JPH09219440A - ウエハ加熱用トレイ - Google Patents
ウエハ加熱用トレイInfo
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- JPH09219440A JPH09219440A JP4945896A JP4945896A JPH09219440A JP H09219440 A JPH09219440 A JP H09219440A JP 4945896 A JP4945896 A JP 4945896A JP 4945896 A JP4945896 A JP 4945896A JP H09219440 A JPH09219440 A JP H09219440A
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- Japan
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- heating tray
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- ceramic
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱変形のないセラミック又は石英平板に、加
工せずに又は簡単な加工を施すことにより、高品質・低
コストのウエハ加熱用トレイを提供する。 【解決手段】 ウエハ２を載置固定して加熱炉１に入れ
るウエハ加熱用トレイにおいて、前記ウエハ加熱用トレ
イ３を、前記ウエハ２を載置する上面が平坦なセラミッ
ク又は石英からなる支持板４と、前記ウエハ２を固定す
る金属クリップ５とで構成した。
工せずに又は簡単な加工を施すことにより、高品質・低
コストのウエハ加熱用トレイを提供する。 【解決手段】 ウエハ２を載置固定して加熱炉１に入れ
るウエハ加熱用トレイにおいて、前記ウエハ加熱用トレ
イ３を、前記ウエハ２を載置する上面が平坦なセラミッ
ク又は石英からなる支持板４と、前記ウエハ２を固定す
る金属クリップ５とで構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハの製造工
程、ウエハの処理工程等において、ウエハを載置固定し
て加熱炉に入れるウエハ加熱用トレイに関し、特に加熱
炉として、ウエハに対し急激な加熱をすると共に均一な
熱分布が要求されるキュア炉を使用した場合に用いられ
るウエハ加熱用トレイに関するものである。
程、ウエハの処理工程等において、ウエハを載置固定し
て加熱炉に入れるウエハ加熱用トレイに関し、特に加熱
炉として、ウエハに対し急激な加熱をすると共に均一な
熱分布が要求されるキュア炉を使用した場合に用いられ
るウエハ加熱用トレイに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程において、酸化膜形成の
ためや、熱拡散アニール処理あるいはシンタリング処
理、熱硬化処理、その他のキュアリングプロセスのため
にウエハが加熱処理される。このような加熱処理におい
てウエハは加熱用トレイ上に搭載され、加熱炉内のヒー
タ上に載置される。
ためや、熱拡散アニール処理あるいはシンタリング処
理、熱硬化処理、その他のキュアリングプロセスのため
にウエハが加熱処理される。このような加熱処理におい
てウエハは加熱用トレイ上に搭載され、加熱炉内のヒー
タ上に載置される。
【０００３】図４と図５は、キュア炉で従来使用されて
いたウエハ加熱用トレイを示す外観斜視図である。
いたウエハ加熱用トレイを示す外観斜視図である。
【０００４】図４のウエハ加熱用トレイ３０は、金属板
３１を板金加工して作られたもので、ウエハ３２の載置
部の外周に、周方向に９０度間隔でウエハ３２のずれを
防止して固定する折曲片３３を設け、その折曲片３３の
うちの２個をさらに外側に折曲げて取手３４に構成した
ものである。
３１を板金加工して作られたもので、ウエハ３２の載置
部の外周に、周方向に９０度間隔でウエハ３２のずれを
防止して固定する折曲片３３を設け、その折曲片３３の
うちの２個をさらに外側に折曲げて取手３４に構成した
ものである。
【０００５】また、図５のウエハ加熱用トレイ４０は、
セラミック平板４１を切削加工して作られたもので、中
央にウエハ４２を載置固定する凹部４３を設けたもので
ある。
セラミック平板４１を切削加工して作られたもので、中
央にウエハ４２を載置固定する凹部４３を設けたもので
ある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の図４のウエハ加熱用トレイによれば、金属材料を使
用し、加工し易い形状であるため安価であるが、加工時
のウエハ載置面の平面度の確保や、キュア炉内での加熱
時、または加熱冷却の繰り返しにおいてウエハ載置面の
平面度の維持等が難しい。したがって、キュア炉内でウ
エハを載置固定するトレイが反り、ウエハの加熱時にそ
