged in a line from the left side in the drawing.
The ink roller 104, the blade 117, and the blanket 113 are arranged in a line from the left side in the drawing, and move integrally when printing with the blanket 113.
Further, the blade 117 is attached with its tip inclined to the right side in the drawing from the root.

【0005】このような装置を用い、まず、インキ練り
台101上のインキ107を担持したインキローラー1
04により、インキ107が凹版105上に転移される
(図8(a)参照)。そして、ブレード117が凹版1
05上面を摺動し、凹版105上に転移されたインキ1
07のうち、凹部に充填されたインキ以外がかき取られ
る(図8(b)参照)。続いて、ブランケット113が
凹版105上を接触回転し、凹版105の凹部に充填さ
れたインクを受理する(図8(c)参照)。最後にブラ
ンケット113がワーク106上に移動されて、ワーク
上を接触回転し、その結果、ガラス基板106上に凹版
105の有するパターンのインキが転移される(図8
(d)参照)。以上の様にして印刷工程を終了する。
Using such an apparatus, first, the ink roller 1 carrying the ink 107 on the ink mixing table 101 is carried out.
With 04, the ink 107 is transferred onto the intaglio plate 105 (see FIG. 8A). And the blade 117 is the intaglio 1
05 Ink 1 slid on the upper surface and transferred to the intaglio plate 105
Of the 07, the ink other than the ink filled in the recesses is scraped off (see FIG. 8B). Subsequently, the blanket 113 is contact-rotated on the intaglio plate 105, and receives the ink filled in the recesses of the intaglio plate 105 (see FIG. 8C). Finally, the blanket 113 is moved onto the work 106 and rotated in contact with the work, and as a result, the ink of the pattern of the intaglio 105 is transferred onto the glass substrate 106 (FIG. 8).
(D)). The printing process is completed as described above.

【0006】また、図7に示したオフセット印刷装置の
他に、インキ練り台を用いない装置による印刷も可能で
ある。図9はインキ練り台を用いない装置による印刷工
程を説明するための図である。この図では図8に示した
部材と同一のものには同一符号を付してある。また、本
従来例の装置はインキ練り台とインキローラーの替わり
に、ブレード117が凹版105上に展開するインキ1
07を凹版105の一部に供給するディスペンサー11
6を備え、この事以外は図8に示した装置と同じ構成で
ある。また、ディスペンサー116、ブレード117、
ブランケット113は図面視左側から一列に並んで配置
され、ブランケット113による印刷時には一体となっ
て移動する。
In addition to the offset printing apparatus shown in FIG. 7, printing can be performed by an apparatus that does not use an ink mixing stand. FIG. 9 is a diagram for explaining a printing process by an apparatus that does not use an ink mixing table. In this figure, the same members as those shown in FIG. 8 are designated by the same reference numerals. Further, in the apparatus of the conventional example, instead of the ink mixing stand and the ink roller, the blade 117 spreads the ink 1 on the intaglio 105.
Dispenser 11 for supplying 07 to a part of intaglio 105
6 and has the same configuration as the apparatus shown in FIG. 8 except for this. Also, the dispenser 116, the blade 117,
The blankets 113 are arranged side by side in a line from the left side in the drawing, and move together when printing with the blanket 113.

【0007】この印刷装置を用いた印刷工程の一例を図
9に基づいて説明する。
An example of a printing process using this printing apparatus will be described with reference to FIG.

【0008】まず、図9(a)に示すようにブレード1
17が凹版105上面を図面視左方向に摺動することで
凹部に対するインキの充填と凹版105表面の余分なイ
ンキを拭き取りを行う。かかる凹部に充填されたインキ
は、ブランケット117が図面視左方向に進行しながら
凹版105に回転接触することによりブランケット11
3に受理される。次に、図9(b)に示すようにブラン
ケット113は上昇して凹版105に接触しない状態で
図面視右方向に移動する。さらに、図9(c)に示すよ
うにブランケット113は上昇したままワーク106に
接触しない状態で図面視右方向に移動する。最後に図9
(d)に示すようにブランケット113が図面視左方向
に進行しながらワーク106に回転接触することにより
ワーク106上に凹版105の有するパターンのインキ
107を転移する。この際、ディスペンサー116によ
り凹版105上にインキ107を供給しておく。
First, as shown in FIG. 9A, the blade 1
By sliding 17 on the upper surface of the intaglio plate 105 in the left direction in the drawing, ink is filled in the recesses and excess ink on the surface of the intaglio plate 105 is wiped off. The ink with which the concave portion is filled is rotated by the blanket 117 in the left direction as viewed in the drawing, so that the blanket 11 is rotated and brought into contact with the intaglio plate 105.
Accepted by 3. Next, as shown in FIG. 9B, the blanket 113 moves up and moves to the right in the figure without contacting the intaglio 105. Further, as shown in FIG. 9C, the blanket 113 moves to the right as viewed in the drawing without raising the work 106 while keeping rising. Finally, FIG.
As shown in (d), the blanket 113 rotates in contact with the work 106 while moving to the left in the drawing, whereby the ink 107 having the pattern of the intaglio 105 is transferred onto the work 106. At this time, the ink 107 is supplied onto the intaglio plate 105 by the dispenser 116.

【0009】この印刷機では以上の一工程で1枚のワー
クにパターンが印刷できる。この工程のタクトタイム
は、凹版からブランケットへの[インキの受理に要する
時間]、[凹版上をブランケットが空走する時間]、
[ワーク上をブランケットが空走する時間]、ブランケ
ットからワークへの[インキの転移に要する時間]の合
計となる。
With this printing machine, a pattern can be printed on one work by the above-mentioned one step. The takt time of this process is [time required to receive ink] from the intaglio plate to the blanket, [time for blanket to run on the intaglio plate],
It is the sum of [the time the blanket runs on the work] and [the time required for the ink to transfer from the blanket to the work].

【0010】印刷インキ107は作製するパターンの機
能によって適宜選択することができる。すなわち記録用
サーマルヘッド等の電極には主にAuレジネートペース
トと呼ばれる有機Au金属からなるインキを用い、ま
た、カラーフィルターであればR,G,B各色の顔料を
分散したインキや有機色素を含んだインキ等が用いられ
る。
The printing ink 107 can be appropriately selected depending on the function of the pattern to be produced. That is, an ink mainly made of an organic Au metal called Au resinate paste is used for an electrode of a recording thermal head or the like, and in the case of a color filter, an ink in which pigments of R, G and B colors are dispersed or an organic dye is included. Ink and the like are used.

【0011】また、従来、平面型表示装置を実現する表
示技術としては、液晶表示装置(LCD)、薄膜トラン
ジスタ液晶表示装置(TFT/LCD)、プラズマディ
スプレイ(PDP)、低速電子線蛍光表示管(VF
D)、マルチ電子源フラットCRT等の平面型表示装置
技術がある。
Conventionally, as a display technology for realizing a flat panel display device, a liquid crystal display device (LCD), a thin film transistor liquid crystal display device (TFT / LCD), a plasma display (PDP), a low speed electron beam fluorescent display tube (VF).
D), flat panel display technology such as multi-electron source flat CRT.

【0012】これらの表示技術の例として、マルチ電子
源を用い蛍光体を発光させる発光素子及びこれを用いた
平面型表示装置について説明する。
As an example of these display technologies, a light emitting element for emitting a phosphor using a multi electron source and a flat panel display using the same will be described.

【0013】従来より電子源としての電子放出素子には
大別して熱電子放出素子と冷陰極電子放出素子を用いた
2種類のものが知られている。冷陰極電子放出素子には
電界放出型(以下、「FE型」という。)、金属/絶縁
層/金属型(以下、「MIM型」という。)や表面伝導
型電子放出素子等がある。FE型の例としては W.P.Dyk
e & W.W.Doran, “Field Emission”, Advance in Elec
tron Physics, 8,89 (1956) あるいは C.A.Spindt,“Ph
ysical Properties of thin-film fieldemission catho
des with molybdenium cones”J.Appl.Phys.,47,5248(1
976) 等が開示されたものが知られている。
Conventionally, there have been known two types of electron-emitting devices as electron sources, which mainly use a thermoelectron-emitting device and a cold cathode electron-emitting device. The cold cathode electron emission device includes a field emission type (hereinafter referred to as “FE type”), a metal / insulating layer / metal type (hereinafter referred to as “MIM type”), a surface conduction type electron emission device, and the like. WPDyk as an example of FE type
e & WWDoran, “Field Emission”, Advance in Elec
tron Physics, 8,89 (1956) or CASpindt, “Ph
ysical Properties of thin-film fieldemission catho
des with molybdenium cones ”J.Appl.Phys., 47,5248 (1
976) and the like are known.

