JPH09211437A - 液晶表示素子及びその製造方法と製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パネル内に気泡の無い均一表示が可能な高分
子分散型液晶表示素子の製造方法を提供する。 【解決手段】 １対の基板１、２の内、一方の基板上２
に対して、高分子分散型液晶材料７を滴下し、基板１、
２を貼り合わせ、両基板１、２を押圧しながら、光照射
する際、その滴下位置を対向基板１の端に相当する付近
に行い、前記滴下位置に対向基板１の端を接しさせ、そ
の後徐々に対向基板１を基板１、２同士が接している箇
所を中心に倒して行き、両基板１、２を貼り合わせる。
その後、両基板１、２を押圧しながら、光照射して、素
子を得るものである。これによって、パネル内に気泡の
無い、均一表示が可能な素子パネルを得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイ、光
シャッター、プロジェクションテレビ等に利用される高
分子分散型液晶表示素子等に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶素子の中でも、配向処理を要さない
ため製造が容易なこと、そして、偏光板を要さないため
明るい表示が可能なことを利点とする、高分子・液晶複
合体を使った高分子分散型液晶素子が近年、ディスプレ
イとして着目されて来ている。

【０００３】一般に、高分子分散型液晶素子とは液晶を
高分子材料組成物からなるマトリックス中に分散保持さ
れた液晶高分子複合体を一対の電極付基板間に挟み込ん
だものであり、液晶の常光屈折率と高分子マトリックス
の屈折率がほぼ一致するように構成されたものである。
すなわち、電圧無印加の状態で液晶は、前記高分子マト
リックスとの界面付近で、界面に対して略平行に配向し
ている。この状態で基板に垂直な光が入射すると、高分
子マトリックスの屈折率と液晶の屈折率とが異なった状
態となるため、界面にて光が散乱する。基板間に電圧を
印加すると、正の誘電異方性を有すネマティック液晶の
場合、液晶分子が電極面に対して略垂直に整列し、入射
光に対し、高分子マトリックスの屈折率と液晶の常光屈
折率とがほぼ一致することとなるため、光が散乱される
ことなく透過する状態となる。上記性質を利用して光シ
ャッター機能が可能となっている。

【０００４】しかしながら、偏光板を用いないため、ｏ
ｎ-ｏｆｆ時のコントラストが従来の偏光板を用いる表
示モ−ドに比べ、劣りがちである。尚、ここで定義する
コントラストとは電界がｏｎの時に受光部に到達する光
量とｏｆｆ時に受光部に到達する光量との比を示してお
りコントラストが高いほど良好な画質が得られる。

【０００５】ところで高分子分散型液晶を用いた表示モ
−ドは、前記のように電界の有無で散乱−透過をスイッ
チングするもので、電圧無印加状態では完全に光が散乱
し、受光部に最小の透過光が到達するようになるのが理
想である。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、現実に
は理想よりも多くの光が散乱されずに透過してしまって
いる。そこで、電圧無印加状態の散乱性能を向上させる
ことが、このモ−ドの性能向上につながり、高コントラ
ストの鮮明な表示を可能にすることになる。

【０００７】この様な素子に、気泡などが混入した場
合、表示品位落とし、気泡からの光抜け等からコントラ
ストを低下させてしまう。

【０００８】また、一般に、高分子分散型液晶材料中の
モノマーが揮発し易い材料であるため、減圧することが
困難で、圧力変動を利用する注入法では、高分子分散型
液晶材料組成物をパネル内に注入することが難しい。毛
細管現象を利用した注入口から排出口に組成物をパネル
内をつたらせて注入する方法があるが、注入に時間がか
かってしまうことや、時間がかかってしまうことで、ム
ラ発生の原因となってしまう。

【０００９】本発明は、これら従来の液晶表示素子の課
題を考慮し、気泡の混入無く、短時間に容易にムラのな
い表示均一な高分子分散型液晶表示素子を製造できる製
造方法、製造装置及びそのような液晶表示素子の提供を
目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、基本的に以下
の特徴を有する。

【００１１】一対の電極付基板において、一方の基板の
電極形成面上の両基板が重なり合う部分の端部に相当す
る付近に、少なくとも液晶材料と高分子樹脂材料を含む
組成物を滴下し、前記滴下位置側に、他方の基板の組成
物滴下位置に対応する部の基板端を前記組成物が滴下さ
れている基板と接しさせ徐々に前記他方の基板を基板同
士が接している箇所を中心に倒して行き、両基板と重ね
合わせ、その後、両基板を押圧しながら、光照射するこ
とによって得られることを特徴とする。

