JPH09232096A - Electrification preventing method, and electrification preventive composite material - Google Patents
Electrification preventing method, and electrification preventive composite materialInfo
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- JPH09232096A JPH09232096A JP8168643A JP16864396A JPH09232096A JP H09232096 A JPH09232096 A JP H09232096A JP 8168643 A JP8168643 A JP 8168643A JP 16864396 A JP16864396 A JP 16864396A JP H09232096 A JPH09232096 A JP H09232096A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止技術に関
する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an antistatic technique.
【0002】[0002]
【従来の技術】プラスチックは機械特性、加工性、成形
性、着色性、耐薬品性、軽量性に優れているので、日用
雑貨、家庭電化製品、事務用機器、自動車、包装材料な
どの多くの分野で使用されている。また、高分子合成繊
維は耐久性に優れているので、衣服や絨毯などに多く使
用されている。プラスチックや合成繊維の多くは電気絶
縁性であるので、静電気的に帯電しやすく、電撃や火花
放電を引き起こし、或いは埃を吸着する。複写機などに
帯電した静電気は紙送りに障害を起こす。静電気帯電や
その放電は電子機器を誤動作させたり、集積回路や記録
媒体を破壊する。蛍光灯や電子線走査されるテレビジョ
ンやコンピュータのブラウン管は静電気帯電により埃を
吸着しやすい。2. Description of the Related Art Since plastics are excellent in mechanical properties, processability, moldability, colorability, chemical resistance, and light weight, they are used in many household goods, household appliances, office equipment, automobiles, packaging materials, etc. Used in the field of. In addition, since high-polymer synthetic fibers have excellent durability, they are often used in clothes and carpets. Since many plastics and synthetic fibers are electrically insulating, they are easily electrostatically charged, causing electric shock or spark discharge, or adsorbing dust. Static electricity charged in a copying machine, etc. causes troubles in paper feeding. The electrostatic charge and its discharge may cause electronic devices to malfunction or damage integrated circuits and recording media. Fluorescent lamps, electron-beam-scanned televisions, and cathode ray tubes of computers tend to adsorb dust due to electrostatic charging.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来の帯電防止技術に
は、界面活性剤からなる帯電防止剤を物品の表面の塗布
する方法がある。しかし、帯電防止剤は一時的なもの
で、布拭きや水洗などにより物品表面から失われ、帯電
防止効果が早期に低下する。カーボンブラックを塗り込
んで表面を導電性にする方法もあるが、面倒でもあり、
物品の表面が汚れるという難点がある。As a conventional antistatic technique, there is a method of applying an antistatic agent comprising a surfactant to the surface of an article. However, the antistatic agent is temporary and is lost from the article surface by wiping with cloth, washing with water, etc., and the antistatic effect is reduced at an early stage. There is also a method of applying carbon black to make the surface conductive, but it is troublesome,
The problem is that the surface of the article becomes dirty.
【0004】本発明の目的は、上記のような不都合のな
い帯電防止技術を提供することにある。本発明の他の目
的は、耐摩耗性に優れた半恒久的な帯電防止膜を備えた
物品を提供することにある。本発明の他の目的は、容易
に実施することの可能な帯電防止技術を提供することに
ある。An object of the present invention is to provide an antistatic technique which does not have the above-mentioned inconvenience. Another object of the present invention is to provide an article provided with a semi-permanent antistatic film having excellent abrasion resistance. Another object of the present invention is to provide an antistatic technique that can be easily implemented.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者は、光触媒を光
励起すると光触媒の表面が高度に親水化され、表面の電
気伝導率が増加(表面固有抵抗が減少)することを発見
した。The present inventor has discovered that when the photocatalyst is photoexcited, the surface of the photocatalyst is highly hydrophilized, and the electrical conductivity of the surface is increased (surface resistivity is decreased).
【0006】本発明は斯る発見に基づくもので、本発明
は物品の帯電防止方法および帯電防止性の複合材を提供
する。本発明によれば、種々の物品の表面は半導体光触
媒を含有する層で被覆される。物品に光を照射して光触
媒を光励起すると、光触媒含有層の表面は水との接触角
が10゜以下、好ましくは5゜以下、より好ましくは約
0゜になる程度に超親水化される。光触媒の光励起は、
種々の光源により行うことができる。太陽光が当たるよ
うな条件では、太陽光を利用するのが好ましい。屋内で
は、メタルハライドランプ、水銀ランプ、キセノンラン
プ、その他の光源を使用することができる。蛍光灯や白
熱電灯に含まれる微弱な紫外線でも光触媒を励起するこ
とができる。物品の表面が一旦高度に親水化されたなら
ば、表面の超親水性はかなりの期間持続する。The present invention is based on such a discovery, and the present invention provides an antistatic method for an article and an antistatic composite material. According to the present invention, the surface of various articles is coated with a layer containing a semiconductor photocatalyst. When the photocatalyst is photoexcited by irradiating the article with light, the surface of the photocatalyst-containing layer is made superhydrophilic so that the contact angle with water is 10 ° or less, preferably 5 ° or less, and more preferably about 0 °. Photoexcitation of the photocatalyst
It can be performed by various light sources. It is preferable to use sunlight under conditions where it is exposed to sunlight. Indoors, metal halide lamps, mercury lamps, xenon lamps and other light sources can be used. The photocatalyst can be excited by the weak ultraviolet rays contained in fluorescent lamps and incandescent lamps. Once the surface of the article is highly hydrophilized, the superhydrophilicity of the surface lasts for a considerable period of time.