のウエハに対する熱分布が均一とならず、高品質のウエ
ハが得られなかった。
来の図４のウエハ加熱用トレイによれば、金属材料を使
用し、加工し易い形状であるため安価であるが、加工時
のウエハ載置面の平面度の確保や、キュア炉内での加熱
時、または加熱冷却の繰り返しにおいてウエハ載置面の
平面度の維持等が難しい。したがって、キュア炉内でウ
エハを載置固定するトレイが反り、ウエハの加熱時にそ
のウエハに対する熱分布が均一とならず、高品質のウエ
ハが得られなかった。
【０００７】また、上記従来の図５のウエハ加熱用トレ
イによれば、セラミック材料を使用しているため、キュ
ア炉内での加熱時、または加熱冷却の繰り返しによって
も膨張、収縮はほとんどなく、ウエハの載置面の平面度
を維持することは可能で、ウエハの加熱時に熱分布が均
一となり、品質の良いウエハが得られる。しかし、搭載
面にウエハを載置固定するための凹部を形成しなければ
ならず、その加工が面倒であり、加工費が高価になると
共に、加工法が限られてしまうため、形状の制約等があ
った。
イによれば、セラミック材料を使用しているため、キュ
ア炉内での加熱時、または加熱冷却の繰り返しによって
も膨張、収縮はほとんどなく、ウエハの載置面の平面度
を維持することは可能で、ウエハの加熱時に熱分布が均
一となり、品質の良いウエハが得られる。しかし、搭載
面にウエハを載置固定するための凹部を形成しなければ
ならず、その加工が面倒であり、加工費が高価になると
共に、加工法が限られてしまうため、形状の制約等があ
った。
【０００８】本発明は上記従来の欠点に鑑みなされたも
のであって、キュア炉内での加熱時、または加熱冷却の
繰り返しによっても熱変形しないセラミック等の支持板
を用い、これを加工せずに又は加工性の良い簡単な加工
を施すことにより、高品質・低コストのウエハ加熱用ト
レイを提供することを目的とする。
のであって、キュア炉内での加熱時、または加熱冷却の
繰り返しによっても熱変形しないセラミック等の支持板
を用い、これを加工せずに又は加工性の良い簡単な加工
を施すことにより、高品質・低コストのウエハ加熱用ト
レイを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明においては、ウエハを載置固定して加熱炉に
入れるウエハ加熱用トレイにおいて、前記ウエハ加熱用
トレイを、前記ウエハを載置する上面が平坦なセラミッ
ク又は石英からなる支持板と、この支持板上に前記ウエ
ハを固定する金属クリップとで構成したことを特徴とす
るウエハ加熱用トレイを提供する。
め、本発明においては、ウエハを載置固定して加熱炉に
入れるウエハ加熱用トレイにおいて、前記ウエハ加熱用
トレイを、前記ウエハを載置する上面が平坦なセラミッ
ク又は石英からなる支持板と、この支持板上に前記ウエ
ハを固定する金属クリップとで構成したことを特徴とす
るウエハ加熱用トレイを提供する。
【００１０】上記構成によれば、セラミックの支持板上
にウエハを載置し、このウエハを金属クリップで挟持固
定することにより、ウエハを載置固定することができ
る。これにより、セラミック平板上にウエハを載置固定
するための加工が不要となると共にセラミック支持板の
外形形状を所望の任意形状にすることができる。また、
ウエハを載置するセラミック支持板は、加熱・冷却によ
っても熱変形を生じることがなく、ウエハに対して加熱
炉による熱分布を均一にすることができ、高品質のウエ
ハを得ることができる。
にウエハを載置し、このウエハを金属クリップで挟持固
定することにより、ウエハを載置固定することができ
る。これにより、セラミック平板上にウエハを載置固定
するための加工が不要となると共にセラミック支持板の
外形形状を所望の任意形状にすることができる。また、
ウエハを載置するセラミック支持板は、加熱・冷却によ
っても熱変形を生じることがなく、ウエハに対して加熱
炉による熱分布を均一にすることができ、高品質のウエ
ハを得ることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】好ましい実施の形態においては、
前記金属クリップを前記ウエハを挟持固定する断面コ字
形のクリップで構成し、前記支持板のウエハ載置部外周
に溝を設け、前記クリップの一片に突起を設け、前記突
起を前記溝に嵌入させて前記クリップを係止させたこと
を特徴としている。
前記金属クリップを前記ウエハを挟持固定する断面コ字
形のクリップで構成し、前記支持板のウエハ載置部外周
に溝を設け、前記クリップの一片に突起を設け、前記突
起を前記溝に嵌入させて前記クリップを係止させたこと
を特徴としている。
【００１２】さらに好ましい実施の形態においては、前
記金属クリップは前記コ字形を形成する上片が下片より
長いことを特徴としている。
記金属クリップは前記コ字形を形成する上片が下片より
長いことを特徴としている。
【００１３】
【実施例】図１は、本発明に係るウエハ加熱用トレイを