【００１２】一方の基板電極形成面上に、固着固定され
たスペーサが設けられることを特徴とする。

【００１３】スペーサ表面に、熱硬化性樹脂が設けら
れ、加熱することによって、スペーサを固着することを
特徴とする。

【００１４】スペーサが一部くぼみを有し、基板上で前
記スペーサを押さえることで、前記基板上にスペーサが
吸着し、固定される手段を有すことを特徴とする。

【００１５】素子基板間に、スペーサを設けずに、押圧
圧力調整で基板間間隔厚みを制御することを特徴とす
る。

【００１６】素子基板間にスペーサを有さないことを特
徴とする。

【００１７】倒して行く基板を基板同士が接している部
分より、ローラーで、押さえ貼り合わせて行く手段を有
すことを特徴とする。

【００１８】一方の基板の表示部外の一対の基板が重な
る部の基板端部に、樹脂シールを形成することを特徴と
する。

【００１９】素子パネル内に、樹脂シールが途切れた部
分を有して形成されていることを特徴とする。

【００２０】パネル内にシール部を設けず、基板重ね合
わせ後、表示部外基板重ね合い外縁部に光重合性樹脂が
両基板に付くように塗布され、滴下材料中の高分子樹脂
材料の重合と同時に前記光重合性樹脂重合が行われるこ
とを特徴とする。

【００２１】パネル内にシール部が無く、表示部外パネ
ル基板重ね合い外縁部に樹脂が形成されていることを特
徴とする。

【００２２】倒す基板を倒される側に基板を歪ましなが
ら倒すことを特徴とする。

【００２３】基板上に組成物滴下後、一定温度におい
て、一定時間放置の後、基板重ね合わせを行うことを特
徴とする。

【００２４】光透過性槽又は紫外線透過性水槽による温
度制御手段、外部ポンプで前記槽に対して液体もしくは
気体を循環させる手段、紫外線照射手段、素子パネルを
押圧する手段を備えていることを特徴とする。

【００２５】光透過性槽又は紫外線透過性水槽による温
度制御手段及び光照射手段が素子パネルとなる上下基
板、それぞれに対して設けられ、すくなくとも一方の前
記槽を動かすことで基板貼り合わせを行うことを特徴と
する。

【００２６】一方の光透過性槽又は紫外線透過性水槽を
傾斜させることで、上下基板が平行にでなく、端から貼
り合わせられることを特徴とする。

【００２７】光照射側と反対側基板裏面に光反射手段が
設けられていることを特徴とする。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例につ
いて図面を参照して説明する。

【００２９】組成物を、両基板を初めに接触させる部位
付近に滴下し、図１に示すように、一方の基板を他方の
基板に対して傾斜させ、さらに倒して行き両基板を重ね
合わせる。これによって、迅速に、パネル内への組成物
充填が完了する。なお、図１のような方法でなく、図３
のように、一方基板1を傾斜させずに、平行に基板貼り
合わせを行った場合、組成物内にある気泡が逃げずに、
図４のようにパネル内に残りやすくなってしまう。気泡
をパネル外に逃がしながら貼り合わせることが図３のよ
うな平行に貼り合わせる方法では難しい。基板傾斜させ
て貼り合わせる方法では、容易に、気泡をパネル外に逃
がしながら貼り合わせることができる。これによって、
均一なムラのない気泡のないパネルを迅速に得ることが
できる。この方法は、圧力変動を利用しない、常圧で行
うため、モノマーの揮発などの心配は要らない。

【００３０】また、固着固定スペーサを使用すること
で、スペーサによる配向膜、絶縁膜、電極への損傷やス
ペーサの移動等が防止され、均一なパネル厚み（セル
厚）を得ることができる。

【００３１】また、基板間にスペーサを設けず、基板を
重ね合わせ、上下基板を押圧しながら、光重合させる。
この時、押圧する圧力を変えることで、パネル厚みを制
御する。これによって、スペーサのない表示素子パネル
を得ることができる。スペーサの無いことで、スペーサ
での光抜けやスペーサ付近の配向ムラ、液晶滴大きさな
どのムラといった心配がなくなる。