【0014】MIM型では C.A.Mead,“Operation of T
unnel-Emission Devices ”,J.Appl.Phys.,32,646(196
1) 等に開示されたものが知られている。
In the MIM type, CAMead, “Operation of T
unnel-Emission Devices ”, J.Appl.Phys., 32,646 (196
1) and the like are known.

【0015】表面伝導型電子放出素子型の例としては、
M.I.Elinson, Radio Eng. ElectronPhys., 10,1290(196
5) 等がある。
As an example of the surface conduction electron-emitting device type,
MIElinson, Radio Eng. ElectronPhys., 10,1290 (196
5) etc.

【0016】表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成
された小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことに
より、電子放出が生ずる。この表面伝導型電子放出素子
としては、前記エリンソン等によるSnO2 薄膜を用い
たもの、Au薄膜によるもの[G.Dittmer:“Thin Solis
Films ”, 9,317(1972)] 、In23 /SnO2 薄膜
によるもの[M.Hartwell and C.G. Fonstad:IEEE Tran
s. ED Conf., 519(1975)] 、カーボン薄膜によるもの
[荒木 久他:真空、第26巻、第1号、22頁(19
83)]等が報告されている。
In the surface conduction electron-emitting device, electrons are emitted by passing a current through a thin film of a small area formed on a substrate in parallel with the film surface. As the surface conduction electron-emitting device, one using a SnO 2 thin film by Erinson et al., One using an Au thin film [G. Dittmer: “Thin Solis
Films ", 9,317 (1972)], by In 2 O 3 / SnO 2 thin films [M. Hartwell and CG Fonstad: IEEE Tran
s. ED Conf., 519 (1975)], by a carbon thin film [Hiraki Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, p. 22 (19).
83)] etc. have been reported.

【0017】これらの表面伝導型電子放出素子の典型的
な素子構成として前述のM.ハートウェルの素子構成を
図10に模式的に示す。図10において符号201は基
板を示す。符号204は導電性薄膜で、H型形状のパタ
ーンにスパッタで形成された金属酸化物薄膜等を示して
いる。符号205は導電性薄膜204を後述の通電フォ
ーミングと呼ばれる通電処理して形成された電子放出部
を示している。なお、図10中の素子電極202、20
3の間隔Lは、0.5〜1mm、W’は0.1mmで設
定されている。
As a typical device configuration of these surface conduction electron-emitting devices, the above-mentioned M. The Hartwell device configuration is schematically shown in FIG. In FIG. 10, reference numeral 201 indicates a substrate. Reference numeral 204 denotes a conductive thin film, which is a metal oxide thin film or the like formed by sputtering on an H-shaped pattern. Reference numeral 205 denotes an electron emitting portion formed by conducting an energization process called an energization forming described later on the conductive thin film 204. In addition, the device electrodes 202 and 20 in FIG.
The interval L of 3 is set to 0.5 to 1 mm, and W'is set to 0.1 mm.

【0018】従来、これらの表面伝導型電子放出素子に
おいては、電子放出を行う前に導電性薄膜204を予め
通電フォーミングと呼ばれる通電処理によって電子放出
部205を形成するのが一般的であった。すなわち、通
電フォーミングとは前記導電性薄膜204の両端に直流
電圧あるいは非常にゆっくりとした昇電圧を印加通電
し、導電性薄膜204を局所的に破壊、変形もしくは変
質せしめ、電気的に高抵抗な状態にした電子放出部20
5を形成することである。なお、電子放出部205は導
電性薄膜204の一部に亀裂が発生しその亀裂付近から
電位放出が行われる。前記通電フォーミング処理をした
表面伝導型電子放出素子は、導電性薄膜204に電圧を
印加し、素子に電流を流すことにより電子放出部205
より電子を放出せしめるものである。
Conventionally, in these surface conduction electron-emitting devices, the electron-emitting portion 205 has generally been formed by conducting a current-carrying process called current-flow forming in advance on the conductive thin film 204 before emitting electrons. That is, the energization forming means that a direct current voltage or a very slow rising voltage is applied across both ends of the conductive thin film 204 to locally break, deform or alter the conductive thin film 204 so that it has a high electrical resistance. State electron emission unit 20
5 is to be formed. In the electron emitting portion 205, a crack is generated in a part of the conductive thin film 204, and the potential is emitted from the vicinity of the crack. In the surface conduction electron-emitting device that has been subjected to the energization forming process, a voltage is applied to the conductive thin film 204, and a current is passed through the device to emit electrons.
It allows more electrons to be emitted.

【0019】また、本出願人は、USP5,066,8
83において素子電極間に電子を放出せしめる微粒子を
分散配置した新規な表面伝導型電子放出素子を技術開示
した。
Further, the applicant of the present invention has filed USP 5,066,8.
At 83, a technology of a novel surface conduction electron-emitting device in which fine particles for emitting electrons are dispersedly arranged between device electrodes is disclosed.

【0020】この電子放出素子は上述の従来例による表
面伝導型電子放出素子に対し、電子放出位置を精密に制
御でき、より高精密に電子放出素子を配列することがで
きる。この表面伝導型電子放出素子の典型的な素子構成
を図11に示す。図11において、符号301は絶縁性
基板、符号302,303は電気的接続を得るための一
対の素子電極、符号304は分散配置された微粒子電子
放出材からなる薄膜、符号305は電子放出部を示して
いる。
In this electron-emitting device, the electron-emitting position can be controlled precisely compared to the surface conduction electron-emitting device according to the conventional example described above, and the electron-emitting devices can be arranged with higher precision. A typical device structure of this surface conduction electron-emitting device is shown in FIG. In FIG. 11, reference numeral 301 is an insulating substrate, reference numerals 302 and 303 are a pair of element electrodes for obtaining electrical connection, reference numeral 304 is a thin film made of dispersed fine particle electron emitting materials, and reference numeral 305 is an electron emitting portion. Shows.

【0021】この表面伝導型電子放出素子において、前
記一対の電極302,303の電極間隔L1は0.00
1ミクロン〜100ミクロン、薄膜304の電子放出部
のシート抵抗は1×103 オーム/□ 〜 1×109
オーム/□が適当である。
In this surface conduction electron-emitting device, the electrode interval L1 between the pair of electrodes 302 and 303 is 0.00.
The sheet resistance of the electron emission part of the thin film 304 is 1 × 10 3 ohm / □ to 1 × 10 9
Ohm / □ is suitable.

【0022】以上説明してきた表面伝導型電子放出素子
を電子放出素子として用いる際には、電子ビームを飛翔
させるため真空容器内に配置する必要がある。真空容器
内の本素子のほぼ垂直上にフェースプレートを設けて電
子放出装置とし、素子電極間に電圧を印加して、電子放
出部から得られた電子線を蛍光体に照射することによっ
て蛍光体を発光させれば、発光素子や平面型表示装置と
して用いることができる。
When the surface conduction electron-emitting device described above is used as an electron-emitting device, it must be placed in a vacuum container in order to fly an electron beam. A face plate is provided almost vertically above the present device in a vacuum container to form an electron emitting device, a voltage is applied between the device electrodes, and the phosphor is irradiated with an electron beam obtained from the electron emitting portion. Can be used as a light-emitting element or a flat-panel display device.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8及
び図9に示した従来のオフセット印刷装置は以下のよう
な問題点があった。
However, the conventional offset printing apparatus shown in FIGS. 8 and 9 has the following problems.

【0024】すなわち、1枚のワークの印刷工程におい
て、凹版上とワーク上の両方で1回ずつ空走があるた
め、タクトタイムが長くかかった。
That is, in the printing process of one work, the takt time was long because the ink was run once on both the intaglio and the work.

【0025】本発明の目的は上記従来技術に係る問題点
に鑑み、よりタクトタイムを短くできるオフセット印刷
装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an offset printing apparatus which can shorten the takt time in view of the above problems of the prior art.

