JPH09213263A - オメガ型エネルギーフィルター - Google Patents
オメガ型エネルギーフィルターInfo
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- JPH09213263A JPH09213263A JP8302829A JP30282996A JPH09213263A JP H09213263 A JPH09213263 A JP H09213263A JP 8302829 A JP8302829 A JP 8302829A JP 30282996 A JP30282996 A JP 30282996A JP H09213263 A JPH09213263 A JP H09213263A
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- JP
- Japan
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- sector
- distance
- magnet
- type energy
- magnets
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- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/44—Energy spectrometers, e.g. alpha-, beta-spectrometers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁界に垂直方向Ｘに３回、磁界方向Ｙに２回
の結像を行うタイプのオメガ型エネルギーフィルターと
して、形状の適切な選択によってＡタイプに比べて小さ
い収差と大きいエネルギー分散をもたらす。 【解決手段】 入射絞りを通過した荷電粒子ビームを４
つのセクターマグネットＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４により
順次偏向しつつ出射スリットへ導くようにしたオメガ型
エネルギーフィルターであって、入射絞りと出射スリッ
ト、セクターマグネットＭ１とＭ４、セクターマグネッ
トＭ２とＭ３がフィルターの中心平面に対してそれぞれ
対称に配置され、磁界に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向
Ｙに２回の結像を行うタイプのオメガ型エネルギーフィ
ルターにおいて、入射絞りとセクターマグネットＭ１の
入射端面との間の距離と、セクターマグネットＭ４の出
射端面と出射スリットとの間の距離とをそれぞれＬ5 と
したとき、５０mm≧Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４０mm
とした。
の結像を行うタイプのオメガ型エネルギーフィルターと
して、形状の適切な選択によってＡタイプに比べて小さ
い収差と大きいエネルギー分散をもたらす。 【解決手段】 入射絞りを通過した荷電粒子ビームを４
つのセクターマグネットＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４により
順次偏向しつつ出射スリットへ導くようにしたオメガ型
エネルギーフィルターであって、入射絞りと出射スリッ
ト、セクターマグネットＭ１とＭ４、セクターマグネッ
トＭ２とＭ３がフィルターの中心平面に対してそれぞれ
対称に配置され、磁界に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向
Ｙに２回の結像を行うタイプのオメガ型エネルギーフィ
ルターにおいて、入射絞りとセクターマグネットＭ１の
入射端面との間の距離と、セクターマグネットＭ４の出
射端面と出射スリットとの間の距離とをそれぞれＬ5 と
したとき、５０mm≧Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４０mm
とした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁界に垂直な方向
Ｘに３回、磁界方向Ｙに２回の結像を行うタイプのオメ
ガ型エネルギーフィルターに関する。
Ｘに３回、磁界方向Ｙに２回の結像を行うタイプのオメ
ガ型エネルギーフィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】オメガ型エネルギーフィルターを組み込
んだ電子顕微鏡を図７に示す。図７において、電子銃１
１で発生した電子ビームはコンデンサレンズ１２、対物
レンズ１３を通して試料１４に照射される。試料による
変調を受けつつ試料を透過した電子線は、中間レンズ１
５、入射絞り１６、オメガ型エネルギーフィルター１
７、出射スリット１８、投影レンズ１９を通して蛍光板
２０に到達する。その結果、エネルギーフィルターを通
過し得た特定のエネルギーを持った透過電子に基づく透
過電子顕微鏡像が蛍光板上に形成される。
んだ電子顕微鏡を図７に示す。図７において、電子銃１
１で発生した電子ビームはコンデンサレンズ１２、対物
レンズ１３を通して試料１４に照射される。試料による
変調を受けつつ試料を透過した電子線は、中間レンズ１
５、入射絞り１６、オメガ型エネルギーフィルター１
７、出射スリット１８、投影レンズ１９を通して蛍光板
２０に到達する。その結果、エネルギーフィルターを通
過し得た特定のエネルギーを持った透過電子に基づく透
過電子顕微鏡像が蛍光板上に形成される。
【０００３】図８及び図９にオメガ型エネルギーフィル
ターの一例の電子光学図をそれぞれ示す。図８及び図９
には、それぞれ４つのセクターマグネットと電子軌道が
描かれている。これらの電子光学図では、通常、図に示
されているように電子の進行方向がＺ方向、電子軌道が
存在する磁極面に平行な平面内で電子の進行方向に対し
直交する方向がＸ方向、Ｘ方向及びＺ方向にそれぞれ直
交する方向（磁界の方向）がＹ方向と仮定されている。
ターの一例の電子光学図をそれぞれ示す。図８及び図９
には、それぞれ４つのセクターマグネットと電子軌道が
描かれている。これらの電子光学図では、通常、図に示
されているように電子の進行方向がＺ方向、電子軌道が
存在する磁極面に平行な平面内で電子の進行方向に対し
直交する方向がＸ方向、Ｘ方向及びＺ方向にそれぞれ直
交する方向（磁界の方向）がＹ方向と仮定されている。
【０００４】図８，９に示されているように、オメガ型
エネルギーフィルターは、４つのセクターマグネットＭ