【００３２】また、基板同士が初めに接する部分から、
ローラーで基板同士を徐々に押さえて行くことによっ
て、パネル内残存気泡を外部に追い出す。この時、パネ
ル内にスペーサの無い場合、予定セル厚以下までローラ
ーで徐々に押圧し、気泡及び若干の組成物を一旦外部に
出し、押圧をはずすことで、若干のはみ出た組成物のみ
がパネル内に戻るという仕組みができる。

【００３３】また、シール部が開口していることで押圧
において、過剰組成物及び気泡をパネル外に追い出すこ
とができる。開口していないと、シール部が流された
り、シール部に組成物が回り込んで汚染したりといった
問題が発生する。

【００３４】また、倒す基板を倒される側に基板を歪ま
すことによって、気泡がパネル外に抜け易くできる。気
泡がパネル内に保持されないような状況にすることがで
きるのである。

【００３５】また、基板上に組成物滴下後、一定時間放
置することによって、組成物内に混入している気泡を浮
き上がらせ、組成物内から取り出すことができる。これ
によって、パネル内に気泡が存在し難くなる。

【００３６】このような本発明の液晶表示素子及びその
製造方法によって、均一な高分子分散型液晶パネルを得
る事ができる。また、Ｖ−Ｔ曲線も制御が可能であり、
従来に無いＶ−Ｔ急峻性を得る事もできる。特に、ＴＦ
Ｔセルに対しても、均一な再現性の高い高分子分散型液
晶の表示素子を得ることが可能となる。

【００３７】本発明の液晶表示素子の製造方法は、特
に、高分子分散型液晶の作製に有効なものであり、少な
くとも液晶と光重合性材料を含む組成物を混合し、相溶
させた混合物を簡単に注入でき、光により高分子材料と
液晶に分離する光重合相分離法を使って作製する。

【００３８】なお、熱重合性材料を用いて、相分離させ
ることも可能である。光重合性組成物は、プレポリマー
やモノマーなどの重合性有機化合物と光開始剤から成っ
ており、組成物調整のため高分子化合物や無機系充填剤
や有機系添加物を混合してもよく、更に、熱重合開始剤
を混合しても良い。プレポリマーやモノマーとしてはビ
ニル基を有する化合物が適しておりなかでも、アクリル
系化合物が好ましい。例えば、ｔ−ブチルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、２−メトキシエ
チルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレー
ト、シクロヘキシルアクリレート、トリメトキシプロパ
ントリアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、１、６−ヘキサンジオールジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレートなどのモノマー
や、商品名：ＭＡＮＤＡ、ＴＣ−１１０，ＨＸ−２２
０，ＨＸ−６２０などの日本化薬製多官能アクリレート
や、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレ
ートなどの市販のプレポリマーが単独もしくは組み合わ
せて使用できる。光開始剤としては、ベンゾインメチル
エーテルベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジリデンメ
チルケタール、２、２−ジエトキシアセトフェノンなど
が適している。また、上記のラジカル重合性組成物以外
にも、カチオン重合性エポキシ樹脂組成物を用いること
も可能である。

【００３９】本発明に用いられる液晶材料は、電圧によ
ってダイレクタ方位を制御できる誘電率異方性を有し、
且つ屈折率異方性を有しておれば良く、組成系および異
方性の正負は問わない。また、前記液晶材料中に色素の
ような添加物を混合することも可能である。

【００４０】次に、さらに具体的に本発明の実施例を説
明する。なお、ここに示す実施例の電極付基板は、以下
の条件によるものを使用した。透明電極シート抵抗＝50
〜150Ω／□、膜厚＝５００Ａ(オンク゛ストローム以下同様)±２
０％、膜付け後の焼成400℃,90分。 （実施例１）パネル内に挟持する少なくとも液晶材料を
含む組成物を以下の組成物とする。液晶材料として、Ｔ
Ｌ２１３（メルク社）を80wt%、プレポリマー材料とし
て、ＰＮ３９３（メルク社）20wt%の割合で混合して組
成物とする。