【0007】このように超親水化された表面は空気中の
湿分を吸着し、電気伝導率が増加する。摩擦や電子線走
査により発生した静電気は容易に放電するので、物品の
表面は静電気的に帯電しにくい。The superhydrophilic surface thus adsorbs moisture in the air and increases the electric conductivity. Static electricity generated by friction and electron beam scanning is easily discharged, so that the surface of the article is less likely to be electrostatically charged.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明は、日用雑貨、家庭電化製
品、事務用機器、自動車の内装品や外装品、包装材料、
衣服や絨毯などの織物、テレビジョンやコンピュータの
ブラウン管、蛍光灯、その他帯電防止処理を要する物品
に適用される。帯電防止処理を要する基材の表面は、半
導体光触媒を含有する透明層によって被覆される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is directed to daily sundries, household appliances, office equipment, automobile interior and exterior parts, packaging materials,
It is applied to textiles such as clothes and carpets, cathode ray tubes for televisions and computers, fluorescent lamps, and other articles requiring antistatic treatment. The surface of the substrate requiring antistatic treatment is covered with a transparent layer containing a semiconductor photocatalyst.
【0009】光触媒としては、チタニア(TiO2)が最も
好ましい。チタニアは、無害であり、化学的に安定であ
り、かつ、安価に入手可能である。更に、チタニアはバ
ンドギャップエネルギが高く、従って、光励起には紫外
線を必要とし、光励起の過程で可視光を吸収しないの
で、補色成分による発色が起こらない。アナターゼ型チ
タニアとルチル型チタニアのいづれも使用することがで
きる。アナターゼ型チタニアの利点は、非常に細かな微
粒子を分散させたゾルを市場で容易に入手することがで
き、非常に薄い薄膜を容易に形成することができること
である。他方、ルチル型チタニアは、高温で焼結するこ
とができ、強度と耐摩耗性に優れた被膜が得られるとい
う利点がある。基材の表面を光触媒性チタニア含有層で
被覆し、チタニアを紫外線によって光励起すると、光触
媒作用によって水が水酸基(OH-)の形で表面に化学吸
着され、その結果、表面が超親水性になると考えられ
る。使用可能な他の光触媒としては、ZnO、SnO2、SrTiO
3、WO3、Bi2O3、Fe2O3のような金属酸化物がある。これ
らの金属酸化物は、チタニアと同様に、表面に金属元素
と酸素が存在するので、表面水酸基(OH-)を吸着しす
いと考えられる。光触媒性チタニアの粒子を金属酸化物
に配合することにより光触媒含有層を形成してもよい。
特に、後述するようにシリカ又は酸化錫にアナターゼ型
チタニアを配合した場合には、表面を高度に親水化する
ことができる。The most preferable photocatalyst is titania (TiO 2 ). Titania is harmless, chemically stable, and available at low cost. Further, titania has a high band gap energy, and thus requires ultraviolet light for photoexcitation and does not absorb visible light in the process of photoexcitation, so that coloring by a complementary color component does not occur. Both anatase titania and rutile titania can be used. The advantage of the anatase type titania is that a sol in which very fine particles are dispersed can be easily obtained on the market, and a very thin thin film can be easily formed. On the other hand, rutile-type titania can be sintered at a high temperature, and has an advantage that a film having excellent strength and wear resistance can be obtained. Covering the surface of the substrate with a photocatalytic titania-containing layer, when the titania is photoexcited by UV light, water by photocatalysis hydroxyl (OH -) are chemisorbed on the surface in the form of, as a result, the surface becomes superhydrophilic Conceivable. Other photocatalysts that can be used include ZnO, SnO 2 , SrTiO 2 .
3 , metal oxides such as WO 3 , Bi 2 O 3 , and Fe 2 O 3 . It is considered that these metal oxides adsorb surface hydroxyl groups (OH − ), as in the case of titania, because a metal element and oxygen exist on the surface. The photocatalyst-containing layer may be formed by mixing particles of photocatalytic titania with a metal oxide.
In particular, when anatase titania is mixed with silica or tin oxide as described later, the surface can be highly hydrophilized.
【0010】光触媒含有層の膜厚は0.2μm以下にす
るのが好ましい。このような膜厚にすれば、光の干渉に
よる発色を防止することができる。また、光触媒含有層
が薄ければ薄いほど、光触媒含有層の透明度を確保する
ことができる。更に、膜厚を薄くすれば光触媒含有層の
耐摩耗性が向上する。The thickness of the photocatalyst containing layer is preferably 0.2 μm or less. With such a film thickness, color formation due to light interference can be prevented. Further, the thinner the photocatalyst containing layer, the more the transparency of the photocatalyst containing layer can be secured. Furthermore, if the film thickness is reduced, the wear resistance of the photocatalyst containing layer is improved.
