JPH09210236A - 腐食流体用制御弁 - Google Patents

腐食流体用制御弁

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JPH09210236A
JPH09210236A JP4410596A JP4410596A JPH09210236A JP H09210236 A JPH09210236 A JP H09210236A JP 4410596 A JP4410596 A JP 4410596A JP 4410596 A JP4410596 A JP 4410596A JP H09210236 A JPH09210236 A JP H09210236A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 制御弁が腐食流体に腐食されないようにする
とともに、応答性を向上させる。 【解決手段】 制御弁20は、流体通路22の途中に形
成された弁座23に主弁体24が接離して腐食流体に対
する開度を調節する。主弁体を有して流体通路に設けら
れた主弁ダイヤフラム32が具えられている。流体通路
と、弁座と、主弁体の少なくとも流体通路内に位置する
部分と、主弁ダイヤフラムは耐食性材料からなってい
る。腐食流体との接触部分が耐食性材料からなるので、
制御弁は腐食性流体に使用することができる。主弁体が
主弁ダイヤフラムによって基部21に設けられているた
め、腐食流体の圧力変化に対する応答性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、塩化水素ガス、高
温水蒸気等の腐食流体に使用される制御弁の技術分野に
属する。
【従来の技術】
【0002】半導体制御装置等の真空装置のチャンバー
の排気路には、圧力制御用の制御弁と真空排気ポンプか
らなる排気装置が設けられており、チャンバー内を所定
の真空度にするため、前記制御弁の開度を調整する必要
がある。従来、この種の制御弁として、特開平4−15
0938号公報に記載のものがある。この制御弁10
は、図2に示すように、円板状の弁板11を具えた蝶型
制御弁である。弁板11の回転制御は制御回路(図示省
略)によって行なわれる。制御回路は、圧力センサーに
よって検知された制御弁の排気口側の圧力値と、予め記
憶された設定圧値との差を求めて、その差がなくなるよ
うにモータ16を制御して制御弁の開き角度を調節する
回路である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
制御弁は、次の問題点を有している。 (1) 腐食流体に使用することができない。 制御弁本体14と制御弁軸13との間をシールするOリ
ング15が、回転する制御弁軸13に接触している。こ
のため、制御弁を長期間すると、Oリング15が摩耗
し、Oリング15と制御弁軸13との間から流体が漏れ
る恐れがあり、腐食流体に使用することができない。 (2) 小流量制御が困難である。 蝶型制御弁であるため、弁板11を密閉状態から開く方
向へ回転させるとき、円滑に始動できるように、弁板1
1と流体通路12との間に多少の隙間を設けなければな
らない。このため、流体が漏れ易く、弁板11の開き角
度の小さいときの流量調節が困難である。
【0004】(3) 大型、高価である。 弁板11を回転させるモータ16を必要とし、装置全体
が大型、且つ、高価になりがちである。 (4) 大電力を必要とする。 弁板11をモータ16によって回転させるため、大電力
を必要とする。 (5) 応答性が悪い。 制御弁内での圧力バランスを取ることができない構造に
なっているため、外部からの急激な圧力変化および流体
の流量変化に対して、瞬時に応答することができない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、第1に、流体
通路の途中に形成された弁座に主弁体が接離して腐食流
体に対する開度を調節する制御弁であって、前記主弁体
を有して前記流体通路に設けられた主弁ダイヤフラムを
具え、且つ、前記流体通路と、前記弁座と、前記主弁体
の少なくとも前記流体通路内に位置する部分と、前記主
弁ダイヤフラムとが耐食性材料からなることを特徴とす
