JPH0921967A - Method and apparatus for controlling mirror angle / position in light illuminator - Google Patents

Method and apparatus for controlling mirror angle / position in light illuminator

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JPH0921967A
JPH0921967A JP7171078A JP17107895A JPH0921967A JP H0921967 A JPH0921967 A JP H0921967A JP 7171078 A JP7171078 A JP 7171078A JP 17107895 A JP17107895 A JP 17107895A JP H0921967 A JPH0921967 A JP H0921967A
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  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 照射可能範囲の全域を有効に利用でき、印字
/描画量を多くすることが可能なミラー位置の制御方法
および装置を提供すること。 【解決手段】 照射位置移動制御手段5cは、待機位置
設定手段5bの出力に基づき、照射位置制御手段2の照
射可能範囲において、被照射体の進行方向上流側の端辺
の中点、もしくは、該端辺から、照射パターンの幅に応
じて定まる所定距離離れた点であって、かつ、上記端辺
の略中心を通りワーク進行方向に平行な直線上の点を待
機位置として、該待機位置を照射する角度/位置にミラ
ーを待機させる。コンベア4によりワークWが搬送さ
れ、その被照射領域が照射可能範囲に入ると、ワークW
の移動に合わせて照射位置制御手段2のミラー角度/位
置を制御し、照射パターンに沿って光ビームを移動させ
る。そして、照射が終了すると、上記待機位置を照射す
る角度/位置にミラーを戻して待機させる。
(57) Abstract: [PROBLEMS] To provide a mirror position control method and device capable of effectively utilizing the entire irradiation range and increasing the amount of printing / drawing. Irradiation position movement control means 5c, based on the output of standby position setting means 5b, in the irradiation possible range of irradiation position control means 2, the midpoint of the end side on the upstream side in the traveling direction of the irradiated body, or The standby position is a point distant from the edge by a predetermined distance determined according to the width of the irradiation pattern, and a point on a straight line which passes through the approximate center of the edge and is parallel to the work advancing direction. Make the mirror stand by at the angle / position to illuminate. When the work W is conveyed by the conveyor 4 and the irradiated area enters the irradiation possible range, the work W
The mirror angle / position of the irradiation position control unit 2 is controlled in accordance with the movement of the light beam, and the light beam is moved along the irradiation pattern. Then, when the irradiation is completed, the mirror is returned to the irradiation angle / position for irradiating the standby position and made to stand by.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ・マーキン
グ装置、レーザ加工装置等に適用される光照射器に関
し、さらに詳細には、光照射器に設けられレーザ光等の
光を反射して照射位置を制御するミラーの位置の制御方
法および装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light irradiator applied to a laser marking device, a laser processing device, etc., and more specifically, it is provided in the light irradiator to reflect and irradiate light such as laser light. The present invention relates to a mirror position control method and device for controlling the position.

【0002】[0002]

【従来の技術】ワークに文字、図形等のマーキングを行
ったり、ワークを加工する方法の一つとして、従来から
レーザ光を照射する方法が用いられている。例えば、ワ
ーク(被照射体)に文字/図形を描画するには、レーザ
マーキング法が用いられており、レーザマーキングは次
のように行われる。 (a)光路内に挿入したマスク(ステンシル)にレーザ
光を照射して、マスクに施された文字/図形パターンを
通過したレーザ光により被照射体にマーキングする。 (b)レーザビームの照射位置を一筆書き状に移動制御
して所定の文字/図形パターンをマーキングする。
2. Description of the Related Art Conventionally, a method of irradiating a laser beam has been used as one of methods for marking characters, figures, etc. on a work and for processing the work. For example, a laser marking method is used to draw a character / figure on a work (irradiation target), and laser marking is performed as follows. (A) A mask (stencil) inserted in the optical path is irradiated with laser light, and the irradiated object is marked by the laser light that has passed through the character / graphic pattern provided on the mask. (B) The irradiation position of the laser beam is controlled to move in a single stroke to mark a predetermined character / graphic pattern.

【0003】上記した(b)の方法におけるレーザビー
ムの移動制御は、例えば、回転角度制御が可能なモータ
に取り付けられた2組のミラーを用いてなされる。すな
わち、一方のミラーを動作させてレーザビームをX軸方
向に、また、他方のミラーを動作させてレーザビームを
Y軸方向に移動させ、これらのミラーの動作を組み合わ
せることにより、所望の文字/図形パターンを印字/描
画することができる。
The movement control of the laser beam in the above method (b) is performed by using, for example, two sets of mirrors attached to a motor capable of controlling a rotation angle. That is, one of the mirrors is operated to move the laser beam in the X-axis direction, and the other mirror is operated to move the laser beam in the Y-axis direction. A graphic pattern can be printed / drawn.

【0004】図12は上記した(b)の方法により移動
体へマーキングを行うマーキング装置の構成を示す図で
ある。同図において、1はレーザビームを放射するレー
ザ、2は上記した2組のミラー等から構成される照射位
置制御手段である。4はコンベアであり、コンベア4は
コンベア駆動機構4aにより駆動され、コンベア4上の
ワークWは同図矢印方向に移動する。
FIG. 12 is a diagram showing the construction of a marking device for marking a moving body by the above method (b). In the figure, 1 is a laser that emits a laser beam, and 2 is an irradiation position control means composed of the above-described two sets of mirrors and the like. Reference numeral 4 denotes a conveyor, and the conveyor 4 is driven by the conveyor drive mechanism 4a, and the work W on the conveyor 4 moves in the arrow direction in the figure.

【0005】5は文字/図形のパターン信号Sl を送出
するCPU、6はCPU5が出力するパターン信号Sl
と位置信号出力回路7の出力である位置信号Sp を加算
する加算器であり、位置信号出力回路7はコンベア速度
情報に基づきワークWの位置に相当した信号である位置
信号Sp を出力する。図13は上記した照射位置制御手
段2の構成の一例を示す図である。
Reference numeral 5 designates a CPU for sending a character / graphic pattern signal Sl, and 6 designates a pattern signal Sl output by the CPU 5.
And a position signal Sp which is the output of the position signal output circuit 7, and the position signal output circuit 7 outputs a position signal Sp which is a signal corresponding to the position of the work W based on the conveyor speed information. FIG. 13 is a diagram showing an example of the configuration of the irradiation position control means 2 described above.

【0006】照射位置制御手段2は、回転軸が直交して
配置されたX軸ミラー2a、Y軸ミラー2bおよびX軸
ミラー2aを回転させるX軸スキャナー2c、Y軸ミラ
ー2bを回転させるY軸スキャナー2dから構成されて
おり、図12に示した加算器6から送出される制御信号
に応じて、X軸スキャナー2c、Y軸スキャナー2dが
X軸ミラー2a、Y軸ミラー2bを回転させ、レーザ1
から放射されるレーザビームをワークW上の所定位置に
照射する。
The irradiation position control means 2 includes an X-axis mirror 2a, a Y-axis mirror 2b, and an X-axis scanner 2c for rotating the X-axis mirror 2a and a Y-axis for rotating the Y-axis mirror 2b. It is composed of a scanner 2d, and the X-axis scanner 2c and the Y-axis scanner 2d rotate the X-axis mirror 2a and the Y-axis mirror 2b according to the control signal sent from the adder 6 shown in FIG. 1
A laser beam emitted from the work W is applied to a predetermined position on the work W.

【0007】図12、図13において、ワークWへのマ
ーキングは次のように行われる。図12において、CP
U5は印字/描画する文字/図形パターンに応じたパタ
ーン信号Sl を送出する。ここで、照射位置制御手段2
の設置位置は固定されており、コンベア4上のワークW
は移動しているので、照射位置制御手段2に、単に文字
/図形パターン信号を与えても、ワークW上に所望のパ
ターンを印字/描画することができない。
In FIGS. 12 and 13, marking on the work W is performed as follows. In FIG. 12, CP
U5 sends out a pattern signal Sl corresponding to the character / graphic pattern to be printed / drawn. Here, the irradiation position control means 2
The installation position of is fixed, and the work W on the conveyor 4
Since it is moving, even if a character / graphic pattern signal is simply given to the irradiation position control means 2, a desired pattern cannot be printed / drawn on the work W.

【0008】すなわち、図14に示すようにワークWが
X方向に移動している場合には、時間t1でx1の位置
にあった照射位置は時間t2ではx2に、また時間t3
ではx3に移動する。したがって、ワークW上の同じ位
置に照射するためには、ワークWの移動の分、余分にX
軸方向駆動用ミラーを傾ける必要がある。このため、図
12に示すように、加算器6とワークWの位置に相当し
た信号を出力する位置信号出力回路7とを設ける。そし
て、CPU5から送出されるパターン信号Sl に、位置
信号出力回路7が出力するワークWの位置信号Sp を加
算して照射位置制御信号St を得て、該照射位置制御信
号St を照射位置制御手段2へ送出する。なお、ワーク
Wが逆方向に移動している場合にも、同様に、CPU5
から送出されるパターン信号Sl からワークWの位置信
号Sp を減算もしくは信号を反転させることにより照射
位置制御信号を得ることができる。
That is, when the work W is moving in the X direction as shown in FIG. 14, the irradiation position at the position x1 at the time t1 becomes x2 at the time t2, and at the time t3.
Now move to x3. Therefore, in order to irradiate the same position on the work W, an extra X
It is necessary to tilt the axial drive mirror. Therefore, as shown in FIG. 12, an adder 6 and a position signal output circuit 7 that outputs a signal corresponding to the position of the work W are provided. Then, the position signal Sp of the workpiece W output by the position signal output circuit 7 is added to the pattern signal Sl sent from the CPU 5 to obtain the irradiation position control signal St, and the irradiation position control signal St is set to the irradiation position control means. Send to 2. Even when the work W is moving in the opposite direction, the CPU 5
The irradiation position control signal can be obtained by subtracting or inverting the position signal Sp of the work W from the pattern signal Sl sent from the.

【0009】ここで、照射位置制御手段2の位置は固定
であり、また、そのミラーの回転角には制限があるの
で、レーザビームを照射できる範囲(印字/描画できる
範囲)は所定範囲内に限られる(この範囲を以下、照射
可能範囲(描画可能範囲)という)。したがって、上記
ミラーの回転角が最大角度(所定角度)まで達したら、
再び初期角度までミラー位置をリセットする必要があ
る。
Since the position of the irradiation position control means 2 is fixed and the rotation angle of the mirror is limited, the range in which the laser beam can be irradiated (printable / drawable range) is within a predetermined range. Limited (This range is called irradiation range (drawable range) below). Therefore, when the rotation angle of the mirror reaches the maximum angle (predetermined angle),
It is necessary to reset the mirror position to the initial angle again.