【0026】[0026]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、凹版上に接触回転して前記凹版のパターン
のインキを受理するブランケット胴を有するオフセット
印刷装置において、前記ブランケット胴が受理したイン
キのパターンが印刷される第1のワークを固定する第1
のワーク定盤と、前記凹版を固定する版定盤と、前記ブ
ランケット胴が受理したインキのパターンが印刷される
第2のワークを固定する第2のワーク定盤とがこの順番
で前記ブランケット胴の回転移動方向に対して直列に配
置されたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention provides an offset printing apparatus having a blanket cylinder that rotates by contact on an intaglio plate to receive the ink of the pattern of the intaglio plate. For fixing the first work on which the patterned ink is printed
The work platen, the plate platen for fixing the intaglio plate, and the second work platen for fixing the second work on which the ink pattern received by the blanket cylinder is fixed, in this order. Are arranged in series with respect to the rotational movement direction of.

【0027】そして、このようなオフセット印刷装置
は、前記ブランケット胴を介して対称に配置された、前
記凹版の一部にインキを供給する第1及び第2のディス
ペンサー並びに、前記凹版上でインキを展開すると共に
前記凹版の凹状パターンに充填されたインキ以外を拭き
取る第1及び第2のブレードを備えており、前記第1及
び第2のディスペンサーと前記第1及び第2のブレード
は前記ブランケット胴と一体になって移動するものであ
る。
In such an offset printing apparatus, the first and second dispensers, which are arranged symmetrically with respect to the blanket cylinder and which supply ink to a part of the intaglio plate, and the ink on the intaglio plate, are arranged. It is provided with first and second blades that spread and wipe off other than ink filled in the concave pattern of the intaglio plate, and the first and second dispensers and the first and second blades are the blanket cylinder. It moves together.

【0028】さらに、上記のオフセット印刷装置によっ
て形成された、電子放出素子の素子電極を用いて製造し
た画像形成装置も本発明に属する。
Further, an image forming apparatus manufactured by using the element electrode of the electron-emitting device formed by the above offset printing apparatus also belongs to the present invention.

【0029】上記のとおり構成された本発明では、ブラ
ンケット胴は凹版上を接触回転して凹版からインキのパ
ターンを受理した後、第1のワークに、受理したインキ
のパターンを転写し、再びインキのパターンを受理する
ために凹版上に戻る。この間、第1のワーク上をブラン
ケット胴が空走する時間が生じる。そしてブランケット
胴は凹版上を接触回転して凹版からインキのパターンを
受理した後、第2のワークに、受理したインキのパター
ンを転写し、再びインキのパターンを受理するために凹
版上に戻る。この間でも、第1のワーク上をブランケッ
ト胴が空走する時間が生じる。このような一工程で2枚
のワークにパターンが印刷される。
In the present invention constructed as described above, the blanket cylinder is contact-rotated on the intaglio plate to receive the ink pattern from the intaglio plate, and then the received ink pattern is transferred to the first work, and the ink is reprinted. Back on the intaglio to accept the pattern. During this time, the blanket cylinder runs idle on the first work. Then, the blanket cylinder contacts and rotates on the intaglio plate to receive the ink pattern from the intaglio plate, transfers the received ink pattern to the second work, and returns to the intaglio plate to receive the ink pattern again. Even during this time, the blanket cylinder runs idle on the first work. The pattern is printed on the two works in such one step.

【0030】この工程時間は、凹版からブランケットへ
の[インキの受理に要する時間]×2、ブランケットか
らワークへの[インキの転移に要する時間]×2、[ワ
ーク上をブランケットが空走する時間]×2の合計であ
る。
This process time is [time required to receive ink] from the intaglio plate to the blanket x 2, [time required to transfer ink from the blanket to the work] x 2, [time the blanket runs on the work] ] × 2 total.

【0031】したがって、一枚のワークの印刷に要する
タクトタイムは[インキの受理に要する時間]+[イン
キの転移に要する時間]+[ワーク上をブランケットが
空走する時間]となる。
Therefore, the takt time required for printing one work is [time required for ink reception] + [time required for ink transfer] + [time for blanket to run idle on work].

【0032】すなわち本発明の印刷装置によれば、従来
の印刷装置による一枚のワークのタクトタイムが[イン
キの受理に要する時間]+[インキの転移に要する時間
+[ワーク上をブランケットが空走する時間]+[凹版
上をブランケットが空走する時間]であったのに対し
て、[凹版上をブランケットが空走する時間]分向上
し、タクトタイムが短縮されることになる。
That is, according to the printing apparatus of the present invention, the takt time of one work by the conventional printing apparatus is [time required to receive ink] + [time required to transfer ink + [blanket is empty on work]]. While the running time] + [the time the blanket runs idle on the intaglio] is increased by [the time the blanket runs idle on the intaglio], the tact time will be shortened.

【0033】以下本発明の好ましい態様について述べ
る。
The preferred embodiments of the present invention will be described below.

【0034】本発明に用いたオフセット印刷は一般には
紙上にインキを転写するグラフィック印刷に用いられ
る。しかし、オフセット印刷は厚膜電子回路の形成に用
いられるスクリーン印刷に比べてインキの転写膜厚を薄
くできるという特徴がある。
The offset printing used in the present invention is generally used for graphic printing in which ink is transferred onto paper. However, the offset printing has a feature that the transfer film thickness of the ink can be made thinner than the screen printing used for forming the thick film electronic circuit.

【0035】今、高精細印刷を実施するためには印刷原
版の精細化、印刷工程におけるインキ転写パターンの維
持、等の実現が必要であるが、転写するインキの厚みが
薄いほど、解像力を上げることができる。これはインキ
のパターン幅に対する厚みのアスペクト比が小さいほど
転写後のインキにダレ、ニジミによるパターン幅の太り
が小さくできるためである。したがって、転写膜厚を薄
くできるオフセット印刷は高精細印刷のためのパターン
太りに対する制御の可能性を有している。
At present, in order to carry out high-definition printing, it is necessary to make the printing original plate finer and to maintain the ink transfer pattern in the printing process. However, the thinner the ink to be transferred, the higher the resolution. be able to. This is because the smaller the aspect ratio of the thickness of the ink to the pattern width is, the smaller the width of the pattern width due to dripping or blurring of the transferred ink can be. Therefore, the offset printing capable of reducing the transfer film thickness has the possibility of controlling the pattern thickening for high-definition printing.

【0036】ここでオフセット印刷におけるブランケッ
トラバー表面と印刷版及びワーク表面の摺動接触と、イ
ンキのブランケットへの受理及びワークへの転移につい
て述べる。
Here, the sliding contact of the blanket rubber surface with the printing plate and the work surface in offset printing, and the acceptance of ink to the blanket and the transfer to the work will be described.

【0037】印刷版は金属板の表面をホトリソエッチン
グによってパターンを食刻した金属凹版を用いている。
この金属凹版の凹部に充填されたインキを、摺動接触し
てきたブランケットが受理し、さらにブランケットがガ
ラスワークに摺動接触することにより、インキはガラス
ワーク上に転移され、印刷パターンが形成される。
As the printing plate, a metal intaglio plate having a pattern etched by photolithographic etching on the surface of a metal plate is used.
The ink filled in the concave portions of the metal intaglio plate is received by the blanket which is in sliding contact, and the blanket is in sliding contact with the glass work, whereby the ink is transferred onto the glass work and a print pattern is formed. .

【0038】なお、ブランケットの摺動面に対する金属
凹版、ガラスワークの高さは調整可能な機構を有してい
る。この機構によって、ブランケットラバーの金属凹版
への押し込み量で決定される版圧、及びガラスワークへ
の押し込み量で決定される印圧が調整可能となる。実際
の印刷工程において版圧、印圧は適宜決定される。この
一連の工程の中のブランケット摺動は、ブランケット胴
の両端に固定されているギヤと印刷版とワークステージ
の両端に配置されたラックギヤの噛み合いによって行な
われる。
The heights of the metal intaglio and the glass work with respect to the sliding surface of the blanket have a mechanism capable of being adjusted. This mechanism makes it possible to adjust the printing pressure determined by the amount of blanket rubber pushed into the metal intaglio and the printing pressure determined by the amount pushed into the glass work. The plate pressure and printing pressure are appropriately determined in the actual printing process. The blanket sliding in this series of steps is performed by the meshing of gears fixed to both ends of the blanket cylinder, a printing plate, and rack gears arranged at both ends of the work stage.

