JPH09209126A

JPH09209126A - 真空蒸着装置

Info

Publication number: JPH09209126A
Application number: JP2248496A
Authority: JP
Inventors: Masahide Matsuura; 正英松浦; Hiroshi Shoji; 弘東海林
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1996-02-08
Filing date: 1996-02-08
Publication date: 1997-08-12

Abstract

(57)【要約】【課題】純度の高い有機物の薄膜を確実に製造できる
真空蒸着装置を提供すること。【解決手段】蒸着源２０のるつぼ２３の開口縁近傍
に、基板１２方向に突出した障壁３０を着脱可能に設
け、障壁３０の外面にはフィン３３による凹凸３２を形
成し、障壁本体３１には障壁３０を水冷する冷却パイプ
を内蔵させて真空蒸着装置１０を形成する。これによ
り、蒸着初期に蒸着源２０周辺に付着した不純物が温め
られて再蒸発しても冷却された障壁３０で捕捉でき、捕
捉後は再蒸発することがないので、薄膜への不純物の混
入を防止でき、純度の高い有機物の薄膜を確実に成膜で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は真空蒸着装置に関
し、詳しくは、有機物を容器に入れて加熱する蒸着源と
前記有機物を蒸着させる基板とを備えた真空蒸着装置に
関する。

【０００２】

【背景技術】近年、有機エレクトロルミネッセンス素子
（有機ＥＬ素子）の研究が盛んに行われている。有機Ｅ
Ｌ素子は、真空蒸着装置等を用いて、基板に有機物や金
属等の各種蒸着材料からなる蒸着層を積層して形成され
る。真空蒸着装置は、蒸着材料をヒータ等により加熱す
る蒸着源を有し、この蒸着源の上方に配置された基板の
被蒸着面（下面）に蒸着材料の蒸発物を付着させて成膜
を行う。

【０００３】従来より、アルミニウムの蒸着を行う場合
等には、円筒形のるつぼに蒸着材料を入れて加熱する蒸
着源が用いられている。これによれば、蒸着材料をボー
ト等に載置して蒸発させるよりも一回の蒸着で多くの蒸
着材料を連続して処理できるうえに、蒸着材料を大量蒸
発させることが可能となり、蒸着効率を高めることがで
きる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前述したるつぼを用い
て蒸着材料の加熱を長時間行うと、ヒータや蒸着材料等
からの伝熱により蒸着源周辺の温度も上昇する。蒸着材
料の中でも有機物は蒸発温度が低いため、加熱初期に有
機物から発生したガスや有機物の分解物等のうち、蒸着
源周辺に付着していたものがこの温度上昇に伴って再蒸
発し、基板に堆積される薄膜に不純物として混入すると
いう不具合があった。また、一つの真空槽内に複数の蒸
着源を設け、蒸着源毎に異なる有機物を用いて蒸着を行
う場合には、蒸着源同士で互いの有機物が混入すること
があり、薄膜の純度が低下するという問題があった。こ
のため、るつぼ等の比較的大きい容器を用いて成膜した
有機ＥＬ素子は不安定であり、有機ＥＬ素子を安定化さ
せるために膜の純度を高めなければならないという課題
があった。

【０００５】本発明の目的は、有機物による純度の高い
薄膜を確実に製造できる真空蒸着装置を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の真空蒸着装置
は、有機物を容器に入れて加熱する蒸着源と前記有機物
を蒸着させる基板とを備えた真空蒸着装置であって、蒸
着源の容器の開口端近傍には、障壁が設けられているこ
とを特徴とする。ここで、容器にはるつぼ等を用いるこ
とができる。

【０００７】このようにすれば、蒸着源の加熱とともに
容器の開口端近傍が昇温して、その伝熱により障壁が基
端から温められても、障壁は基端以外の部分から放熱で
きるので、加熱されている蒸着源や容器周辺よりも低温
となり、蒸発物を付着させることが可能となる。従っ
て、蒸着初期には、有機物の加熱の初期に発生するガス
等の不純物をその障壁で捕捉できるようになり、基板や
真空槽の壁面や蒸着源周辺に付着する不純物の量を低減
させることができ、再蒸発して基板に付着したり容器内
の有機物に混入したりする不純物の量を少なくすること
ができる。

