JPH09210916A - 異物検査装置及び異物検査方法 - Google Patents
異物検査装置及び異物検査方法Info
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- JPH09210916A JPH09210916A JP8045408A JP4540896A JPH09210916A JP H09210916 A JPH09210916 A JP H09210916A JP 8045408 A JP8045408 A JP 8045408A JP 4540896 A JP4540896 A JP 4540896A JP H09210916 A JPH09210916 A JP H09210916A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】マスク表面のうち検査しようとする領域の２次
元形状によつては検査できないことがあつた。 【解決手段】マスク表面のうち検査しようとする領域の
２次元形状と、保護薄膜の存在による物理的な制約によ
り定まる実際に検査できる領域の２次元形状とに基づい
て、マスクを該マスクを含む平面内で回転させ、マスク
の光ビームの走査方向に対する相対的な位置関係を変更
する回転手段を設ける。必要な検査領域や保護薄膜の形
状に応じた最適な位置でマスクを異物検査でき、また検
査時間をより短縮できる異物検査装置を得ることができ
る。
元形状によつては検査できないことがあつた。 【解決手段】マスク表面のうち検査しようとする領域の
２次元形状と、保護薄膜の存在による物理的な制約によ
り定まる実際に検査できる領域の２次元形状とに基づい
て、マスクを該マスクを含む平面内で回転させ、マスク
の光ビームの走査方向に対する相対的な位置関係を変更
する回転手段を設ける。必要な検査領域や保護薄膜の形
状に応じた最適な位置でマスクを異物検査でき、また検
査時間をより短縮できる異物検査装置を得ることができ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は異物検査装置及び方
法に関し、例えばマスク表面に対する異物の付着の有無
を検査する異物検査装置及び方法に適用し得るものであ
る。
法に関し、例えばマスク表面に対する異物の付着の有無
を検査する異物検査装置及び方法に適用し得るものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光工程においては、マスクやレ
チクル等の表面に塵埃等の異物が付着したまま露光が行
なわれるとウエハに欠陥が生じるおそれがあるため、図
１０に示す構成の異物検査装置１を用いて露光前に予め
異物の有無を検査するようになされている。因に図１０
には、検査対象であるレチクル２の表面に保護薄膜（以
下、ペリクルという）３が装着されたレチクル２の例を
示す。ここでペリクル３は異物がレチクル２の表面に直
接付着する頻度を少なくするためのものであり、薄膜３
Ａとフレーム３Ｂとによつて構成されている。因にペリ
クル３は不図示の接着剤を介してレチクル２に装着され
ている。
チクル等の表面に塵埃等の異物が付着したまま露光が行
なわれるとウエハに欠陥が生じるおそれがあるため、図
１０に示す構成の異物検査装置１を用いて露光前に予め
異物の有無を検査するようになされている。因に図１０
には、検査対象であるレチクル２の表面に保護薄膜（以
下、ペリクルという）３が装着されたレチクル２の例を
示す。ここでペリクル３は異物がレチクル２の表面に直
接付着する頻度を少なくするためのものであり、薄膜３
Ａとフレーム３Ｂとによつて構成されている。因にペリ
クル３は不図示の接着剤を介してレチクル２に装着され
ている。
【０００３】さて異物検査装置１は、このようにペリク
ル３で保護されたレチクル２が載置台４上に載置される
と、当該レチクル２を載置した載置台４を駆動部５によ
つてＹ方向に移動させ、当該移動方向と直交する方向に
走査されるレーザ光によつてレチクル２の表面を走査す
ることにより異物の有無を検査する。なお載置台４のＹ
方向に対する移動量はリニアエンコーダ等でなる測長器
６によつて測長され、測定結果に基づいて移動速度が一
定になるよう制御されるようになされている。またレチ
クル２の表面を走査する走査ビームＬ２はレーザ等の光
源７から射出された光ビームＬ１をガルバノミラースキ
ヤナーやポリゴンミラースキヤナー等でなる光偏向走査
器８によつて偏向し、走査レンズ９を介してレチクル２
の表面に集光することによつて得られる。このとき走査
ビームＬ２のレチクル２上での軌跡は走査線１０と呼ば
れ、この構成例ではＸ方向と一致している。
ル３で保護されたレチクル２が載置台４上に載置される
と、当該レチクル２を載置した載置台４を駆動部５によ
つてＹ方向に移動させ、当該移動方向と直交する方向に
走査されるレーザ光によつてレチクル２の表面を走査す
ることにより異物の有無を検査する。なお載置台４のＹ
方向に対する移動量はリニアエンコーダ等でなる測長器
６によつて測長され、測定結果に基づいて移動速度が一
定になるよう制御されるようになされている。またレチ
クル２の表面を走査する走査ビームＬ２はレーザ等の光
源７から射出された光ビームＬ１をガルバノミラースキ
ヤナーやポリゴンミラースキヤナー等でなる光偏向走査
器８によつて偏向し、走査レンズ９を介してレチクル２
の表面に集光することによつて得られる。このとき走査
ビームＬ２のレチクル２上での軌跡は走査線１０と呼ば
れ、この構成例ではＸ方向と一致している。
【０００４】異物検査装置１はこの走査ビームＬ２が走
査線１０上にある異物１１を走査する際に発生される異
物１１からの散乱光Ｌ３を載置台４の周辺に配置された
２つ受光レンズ１２、１３を介して光電検出器１４、１
５に入射させることにより異物１１の有無を検査するの
である。なお光電検出器１４、１５はフオトマルチプラ
イヤー等でなる。異物検査装置１はこのように２つの光
電検出器１４、１５が光を受光した時点における測長器
６の測長信号によつて異物１１のＹ方向の位置を特定
し、またその際における光偏光走査器８のポジシヨン信
号（ミラーの偏向角に対応した電気信号）等によつて異
物１１のＸ方向の位置を特定するようになされている。
査線１０上にある異物１１を走査する際に発生される異
物１１からの散乱光Ｌ３を載置台４の周辺に配置された
２つ受光レンズ１２、１３を介して光電検出器１４、１
５に入射させることにより異物１１の有無を検査するの
である。なお光電検出器１４、１５はフオトマルチプラ
イヤー等でなる。異物検査装置１はこのように２つの光
電検出器１４、１５が光を受光した時点における測長器