【0039】[0039]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0040】(第1の実施形態)図1は本発明のオフセ
ット印刷装置の第1の実施形態の印刷工程を説明するた
めの図である。図2は本発明のオフセット印刷装置の第
1の実施形態における主要構成部材のタイミングチャー
トである。
(First Embodiment) FIG. 1 is a diagram for explaining a printing process of a first embodiment of an offset printing apparatus of the present invention. FIG. 2 is a timing chart of main constituent members in the first embodiment of the offset printing apparatus of the present invention.

【0041】本形態のオフセット印刷装置は、図1に示
すように、第1のワーク4を固定する第1のワーク定盤
1と、凹版5を固定する版定盤2と、第2のワーク6を
固定する第2のワーク定盤3とをこの順番で直列に配置
固定して成る。また、この一列に並んで配置された定盤
上には、第1のディスペンサー7、第1のブレード9、
ブランケット11、第2のブレード10、第2のディス
ペンサー8が第1のワーク1側からこの順番で配設さ
れ、ブランケット11による印刷時には一体となって移
動する。
The offset printing apparatus of this embodiment, as shown in FIG. 1, has a first work surface plate 1 for fixing a first work 4, a plate surface plate 2 for fixing an intaglio 5, and a second work. The second work surface plate 3 for fixing 6 is arranged and fixed in series in this order. Further, on the surface plates arranged side by side in this one row, the first dispenser 7, the first blade 9,
The blanket 11, the second blade 10, and the second dispenser 8 are arranged in this order from the first work 1 side, and move integrally when printing with the blanket 11.

【0042】第1のディスペンサー7は、第1のブレー
ド9が凹版5上に展開するインキ12を凹版5の一部に
供給するものである。第2のディスペンサー8は、第2
のブレード10が凹版5上に展開するインキ12を凹版
5の一部に供給するものである。
The first dispenser 7 supplies the ink 12, which is spread on the intaglio plate 5 by the first blade 9, to a part of the intaglio plate 5. The second dispenser 8 is the second
The blade 10 supplies ink 12 that spreads on the intaglio plate 5 to a part of the intaglio plate 5.

【0043】第1のブレード9は、その先端が根元より
図面視右向きになるように傾けて取り付けられていて、
図面視左向きに進行する際に凹版5上面を摺動し、イン
キ12のうち凹部に充填されたインキ以外を拭き取るも
のである。第2のブレード10は、その先端が根本より
図面視左向きになるように傾けて取り付けられていて、
図面視右向きに進行する際に凹版5上面を摺動し、イン
キ12のうち凹部に充填されたインキ以外を拭き取るも
のである。
The first blade 9 is attached so that its tip is tilted from the root toward the right in the drawing,
This is for sliding the upper surface of the intaglio plate 5 while advancing to the left as viewed in the drawing, and wiping off the ink 12 other than the ink filled in the recesses. The second blade 10 is attached so as to be tilted so that its tip is leftward from the root in the drawing,
This is for sliding the upper surface of the intaglio plate 5 while advancing to the right in the drawing, and wiping out the ink 12 other than the ink filled in the recesses.

【0044】ブランケット11は、凹版5の上面を回転
接触することで凹版5の凹部に充填されたインクを受理
し、さらに第1のワーク4、第2のワーク5の上面を回
転接触することにより凹版5の有するパターンのインキ
を第1のワーク4、第2のワーク5上面に転移するもの
である。
The blanket 11 receives the ink filled in the concave portion of the intaglio plate 5 by rotating the upper surface of the intaglio plate 5 into contact with the upper surface of the first work piece 4 and the second work piece 5. The pattern ink of the intaglio plate 5 is transferred to the upper surfaces of the first work 4 and the second work 5.

【0045】図2に示すタイミングチャートにおいて、
「ブランケット中心軸位置」とは、印刷工程におけるブ
ランケット中心軸の印刷装置における位置をいう。ここ
でチャート中の矢印は図1に対応したブランケットの進
行方向を表している。「ブランケット」では実線部はブ
ランケットが下降している状態、点線部は上昇している
状態を表している。「第1のブレード」及び「第2のブ
レード」では実線部はブレードが下降してインキを展開
している状態、点線部は上昇している状態を表してい
る。「第1のディスペンサー」及び「第2のディスペン
サー」では実線部はディスペンサーよりインキを供給し
ている状態、点線部はインキを供給していない状態を表
している。「第1のワーク交換」及び「第2のワーク交
換」では実線部はワークである基板を交換している状
態、点線部は基板を交換していない状態を表している。
In the timing chart shown in FIG.
“Blanket central axis position” refers to the position of the blanket central axis in the printing device in the printing process. Here, the arrows in the chart represent the traveling direction of the blanket corresponding to FIG. In the "blanket", the solid line part represents the state where the blanket is descending, and the dotted line part represents the state where it is rising. In the "first blade" and the "second blade", the solid line portion represents the state in which the blade is descending to spread the ink, and the dotted line portion represents the state in which it is rising. In the “first dispenser” and the “second dispenser”, the solid line portion represents a state where ink is supplied from the dispenser, and the dotted line portion represents a state where ink is not supplied. In the “first work replacement” and the “second work replacement”, the solid line portion represents a state in which the substrate which is the work is exchanged, and the dotted line portion represents a state in which the substrate is not exchanged.

【0046】以下に本形態の印刷工程を図1及び図2を
参照しつつ説明する。
The printing process of this embodiment will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

【0047】まず、図1(a)に示すように、第1のブ
レード9が凹版5上面を図面視左方向に摺動することで
凹部に対するインキの充填と凹版5表面の余分なインキ
の拭き取りが行われる。かかる凹部に充填されたインキ
は、ブランケット11が図面視左方向に進行しながら凹
版5に回転接触することにより、ブランケット1に受理
される。
First, as shown in FIG. 1 (a), the first blade 9 slides on the upper surface of the intaglio plate 5 in the left direction as viewed in the drawing to fill the recesses with ink and wipe off the excess ink on the surface of the intaglio plate 5. Is done. The ink filled in the recesses is received by the blanket 1 as the blanket 11 rotates in contact with the intaglio plate 5 while moving to the left in the drawing.

【0048】次に、図1(b)に示すように、ブランケ
ット11が図面視左方向に進行しながら第1のワーク4
に回転接触することにより第1のガラス基板4上に凹版
5の有するパターンのインキ12が転移される。この
際、第2のディスペンサー8により凹版5上にインキ1
2が供給される。
Next, as shown in FIG. 1 (b), the blanket 11 advances to the left in the drawing, and the first work 4
The ink 12 having the pattern of the intaglio plate 5 is transferred onto the first glass substrate 4 by making a rotational contact with. At this time, the ink 1 is placed on the intaglio plate 5 by the second dispenser 8.
2 are supplied.

【0049】続いて、図1(c)に示すように、ブラン
ケット11は上昇して第1のワーク4に接触しない状態
で図面視右方向に移動する。
Subsequently, as shown in FIG. 1 (c), the blanket 11 moves up and moves to the right in the figure without contacting the first work 4.

【0050】次に、図1(d)に示すように、第1のブ
レード9が凹版5上面を図面視右方向に摺動することで
凹部に対するインキの充填と凹版5表面の余分なインキ
の拭き取りが行われる。かかる凹部に充填されたインキ
は、ブランケット11が図面視右方向に進行しながら凹
版5に回転接触することにより、ブランケット11に受
理される。
Next, as shown in FIG. 1 (d), the first blade 9 slides on the upper surface of the intaglio 5 in the right direction in the drawing to fill the recess with ink and remove excess ink on the surface of the intaglio 5. Wiping is done. The ink filled in the recesses is received by the blanket 11 as the blanket 11 rotates in contact with the intaglio plate 5 while moving in the right direction in the drawing.

【0051】次に、図1(e)に示すように、ブランケ
ット11が図面視右方向に進行しながら第1のワ−ク4
に回転接触することにより第2のガラス基板6上に凹版
5の有するパターンのインキ107が転移される。この
際、第1のディスペンサー7により凹版5上にインキ1
2が供給される。
Next, as shown in FIG. 1 (e), the blanket 11 advances to the right in the drawing, and the first work 4 is moved.
The ink 107 of the pattern of the intaglio plate 5 is transferred onto the second glass substrate 6 by making a rotational contact with the second glass substrate 6. At this time, the ink 1 is placed on the intaglio plate 5 by the first dispenser 7.
2 are supplied.