【0010】そこで、位置信号出力回路7を、例えば、
コンベア速度に比例した周波数のパルス信号をカウント
するカウンタ等で構成する。そして、その最大カウント
値を、照射位置制御手段2のミラーが最大角(所定角)
回転するに必要なパルス数に設定し、該カウンタが最大
カウント値に達したらカウンタをリセットする。すなわ
ち、位置信号出力回路7の出力を鋸波とすることによ
り、上記ミラーの回転角を所定の範囲内に制御すること
ができる。
Therefore, the position signal output circuit 7 is, for example,
It consists of a counter that counts pulse signals with a frequency proportional to the conveyor speed. Then, the maximum count value is set to the maximum angle (predetermined angle) of the mirror of the irradiation position control means 2.
The number of pulses required for rotation is set, and when the counter reaches the maximum count value, the counter is reset. That is, by making the output of the position signal output circuit 7 a sawtooth wave, the rotation angle of the mirror can be controlled within a predetermined range.

【0011】以上のように、CPU5が出力するパター
ン信号Sl と位置信号出力回路7が出力するワークWの
位置信号Sp を加算して照射位置制御信号St を得て、
照射位置制御装置2のX軸スキャナー2c、Y軸スキャ
ナー2dに照射位置制御信号St を送る。照射位置制御
手段2のX軸スキャナー2c、Y軸スキャナー2dは上
記照射位置制御信号St によりX軸ミラー2a、Y軸ミ
ラー2bを回転させレーザ1から放射されるレーザビー
ムをワークW上の所定位置に照射する。これにより、ワ
ークW上に所望の文字/図形パターンが印字/描画され
る。ワークWへの印字/描画が終了すると、例えば、X
軸ミラー2a、Y軸ミラー2bの角度を印字/描画パタ
ーンの書き始め位置(レーザビームの照射開始位置)を
照射する角度に戻し、次のワークの印字/描画に備え
る。
As described above, the pattern signal Sl output from the CPU 5 and the position signal Sp of the workpiece W output from the position signal output circuit 7 are added to obtain the irradiation position control signal St,
An irradiation position control signal St is sent to the X-axis scanner 2c and the Y-axis scanner 2d of the irradiation position control device 2. The X-axis scanner 2c and the Y-axis scanner 2d of the irradiation position control means 2 rotate the X-axis mirror 2a and the Y-axis mirror 2b by the irradiation position control signal St so that the laser beam emitted from the laser 1 is moved to a predetermined position on the work W. To irradiate. As a result, a desired character / graphic pattern is printed / drawn on the work W. When printing / drawing on the work W is completed, for example, X
The angles of the axis mirror 2a and the Y-axis mirror 2b are returned to the angles at which the writing / writing start position (laser beam irradiation start position) of the printing / drawing pattern is irradiated to prepare for the next printing / drawing of the work.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記したマーキング装
置においては、一つのワークへの印字描画が終了する
と、X軸ミラー2a、Y軸ミラー2bの角度を印字/描
画パターンの書き始め位置を照射する角度に戻し、その
角度でX軸ミラー2a、Y軸ミラー2bを待機させてい
る。
In the above marking device, when the printing / drawing on one work is completed, the angles of the X-axis mirror 2a and the Y-axis mirror 2b are irradiated to the writing start position of the printing / drawing pattern. After returning to the angle, the X-axis mirror 2a and the Y-axis mirror 2b are on standby at the angle.

【0013】このため、印字/描画パターンが頻繁に変
更になる場合には、ミラー角度をその都度、新たな書き
始め位置を照射する角度に移動させなければならず、ミ
ラーの移動に時間がかかり、迅速なマーキングを行うこ
とができない。そこで、一つのワークWへのパターンの
印字/描画が終了したとき、ミラーの角度を、ワークW
全体が照射可能範囲(描画可能範囲)に入った後、印字
/描画を開始する時点におけるワークWの略中心位置を
照射する位置に戻して待機させれば、ミラー移動時間を
短縮することができる。
Therefore, when the printing / drawing pattern is changed frequently, the mirror angle must be moved to the angle for irradiating a new writing start position each time, and it takes time to move the mirror. , Unable to do quick marking. Therefore, when the printing / drawing of the pattern on one work W is completed, the angle of the mirror is set to the work W.
The mirror movement time can be shortened by returning the substantially central position of the work W to the irradiation position and making it stand by after the entire area enters the irradiation range (drawable range). .

【0014】すなわち、ワークWの略中心位置を照射す
る位置にミラー角度を戻しておけば、次の供給されるワ
ークWに対する書き始め位置がワークW上のどの位置で
あっても比較的短時間でミラー角度を新たな書き始め位
置を照射する角度に移動させることができ、ミラーの平
均移動時間を短縮することができる。図15、図16、
図17は上記のようにワークの略中心位置を照射する位
置にミラー角度を戻して待機させる場合の動作を説明す
る図である。
That is, if the mirror angle is returned to the position where the work W is irradiated to the substantially central position, the writing start position for the next supplied work W is whatever position on the work W for a relatively short time. With, the mirror angle can be moved to an angle at which a new writing start position is irradiated, and the average movement time of the mirror can be shortened. 15, 16,
FIG. 17 is a diagram for explaining the operation in the case where the mirror angle is returned to the position for irradiating the substantially central position of the work and the device is on standby as described above.

【0015】図15(a)に示すように、ワークWがコ
ンベア4によりX方向に搬送され、照射位置制御手段2
の描画可能範囲Ar (照射可能範囲)に入ってくるもの
とし、ワークWのX軸方向の長さをWL、また、上記描
画可能範囲Ar のX軸方向の長さをDLとする。また、
ワークWの搬送方向下流側のエッジをWE1、搬送方向
上流側のエッジをWE2とする。また、描画可能範囲A
r の搬送方向上流側のエッジをAE2とし、また、描画
可能範囲Ar の搬送方向下流側のエッジをAE1とす
る。
As shown in FIG. 15A, the work W is conveyed in the X direction by the conveyor 4, and the irradiation position control means 2
, And the length of the work W in the X-axis direction is WL, and the length of the drawable range Ar in the X-axis direction is DL. Also,
The edge on the downstream side in the transport direction of the work W is WE1 and the edge on the upstream side in the transport direction is WE2. Also, the drawable range A
The upstream edge of r in the transport direction is AE2, and the downstream edge of the drawable range Ar in the transport direction is AE1.

【0016】なお、同図では、ワークWの全域が描画可
能範囲Ar に入った時点におけるワーク位置(同図のワ
ークW1)と、ワークのエッジWE2が描画可能範囲A
r のエッジAE2から距離L2にある(ワークのエッジ
WE1は描画可能範囲Ar のエッジAE2から距離L1
にある)ときのワーク(同図におけるワークW2)が示
されている。
In the figure, the work position (workpiece W1 in the figure) at the time when the entire area of the work W enters the drawable area Ar, and the work edge WE2 indicate the drawable area A.
There is a distance L2 from the edge AE2 of r (the edge WE1 of the work is a distance L1 from the edge AE2 of the drawable range Ar).
Work) (work W2 in the figure).

【0017】また、ミラーが待機しているとき、ミラー
角度は、図15(a)に示すように、ワークWの全域が
描画可能範囲Ar に入った時点における被照射体の略中
心〔図15(a)における点R〕を照射する角度に設定
され、ワークWが供給されると、ミラーは点Rを照射す
る角度から印字/描画パターンの書き始め位置を照射す
る角度に移動し、この点でレーザ1がオンとなり次のワ
ークWに対して印字/描画が開始される。
Further, when the mirror is on standby, the mirror angle is approximately the center of the irradiated object at the time when the entire area of the work W enters the drawable range Ar, as shown in FIG. When the work W is supplied, the mirror moves from the irradiation angle of the point R to the irradiation angle of the writing start position of the print / drawing pattern. Then, the laser 1 is turned on and printing / drawing is started on the next work W.

【0018】ここで、図15(b)(c)に示すよう
に、ワークW上に文字パターンP1,P2を印字する場
合を考える。すなわち、レーザビームをワークWのY軸
方向(ワークWの進行方向に直交する方向)に移動させ
ながら1行を印字し、ついで、レーザビームの照射位置
をワークWの移動方向の上流側に1行分移動させて次の
行を印字し、以下同様に改行しながら必要行数印字する
ものとする。
Here, consider a case where the character patterns P1 and P2 are printed on the work W as shown in FIGS. 15 (b) and 15 (c). That is, one line is printed while moving the laser beam in the Y-axis direction of the work W (direction orthogonal to the traveling direction of the work W), and then the irradiation position of the laser beam is set to 1 upstream of the moving direction of the work W. The next line is printed by moving by the line, and the required number of lines are printed with line breaks in the same way.

【0019】なお、ここでは、上記パターンP1,P2
の各行のX軸方向の幅はワークWのX軸方向の長さに対
して十分小さいと仮定する。図16は図15に示した前
提でワークに文字を印字する場合のビームの移動軌跡を
示す図であり、同図の横軸は時間、縦軸は描画可能範囲
Ar のエッジAE2からの距離である。
In this case, the patterns P1 and P2 are used.
It is assumed that the width of each row in the X-axis direction is sufficiently smaller than the length of the work W in the X-axis direction. FIG. 16 is a diagram showing a beam movement locus in the case of printing characters on a work on the premise shown in FIG. 15, in which the horizontal axis represents time and the vertical axis represents the distance from the edge AE2 of the drawable range Ar. is there.

【0020】同図において、時間t1はワークWのエッ
ジWE1が上記エッジAE2に達した時点であり、時間
t2はワークWのエッジWE2が上記エッジAE2に達
した時点であり、また、時間t3はワークWが図15
(a)のW2の位置に達した時点である。そして、上記
待機位置Rからの移動は、ワークWの全域が描画可能範
囲Ar に入った時点、すなわち、時間t2で開始され
る。
In the figure, time t1 is the time when the edge WE1 of the work W reaches the edge AE2, time t2 is the time when the edge WE2 of the work W reaches the edge AE2, and time t3 is the time t3. The work W is shown in FIG.
This is the time when the position W2 in (a) is reached. The movement from the standby position R is started at the time when the whole area of the work W enters the drawable range Ar, that is, at time t2.

【0021】例えば、パターンP1を印字する場合、ま
ず、ミラー角度が待機位置Rを照射する角度からパター
ンP1の書き始め位置Q1を照射する角度に移動する。
そして、ミラー角度が位置Q1を照射する位置に達した
とき、レーザビームの照射を開始し、ワークWのエッジ
WE1から一定の距離PL1を保ちながら一行目を印字
する。
For example, when printing the pattern P1, first, the mirror angle moves from the irradiation angle of the standby position R to the irradiation angle of the writing start position Q1 of the pattern P1.
Then, when the mirror angle reaches the position for irradiating the position Q1, the irradiation of the laser beam is started, and the first line is printed while maintaining a constant distance PL1 from the edge WE1 of the work W.