【００４１】先ず、図１に示す様に、一対のガラス基板
1,2の各対向面に、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)から
なる透明電極3,4を所望のパターンに形成し、更に、こ
の透明電極3,4上に、例えば、日本合成ゴム製AL5417樹
脂を塗布し、透明電極3上のAL5417に対して80℃1分間加
熱後、190℃30分間放置し、透明電極4上のAL5417に対し
ては80℃1分間加熱後、230℃30分間放置し、それぞれ絶
縁膜5,6形成を行う。

【００４２】シール材として、例えば、モノマーとして
2-エチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク（株）
製）73wt% 、プレポリマーとしてビスコート#3700（大
阪有機化学工業（株）製）26wt%、光硬化開始剤としてD
arocur1173（メルク社製）0.6wt%、ルシリンＴＰＯ（BA
SF社製）0.4wt%から成るの光重合性材料とした。このシ
ール材を一方の基板にスペーサ12μmの真し球Ｂ−12μ
（触媒化成工業（株）製）を含有させて、シール有無を
連続的にシール開口部ができるように形成し、他方の基
板2に対し、12μm固着スペーサ真し球AB-４−12μ（触
媒化成工業（株）製）を散布し、140℃2時間放置し、固
着させる。これによって、滴下組成物によってスペーサ
が流されてしまうことを防げる。その後、両基板1,2を
２５℃に保持し、組成物を図１のように基板同士が最初
に接する部付近の基板2上に滴下して（この時、基板2は
水平に置かれる。また図１では基板１側は透明に描いて
いる。）、滴下後、紫外光があたらない状況下で、２５
℃で１０分間放置の後、基板2に対して基板1を組成物滴
下部付近に接触させ、ここを中心に、基板2に組成物に
風等が入り気泡が生じないように倒して行き、貼り合わ
せる。図２は、組成物の流れと気泡の排出の様子を示
す。

【００４３】図６に示すように、基板2の裏面に対し
て、加温冷却が可能な温度制御を行う循環恒温槽F3-CH
（HAAKE社製）とつながっている銅製水槽14が設けら
れ、その銅製水槽14と基板2との間には緩衝材14と裏面
反射手段であるステンレステープ14が基板2裏面全体に
設置されるように設けられる。つまり、光照射側に対し
て反対側の基板裏面に光反射手段が設けられている。基
板1に対しては、基板より大きい石英製水槽13が接して
おり、石英製水槽13には、同様に、加温冷却が可能な温
度制御を行う循環恒温槽F3-CH（HAAKE社製）とつながっ
ている。石英製水槽13と銅製水槽14を接近させ、パネル
を押圧し、水槽に水を循環させることで２５℃にセル温
度を保持しながら、ガラス製熱線吸収フィルターHAF-50
S-30H（シグマ光機（株）製）10を２枚をセルとランプ9
の間設置し、赤外線（0.8μｍ波長以上）の透過率が約
０％となるようにし、次にそのフィルター10とパネルと
の間に、ガラス製紫外線カットフィルター「ＵＶ−３
５」（東芝（株）製）11を介し、350nm未満の波長光を
透過させないようにして、パネル内に360nm付近の紫外
線強度が70mW/cm²となるようにウシオ電機（株）製ラン
プUVL-6000-Oでセルに対して光を２分間照射した。続い
て、セルから排出された余分な組成物材料をふき取り、
排出口部を例えば、紫外線硬化性樹脂等で封止する。

【００４４】これによって、パネル内に気泡無く、均一
な表示が可能な高表示品位を有する素子パネルを得るこ
とができた。

【００４５】また、こうして作製されたパネルの表示部
は、均一に高分子分散型液晶の液晶滴が形成されてお
り、ムラが見られなかった。従来に比べて、Ｖ−Ｔ曲線
が急峻となった。

【００４６】この様に容易に高分子分散型液晶パネルを
得ることができる。従来と比べても工程削減となること
から歩留まり向上につながる。 （実施例２）実施例１において、スペーサを以下のよう
なものに変える。

【００４７】乾式超微粉砕機に弾性ゴムと５％の5μm真
し球Ｂ−5μ（触媒化成工業（株）製）を一緒に入れ、
撹拌粉砕する。その後、分級器で直径12μmの一部くぼ
みを有した球状弾性ゴムスペーサが得られる。このスペ
ーサには、実施例１のように熱硬化性樹脂がスペーサ周
りにあるのではないため、実施例１使用のスペーサより
液晶への悪影響が無く、配向が変わったり、樹脂染み出
しによるムラや信頼性悪化、保持率悪化といった心配は
ない。このスペーサは、基板2上にばらまいた後、ガラ
ス基板でばらまきスペーサに対して押さえつける工程を
設ける。ガラス基板で押さえることによって、スペーサ
のくぼみ部分が基板に吸着（吸盤的役目）し、基板2上
にスペーサが固定されるのである。このスペーサを使っ
て、実施例１と同様の作製をおこなった。これによっ
て、得られた素子パネルはスペーサ周り付近も実施例１
よりムラ無く均一な表示ができた。