１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４（ビームの回転半径Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3,
Ｒ4)によりΩ字状のビーム軌道が形成される。通常、入
射ビームと出射ビームとは共通の電子光学軸を通るよう
にされる。また、セクターマグネットＭ２とＭ３の中間
を通り電子光学軸に直交する面を対称面として、入射絞
りと出射スリット、マグネットＭ１とＭ４、マグネット
Ｍ２とＭ３が、それぞれ対称に配置される。
エネルギーフィルターは、４つのセクターマグネットＭ
１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４（ビームの回転半径Ｒ1,Ｒ2,Ｒ3,
Ｒ4)によりΩ字状のビーム軌道が形成される。通常、入
射ビームと出射ビームとは共通の電子光学軸を通るよう
にされる。また、セクターマグネットＭ２とＭ３の中間
を通り電子光学軸に直交する面を対称面として、入射絞
りと出射スリット、マグネットＭ１とＭ４、マグネット
Ｍ２とＭ３が、それぞれ対称に配置される。
【０００５】図１０は図８の例におけるｘα，ｙβ，ｘ
γ，ｙδの４種類の電子軌道を表した図である。ここ
で、ｘγ，ｙδは入射絞りの位置（絞り面）及び出射ス
リットの位置（スリット面）でＸ方向，Ｙ方向の高さが
零となる電子の軌道をそれぞれ示す。また、ｘα，ｙβ
はフィルター内のＸ方向，Ｙ方向の結像位置（像面）で
Ｘ方向，Ｙ方向の高さが零となる電子の軌道をそれぞれ
示す。
γ，ｙδの４種類の電子軌道を表した図である。ここ
で、ｘγ，ｙδは入射絞りの位置（絞り面）及び出射ス
リットの位置（スリット面）でＸ方向，Ｙ方向の高さが
零となる電子の軌道をそれぞれ示す。また、ｘα，ｙβ
はフィルター内のＸ方向，Ｙ方向の結像位置（像面）で
Ｘ方向，Ｙ方向の高さが零となる電子の軌道をそれぞれ
示す。
【０００６】図８の例では、図１０のｘαよりＸ方向に
３回の結像が行われ、ｙβよりＹ方向に３回の結像が行
われていることが分かる。図８の例は、通常Ａタイプと
呼ばれている。
３回の結像が行われ、ｙβよりＹ方向に３回の結像が行
われていることが分かる。図８の例は、通常Ａタイプと
呼ばれている。
【０００７】同様に、図９の例では、図１１のｘαより
Ｘ方向に３回の結像が行われ、ｙβよりＹ方向に２回の
結像が行われていることが分かる。図９の例は、通常Ｂ
タイプと呼ばれている。
Ｘ方向に３回の結像が行われ、ｙβよりＹ方向に２回の
結像が行われていることが分かる。図９の例は、通常Ｂ
タイプと呼ばれている。
【０００８】蛍光板２０に像を結ばせる場合、絞り面及
びスリット面の両方で電子顕微鏡の回折図形が形成され
る。そして、スリットより手前に虚像が形成される。像
はアクロマティックでなければならないが、スリットの
後方に置かれたラウンドレンズを通して初めて実像を形
成する。
びスリット面の両方で電子顕微鏡の回折図形が形成され
る。そして、スリットより手前に虚像が形成される。像
はアクロマティックでなければならないが、スリットの
後方に置かれたラウンドレンズを通して初めて実像を形
成する。
【０００９】オメガ型エネルギーフィルターは、２次収
差のいくつかを零にし、残りの収差も小さくするため
に、先に述べたように第２のマグネットＭ2 と第３のマ
グネットＭ3 の間の中間面を対称面として、その前後で
のビーム軌道が対称となるように設計されている。即
ち、フィルター内の最後の像面とスリット面の間の距離
をＬＬとすると、入射してから最初の像面も、絞り面か
ら距離ＬＬに位置するように調整される。このような条
件の下で、ＡタイプとＢタイプの違いは、Ｙ方向（磁界
方向）の軌道において、Ａタイプが図１０に示すように
対称面でｙβ＝０、ｙδ′＝０であるのに対して、Ｂタ
イプが図１１に示すように対称面でｙβ′＝０、ｙδ＝
０である点である。ここでδ′，β′はδ，βをＺにつ
いて微分したものであり、軌道のＺに対する傾きを示し
ている。Ｘ方向の電子軌道は、いずれのタイプでも対称
面でｘα＝０、ｘγ′＝０となる。
差のいくつかを零にし、残りの収差も小さくするため
に、先に述べたように第２のマグネットＭ2 と第３のマ
グネットＭ3 の間の中間面を対称面として、その前後で
のビーム軌道が対称となるように設計されている。即
ち、フィルター内の最後の像面とスリット面の間の距離
をＬＬとすると、入射してから最初の像面も、絞り面か
ら距離ＬＬに位置するように調整される。このような条
件の下で、ＡタイプとＢタイプの違いは、Ｙ方向（磁界
方向）の軌道において、Ａタイプが図１０に示すように
対称面でｙβ＝０、ｙδ′＝０であるのに対して、Ｂタ
イプが図１１に示すように対称面でｙβ′＝０、ｙδ＝
０である点である。ここでδ′，β′はδ，βをＺにつ
いて微分したものであり、軌道のＺに対する傾きを示し
ている。Ｘ方向の電子軌道は、いずれのタイプでも対称
面でｘα＝０、ｘγ′＝０となる。
【００１０】このような初期条件を選ぶと、Ａタイプで
は、図１０に示すようにｘγ軌道は３回フォーカスし、
ｙδ軌道も３回フォーカスするが、Ｂタイプでは、図１
１に示すようにｘγは３回フォーカスするものの、ｙδ
は２回のみのフォーカスとなる。従って像は裏返しにな
る。
は、図１０に示すようにｘγ軌道は３回フォーカスし、
ｙδ軌道も３回フォーカスするが、Ｂタイプでは、図１
１に示すようにｘγは３回フォーカスするものの、ｙδ
は２回のみのフォーカスとなる。従って像は裏返しにな
る。
【００１１】このような２つのタイプのオメガ型エネル
ギーフィルターがあることは古くから知られていたが、
これまでに開発された大部分のエネルギーフィルターで
はＡタイプが採用されてきた。その理由は、Ｌanio（Hi
gh resolution imaging magnetic energy filters with
simple structure, Optik 73(1986) 99-107)によれば
２次収差が大きいことによる。
ギーフィルターがあることは古くから知られていたが、
これまでに開発された大部分のエネルギーフィルターで
はＡタイプが採用されてきた。その理由は、Ｌanio（Hi
gh resolution imaging magnetic energy filters with
simple structure, Optik 73(1986) 99-107)によれば
２次収差が大きいことによる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらＢタイプ
の利点は、Ｙ方向の収束回数がＡタイプに比べて１回少
ないことである。一様磁界の下では、電子は磁界と垂直
方向にはフォーカス作用を受けるものの、磁界方向には
フォーカス作用を受けない。このため、マグネットの端
面をビームの入射（又は出射）方向に対して角度を持た
せ、フリンジレンズを形成させ、これをもってＹ方向の
フォーカス作用を作り出している。このフォーカス作用
は、図１０及び図１１から明らかなようにＹ方向に凸レ
ンズ作用、Ｘ方向に凹レンズ作用をなすものである。従
ってＹ方向に３回フォーカスを得るためには、端面角度
の合計を３回フォーカスに必要なだけとらねばならな
い。
の利点は、Ｙ方向の収束回数がＡタイプに比べて１回少
ないことである。一様磁界の下では、電子は磁界と垂直
方向にはフォーカス作用を受けるものの、磁界方向には
フォーカス作用を受けない。このため、マグネットの端
面をビームの入射（又は出射）方向に対して角度を持た
せ、フリンジレンズを形成させ、これをもってＹ方向の
フォーカス作用を作り出している。このフォーカス作用
は、図１０及び図１１から明らかなようにＹ方向に凸レ
ンズ作用、Ｘ方向に凹レンズ作用をなすものである。従
ってＹ方向に３回フォーカスを得るためには、端面角度
の合計を３回フォーカスに必要なだけとらねばならな
い。
【００１３】端面角度を大きくすることは収差の増大を
招き易い欠点がある。又、その分だけＸ方向には必然的
に凹レンズが形成されるため、一様場の部分はその凹レ
ンズで発散する分を補うだけ十分に収束作用を確保しな
ければならない。従って、Ｙ方向に１回分フォーカスが
少なくて済むことは、系全体の設計の自由度を基本的に
大きくするはずであって、Ｂタイプが大きな収差をもた
らすという従来の考え方は誤解である。
招き易い欠点がある。又、その分だけＸ方向には必然的
に凹レンズが形成されるため、一様場の部分はその凹レ
ンズで発散する分を補うだけ十分に収束作用を確保しな
ければならない。従って、Ｙ方向に１回分フォーカスが
少なくて済むことは、系全体の設計の自由度を基本的に
大きくするはずであって、Ｂタイプが大きな収差をもた
らすという従来の考え方は誤解である。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するものであって、Ｂタイプに着目し、Ｂタイプのオ
メガ型エネルギーフィルターとして、形状の適切な選択
によってＡタイプに比べて小さい収差と大きいエネルギ
ー分散をもたらすものである。
決するものであって、Ｂタイプに着目し、Ｂタイプのオ
メガ型エネルギーフィルターとして、形状の適切な選択
によってＡタイプに比べて小さい収差と大きいエネルギ
ー分散をもたらすものである。
【００１５】そのために本発明は、入射絞りから入射し
た相対論補正加速電圧Ｕ* ｋＶの荷電粒子ビームを４つ
のセクターマグネットＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４により順
次偏向しつつ出射スリットへ導くようにしたオメガ型エ
ネルギーフィルターであって、入射絞りと出射スリッ
ト、セクターマグネットＭ１とＭ４、セクターマグネッ
トＭ２とＭ３がフィルターの中心平面に対してそれぞれ
対称に配置され、磁界に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向
Ｙに２回の結像を行うタイプのオメガ型エネルギーフィ
ルターにおいて、入射絞りとセクターマグネットＭ１の
入射端面との間の距離と、セクターマグネットＭ４の出
射端面と出射スリットとの間の距離とをそれぞれＬ5 と
したとき、５０mm≧Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４０mm
としたことを特徴とするものである。
た相対論補正加速電圧Ｕ* ｋＶの荷電粒子ビームを４つ
のセクターマグネットＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４により順
次偏向しつつ出射スリットへ導くようにしたオメガ型エ
ネルギーフィルターであって、入射絞りと出射スリッ
ト、セクターマグネットＭ１とＭ４、セクターマグネッ
トＭ２とＭ３がフィルターの中心平面に対してそれぞれ
対称に配置され、磁界に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向
Ｙに２回の結像を行うタイプのオメガ型エネルギーフィ
ルターにおいて、入射絞りとセクターマグネットＭ１の
入射端面との間の距離と、セクターマグネットＭ４の出
射端面と出射スリットとの間の距離とをそれぞれＬ5 と
したとき、５０mm≧Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４０mm
としたことを特徴とするものである。
【００１６】また、本発明は、セクターマグネットＭ
２，Ｍ３のビーム回転半径をＲ3 、セクターマグネット
Ｍ１，Ｍ４のビーム回転半径をＲ４ としたとき、Ｒ3＞
Ｒ4 としたことを特徴とするものである。
２，Ｍ３のビーム回転半径をＲ3 、セクターマグネット
Ｍ１，Ｍ４のビーム回転半径をＲ４ としたとき、Ｒ3＞
Ｒ4 としたことを特徴とするものである。
【００１７】さらに、本発明は、入射絞りと第１の像面
との距離及び出射スリットとその直前の像面との距離を
それぞれＬＬとした時、５５mm≦ＬＬ／√（Ｕ* ／２３
９）≦９mmとしたことを特徴とするものである。
との距離及び出射スリットとその直前の像面との距離を
それぞれＬＬとした時、５５mm≦ＬＬ／√（Ｕ* ／２３
９）≦９mmとしたことを特徴とするものである。
【００１８】さらに、本発明は、対称面に面する各セク
ターマグネットＭ２，Ｍ３と入射絞り又は出射スリット
に面する各セクターマグネットＭ１，Ｍ４との間の距離
をＬ4 としたとき、４０mm≦Ｌ4 ／√（Ｕ* ／２３９）
≦７０mmとしたことを特徴とするものである。
ターマグネットＭ２，Ｍ３と入射絞り又は出射スリット
に面する各セクターマグネットＭ１，Ｍ４との間の距離
をＬ4 としたとき、４０mm≦Ｌ4 ／√（Ｕ* ／２３９）
≦７０mmとしたことを特徴とするものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。
を参照しつつ説明する。
【００２０】図１及び図１２はオメガ型エネルギーフィ
ルターの基本パラメータを説明するための図、図２は各
収差係数１０００未満、エネルギー分散１μｍ／ｅＶ以