【0011】基材がセラミック、タイル、ガラスのよう
な耐熱性の材料で形成されている場合には、水との接触
角が0゜になる程度の超親水性を呈する耐摩耗性に優れ
た光触媒含有層を形成する好ましいやり方の1つは、先
ず基材の表面を無定形チタニアで被覆し、次いで焼成に
より無定形チタニアを結晶性チタニア(アナターゼ又は
ルチル)に相変化させることである。無定形チタニアの
形成には、次のいづれかの方法を採用することができ
る。 (1)有機チタン化合物の加水分解と脱水縮重合 チタンのアルコキシド、例えば、テトラエトキシチタ
ン、テトライソプロポキシチタン、テトラn−プロポキ
シチタン、テトラブトキシチタン、テトラメトキシチタ
ン、に塩酸又はエチルアミンのような加水分解抑制剤を
添加し、エタノールやプロパノールのようなアルコール
で希釈した後、部分的に加水分解を進行させながら又は
完全に加水分解を進行させた後、混合物をスプレーコー
ティング、フローコーティング、スピンコーティング、
ディップコーティング、ロールコーティングその他のコ
ーティング法により、基材の表面に塗布し、常温から20
0℃の温度で乾燥させる。乾燥により、チタンのアルコ
キシドの加水分解が完遂して水酸化チタンが生成し、水
酸化チタンの脱水縮重合により無定形チタニアの層が基
材の表面に形成される。チタンのアルコキシドに代え
て、チタンのキレート又はチタンのアセテートのような
他の有機チタン化合物を用いてもよい。 (2)無機チタン化合物による無定形チタニアの形成 無機チタン化合物、例えば、TiCl4又はTi(SO4)2の酸性
水溶液をスプレーコーティング、フローコーティング、
スピンコーティング、ディップコーティング、ロールコ
ーティングにより、基材の表面に塗布する。次いで無機
チタン化合物を約100℃〜200℃の温度で乾燥させること
により加水分解と脱水縮重合に付し、無定形チタニアの
層を基材の表面に形成する。或いは、TiCl4の化学蒸着
により基材の表面に無定形チタニアさせても良い。 (3)スパッタリングによる無定形チタニアの形成 金属チタンのターゲットに酸化雰囲気で電子ビームを照
射することにより基材の表面に無定形チタニアを被着す
る。 (4)焼成温度 無定形チタニアの焼成は少なくともアナターゼの結晶化
温度以上の温度で行う。400℃〜500℃以上の温度で焼成
すれば、無定形チタニアをアナターゼ型チタニアに変換
させることができる。600℃〜700℃以上の温度で焼成す
れば、無定形チタニアをルチル型チタニアに変換させる
ことができる。 (5)拡散防止層の形成 基材がナトリウムのようなアルカリ網目修飾イオンを含
むガラスや施釉タイルの場合には、基材と無定形チタニ
ア層との間に予めシリカ等の中間層を形成しておくのが
良い。そうすれば、無定形チタニアの焼成中にアルカリ
網目修飾イオンが基材から光触媒含有層中に拡散するの
が防止され、水との接触角が0゜になる程度の超親水性
が実現される。When the substrate is made of a heat-resistant material such as ceramic, tile, or glass, it exhibits superhydrophilicity such that the contact angle with water is 0 ° and is excellent in abrasion resistance. One of the preferred ways of forming the photocatalyst-containing layer is to first coat the surface of the substrate with amorphous titania and then phase-change the amorphous titania to crystalline titania (anatase or rutile) by firing. Any of the following methods can be used for forming amorphous titania. (1) Hydrolysis and dehydration condensation polymerization of organic titanium compounds Alkoxides of titanium, for example, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra-n-propoxytitanium, tetrabutoxytitanium, tetramethoxytitanium, and hydrochloride such as hydrochloric acid or ethylamine After adding a decomposition inhibitor and diluting with an alcohol such as ethanol or propanol, after partially or completely promoting hydrolysis, the mixture is spray-coated, flow-coated, spin-coated,
Apply to the substrate surface by dip coating, roll coating or other coating method
Dry at a temperature of 0 ° C. By drying, hydrolysis of the alkoxide of titanium is completed to produce titanium hydroxide, and a layer of amorphous titania is formed on the surface of the substrate by dehydration-condensation polymerization of titanium hydroxide. Instead of titanium alkoxides, other organic titanium compounds such as titanium chelates or titanium acetate may be used. (2) Formation of amorphous titania by inorganic titanium compound Spray coating, flow coating of an acidic aqueous solution of an inorganic titanium compound, for example, TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ,
It is applied to the surface of a substrate by spin coating, dip coating, or roll coating. Next, the inorganic titanium compound is subjected to hydrolysis and dehydration-condensation polymerization by drying at a temperature of about 100 ° C to 200 ° C to form a layer of amorphous titania on the surface of the substrate. Alternatively, amorphous titania may be applied to the surface of the substrate by chemical vapor deposition of TiCl 4 . (3) Formation of Amorphous Titania by Sputtering Amorphous titania is deposited on the surface of a substrate by irradiating an electron beam to a target of titanium metal in an oxidizing atmosphere. (4) Firing temperature The firing of amorphous titania is performed at a temperature of at least the crystallization temperature of anatase. Amorphous titania can be converted to anatase titania by firing at a temperature of 400 ° C to 500 ° C or higher. By firing at a temperature of 600 ° C. to 700 ° C. or higher, amorphous titania can be converted to rutile type titania. (5) Formation of diffusion prevention layer When the base material is glass or glazed tile containing alkali network modifying ions such as sodium, an intermediate layer such as silica is previously formed between the base material and the amorphous titania layer. Good to keep. This prevents the alkali network modifying ions from diffusing from the substrate into the photocatalyst-containing layer during firing of the amorphous titania, and achieves a super-hydrophilic property such that the contact angle with water becomes 0 °. .