６の測長信号によつて異物１１のＹ方向の位置を特定
し、またその際における光偏光走査器８のポジシヨン信
号（ミラーの偏向角に対応した電気信号）等によつて異
物１１のＸ方向の位置を特定するようになされている。
【０００５】ところでレチクル２上には当然のことなが
ら回路パターン１６が存在し、この回路パターン１６か
らも回析光Ｌ４が発生する。そこで異物検査装置１はこ
の回析光Ｌ４と散乱光Ｌ３の特徴の違いを利用し、散乱
光Ｌ３のみを反射光の中から区別して検出するようにな
されている。すなわち異物１１で反射された散乱光Ｌ３
はほぼ等方的にあらゆる方向に散乱光を発生するのに対
し、回路パターン１６で反射された回析光Ｌ４は指向性
があるという性質を利用する。
ら回路パターン１６が存在し、この回路パターン１６か
らも回析光Ｌ４が発生する。そこで異物検査装置１はこ
の回析光Ｌ４と散乱光Ｌ３の特徴の違いを利用し、散乱
光Ｌ３のみを反射光の中から区別して検出するようにな
されている。すなわち異物１１で反射された散乱光Ｌ３
はほぼ等方的にあらゆる方向に散乱光を発生するのに対
し、回路パターン１６で反射された回析光Ｌ４は指向性
があるという性質を利用する。
【０００６】異物検査装置１は２つの光電検出器の両方
ともあるレベル以上の光を受光したら異物１１からの散
乱光Ｌ３であると判別し、いずれか一方の光電検出器の
みがあるレベル以上の光を受光したのであれば回路パタ
ーン１６からの回析光Ｌ４であると判別することにより
レチクル２上にある異物１１だけを検出できようになさ
れている。このように異物１１の検出能力は異物とパタ
ーンとの弁別がどれだけできるかによる。
ともあるレベル以上の光を受光したら異物１１からの散
乱光Ｌ３であると判別し、いずれか一方の光電検出器の
みがあるレベル以上の光を受光したのであれば回路パタ
ーン１６からの回析光Ｌ４であると判別することにより
レチクル２上にある異物１１だけを検出できようになさ
れている。このように異物１１の検出能力は異物とパタ
ーンとの弁別がどれだけできるかによる。
【０００７】そこで実際の異物検査装置１では、なるべ
く回路パターン１６で反射された回析光Ｌ４が来ないよ
うに走査ビームＬ２の入射角（走査ビームＬ２とレチク
ル２の法線とのなす角）と、これを受光する光電検出器
１４、１５とを配置することが望ましい。具体的には入
射角を大きくし（すなわちレチクル２に対して走査ビー
ムＬ２がほとんど水平になるようにし）、さらに光電検
出器１４、１５を走査ビームＬ２が入射される側寄りに
斜めに配置することが好ましい。なぜならレチクル２の
回路パターン１６で発生される回析光Ｌ４は次数の低い
正反射側や透過側で強いため、入射角を大きくして後方
（入射側）から受光するようにすれば回析光Ｌ４のうち
高い次数のものしか受光されないからである。
く回路パターン１６で反射された回析光Ｌ４が来ないよ
うに走査ビームＬ２の入射角（走査ビームＬ２とレチク
ル２の法線とのなす角）と、これを受光する光電検出器
１４、１５とを配置することが望ましい。具体的には入
射角を大きくし（すなわちレチクル２に対して走査ビー
ムＬ２がほとんど水平になるようにし）、さらに光電検
出器１４、１５を走査ビームＬ２が入射される側寄りに
斜めに配置することが好ましい。なぜならレチクル２の
回路パターン１６で発生される回析光Ｌ４は次数の低い
正反射側や透過側で強いため、入射角を大きくして後方
（入射側）から受光するようにすれば回析光Ｌ４のうち
高い次数のものしか受光されないからである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところがこの構成の異
物検査装置１では、フレーム３Ｂの影になつて走査ビー
ムＬ２で照射できない領域２Ａやフレーム３Ｂが壁にな
つて反射光を遮るため反射光が光電検出器１４、１５に
到達し得ない領域２Ｂ及び２Ｃができるという問題があ
つた。さらにまた異物検査装置１では、走査ビームＬ２
がレチクル２の表面、裏面及び薄膜３Ａの表面で多重反
射してレチクル２の端面エツジやフレーム３Ｂに当たつ
て異物検出の障害となる光（以下、逆光という）を発生
し、検査不可となる領域２Ｄがフレーム３Ｂの内側近傍
に生じて検査領域を制限するという問題があつた。
物検査装置１では、フレーム３Ｂの影になつて走査ビー
ムＬ２で照射できない領域２Ａやフレーム３Ｂが壁にな
つて反射光を遮るため反射光が光電検出器１４、１５に
到達し得ない領域２Ｂ及び２Ｃができるという問題があ
つた。さらにまた異物検査装置１では、走査ビームＬ２
がレチクル２の表面、裏面及び薄膜３Ａの表面で多重反
射してレチクル２の端面エツジやフレーム３Ｂに当たつ
て異物検出の障害となる光（以下、逆光という）を発生
し、検査不可となる領域２Ｄがフレーム３Ｂの内側近傍
に生じて検査領域を制限するという問題があつた。
【０００９】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、可能な限り広い検査領域を確保し、かつ検査時間を
短縮することができる異物検査装置及び方法を提案しよ
うとするものである。
で、可能な限り広い検査領域を確保し、かつ検査時間を
短縮することができる異物検査装置及び方法を提案しよ
うとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、マスク表面のうち検査しようとす
る領域の２次元形状と、保護薄膜の存在による物理的な
制約により定まる実際に検査できる領域の２次元形状と
に基づいて、マスクを該マスクを含む平面内で回転さ
せ、マスクの光ビームの走査方向に対する相対的な位置
関係を変更する回転手段を設ける。これにより必要な検
査領域や保護薄膜の形状に応じた最適な位置でマスクを
異物検査でき、また検査時間を短縮できる。
め本発明においては、マスク表面のうち検査しようとす
る領域の２次元形状と、保護薄膜の存在による物理的な
制約により定まる実際に検査できる領域の２次元形状と
に基づいて、マスクを該マスクを含む平面内で回転さ
せ、マスクの光ビームの走査方向に対する相対的な位置
関係を変更する回転手段を設ける。これにより必要な検
査領域や保護薄膜の形状に応じた最適な位置でマスクを
異物検査でき、また検査時間を短縮できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
施例を詳述する。
【００１２】（１）異物検査方法 一般に、異物検査に要する検査時間は検査領域の移動方
向（図１０ではＹ方向）についての長さと駆動部５によ
るレチクル２の送り速度とによつて定まると考えること
ができる。従つて検査領域のＹ方向の長さが 100〔mm〕