上を満たす領域を示す図である。図１には入射絞りから
対称面までの構成が描かれ、図１２には対称面から出射
スリットまでの構成が描かれている。
ルターの基本パラメータを説明するための図、図２は各
収差係数１０００未満、エネルギー分散１μｍ／ｅＶ以
上を満たす領域を示す図である。図１には入射絞りから
対称面までの構成が描かれ、図１２には対称面から出射
スリットまでの構成が描かれている。
【００２１】図１，１２に示されているように、セクタ
ーマグネットＭ１〜Ｍ４におけるビーム中心軌道の回転
半径をそれぞれＲ１〜Ｒ４、セクターマグネットＭ２の
出射端面角度及びセクターマグネットＭ３の入射側端面
角度をそれぞれθ1 、セクターマグネットＭ２の入射端
面角度及びセクターマグネットＭ３の出射側端面角度を
それぞれθ2 、セクターマグネットＭ１の出射端面角度
及びセクターマグネットＭ４の入射側端面角度をそれぞ
れθ3 、セクターマグネットＭ１の入射端面角度及びセ
クターマグネットＭ４の出射側端面角度をそれぞれθ4
として基本パラメータが設定されている。
ーマグネットＭ１〜Ｍ４におけるビーム中心軌道の回転
半径をそれぞれＲ１〜Ｒ４、セクターマグネットＭ２の
出射端面角度及びセクターマグネットＭ３の入射側端面
角度をそれぞれθ1 、セクターマグネットＭ２の入射端
面角度及びセクターマグネットＭ３の出射側端面角度を
それぞれθ2 、セクターマグネットＭ１の出射端面角度
及びセクターマグネットＭ４の入射側端面角度をそれぞ
れθ3 、セクターマグネットＭ１の入射端面角度及びセ
クターマグネットＭ４の出射側端面角度をそれぞれθ4
として基本パラメータが設定されている。
【００２２】また、入射絞り面からセクターマグネット
Ｍ１の入射端面までの距離をＬ1 、セクターマグネット
Ｍ１の出射端面とセクターマグネットＭ２の入射端面と
の距離をＬ2 、セクターマグネットＭ２の出射端面と対
称面との距離及び対称面とセクターマグネットＭ３との
距離をそれぞれＬ3 、セクターマグネットＭ２の出射端
面とセクターマグネットＭ４の入射端面との距離をＬ4
、セクターマグネットＭ４の出射端面と出射スリット
面との距離をＬ5 、入射絞り面と最初の像面との距離及
び出射スリット面と最終像面との距離をそれぞれＬＬと
している。
Ｍ１の入射端面までの距離をＬ1 、セクターマグネット
Ｍ１の出射端面とセクターマグネットＭ２の入射端面と
の距離をＬ2 、セクターマグネットＭ２の出射端面と対
称面との距離及び対称面とセクターマグネットＭ３との
距離をそれぞれＬ3 、セクターマグネットＭ２の出射端
面とセクターマグネットＭ４の入射端面との距離をＬ4
、セクターマグネットＭ４の出射端面と出射スリット
面との距離をＬ5 、入射絞り面と最初の像面との距離及
び出射スリット面と最終像面との距離をそれぞれＬＬと
している。
【００２３】なお、対称面を挟む対称性より、Ｌ1 ＝Ｌ
5 ，Ｌ2 ＝Ｌ4 ，Ｒ1 ＝Ｒ4 ，Ｒ2＝Ｒ3 が成立する。
5 ，Ｌ2 ＝Ｌ4 ，Ｒ1 ＝Ｒ4 ，Ｒ2＝Ｒ3 が成立する。
【００２４】オメガ型エネルギーフィルターの基本光学
特性を決める形状因子は、上記の回転半径Ｒ1(＝Ｒ4)，
Ｒ2(＝Ｒ3)，Ｒ3,Ｒ4 、端面角度θ1 、θ2 、θ3 、θ
4 、距離Ｌ1(＝Ｌ5)，Ｌ2(＝Ｌ4)，Ｌ3,Ｌ4,Ｌ5 、及び
ＬＬの１０個である。この他にマグネットの実際の端面
と磁界分布の実効端面との距離もパラメータとなり得る
が、ここでは省略して考える。これらの１０個のパラメ
ータのうち、端面角度θ1 、θ2 、θ3 、θ4 を、像面
及び回折面で非点なしフォーカス（Ｘ方向とＹ方向とで
フォーカス位置が一致すること）を得るための調整用に
用いることにする。なお、これらをパラメータとして距
離Ｌ3 、Ｌ4 、Ｌ5 等で調整することも可能である。
特性を決める形状因子は、上記の回転半径Ｒ1(＝Ｒ4)，
Ｒ2(＝Ｒ3)，Ｒ3,Ｒ4 、端面角度θ1 、θ2 、θ3 、θ
4 、距離Ｌ1(＝Ｌ5)，Ｌ2(＝Ｌ4)，Ｌ3,Ｌ4,Ｌ5 、及び
ＬＬの１０個である。この他にマグネットの実際の端面
と磁界分布の実効端面との距離もパラメータとなり得る
が、ここでは省略して考える。これらの１０個のパラメ
ータのうち、端面角度θ1 、θ2 、θ3 、θ4 を、像面
及び回折面で非点なしフォーカス（Ｘ方向とＹ方向とで
フォーカス位置が一致すること）を得るための調整用に
用いることにする。なお、これらをパラメータとして距
離Ｌ3 、Ｌ4 、Ｌ5 等で調整することも可能である。
【００２５】なお、端面角度θは、通常、その端面を通
る荷電粒子ビームに対してＹ方向の収束性を与える角度
を正に取る。経験的には、θｎ＞４５°となると収差が
著しく増大したり、非点なしフォーカス条件が見つから
なくなったりするので、端面角度θｎは、４５°より小
さい範囲から選ぶことにする。又、Ｙ方向に収束作用を
もたらすのは、上述のようにθ1 ，θ2 ，θ3 ，θ4 ＞
０の場合である。そのため、１つの端面角度が負となる
ような角度をとることは、全体として他の端面角度が大
きくならなければならない原因を作ることになるので、
そのような場合は１０°以内を許容することにする。こ
うすると、 −１０°＜θ1 ，θ2 ，θ3 ，θ4 ＜４５° が許容角度範囲となる。
る荷電粒子ビームに対してＹ方向の収束性を与える角度
を正に取る。経験的には、θｎ＞４５°となると収差が
著しく増大したり、非点なしフォーカス条件が見つから
なくなったりするので、端面角度θｎは、４５°より小
さい範囲から選ぶことにする。又、Ｙ方向に収束作用を
もたらすのは、上述のようにθ1 ，θ2 ，θ3 ，θ4 ＞
０の場合である。そのため、１つの端面角度が負となる
ような角度をとることは、全体として他の端面角度が大
きくならなければならない原因を作ることになるので、
そのような場合は１０°以内を許容することにする。こ
うすると、 −１０°＜θ1 ，θ2 ，θ3 ，θ4 ＜４５° が許容角度範囲となる。
【００２６】Ｂタイプのオメガ型エネルギーフィルター
の場合には幾何収差（歪収差や表面収差その他の収差）
１０個 ＡAAA ，ＡAAG ，ＡAGG ，ＡGGG ＢABB ，ＢABD ，ＢGBB ，ＢGBD ，ＢADD ，ＢGDD および色収差（エネルギーの違いによる収差）８個 ＣAA、ＣBB、ＣAG、ＣBD、ＣGG、ＣDD、ＣGE、ＣAE （Ludwig Reimer編「Energy-Filtering Transmission E
lectron Microscopy」Springer 1995 発行、p43-149 H.