【0012】水との接触角が0゜になる程度の超親水性
を呈する耐摩耗性に優れた光触媒含有層を形成する他の
好ましいやり方は、チタニアとシリカとの混合物からな
る光触媒含有層を基材の表面に形成することである。チ
タニアとシリカとの合計に対するシリカの割合は、5〜
90モル%、好ましくは10〜70モル%、より好まし
くは10〜50モル%にすることができる。シリカ配合
チタニアからなる光触媒含有層の形成には、次のいづれ
かの方法を採用することができる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子とシリ
カの粒子とを含む懸濁液を基材の表面に塗布し、基材の
軟化点以下の温度で焼結する。 (2)無定形シリカの前駆体(例えば、テトラエトキシ
シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn−プロ
ポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメトキシ
シラン、等のテトラアルコキシシラン;それらの加水分
解物であるシラノール; 又は平均分子量3000以下のポ
リシロキサン)と結晶性チタニアゾルとの混合物を基材
の表面に塗布し、必要に応じて加水分解させてシラノー
ルを形成した後、約100℃以上の温度で加熱してシラノ
ールを脱水縮重合に付すことにより、チタニアが無定形
シリカで結着された光触媒含有層を形成する。特に、シ
ラノールの脱水縮重合を約200℃以上の温度で行えば、
シラノールの重合度を増し、光触媒含有層の耐アルカリ
性能を向上させることができる。このやり方は、プラス
チックのような非耐熱性の基材に適用することができ
る。 (3)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート、又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4又はTi(SO4)2のような無機チタン化合
物)の溶液にシリカの粒子を分散させてなる懸濁液を基
材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から200℃の温
度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、シリカ粒
子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成する。次い
で、チタニアの結晶化温度以上の温度、かつ、基材の軟
化点以下の温度に加熱することにより、無定形チタニア
を結晶性チタニアに相変化させる。 (4)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート、又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4又はTi(SO4)2のような無機チタン化合
物)の溶液に無定形シリカの前駆体(例えば、テトラエ
トキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラn
−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメ
トキシシラン、等のテトラアルコキシシラン;それらの
加水分解物であるシラノール; 又は平均分子量3000以
下のポリシロキサン)を混合し、基材の表面に塗布す
る。次いで、これらの前駆体を加水分解と脱水縮重合に
付すことにより、無定形チタニアと無定形シリカの混合
物からなる薄膜を形成する。次いで、チタニアの結晶化
温度以上の温度、かつ、基材の軟化点以下の温度に加熱
することにより、無定形チタニアを結晶性チタニアに相
変化させる。Another preferable method for forming a photocatalyst containing layer having superhydrophilicity such that the contact angle with water is 0 ° and having excellent abrasion resistance is to form a photocatalyst containing layer comprising a mixture of titania and silica. It is to form on the surface of the base material. The ratio of silica to the total of titania and silica is 5 to 5.