【0022】一行目の印字が終了すると、ミラー角度が
次の行の書き始め位置Q2を照射する位置に移動し、次
の行を上記と同様に印字する。そして、パターンP1の
印字が終了すると、ミラー角度は上記待機位置Rを照射
する角度に戻り、次の被照射体が搬送されてくるのを待
つ。ところで、上記のようにミラーを制御する場合、印
字する速度が遅かったり、あるいは、印字する行長が長
い場合、ワークW上の印字位置によっては、印字中にワ
ークWが描画可能範囲Ar から出てしまい一部印字がで
きない場合が生ずる。
When the printing of the first line is completed, the mirror angle moves to the position where the writing start position Q2 of the next line is irradiated, and the next line is printed in the same manner as above. Then, when the printing of the pattern P1 is completed, the mirror angle returns to the angle for irradiating the standby position R, and waits for the next irradiation target to be conveyed. By the way, when the mirror is controlled as described above, if the printing speed is slow or the line length to be printed is long, the work W may come out of the drawable range Ar during printing depending on the printing position on the work W. There is a case where printing is not possible due to partial printing.

【0023】図17は上記のようにワークW上に所望の
パターンを印字できない場合を示す図である。すなわ
ち、前記したように、照射位置制御手段2の設置位置は
固定されているので描画可能範囲Ar に限界があり、印
字する速度が遅い場合(印字する行長が長い場合)には
図17に示すように、印字中にレーザビームの移動軌跡
が描画可能範囲Ar からはみ出し一部が印字できなくな
る。
FIG. 17 is a diagram showing a case where a desired pattern cannot be printed on the work W as described above. That is, as described above, since the installation position of the irradiation position control means 2 is fixed, there is a limit to the drawable range Ar, and when the printing speed is slow (when the line length to be printed is long), FIG. As shown in the drawing, the locus of movement of the laser beam is out of the drawable range Ar during printing and a part of the area cannot be printed.

【0024】以上のように、ミラーの角度を、印字/描
画を開始する時点におけるワークWの略中心位置を照射
する位置に戻して待機させればミラー移動時間を短縮す
ることができものの、印字/描画速度が遅い場合には、
ワークW上に所望の文字/図形パターンの一部を印字/
描画できない。なお、このような場合には、描画可能範
囲Ar を広くしたり、あるいは、印字/描画速度を速く
すればよいが、描画可能範囲Ar を大きくするために
は、ミラー2a,2bの回転可能角を大きくしなければ
ならず、それに応じて精度が低下したり応答速度が低下
する。また、印字/描画速度を速くするためには、照射
するビームの出力を大きくしたり、ミラーの移動速度を
速くしなければならず、高出力のレーザ1を用いたり、
あるいは、照射位置制御手段2として、高速かつ高応答
の制御手段を用いる必要が生ずる。
As described above, although the mirror movement time can be shortened by returning the angle of the mirror to the irradiation position of the substantially central position of the work W at the time of starting the printing / drawing, the mirror moving time can be shortened. / If the drawing speed is slow,
Print part of desired character / graphic pattern on work W /
I can't draw. In such a case, the drawable range Ar may be widened or the printing / drawing speed may be increased. In order to increase the drawable range Ar, the rotatable angles of the mirrors 2a and 2b are increased. Must be increased, and the accuracy and response speed decrease accordingly. In addition, in order to increase the printing / drawing speed, it is necessary to increase the output of the irradiation beam or to increase the moving speed of the mirror, and use the high output laser 1.
Alternatively, it is necessary to use, as the irradiation position control means 2, a high speed and high response control means.

【0025】本発明は上記した従来技術の問題点を解決
するためになされたものであり、本発明の第1の目的
は、描画可能範囲の全域を有効に利用して所望の文字/
図形パターンを被照射体上に印字/描画することがで
き、印字/描画速度が遅い場合であっても、従来例に比
べ印字/描画量を多くすることが可能なミラー位置の制
御方法および装置を提供することである。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems of the prior art, and the first object of the present invention is to effectively utilize the entire drawable range to obtain desired characters / characters.
Mirror position control method and device capable of printing / drawing a graphic pattern on an irradiation target and increasing the printing / drawing amount as compared with the conventional example even when the printing / drawing speed is slow Is to provide.

【0026】本発明の第2の目的は、ビームの照射位置
を迅速に書き始め位置に移動させることができ、迅速な
印字/描画を行うことができるミラー位置の制御方法お
よび装置を提供することである。
A second object of the present invention is to provide a mirror position control method and apparatus capable of rapidly moving the irradiation position of the beam to the writing start position and performing rapid printing / drawing. Is.

【0027】[0027]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の請求項1の発明は、光源から放射される光
ビームを反射するミラーの角度/位置を制御して、移動
する被照射体に対して、与えられた照射パターンに沿っ
て光ビームを照射する光照射器におけるミラー角度/位
置の制御方法において、被照射体の進行方向上流側の照
射可能範囲の端辺から、被照射体の進行方向の照射パタ
ーンの幅に応じて定まる所定距離離れた点であって、か
つ、上記端辺の略中心を通り被照射体の進行方向に平行
な直線上の点を待機位置として、該待機位置を照射する
角度/位置にミラーを待機させ、被照射体の被照射領域
が上記照射可能範囲に入ったとき、被照射体の移動に合
わせて上記ミラー角度/位置を制御しながら上記パター
ンに沿って光ビームを移動させて被照射体に光ビームを
照射し、上記パターンに沿った照射が終了したとき、上
記待機位置を照射する角度/位置にミラーを戻して待機
させるようにしたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 of the present invention controls the angle / position of a mirror for reflecting a light beam emitted from a light source to move an irradiated object. In a method of controlling a mirror angle / position in a light irradiator that irradiates a light beam to a body according to a given irradiation pattern, the irradiation target is irradiated from the end side of an irradiation range upstream of the irradiation target in the traveling direction. As a standby position, a point that is a predetermined distance apart depending on the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the body, and is a point on a straight line that passes through the approximate center of the end side and is parallel to the traveling direction of the irradiation target, The mirror is made to stand by at the angle / position for irradiating the standby position, and when the irradiation area of the irradiation target falls within the irradiation possible range, the mirror angle / position is controlled according to the movement of the irradiation target while controlling the mirror angle / position. Light beam along the pattern The moved by irradiating a light beam on the irradiated body, when the irradiation along the pattern has been completed, it is obtained so as to stand back mirror to an angle / position of irradiating the standby position.

【0028】本発明の請求項2の発明は、光源から放射
される光ビームを反射するミラーの角度/位置を制御し
て、移動する被照射体に対して、与えられた照射パター
ンに沿って光ビームを照射する光照射器におけるミラー
角度/位置の制御方法において、被照射体の進行方向上
流側の照射可能範囲の端辺上の中点を待機位置として、
該待機位置を照射する角度/位置にミラーを待機させ、
被照射体の被照射領域が上記照射可能範囲に入ったと
き、被照射体の移動に合わせて上記ミラー角度/位置を
制御しながら上記パターンに沿って光ビームを移動させ
て被照射体に光ビームを照射し、上記パターンに沿った
照射が終了したとき、上記待機位置を照射する角度/位
置にミラーを戻して待機させるようにしたものである。
According to a second aspect of the present invention, the angle / position of the mirror that reflects the light beam emitted from the light source is controlled, and the moving object to be irradiated is moved along the given irradiation pattern. In a method of controlling a mirror angle / position in a light irradiator for irradiating a light beam, a midpoint on an end side of an irradiation possible range on an upstream side in a traveling direction of an irradiation target is set as a standby position,
Make the mirror stand by at the angle / position that illuminates the standby position,
When the irradiation area of the irradiation object enters the irradiation possible range, the light beam is moved along the pattern while controlling the mirror angle / position according to the movement of the irradiation object and the light is irradiated to the irradiation object. When the beam is irradiated and the irradiation along the pattern is completed, the mirror is returned to the angle / position for irradiating the standby position so as to stand by.

【0029】本発明の請求項3の発明は、回転可能なミ
ラーを備え、移動する被照射体に光ビームを照射する照
射位置制御手段と、上記照射位置制御手段のミラー角度
/位置を制御して、照射位置制御手段から照射される光
ビームの被照射体への照射位置を制御する処理手段と、
照射位置制御手段に対する被照射体の相対位置を出力す
る位置信号出力手段と、上記処理手段の出力と位置信号
出力手段の出力とを加算して加算結果を照射位置制御手
段に与える加算器とを備えた光照射器におけるミラー角
度/位置の制御装置において、上記処理手段に、待機位
置設定手段と、光ビームの照射位置を移動制御する照射
位置移動制御手段とを設け、上記待機位置設定手段は、
被照射体の進行方向上流側の照射可能範囲の端辺から、
被照射体の進行方向の照射パターンの幅に応じて定まる
所定距離離れた点であって、かつ、上記端辺の略中心を
通り被照射体の進行方向に平行な直線上の点を待機位置
として設定し、上記照射位置移動制御手段は、待機位置
設定手段の出力に基づきミラーを上記待機位置を照射す
る角度/位置に待機させ、被照射体の被照射領域が上記
照射可能範囲に入ったとき、上記パターンに沿って光ビ
ームを移動させる信号を上記加算器に出力し、上記パタ
ーンに沿った照射が終了後、上記待機位置を照射する角
度/位置にミラーを戻して待機させるように構成したも
のである。
According to a third aspect of the present invention, an irradiation position control means for irradiating a moving object with a light beam is provided with a rotatable mirror, and the mirror angle / position of the irradiation position control means is controlled. And processing means for controlling the irradiation position of the light beam emitted from the irradiation position control means on the irradiation target,
A position signal output means for outputting the relative position of the irradiation object to the irradiation position control means, and an adder for adding the output of the processing means and the output of the position signal output means to give the addition result to the irradiation position control means. In the mirror angle / position control device in the provided light irradiator, the processing means is provided with a standby position setting means and an irradiation position movement control means for moving and controlling the irradiation position of the light beam. ,
From the edge of the irradiation possible range on the upstream side in the traveling direction of the irradiation target,
Stand-by position is a point that is a predetermined distance that is determined according to the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the irradiation target, and that is on a straight line that passes through the approximate center of the edge and is parallel to the traveling direction of the irradiation target. The irradiation position movement control means causes the mirror to stand by at the angle / position for irradiating the standby position based on the output of the standby position setting means, and the irradiation area of the irradiation object enters the irradiation possible range. At this time, a signal for moving the light beam along the pattern is output to the adder, and after the irradiation according to the pattern is completed, the mirror is returned to the angle / position for irradiating the standby position to stand by. It was done.