Rose, D.Krahl「Electron Optics of ImagingEnergy F
ilters」参照）のうち、ＢABD 、ＢGBB 、ＢGDD 、ＣBD
の４個が大きな値を持ち易い。そこで、本発明者は、２
００ｋＶの加速電圧の下において、これらの値が１００
０以下の値を持ち、かつエネルギー分散λが１μｍ／ｅ
Ｖ以上（ｎｋＶにおいては２００／ｎμｍ／ｅＶ以上）
となる条件を良いフィルターの条件として、残る６つの
パラメータに対してこれらの条件がどのように変化する
かを調べた。
の場合には幾何収差（歪収差や表面収差その他の収差）
１０個 ＡAAA ，ＡAAG ，ＡAGG ，ＡGGG ＢABB ，ＢABD ，ＢGBB ，ＢGBD ，ＢADD ，ＢGDD および色収差（エネルギーの違いによる収差）８個 ＣAA、ＣBB、ＣAG、ＣBD、ＣGG、ＣDD、ＣGE、ＣAE （Ludwig Reimer編「Energy-Filtering Transmission E
lectron Microscopy」Springer 1995 発行、p43-149 H.
Rose, D.Krahl「Electron Optics of ImagingEnergy F
ilters」参照）のうち、ＢABD 、ＢGBB 、ＢGDD 、ＣBD
の４個が大きな値を持ち易い。そこで、本発明者は、２
００ｋＶの加速電圧の下において、これらの値が１００
０以下の値を持ち、かつエネルギー分散λが１μｍ／ｅ
Ｖ以上（ｎｋＶにおいては２００／ｎμｍ／ｅＶ以上）
となる条件を良いフィルターの条件として、残る６つの
パラメータに対してこれらの条件がどのように変化する
かを調べた。
【００２７】第１に重要なパラメータは距離Ｌ5 （＝Ｌ
1 ）である。図１０及び図１１から分かるように、セク
ターマグネットＭ１の入射端面の近傍及びセクターマグ
ネットＭ４の出射端面の近傍には像面があり、像面上で
はエネルギー分散があってはならない（マクロマティッ
クの条件）ので、距離Ｌ5 が大きくないと大きなエネル
ギー分散が期待できない。図２は横軸を距離Ｌ4 、縦軸
を距離ＬＬにとって、先に示した条件を満たす範囲をい
くつかの距離Ｌ5 の値に対してプロットしたものであ
る。先に述べた通り、距離Ｌ5 を大きくするほどエネル
ギー分散は大きくなっているが、Ｌ5 ＝５０mmでは収差
条件を満足する領域が狭くなることがわかる。又、Ｌ5
＝４０mmでは、図の右側はＢGBB によって制限されてい
るものの、左側はＬ5 ＝４５mmでの場合のようにＢGDD
によって制限されているのではなく、エネルギー分散１
μｍ／ｅＶによって制約されている。
1 ）である。図１０及び図１１から分かるように、セク
ターマグネットＭ１の入射端面の近傍及びセクターマグ
ネットＭ４の出射端面の近傍には像面があり、像面上で
はエネルギー分散があってはならない（マクロマティッ
クの条件）ので、距離Ｌ5 が大きくないと大きなエネル
ギー分散が期待できない。図２は横軸を距離Ｌ4 、縦軸
を距離ＬＬにとって、先に示した条件を満たす範囲をい
くつかの距離Ｌ5 の値に対してプロットしたものであ
る。先に述べた通り、距離Ｌ5 を大きくするほどエネル
ギー分散は大きくなっているが、Ｌ5 ＝５０mmでは収差
条件を満足する領域が狭くなることがわかる。又、Ｌ5
＝４０mmでは、図の右側はＢGBB によって制限されてい
るものの、左側はＬ5 ＝４５mmでの場合のようにＢGDD
によって制限されているのではなく、エネルギー分散１
μｍ／ｅＶによって制約されている。
【００２８】即ち、収差の小さい条件は広範囲に存在す
るものの、エネルギー分散が１μｍ／ｅＶより小さくな
くなる領域が多い。この傾向は、Ｌ5 ＝３５mmで極端に
なり、エネルギー分散が１μｍ／ｅＶ以上となる範囲は
極めて狭い。従って、この図から距離Ｌ5 の範囲は３５
mm≦Ｌ5 ≦５０mmであり、最適なのは３５mm≦Ｌ5 ≦４
５mmであることがわかる。
るものの、エネルギー分散が１μｍ／ｅＶより小さくな
くなる領域が多い。この傾向は、Ｌ5 ＝３５mmで極端に
なり、エネルギー分散が１μｍ／ｅＶ以上となる範囲は
極めて狭い。従って、この図から距離Ｌ5 の範囲は３５
mm≦Ｌ5 ≦５０mmであり、最適なのは３５mm≦Ｌ5 ≦４
５mmであることがわかる。
【００２９】次に重要なパラメータは、マグネットの回
転半径である。図３及び図４はマグネットＭ4 ，Ｍ１を
回転半径Ｒ4 ＝Ｒ1 ＝５０mmに固定した場合のマグネッ
トＭ３，Ｍ２の回転半径Ｒ3 （＝Ｒ2 ）に対する低収
差、高分散を与える条件を説明するための図であり、回
転半径Ｒ3 を５０mmから８５mmまで５mmステップで変化
させた場合の２次収差１０００以内、エネルギー分散１
μｍ／ｅＶ以上（２００ｋＶにおいてのエネルギー分散
である。なお、ｎｋＶにおけるエネルギー分散は（２０
０÷ｎ）μｍ／ｅＶ以上となる）の領域を距離Ｌ4 と像
面−スリット面間距離ＬＬに対して示したものである。
転半径である。図３及び図４はマグネットＭ4 ，Ｍ１を
回転半径Ｒ4 ＝Ｒ1 ＝５０mmに固定した場合のマグネッ
トＭ３，Ｍ２の回転半径Ｒ3 （＝Ｒ2 ）に対する低収
差、高分散を与える条件を説明するための図であり、回
転半径Ｒ3 を５０mmから８５mmまで５mmステップで変化
させた場合の２次収差１０００以内、エネルギー分散１
μｍ／ｅＶ以上（２００ｋＶにおいてのエネルギー分散
である。なお、ｎｋＶにおけるエネルギー分散は（２０
０÷ｎ）μｍ／ｅＶ以上となる）の領域を距離Ｌ4 と像
面−スリット面間距離ＬＬに対して示したものである。
【００３０】図から明らかに回転半径Ｒ3(＝Ｒ2)、Ｒ4
(＝Ｒ1)の関係は、Ｒ3 ＞Ｒ4 でなければならないこと
がわかる。Ｒ3 ＝Ｒ4 では、使用範囲は存在しない。ま
た、エネルギー分散が大きくなって全領域が２次収差に
よって制限されるのはＲ3 ＝６５mmより大きい場合であ
る。
(＝Ｒ1)の関係は、Ｒ3 ＞Ｒ4 でなければならないこと
がわかる。Ｒ3 ＝Ｒ4 では、使用範囲は存在しない。ま
た、エネルギー分散が大きくなって全領域が２次収差に
よって制限されるのはＲ3 ＝６５mmより大きい場合であ
る。
【００３１】この領域は回転半径Ｒ3(＝Ｒ2)が大きい程