【０００８】障壁に捕捉されずに真空槽の壁面や蒸着源
周辺等に付着した不純物は、蒸着源を長時間加熱すると
その伝熱により温められて再蒸発するが、これらの再蒸
発物は障壁に衝突して捕捉されるようになり、容器内の
有機物や基板に付着するのを防止でき、不純物の薄膜へ
の混入を回避できる。また、長時間の加熱を行うと、蒸
着源周辺等に付着した純粋な有機物は加熱されて分解物
を発生しやすくなるが、このような分解物の再蒸発物も
障壁で捕らえることができるようになる。

【０００９】そして、容器から蒸発する蒸発物のうち、
障壁に衝突するものは捕捉されるので、蒸発源からほぼ
直線的に基板に向かう蒸発分子だけが基板に到達するよ
うになり、蒸発分子の基板への入射角を制限することが
可能となり、優れた特性の薄膜が得られる。さらに、同
一の真空槽内に複数の蒸着源を形成した場合でも、他の
有機物の蒸発分子を障壁で捕捉できるようになり、他の
材料が容器内へ混入するのを防止でき、薄膜の純度を高
めることができる。これらにより、前記目的が達成され
る。

【００１０】また、障壁はその周方向に閉じて設けられ
ていることが望ましい。これにより、前述した障壁によ
る不純物の捕捉を確実に行うことが可能となるうえに、
蒸発分子の基板への入射角を狭い範囲で確実に制限でき
るようになり、純度の高い優れた特性の薄膜を確実に形
成できる。

【００１１】さらに、障壁はその外面に凹凸を有するこ
とが望ましい。ここで、障壁の外表面積は、その内表面
積の 1倍を越えて 100倍以下とすることが好ましく、内
面は平坦に形成することが好ましい。障壁の内表面積を
1倍以下とすると前述した放熱を障壁の外側へ効率よく
行うことができず、100倍より大きくするのは困難なた
め実用的ではない。

【００１２】これによれば、凹凸により障壁の外表面積
を拡げることができるので、蒸着源からの伝熱により基
端から障壁が加熱されても、その熱を障壁の外側へ効率
よく放出できるようになる。また、凹凸のない障壁より
も多くの不純物を捕捉することができる。

【００１３】そして、障壁の凹凸はフィンにより形成さ
れていてもよい。これにより、フィンを設けるだけで障
壁の外表面積を確実かつ容易に拡大できるうえに、フィ
ンでは単なる凹凸よりも大幅に表面積を拡大できるの
で、放熱を効率よく行うことができる。

【００１４】また、障壁を冷却する冷却手段が設けられ
ていることが望ましい。ここで、冷却手段は、水等を流
す冷却パイプを障壁に内蔵させること等により形成でき
る。このようにすることで、障壁の温度を所望の温度ま
で低下させることが可能となり、蒸発温度の低い不純物
でも確実に捕捉でき、一層純度の高い薄膜を形成するこ
とができる。

【００１５】さらに、障壁は基板方向に突出して形成さ
れていることが望ましい。このようにすれば、基板方向
と異なる方向に移動する蒸発物だけを確実に捕捉できる
ようになり、蒸発分子の基板への入射角度を一層効率よ
く制限できるようになって、薄膜の特性を安定化させる
ことが可能となる。

【００１６】そして、障壁は着脱可能に設けられている
ことが望ましい。これによれば、不純物が付着した障壁
のクリーニングを取り外した状態で簡単に行えるうえ
に、基板の形状寸法や有機物の種類等の条件に応じて障
壁を交換することができる。

【００１７】さらに、蒸着源が複数設けられる場合に
は、各蒸着源の各容器の開口端近傍に障壁が設けられて
いるのがよい。このようにすれば、容器毎に障壁が設け
られているので、他の蒸着源からの蒸発物を捕捉できる
ようになり、他の有機物の容器内への混入を防止でき、
純度の高い薄膜を形成できる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施形態を図面
に基づいて説明する。［第一実施形態］図１には、本実施形態の真空蒸着装置
１０が示されている。真空蒸着装置１０は、箱形の真空
槽１１と、この真空槽１１内に設置された基板１２と蒸
着源２０と障壁３０とを含んで構成されている。真空槽
１１の底面には下方へ突出した凹部１１１が設けられて
いる。この凹部１１１と対向して真空槽１１の上部に
は、基板１２が図示しない通常の支持機構により略水平
に支持されている。

【００１９】図２にも示すように、蒸着源２０は凹部１
１１内に形成されており、凹部１１１の内壁に沿って設
けられたヒータ２１と、このヒータ２１の内側に配置さ
れた略円柱形の熱シールド２２と、この熱シールド２２
の内側に配置された容器である略円柱形のるつぼ２３と
を備えている。熱シールド２２およびるつぼ２３は、そ
れぞれの開口端に鍔部２２１，２３１を備え、熱シール
ド２２の鍔部２２１は凹部１１１の開口周辺に係止さ
れ、るつぼ２３の鍔部２３１は熱シールド２２の鍔部２
２１の上面に係止されている。