【0030】本発明の請求項4の発明は、請求項3の発
明において、被照射体の進行方向の照射パターンの幅を
入力する操作手段を設け、該操作手段から入力された照
射パターンの幅に基づき、待機位置設定手段が待機位置
を設定するようにしたものである。本発明の請求項5の
発明は、回転可能なミラーを備え、移動する被照射体に
光ビームを照射する照射位置制御手段と、上記照射位置
制御手段のミラー角度/位置を制御して、照射位置制御
手段から照射される光ビームの被照射体への照射位置を
制御する処理手段と、照射位置制御手段に対する被照射
体の相対位置を出力する位置信号出力手段と、上記処理
手段の出力と位置信号出力手段の出力とを加算して加算
結果を照射位置制御手段に与える加算器とを備えた光照
射器におけるミラー角度/位置の制御装置において、上
記処理手段に、待機位置設定手段と、光ビームの照射位
置を移動制御する照射位置移動制御手段とを設け、上記
待機位置設定手段は、被照射体の進行方向上流側の照射
可能範囲の端辺上の中点を待機位置として設定し、上記
照射位置移動制御手段は、待機位置設定手段の出力に基
づきミラーを上記待機位置を照射する角度/位置に待機
させ、被照射体の被照射領域が上記照射可能範囲に入っ
たとき、上記パターンに沿って光ビームを移動させる信
号を上記加算器に出力し、上記パターンに沿った照射が
終了後、上記待機位置を照射する角度/位置にミラーを
戻して待機させるように構成したものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the invention, an operating means for inputting the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the object to be irradiated is provided, and the width of the irradiation pattern input from the operating means. The standby position setting means sets the standby position based on the above. According to a fifth aspect of the present invention, the irradiation position control means for irradiating the moving irradiation object with a light beam is provided with a rotatable mirror, and the irradiation position control means controls the mirror angle / position to perform irradiation. Processing means for controlling the irradiation position of the light beam emitted from the position control means to the irradiation object; position signal output means for outputting the relative position of the irradiation object to the irradiation position control means; and output of the processing means. In a mirror angle / position control device in a light irradiator including an adder for adding the output of the position signal output means and giving an addition result to the irradiation position control means, the processing means includes a standby position setting means, An irradiation position movement control means for moving and controlling the irradiation position of the light beam is provided, and the standby position setting means sets a middle point on the end side of the irradiation possible range on the upstream side in the traveling direction of the irradiation target as the standby position. ,Up The irradiation position movement control means causes the mirror to stand by at the angle / position for irradiating the standby position based on the output of the standby position setting means, and when the irradiation area of the irradiation object enters the irradiation possible range, the irradiation position movement control means sets the pattern to the above pattern. A signal for moving the light beam along is output to the adder, and after the irradiation according to the pattern is completed, the mirror is returned to the angle / position for irradiating the standby position to stand by.

【0031】[0031]

【作用】本発明の請求項1および請求項4の発明におい
ては、移動する被照射体の進行方向上流側の照射可能範
囲の端辺から、被照射体の進行方向の照射パターンの幅
に応じて定まる所定距離離れた点であって、かつ、上記
端辺の略中心を通り被照射体の進行方向に平行な直線上
の点を待機位置として、該待機位置を照射する角度/位
置にミラーを待機させ、被照射体の被照射領域が上記照
射可能範囲に入ったとき、被照射体の移動に合わせて上
記ミラー角度/位置を制御しながら上記パターンに沿っ
て光ビームを移動させて被照射体に光ビームを照射し、
上記パターンに沿った照射が終了したとき、上記待機位
置を照射する角度/位置にミラーを戻して待機させるよ
うにしたので、描画可能範囲(照射可能範囲)の全域を
有効に利用して所望の文字/図形パターンをワーク上に
印字/描画することができ、印字/描画速度が遅い場合
であっても、従来例に比べ印字/描画量を多くすること
ができる。
According to the first and fourth aspects of the present invention, depending on the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the irradiated object from the end side of the irradiation possible range on the upstream side in the traveling direction of the moving irradiated object. A point on a straight line that is a predetermined distance away from the end side and that is substantially parallel to the traveling direction of the irradiation target, and is set as a standby position. When the irradiated area of the irradiated object enters the irradiation possible range, the light beam is moved along the pattern while controlling the mirror angle / position according to the movement of the irradiated object. Irradiate the illuminator with a light beam,
When the irradiation according to the pattern is completed, the mirror is returned to the angle / position for irradiating the standby position so as to stand by. Therefore, the entire drawable range (irradiable range) is effectively used to obtain a desired value. A character / graphic pattern can be printed / drawn on the work, and even if the printing / drawing speed is slow, the printing / drawing amount can be increased compared to the conventional example.

【0032】また、上記待機位置を上記のように照射可
能範囲の端辺の略中心を通り被照射体の進行方向に平行
な直線上の点としているので、上記待機位置からパター
ンの照射開始位置(書き始め位置)に短時間に移動する
ことができる。さらに、被照射体の被照射領域が照射可
能範囲に入った時点で直ちに印字/描画を開始している
ので、印字/描画する位置/パターンが変更になった場
合であっても、上記待機位置からパターンの照射開始位
置に移動する時間を略同一の時間とすることができる。
Further, since the standby position is a point on a straight line which passes through the approximate center of the end side of the irradiation range and is parallel to the traveling direction of the object to be irradiated, the irradiation start position of the pattern from the standby position. It is possible to move to (writing start position) in a short time. Further, since printing / drawing is started immediately when the irradiated area of the irradiated body enters the irradiation range, even if the position / pattern for printing / drawing is changed, the standby position It is possible to make the time for moving from the pattern irradiation start position to the substantially same time.

【0033】また、請求項4の発明のように、被照射体
の進行方向の照射パターンの幅を入力する操作手段を設
け、該操作手段から入力された照射パターンの幅に基づ
き、上記待機位置を設定することにより、照射パターン
に応じた最適な待機位置に設定することができる。本発
明の請求項2および請求項5の発明においては、被照射
体の進行方向上流側の照射可能範囲の端辺上の中点を待
機位置として、該待機位置を照射する角度/位置にミラ
ーを待機させるようにしたので、請求項1,請求項3の
発明と同様、描画可能範囲(照射可能範囲)の全域を有
効に利用して所望の文字/図形パターンをワーク上に印
字/描画することができる等の効果を得ることができる
とともに、パターンの大きさ等を考慮することなく待機
位置を定めることができ、処理を簡単化することができ
る。
Further, as in the invention of claim 4, an operating means for inputting the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the irradiation object is provided, and the standby position is set based on the width of the irradiation pattern input from the operating means. By setting, it is possible to set the optimum standby position according to the irradiation pattern. According to the second and fifth aspects of the present invention, the mirror is set at an angle / position for irradiating the standby position, with the midpoint on the end side of the irradiation range on the upstream side in the traveling direction of the irradiation target being the standby position. As described above, the desired character / graphic pattern is printed / drawn on the work by effectively utilizing the entire drawable range (irradiable range) as in the first and third aspects of the invention. It is possible to obtain the effect such as being possible, and the standby position can be set without considering the size of the pattern and the like, and the processing can be simplified.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】図1は本発明の実施例のマーキン
グ装置の構成を示す図である。同図において、前記図1
2に示したものと同一のものには同一の符号が付されて
おり、本実施例では、オペレータコンソール8を備えて
おり、オペレータコンソール8から作業者は、印字/描
画する文字/図形の大きさ等を設定することができる。
また、CPU5には、待機位置設定パラメータを保持す
る手段5a、待機位置設定手段5b、照射位置移動制御
手段5c、パターンデータ信号送出手段5dが設けられ
ている。
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of a marking device according to an embodiment of the present invention. In FIG.
The same components as those shown in FIG. 2 are designated by the same reference numerals, and in this embodiment, the operator console 8 is provided, and the operator console 8 allows the operator to print / draw characters / graphics. You can set the size.
Further, the CPU 5 is provided with a means 5a for holding a standby position setting parameter, a standby position setting means 5b, an irradiation position movement control means 5c, and a pattern data signal sending means 5d.

【0035】図2は本実施例における印字/描画を開始
するミラーの待機位置を示す図であり、本実施例におい
ては、移動しているワークW上に印字/描画するため、
前記した待機位置をワークWの中心座標からワークWの
進行方向に対して上流側に移動させる。すなわち、同図
に示すように、ミラーの待機位置は描画可能範囲Ar
(照射可能範囲)の上流側であって、かつ、書き始めの
印字/描画が描画可能範囲Ar をはみ出さない程度の位
置Aとする。例えば、パターンの進行方向の幅が10m
mなら同図に示すように該幅よりさらに2mm〜3mm
余裕を見込んで、描画可能範囲Ar の上流側の端部から
12〜13mm程度の位置に設定するのが望ましい。
FIG. 2 is a diagram showing the standby position of the mirror for starting printing / drawing in this embodiment. In this embodiment, since printing / drawing is performed on the moving work W,
The standby position described above is moved from the center coordinates of the work W to the upstream side in the traveling direction of the work W. That is, as shown in the figure, the standby position of the mirror is the drawable area Ar.
The position A is on the upstream side of the (irradiable range) and is such that the printing / drawing at the beginning of writing does not extend beyond the drawable range Ar. For example, the width of the pattern in the traveling direction is 10 m
If it is m, it is 2 mm to 3 mm further than the width as shown in the figure.
It is desirable to set it at a position of about 12 to 13 mm from the upstream end of the drawable range Ar in consideration of a margin.

【0036】上記のようにすることにより、照射可能範
囲(描画可能範囲)の端から書き始めることができ、印
字/描画の数を最大にすることができる。また、ミラー
の待機位置を文字/図形パターンの座標中心にすること
により、文字/図形パターンの書き始め点(照射開始位
置)への移動の時間遅れを少なくすることもできる。な
お、ミラーの待機位置を同図のB点にすることもでき
る。この場合には、印字/描画する文字/図形によって
は、書き始め点へのミラーの移動時間がミラーの待機位
置をA点とした場合より多少長くなるが、上記と同様、
印字/描画の数を最大にすることができる。
By doing the above, writing can be started from the end of the irradiation range (drawable range), and the number of printing / drawing can be maximized. Further, by setting the standby position of the mirror at the coordinate center of the character / graphic pattern, it is possible to reduce the time delay of the movement of the character / graphic pattern to the writing start point (irradiation start position). The standby position of the mirror can be set to point B in the figure. In this case, depending on the characters / graphics to be printed / drawn, the movement time of the mirror to the writing start point is slightly longer than that when the standby position of the mirror is set to point A.
The number of prints / drawings can be maximized.