【００４８】このスペーサの作製は、弾性ゴムでなく、
樹脂スペーサ（例えば、エポスター（日本触媒（株）
製））を使用し、同様の作製手段で作製したスペーサで
も同様の結果を得ることができた。 （実施例３）実施例１において、基板間に固着スペーサ
を設けず、シール樹脂をパネル内にでなく、基板が重な
り合う外縁のパネル外部に、基板重ね合わせた後に塗布
し、基板押圧時に、圧力調整によって、所望のパネル厚
みを得る。このとき、光を照射させ、パネル内高分子分
散型液晶を得ると同時に、パネルが封口されることとな
る。同時に封口されるため、寿命信頼性も向上する。更
に、外縁が樹脂で覆われることで、基板ずれによる歩留
まり悪化を防止できる。基板が歪むことで表示ムラが発
生する問題も心配なくなる。これによって、シール部の
無いパネルを得ることができ、シール材料の液晶層への
染み出しによるムラや信頼性悪化を防ぐことができる。
スペーサがないことで、スペーサ周りの配向や液晶滴形
状ムラなどによるムラが無くなり、スペーサ付近からの
光抜けの無い、完全に、パネル内のムラを無くすことが
でき、スペーサレス表示素子パネルを得ることができ
る。

【００４９】得られた表示パネルに更に封口することで
更に信頼性が向上する。 （実施例４）実施例１において、組成物滴下後、図５に
示すように、基板1,2同士が最初に接している所から、
基板大きさより大きなローラー12で、徐々に、気泡がパ
ネル内に残らないように押さえ、押し出して行き、この
時、基板1は基板2側にたわみ、気泡が残らないように、
組成物及び気泡を追い出すようになる。組成物はローラ
ー12進行方向に進み、気泡はパネル外に追い出される形
となる。ここで、基板1が基板2側でなく反対側にたわむ
ようなことがあれば、たわみ部分に空気層を含んでしま
い気泡をパネル内に残してしまうこととなる。

【００５０】また、基板1が歪みやすい基板ほど有効で
あることもわかった。基板1がプラスチック基板などで
も同様の結果を得ることができる。

【００５１】この方法によって、気泡無し均一パネルを
作製する歩留まりが向上した。 （実施例５）実施例１における基板2裏面の銅製水槽及
び緩衝材と裏面反射手段を設けることに代えて、図７に
示すように、基板1側と同じく光透過性石英製水槽13を
配する。そして、基板1側と同じ光照射手段9及びフィル
ター10.11を設定し、同じ光の照射を基板1側及び基板2
に対して同時に行った。

【００５２】こうして得られた素子パネルは実施例１で
得られたパネルより駆動電圧、散乱性能、Ｖ−Ｔ急峻
性、ヒステリシスが大きく向上した。 （実施例６）実施例５に対して、図８に示すように、基
板1の角部に関して、石英製水槽13に吸着手段（真空吸
着や両面シールテープ等吸着剤）が設けられて、基板同
士を貼り合わせる前に、基板1を石英製水槽13に吸着さ
せておき、一方、基板2上に組成物の滴下を行い、基板1
に設置している水槽13を傾け、滴下位置近くに、基板1
の対応する端部が来るように傾けたまま降下させ接触さ
せて、以後基板1側水槽13を基板2側にさらに近づけなが
ら、傾斜を少なくしながら、最終的に基板2と平行にな
るようにして貼り合わせ、さらに基板同士を押圧して行
き、実施例５と同様の作製を行った。