【００２０】るつぼ２３は、例えば、石英製であり、そ
の内部に有機物を入れて加熱を行うものである。るつぼ
２３の内径は、真空槽１１の底面が長方形の場合はその
長辺の1／2以下とされ、真空槽１１の底面が正方形の場
合はその一辺の1／2以下、円形の場合にはその直径の1
／2以下とされる。るつぼ２３の下面には真空槽１１外
から延びる熱電対２４が接続され、この熱電対２４によ
りるつぼ２３の温度を測定し、図示しない温度制御手段
によりヒータ２１の加熱状態を調節し、るつぼ２３内の
有機物の温度を調節できるようになっている。なお、こ
の温度は有機物の蒸発温度に応じて設定され、一般に15
0℃以上450℃以下の範囲内で設定される。

【００２１】るつぼ２３の開口端近傍には、ほぼその開
口縁に沿って周方向に閉じた障壁３０が立設され、基板
１２方向に突出している。図３にも示すように、障壁３
０は、略円筒形の障壁本体３１と、この障壁本体３１の
外面に設けられた凹凸３２である複数のフィン３３と、
障壁本体３１に内蔵された冷却手段である冷却パイプ３
４とで構成されている。

【００２２】障壁本体３１は、るつぼ２３の内径と略同
寸法の内径を有し、その下端に取付用鍔部３１１を備え
ている。取付用鍔部３１１にはその外周に沿って垂下部
３１２が形成され、この垂下部３１２の下端は、真空槽
１１底面の凹部１１１の開口側の周囲に形成された溝１
１２にはめ込まれている。この溝１１２は、熱シールド
２２の鍔部２２１よりも外側に形成されている。これに
より、障壁３０は熱シールド２２およびるつぼ２３の各
鍔部２２１，２３１を被覆した状態で設置される。ま
た、障壁３０は、前述の垂下部３１２を溝１１２に嵌め
外しすることで、着脱できるようになっている。この
際、取付用鍔部３１１は、必要に応じてボルト等の固定
手段によって真空槽１１の底面に固定できるようにして
もよく、溶接等により固定されていてもよい。

【００２３】障壁本体３１の外周面には、フィン３３が
所定間隔をおいて略水平に設けられている。フィン３３
は、障壁３０の外表面積が障壁本体３１の内表面積の 1
倍を越えて100倍以下となるように、本実施形態では、
障壁本体３１と一体成形されている。冷却パイプ３４は
障壁本体３１内にらせん状に設置され、この冷却パイプ
３４に寒剤や冷媒、水等を流通させて障壁本体３１およ
びフィン３３を冷却できるようになっている。この冷却
パイプ３４には、障壁３０の温度を制御する図示しない
温度制御手段が設けられ、100℃以上 400℃以下の範囲
内で有機物の加熱温度よりも低い温度に設定される。

【００２４】このように構成された本実施形態において
は、次のような手順で薄膜の形成を行う。先ず、凹部１
１１内のヒータ２１の内側に熱シールド２２を設置し、
この熱シールド２２の内側に有機物を入れたるつぼ２３
を配置した後、障壁３０の垂下部３１２を真空槽１１底
面の溝１１２にはめ込んで障壁３０を取り付ける。次
に、真空槽１１内を真空にし、冷却パイプ３４に水を流
して障壁本体３１およびフィン３３を所期の温度まで冷
却する。そして、ヒータ２１に通電して有機物を所望の
温度まで加熱して蒸着を行う。

【００２５】蒸着初期には、有機物に含まれていた有機
溶媒等からガスが発生したり、有機物が分解する等して
多くの不純物が蒸発し、これらの不純物が障壁３０の内
面に付着する。冷却された障壁３０に付着した蒸発物
は、運動エネルギを奪われるため再蒸発することがな
い。障壁３０に捕捉されなかった不純物は、蒸着源２０
近傍の真空槽１１の底面や真空槽１１の壁面に付着する
が、長時間加熱を続けると、これらの不純物が蒸着源２
０からの伝熱により加熱されて再蒸発することがある。
この再蒸発分子は、ほとんどが障壁３０に衝突して捕捉
される。また、長時間の加熱を行うと、蒸着源２０周辺
等に付着した不純物でない有機物は、加熱されて分解物
を発生しやすくなるが、このような分解物の再蒸発物も
障壁３０で捕捉される。