It can be 90 mol%, preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%. For forming the photocatalyst-containing layer made of silica-containing titania, any of the following methods can be employed. (1) A suspension containing particles of anatase type or rutile type titania and particles of silica is applied to the surface of a substrate, and sintered at a temperature equal to or lower than the softening point of the substrate. (2) precursors of amorphous silica (for example, tetraalkoxysilanes such as tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetrabutoxysilane, tetramethoxysilane, etc .; silanol which is a hydrolyzate thereof); Alternatively, a mixture of a polysiloxane having an average molecular weight of 3,000 or less) and crystalline titania sol is applied to the surface of the base material and, if necessary, hydrolyzed to form silanol, and then heated at a temperature of about 100 ° C. or higher to obtain silanol. Is subjected to dehydration-condensation polymerization to form a photocatalyst-containing layer in which titania is bound with amorphous silica. In particular, if the dehydration polycondensation of silanol is performed at a temperature of about 200 ° C. or more,
The polymerization degree of silanol can be increased, and the alkali resistance performance of the photocatalyst-containing layer can be improved. This approach can be applied to non-heat resistant substrates such as plastic. (3) Disperse silica particles in a solution of amorphous titania precursor (organic titanium compound such as titanium alkoxide, chelate, or acetate, or inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ). The resulting suspension is applied to the surface of the base material, and the titanium compound is subjected to hydrolysis and dehydration polycondensation at a temperature from room temperature to 200 ° C to form a thin film of amorphous titania in which silica particles are dispersed. . Next, the amorphous titania is changed into crystalline titania by heating to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature of titania and equal to or lower than the softening point of the substrate. (4) Amorphous silica precursor in a solution of amorphous titania precursor (organic titanium compound such as titanium alkoxide, chelate or acetate, or inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ). Body (eg, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra n
A mixture of tetraalkoxysilanes such as propoxysilane, tetrabutoxysilane, and tetramethoxysilane; silanol which is a hydrolyzate thereof; or polysiloxane having an average molecular weight of 3000 or less), and coating the mixture on the surface of the substrate. Next, these precursors are subjected to hydrolysis and dehydration condensation polymerization to form a thin film composed of a mixture of amorphous titania and amorphous silica. Next, the amorphous titania is changed into crystalline titania by heating to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature of titania and equal to or lower than the softening point of the substrate.
【0013】水との接触角が0゜になる程度の超親水性
を呈する耐摩耗性に優れた光触媒含有層を形成する更に
他の好ましいやり方は、チタニアと酸化錫との混合物か
らなる光触媒含有層を基材の表面に形成することであ
る。チタニアと酸化錫との合計に対する酸化錫の割合
は、1〜95重量%、好ましくは1〜50重量%にする
ことができる。酸化錫配合チタニアからなる光触媒含有
層の形成には、次のいづれかの方法を採用することがで
きる。 (1)アナターゼ型又はルチル型チタニアの粒子と酸化
錫の粒子とを含む懸濁液を基材の表面に塗布し、基材の
軟化点以下の温度で焼結する。 (2)無定形チタニアの前駆体(チタンのアルコキシ
ド、キレート、又はアセテートのような有機チタン化合
物、又はTiCl4又はTi(SO4)2のような無機チタン化合
物)の溶液に酸化錫の粒子を分散させてなる懸濁液を基
材の表面に塗布し、チタン化合物を常温から200℃の温
度で加水分解と脱水縮重合に付すことにより、酸化錫粒
子が分散された無定形チタニアの薄膜を形成する。次い
で、チタニアの結晶化温度以上の温度、かつ、基材の軟
化点以下の温度に加熱することにより、無定形チタニア
を結晶性チタニアに相変化させる。Still another preferred method of forming a photocatalyst containing layer having superhydrophilicity such that the contact angle with water is 0 ° and having excellent abrasion resistance is a photocatalyst containing a mixture of titania and tin oxide. Forming a layer on the surface of the substrate. The proportion of tin oxide with respect to the total of titania and tin oxide can be 1 to 95% by weight, preferably 1 to 50% by weight. For forming the photocatalyst-containing layer made of tin oxide-containing titania, any of the following methods can be employed. (1) A suspension containing particles of anatase or rutile type titania and particles of tin oxide is applied to the surface of a substrate, and sintered at a temperature equal to or lower than the softening point of the substrate. (2) Tin oxide particles in a solution of amorphous titania precursor (organic titanium compound such as titanium alkoxide, chelate or acetate, or inorganic titanium compound such as TiCl 4 or Ti (SO 4 ) 2 ) The suspension obtained by dispersing is applied to the surface of the base material, and the titanium compound is subjected to hydrolysis and dehydration condensation polymerization at a temperature of from room temperature to 200 ° C., thereby forming a thin film of amorphous titania in which tin oxide particles are dispersed. Form. Next, the amorphous titania is changed into crystalline titania by heating to a temperature equal to or higher than the crystallization temperature of titania and equal to or lower than the softening point of the substrate.