【0037】図3、図4、図5はミラーの待機位置を上
記のように設定した場合の本実施例の動作を説明する図
である。前記図15で説明したのと同様、図3(a)に
示すように、ワークWがコンベア4によりX方向に搬送
され、照射位置制御手段2の描画可能範囲Ar に入って
くるものとし、ワークWのX軸方向の長さをWL、ま
た、上記描画可能範囲ArのX軸方向の長さをDLとす
る。また、ワークWの搬送方向下流側のエッジをWE
1、搬送方向上流側のエッジをWE2とする。また、描
画可能範囲Ar の搬送方向上流側のエッジをAE2と
し、また、描画可能範囲Ar の搬送方向下流側のエッジ
をAE1とする。
FIGS. 3, 4 and 5 are diagrams for explaining the operation of this embodiment when the standby position of the mirror is set as described above. As described with reference to FIG. 15 above, as shown in FIG. 3A, the work W is conveyed in the X direction by the conveyor 4 and enters the drawable range Ar of the irradiation position control means 2. The length of W in the X-axis direction is WL, and the length of the drawable range Ar in the X-axis direction is DL. Further, the edge of the work W on the downstream side in the transport direction is WE
1. The edge on the upstream side in the transport direction is WE2. An edge on the upstream side of the drawable range Ar in the transport direction is designated as AE2, and an edge on the downstream side of the drawable range Ar in the transport direction is designated as AE1.

【0038】なお、同図では、ワークWの一部が描画可
能範囲Ar に入った時のワーク位置(同図のワークW
1)と、ワークのエッジWE2が描画可能範囲Ar のエ
ッジAE2から距離L2にある(ワークのエッジWE1
は描画可能範囲Ar のエッジAE2から距離L1にあ
る)ときのワーク(同図におけるワークW2)が示され
ている。
In the figure, the work position when a part of the work W enters the drawable range Ar (the work W in the figure
1) and the edge WE2 of the work is at a distance L2 from the edge AE2 of the drawable range Ar (the edge WE1 of the work).
Indicates a work (work W2 in the figure) at a distance L1 from the edge AE2 of the drawable range Ar.

【0039】なお、ここでは、理解を容易にするため、
ワークWに印字するパターンのX軸方向の幅はワークW
の大きさに対して十分小さいと仮定する。上記のような
仮定をすると、前記図2に示したミラーの待機位置Aと
Bは事実上一致し、待機位置A(待機位置B)は図3
(a)に示すように、照射可能範囲Ar のエッジAE2
の略中央に設定され、ワークWが供給されると、ミラー
は点Aを照射する角度から印字/描画パターンの書き始
め位置(照射開始位置)を照射する角度に移動し、この
点でレーザ1がオンとなりワークWに対して印字/描画
が開始される。なお、パターンのX軸方向の幅が大きい
場合については後述する。
Here, in order to facilitate understanding,
The width of the pattern printed on the work W in the X-axis direction is the work W
Suppose it is small enough for the size of. If the above assumption is made, the standby positions A and B of the mirror shown in FIG. 2 substantially coincide with each other, and the standby position A (standby position B) is shown in FIG.
As shown in (a), the edge AE2 of the irradiation possible range Ar
When the workpiece W is supplied, the mirror moves from the irradiation angle of the point A to the irradiation angle of the writing start position (irradiation start position) of the print / drawing pattern, and at this point the laser 1 Is turned on and printing / drawing is started on the work W. The case where the width of the pattern in the X-axis direction is large will be described later.

【0040】ここで、前記図15(b)(c)と同様、
図3(b)(c)に示すように、ワークW上に文字パタ
ーンP1,P2を印字する場合を考える。すなわち、レ
ーザビームをワークWのY軸方向(ワークWの進行方向
に直交する方向)に移動させながら1行を印字し、つい
で、レーザビームの照射位置をワークWの移動方向の上
流側に1行分移動させて次の行を印字し、以下同様に改
行しながら必要行数印字するものとする。
Here, as in FIGS. 15 (b) and 15 (c),
Consider a case where character patterns P1 and P2 are printed on a work W as shown in FIGS. That is, one line is printed while moving the laser beam in the Y-axis direction of the work W (direction orthogonal to the traveling direction of the work W), and then the irradiation position of the laser beam is set to 1 upstream of the moving direction of the work W. The next line is printed by moving by the line, and the required number of lines are printed with line breaks in the same way.

【0041】図4は図3に示した前提でワークに文字を
印字する場合の本実施例におけるレーザビーム照射点の
移動軌跡を示す図であり、同図の横軸は時間、縦軸は描
画可能範囲Ar のエッジAE2からの距離である。同図
において、時間t1はワークWにおけるパターンP2の
印字位置が描画可能範囲Ar のエッジAE2に達した時
点であり、時間t2はパターンP1の印字位置が描画可
能範囲Ar のエッジAE2に達した時点であり、また、
時間t3はワークWが図3(a)のW2の位置に達した
時点である。そして、ミラーの上記待機位置Aからの移
動は、パターンP2,P1を印字する場合には、それぞ
れ時間t1,t2で開始され、この時点でミラー角度は
パターンの書き始め位置(照射開始位置)を照射する角
度に移動し、ビームの照射が開始される。
FIG. 4 is a diagram showing the movement locus of the laser beam irradiation point in the present embodiment when characters are printed on the workpiece based on the premise shown in FIG. 3, in which the horizontal axis represents time and the vertical axis represents drawing. It is the distance from the edge AE2 of the possible range Ar. In the figure, time t1 is the time when the print position of the pattern P2 on the work W reaches the edge AE2 of the drawable range Ar, and time t2 is the time when the print position of the pattern P1 reaches the edge AE2 of the drawable range Ar. And also
Time t3 is the time when the workpiece W reaches the position of W2 in FIG. When the patterns P2 and P1 are printed, the movement of the mirror from the standby position A is started at times t1 and t2, respectively. At this point, the mirror angle is set to the pattern writing start position (irradiation start position). It moves to the irradiation angle and the irradiation of the beam is started.

【0042】例えば、パターンP1を印字する場合、ま
ず、時間t2でミラー角度が待機位置Aを照射する角度
から、ワークW上のパターンP1の書き始め位置Q1を
照射する角度に移動する(なお、この間ワークWは移動
しているので、実際のミラー角度はワークWの移動を加
味した角度となっている)。そして、ミラー角度が位置
Q1を照射する位置に達したとき、レーザビームの照射
を開始し、ワークWのエッジWE1から一定の距離PL
1を保ちながら一行目を印字する。
For example, when printing the pattern P1, first, at time t2, the mirror angle moves from the irradiation angle of the standby position A to the irradiation angle of the writing start position Q1 of the pattern P1 on the work W (note that Since the work W is moving during this time, the actual mirror angle is an angle that takes into consideration the movement of the work W). Then, when the mirror angle reaches the position to irradiate the position Q1, the irradiation of the laser beam is started, and the fixed distance PL from the edge WE1 of the work W is reached.
Keep 1 and print the first line.

【0043】一行目の印字が終了すると、ミラー角度が
次の行の書き始め位置Q2を照射する位置に移動し、次
の行を上記と同様に印字する。そして、パターンP1の
印字が終了すると、ミラー角度は上記待機位置Aを照射
する角度に戻り、次の被照射体が搬送されてくるのを待
つ。図5は印字する印字速度が速いか、あるいは印字す
るパターンの行長が短い場合の本実施例におけるビーム
照射位置の移動軌跡を示す図である。
When the printing of the first line is completed, the mirror angle moves to the position where the writing start position Q2 of the next line is irradiated, and the next line is printed in the same manner as above. Then, when the printing of the pattern P1 is completed, the mirror angle returns to the angle for irradiating the standby position A, and waits for the next irradiation target to be conveyed. FIG. 5 is a diagram showing the movement locus of the beam irradiation position in this embodiment when the printing speed for printing is fast or the line length of the pattern for printing is short.

【0044】印字する印字速度が速いか、あるいは印字
するパターンの行長が短い場合には、同図に示すように
一行目の印字が終わってもワークWの次の行の印字位置
が描画可能範囲内に入ってこないので、時間t1の間、
印字/描画したのち、時間t2だけ待ち、ワークWの次
の行の印字位置が描画可能範囲内に入ってきたとき、次
の行の印字を開始する。
When the printing speed for printing is high or the line length of the pattern for printing is short, the printing position of the next line of the work W can be drawn even after the printing of the first line is completed, as shown in FIG. Since it does not come within the range, during time t1,
After printing / drawing, the process waits for time t2, and when the print position of the next line of the work W is within the drawable range, printing of the next line is started.

【0045】図6(a)は前記した図2に示すようにパ
ターンのX軸方向の幅が広い場合において、待機位置を
図2の点Aとした場合のビームの照射位置の移動軌跡を
示す図であり、また同図(b)はミラー角度がパターン
の書き始め位置Q1に移動するときのワークWの位置を
示す図である。なお、同図では、理解を容易にするため
パターンP3は矩形で示されている。
FIG. 6A shows the movement locus of the irradiation position of the beam when the standby position is the point A in FIG. 2 when the width of the pattern in the X-axis direction is wide as shown in FIG. FIG. 3B is a diagram showing the position of the work W when the mirror angle moves to the pattern writing start position Q1. In the figure, the pattern P3 is shown as a rectangle for easy understanding.

【0046】同図において、LL1は描画可能範囲Ar
のエッジAE2から待機位置Aまでの距離(図2におい
ては12〜13mm)、LL2は文字幅(図2において
は10mm)、LL3はワークWに印字/描画を開始す
るときのワークWのエッジWE1と描画可能範囲Ar の
エッジAE2との距離、LL4はワークWのエッジWE
1から印字/描画パターンまでの距離である。
In the figure, LL1 is the drawable range Ar
From the edge AE2 to the standby position A (12 to 13 mm in FIG. 2), LL2 is the character width (10 mm in FIG. 2), and LL3 is the edge WE1 of the work W when printing / drawing on the work W is started. And the edge AE2 of the drawable range Ar, LL4 is the edge WE of the work W
It is the distance from 1 to the print / drawing pattern.