【００２６】さらに、るつぼ２３から蒸発する蒸発物の
うち、障壁３０に衝突するものは捕捉されるので、蒸発
源２０からほぼ直線的に基板１２に向かう蒸発分子だけ
が基板１２に到達するようになる。このようにして、基
板１２には純粋な有機物だけが堆積するとともに、障壁
３０により入射角の制限された蒸発分子だけが付着して
薄膜が形成される。

【００２７】このような本実施形態によれば以下のよう
な効果がある。すなわち、るつぼ２３の開口端近傍に障
壁３０を設けたので、蒸着初期には、有機物の加熱の初
期に発生するガス等の不純物がその障壁３０で捕捉さ
れ、基板１２や真空槽１１の壁面や蒸着源２０周辺に付
着する不純物の量を低減させることができ、再蒸発して
基板１２に付着したりるつぼ２３内の有機物に混入した
りする不純物の量を少なくすることができる。

【００２８】また、障壁３０に捕捉されずに真空槽１１
の壁面や蒸着源２０周辺等に付着して再蒸発した不純物
の再蒸発物は、障壁３０に衝突して捕捉されるので、る
つぼ２３内の有機物や基板１２に付着するのを防止で
き、不純物の薄膜への混入を回避できる。また、長時間
の加熱を行うと、蒸着源２０周辺等に付着した純粋な有
機物は加熱されて分解物を発生しやすくなるが、このよ
うな分解物の再蒸発物も障壁３０で捕らえることがで
き、薄膜やるつぼ２３内の有機物への混入を防止でき
る。

【００２９】そして、るつぼ２３から蒸発する蒸発物の
うち、障壁３０に衝突するものは捕捉されるので、蒸発
源２０からほぼ直線的に基板１２に向かう蒸発分子だけ
が基板１２に到達するようになり、蒸発分子の基板１２
への入射角を制限でき、優れた特性の薄膜が得られる。

【００３０】また、障壁３０はその周方向に閉じて設け
られているので、前述した障壁３０による不純物の捕捉
を確実に行うことができるうえに、蒸発分子の基板１２
への入射角を狭い範囲で確実に制限できるようになり、
純度の高い優れた特性の薄膜を確実に形成できる。

【００３１】そして、障壁３０の外面にフィン３３によ
る凹凸３２を設けたため、障壁３０の外表面積を拡げる
ことができ、蒸着源２０からの伝熱により基端から障壁
３０が加熱されてもその熱を障壁３０の外側へ効率よく
放出できる。また、凹凸３２のない障壁よりも多くの不
純物を捕捉することができる。さらに、障壁本体３１に
フィン３３を設けるだけで凹凸３２を形成できるので、
障壁３０の外表面積を確実かつ容易に拡大できるうえ
に、フィン３３によれば単なる凹凸よりも大幅に表面積
を拡大できるので、放熱および不純物の吸着を効率よく
行うことができる。

【００３２】また、障壁本体３１内に冷媒や水等を流通
させる冷却パイプ３４を設けたため、障壁３０の温度を
確実に低下させることができ、蒸発温度の低い不純物で
も確実に捕捉でき、純度の高い薄膜を形成することがで
きる。さらに、100℃以上400℃以下の範囲内で温度制御
を行う図示しない温度制御手段を設けたので、有機物の
種類に応じて障壁３０の温度を調節でき、無駄な冷却を
行う必要がなくなる。この際、例えば、不純物の蒸発温
度が純粋な有機物の蒸発温度よりも高い場合には、障壁
３０の温度をその間の温度とすれば不純物だけを捕捉す
ることができ、有機物を無駄のなく基板１２に蒸着させ
ることができる。

【００３３】さらに、障壁３０を基板１２方向に突出さ
せて設けたので、基板１２方向と異なる方向に移動する
蒸発物は確実に捕捉される。従って、蒸発分子の基板１
２への入射角度を一層効率よく制限でき、薄膜の特性を
安定化させることができる。

【００３４】加えて、障壁３０を着脱可能に設けたの
で、不純物が付着した障壁３０のクリーニングを取り外
した状態で簡単に行えるうえに、基板１２の形状寸法や
有機物の種類等の条件に応じて障壁３０を交換すること
ができる。また、有機物をるつぼ２３に入れて加熱した
ため、一回の蒸着で多くの有機物を処理できるようにな
るうえに大量蒸着も可能となり、蒸着効率を向上させる
ことができる。