であり、送り速度が 1〔mm/sec〕であるならば、検査時
間は 100〔mm〕÷ 1〔mm/sec〕＝ 100〔 sec〕になる。
このうち送り速度は光偏向走査器８の走査周期と走査ビ
ームＬ２のレチクル２上の光スポツト径とで定まり、光
スポツト径が小さければ小さいほど送り速度がゆつくり
になつてしまうので光スポツト径を大きくすることが検
査時間を短縮する上で有効である。
向（図１０ではＹ方向）についての長さと駆動部５によ
るレチクル２の送り速度とによつて定まると考えること
ができる。従つて検査領域のＹ方向の長さが 100〔mm〕
であり、送り速度が 1〔mm/sec〕であるならば、検査時
間は 100〔mm〕÷ 1〔mm/sec〕＝ 100〔 sec〕になる。
このうち送り速度は光偏向走査器８の走査周期と走査ビ
ームＬ２のレチクル２上の光スポツト径とで定まり、光
スポツト径が小さければ小さいほど送り速度がゆつくり
になつてしまうので光スポツト径を大きくすることが検
査時間を短縮する上で有効である。
【００１３】ところが光スポツト径は装置ごと固有値を
とるため、検査時間は走査周期に依存すると考えられ
る。しかしこの走査周期についても、レチクル２の検査
領域のうちＸ方向（走査ビームＬ２の走査方向）の幅が
小さければ走査周期も小さくなつて送り速度が速くなる
かというと、現実には限界があり検査時間の短縮ができ
なかつた。これは光偏向走査器８として用いられるガル
バノミラースキヤナーやポリゴンミラースキヤナーの偏
向角を小さくしても走査周期は大して短縮できないから
である。以上のことから、走査時間は検査領域のＸ方向
の幅でなくＹ方向の長さによつて左右され、Ｙ方向の長
さに比例することが分かる。すなわちＹ方向の長さが短
くなるような向きにレチクル２を回転して設置すれば検
査時間の短縮を実現することができる。
とるため、検査時間は走査周期に依存すると考えられ
る。しかしこの走査周期についても、レチクル２の検査
領域のうちＸ方向（走査ビームＬ２の走査方向）の幅が
小さければ走査周期も小さくなつて送り速度が速くなる
かというと、現実には限界があり検査時間の短縮ができ
なかつた。これは光偏向走査器８として用いられるガル
バノミラースキヤナーやポリゴンミラースキヤナーの偏
向角を小さくしても走査周期は大して短縮できないから
である。以上のことから、走査時間は検査領域のＸ方向
の幅でなくＹ方向の長さによつて左右され、Ｙ方向の長
さに比例することが分かる。すなわちＹ方向の長さが短
くなるような向きにレチクル２を回転して設置すれば検
査時間の短縮を実現することができる。
【００１４】図１にその様子を示す。ただし図１の図
中、Ｘ方向及びＹ方向はそれぞれ図１０に示すＸ方向及
びＹ方向に対応しているものとする。まず図１（Ａ）に
示すように長方形形状のフレーム３Ｂが装着されたレチ
クル２の検査領域ＡＲ１（図中斜線で示す）を検査した
い場合、図１（Ａ）に示すように検査領域ＡＲ１の長手
方向がＹ方向と平行になるように配置するよりも図１
（Ｂ）に示すように長手方向がＸ方向と平行になるよう
に配置する方が検査領域ＡＲ１のＹ方向の長さを短くで
きる。すなわち図１（Ｂ）に示すように配置すれば検査
時間を短縮することができる。
中、Ｘ方向及びＹ方向はそれぞれ図１０に示すＸ方向及
びＹ方向に対応しているものとする。まず図１（Ａ）に
示すように長方形形状のフレーム３Ｂが装着されたレチ
クル２の検査領域ＡＲ１（図中斜線で示す）を検査した
い場合、図１（Ａ）に示すように検査領域ＡＲ１の長手
方向がＹ方向と平行になるように配置するよりも図１
（Ｂ）に示すように長手方向がＸ方向と平行になるよう
に配置する方が検査領域ＡＲ１のＹ方向の長さを短くで
きる。すなわち図１（Ｂ）に示すように配置すれば検査
時間を短縮することができる。
【００１５】以上は検査時間を優先する場合におけるレ
チクル２の配置方法であるが、検査時間よりも検査でき
る検査領域の確保を優先したい場合には前述のような配
置は必ずしも得策と言えない。このような場合の例を図
２に示す。例えば図２（Ａ）に示すように、検査領域Ａ
Ｒ１が斜線で示す領域であるのに対して検査可能領域Ａ
Ｒ２が破線で囲まれた領域の場合、検査領域ＡＲ１のう
ち破線の外側にある領域ＡＲ１１及びＡＲ１２は検査で
きない領域となる。
チクル２の配置方法であるが、検査時間よりも検査でき
る検査領域の確保を優先したい場合には前述のような配
置は必ずしも得策と言えない。このような場合の例を図
２に示す。例えば図２（Ａ）に示すように、検査領域Ａ
Ｒ１が斜線で示す領域であるのに対して検査可能領域Ａ
Ｒ２が破線で囲まれた領域の場合、検査領域ＡＲ１のう
ち破線の外側にある領域ＡＲ１１及びＡＲ１２は検査で
きない領域となる。
【００１６】しかしながら図２（Ｂ）に示すようにレチ
クル２を90〔°〕回転させて向きを換えれば、破線で示
す検査可能領域ＡＲ２の内側に検査領域ＡＲ１を全て含
めることができている。この場合、図２（Ｂ）の配置は
図２（Ａ）の配置よりもＹ方向の検査領域ＡＲ１の長さ
が長くなるので検査時間は余分にかかることになるが、
検査領域ＡＲ１の全面についての検査が可能になつてい
る。このように検査時間を優先するのか、それとも検査
できる領域の確保を優先するのかによつて、そのレチク
ル２を配置すべき向きも異なるのであるが、いずれの配
置でも検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれな
い場合には次に説明する異物検査方法が必要になる。こ
の異物検査方法を図３〜図５を例に説明する。
クル２を90〔°〕回転させて向きを換えれば、破線で示
す検査可能領域ＡＲ２の内側に検査領域ＡＲ１を全て含
めることができている。この場合、図２（Ｂ）の配置は
図２（Ａ）の配置よりもＹ方向の検査領域ＡＲ１の長さ
が長くなるので検査時間は余分にかかることになるが、
検査領域ＡＲ１の全面についての検査が可能になつてい
る。このように検査時間を優先するのか、それとも検査
できる領域の確保を優先するのかによつて、そのレチク
ル２を配置すべき向きも異なるのであるが、いずれの配
置でも検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれな
い場合には次に説明する異物検査方法が必要になる。こ
の異物検査方法を図３〜図５を例に説明する。
【００１７】まず図３に示すようにレチクル２が配置さ
れた場合、検査したい領域である検査領域ＡＲ１はフレ
ーム３Ｂの内側からΔｘ＝６〔mm〕、Δｙ＝９〔mm〕の
ところに位置し、また検査可能領域ＡＲ２はフレーム３
Ｂの内側からΔＸ＝５〔mm〕、ΔＹ＝10〔mm〕のところ