【0047】同図に示すように、この場合には、ワーク
WのエッジWE1と描画可能範囲Ar のエッジAE2と
の距離がLL3に達したとき、ミラー角度が待機位置A
を照射する位置からパターンの書き始め位置Q1を照射
する位置に移動し、位置Q1からビームの照射が開始さ
れ、パターンP3がワークW上に印字/描画される。な
お、待機位置を図2の点B(図6(b)におけるエッジ
AE2の略中央の点)とした場合には、図2の点Bを照
射する位置にミラーが待機し、この点Bから書き始め位
置Q1に移動する。このため、位置Aに待機するより、
若干ミラーの移動時間が増加する。
As shown in the figure, in this case, when the distance between the edge WE1 of the work W and the edge AE2 of the drawable range Ar reaches LL3, the mirror angle is set to the standby position A.
Is moved to a position where the pattern writing start position Q1 is irradiated, the beam irradiation is started from the position Q1, and the pattern P3 is printed / drawn on the work W. If the standby position is set to point B in FIG. 2 (a point substantially at the center of the edge AE2 in FIG. 6B), the mirror stands by at the position where point B in FIG. Move to the writing start position Q1. Therefore, rather than waiting at position A,
The movement time of the mirror slightly increases.

【0048】図7はワークWへの印字/描画方向がワー
クWの進行方向と同じである場合(前記図3、図4と逆
方向の場合)のビームの移動軌跡を示す図である。すな
わち、図8(a)(b)(c)に示すように、ワークW
に印字/描画する際、一行目の印字/描画が終わったの
ち、ミラーの照射位置が描画可能範囲Ar のエッジAE
2から遠ざかる方向に移動し、次の行の印字/描画を行
う場合を示しており、その他は前記した図3、図4と同
様である。
FIG. 7 is a diagram showing a beam movement locus in the case where the printing / drawing direction on the work W is the same as the traveling direction of the work W (the direction opposite to that in FIGS. 3 and 4). That is, as shown in FIGS. 8A, 8B, and 8C, the work W
When printing / drawing on the screen, after the printing / drawing of the first line is completed, the irradiation position of the mirror is the edge AE of the drawable range Ar.
2 shows a case where the print head is moved in a direction away from 2 and printing / drawing of the next line is performed, and other aspects are the same as those in FIGS. 3 and 4 described above.

【0049】この場合には、図7に示すように、改行す
る毎にミラーの照射位置はワークWのエッジWE1に近
づく方向に移動する。このため、ミラーの照射位置は前
記図3、図4の場合より早く描画可能範囲Ar の上限に
達し、印字/描画できる文字/図形パターン量は図3、
図4の場合より若干減少する。
In this case, as shown in FIG. 7, the irradiation position of the mirror moves in the direction approaching the edge WE1 of the work W each time a line feed occurs. Therefore, the irradiation position of the mirror reaches the upper limit of the drawable range Ar earlier than in the case of FIGS. 3 and 4, and the printable / drawable character / graphic pattern amount is as shown in FIG.
It is slightly smaller than in the case of FIG.

【0050】図9、図10は位置信号出力回路7の出力
と文字パターンの書き始め位置(照射開始位置)への移
動タイミングの関係を示す図であり、同図は文字パター
ンのワーク進行方向の幅が比較的小さい場合を示してお
り、図9はミラーの待機位置が点Aの場合、図10は待
機位置が点Bの場合である。また、同図において、LL
1は待機位置Aと描画可能範囲Ar のエッジAE2との
距離、LL2は前記したワークWの進行方向の文字幅で
ある。
9 and 10 are diagrams showing the relationship between the output of the position signal output circuit 7 and the movement timing of the character pattern to the writing start position (irradiation start position). 9 shows the case where the width is comparatively small, FIG. 9 shows the case where the standby position of the mirror is point A, and FIG. 10 shows the case where the standby position is point B. Further, in the figure, LL
1 is the distance between the standby position A and the edge AE2 of the drawable range Ar, and LL2 is the character width in the traveling direction of the work W described above.

【0051】図9(b)、図10(b)に示すように、
ワークWが描画可能範囲Ar に入ってきて、ワークWの
エッジWE1と描画可能範囲Ar のエッジAE2の距離
が印字しようとするパターンをワークWに書き得る距離
LL3になると、ミラー角度は待機位置AまたはBを照
射する角度から書き始め点Q1を照射する角度に移動
し、文字/図形パターンの印字/描画が開始される。
As shown in FIGS. 9 (b) and 10 (b),
When the work W enters the drawable range Ar and the distance between the edge WE1 of the work W and the edge AE2 of the drawable range Ar reaches the distance LL3 at which the pattern to be printed can be written on the work W, the mirror angle is set to the standby position A. Alternatively, it moves from the irradiation angle of B to the irradiation angle of the writing start point Q1, and the printing / drawing of the character / graphic pattern is started.

【0052】すなわち、ワークWのエッジWE1の位置
に対応した信号を出力する位置信号出力回路7の出力が
上記距離LL3に相当した値a1になった時点t1でミ
ラーの待機位置A(またはB)から書き始め位置Q1へ
の移動が開始され、文字パターンの印字/描画が開始さ
れる。図11は文字パターンが大きい場合の位置信号出
力回路7の出力と文字パターンの書き始め位置Q1への
移動タイミングの関係を示す図であり、LL1は待機位
置Aと描画可能範囲Ar のエッジAE2との距離、LL
2は前記したワークWの進行方向の文字幅である。
That is, at the time t1 when the output of the position signal output circuit 7 for outputting the signal corresponding to the position of the edge WE1 of the work W reaches the value a1 corresponding to the distance LL3, the standby position A (or B) of the mirror is obtained. From the start to the writing start position Q1, the printing / drawing of the character pattern is started. FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the output of the position signal output circuit 7 and the movement timing of the character pattern to the writing start position Q1 when the character pattern is large. LL1 is the standby position A and the edge AE2 of the drawable range Ar. Distance, LL
2 is the character width in the traveling direction of the work W described above.

【0053】文字幅が大きい場合も、上記図9、図10
の場合と同様、ワークWのエッジWE1の位置に対応し
た信号を出力する位置信号出力回路7の出力がエッジW
E1とエッジAE2の距離LL3に相当した値a2にな
った時点t2でミラーの移動が開始され、文字パターン
の印字が開始される。なお、同図に示すように、文字幅
LL2が大きい場合には、描画可能範囲ArのエッジA
E2からミラーの待機位置Aまでの距離LL1は、文字
幅LL2の略半分程度の距離とするのが望ましい。これ
により、ミラーは印字する文字/図形パターンの略中心
座標を照射する位置から書き始め位置Q1を照射する位
置に移動することができ、短時間で印字/描画を開始す
ることができる。
Even when the character width is large, the above-mentioned FIG. 9 and FIG.
As in the case of, the output of the position signal output circuit 7 that outputs a signal corresponding to the position of the edge WE1 of the work W is the edge W.
The movement of the mirror is started at time t2 when the value a2 corresponding to the distance LL3 between E1 and the edge AE2 is reached, and the printing of the character pattern is started. As shown in the figure, when the character width LL2 is large, the edge A of the drawable range Ar is
The distance LL1 from E2 to the standby position A of the mirror is preferably about half the character width LL2. As a result, the mirror can be moved from the position of irradiating the substantially central coordinates of the character / graphic pattern to be printed to the position of irradiating the writing start position Q1, and printing / drawing can be started in a short time.

【0054】なお、印字する文字/図形パターンのワー
ク進行方向の幅が大きい場合でも、前記図2に示した待
機位置Aもしくは待機位置Bに待機させておいてもよ
い。この場合には、図11に示す場合より、待機位置A
(またはB)から書き始め位置Q1に移動する時間が多
少長くなる。次に本実施例によるワークWへの印字/描
画について図1、図2により説明する。 (1)作業者は、オペレータコンソール8より、描画す
る文字/図形パターンのワーク進行方向の幅をパラメー
タとして入力する。該パラメータはCPU5の待機位置
設定パラメータを保持する手段5aに保持される。CP
U5の待機位置設定手段5bは上記パラメータに基づ
き、図2に示した待機位置A(またはB)の座標を決定
する。
Even when the character / graphic pattern to be printed has a large width in the work advancing direction, it may be made to stand by at the standby position A or the standby position B shown in FIG. In this case, as compared with the case shown in FIG.
It takes a little longer to move from (or B) to the writing start position Q1. Next, printing / drawing on the work W according to this embodiment will be described with reference to FIGS. (1) The operator inputs the width of the drawn character / graphic pattern in the work advancing direction from the operator console 8 as a parameter. The parameter is held in the means 5a for holding the standby position setting parameter of the CPU 5. CP
The standby position setting means 5b of U5 determines the coordinates of the standby position A (or B) shown in FIG. 2 based on the above parameters.

【0055】なお、印字/描画する文字/図形パターン
のワーク進行方向の幅がある程度以下の場合には、前記
した図2に示すように描画可能範囲Ar の端から12〜
13mmの座標中心Aをデフォルト値として定めてお
き、作業者が文字/図形パターンのワーク進行方向の幅
をパラメータとして設定せずに、上記座標中心Aをミラ
ーの待機位置として自動的に設定するようにしてもよ
い。 (2)照射位置移動制御手段5cは、描画可能範囲Ar
における上記待機位置A(またはB)を照射する角度に
なるように照射位置制御手段2のミラー角度を制御す
る。
When the width of the character / graphic pattern to be printed / drawn in the work advancing direction is not more than a certain value, as shown in FIG.
The coordinate center A of 13 mm is set as a default value, and the operator does not set the width of the character / graphic pattern in the work advancing direction as a parameter, but automatically sets the coordinate center A as the standby position of the mirror. You may (2) The irradiation position movement control means 5c controls the drawable range Ar.
The mirror angle of the irradiation position control means 2 is controlled so that it becomes the angle for irradiating the standby position A (or B).

【0056】なお、照射位置移動制御手段5cの出力で
あるパターン信号Sl は加算器6において、位置信号出
力回路7の出力である位置信号Sp と加算されるので、
実際のミラー角度は、ワークWの進行方向の直線上を往
復動している。 (3)ついで、照射位置移動制御手段5cは、位置信号
出力回路7の出力がワークW上に文字/図形パターンを
印字/描画できる距離(前記したLL3)に相当した値
になると、パターンデータ信号送出手段5dからの信号
に基づき照射位置制御手段2のミラー角度を制御する信
号を出力し、照射位置を印字/描画する文字/図形の書
き始め位置(照射開始位置)に移動させ、レーザ1をオ
ンにして文字/図形パターンの印字/描画を開始させ
る。
Since the pattern signal Sl which is the output of the irradiation position movement control means 5c is added to the position signal Sp which is the output of the position signal output circuit 7 in the adder 6,
The actual mirror angle reciprocates on a straight line in the traveling direction of the work W. (3) Next, the irradiation position movement control means 5c, when the output of the position signal output circuit 7 reaches a value corresponding to the distance (LL3 described above) at which the character / graphic pattern can be printed / drawn on the work W, the pattern data signal. A signal for controlling the mirror angle of the irradiation position control means 2 is output based on the signal from the sending means 5d, and the irradiation position is moved to the writing / writing start position (irradiation start position) of the character / graphic to be printed / drawn. Turn on to start printing / drawing of character / graphic patterns.