入れる加熱炉である。このキュア炉１内では、ウエハ２
は加熱用トレイ３に載置固定され、ヒータ４上に加熱さ
れる。
入れる加熱炉である。このキュア炉１内では、ウエハ２
は加熱用トレイ３に載置固定され、ヒータ４上に加熱さ
れる。
【００１４】図２は、図１のキュア炉１内に置かれるウ
エハ加熱用トレイ３の具体例を示す外観斜視図である。
エハ加熱用トレイ３の具体例を示す外観斜視図である。
【００１５】この例におけるウエハ加熱用トレイ３は、
ウエハ２を載置する円形セラミック平板（支持板）４
と、ウエハ２を固定する断面コ字形の金属クリップ５と
で構成される。前記セラミック平板４は、ウエハ２を載
置する上面が加工を要しない平坦面で、その外周に周方
向に９０度間隔で４つの直線状の溝６が加工されてい
る。
ウエハ２を載置する円形セラミック平板（支持板）４
と、ウエハ２を固定する断面コ字形の金属クリップ５と
で構成される。前記セラミック平板４は、ウエハ２を載
置する上面が加工を要しない平坦面で、その外周に周方
向に９０度間隔で４つの直線状の溝６が加工されてい
る。
【００１６】また、前記金属クリップ５は、前記セラミ
ック平板４の４つの溝６に対応して４個備えられ、各ク
リップ５の上側の一片の中間部には、前記溝６に嵌入さ
れる直線状の突起７が設けられる。さらに４個の金属ク
リップ５のうち２個の金属クリップ５には、その上面に
断面Ｌ字形の取手部８が設けられる。
ック平板４の４つの溝６に対応して４個備えられ、各ク
リップ５の上側の一片の中間部には、前記溝６に嵌入さ
れる直線状の突起７が設けられる。さらに４個の金属ク
リップ５のうち２個の金属クリップ５には、その上面に
断面Ｌ字形の取手部８が設けられる。
【００１７】図３は前記金属クリップ５を装着したトレ
イ５の周縁部の断面図である。
イ５の周縁部の断面図である。
【００１８】トレイ３の周縁部下側には段差９が形成さ
れる。この段差９は、出し入れ用フォーク等を差込んで
トレイ３を支持し、このフォークによりトレイ３をヒー
タ上に載置し又は取り出すためのものである。
れる。この段差９は、出し入れ用フォーク等を差込んで
トレイ３を支持し、このフォークによりトレイ３をヒー
タ上に載置し又は取り出すためのものである。
【００１９】金属クリップ５の上片５ａには前記突起７
が折曲げて一体形成されている。この上片５ａはトレイ
３上のウエハ２をその側面から保持するために、ウエハ
縁部に達するまでの長さを有する。またクリップ５の下
片５ｂは前記段差９の幅に対応した短い長さである。
が折曲げて一体形成されている。この上片５ａはトレイ
３上のウエハ２をその側面から保持するために、ウエハ
縁部に達するまでの長さを有する。またクリップ５の下
片５ｂは前記段差９の幅に対応した短い長さである。
【００２０】上記構成のウエハ加熱用トレイによれば、
セラミック平板４上にウエハ２を載置した後、４個の金
属クリップ５を、各クリップ５の上片５ａと下片５ｂと
がウエハ２の周縁とセラミック平板４の周縁とを上下方
向から挟持するように矢印方向から挿着することによ
り、ウエハ２はセラミック平板４上に載置固定される。
このセラミック平板上にウエハ２を載置固定したウエハ
加熱用トレイ３は、その取手部８を持って図１のキュア
炉１内に入れられ、加熱される。
セラミック平板４上にウエハ２を載置した後、４個の金
属クリップ５を、各クリップ５の上片５ａと下片５ｂと
がウエハ２の周縁とセラミック平板４の周縁とを上下方
向から挟持するように矢印方向から挿着することによ
り、ウエハ２はセラミック平板４上に載置固定される。
このセラミック平板上にウエハ２を載置固定したウエハ
加熱用トレイ３は、その取手部８を持って図１のキュア
炉１内に入れられ、加熱される。
【００２１】このトレイ３のウエハ載置部は、セラミッ
ク材料で構成されているため、前述したように、熱膨張
および収縮が殆どなく、加熱・冷却によって反りを生じ
ず、平面度を維持・確保できる。したがって、ウエハ２
の加熱時の熱分布が均一となり、高品質のウエハ２を得
ることができる。
ク材料で構成されているため、前述したように、熱膨張
および収縮が殆どなく、加熱・冷却によって反りを生じ
ず、平面度を維持・確保できる。したがって、ウエハ２
の加熱時の熱分布が均一となり、高品質のウエハ２を得
ることができる。
【００２２】また、このトレイ３のウエハ２を載置する
セラミック平板４は、その両面がもともと平坦面であ
り、ウエハ２の固定は金属クリップ５で行うようにした
ため、セラミック平板４にウエハ２を固定するための加
工が不要である。
セラミック平板４は、その両面がもともと平坦面であ
り、ウエハ２の固定は金属クリップ５で行うようにした
ため、セラミック平板４にウエハ２を固定するための加
工が不要である。
【００２３】さらに、セラミック平板４にウエハ２を固
定するための加工を要しないため、ウエハ加熱用トレイ
３の外形形状を所望の任意形状にすることができる。
定するための加工を要しないため、ウエハ加熱用トレイ