【0052】最後に、図1(f)に示すように、ブラン
ケット11は上昇して第2のワーク6に接触しない状態
で図面視左方向に移動する。
Finally, as shown in FIG. 1 (f), the blanket 11 moves up and moves to the left in the figure without contacting the second work 6.

【0053】本形態では、以上の一工程で2枚のワーク
を印刷できる。したがって、この工程による一枚のワー
クのタクトタイムは凹版からブランケットへの[インキ
の受理に要する時間]×2、ブランケットからワークへ
の[インキの転移に要する時間]×2、[ワーク上をブ
ランケットが空走する時間]×2の合計を2で割った時
間となる。
In this embodiment, two works can be printed by the above-mentioned one step. Therefore, the tact time for one work in this process is [time required to receive ink] from the intaglio plate to the blanket x 2, [time to transfer ink from the blanket to work x 2], [blanket on work] Is the time to run free] x 2 divided by 2.

【0054】すなわち、一枚のワークのタクトタイムは
[インキの受理に要する時間]+[インキの転移に要す
る時間]+[ワーク上をブランケットが空走する時間]
となり、従来の印刷装置による一枚のワークのタクトタ
イムが[インキの受理に要する時間]+[インキの転移
に要する時間+[ワーク上をブランケットが空走する時
間]+[凹版上をブランケットが空走する時間]である
のに比べて[凹版上をブランケットが空走する時間]分
向上した。
That is, the takt time of one work is [time required for receiving ink] + [time required for ink transfer] + [time for blanket to run on work].
Therefore, the takt time of one work by the conventional printing device is [time required to receive ink] + [time required to transfer ink + [time blanket runs on work] + [blanket on intaglio] It was improved by [the time the blanket idles over the intaglio] compared to the time when the blanket runs.

【0055】(第2の実施形態)図3は本発明のオフセ
ット印刷装置の第2の実施形態の印刷工程を説明するた
めの図である。図4は本発明のオフセット印刷装置の第
2の実施形態における主要構成部材のタイミングチャー
トである。
(Second Embodiment) FIG. 3 is a diagram for explaining a printing process of a second embodiment of the offset printing apparatus of the present invention. FIG. 4 is a timing chart of main constituent members in the offset printing apparatus according to the second embodiment of the present invention.

【0056】本形態の印刷装置は第1の実施形態の構成
と同一であるため、図3では図1と同一符号を付してあ
る。また本形態の装置構成の説明も第1の実施形態の記
述に概ね委ね、第1の実施形態と異なる点のみ以下に述
べる。
Since the printing apparatus of this embodiment has the same configuration as that of the first embodiment, the same reference numerals as those in FIG. 1 are attached in FIG. Further, the description of the device configuration of the present embodiment is also largely left to the description of the first embodiment, and only the points different from the first embodiment will be described below.

【0057】本形態は図3及び図4に示すように、凹版
5と第1のワーク4上でブランケット11の回転摺動方
向を逆方向とした点で、ブランケット11の回転摺動方
向が凹版5と第1のワーク4上で同一方向とした第1の
実施形態と異なる。また、ブランケット11の回転摺動
方向を変更した事に伴い、図4に示すようにブランケッ
ト11の上昇下降タイミングも替えてある。
In this embodiment, as shown in FIGS. 3 and 4, the rotary sliding direction of the blanket 11 is opposite to that of the intaglio 5 and the first work 4, and the rotary sliding direction of the blanket 11 is the intaglio plate. 5 is different from the first embodiment in which the first workpiece 4 and the first workpiece 4 have the same direction. Further, as the rotating and sliding direction of the blanket 11 is changed, the rising and falling timing of the blanket 11 is also changed as shown in FIG.

【0058】このような印刷装置を用いて図3に示すタ
イミングチャートに従って印刷を行ったところ、一枚の
ワークのタクトタイムが短縮できるという第1の実施形
態と同様の良好な結果が得られた。
When printing was performed according to the timing chart shown in FIG. 3 using such a printing apparatus, the same favorable result as that of the first embodiment was obtained in which the takt time of one work could be shortened. .

【0059】(第3の実施形態)オフセット印刷により
形成された電子放出素子の素子電極を用いた画像形成装
置の製造方法について以下に述べる。
(Third Embodiment) A method of manufacturing an image forming apparatus using an element electrode of an electron-emitting device formed by offset printing will be described below.

【0060】上述の実施形態による印刷方法、印刷装置
によってガラス基板上に電子放出素子の素子電極を印刷
転写した。本例においてインキは有機金属からなるPt
レジネートペースを用いている。ガラス基板上に転移さ
れたインキは約80℃の乾燥と約580℃の焼成によっ
てPtからなる素子電極として利用できる。印刷乾燥後
のガラス基板上のインキ転写厚みは約2ミクロン程度と
小さく印刷電極パターン幅の太りは非常に小さかった。
さらに、焼成後のPt電極厚みは約400オングストロ
ームと薄く形成することができた。ここで、素子電極の
パターン形状としては電子放出材を配置する素子電極間
隔を有し、その寸法を約20ミクロンに設定した。
The device electrodes of the electron-emitting devices were printed and transferred onto the glass substrate by the printing method and the printing apparatus according to the above-mentioned embodiment. In this example, the ink is Pt made of an organic metal.
Uses a resinate pace. The ink transferred onto the glass substrate can be used as a device electrode made of Pt by drying at about 80 ° C. and baking at about 580 ° C. The thickness of the ink transfer on the glass substrate after printing and drying was as small as about 2 microns, and the width of the printed electrode pattern was very small.
Further, the thickness of the Pt electrode after firing could be formed as thin as about 400 Å. Here, as the pattern shape of the device electrodes, there is a device electrode interval in which the electron emitting material is arranged, and the dimension thereof is set to about 20 μm.

【0061】以上のようにして形成した素子電極に対し
て配線とPd微粒子からなる薄膜を形成することによっ
て、電子源基板を作製することができる。以下図5を用
いて説明する。図5は、本発明のオフセット印刷装置に
よる印刷で形成された電子放出素子の素子電極を用いた
画像形成装置の一形態を示す概略断面図である。
An electron source substrate can be manufactured by forming a wiring and a thin film of Pd particles on the device electrode formed as described above. This will be described below with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing one form of an image forming apparatus using element electrodes of electron-emitting devices formed by printing by the offset printing apparatus of the present invention.

【0062】図5において、符号401は青板ガラスか
らなる電子源基板402,403、符号404は本発明
によってオフセット印刷形成された素子電極を示す。符
号407,408,409はAgペーストインキのスク
リーン印刷、焼成で得られた厚み約7ミクロンの印刷配
線を示す。素子電極402,403,404は印刷配線
407,408,409と各々接続している。符号40
5,406は有機金属溶液の塗布焼成で得られた厚み約
200オングストロームのPd微粒子からなる薄膜を示
し、素子電極402,403,404及びその電極間隔
部に配置するようにCr薄膜でリバースエッチ法によっ
てパターニングした。符号410,411,412はメ
ッキ配線で、印刷配線407,408,409上に厚み
約50ミクロン、幅400ミクロンのCuメッキによっ
て形成した。
In FIG. 5, reference numeral 401 indicates electron source substrates 402 and 403 made of soda lime glass, and reference numeral 404 indicates element electrodes formed by offset printing according to the present invention. Reference numerals 407, 408, and 409 denote printed wirings having a thickness of about 7 μm, which were obtained by screen-printing and firing Ag paste ink. The device electrodes 402, 403 and 404 are connected to the printed wirings 407, 408 and 409, respectively. Code 40
Reference numerals 5 and 406 denote thin films of Pd particles having a thickness of about 200 angstroms obtained by coating and baking an organometallic solution. The reverse etching method is a Cr thin film so as to be arranged on the device electrodes 402, 403 and 404 and the electrode intervals. Patterned by. Reference numerals 410, 411 and 412 are plated wirings, which are formed on the printed wirings 407, 408 and 409 by Cu plating having a thickness of about 50 microns and a width of 400 microns.