広くなっているが、もちろん回転半径Ｒ3 が大きいほど
フィルター全体も大きくなってしまうので、できるだけ
小さい回転半径Ｒで同一の性能を得る方が良い設計であ
ると言える。回転半径Ｒ3 が６０mmより大きい場合は、
距離ＬＬの短い側が途切れているが、これは、端面角度
＞４５°以上等の条件のため非点なしフォーカスが見つ
からなかった場合である。ここに示した範囲内であれば
非点なしフォーカス条件が十分満足される。
広くなっているが、もちろん回転半径Ｒ3 が大きいほど
フィルター全体も大きくなってしまうので、できるだけ
小さい回転半径Ｒで同一の性能を得る方が良い設計であ
ると言える。回転半径Ｒ3 が６０mmより大きい場合は、
距離ＬＬの短い側が途切れているが、これは、端面角度
＞４５°以上等の条件のため非点なしフォーカスが見つ
からなかった場合である。ここに示した範囲内であれば
非点なしフォーカス条件が十分満足される。
【００３２】図５はマグネットＭ3 ，Ｍ2 の回転半径Ｒ
3(＝Ｒ2)と２次収差及びエネルギー分散の関係を説明す
るための図であり、図３及び図４の結果をエネルギー分
散と共に示したものである。回転半径Ｒ4 を固定（５０
mm）して回転半径Ｒ3 を増大させるとエネルギー分散は
増大するが、２次収差は全体として減少する。ただ、回
転半径Ｒ3 の増大によって減少しない２次収差の成分が
１つだけあり、それはＢGBB である。従って形状の選択
は、この収差が１０００となる条件によって規定され
る。この理由は、図３、図４において距離Ｌ4 が大きい
ほどエネルギー分散が大きく、また、距離ＬＬが小さい
ほどエネルギー分散が大きくなるため、ＢGBB が限界値
となる距離Ｌ4 と距離ＬＬが選択されるためである。
3(＝Ｒ2)と２次収差及びエネルギー分散の関係を説明す
るための図であり、図３及び図４の結果をエネルギー分
散と共に示したものである。回転半径Ｒ4 を固定（５０
mm）して回転半径Ｒ3 を増大させるとエネルギー分散は
増大するが、２次収差は全体として減少する。ただ、回
転半径Ｒ3 の増大によって減少しない２次収差の成分が
１つだけあり、それはＢGBB である。従って形状の選択
は、この収差が１０００となる条件によって規定され
る。この理由は、図３、図４において距離Ｌ4 が大きい
ほどエネルギー分散が大きく、また、距離ＬＬが小さい
ほどエネルギー分散が大きくなるため、ＢGBB が限界値
となる距離Ｌ4 と距離ＬＬが選択されるためである。
【００３３】図３，図４から、距離Ｌ4 の好ましい範囲
は４０mm≦Ｌ4 ≦７０mm、また、距離ＬＬの好ましい範
囲は５５mm≦ＬＬ≦９０mmと判断される。
は４０mm≦Ｌ4 ≦７０mm、また、距離ＬＬの好ましい範
囲は５５mm≦ＬＬ≦９０mmと判断される。
【００３４】図６はフィルターの絞り面−スリット面間
直線距離２Ｈに対するエネルギー分散を説明するための
図であり、回転半径Ｒ4 の効果を調べるためにＲ4 ＝５
０mmの場合とＲ4 ＝３５mmの場合を比較したものであ
る。横軸はフィルターの対称面からスリット面までの直
線距離Ｈとしている。この２倍の２Ｈがフィルターの高
さを表し、同一性能であればＨが小さいほど良い設計と
いうことになる。縦軸はエネルギー分散で、もちろん先
に示した、すべての２次収差が１０００以下となる条件
から選ばれている。図から明らかのように回転半径Ｒ4
を小さくするほど性能が向上する。実用上、Ｒ4 は５０
mmよりも小さいことが好ましい。
直線距離２Ｈに対するエネルギー分散を説明するための
図であり、回転半径Ｒ4 の効果を調べるためにＲ4 ＝５
０mmの場合とＲ4 ＝３５mmの場合を比較したものであ
る。横軸はフィルターの対称面からスリット面までの直
線距離Ｈとしている。この２倍の２Ｈがフィルターの高
さを表し、同一性能であればＨが小さいほど良い設計と
いうことになる。縦軸はエネルギー分散で、もちろん先
に示した、すべての２次収差が１０００以下となる条件
から選ばれている。図から明らかのように回転半径Ｒ4
を小さくするほど性能が向上する。実用上、Ｒ4 は５０
mmよりも小さいことが好ましい。
【００３５】なお、上述した距離Ｌ5 ，回転半径Ｒ4 な
どの長さに関する値は、加速電圧が２００ｋＶ（相対論
補正加速電圧Ｕ*）の時に求めた好ましい値であって、
任意の相対論補正加速電圧Ｕ*ｋＶの場合には、√（Ｕ*
／２３９）について補正する必要がある。例えば、Ｌ5
の場合には、５０mm≧Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４
０mmとする必要がある。その他の長さに関する値も以下
のように全く同様の補正が必要である。
どの長さに関する値は、加速電圧が２００ｋＶ（相対論
補正加速電圧Ｕ*）の時に求めた好ましい値であって、
任意の相対論補正加速電圧Ｕ*ｋＶの場合には、√（Ｕ*
／２３９）について補正する必要がある。例えば、Ｌ5
の場合には、５０mm≧Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４
０mmとする必要がある。その他の長さに関する値も以下
のように全く同様の補正が必要である。
【００３６】 ５５mm≦ＬＬ／√（Ｕ* ／２３９）≦９０mm ４０mm≦Ｌ4 ／√（Ｕ* ／２３９） ≦７０mm Ｒ4 ／√（Ｕ* ／２３９）≦５０mm
【００３７】
【発明の効果】以上詳述したごとく、本発明では、磁界
に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向Ｙに２回の結像を行う
Ｂタイプのオメガ型エネルギーフィルターにおいて、入
射絞りとセクターマグネットＭ１の入射端面との間の距
離と、セクターマグネットＭ４の出射端面と出射スリッ
トとの間の距離とをそれぞれＬ5 としたとき、５０mm≧
Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４０mmとしたことにより、
小さい収差と大きいエネルギー分散をもたらすことがで
きるオメガ型エネルギーフィルターを実現することがで
きる。
に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向Ｙに２回の結像を行う