に位置しているためＹ方向の各両端部分の幅 1〔mm〕
（＝ΔＹ−Δｙ）の領域部分は検査できない領域にな
る。この場合には図４に示すようにレチクル２を90
〔°〕回転させて配置することが考えられるが、この例
の場合には検査可能領域ＡＲ２に検査領域ＡＲ１を含め
ることはできない。
れた場合、検査したい領域である検査領域ＡＲ１はフレ
ーム３Ｂの内側からΔｘ＝６〔mm〕、Δｙ＝９〔mm〕の
ところに位置し、また検査可能領域ＡＲ２はフレーム３
Ｂの内側からΔＸ＝５〔mm〕、ΔＹ＝10〔mm〕のところ
に位置しているためＹ方向の各両端部分の幅 1〔mm〕
（＝ΔＹ−Δｙ）の領域部分は検査できない領域にな
る。この場合には図４に示すようにレチクル２を90
〔°〕回転させて配置することが考えられるが、この例
の場合には検査可能領域ＡＲ２に検査領域ＡＲ１を含め
ることはできない。
【００１８】そこで本願に係る異物検査方法では、図５
に示すように、レチクル２の各辺が走査ビームＬ２に対
して斜めになるようにレチクル２を時計回転方向に角度
θだけ回転させることにより検査領域ＡＲ１の全面が検
査可能領域ＡＲ２に含まれるようにする。この例の場
合、角度θはθ＝ tan-1（ΔＸ／ΔＹ）＝26.6〔°〕で
ある。このときフレーム３の内側から検査可能領域ＡＲ
２までの距離（ΔＸ´、ΔＹ′）はΔＸ′＝ΔＸ cosθ
＝4.47〔mm〕、ΔＹ′＝ΔＹ cosθ＝8.94〔mm〕とな
り、フレーム３の内側から検査領域ＡＲ１までの距離
（Δｘ、Δｙ）を与えるΔｘ＝６〔mm〕、Δｙ＝９〔m
m〕より小さな値となり、検査領域ＡＲ１が検査可能領
域ＡＲ２に含まれていることが分る
に示すように、レチクル２の各辺が走査ビームＬ２に対
して斜めになるようにレチクル２を時計回転方向に角度
θだけ回転させることにより検査領域ＡＲ１の全面が検
査可能領域ＡＲ２に含まれるようにする。この例の場
合、角度θはθ＝ tan-1（ΔＸ／ΔＹ）＝26.6〔°〕で
ある。このときフレーム３の内側から検査可能領域ＡＲ
２までの距離（ΔＸ´、ΔＹ′）はΔＸ′＝ΔＸ cosθ
＝4.47〔mm〕、ΔＹ′＝ΔＹ cosθ＝8.94〔mm〕とな
り、フレーム３の内側から検査領域ＡＲ１までの距離
（Δｘ、Δｙ）を与えるΔｘ＝６〔mm〕、Δｙ＝９〔m
m〕より小さな値となり、検査領域ＡＲ１が検査可能領
域ＡＲ２に含まれていることが分る
【００１９】ただし検査時間は図５におけるＹ方向の長
さＬで定まるため、検査領域ＡＲ１の幅をＸ、Ｙとする
と、検査時間は長さＬ＝Ｘ sinθ＋Ｙ cosθ＝0.45Ｘ＋
0.89Ｙを走査周期で割つた時間分だけかかることにな
る。このとき長さＬは検査領域ＡＲ１の短辺より長く長
辺より短いため、その検査時間は短辺をＹ方向になるよ
うに配置した場合よりも時間がかかり、長辺をＸ方向に
なるように配置した場合よりも短時間で済む。なおΔＸ
及びΔＹは走査ビームＬ２の入射角や光電検出器８の配
置等によつて決まる異物検査装置に固有の値である。
さＬで定まるため、検査領域ＡＲ１の幅をＸ、Ｙとする
と、検査時間は長さＬ＝Ｘ sinθ＋Ｙ cosθ＝0.45Ｘ＋
0.89Ｙを走査周期で割つた時間分だけかかることにな
る。このとき長さＬは検査領域ＡＲ１の短辺より長く長
辺より短いため、その検査時間は短辺をＹ方向になるよ
うに配置した場合よりも時間がかかり、長辺をＸ方向に
なるように配置した場合よりも短時間で済む。なおΔＸ
及びΔＹは走査ビームＬ２の入射角や光電検出器８の配
置等によつて決まる異物検査装置に固有の値である。
【００２０】（２）第１の実施例 図１０との対応部分に同一符号を付して示す図６に、異
物検査装置２１の全体構成を示す。この異物検査装置２
１には、前項で説明したように、レチクル２をＸＹ平面
内で角度θだけ回転させてその向きを変えるための回転
機構が備えられている。すなわち異物検査装置２１は、
レチクル２を載置したままの状態でＸＹ平面内で回転さ
せる回転テーブル２２と、この回転テーブル２２を駆動
する駆動部２３とによつて構成される。
物検査装置２１の全体構成を示す。この異物検査装置２
１には、前項で説明したように、レチクル２をＸＹ平面
内で角度θだけ回転させてその向きを変えるための回転
機構が備えられている。すなわち異物検査装置２１は、
レチクル２を載置したままの状態でＸＹ平面内で回転さ
せる回転テーブル２２と、この回転テーブル２２を駆動
する駆動部２３とによつて構成される。
【００２１】ここで円盤状の回転テーブル２２と駆動部
２３とはそれぞれＹ方向に移動可能な平板状の載置台４
上に載置されており、それぞれ駆動部２３の軸２３Ａに
形成されたねじ山とねじ溝との噛み合わせによつて連結
されるようになされている。因にねじ溝は回転テーブル
２２の円周に沿つて形成されており、軸２３Ａの回転量
に応じた移動量だけねじ溝が軸方向に送られることによ
り回転テーブル２２を回転させる駆動力を作用できるよ
うになされている。なお回転テーブル２２の回転量及び
該回転量に見合つた軸２３Ａの回転数は回転量決定装置
２４において算出されるものとする。
２３とはそれぞれＹ方向に移動可能な平板状の載置台４
上に載置されており、それぞれ駆動部２３の軸２３Ａに
形成されたねじ山とねじ溝との噛み合わせによつて連結
されるようになされている。因にねじ溝は回転テーブル
２２の円周に沿つて形成されており、軸２３Ａの回転量
に応じた移動量だけねじ溝が軸方向に送られることによ
り回転テーブル２２を回転させる駆動力を作用できるよ
うになされている。なお回転テーブル２２の回転量及び
該回転量に見合つた軸２３Ａの回転数は回転量決定装置
２４において算出されるものとする。
【００２２】以上の構成において、異物検査装置２１は
次の手順で異物検査を実行する。まず異物検査装置２１
は異物検査の実行に先だつて異物検査に最適なレチクル
２の配置を決定する処理を開始する。このとき異物検査
装置２１は検査領域ＡＲ１の全面を検査できる配置を優
先的に探し、全面を検査できる位置が分かつた場合には
少しでも検査時間を短縮できる向きを探す。
次の手順で異物検査を実行する。まず異物検査装置２１
は異物検査の実行に先だつて異物検査に最適なレチクル
２の配置を決定する処理を開始する。このとき異物検査
装置２１は検査領域ＡＲ１の全面を検査できる配置を優
先的に探し、全面を検査できる位置が分かつた場合には
少しでも検査時間を短縮できる向きを探す。
【００２３】このとき異物検査装置２１は回転量決定装
置２４を用いる。回転量決定装置２４は入力装置２５か
ら入力される諸条件（すなわちフレーム３Ｂの寸法、走
査ビームＬ２の入射角、光電検出器１４、１５の配置
等）に基づいて回転角が 0〔°〕の場合における検査可