【００５３】これによって、１機械で１連の操作が行わ
れ、作製される。これによって、歩留まり向上、時間短
縮が成される。

【００５４】また、組成物を以下のように変えても同傾
向が得られた。

【００５５】一つは、モノマーとして2-エチルヘキシル
アクリレート（ナカライテスク（株）製）3.0wt% 、2-
ヒドロキシエチルアクリレート（ナカライテスク（株）
製）9.0wt%、ネオペンチルグリコールジアクリレートで
あるKAYARAD MANDA（日本化薬（株）製）2.48wt%、オリ
ゴマーとしてＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート
であるKAYARAD R-551（日本化薬（株）製）5.36wt%、光
硬化開始剤としてベンジルジメチルケタールであるイル
ガキュア651（日本チバガイギー（株）製）0.16wt%から
成る光重合性材料と、液晶として塩素系液晶ＴＬ２０５
[N-I point=87℃, ｎe=1.744,ｎo=1.527]（メルク・ジ
ャパン（株）製）80.0wt% を混合して組成物とした。

【００５６】別に一つは、プレポリマー材料として2-エ
チルヘキシルアクリレート（ナカライテスク（株）製）
17.55wt% 、アクリル酸４−ヒドロキシブチルであるア
クリエステル４ＨＢＡ（三菱レイヨン（株）製）0.44wt
%、メタクリル酸２−サクシノロイルオキシエチルであ
るアクリエステルＳＡ（三菱レイヨン（株）製）0.20wt
%、KAYARAD TPGDA（日本化薬（株）製）1.11wt%、光硬
化開始剤として２ーヒドロキシー２−メチル−１−フェ
ニルプロパン−１−オンであるダロキュア−1173（メル
ク社製）0.2wt%から成る光重合性材料と、液晶としてＴ
Ｌ２０５[N-I point=87℃, ｎe=1.744,ｎo=1.527]（メ
ルク・ジャパン（株）製）80.5wt% を混合して組成物と
した。

【００５７】また、プレポリマー成分を同じくし、プレ
ポリマー中の成分割合も同じくし、液晶のみをＴＬ２０
５からＴＬ２１３とし、液晶割合を77wt%とした場合
も、同傾向を示し、更に特性が良くなった。

【００５８】なお、以上に示される実施例における組成
物等材料はこれに限定されるものではなく、他の材料で
も多く実施されるものである。実施例において紫外線強
度は示している強度のみに限定されるものではなく、実
際、3mW/cm²〜160mW/cm²において、本発明の特徴を有す
るものが得られることが確認できた。また、素子のセル
厚は13.0μmに限定されるものではない。

【００５９】注入後、パネルは全て、周辺を高分子樹脂
で封口した。本実施例では、素子内には紫外線が照射さ
れないようにマスクをし、ＵＶ樹脂をパネル周辺に施
し、組成物を封口した。例えば、ロックタイト352A（日
本ロックタイト（株）製）をＵＶ(350nm)55mW/cm²,90秒
照射により硬化する。

【００６０】実施例に示されている表示パネルは、特に
高分子分散型液晶に有効であるが、高分子分散型液晶の
みに限るものでなく、少なくとも、液晶材料と高分子材
料を用いる事によって成る表示パネルに対しても、同傾
向特性を得る事ができる。

【００６１】

【発明の効果】パネル内に気泡残存が無く、表示ムラの
無い、均一表示が可能な高分子分散型液晶表示素子を容
易に、短時間で、得ることを可能とし、歩留まり向上を
実現できる。

【００６２】更に、本発明の液晶表示素子は、高い光散
乱性、高コントラスト性、低い駆動電圧、急峻なしきい
値（Ｖ−Ｔ曲線）、高保持率特性を同時に再現良く実現
するものである。

【００６３】本発明の液晶表示パネルを表示パネルとし
て用いる場合、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）との組み合
わせによりアクティブマトリクス駆動させることによ
り、高い表示性能が得られる。また、本発明の素子を投
写光学系と組み合わせることにより優れた表示性能の投
写型ディスプレイが実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板貼り合わせ方法概略図である。

【図２】本発明の液晶表示素子の製造方法における組成
物充填概略図である。

【図３】本発明の液晶表示素子の製造方法に対する比較
例一例概略図である。

【図４】本発明の液晶表示素子の製造方法に対する比較
例一例における組成物充填概略図である。

【図５】本発明の液晶表示素子の製造装置概略図であ
る。

【図６】本発明の液晶表示素子の製造装置概略図であ
る。

【図７】本発明の液晶表示素子の製造装置概略図であ
る。

【図８】本発明の液晶表示素子の製造装置概略図であ
る。

【符号の説明】

1,2・・・基板、3,4・・・ITO（透明電極）、5,6・・・絶縁膜、7
・・・組成物、8・・・気泡、 9・・・UVランプ、10・・・IRカットフィル
ター、11・・・350nm以下カットフィルター、12・・・ローラー、 13・・・
光透過性槽（石英製水槽）、14・・・銅製水槽及び緩衝材
と裏面光反射手段、 15・・・回転軸