【0014】基材がプラスチックや合成繊維のような非
耐熱性の材料で形成されている場合には、水との接触角
が0゜になる程度の超親水性を呈する光触媒含有層を形
成する好ましいやり方は、未硬化の若しくは部分的に硬
化したシリコーン又はシリコーンの前駆体からなる塗膜
形成要素に光触媒の粒子を分散させてなる塗料用組成物
を用いることである。この塗料用組成物を基材の表面に
塗布し、塗膜形成要素を硬化させた後、光触媒を光励起
すると、シリコーン分子のケイ素原子に結合した有機基
は光触媒の光触媒作用により水酸基に置換され、光触媒
含有層の表面は超親水化される。このやり方には、幾つ
かの利点がある。光触媒含有シリコーン塗料は常温又は
比較的低温で硬化させることができるので、プラスチッ
クスや合成繊維のような非耐熱性の材料で形成されてい
る基材にも適用することができる。光触媒を含有したこ
の塗料用組成物は、帯電防止処理を要する基材に、刷毛
塗り、スプレーコーティング、ディップコーティング、
ロールコーティングなどにより塗布することができる。
光触媒含有シリコーン塗料はシロキサン結合を有するの
で、光触媒の光酸化作用に対する充分な対抗性を有す
る。光触媒含有シリコーン塗料からなる光触媒含有層の
更に他の利点は、表面が一旦超親水化された後には、夜
間でも超親水性を維持することである。When the substrate is formed of a non-heat resistant material such as plastic or synthetic fiber, a photocatalyst containing layer having superhydrophilicity such that the contact angle with water is 0 ° is formed. A preferred approach is to use a coating composition comprising photocatalyst particles dispersed in a film-forming element consisting of uncured or partially cured silicone or a silicone precursor. This coating composition is applied to the surface of the substrate, after curing the film-forming element, when the photocatalyst is photoexcited, the organic group bonded to the silicon atom of the silicone molecule is substituted with a hydroxyl group by the photocatalytic action of the photocatalyst, The surface of the photocatalyst containing layer is made superhydrophilic. This approach has several advantages. Since the photocatalyst-containing silicone paint can be cured at room temperature or a relatively low temperature, it can be applied to a substrate formed of a non-heat resistant material such as plastics and synthetic fibers. This coating composition containing a photocatalyst is applied to a substrate requiring antistatic treatment by brush coating, spray coating, dip coating,
It can be applied by roll coating or the like.
Since the photocatalyst-containing silicone coating has a siloxane bond, it has sufficient resistance to the photooxidation action of the photocatalyst. Still another advantage of the photocatalyst-containing layer made of a photocatalyst-containing silicone coating is that it maintains superhydrophilicity even at night after the surface is once made superhydrophilic.
【0015】塗膜形成要素としては、メチルトリクロル
シラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシ
シラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプ
ロポキシシラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチ
ルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリイソプロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシ
シラン;n−プロピルトリクロルシラン、n−プロピル
トリブロムシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、
n−プロピルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイ
ソプロポキシシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシ
ラン;n−ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルト
リブロムシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n
−ヘキシルトリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソ
プロポキシシラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラ
ン;n−デシルトリクロルシラン、n−デシルトリブロ
ムシラン、n−デシルトリメトキシシラン、n−デシル
トリエトキシシラン、n−デシルトリイソプロポキシシ
ラン、n−デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタ
デシルトリクロルシラン、n−オクタデシルトリブロム
シラン、n−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オ
クタデシルトリエトキシシラン、n−オクタデシルトリ
イソプロポキシシラン、n−オクタデシルトリt−ブト
キシシラン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリ
ブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラ
ン、フェニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシ
ラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキ
シジエトキシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチ
ルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフ
ェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロル
シラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラ
ン;トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラ
ン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシ
ラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブト
キシヒドロシラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルト
リブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、
ビニルトリt−ブトキシシラン;トリフルオロプロピル
トリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシ
ラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリ
フルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプ
ロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピ
ルトリt−ブトキシシラン;γ−グリシドキシプロピル
メチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメ
チルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシ
シラン;γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエト
キシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポ
キシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソ
プロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキ
シシラン;γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリt−ブトキシシラン;β−(3、4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−
(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシ
シラン;および、それらの部分加水分解物;およびそれ
らの混合物を使用することができる。As the coating film forming element, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltrit-butoxysilane; n-propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane,
n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n
-Hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltrit-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyltribromosilane, n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n -Decyltriisopropoxysilane, n-decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n-octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, phenyltrisilane -Butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane; diphenyldisilane Chlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane,
Diphenyldiethoxysilane; phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t -Butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane,
Vinyltri-t-butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltrit-butoxysilane; γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxy Silane, γ-glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryl Riloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriisopropoxysilane, γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ- Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ
-Aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane; γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane , Γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-
Mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β-
(3,4-Epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and their partial hydrolysates; and mixtures thereof can be used.
【0016】このように光触媒含有層で被覆された基材
に光触媒の励起波長以下の波長の光を照射し、光触媒を
光励起すると、前述したように光触媒含有層の表面は親
水化され、表面の電気伝導率が増加(表面固有抵抗が減
少)する。チタニアのように励起波長が紫外線領域にあ
る光触媒の場合には、光触媒含有層の表面を最初に超親
水化するには、太陽光、殺菌ランプ、メタルハライドラ
ンプ、水銀ランプ、キセノンランプ、その他の光源の紫
外線を使用することができる。光触媒含有層の表面が一
旦高度に親水化されたならば、表面の超親水性は蛍光灯
や白熱電灯に含まれる微弱な紫外線でも充分に維持し或
いは回復させることができる。光触媒含有層には、Cu、
Ag、Pt、Pd、Ir、Os、Ru、Rh等の金属を添加することが
できる。これらの金属を添加すると、基材表面の電気伝
導率が向上するので、帯電防止性能を更に向上させるこ
とができる。また、これらの金属は光触媒の光酸化作用
を増強させるので、抗菌性、防臭性などの機能も向上す
る。When the photocatalyst is photoexcited by irradiating the substrate coated with the photocatalyst-containing layer with light having a wavelength not longer than the excitation wavelength of the photocatalyst as described above, the surface of the photocatalyst-containing layer is hydrophilized as described above. Electric conductivity increases (surface resistivity decreases). In the case of a photocatalyst whose excitation wavelength is in the ultraviolet region such as titania, the surface of the photocatalyst containing layer is first made superhydrophilic by sunlight, sterilization lamps, metal halide lamps, mercury lamps, xenon lamps, and other light sources. UV rays can be used. Once the surface of the photocatalyst-containing layer has been made highly hydrophilic, the superhydrophilicity of the surface can be sufficiently maintained or restored even with the weak ultraviolet rays contained in fluorescent lamps and incandescent lamps. The photocatalyst containing layer, Cu,
Metals such as Ag, Pt, Pd, Ir, Os, Ru and Rh can be added. When these metals are added, the electric conductivity of the surface of the base material is improved, so that the antistatic performance can be further improved. Further, since these metals enhance the photooxidation action of the photocatalyst, the functions such as antibacterial property and deodorant property are also improved.