３の外形形状を所望の任意形状にすることができる。
【００２４】また、この例においては、セラミック平板
４上にウエハ２を載置固定したとき、金属クリップ５の
突起７がセラミック平板４の溝６に嵌入されるため、金
属クリップ５のずれを確実になくすことができ、ウエハ
２をより確実に載置固定することができる。この場合、
セラミック平板４に溝加工する必要があるが、この加工
は極めて簡単なため、前記図４の従来例に比べて加工費
を極めて安く抑えることができる。
４上にウエハ２を載置固定したとき、金属クリップ５の
突起７がセラミック平板４の溝６に嵌入されるため、金
属クリップ５のずれを確実になくすことができ、ウエハ
２をより確実に載置固定することができる。この場合、
セラミック平板４に溝加工する必要があるが、この加工
は極めて簡単なため、前記図４の従来例に比べて加工費
を極めて安く抑えることができる。
【００２５】尚、上記実施例では、本発明に係るウエハ
加熱用トレイをキュア炉に入れた場合について説明した
が、これに限らず、他の酸化炉や拡散炉等の加熱炉に適
用しても勿論良い。また、ウエハ支持板はセラミック板
に限らず、石英平板でもよい。
加熱用トレイをキュア炉に入れた場合について説明した
が、これに限らず、他の酸化炉や拡散炉等の加熱炉に適
用しても勿論良い。また、ウエハ支持板はセラミック板
に限らず、石英平板でもよい。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
標準形状のセラミック又は平板を加工せずに使用してウ
エハを載置し、この平板と別体の金属クリップでウエハ
を固定するようにしたため、ウエハ加熱用トレイを金属
材料で構成した従来のトレイに比べて、ウエハの載置面
に変形を生じることなく、平面度を維持・確保できる。
したがって、ウエハの加熱時に熱分布を均一にすること
ができて、高品質のウエハを得ることができる。また、
セラミック平板にウエハ載置固定用の凹部を加工した従
来のトレイに比べて、面倒な加工の手間が省け、この加
工しない分だけ費用を軽減することができ、しかも外形
形状を所望の任意形状とすることができる。
標準形状のセラミック又は平板を加工せずに使用してウ
エハを載置し、この平板と別体の金属クリップでウエハ
を固定するようにしたため、ウエハ加熱用トレイを金属
材料で構成した従来のトレイに比べて、ウエハの載置面
に変形を生じることなく、平面度を維持・確保できる。
したがって、ウエハの加熱時に熱分布を均一にすること
ができて、高品質のウエハを得ることができる。また、
セラミック平板にウエハ載置固定用の凹部を加工した従
来のトレイに比べて、面倒な加工の手間が省け、この加
工しない分だけ費用を軽減することができ、しかも外形
形状を所望の任意形状とすることができる。
【００２７】さらに、セラミック平板に溝を設け、金属
クリップにこの溝に嵌入する突起を設けることにより、
金属クリップのずれを防止することができ、ウエハをよ
り確実に挟持固定することができる。この場合でも、セ
ラミック平板に設ける溝は、加工が簡単なので、セラミ
ック平板にウエハ載置固定用の凹部を設ける従来のトレ
イに比べて、加工費を安くすることができる。
クリップにこの溝に嵌入する突起を設けることにより、
金属クリップのずれを防止することができ、ウエハをよ
り確実に挟持固定することができる。この場合でも、セ
ラミック平板に設ける溝は、加工が簡単なので、セラミ
ック平板にウエハ載置固定用の凹部を設ける従来のトレ
イに比べて、加工費を安くすることができる。
【図１】 本発明に係るウエハ加熱用トレイを入れるキ
ュア炉の概略図である。
ュア炉の概略図である。
【図２】 本発明に係るウエハ加熱用トレイの実施の一
例を示す外観斜視図である。
例を示す外観斜視図である。
【図３】 金属クリップを装着した状態のトレイ周縁部
の断面図である。
の断面図である。
【図４】 従来のウエハ加熱用トレイを示す外観斜視図
である。
である。
【図５】 従来の他のウエハ加熱用トレイを示す外観斜
視図である。
視図である。
１：キュア炉、２：ウエハ、３：ウエハ加熱用トレイ、
４：セラミック平板（支持板）、５：金属クリップ、
６：溝、７：突起、８：取手部。
４：セラミック平板（支持板）、５：金属クリップ、
６：溝、７：突起、８：取手部。
Claims (3)
- 【請求項１】 ウエハを載置固定して加熱炉に入れるウ
エハ加熱用トレイにおいて、 前記ウエハ加熱用トレイを、 前記ウエハを載置する上面が平坦なセラミック又は石英
からなる支持板と、 この支持板上に前記ウエハを固定する金属クリップとで
構成したことを特徴とするウエハ加熱用トレイ。 - 【請求項２】 前記金属クリップを、 前記ウエハを挟持固定する断面コ字形のクリップで構成
し、 前記支持板のウエハ載置部外周に溝を設け、 前記クリップの一片に突起を設け、 前記突起を前記溝に嵌入させて前記クリップを係止させ
たことを特徴とする請求項１に記載のウエハ加熱用トレ