る腐食流体用制御弁により、第2に、流体通路の途中に
形成された弁座に主弁体が接離して腐食流体に対する開
度を調節する制御弁であって、前記主弁体を有して前記
流体通路に設けられた主弁ダイヤフラムと、前記主弁体
を前記弁座から離れる方向へ付勢するスプリングと、前
記主弁体の前記弁座と反対側の端部に設けられたパイロ
ット圧ダイヤフラムによって壁の一部が形成されてパイ
ロット圧流体を受け入れるパイロット圧室と、前記パイ
ロット圧室を大気に開放するノズルと、前記ノズルの出
口に対して接離させられるパイロット弁体とを具え、且
つ、前記流体通路と、前記弁座と、前記主弁体の少なく
とも前記流体通路内に位置する部分と、前記主弁ダイヤ
フラムとが耐食性材料からなることを特徴とする腐食流
体用制御弁により、前記の課題を解決した。
【0006】
【作用】第1、第2の腐食流体用制御弁は、流体通路
と、弁座と、主弁体の少なくとも流体通路内に位置する
部分と、主弁ダイヤフラムとに耐食性材料を使用してい
るので、腐食流体の流量調節を行なうことができる。
【0007】また、主弁ダイヤフラムは、流体通路に設
けられて、主弁体と基部との間を密閉し、主弁体と基部
との間からの腐食流体の漏れを防止する。さらに、主弁
体は主弁ダイヤフラムによって基部に設けられているた
め、速やか且つ円滑に作動する。しかも、主弁ダイヤフ
ラムに対して摺動する部品がなく、主弁ダイヤフラム
は、摩耗させられることなく、長期間、主弁体と基部と
の間の密閉状態を保持する。
【0008】第2の腐食流体用制御弁の主弁体は、通
常、スプリングによって弁座から離れる方向に付勢され
て、主弁体の一端と弁座との間に隙間が生じている。ま
た、パイロット弁体とノズルの出口との間にも隙間が生
じている。この隙間の大きさはコイルへの通電制御によ
って変えることができる。
【0009】パイロット圧室には、常時パイロット圧流
体が流入しており、パイロット圧ダイヤフラムにパイロ
ット圧流体の圧力が加わっている。パイロット圧室に流
れ込んだパイロット圧流体はノズルの出口から大気中に
流出する。パイロット圧流体の流出量は、ノズルの出口
とパイロット弁体との隙間によって決まる。
【0010】ノズルの出口とパイロット弁体との間の隙
間が広いとパイロット圧流体の流出量が多くなり、パイ
ロット圧室内の圧力は低くなる。逆に、隙間が狭いと流
出量が少なくなり、パイロット圧室内の圧力は高くな
る。
【0011】前記隙間の大きさは、コイルへの通電制御
によって、制御される。その制御の結果、パイロット圧
室内の圧力が低くなると、主弁体がスプリングによって
弁座から離間させられ、主弁体の一端と弁座との間の隙
間が広くなり、流体通路内の腐食流体の流量は多くな
る。逆に、パイロット圧室内の圧力が高くなると、主弁
体がスプリングに抗して弁座に接近させられ、主弁体の
一端と弁座との間の隙間が狭くなり、流体通路内を流れ
る流量は少なくなる。
【0012】制御弁内の圧力関係は次のようになってい
る。流体通路の流入口内の圧力をP1、流出口内の圧力
をP2、パイロット圧室内の圧力をPs、スプリングの
弾力をF、主弁ダイヤフラムの有効面積をA1、弁座の
有効面積をA2、パイロット圧ダイヤフラムの有効面積
をaとすると、 P1(A1−A2)+P2・A2+Ps・a−F=0 P1=[F/(A1−A2)]−[a/(A1−A
2)]・Ps−[A2/(A1−A2)]・P2の関係
にある。
【0013】弁座の有効面積A2が主弁ダイヤフラムの
有効面積A1に比べて小さい場合には、上式右辺第3項
は無視することができ、流入口内の圧力P1は、流出口
内の圧力P2の影響を受けないことが分かる。従って、
流体は、流出口内の圧力の影響を受けることなく流体通
路を流れる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
に基づいて説明する。制御弁20は、基部21の流体通
路22の途中に形成された弁座23に主弁体24が接近
離間して、塩化水素ガス、高温水蒸気等の腐食流体に対
する開度を調節する制御弁である。
【0015】弁座23と主弁体24は、ポペットタイプ
の弁を構成している。なお、後述するベース25、主弁
ダイヤフラム32がポリテトラフルオロエチレン(PT
FE:商品名テフロン)であり、主弁板50がポリエー