Ｂタイプのオメガ型エネルギーフィルターにおいて、入
射絞りとセクターマグネットＭ１の入射端面との間の距
離と、セクターマグネットＭ４の出射端面と出射スリッ
トとの間の距離とをそれぞれＬ5 としたとき、５０mm≧
Ｌ5 ／√（Ｕ* ／２３９）≧４０mmとしたことにより、
小さい収差と大きいエネルギー分散をもたらすことがで
きるオメガ型エネルギーフィルターを実現することがで
きる。
【図１】 オメガ型エネルギーフィルターの基本パラメ
ータを説明するための図である。
ータを説明するための図である。
【図２】 各収差計数１０００未満、エネルギー分散１
μｍ／ｅＶ以上を満たす領域を示す図である。
μｍ／ｅＶ以上を満たす領域を示す図である。
【図３】 マグネットＭ４を回転半径Ｒ4 ＝５０mmに固
定した場合のマグネットＭ3 の回転半径Ｒ3 に対する低
収差、高分散を与える条件を説明するための図である。
定した場合のマグネットＭ3 の回転半径Ｒ3 に対する低
収差、高分散を与える条件を説明するための図である。
【図４】 マグネットＭ４を回転半径Ｒ4 ＝５０mmに固
定した場合のマグネットＭ3 の回転半径Ｒ3 に対する低
収差、高分散を与える条件を説明するための図である。
定した場合のマグネットＭ3 の回転半径Ｒ3 に対する低
収差、高分散を与える条件を説明するための図である。
【図５】 マグネットＭ３の回転半径Ｒ3 と２次収差及
びエネルギー分散の関係を説明するための図である。
びエネルギー分散の関係を説明するための図である。
【図６】 フィルターの絞り面−スリット面間直線距離
２Ｈに対するエネルギー分散を説明するための図であ
る。
２Ｈに対するエネルギー分散を説明するための図であ
る。
【図７】 電子光学系にオメガ型エネルギーフィルター
を組み込んだ電子顕微鏡の構成例を示す図である。
を組み込んだ電子顕微鏡の構成例を示す図である。
【図８】 Ａタイプのオメガ型エネルギーフィルターの
構成を説明するための図である。
構成を説明するための図である。
【図９】 Ｂタイプのオメガ型エネルギーフィルターの
構成を説明するための図である。
構成を説明するための図である。
【図１０】 図８の例におけるｘα，ｙβ，ｘγ，ｙδ
の４種類の電子軌道を表した図である。
の４種類の電子軌道を表した図である。
【図１１】 図９の例におけるｘα，ｙβ，ｘγ，ｙδ
の４種類の電子軌道を表した図である。
の４種類の電子軌道を表した図である。
【図１２】 オメガ型エネルギーフィルターの基本パラ
メータを説明するための図である。
メータを説明するための図である。
Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４…セクターマグネット Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 …回転半径 θ1 、θ2 、θ3 、θ4 …端面角度 Ｌ3 、Ｌ4 、Ｌ5 、ＬＬ…距離
Claims (6)
- 【請求項１】 入射絞りから入射した相対論補正加速電
圧Ｕ*ｋＶの荷電粒子ビームを４つのセクターマグネッ
トＭ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４により順次偏向しつつ出射ス
リットへ導くようにしたオメガ型エネルギーフィルター
であって、入射絞りと出射スリット、セクターマグネッ
トＭ１とＭ４、セクターマグネットＭ２とＭ３がフィル
ターの中心平面に対してそれぞれ対称に配置され、磁界
に垂直な方向Ｘに３回、磁界方向Ｙに２回の結像を行う
タイプのオメガ型エネルギーフィルターにおいて、入射
絞りとセクターマグネットＭ１の入射端面との間の距離
と、セクターマグネットＭ４の出射端面と出射スリット
との間の距離とをそれぞれＬ5 としたとき、４０mm≦Ｌ
5 ／√（Ｕ* ／２３９）≦５０mmとしたことを特徴とす
るオメガ型エネルギーフィルター。 - 【請求項２】 セクターマグネットＭ２，Ｍ３のビーム
回転半径をＲ3 、セクターマグネットＭ１，Ｍ４のビー
ム回転半径をＲ4 としたとき、Ｒ3 ＞Ｒ4 としたことを
特徴とする請求項１記載のオメガ型エネルギーフィルタ
ー。 - 【請求項３】 入射絞りと第１の像面との距離及び出射
スリットと直前の像面との距離をそれぞれＬＬとした
時、５５mm≦ＬＬ／√（Ｕ* ／２３９）≦９０mmとした
ことを特徴とする請求項１記載のオメガ型エネルギーフ
ィルター。 - 【請求項４】 対称面に面する各セクターマグネットＭ
２，Ｍ３と入射絞り又は出射スリットに面する各セクタ
ーマグネットＭ１，Ｍ４との間の距離をＬ4としたと
き、４０mm≦Ｌ4 ／√（Ｕ* ／２３９）（ ≦７０mmと
したことを特徴とする請求項１記載のオメガ型エネルギ
ーフィルター。 - 【請求項５】 セクターマグネットＭ１，Ｍ４のビーム
回転半径をＲ4 としたとき、Ｒ4 ／√（Ｕ* ／２３９）
≦５０mmとしたことを特徴とする請求項１記載のオメ
ガ型エネルギーフィルター。 - 【請求項６】 セクターマグネットＭ２の出射端面角度
及びセクターマグネットＭ３の入射側端面角度をそれぞ
れθ1 、セクターマグネットＭ２の入射端面角度及びセ
クターマグネットＭ３の出射側端面角度をそれぞれθ
２、セクターマグネットＭ１の出射端面角度及びセクタ
ーマグネットＭ４の入射側端面角度をそれぞれθ３、セ
クターマグネットＭ１の入射端面角度及びセクターマグ
ネットＭ４の出射側端面角度をそれぞれθ４とした時、
−１０°＜θ1,θ2,θ3,θ4＜４５°としたことを特徴
とする請求項１記載のオメガ型エネルギーフィルター。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30282996A JP3363718B2 (ja) | 1995-11-28 | 1996-11-14 | オメガ型エネルギーフィルター |
| US08/757,209 US5811801A (en) | 1995-11-28 | 1996-11-27 | Omega-type energy filter |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-309050 | 1995-11-28 | ||
| JP30905095 | 1995-11-28 | ||