能領域ＡＲ２のフレーム内壁からの距離（ΔＸ、ΔＹ）
を求め、さらに検査領域ＡＲ１のフレーム内壁からの距
離（Δｘ、Δｙ）を入力装置２５から入力して保持す
る。
置２４を用いる。回転量決定装置２４は入力装置２５か
ら入力される諸条件（すなわちフレーム３Ｂの寸法、走
査ビームＬ２の入射角、光電検出器１４、１５の配置
等）に基づいて回転角が 0〔°〕の場合における検査可
能領域ＡＲ２のフレーム内壁からの距離（ΔＸ、ΔＹ）
を求め、さらに検査領域ＡＲ１のフレーム内壁からの距
離（Δｘ、Δｙ）を入力装置２５から入力して保持す
る。
【００２４】このように初期条件の設定作業が終了する
と、回転量決定装置２４は図７に示す手順に従い回転テ
ーブル２２の回転量を決定する作業に移る。回転量決定
装置２４はステツプＳＰ２において検査領域ＡＲ１を与
えるフレーム内側からの距離（Δｘ、Δｙ）と検査可能
領域ＡＲ２を与えるフレーム内側からの距離（ΔＸ、Δ
Ｙ）とを比較する。このときＸ方向の距離及びＹ方向の
距離のいずれについても検査領域ＡＲ１の値の方が大き
い場合には、現時点でのレチクル２の向きで検査領域Ａ
Ｒ１の全体が検査可能領域ＡＲ２に含まれると判定し、
肯定結果を得てステツプＳＰ３に進む。
と、回転量決定装置２４は図７に示す手順に従い回転テ
ーブル２２の回転量を決定する作業に移る。回転量決定
装置２４はステツプＳＰ２において検査領域ＡＲ１を与
えるフレーム内側からの距離（Δｘ、Δｙ）と検査可能
領域ＡＲ２を与えるフレーム内側からの距離（ΔＸ、Δ
Ｙ）とを比較する。このときＸ方向の距離及びＹ方向の
距離のいずれについても検査領域ＡＲ１の値の方が大き
い場合には、現時点でのレチクル２の向きで検査領域Ａ
Ｒ１の全体が検査可能領域ＡＲ２に含まれると判定し、
肯定結果を得てステツプＳＰ３に進む。
【００２５】このステツプＳＰ３は所望の検査領域ＡＲ
１の全面を検査できるという条件の下で検査時間が少し
でも短くなる方向を確定するために必要な判定ステツプ
である。すなわち回転量決定装置２４はΔｘとΔＹ、Δ
ｙとΔＸとを比較する。このときΔｘ及びΔｙがΔＸ及
びΔＹに対して大きい値となる場合には、レチクル２を
90〔°〕回転させても検査領域ＡＲ１が検査可能領域Ａ
Ｒ２に含まれると判定されるため、肯定結果を得てステ
ツプＳＰ４に進む。
１の全面を検査できるという条件の下で検査時間が少し
でも短くなる方向を確定するために必要な判定ステツプ
である。すなわち回転量決定装置２４はΔｘとΔＹ、Δ
ｙとΔＸとを比較する。このときΔｘ及びΔｙがΔＸ及
びΔＹに対して大きい値となる場合には、レチクル２を
90〔°〕回転させても検査領域ＡＲ１が検査可能領域Ａ
Ｒ２に含まれると判定されるため、肯定結果を得てステ
ツプＳＰ４に進む。
【００２６】このように回転角が 0〔°〕であつても90
〔°〕であつても検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２
に含まれることが分かると、回転量決定装置２４は当該
ステツプＳＰ４において、検査領域ＡＲ１の２辺Ｘ及び
Ｙのうち短辺を判別し、短辺がレチクル２の駆動方向
（すなわちＹ方向）になるように設定して当該処理を終
了する。一方、ステツプＳＰ３において否定結果が得ら
れた場合には、レチクル２を現在の向きから90〔°〕回
転させると検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２からは
み出すことが分かるので、回路決定装置２４は当該ステ
ツプＳＰ６においてレチクル２のあるべきは位置は 0
〔°〕であると設定する。
〔°〕であつても検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２
に含まれることが分かると、回転量決定装置２４は当該
ステツプＳＰ４において、検査領域ＡＲ１の２辺Ｘ及び
Ｙのうち短辺を判別し、短辺がレチクル２の駆動方向
（すなわちＹ方向）になるように設定して当該処理を終
了する。一方、ステツプＳＰ３において否定結果が得ら
れた場合には、レチクル２を現在の向きから90〔°〕回
転させると検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２からは
み出すことが分かるので、回路決定装置２４は当該ステ
ツプＳＰ６においてレチクル２のあるべきは位置は 0
〔°〕であると設定する。
【００２７】これに対して、ステツプＳＰ２において否
定結果が得られ、現在の向き（すなわち 0〔°〕）では
検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれていない
ことが分かつた場合には、回転量決定装置２４はステツ
プＳＰ７に移つてレチクル２の向きを90〔°〕回転させ
た場合に検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれ
ることになるか否かの判定処理に移る。このとき肯定結
果が得られた場合には、レチクル２を90〔°〕回転させ
れば検査領域ＡＲ１を検査可能領域ＡＲ２に含めること
ができるのでステツプＳＰ８でこの向きをレチクル２の
向きとして設定する。
定結果が得られ、現在の向き（すなわち 0〔°〕）では
検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれていない
ことが分かつた場合には、回転量決定装置２４はステツ
プＳＰ７に移つてレチクル２の向きを90〔°〕回転させ
た場合に検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれ
ることになるか否かの判定処理に移る。このとき肯定結
果が得られた場合には、レチクル２を90〔°〕回転させ
れば検査領域ＡＲ１を検査可能領域ＡＲ２に含めること
ができるのでステツプＳＰ８でこの向きをレチクル２の
向きとして設定する。
【００２８】ところがステツプＳＰ７においても否定結
果が得られ、長方形状の検査領域ＡＲ１の回転角度を 0
〔°〕としても90〔°〕としても検査領域ＡＲ１を検査
可能領域ＡＲ２に含めることができないことが分かつた
場合には、回転量決定装置２４は検査可能領域ＡＲ２を
広げて検査領域ＡＲ１の全部又はほとんどが含まれるよ
うにするためステツプＳＰ９においてレチクル２を回転
させる角度θを tan-1（ΔＸ／ΔＹ）に設定する。
果が得られ、長方形状の検査領域ＡＲ１の回転角度を 0
〔°〕としても90〔°〕としても検査領域ＡＲ１を検査
可能領域ＡＲ２に含めることができないことが分かつた
場合には、回転量決定装置２４は検査可能領域ＡＲ２を
広げて検査領域ＡＲ１の全部又はほとんどが含まれるよ