テルエーテルケトン(PEEK)等の耐食性プラスチッ
ク製であるため、制御弁20は、腐食流体に使用するこ
とができる。
【0016】基部21は、ベース25とカバー26が重
ね合わされて形成されている。基部21には、流体通路
22が形成されている。流体通路22の途中には、弁座
23が形成されている。基部21には、主弁体24を収
納する空洞27が形成されている。
【0017】主弁体24は、上部に鍔29を有する主弁
本体30と板状の主弁板50とで構成されている。主弁
本体30と主弁板50はボルト28によって一体化され
ている。鍔29とカバー26との間には、主弁体24を
上方へ付勢するスプリング31が設けられている。
【0018】主弁ダイヤフラム32は、可撓性を有する
膜状の部材である。主弁ダイヤフラム32は、ベース2
5とカバー26との間にボルト36,36によって挟持
されて、ベース25とカバー26との間をシールすると
ともに、流体通路22の内壁34の一部を形成してい
る。主弁ダイヤフラム32には、主弁体24が設けられ
ている。主弁ダイヤフラム32の裏側は、空気抜き孔3
3によって外部に開放されている。
【0019】主弁体24は、主弁ダイヤフラム32によ
って基部21に設けられている。この構成によって、次
の利点が生じる。 (1) 主弁ダイヤフラム32が主弁体24と基部21との
間を従来のOリング15(図2参照)の代わりに密閉
し、主弁体24と基部21との間からの腐食流体の漏れ
を防止する。 (2) 主弁ダイヤフラム32に対して摺動する部品がな
く、主弁ダイヤフラム32は、摩耗することがなく、主
弁体24と基部21との間を長期間密閉する。 (3) 主弁体が速やか且つ円滑に作動し、腐食流体用制御
弁20の応答性が向上する。
【0020】パイロット圧ダイヤフラム35は、布入り
のゴム製の膜状の部材であり、可撓性を有して耐久性に
優れている。パイロット圧ダイヤフラム35は、カバー
26とパイロット弁基部54との間にボルト37,37
によって挟持されて、主弁体24の上部に取り付けられ
て、カバー26とパイロット弁基部54との間をシール
する。
【0021】パイロット圧ダイヤフラム35によって仕
切られた空洞27の上部の部屋は、窒素、エア等の正圧
のパイロット圧流体が流れ込むパイロット圧室38であ
る。空洞27の下部の部屋は、空気抜き孔33によって
外部に開放されている。この空気抜き孔33によって、
主弁体24の上下動作が円滑になる。パイロット圧室3
8は、オリフィス40によってパイロット圧流体源に接
続され、ノズル41によって大気に開放されている。
【0022】ノズル41の出口の上方には、コイル部4
2が具えられている。コイル部42のコア43はマグネ
ット44、ヨーク45、ハウジング46を介してパイロ
ット弁基部54に固定されている。コア43を受け入れ
ているコイル47にはノズル41の出口と対向するパイ
ロット弁体48を有している。コイル47は、板ばね5
3によってハウジング46に支持されている。コイル4
7はコネクター49を介して外部に電気的に接続されて
いる。コネクター49には、制御用電子回路(図示省
略)が内蔵されている。
【0023】制御用電子回路は、制御対象の圧力を検知
し、検知された圧力と設定圧とを比較し、その差がなく
なるようにコイル47の電流制御を行なうべく、ノズル
41とパイロット弁体48との間の隙間を調節する回路
であるが、詳細な説明は省略する。
【0024】次に、腐食流体用制御弁20の動作を説明
する。通常、主弁体24はスプリング31によって弁座
23から離れる方向に付勢されて、主弁板50と弁座2
3との間に隙間が生じている。また、パイロット弁体4
8とノズル41の出口との間にも隙間が生じている。こ
の隙間の大きさはコイル47への電流制御によって変え
ることができる。
【0025】パイロット圧室38には、常時パイロット
圧流体が流入しており、パイロット圧ダイヤフラム35
にパイロット圧流体の圧力が加わっている。なお、パイ
ロット圧室38に流れ込んだパイロット圧流体はノズル
41から大気中に流出されている。パイロット圧流体の
流出量は、ノズル41の出口とパイロット弁体48との
隙間の大きさによって決まる。隙間が広いとパイロット
圧流体の流出量が多くなり、パイロット圧室38内の圧