【0017】[0017]
【実施例】アナターゼ型チタニアゾル(日産化学、TA-1
5)とトリメトキシメチルシラン(日本合成ゴムのシリ
コーン塗料組成物“グラスカ”のB液)を混合し、エタ
ノールで希釈し、チタニア含有シリコーン塗料用組成物
を調製した。トリメトキシメチルシランとチタニアの重
量比は1であった。このチタニア含有塗料用組成物をポ
リエチレンテレフタレート(PET)のフィルム(富士ゼ
ロックス、モノクロPPC用OHPフィルム、JF-001)に塗布
し、110℃の温度で硬化させ、チタニア含有シリコーン
で被覆された#1試料を得た。次に、20Wのブラックラ
イトブルー蛍光灯(三共電気、FL20BLB)を用いてこの
#1試料の表面に0.6mW/cm2の紫外線照度(アナター
ゼ型チタニアの励起波長387nmより短い波長の紫外線
の照度)で約3日間紫外線を照射し、#2試料を得た。
#1試料および#2試料の表面の水との接触角を接触角
測定器(協和界面科学社製、形式CA-X150、低角度側検
出限界1゜)により測定したところ、測定器の読みは、
#1試料では85゜、#2試料では10゜であった。Example: Anatase type titania sol (Nissan Chemical, TA-1
5) and trimethoxymethylsilane (liquid B of the silicone coating composition "GLASCA" of Nippon Synthetic Rubber) were mixed and diluted with ethanol to prepare a titania-containing silicone coating composition. The weight ratio of trimethoxymethylsilane to titania was 1. This titania-containing coating composition was applied to a polyethylene terephthalate (PET) film (Fuji Xerox, monochrome PPC OHP film, JF-001), cured at a temperature of 110 ° C, and coated with titania-containing silicone # 1. A sample was obtained. Next, using a 20W black light blue fluorescent lamp (Sankyo Denki, FL20BLB), an ultraviolet illuminance of 0.6 mW / cm 2 was irradiated on the surface of this # 1 sample (the illuminance of an ultraviolet ray having a wavelength shorter than the excitation wavelength of 387 nm of anatase-type titania). ) For about 3 days to obtain a # 2 sample.
The contact angle of the surface of # 1 sample and # 2 sample with water was measured with a contact angle measuring instrument (Kyowa Interface Science Co., Ltd., Model CA-X150, low angle side detection limit 1 °). ,
It was 85 ° for the # 1 sample and 10 ° for the # 2 sample.
【0018】更に、シシド静電気(株)のスタチック・
オネストメーターを用いて、日本工業規格の『織物及び
編物の帯電性試験方法』(JIS L1094)のA法(半減期
測定法)に従い、#1試料および#2試料をコロナ放電
場でプラスに帯電させた後、帯電圧が半減する時間を測
定した。その結果、#1試料の半減期が999秒以上であ
ったのに対し、#2試料では半減期は70秒程度であり、
親水化に伴い明らかに帯電防止性が向上したことが確認
された。In addition, static
Using a Honest meter, the # 1 and # 2 samples are positively charged in the corona discharge field in accordance with the A method (half-life measurement method) of the Japanese Industrial Standard "Testing method for electrification of textiles and knits" (JIS L1094). After that, the time taken for the charged voltage to decrease by half was measured. As a result, the half-life of the # 1 sample was 999 seconds or more, while the half-life of the # 2 sample was about 70 seconds.
It was confirmed that the antistatic property was obviously improved with the hydrophilization.