【0063】また、符号415は青板ガラスからなるガ
ラス基板を示し、電子源基板401と5ミリメートル隔
たれて対向している。符号416,417は蛍光体を示
し、基板415上に配置されており、対向した電子源基
板401上に配置された素子電極402,403,40
4からなる電極間隔部に対応した位置に形成されてい
る。蛍光体416,417は感光性樹脂を蛍光体を混ぜ
てスラリー状とし、塗布乾燥した後ホトリソグラフィー
法によってパターニング形成したものである。符号41
8は、蛍光体416,417上にフィルミング工程を施
した後、真空蒸着によって厚み約300オングストロー
ムのAl薄膜を成膜し、これを焼成してフィルム層を消
失することによって得られたメタルバックを示す。以上
の、蛍光体及びメタルバックをガラス基板415上に形
成したものをフェースプレートと呼ぶ。
Reference numeral 415 denotes a glass substrate made of soda lime glass, which is opposed to the electron source substrate 401 by 5 mm. Reference numerals 416 and 417 denote phosphors, which are arranged on the substrate 415 and are arranged on the electron source substrate 401 facing the device electrodes 402, 403, and 40.
It is formed at a position corresponding to the electrode interval portion composed of four. The phosphors 416 and 417 are formed by mixing a photosensitive resin with a phosphor to form a slurry, coating and drying it, and then patterning it by a photolithography method. Reference numeral 41
8 is a metal back obtained by performing a filming process on the phosphors 416 and 417, depositing an Al thin film with a thickness of about 300 angstrom by vacuum deposition, and firing the film to eliminate the film layer. Indicates. The above-described phosphor and metal back formed on the glass substrate 415 is called a face plate.

【0064】符号419は素子基板とフェースプレート
間に配置されたグリッド電極を示す。以上を真空外囲器
の中に配置した後、メッキ配線410,411,412
間に電圧を印加して薄膜405,406の通電処理を行
い電子放出部413,414を得た。この後メタルバッ
ク418をアノード電極として電子の引き出し電圧3k
Vを印加し、メッキ配線410,411,412間を通
して素子電極402,403から電子放出部413へ1
4Vの電圧を印加したところ、電子が放出された。この
放出電子をグリッド419の電圧が変化させることによ
って変調し、蛍光体418へ照射される放出電子量を調
整することができた。これにより蛍光体416を任意に
発光させることができた。同様に素子電極403,40
4から電子放出部414へ14Vの電圧を印加したとこ
ろ、電子が放出された。この放出電子をグリッド419
の電圧を変化させることによって変調し、蛍光体417
へ照射させる放出電子量を調整することができた。これ
により蛍光体417を任意に発光させることができた。
Reference numeral 419 indicates a grid electrode arranged between the element substrate and the face plate. After placing the above in the vacuum envelope, the plated wirings 410, 411, 412
A voltage was applied between them to energize the thin films 405 and 406 to obtain electron emitting portions 413 and 414. After that, the metal back 418 is used as an anode electrode, and the electron extraction voltage is 3 k.
V is applied, and 1 is applied from the device electrodes 402 and 403 to the electron emission portion 413 through the plated wirings 410, 411 and 412.
When a voltage of 4V was applied, electrons were emitted. The emitted electrons were modulated by changing the voltage of the grid 419, and the amount of emitted electrons with which the phosphor 418 was irradiated could be adjusted. This allowed the phosphor 416 to emit light arbitrarily. Similarly, the device electrodes 403, 40
When a voltage of 14 V was applied from 4 to the electron emitting portion 414, electrons were emitted. This emitted electron is used as a grid 419.
The phosphor 417 is modulated by changing the voltage of
It was possible to adjust the amount of emitted electrons to be irradiated to the. This allowed the phosphor 417 to emit light arbitrarily.

【0065】なお、本例では2個の表示画素に対する構
成で説明したが、表示画素数はこれに限るものではな
い。したがって、配線とグリッドをマトリックス状に形
成し、多数個の電子放出素子を配置、駆動することによ
って多数個の表示画素によって任意の画像表示を可能と
することができる。
In the present example, the configuration for two display pixels has been described, but the number of display pixels is not limited to this. Therefore, by forming the wirings and grids in a matrix and arranging and driving a large number of electron-emitting devices, it is possible to display an arbitrary image by a large number of display pixels.

【0066】(第4の実施形態)図6は、本発明のオフ
セット印刷装置による印刷で形成された表面伝導型電子
放出素子とマトリックス配線を組み合せてなる素子基板
の一例の製造工程を示した上面図である。
(Fourth Embodiment) FIG. 6 is a top view showing a manufacturing process of an example of an element substrate formed by combining a surface conduction electron-emitting device formed by printing by an offset printing apparatus of the present invention and matrix wiring. It is a figure.

【0067】本例は、図6(f)に示すように、不図示
の青板ガラス基板上に対して、電子放出素子を3個×3
個、計9個のマトリックス状に、配線とともに形成した
素子基板の例である。
In this example, as shown in FIG. 6F, 3 × 3 electron-emitting devices were provided on a soda-lime glass substrate (not shown).
This is an example of an element substrate formed together with wiring in a matrix of nine pieces in total.

【0068】図6(f)において、符号501は下層印
刷配線、符号502は下層印刷配線501に並列した印
刷パッドを示し、印刷パッド502は下層印刷配線50
1と同一工程で印刷金属ペーストの焼成によって形成さ
れる。符号503は印刷ガラスペーストの焼成によって
形成された下層印刷配線に対して直交した短冊状の絶縁
層で示し、絶縁層503は印刷パッド502との交差中
央部で開口したコンタクトホール504を有している。
符号505は上層印刷配線を示し、上層印刷配線505
はメッキ配線506の下層となるため図面上は露出して
いない。また、上層印刷配線505は短冊状の絶縁層5
03上にあって、コンタクトホール504によって印刷
パッド502と電気的に接続されており、印刷金属ペー
ストの焼成によって形成される。符号507,508は
素子電極を示し、素子電極507,508は下層印刷配
線501と印刷パッド502とに各々接続されており、
レジネートペーストインキのオフセット印刷、焼成によ
って形成される。素子電極507,508は相互の隣接
部で電極間隔30ミクロン電極幅200ミクロンの形状
を構成している。符号509は電子放出材であるPd微
粒子からなる薄膜を示し、薄膜509は素子電極50
7,508及び電極間隔に配線形成される。符号510
はこの電極間隔部の薄膜部位を示しており、後述する電
子放出部となる部分である。符号506はメッキ配線を
示し、メッキ配線506は上層印刷配線505上に短冊
状でメッキ法によって形成される厚み約100ミクロン
の金属配線である。
In FIG. 6F, reference numeral 501 indicates a lower layer printed wiring, reference numeral 502 indicates a printing pad arranged in parallel with the lower layer printed wiring 501, and the printing pad 502 indicates the lower layer printed wiring 50.
It is formed by firing the printed metal paste in the same step as 1. Reference numeral 503 denotes a strip-shaped insulating layer that is orthogonal to the lower layer printed wiring formed by firing the printing glass paste, and the insulating layer 503 has a contact hole 504 that is opened at the center of intersection with the printing pad 502. There is.
Reference numeral 505 indicates an upper layer printed wiring, and the upper layer printed wiring 505.
Is a lower layer of the plated wiring 506 and is not exposed in the drawing. The upper printed wiring 505 is a strip-shaped insulating layer 5.
03, is electrically connected to the printing pad 502 by the contact hole 504, and is formed by firing the printing metal paste. Reference numerals 507 and 508 denote element electrodes, and the element electrodes 507 and 508 are connected to the lower layer printed wiring 501 and the print pad 502, respectively.
It is formed by offset printing and firing of resinate paste ink. The device electrodes 507 and 508 have a shape with an electrode interval of 30 microns and an electrode width of 200 microns at the adjacent portions. Reference numeral 509 denotes a thin film made of Pd fine particles which is an electron emitting material, and the thin film 509 is the device electrode 50.
Wiring is formed at intervals of 7,508 and electrodes. Reference numeral 510
Indicates a thin film portion of this electrode gap portion, which is a portion to be an electron emitting portion described later. Reference numeral 506 denotes a plated wiring, which is a strip-shaped metal wiring having a thickness of about 100 μm formed on the upper layer printed wiring 505 by a plating method.

【0069】以下、図6の(a)〜(f)を用いて本素
子基板の製造方法を順に説明する。
Hereinafter, the method for manufacturing the present element substrate will be described in order with reference to FIGS.