【００３５】［第二実施形態］図４に示す本実施形態の
真空蒸着装置４０は、前記第一実施形態の真空蒸着装置
１０と略同様な構成を備え、蒸着源２０および障壁３０
の数が異なるのみであるので、同一部分には同一符号を
付して詳しい説明は省略し、以下には異なる部分のみを
詳述する。真空蒸着装置４０は二つの蒸着源２０Ａ，２
０Ｂを有し、これらの蒸着源２０Ａ，２０Ｂは、るつぼ
２３の開口が基板１２に向かうように真空槽１１の底面
に対して斜めに設けられている。

【００３６】これらの蒸着源２０Ａ，２０Ｂの各るつぼ
２３の開口端近傍には、障壁３０Ａ，３０Ｂがそれぞれ
取り付けられ、これらの障壁３０Ａ，３０Ｂは蒸着源２
０Ａ，２０Ｂと同様に、各々基板１２方向に突出して真
空槽１１の底面に対して斜めに立設されている。このよ
うに構成された本実施形態においては、各蒸着源２０
Ａ，２０Ｂで異なる有機物を用い、真空を破ることなく
連続して二層の薄膜を基板１２上に形成する。

【００３７】本実施形態によれば、前記第一実施形態と
同様な作用、効果を奏することができる他、以下のよう
な効果がある。すなわち、各蒸着源２０Ａ，２０Ｂのる
つぼ２３近傍に障壁３０Ａ，３０Ｂが設けられているの
で、互いの蒸着源２０Ａ，２０Ｂの有機物の蒸発分子を
障壁３０Ａ，３０Ｂで各々に捕捉できるようになり、他
の有機物の容器内への侵入を防止でき、各有機物による
それぞれの薄膜の純度を高めることができる。また、る
つぼ２３および障壁３０Ａ，３０Ｂが各々基板１２方向
に突出しているため、基板１２方向と異なる方向に移動
する蒸発物を捕捉できるようになり、蒸発分子の基板１
２への入射角度を制限できるようになり、薄膜の特性を
安定化させることが可能となる。

【００３８】なお、本発明は前記実施形態に限定される
ものではなく、本発明の目的を達成できる他の構成等を
含み、以下に示すような変形なども本発明に含まれる。
すなわち、前記各実施形態では、障壁３０，３０Ａ，３
０Ｂは、フィン３３による凹凸３２を備えていたが、こ
の凹凸３２はなくてもよい。しかし、凹凸３２を設けれ
ば、前述した効果を発揮できるので設けることが好まし
い。

【００３９】また、凹凸３２を設ける場合には、図５
（Ａ）に示すように、障壁本体３１の外面を波形に形成
して凹凸３２としてもよく、図５（Ｂ）に示すように、
凹凸３２をフィン３３よりも厚い突起５１により形成し
てもよく、図５（Ｃ）に示すように、障壁本体３１を切
り欠いて形成したＶ溝５２により形成してもよい。

【００４０】そして、障壁３０，３０Ａ，３０Ｂは周方
向に閉じて設けられていたが、若干の隙間により分断さ
れていてもよい。また、障壁本体３１の内径はるつぼ２
３の内径と略同寸法とされていたが、凹部１１１の開口
の直径程度の内径であってもよく、るつぼ２３の内径よ
りも若干小さい内径としてもよい。しかし、蒸発物の基
板１２への入射角を制限し、不純物を確実に捕捉するた
めにはるつぼ２３の内径と略同寸法とすることが好まし
い。また、障壁３０，３０Ａ，３０Ｂの高さはとくに限
定しないが、例えば、基板１２近傍まで延びていてもよ
く、基板１２に堆積する膜の厚さの均一性や、基板１２
と蒸着源２０，２０Ａ，２０Ｂとの距離等に応じて適宜
設定すればよい。

【００４１】前記各実施形態では、冷却手段として障壁
本体３１内に冷却パイプ３４を設けたが、障壁３０は蒸
着源２０，２０Ａ，２０Ｂ近傍の取付用鍔部３１１や障
壁本体３１の基端以外のフィン３３等から放熱できるの
で、冷却手段は設けなくてもよい。冷却手段として冷却
パイプ３４設ける場合には、障壁本体３１の周面に巻き
付けてもよく、また、フィン３３に内蔵させてもよい。
また、冷却手段としてヒートパイプを設け、真空槽１１
外に障壁３０，３０Ａ，３０Ｂの熱を放出させてもよ
く、要するに、障壁３０，３０Ａ，３０Ｂを冷却できれ
ば冷却手段の種類は任意である。