力は低くなる。逆に、隙間が狭いと流出量が少なくな
り、パイロット圧室38内の圧力は高くなる。
【0026】そこで、コイル47への通電を制御するこ
とによって、ノズル41の出口とパイロット弁体48の
隙間を制御することができる。パイロット圧室38内の
圧力が低くなると、主弁体24がスプリング31によっ
て弁座23から離間させられ、主弁板50と弁座23と
の間の隙間が広くなり、流体通路22内の腐食流体の流
量は多くなる。逆に、パイロット圧室38内の圧力が高
くなると、主弁体24がスプリング31に抗して弁座2
3に接近させられ、主弁板50と弁座23との間の隙間
が狭くなり、流体通路22内を流れる流量は少なくな
る。
【0027】流体通路22の流出口51は排気ダクト或
いは真空ポンプに接続され、流体通路22の流入口52
は半導体製造装置のような制御対象に接続されている。
また、オリフィス40はパイロット圧源に接続されてい
る。流出口51内と、流入口52内の圧力は負圧であ
る。
【0028】制御弁20内の圧力関係は次のようにな
る。流体通路の流入口内の圧力をP1、流出口内の圧力
をP2、パイロット圧室内の圧力をPs、スプリングの
弾力をF、主弁ダイヤフラムの有効面積をA1、弁座の
有効面積をA2、パイロット圧ダイヤフラムの有効面積
をaとすると、 P1(A1−A2)+P2・A2+Ps・a−F=0 P1=[F/(A1−A2)]−[a/(A1−A
2)]・Ps−[A2/(A1−A2)]・P2の関係
にある。
【0029】弁座23の有効面積A2が主弁ダイヤフラ
ム32の有効面積A1に比べて小さい場合には、上式右
辺第3項は無視することができ、流入口52内の圧力P
1は、排気ダクト内の圧力或いは真空ポンプの圧力、す
なわち、流出口51内の圧力P2の影響を受けないこと
が分かる。なお、スプリング31の弾力Fとパイロット
圧室内の圧力Psを適宜設定することにより、主弁体2
4の動きを最適な動きに調整することが可能であること
は勿論である。
【0030】
【発明の効果】請求項1,2の制御弁は、次の効果を奏
する。 (1) 腐食流体の接触部分が耐食性材料からなるので、腐
食性流体に使用することができる。 (2) 主弁体が主弁ダイヤフラムによって基部に設けられ
ているため、主弁体の動作が速やか且つ円滑になり、腐
食流体の圧力変化に対する応答性を向上させることがで
きる。さらに、小流量制御が容易になる。 (3) 主弁ダイヤフラムに対して接触して摺動する部品が
ないため、主弁ダイヤフラムに摩耗が生じることなく、
長期間、主弁体と基部との間の密閉状態を保持し、腐食
流体の漏れを防止することができる。
【0031】さらに、請求項2の制御弁は、次の効果を
奏する。 (4) 主弁体を作動させるパイロット圧流体の流出量制御
を電磁式で行なっているため、小電力ですむとともに、
制御弁全体を小型にすることができる。また、制御弁の
全体的製造コストを下げることができる。 ■ 制御弁内の圧力バランスを取ることができるので、
外部からの急激な圧力変化および腐食流体の流量変化に
対して、瞬時に応答し、設定圧を安定にに保つことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態の制御弁の流体通路に沿っ
た正面断面図。
【図2】 従来の制御弁の概略図。
【符号の説明】
20 腐食流体用制御弁 21 基部 2
2 流体通路 23 弁座 24 主弁体 3
1 スプリング 32 主弁ダイヤフラム 34 内壁 35 パイロット圧ダイヤフラム 38 パイロット圧室 41 ノズル 4
8 パイロット弁体

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流体通路の途中に形成された弁座に主弁
    体が接離して腐食流体に対する開度を調節する制御弁で
    あって、 前記主弁体を有して前記流体通路に設けられた主弁ダイ
    ヤフラムを具え、且つ、前記流体通路と、前記弁座と、
    前記主弁体の少なくとも前記流体通路内に位置する部分
    と、前記主弁ダイヤフラムとが耐食性材料からなること
    を特徴とする、腐食流体用制御弁。
  2. 【請求項2】 流体通路の途中に形成された弁座に主弁
    体が接離して腐食流体に対する開度を調節する制御弁で