【0057】CPU5の照射位置移動制御手段5cが出
力するパターン信号Sl は、前記したように、加算器6
において、位置信号出力回路7の出力の出力である位置
信号Sp と加算され、照射制御信号St として照射位置
制御手段2に与えられ、文字/図形パターンがワークW
上に印字/描画される。 (4)ワークWへの印字/描画が終了すると、照射位置
移動制御手段5cは、ミラーが描画可能範囲Arにおけ
る上記待機位置A(またはB)を照射する角度になるよ
うな信号を加算器6を介して照射位置制御手段2に出力
し、次のワークが供給されるまでその角度で待機させ
る。
The pattern signal Sl output from the irradiation position movement control means 5c of the CPU 5 is the adder 6 as described above.
, The position signal Sp, which is the output of the position signal output circuit 7, is added to the irradiation position control means 2 as the irradiation control signal St, and the character / graphic pattern is the work W.
Printed / drawn on top. (4) When the printing / drawing on the work W is completed, the irradiation position movement control means 5c causes the adder 6 to output a signal that causes the mirror to illuminate the standby position A (or B) in the drawing range Ar. It is output to the irradiation position control means 2 via the, and it waits at that angle until the next work is supplied.

【0058】以上のように、本実施例においては、移動
しているワークに文字/図形を印字する際、ミラーの待
機位置を、照射可能範囲(描画可能範囲)における移動
体の進行方向の上流側に移動させ、ワーク印字/描画位
置が照射可能範囲(描画可能範囲)に入ってきたときに
印字/描画を開始するようにしているので、照射可能範
囲(描画可能範囲)の全域を有効に利用して所望の文字
/図形パターンをワーク上に印字/描画することがで
き、印字/描画速度が遅い場合であっても、従来例に比
べ印字/描画量を多くすることができる。
As described above, in the present embodiment, when a character / graphic is printed on a moving work, the standby position of the mirror is set in the irradiation range (drawable range) upstream of the moving direction of the moving body. When the work print / drawing position is moved to the irradiation range (drawable range), printing / drawing is started, so the entire irradiation range (drawable range) is enabled. A desired character / graphic pattern can be printed / drawn on the work by utilizing it, and even if the printing / drawing speed is slow, the printing / drawing amount can be increased as compared with the conventional example.

【0059】また、印字/描画するパターンのワーク進
行方向の幅に応じてミラーの待機位置を変更することに
より、待機位置から書き始め位置(照射開始位置)に移
動する時間を短縮することができ、迅速に印字/描画を
行うことができる。なお、上記実施例においては、ワー
クWを搬送する手段としてコンベアを用いる例を示した
が、ワークWの搬送手段としては、コンベア以外にワー
クWをX,Y方向に移動させるXYステージ等を用いる
こともできる。
Further, by changing the standby position of the mirror according to the width of the pattern to be printed / drawn in the work advancing direction, the time required to move from the standby position to the writing start position (irradiation start position) can be shortened. It is possible to print / draw quickly. In the above embodiment, an example in which a conveyer is used as a means for conveying the work W has been shown, but as the conveyance means for the work W, an XY stage or the like for moving the work W in the X and Y directions is used in addition to the conveyer. You can also

【0060】また、上記実施例において、待機位置設定
手段、照射位置移動制御手段等は、ソフトウェアで構成
することもできるし、また、電子回路等のハードウェア
で構成することもできる。さらに、上記実施例では、レ
ーザによるマーキング装置についての実施例を示した
が、本発明はレーザ加工装置等、レーザを使用したその
他の装置にも適用することができる。また、照射する光
もレーザに限定されるものではなく、被照射体に応じて
赤外線、紫外線等、その他の光を使用することも可能で
ある。
Further, in the above embodiment, the standby position setting means, the irradiation position movement control means and the like can be configured by software or hardware such as an electronic circuit. Further, in the above-mentioned embodiment, the embodiment of the marking device using the laser is shown, but the present invention can be applied to other devices using a laser such as a laser processing device. Further, the light to be irradiated is not limited to the laser, and it is possible to use other light such as infrared rays and ultraviolet rays depending on the object to be irradiated.

【0061】またさらに、上記実施例においては、ミラ
ーの角度を制御してレーザビームの照射位置を制御して
いるが、角度に加えミラーの位置を制御しても同様に照
射位置を制御することができる。
Furthermore, in the above embodiment, the irradiation position of the laser beam is controlled by controlling the angle of the mirror, but the irradiation position can be controlled in the same manner by controlling the position of the mirror in addition to the angle. You can

【0062】[0062]

【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
以下の効果を得ることができる。 (1)移動する被照射体の進行方向上流側の照射可能範
囲の端辺から、被照射体の進行方向の照射パターンの幅
に応じて定まる所定距離離れた点であって、かつ、上記
端辺の略中心を通り被照射体の進行方向に平行な直線上
の点を待機位置として、該待機位置を照射する角度/位
置にミラーを待機させ、被照射体の被照射領域が上記照
射可能範囲に入ったとき、被照射体の移動に合わせて上
記ミラー角度/位置を制御しながら上記パターンに沿っ
て光ビームを移動させて、上記パターンに沿った照射が
終了したとき、上記待機位置を照射する角度/位置にミ
ラーを戻して待機させるようにしたので、照射可能範囲
(描画可能範囲)の全域を有効に利用して所望の文字/
図形パターンをワーク上に印字/描画することができ、
印字/描画速度が遅い場合であっても、従来例に比べ印
字/描画量を多くすることができる。 (2)ミラーの待機位置を照射可能範囲の端辺の略中心
を通り被照射体の進行方向に平行な直線上の点としてい
るので、パターンの照射開始位置に短時間に移動するこ
とができ、マーキング、加工等に要する時間を短縮する
ことができる。また、被照射体の被照射領域が照射可能
範囲に入った時点で直ちに印字/描画を開始しているの
で、印字/描画する位置/パターンが変更になった場合
であっても、ミラーの待機位置からパターンの照射開始
位置に移動する時間を略同一の時間とすることができ
る。 (3)被照射体の進行方向上流側の照射可能範囲の端辺
の略中心を照射する位置にミラーを待機させることによ
り、文字の大きさ等を考慮することなく待機位置を定め
ることができ、処理を簡単化することができる。 (4)被照射体の進行方向の照射パターンの幅を入力す
る操作手段を設け、該操作手段から入力された照射パタ
ーンの幅に基づき、ミラーの待機位置を設定することに
より、照射パターンに応じた最適な待機位置にミラーを
設定することができる。
As described above, in the present invention,
The following effects can be obtained. (1) A point distant from an edge of the irradiation-enabled range on the upstream side in the traveling direction of the moving irradiation object by a predetermined distance determined according to the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the irradiation object, and the above-mentioned end The point on a straight line that passes through the approximate center of the side and is parallel to the traveling direction of the irradiation target is set as the standby position, and the mirror is made to stand by at the angle / position that irradiates the standby position, and the irradiation target area of the irradiation target can be irradiated as described above. When entering the range, the light beam is moved along the pattern while controlling the mirror angle / position according to the movement of the irradiation target, and when the irradiation along the pattern is completed, the standby position is changed to the standby position. Since the mirror is returned to the irradiation angle / position for standby, it is possible to effectively use the entire irradiation range (drawable range) to obtain the desired character /
Graphic patterns can be printed / drawn on the work,
Even if the printing / drawing speed is slow, the printing / drawing amount can be increased compared to the conventional example. (2) Since the standby position of the mirror is a point on a straight line that passes through substantially the center of the edge of the irradiation range and is parallel to the traveling direction of the irradiation target, it is possible to move to the irradiation start position of the pattern in a short time. The time required for marking, processing, etc. can be shortened. In addition, since printing / drawing is started immediately when the irradiated area of the irradiated object enters the irradiation range, even if the printing / drawing position / pattern changes, the mirror standby The time required to move from the position to the irradiation start position of the pattern can be substantially the same. (3) The standby position can be determined without considering the size of characters, etc., by making the mirror stand by at a position that irradiates the approximate center of the end side of the irradiation range upstream of the irradiation target. , The processing can be simplified. (4) Depending on the irradiation pattern, operating means for inputting the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the irradiation object is provided, and the standby position of the mirror is set based on the width of the irradiation pattern input from the operating means. The mirror can be set to the optimum standby position.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】印字/描画を開始する待機位置を示す図であ
る。
FIG. 2 is a diagram showing a standby position for starting printing / drawing.

【図3】ワークと描画可能範囲の関係および印字パター
ンの1例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a relationship between a work and a drawable range and a print pattern.

【図4】本発明の実施例の動作を説明する図である。FIG. 4 is a diagram for explaining the operation of the embodiment of the present invention.

【図5】印字する印字速度が速い場合のビーム照射位置
の移動軌跡を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a movement locus of a beam irradiation position when printing is performed at a high printing speed.

【図6】パターンのX軸方向の幅が広い場合のビームの
移動軌跡を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a movement trajectory of a beam when the width of the pattern in the X-axis direction is wide.

【図7】印字方向と進行方向が同じ場合のビームの移動
軌跡を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a beam movement trajectory when the printing direction and the traveling direction are the same.

【図8】図7におけるワークと描画可能範囲の関係およ
び印字方向を示す図である。
8 is a diagram showing a relationship between a work and a drawable range and a printing direction in FIG.

【図9】位置信号出力回路出力とビームの移動との関係
を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a relationship between an output of a position signal output circuit and movement of a beam.

【図10】位置信号出力回路出力とビームの移動との関
係を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a relationship between a position signal output circuit output and beam movement.

【図11】位置信号出力回路出力とビームの移動との関
係を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a relationship between an output of a position signal output circuit and movement of a beam.

【図12】移動体へマーキングを行うマーキング装置の
構成を示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a marking device for marking a moving body.

【図13】照射位置制御手段の構成の一例を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing an example of a configuration of irradiation position control means.

【図14】ワークの移動と照射位置の関係を示す図であ
る。
FIG. 14 is a diagram showing a relationship between movement of a work and an irradiation position.

【図15】ワークと描画可能範囲の関係および印字パタ
ーンの1例を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing an example of a relationship between a work and a drawable range and a print pattern.