うにするためステツプＳＰ９においてレチクル２を回転
させる角度θを tan-1（ΔＸ／ΔＹ）に設定する。
【００２９】このようにレチクル２の向きが決定される
と、回転量決定装置２４は駆動部２３に駆動信号を与え
て軸２３Ａを駆動し、レチクル２の向きが決定された角
度θになるように回転テーブル２２を回転させて回転テ
ーブル２２の位置決め作業を終了する。かかる後、異物
検査装置２１は走査ビームＬ２でレチクル２の表面を走
査させながら駆動部５によつて載置台４をＹ方向に駆動
し、必要な検査領域ＡＲ１の検査を実行する。
と、回転量決定装置２４は駆動部２３に駆動信号を与え
て軸２３Ａを駆動し、レチクル２の向きが決定された角
度θになるように回転テーブル２２を回転させて回転テ
ーブル２２の位置決め作業を終了する。かかる後、異物
検査装置２１は走査ビームＬ２でレチクル２の表面を走
査させながら駆動部５によつて載置台４をＹ方向に駆動
し、必要な検査領域ＡＲ１の検査を実行する。
【００３０】以上の構成によれば、レチクル２をＸＹ平
面内で自由に回転できる回転テーブル２２上に載置した
ことにより、ペリクル３のフレーム３Ｂや各種光学系の
配置の関係から回転テーブル２２に載置された直後の向
きではレチクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ
２に含まれないような場合でも向きを変えて検査可能領
域ＡＲ２に含めるようにできる。これにより検査範囲の
広い異物検査装置を実現することができる。またレチク
ル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれて
いる場合にはより検査時間が短くて済むようにレチクル
２の向きを変更できる。
面内で自由に回転できる回転テーブル２２上に載置した
ことにより、ペリクル３のフレーム３Ｂや各種光学系の
配置の関係から回転テーブル２２に載置された直後の向
きではレチクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ
２に含まれないような場合でも向きを変えて検査可能領
域ＡＲ２に含めるようにできる。これにより検査範囲の
広い異物検査装置を実現することができる。またレチク
ル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含まれて
いる場合にはより検査時間が短くて済むようにレチクル
２の向きを変更できる。
【００３１】（３）第２の実施例 図６との対応部分に同一符号を付して示す図８に本発明
に係る異物検査装置の第２実施例を示す。この図８に示
す異物検査装置３１は図６に示した異物検査装置２１と
はレチクル２を回転させる回転手段の機構が異なること
を除いて同様の構成を有している。
に係る異物検査装置の第２実施例を示す。この図８に示
す異物検査装置３１は図６に示した異物検査装置２１と
はレチクル２を回転させる回転手段の機構が異なること
を除いて同様の構成を有している。
【００３２】すなわちこの異物検査装置３１は、レチク
ル２を載置する載置台４の上面にレチクル２を回転させ
る回転手段を搭載するのではなく、載物台４ごとレチク
ル２を回転させるようになされている。このため載置台
４の根本部分に軸を固定し、当該軸を駆動部３２で駆動
することにより載置台４をＸＹ平面内で回動できるよう
になされている。なお駆動部３２はＸ方向駆動部３３に
取付られており、またＸ方向駆動部３３はＹ方向駆動部
３４に取り付けられている。従つてこの異物検査装置３
１はレチクル２をＸ方向及びＹ方向にそれぞれ平行移動
でき、ＸＹ平面内で回転移動できるようになされてい
る。これ以外は第１の実施例の場合と同様に動作する。
ル２を載置する載置台４の上面にレチクル２を回転させ
る回転手段を搭載するのではなく、載物台４ごとレチク
ル２を回転させるようになされている。このため載置台
４の根本部分に軸を固定し、当該軸を駆動部３２で駆動
することにより載置台４をＸＹ平面内で回動できるよう
になされている。なお駆動部３２はＸ方向駆動部３３に
取付られており、またＸ方向駆動部３３はＹ方向駆動部
３４に取り付けられている。従つてこの異物検査装置３
１はレチクル２をＸ方向及びＹ方向にそれぞれ平行移動
でき、ＸＹ平面内で回転移動できるようになされてい
る。これ以外は第１の実施例の場合と同様に動作する。
【００３３】以上の構成によれば、レチクル２を２又形
状の載置台４に載置したままＸＹ平面での平行移動及び
回転移動ができることにより、搬送系との間でレチクル
２を受け渡しする他、ペリクル３のフレーム３Ｂや各種
光学系の配置の関係から回転テーブル２２に載置された
直後の向きではレチクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能
領域ＡＲ２に含まれないような場合でも確実に検査可能
領域ＡＲ２に含めるようにできるように向きを変えるこ
とができる。これにより検査範囲の広い異物検査装置を
実現することができる。またレチクル２の検査領域ＡＲ
１が検査可能領域ＡＲ２に含まれている場合にはより検
査時間が短くて済むようにレチクル２の向きを変更でき
る。
状の載置台４に載置したままＸＹ平面での平行移動及び
回転移動ができることにより、搬送系との間でレチクル
２を受け渡しする他、ペリクル３のフレーム３Ｂや各種
光学系の配置の関係から回転テーブル２２に載置された
直後の向きではレチクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能
領域ＡＲ２に含まれないような場合でも確実に検査可能
領域ＡＲ２に含めるようにできるように向きを変えるこ
とができる。これにより検査範囲の広い異物検査装置を
実現することができる。またレチクル２の検査領域ＡＲ
１が検査可能領域ＡＲ２に含まれている場合にはより検
査時間が短くて済むようにレチクル２の向きを変更でき
る。
【００３４】（４）第３の実施例 図６との対応部分に同一符号を付して示す図９に本発明
に係る異物検査装置の第３実施例を示す。この図９に示
す異物検査装置４１は図６に示した異物検査装置２１と
はレチクル２をＹ方向に平行移動させる載置台４とＸＹ
平面内で回転させる回転手段が別々に構成されているこ
とを特徴とする。
に係る異物検査装置の第３実施例を示す。この図９に示
す異物検査装置４１は図６に示した異物検査装置２１と
はレチクル２をＹ方向に平行移動させる載置台４とＸＹ
平面内で回転させる回転手段が別々に構成されているこ
とを特徴とする。
【００３５】すなわちこの異物検査装置４１は、レチク
ル２を載置する載置台４Ａ、４ＢとしてはＹ方向への移