【0070】まず、よく洗浄した青板ガラスからなる基
板上にレジネートペーストインキのオフセット印刷、焼
成によって厚み1000オングストロームのPt素子電
極507,508をパターン形成した(図6(a)参
照)。
First, Pt element electrodes 507 and 508 having a thickness of 1000 angstrom were patterned by offset printing and baking of resinate paste ink on a well-cleaned substrate made of soda-lime glass (see FIG. 6A).

【0071】次に、Agペーストインキをスクリーン印
刷し、焼成して幅300ミクロン、厚み7ミクロンの下
層印刷配線501及び印刷パッド502を形成した。こ
のとき、配線501及び印刷パッド502は素子電極5
07,508と各々電気的に接続される(図6(b)参
照)。
Next, Ag paste ink was screen-printed and fired to form a lower layer printed wiring 501 and a printing pad 502 having a width of 300 μm and a thickness of 7 μm. At this time, the wiring 501 and the print pad 502 are connected to the device electrode 5
07 and 508 are electrically connected to each other (see FIG. 6B).

【0072】次に、ガラスペーストインキをスクリーン
印刷し、焼成した幅500ミクロン厚み約20ミクロン
の絶縁層503と、開口寸法100ミクロン角のコンタ
クトホール504を形成した(図6(c)参照)。
Next, a glass paste ink was screen-printed to form an insulating layer 503 having a width of 500 microns and a thickness of about 20 microns and a contact hole 504 having an opening size of 100 microns square (see FIG. 6C).

【0073】さらに、絶縁層503上にAgペーストイ
ンキをスクリーン印刷し、焼成して幅300ミクロン厚
み10ミクロンの上層印刷配線505を形成した。この
ときコンタクトホール504を通じて上層印刷配線50
5と印刷パッド502は電気的に導通する。また、後工
程のメッキ配線形成によって、コンタクトホールでの充
分なステップカバーが実現される(図6(d)参照)。
Further, Ag paste ink was screen-printed on the insulating layer 503 and baked to form upper layer printed wiring 505 having a width of 300 μm and a thickness of 10 μm. At this time, the upper layer printed wiring 50 is contacted through the contact hole 504.
5 and the printing pad 502 are electrically connected. Further, by forming the plated wiring in the subsequent process, a sufficient step cover for the contact hole is realized (see FIG. 6D).

【0074】次に、薄膜509を配置したくない部分に
スパッタ法によりCrを成膜した後、ホトリソエッチン
グ法によってCrパターンを作製し、その後有機パラジ
ウム溶液(奥野製薬(株)キャタペーストCCP423
0)を塗布、焼成してPd微粒子膜を得る。さらに、C
rパターンをリバースエッチして薄膜509を素子電極
507,508と電極間隔部にパターニング形成する
(図6(e)参照)。
Next, after forming a Cr film on the portion where the thin film 509 is not desired to be arranged by a sputtering method, a Cr pattern is formed by a photolithographic etching method, and then an organic palladium solution (Kata Paste CCP423 of Okuno Chemical Industries Co., Ltd.) is formed.
0) is applied and baked to obtain a Pd fine particle film. Furthermore, C
The r pattern is reverse-etched to form a thin film 509 by patterning on the device electrodes 507 and 508 and the electrode gap portion (see FIG. 6E).

【0075】次に、上層印刷配線505を露出させた形
にメッキレジストをホトリソグラフィ法により形成し、
上層印刷配線505に通電してこの部分にCuの電解メ
ッキを厚み100ミクロン実施する。メッキレジストを
剥離することによって素子基板が製造される。このと
き、コンタクトホール504部分においてCuメッキ膜
は充分にコンタクトホール504内にも堆積成長して、
印刷パッド502と上層印刷配線505とは充分な電気
的導通が得られた(図6(f)参照)。
Next, a plating resist is formed by photolithography so that the upper layer printed wiring 505 is exposed,
The upper layer printed wiring 505 is energized and Cu electroplating is performed at a thickness of 100 μm on this portion. The element substrate is manufactured by removing the plating resist. At this time, the Cu plating film is sufficiently deposited and grown in the contact hole 504 in the contact hole 504 portion,
Sufficient electrical conduction was obtained between the print pad 502 and the upper layer printed wiring 505 (see FIG. 6 (f)).

【0076】本素子基板を40センチメートル角基板上
に350個×350個の電子放出素子をマトリックス状
に配置してR,G,Bに対応する各蛍光体を有するフェ
イスプレートとともに真空外囲器内に配置した。この
後、電子放出素子に通電処理を行った後、本素子基板の
上層印刷配線には14Vの任意の電圧信号を下層印刷配
線には0Vの電位を順次印加走査しそれ以外の下層印刷
配線は7Vの電位とした。フェースプレートのメタルバ
ックに3kVのアノード電圧を印加したところ、任意の
画像を表示することができた。このときの電子放出素子
と蛍光体の位置ズレによって生ずる蛍光輝点のクロスト
ークはなかった。また、メッキ配線506の配線抵抗は
基板両端部間で約0.5オーム程度と小さくでき、駆動
信号の電圧降下や遅延を大幅に改善することができた。
This device substrate is arranged on a 40 cm square substrate in which 350 × 350 electron-emitting devices are arranged in a matrix, and a face plate having phosphors corresponding to R, G, and B, and a vacuum envelope. Placed inside. After that, after the electron-emitting device is energized, an arbitrary voltage signal of 14V is sequentially applied to the upper layer printed wiring of this element substrate and a potential of 0V is sequentially applied to the lower layer printed wiring, and the other lower layer printed wirings are scanned. The potential was 7V. When an anode voltage of 3 kV was applied to the metal back of the face plate, an arbitrary image could be displayed. At this time, there was no crosstalk between the fluorescent bright spots caused by the positional deviation between the electron-emitting device and the phosphor. Further, the wiring resistance of the plated wiring 506 can be reduced to about 0.5 ohm between both ends of the substrate, and the voltage drop and delay of the drive signal can be greatly improved.

【0077】本工程において、印刷配線の印刷焼成前に
素子電極507,508を作製する。しかし、この素子
電極は印刷焼成工程を一度経ているため、同様な印刷配
線焼成では素子電極の熱ダメージは発生しなかった。ま
た、下層印刷配線501と印刷パッド502は基板上の
同一形成層であり、素子電極507,508とのコンタ
クトは素子電極507,508が段差のない基板上で形
成され、印刷配線501と印刷パッド502に接続する
ため途中で断線することはなかった。
In this step, the device electrodes 507 and 508 are prepared before printing and baking the printed wiring. However, since this element electrode has been subjected to the printing and firing step once, thermal damage to the element electrode did not occur in the same firing of the printed wiring. Further, the lower layer printed wiring 501 and the printing pad 502 are the same formation layer on the substrate, and the element electrodes 507 and 508 are formed on the substrate without steps to make contact with the element electrodes 507 and 508. Since it was connected to 502, there was no disconnection in the middle.

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明は、凹版上に接触回転して前記凹
版のパターンのインキを受理するブランケット胴を有す
るオフセット印刷装置において、前記ブランケット胴が
受理したインキのパターンが印刷される第1のワークを
固定する第1のワーク定盤と、前記凹版を固定する版定
盤と、前記ブランケット胴が受理したインキのパターン
が印刷される第2のワークを固定する第2のワーク定盤
とをこの順番で前記ブランケット胴の回転移動方向に対
して直列に配置したことにより、一枚のワークへの印刷
にあたってブランケットの凹版上での空走をなくすこと
ができるので、印刷のタクトタイムの短縮が図れる効果
を奏する。
According to the present invention, in an offset printing apparatus having a blanket cylinder that rotates by contact on an intaglio plate to receive the ink of the pattern of the intaglio plate, the first ink pattern received by the blanket cylinder is printed. A first work surface plate for fixing a work piece; a plate surface plate for fixing the intaglio plate; and a second work surface plate for fixing a second work piece on which the ink pattern received by the blanket cylinder is printed. By arranging the blanket cylinders in this order in series with respect to the rotational movement direction, it is possible to eliminate blank running of the blanket on the intaglio when printing on one work, and thus the printing takt time can be shortened. There is an effect that can be achieved.

【0079】さらに、かかるオフセット印刷装置を用い
ることで良好に画像形成装置が製造できる効果を奏す
る。
Further, by using such an offset printing apparatus, there is an effect that an image forming apparatus can be manufactured well.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のオフセット印刷装置の第1の実施形態
の印刷工程を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a printing process of a first embodiment of an offset printing apparatus of the present invention.