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３３８

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の電極付基板に関して、一方の基板
   の電極形成面上の両基板を重ねる部分の端部に相当する
   付近に、少なくとも液晶材料と高分子樹脂材料を含む組
   成物を滴下し、 前記滴下位置側に、他方の基板の、その組成物滴下位置
   に対応する基板端を、前記組成物が滴下されている基板
   と接触させ、 さらに徐々に前記他方の基板を、基板同士が接している
   箇所を中心に倒して行き、両基板と重ね合わせ、 その後、両基板を光照射することを特徴とする液晶表示
   素子の製造方法。
2. 【請求項２】 一方の基板電極形成面上に、固着固定さ
   れたスペーサが設けられることを特徴とする請求項１記
   載の液晶表示素子の製造方法。
3. 【請求項３】 スペーサ表面に、熱硬化性樹脂が設けら
   れ、加熱することによって、スペーサを固着することを
   特徴とする請求項２記載の液晶表示素子の製造方法。
4. 【請求項４】 スペーサが一部くぼみを有し、基板上で
   前記スペーサを押さえることで、前記基板上にスペーサ
   が吸着し、固定されることを特徴とする請求項２記載の
   液晶表示素子の製造方法。
5. 【請求項５】 素子基板間に、スペーサを設けずに、押
   圧圧力調整で基板間間隔厚みを制御することを特徴とす
   る請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
6. 【請求項６】 素子基板間にスペーサを有さないことを
   特徴とする液晶表示素子。
7. 【請求項７】 倒して行く基板を基板同士が接している
   部分より、ローラーで、押さえ貼り合わせて行く手段を
   有すことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製
   造方法。
8. 【請求項８】 一方の基板の表示部外の一対の基板が重
   なる部の基板端部に、樹脂シールを形成することを特徴
   とする請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
9. 【請求項９】 素子パネル内の表示部外の一対の基板が
   重なる部の基板端部に、樹脂シールが途切れた部分を有
   して形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
10. 【請求項１０】 パネル内にシール部を設けず、基板重
    ね合わせ後、表示部外基板重ね合い外縁部に光重合性樹
    脂が両基板に付くように塗布され、滴下材料中の高分子
    樹脂材料の重合と同時に前記光重合性樹脂重合が行われ
    ることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製造
    方法。
11. 【請求項１１】 パネル内にシール部が無く、表示部外
    パネル基板重ね合い外縁部に樹脂が形成されていること
    を特徴とする液晶表示素子。
12. 【請求項１２】 倒す基板を倒される側に基板を歪まし
    ながら倒すことを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
    子の製造方法。
13. 【請求項１３】 基板上に組成物滴下後、一定温度にお
    いて、一定時間放置の後、基板重ね合わせを行うことを
    特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
14. 【請求項１４】 光透過性槽又は紫外線透過性水槽によ
    る温度制御手段、外部ポンプで前記槽に対して液体もし
    くは気体を循環させる循環手段、紫外線照射手段、素子
    パネルを押圧する手段を備えていることを特徴とする液
    晶表示素子の製造装置。
15. 【請求項１５】 光透過性槽又は紫外線透過性水槽によ
    る温度制御手段及び光照射手段が、素子パネルとなる上
    下基板それぞれに対して設けられ、前記槽の少なくとも
    一方を動かすことで基板貼り合わせを行うことを特徴と
    する請求項１４記載の液晶表示素子の製造装置。
16. 【請求項１６】 一方の光透過性槽又は紫外線透過性水
    槽を傾斜させることで、上下基板が傾斜状態で接触し始
    め、最終的に平行に貼り合わせられることを特徴とする
    請求項１５記載の液晶表示素子の製造装置。
17. 【請求項１７】 光照射側に対して反対側の基板裏面に
    光反射手段が設けられていることを特徴とする請求項１
    ４記載の液晶表示素子の製造装置。