    あって、 前記主弁体を有して前記流体通路に設けられた主弁ダイ
    ヤフラムと、前記主弁体を前記弁座から離れる方向へ付
    勢するスプリングと、前記主弁体の前記弁座と反対側の
    端部に設けられたパイロット圧ダイヤフラムによって壁
    の一部が形成されてパイロット圧流体を受け入れるパイ
    ロット圧室と、前記パイロット圧室を大気に開放するノ
    ズルと、前記ノズルの出口に対して接離させられるパイ
    ロット弁体とを具え、且つ、前記流体通路と、前記弁座
    と、前記主弁体の少なくとも前記流体通路内に位置する
    部分と、前記主弁ダイヤフラムとが耐食性材料からなる
    ことを特徴とする、腐食流体用制御弁。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004345941A (ja) * 2003-04-30 2004-12-09 Showa Denko Kk 高純度アンモニアガスの供給機器および供給方法
US7063304B2 (en) 2003-07-11 2006-06-20 Entegris, Inc. Extended stroke valve and diaphragm
WO2006073132A1 (ja) * 2005-01-07 2006-07-13 Surpass Industry Co., Ltd. 流量調整装置
JP2007285416A (ja) * 2006-04-17 2007-11-01 Hitachi Metals Ltd 遮断弁装置及びこれを組み込んだ質量流量制御装置
WO2007131388A1 (fr) * 2006-05-15 2007-11-22 Yongsheng Song Soupape
JP2011089647A (ja) * 2010-12-28 2011-05-06 Surpass Kogyo Kk 流量調整装置
JP2011112148A (ja) * 2009-11-26 2011-06-09 Ckd Corp パイロット式電磁弁
CN107441618A (zh) * 2017-09-15 2017-12-08 佛山市康宇达医疗器械有限公司 控制液体流量的比例阀及应用该比例阀的结肠途径治疗机

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004345941A (ja) * 2003-04-30 2004-12-09 Showa Denko Kk 高純度アンモニアガスの供給機器および供給方法
US7063304B2 (en) 2003-07-11 2006-06-20 Entegris, Inc. Extended stroke valve and diaphragm
WO2006073132A1 (ja) * 2005-01-07 2006-07-13 Surpass Industry Co., Ltd. 流量調整装置
JP2006189117A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Surpass Kogyo Kk 流量調整装置
US8104740B2 (en) 2005-01-07 2012-01-31 Surpass Industry Co., Ltd. Flow control device
JP2007285416A (ja) * 2006-04-17 2007-11-01 Hitachi Metals Ltd 遮断弁装置及びこれを組み込んだ質量流量制御装置
WO2007131388A1 (fr) * 2006-05-15 2007-11-22 Yongsheng Song Soupape
JP2011112148A (ja) * 2009-11-26 2011-06-09 Ckd Corp パイロット式電磁弁
JP2011089647A (ja) * 2010-12-28 2011-05-06 Surpass Kogyo Kk 流量調整装置
CN107441618A (zh) * 2017-09-15 2017-12-08 佛山市康宇达医疗器械有限公司 控制液体流量的比例阀及应用该比例阀的结肠途径治疗机

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