| JP30282996A JP3363718B2 (ja) | 1995-11-28 | 1996-11-14 | オメガ型エネルギーフィルター |
| US08/757,209 US5811801A (en) | 1995-11-28 | 1996-11-27 | Omega-type energy filter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09213263A true JPH09213263A (ja) | 1997-08-15 |
| JP3363718B2 JP3363718B2 (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=27338566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30282996A Expired - Fee Related JP3363718B2 (ja) | 1995-11-28 | 1996-11-14 | オメガ型エネルギーフィルター |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5811801A (ja) |
| JP (1) | JP3363718B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3497336B2 (ja) * | 1996-12-03 | 2004-02-16 | 日本電子株式会社 | エネルギーフィルタ |
| US5955732A (en) * | 1997-02-27 | 1999-09-21 | Jeol Ltd. | Omega-type energy filter |
| JP3400284B2 (ja) * | 1997-02-27 | 2003-04-28 | 日本電子株式会社 | オメガ型エネルギーフィルタ及び該フィルタを組み込んだ電子顕微鏡 |
| JP3518271B2 (ja) * | 1997-08-28 | 2004-04-12 | 株式会社日立製作所 | エネルギーフィルタおよびこれを備えた電子顕微鏡 |
| DE10005347A1 (de) * | 2000-02-08 | 2001-08-09 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Elektronenenergiefilter mit magnetischen Umlenkbereichen |
| JP3867048B2 (ja) * | 2003-01-08 | 2007-01-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | モノクロメータ及びそれを用いた走査電子顕微鏡 |
| KR102857915B1 (ko) * | 2020-07-20 | 2025-09-11 | 주식회사 히타치하이테크 | 에너지 필터, 및 그것을 구비한 에너지 애널라이저 및 하전 입자빔 장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6266553A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-26 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | オメガ形電子エネルギフイルタ |
| JPH0737536A (ja) * | 1993-03-26 | 1995-02-07 | Carl Zeiss:Fa | 結像用の電子エネルギーフィルタ |
| JPH07282773A (ja) * | 1994-04-07 | 1995-10-27 | Jeol Ltd | オメガ型エネルギーフィルタ |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69027602T2 (de) * | 1990-08-08 | 1997-01-23 | Philips Electronics Nv | Energiefilter für Ladungsträgervorrichtung |
| DE4041495A1 (de) * | 1990-12-22 | 1992-06-25 | Zeiss Carl Fa | Elektronenenergiefilter, vorzugsweise vom alpha- oder omega-typ |
| JP3139920B2 (ja) * | 1994-07-25 | 2001-03-05 | 株式会社日立製作所 | エネルギフィルタおよびこれを備えた透過電子顕微鏡 |
-
1996
- 1996-11-14 JP JP30282996A patent/JP3363718B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-11-27 US US08/757,209 patent/US5811801A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6266553A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-26 | カ−ル・ツアイス−スチフツング | オメガ形電子エネルギフイルタ |
| JPH0737536A (ja) * | 1993-03-26 | 1995-02-07 | Carl Zeiss:Fa | 結像用の電子エネルギーフィルタ |
| JPH07282773A (ja) * | 1994-04-07 | 1995-10-27 | Jeol Ltd | オメガ型エネルギーフィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5811801A (en) | 1998-09-22 |
| JP3363718B2 (ja) | 2003-01-08 |
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