【図16】従来例の動作を説明する図である。FIG. 16 is a diagram illustrating an operation of a conventional example.

【図17】印字速度が遅くワーク上に印字できない場合
を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a case where the printing speed is slow and printing cannot be performed on the work.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ 2 照射位置制御手段 2a X軸ミラー 2b Y軸ミラー 2c X軸スキャナー 2d Y軸スキャナー 4 コンベア 4a コンベア駆動機構 5 CPU 5a 待機位置設定パラメータを保持する手段 5b 待機位置設定手段 5c 照射位置移動制御手段 5d パターン信号を送出する手段 6 加算器 7 位置信号出力回路 8 オペレータコンソール 1 Laser 2 Irradiation Position Control Means 2a X Axis Mirror 2b Y Axis Mirror 2c X Axis Scanner 2d Y Axis Scanner 4 Conveyor 4a Conveyor Driving Mechanism 5 CPU 5a Means for Holding Standby Position Setting Parameters 5b Standby Position Setting Means 5c Irradiation Position Movement Control Means 5d Means for transmitting a pattern signal 6 Adder 7 Position signal output circuit 8 Operator console

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源から放射される光ビームを反射する
ミラーの角度/位置を制御して、移動する被照射体に対
して、与えられた照射パターンに沿って光ビームを照射
する光照射器におけるミラー角度/位置の制御方法にお
いて、 被照射体の進行方向上流側の照射可能範囲の端辺から、
被照射体の進行方向の照射パターンの幅に応じて定まる
所定距離離れた点であって、かつ、上記端辺の略中心を
通り被照射体の進行方向に平行な直線上の点を待機位置
として、該待機位置を照射する角度/位置にミラーを待
機させ、 被照射体の被照射領域が上記照射可能範囲に入ったと
き、被照射体の移動に合わせて上記ミラー角度/位置を
制御しながら上記パターンに沿って光ビームを移動させ
て被照射体に光ビームを照射し、 上記パターンに沿った照射が終了したとき、上記待機位
置を照射する角度/位置にミラーを戻して待機させるこ
とを特徴とする光照射器におけるミラー角度/位置の制
御方法。
1. A light irradiator that controls the angle / position of a mirror that reflects a light beam emitted from a light source, and irradiates a moving irradiation target with the light beam according to a given irradiation pattern. In the method of controlling the mirror angle / position in the above, from the end side of the irradiation possible range on the upstream side in the traveling direction of the irradiation target,
Stand-by position is a point that is a predetermined distance that is determined according to the width of the irradiation pattern in the traveling direction of the irradiation target, and that is on a straight line that passes through the approximate center of the edge and is parallel to the traveling direction of the irradiation target. As a result, the mirror is made to stand by at the angle / position for irradiating the standby position, and when the irradiation area of the irradiation target falls within the irradiation possible range, the mirror angle / position is controlled according to the movement of the irradiation target. While moving the light beam along the pattern to irradiate the irradiation target with the light beam, when the irradiation along the pattern is completed, return the mirror to the angle / position for irradiating the standby position and make it stand by. A method for controlling a mirror angle / position in a light irradiator characterized by the above.
【請求項2】 光源から放射される光ビームを反射する
ミラーの角度/位置を制御して、移動する被照射体に対
して、与えられた照射パターンに沿って光ビームを照射
する光照射器におけるミラー角度/位置の制御方法にお
いて、 被照射体の進行方向上流側の照射可能範囲の端辺上の中
点を待機位置として、該待機位置を照射する角度/位置
にミラーを待機させ、 被照射体の被照射領域が上記照射可能範囲に入ったと
き、被照射体の移動に合わせて上記ミラー角度/位置を
制御しながら上記パターンに沿って光ビームを移動させ
て被照射体に光ビームを照射し、 上記パターンに沿った照射が終了したとき、上記待機位
置を照射する角度/位置にミラーを戻して待機させるこ
とを特徴とする光照射器におけるミラー角度/位置の制
御方法。
2. A light irradiator that controls the angle / position of a mirror that reflects a light beam emitted from a light source to irradiate a moving irradiation target with a light beam according to a given irradiation pattern. In the method of controlling the mirror angle / position in the above, in the method, the midpoint on the end side of the irradiation range upstream of the irradiation target is set as the standby position, and the mirror is made to stand by at the angle / position at which the standby position is irradiated. When the irradiation area of the irradiation object enters the irradiation possible range, the light beam is moved to the irradiation object by moving the light beam along the pattern while controlling the mirror angle / position according to the movement of the irradiation object. And when the irradiation according to the pattern is completed, the mirror is returned to the angle / position for irradiating the standby position to wait and the mirror angle / position in the light irradiator is controlled.
【請求項3】 回転可能なミラーを備え、移動する被照
射体に光ビームを照射する照射位置制御手段と、 上記照射位置制御手段のミラー角度/位置を制御して、
照射位置制御手段から照射される光ビームの被照射体へ
の照射位置を制御する処理手段と、 照射位置制御手段に対する被照射体の相対位置を出力す
る位置信号出力手段と、 上記処理手段の出力と位置信号出力手段の出力とを加算
して加算結果を照射位置制御手段に与える加算器とを備
えた光照射器におけるミラー角度/位置の制御装置にお
いて、 上記処理手段に、待機位置設定手段と、光ビームの照射
位置を移動制御する照射位置移動制御手段とを設け、 上記待機位置設定手段は、被照射体の進行方向上流側の
照射可能範囲の端辺から、被照射体の進行方向の照射パ
ターンの幅に応じて定まる所定距離離れた点であって、
かつ、上記端辺の略中心を通り被照射体の進行方向に平
行な直線上の点を待機位置として設定し、 上記照射位置移動制御手段は、待機位置設定手段の出力
に基づきミラーを上記待機位置を照射する角度/位置に
待機させ、被照射体の被照射領域が上記照射可能範囲に
入ったとき、上記パターンに沿って光ビームを移動させ
る信号を上記加算器に出力し、上記パターンに沿った照
射が終了後、上記待機位置を照射する角度/位置にミラ
ーを戻して待機させることを特徴とする光照射器におけ
るミラー角度/位置の制御装置。
3. An irradiation position control means for irradiating a moving irradiation object with a light beam, comprising a rotatable mirror, and controlling a mirror angle / position of the irradiation position control means,
Processing means for controlling the irradiation position of the light beam emitted from the irradiation position control means on the irradiation object, position signal output means for outputting the relative position of the irradiation object with respect to the irradiation position control means, and output of the processing means In the controller for mirror angle / position in the light irradiator, which includes an adder for adding the output of the position signal output means and the addition result to the irradiation position control means, the processing means includes standby position setting means and An irradiation position movement control means for moving and controlling the irradiation position of the light beam is provided, and the standby position setting means is arranged such that the standby position is set from the end side of the irradiation possible range on the upstream side in the traveling direction of the irradiation target to the irradiation direction of the irradiation target. Points that are a predetermined distance apart depending on the width of the irradiation pattern,
Moreover, a point on a straight line that passes through the approximate center of the end side and is parallel to the traveling direction of the irradiated object is set as the standby position, and the irradiation position movement control means causes the mirror to wait for the mirror based on the output of the standby position setting means. When the irradiation area / position of the irradiation object is in the irradiation range, the signal for moving the light beam along the pattern is output to the adder, and the pattern is added to the pattern. A mirror angle / position control device in a light irradiator, which returns the mirror to an angle / position for irradiating the standby position and waits after irradiation along the line is completed.
【請求項4】 被照射体の進行方向の照射パターンの幅
を入力する操作手段を設け、該操作手段から入力された
照射パターンの幅に基づき、待機位置設定手段が待機位
置を設定することを特徴とする請求項3の光照射器にお
けるミラー角度/位置の制御装置。
4. An operation means for inputting a width of an irradiation pattern in a traveling direction of an object to be irradiated is provided, and the standby position setting means sets the standby position based on the width of the irradiation pattern input from the operation means. 4. A mirror angle / position control device for a light irradiator according to claim 3.
【請求項5】 回転可能なミラーを備え、移動する被照
射体に光ビームを照射する照射位置制御手段と、 上記照射位置制御手段のミラー角度/位置を制御して、
照射位置制御手段から照射される光ビームの被照射体へ
の照射位置を制御する処理手段と、 照射位置制御手段に対する被照射体の相対位置を出力す
る位置信号出力手段と、 上記処理手段の出力と位置信号出力手段の出力とを加算
して加算結果を照射位置制御手段に与える加算器とを備
えた光照射器におけるミラー角度/位置の制御装置にお
いて、 上記処理手段に、待機位置設定手段と、光ビームの照射
位置を移動制御する照射位置移動制御手段とを設け、 上記待機位置設定手段は、被照射体の進行方向上流側の
照射可能範囲の端辺上の中点を待機位置として設定し、 上記照射位置移動制御手段は、待機位置設定手段の出力
に基づきミラーを上記待機位置を照射する角度/位置に
待機させ、被照射体の被照射領域が上記照射可能範囲に
入ったとき、上記パターンに沿って光ビームを移動させ
る信号を上記加算器に出力し、上記パターンに沿った照
射が終了後、上記待機位置を照射する角度/位置にミラ
ーを戻して待機させることを特徴とする光照射器におけ
るミラー角度/位置の制御装置。
5. An irradiation position control means for irradiating a moving irradiation object with a light beam, comprising a rotatable mirror, and controlling a mirror angle / position of the irradiation position control means,
Processing means for controlling the irradiation position of the light beam emitted from the irradiation position control means on the irradiation object, position signal output means for outputting the relative position of the irradiation object with respect to the irradiation position control means, and output of the processing means In the controller for mirror angle / position in the light irradiator, which includes an adder for adding the output of the position signal output means and the addition result to the irradiation position control means, the processing means includes standby position setting means and An irradiation position movement control means for moving and controlling the irradiation position of the light beam is provided, and the standby position setting means sets a middle point on the end side of the irradiation possible range on the upstream side in the traveling direction of the irradiation target object as the standby position. Then, the irradiation position movement control means makes the mirror stand by at the angle / position for irradiating the standby position based on the output of the standby position setting means, and the irradiation area of the irradiation object enters the irradiation possible range. At this time, a signal for moving the light beam along the pattern is output to the adder, and after the irradiation according to the pattern is completed, the mirror is returned to the angle / position for irradiating the standby position to stand by. And a mirror angle / position control device for the light irradiator.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009154200A (en) * 2007-12-27 2009-07-16 Sunx Ltd Laser marking system and laser marking apparatus
JP2017196655A (en) * 2016-04-28 2017-11-02 株式会社エイチアンドエフ Processing method using laser blanking device

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