動機能のみであり、ＸＹ平面内の回転は載置台４Ａ、４
ＢのＺ方向上方に設けられている回転部４２が分担す
る。回転部４２は不図示の駆動部によりＺ方向に移動し
得るようになされ、その下面に取り付けられている爪４
２Ａによつてレチクル２を持ち上げた後、駆動部４３で
レチクル２の向きを変えるようになされている。なお回
転によつて向きの変更が終了した後、回転部４２は付図
示の駆動部により再び下降され、載置台４Ａ、４Ｂ上に
レチクル２を載置するという動作を繰り返すようになさ
れている。これ以外は第１の実施例の場合と同様に動作
する。
ル２を載置する載置台４Ａ、４ＢとしてはＹ方向への移
動機能のみであり、ＸＹ平面内の回転は載置台４Ａ、４
ＢのＺ方向上方に設けられている回転部４２が分担す
る。回転部４２は不図示の駆動部によりＺ方向に移動し
得るようになされ、その下面に取り付けられている爪４
２Ａによつてレチクル２を持ち上げた後、駆動部４３で
レチクル２の向きを変えるようになされている。なお回
転によつて向きの変更が終了した後、回転部４２は付図
示の駆動部により再び下降され、載置台４Ａ、４Ｂ上に
レチクル２を載置するという動作を繰り返すようになさ
れている。これ以外は第１の実施例の場合と同様に動作
する。
【００３６】以上の構成によれば、回転部４２を用いて
レチクル２をＸＹ平面で回転移動させることができるこ
とにより、ペリクル３のフレーム３Ｂや各種光学系の配
置の関係から回転テーブル４Ａ、４Ｂに載置された直後
の向きではレチクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域
ＡＲ２に含まれないような場合でも向きを変えて検査可
能領域ＡＲ２に含めるようにできる。これにより検査範
囲の広い異物検査装置を実現することができる。またレ
チクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含ま
れている場合にはより検査時間が短くて済むようにレチ
クル２の向きを変更できる。
レチクル２をＸＹ平面で回転移動させることができるこ
とにより、ペリクル３のフレーム３Ｂや各種光学系の配
置の関係から回転テーブル４Ａ、４Ｂに載置された直後
の向きではレチクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域
ＡＲ２に含まれないような場合でも向きを変えて検査可
能領域ＡＲ２に含めるようにできる。これにより検査範
囲の広い異物検査装置を実現することができる。またレ
チクル２の検査領域ＡＲ１が検査可能領域ＡＲ２に含ま
れている場合にはより検査時間が短くて済むようにレチ
クル２の向きを変更できる。
【００３７】（５）他の実施例 なお上述の実施例においては、回転テーブル２２として
円盤形状のものを用いる場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、楕円形等その形状は円形に限らない。
また上述の実施例においては、回転部４２を載置台４
Ａ、４Ｂ上に載置されたレチクル２の向きを変えるだけ
に用いる場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、レチクルストツク部との間でレチクル２を搬送する
搬送手段と兼用する場合についても適用し得る。
円盤形状のものを用いる場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、楕円形等その形状は円形に限らない。
また上述の実施例においては、回転部４２を載置台４
Ａ、４Ｂ上に載置されたレチクル２の向きを変えるだけ
に用いる場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、レチクルストツク部との間でレチクル２を搬送する
搬送手段と兼用する場合についても適用し得る。
【００３８】すなわち回転部４２は、回転機能以外に、
載物台４Ａ、４Ｂ上への受けわたしのためのＺ方向駆動
機構、及び不図示のレチクルストツク部からのレチクル
取り出しのための、Ｘ又はＹ方向駆動機構を兼ねる。こ
れにより回転部４２は、レチクルストツク部からレチク
ルを取り出した後、レチクル向き決定処理手順に従い、
レチクルを所定の向きにむけて、載物台に載せる。異物
検査実行後は、回転部４２は今と逆の動作を行つて、レ
チクルを前記レチクルストツク部へ戻す。もちろん前記
Ｘ又はＹ方向駆動機構は、別に独立させた搬送機構とし
ても良いことは言うまでもない。
載物台４Ａ、４Ｂ上への受けわたしのためのＺ方向駆動
機構、及び不図示のレチクルストツク部からのレチクル
取り出しのための、Ｘ又はＹ方向駆動機構を兼ねる。こ
れにより回転部４２は、レチクルストツク部からレチク
ルを取り出した後、レチクル向き決定処理手順に従い、
レチクルを所定の向きにむけて、載物台に載せる。異物
検査実行後は、回転部４２は今と逆の動作を行つて、レ
チクルを前記レチクルストツク部へ戻す。もちろん前記
Ｘ又はＹ方向駆動機構は、別に独立させた搬送機構とし
ても良いことは言うまでもない。
【００３９】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、マスクを
該マスクを含む平面内で回転させ、マスクの光ビームの
走査方向に対する相対的な位置関係を変更する回転手段
を設けたことにより、必要な検査領域や保護薄膜の形状
に応じた最適な位置でマスクを異物検査でき、また検査
時間をより短縮できる異物検査装置を得ることができ
る。
該マスクを含む平面内で回転させ、マスクの光ビームの
走査方向に対する相対的な位置関係を変更する回転手段
を設けたことにより、必要な検査領域や保護薄膜の形状
に応じた最適な位置でマスクを異物検査でき、また検査
時間をより短縮できる異物検査装置を得ることができ
る。
【図１】検査時間の短縮を実現するマスクの配置の説明
に供する略線図である。
に供する略線図である。
【図２】検査領域と検査可能領域の関係を示す略線図で
ある。
ある。
【図３】検査領域が検査可能領域に含まれない場合の例
を示す略線図である。
を示す略線図である。
【図４】検査領域が検査可能領域に含まれない場合の例
を示す略線図である。
を示す略線図である。
【図５】本発明による異物検査方法の原理を示す略線図
である。
である。
【図６】本発明による異物検査装置の一実施例を示す略
線図である。
線図である。
【図７】本発明による異物検査方法の説明に供するフロ
ーチヤートである。
ーチヤートである。
【図８】本発明による異物検査装置の一実施例を示す略
線図である。
線図である。
【図９】本発明による異物検査装置の一実施例を示す略
線図である。