イ。 - 【請求項３】 前記金属クリップは、前記コ字形を構成
する上片が下片より長いことを特徴とする請求項２に記
載のウエハ加熱用トレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4945896A JPH09219440A (ja) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | ウエハ加熱用トレイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4945896A JPH09219440A (ja) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | ウエハ加熱用トレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09219440A true JPH09219440A (ja) | 1997-08-19 |
Family
ID=12831704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4945896A Withdrawn JPH09219440A (ja) | 1996-02-13 | 1996-02-13 | ウエハ加熱用トレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09219440A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043531A1 (ja) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Canon Anelva Corporation | 基板支持・搬送用トレイ |
| EP1804284A4 (en) * | 2004-10-19 | 2008-03-05 | Canon Anelva Corp | SUBSTRATE HEAT TREATMENT DEVICE AND SUBSTRATE TRANSFER LOAD USED IN SUBSTRATE HEAT TREATMENT |
| KR100912136B1 (ko) * | 2007-09-20 | 2009-08-13 | 김종민 | 링보트 제조장치 |
| WO2014174627A1 (ja) * | 2013-04-25 | 2014-10-30 | 株式会社島津製作所 | サンプルホルダ |
| JP2025066627A (ja) * | 2023-10-11 | 2025-04-23 | 群翊工業股▲ふん▼有限公司 | 基板載置システム |
-
1996
- 1996-02-13 JP JP4945896A patent/JPH09219440A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006043531A1 (ja) * | 2004-10-19 | 2006-04-27 | Canon Anelva Corporation | 基板支持・搬送用トレイ |
| EP1804284A4 (en) * | 2004-10-19 | 2008-03-05 | Canon Anelva Corp | SUBSTRATE HEAT TREATMENT DEVICE AND SUBSTRATE TRANSFER LOAD USED IN SUBSTRATE HEAT TREATMENT |
| US7780440B2 (en) | 2004-10-19 | 2010-08-24 | Canon Anelva Corporation | Substrate supporting/transferring tray |
| US8147242B2 (en) | 2004-10-19 | 2012-04-03 | Canon Anelva Corporation | Substrate supporting/transferring tray |
| KR100912136B1 (ko) * | 2007-09-20 | 2009-08-13 | 김종민 | 링보트 제조장치 |
| WO2014174627A1 (ja) * | 2013-04-25 | 2014-10-30 | 株式会社島津製作所 | サンプルホルダ |
| JP2025066627A (ja) * | 2023-10-11 | 2025-04-23 | 群翊工業股▲ふん▼有限公司 | 基板載置システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060809 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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