【図2】本発明のオフセット印刷装置の第1の実施形態
における主要構成部材のタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart of main constituent members in the first embodiment of the offset printing apparatus of the present invention.

【図3】本発明のオフセット印刷装置の第2の実施形態
の印刷工程を説明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a printing process of a second embodiment of the offset printing apparatus of the present invention.

【図4】本発明のオフセット印刷装置の第2の実施形態
における主要構成部材のタイミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart of main constituent members in the second embodiment of the offset printing apparatus of the present invention.

【図5】本発明のオフセット印刷装置による印刷で形成
された電子放出素子の素子電極を用いた画像形成装置の
一形態を示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing one form of an image forming apparatus using element electrodes of electron-emitting devices formed by printing by the offset printing apparatus of the present invention.

【図6】本発明のオフセット印刷装置による印刷で形成
された表面伝導型電子放出素子とマトリックス配線を組
み合せてなる素子基板の一例の製造工程を示した上面図
である。
FIG. 6 is a top view showing a manufacturing process of an example of an element substrate formed by combining a surface conduction electron-emitting device formed by printing with an offset printing apparatus of the present invention and matrix wiring.

【図7】従来の平台校正機型オフセット印刷装置を示す
平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a conventional flatbed proofing machine type offset printing apparatus.

【図8】図7に示したオフセット印刷装置による印刷工
程を説明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining a printing process by the offset printing apparatus shown in FIG.

【図9】インキ練り台を用いない装置による印刷工程を
説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining a printing process by an apparatus that does not use an ink mixing table.

【図10】表面伝導型電子放出素子の一従来例の構成を
摸式的に示した図である。
FIG. 10 is a diagram schematically showing a configuration of a conventional example of a surface conduction electron-emitting device.

【図11】表面伝導型電子放出素子の他の従来例の構成
を摸式的に示した図である。
FIG. 11 is a diagram schematically showing the configuration of another conventional example of the surface conduction electron-emitting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1のワーク定盤 2 版定盤 3 第2のワーク定盤 4 第1のワーク 5 凹版 6 第2のワーク 7 第1のディスペンサー 8 第2のディスペンサー 9 第1のブレード 10 第2のブレード 11 ブランケット 12 インキ 401 電子源基板 402、403、404、507、508 素子電極 405、406、509 薄膜 407、408、409 印刷配線 410、411、412、506 メッキ配線 413、414、510 電子放出部 415 ガラス基板 416、417 蛍光体 418 メタルバック 419 グリッド電極 501 下層印刷配線 502 印刷パッド 505 上層印刷配線 1 1st work surface plate 2 Plate surface plate 3 2nd work surface plate 4 1st work 5 Intaglio 6 2nd work 7 1st dispenser 8 2nd dispenser 9 1st blade 10 2nd blade 11 Blanket 12 Ink 401 Electron source substrate 402, 403, 404, 507, 508 Element electrode 405, 406, 509 Thin film 407, 408, 409 Printed wiring 410, 411, 412, 506 Plated wiring 413, 414, 510 Electron emission part 415 Glass substrate 416, 417 Phosphor 418 Metal back 419 Grid electrode 501 Lower layer printed wiring 502 Printing pad 505 Upper layer printed wiring

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 凹版上に接触回転して前記凹版のパター
ンのインキを受理するブランケット胴を有するオフセッ
ト印刷装置において、 前記ブランケット胴が受理したインキのパターンが印刷
される第1のワークを固定する第1のワーク定盤と、前
記凹版を固定する版定盤と、前記ブランケット胴が受理
したインキのパターンが印刷される第2のワークを固定
する第2のワーク定盤とがこの順番で前記ブランケット
胴の回転移動方向に対して直列に配置されたことを特徴
とするオフセット印刷装置。
1. An offset printing apparatus having a blanket cylinder that rotates by contact on an intaglio plate to receive ink of the pattern of the intaglio plate, wherein a first work on which the pattern of ink received by the blanket cylinder is printed is fixed. The first work surface plate, the plate surface plate for fixing the intaglio plate, and the second work surface plate for fixing the second work on which the pattern of the ink received by the blanket cylinder are fixed, are arranged in this order. An offset printing apparatus, wherein the offset printing apparatus is arranged in series with respect to the rotational movement direction of the blanket cylinder.
【請求項2】 前記ブランケット胴を介して対称に配置
された、前記凹版の一部にインキを供給する第1及び第
2のディスペンサー並びに、前記凹版上でインキを展開
すると共に前記凹版の凹状パターンに充填されたインキ
以外を拭き取る第1及び第2のブレードを備え、前記第
1及び第2のディスペンサーと前記第1及び第2のブレ
ードは前記ブランケット胴と一体になって移動すること
を特徴とする、請求項1に記載のオフセット印刷装置。
2. A first and a second dispenser, which are arranged symmetrically with respect to the blanket cylinder, for supplying ink to a part of the intaglio plate, and a concave pattern of the intaglio plate for spreading the ink on the intaglio plate. The first and second blades for wiping off ink other than the ink filled in the first and second blades, and the first and second blades and the first and second blades move integrally with the blanket cylinder. The offset printing device according to claim 1.
【請求項3】 請求項1または請求項2に記載のオフセ
ット印刷装置によって形成された、電子放出素子の素子
電極を用いて製造した画像形成装置。
3. An image forming apparatus manufactured by using the element electrode of an electron-emitting device, which is formed by the offset printing apparatus according to claim 1.
JP2137296A 1996-02-07 1996-02-07 Offset printing apparatus and image forming apparatus Pending JPH09207305A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2137296A JPH09207305A (en) 1996-02-07 1996-02-07 Offset printing apparatus and image forming apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2137296A JPH09207305A (en) 1996-02-07 1996-02-07 Offset printing apparatus and image forming apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09207305A true JPH09207305A (en) 1997-08-12

Family

ID=12053273

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2137296A Pending JPH09207305A (en) 1996-02-07 1996-02-07 Offset printing apparatus and image forming apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09207305A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014054555A1 (en) * 2012-10-05 2014-04-10 株式会社小森コーポレーション Gravure offset printer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014054555A1 (en) * 2012-10-05 2014-04-10 株式会社小森コーポレーション Gravure offset printer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100356263B1 (en) Surface conduction electron-emitting device and manufacturing method thereof, and electron source and image forming apparatus including the electron-emitting device
JP3267464B2 (en) Image forming device
JPH11320816A (en) Offset printing method and image display device by the method
JP3260592B2 (en) Method of manufacturing image forming apparatus and image forming apparatus manufactured by this method
JPH09207305A (en) Offset printing apparatus and image forming apparatus
JP3432159B2 (en) Offset printing apparatus and method, and method of manufacturing image forming apparatus
JP3122349B2 (en) Offset printing method and apparatus and image forming apparatus using the same
JP3459781B2 (en) Offset printing apparatus and image forming apparatus manufacturing method using the same
JPH11188835A (en) Printing machine and method for manufacturing image forming apparatus
JPH09300574A (en) Offset printing apparatus and image forming apparatus
JPH11309836A (en) Offset printing method and image forming apparatus using the same
JPH1167081A (en) Manufacturing method of flat plate type image forming apparatus, and flat plate type image forming apparatus
JPH09300586A (en) Offset printing apparatus, blanket used therefor, offset printing method using the same, and image forming apparatus manufacturing method using the same
JPH09207306A (en) Offset printing method, apparatus and image forming apparatus
JP2000335125A (en) Printing intaglio, offset printing method and image forming apparatus using the same
JPH11329222A (en) Electrode of electron-emitting device and method of manufacturing the same
JP2000335073A (en) Offset printing method and method of manufacturing image forming apparatus
JPH11314342A (en) Offset printing method and image forming apparatus using the same
JP2000238242A (en) Alignment mark and image forming apparatus using the same
JP2000335124A (en) Intaglio for printing and printing method
JP2000094631A (en) Offset printing method and image display device using the same
JPH09286094A (en) Offset printing apparatus, offset printing method, and image forming apparatus
JPH09187913A (en) Printing apparatus and method of manufacturing image display apparatus using the same
JPH09193354A (en) Offset printing apparatus and image forming apparatus formed using the printing apparatus
JP2000211114A (en) Offset printing machine, printing method, and method of manufacturing image forming apparatus using the same