線図である。
【図１０】従来用いられている異物検査装置の構成を示
す斜視図である。
す斜視図である。
１、２１、３１、４１……異物検査装置、２……レチク
ル、３……ペリクル、３Ａ……薄膜、３Ｂ……フレー
ム、４……載置台、５……駆動部、６……測長器、７…
…光源、８……光偏向走査器、９……走査レンズ、１０
……走査線、１１……異物、１２、１３……受光レン
ズ、１４、１５……光電検出器、１６……回路パター
ン、２２……回転テーブル、２３、３２、４３……駆動
部、２４……回転量決定装置、２５……入力装置、３３
……Ｘ方向駆動部、３４……Ｙ方向駆動部、４２……回
転部。
ル、３……ペリクル、３Ａ……薄膜、３Ｂ……フレー
ム、４……載置台、５……駆動部、６……測長器、７…
…光源、８……光偏向走査器、９……走査レンズ、１０
……走査線、１１……異物、１２、１３……受光レン
ズ、１４、１５……光電検出器、１６……回路パター
ン、２２……回転テーブル、２３、３２、４３……駆動
部、２４……回転量決定装置、２５……入力装置、３３
……Ｘ方向駆動部、３４……Ｙ方向駆動部、４２……回
転部。
Claims (6)
- 【請求項１】マスク表面に異物が付着しないよう保護薄
膜が装着されてなる前記マスク表面を光ビームで走査す
ることにより前記マスクの表面状態を光学的に検査する
ようになされた異物検査装置において、 前記マスクを載置する載置台と、 前記マスク表面のうち検査しようとする領域の２次元形
状と、前記保護薄膜の存在による物理的な制約により定
まる実際に検査できる領域の２次元形状とに基づいて、
前記マスクを該マスクを含む平面内で回転させ、前記マ
スクの前記光ビームの走査方向に対する相対的な位置関
係を変更する回転手段と、 前記検査時、前記マスク及び前記載置台を前記光ビーム
の走査方向に対して所定方向に相対移動させる移動手段
とを具えることを特徴とする異物検査装置。 - 【請求項２】前記回転手段は、前記載置台上に前記マス
クを載置したままの状態で前記載置台を回転移動させ、
前記マスクの前記光ビームの走査方向に対する相対的な
位置関係を変更することを特徴とする請求項１に記載の
異物検査装置。 - 【請求項３】前記回転手段は、前記マスクのみを前記載
置台に対して独立に回転移動させ、前記マスクの前記光
ビームの走査方向に対する相対的な位置関係を変更する
ことを特徴とする請求項１に記載の異物検査装置。 - 【請求項４】前記回転手段は、矩形形状でなる前記保護
薄膜の直交する２辺のうち１辺が前記光ビームの走査方
向に対して平行となる状態から斜めになるように回転移
動させることを特徴とする請求項１に記載の異物検査装
置。 - 【請求項５】マスク表面に異物が付着しないよう保護薄
膜が装着されてなる前記マスク表面を光ビームで走査す
ることにより、前記マスクの表面状態を光学的に検査す
る異物検査方法において、 前記マスク表面のうち検査しようとする領域の２次元形
状と、前記保護薄膜の存在による物理的な制約により定
まる実際に検査できる領域の２次元形状とに基づく判別
処理により、矩形形状でなる前記保護薄膜の直交する２
辺のうちいずれか一方の１辺を前記光ビームの走査方向
と平行になるようにしても前記検査しようとする領域が
前記実際に検査できる領域に含まれないことが判別され
た場合、 前記検査しようとする領域の２次元形状と前記実際に検
査できる領域の２次元形状に応じて一意に定まる所定角
転量だけ、前記マスクを該マスクを含む平面内で回転さ
せ、前記マスクの前記光ビームの走査方向に対する相対
的な位置関係を変更しその後、前記マスクを前記光ビー
ムの走査方向に対して所定方向に相対移動させて前記マ
スク表面を光学的に検査することを特徴とする異物検査
方法。 - 【請求項６】前記マスク表面のうち検査しようとする領
域の２次元形状と、前記保護薄膜の存在による物理的な
制約により定まる実際に検査できる領域の２次元形状と
に基づく判別処理により、矩形形状でなる前記保護薄膜
の直交する２辺のうちいずれか一方の１辺を前記光ビー
ムの走査方向と平行になるようにしても前記検査しよう
とする領域が前記実際に検査できる領域に含めることが
できると判別された場合、 前記２辺のうち長さの短い方の一辺が前記走査方向に対
して直交する方向になるように前記マスクの位置決めし
た後、 前記マスクを前記光ビームの走査方向に対して所定方向
に相対移動させて前記マスク表面を光学的に検査するこ
とを特徴とする請求項５に記載の異物検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8045408A JPH09210916A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 異物検査装置及び異物検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8045408A JPH09210916A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 異物検査装置及び異物検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09210916A true JPH09210916A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=12718437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8045408A Pending JPH09210916A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | 異物検査装置及び異物検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09210916A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013228214A (ja) * | 2012-04-24 | 2013-11-07 | Atel Corp | マクロ観察装置 |
-
1996
- 1996-02-06 JP JP8045408A patent/JPH09210916A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013228214A (ja) * | 2012-04-24 | 2013-11-07 | Atel Corp | マクロ観察装置 |
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