【００４２】前記各実施形態では、略同一形状の障壁３
０，３０Ａ，３０Ｂを用いて蒸着を行ったが、種々の障
壁を用意しておき、蒸着材料に用いる有機物の種類や、
膜厚、基板の寸法形状等に応じたものを適宜選択して装
着し、蒸着を行ってもよい。前記各実施形態では、容器
として円柱形のるつぼ２３を用いたが、角柱形の容器や
ボート形の容器を用いてもよい。

【００４３】前記第二実施形態では、二つの蒸着源２０
Ａ，２０Ｂを設けたが、三つ以上設けてもよく、また、
二つの蒸着源２０Ａ，２０Ｂのうち何れか一方だけに障
壁を設けてもよい。加えて、基板１２と蒸着源２０Ａ，
２０Ｂの位置は固定されていたが、例えば、蒸着源２０
Ａ，２０Ｂを真空槽１１の底面に対して垂直に設け、基
板１２を各蒸着源２０Ａ，２０Ｂの真上まで移動させて
順次蒸着を行うものであってもよい。

【００４４】

【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
蒸着源の容器の開口端近傍に障壁を設けることで、蒸着
初期には、有機物の加熱の初期に発生するガス等の不純
物をその障壁で捕捉できるようになり、基板や真空槽の
壁面や蒸着源周辺に付着する不純物の量を低減させるこ
とができ、再蒸発して基板に付着したり容器内の有機物
に混入したりする不純物の量を少なくすることができ
る。

【００４５】また、障壁に捕捉されずに真空槽の壁面や
蒸着源周辺等に付着した不純物は、蒸着源を長時間加熱
すると温められて再蒸発するが、これらの再蒸発物は障
壁に衝突して捕捉され、容器内の有機物や基板に付着す
るのを防止でき、不純物の薄膜への混入を回避できる。
また、長時間の加熱を行うと、蒸着源周辺等に付着した
純粋な有機物は加熱されて分解物を発生しやすくなる
が、このような分解物の再蒸発物も障壁で捕らえること
ができる。

【００４６】そして、容器から蒸発する蒸発物のうち、
障壁に衝突するものは捕捉されるので、蒸発源からほぼ
直線的に基板に向かう蒸発分子だけが基板に到達するよ
うになり、蒸発分子の基板への入射角を制限することが
でき、優れた特性の薄膜が得られる。さらに、同一の真
空槽内に複数の蒸着源を形成した場合でも、他の有機物
の蒸発分子を障壁で捕捉でき、他の材料が容器内へ混入
するのを防止可能となり、薄膜の純度を高めることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一実施形態を示す断面図。

【図２】前記実施形態の蒸着源を拡大して示す断面図。

【図３】前記実施形態の障壁の半割状態を示す斜視図。

【図４】本発明の第二実施形態を示す断面図。

【図５】本発明の変形形態を示す断面図。

【符号の説明】

１０，４０真空蒸着装置１２基板２０，２０Ａ，２０Ｂ蒸着源２３容器３０，３０Ａ，３０Ｂ障壁３２凹凸３３フィン３４冷却手段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】有機物を容器に入れて加熱する蒸着源と
前記有機物を蒸着させる基板とを備えた真空蒸着装置で
あって、前記蒸着源の容器の開口端近傍には障壁が設け
られていることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】請求項１に記載した真空蒸着装置におい
て、前記障壁はその周方向に閉じて設けられていること
を特徴とする真空蒸着装置。
【請求項３】請求項１または請求項２に記載した真空
蒸着装置において、前記障壁はその外面に凹凸を有する
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項４】請求項３に記載した真空蒸着装置におい
て、前記障壁の凹凸がフィンにより形成されていること
を特徴とする真空蒸着装置。
【請求項５】請求項１から請求項４までの何れかに記
載した真空蒸着装置において、前記障壁を冷却する冷却
手段が設けられていることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項６】請求項１から請求項５までの何れかに記
載した真空蒸着装置において、前記障壁は前記基板方向
に突出して形成されていることを特徴とする真空蒸着装
置。
【請求項７】請求項１から請求項６までの何れかに記
載した真空蒸着装置において、前記障壁は着脱可能に設
けられていることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項８】請求項１から請求項７までの何れかに記
載した真空蒸着装置において、前記蒸着源が複数設けら
れ、前記蒸着源の各容器の開口端近傍に前記障壁が設け
られていることを特徴とする真空蒸着装置。