【0019】[0019]
【発明の効果】本発明は、プラスチック、セラミック、
合成繊維、ガラス、その他の電気絶縁性の材料で形成さ
れ或いは被覆された物品、例えば、日用雑貨、家庭電化
製品、事務用機器、自動車、包装材料、衣服や絨毯、テ
レビジョンやコンピュータのブラウン管、放電ランプ、
に適用することができ、その表面の静電気的帯電を防止
することができる。従って、電撃や火花放電の発生、埃
の吸着、電子機器の誤動作、集積回路や記録媒体の破
壊、のような静電気による障害を防止することができ
る。複写機などにした場合には紙送りを円滑にすること
ができる。光触媒含有層は物品の表面に強固に接合する
ことができ、優れた耐摩耗性を有するので、帯電防止効
果が恒久的に得られる。帯電防止効果は、蛍光灯や白熱
電灯に含まれる微弱な紫外線でも持続する。The present invention is made of plastic, ceramic,
Articles formed or coated with synthetic fibers, glass, and other electrically insulating materials, such as household goods, household appliances, office equipment, automobiles, packaging materials, clothes and carpets, television and computer cathode ray tubes. , Discharge lamp,
Can be applied to, and electrostatic charging of the surface can be prevented. Therefore, it is possible to prevent failures due to static electricity, such as electric shock and spark discharge, dust adsorption, malfunction of electronic devices, and destruction of integrated circuits and recording media. When used as a copying machine, the paper can be fed smoothly. The photocatalyst-containing layer can be firmly bonded to the surface of the article and has excellent wear resistance, so that the antistatic effect can be permanently obtained. The antistatic effect continues even with the weak UV light contained in fluorescent lamps and incandescent lamps.
Claims (12)
された電気絶縁性の基材に光を照射して前記光触媒を光
励起することにより前記層の表面を水との接触角に換算
して約10゜以下に親水化し、空気中の湿分を表面に吸
着させることからなる帯電防止方法。1. An electrically insulating substrate coated with a layer containing a semiconductor photocatalyst is irradiated with light to photoexcite the photocatalyst, whereby the surface of the layer is converted into a contact angle with water of about 10. A method for preventing static electricity, which comprises hydrophilizing to below ℃ and adsorbing moisture in the air on the surface.
体光触媒を含有する層によって被覆し、前記光触媒を光
励起することにより前記層の表面を水との接触角に換算
して約10゜以下に親水化し、空気中の湿分を表面に吸
着させることからなる帯電防止方法。2. A surface of a base material made of an electrically insulating material is covered with a layer containing a semiconductor photocatalyst, and the surface of the layer is converted into a contact angle with water by photoexciting the photocatalyst to be about 10 ° or less. A method for preventing electrification, which comprises hydrophilizing to the surface and adsorbing moisture in the air on the surface.
は部分的に硬化したシリコーン又はシリコーンの前駆体
からなる塗膜形成要素、とを含む塗料用組成物を電気絶
縁材料からなる基材の表面に塗布し、 前記塗膜形成要素を硬化させることにより光触媒の粒子
がシリコーンに均一に分散された層を形成し、 光触媒を光励起することにより、前記層の表面のシリコ
ーン分子のケイ素原子に結合した有機基を光触媒の作用
により少なくとも部分的に水酸基に置換させ、もって、
前記層の表面を水との接触角に換算して約10゜以下に
親水化することからなる帯電防止方法。3. A coating composition comprising particles of a semiconductor photocatalyst and a film-forming element comprising uncured or partially cured silicone or a precursor of silicone, and a surface of a substrate comprising an electrically insulating material. To form a layer in which photocatalyst particles are evenly dispersed in silicone by curing the coating film-forming element, and photoexcitation of the photocatalyst binds to the silicon atom of the silicone molecule on the surface of the layer. By substituting the organic group with a hydroxyl group at least partially by the action of a photocatalyst,
An antistatic method comprising hydrophilizing the surface of the layer to a contact angle with water of about 10 ° or less.
約5゜以下に親水化されるまで光触媒を光励起すること
を特徴とする請求項1から3のいづれかに基づく帯電防
止方法。4. The antistatic method according to any one of claims 1 to 3, wherein the photocatalyst is photoexcited until the surface of the layer is hydrophilized to a contact angle with water of about 5 ° or less. .
料からなる基材と、 前記基材の表面に接合され半導体光触媒を含有する層と
を備え、 前記光触媒は、光励起に応じて、前記層の表面を水との
接触角に換算して約10゜以下に親水化し、もって、空
気中の湿分を表面に吸着させることを特徴とする帯電防
止性複合材。5. An antistatic composite material comprising: a base material made of an electrically insulating material; and a layer bonded to the surface of the base material and containing a semiconductor photocatalyst, wherein the photocatalyst responds to photoexcitation. An antistatic composite material, characterized in that the surface of the layer is hydrophilized to a contact angle with water of about 10 ° or less so that moisture in the air is adsorbed on the surface.
面を水との接触角に換算して約5゜以下に親水化する請
求項5に基づく帯電防止性複合材。6. The antistatic composite material according to claim 5, wherein the photocatalyst hydrophilizes the surface of the layer to a contact angle with water of about 5 ° or less in response to photoexcitation.
以下である請求項5又は6に基づく帯電防止性複合材。7. The photocatalyst-containing layer has a thickness of about 0.2 μm.
An antistatic composite material according to claim 5 or 6 below.
3、WO3、Bi2O3、Fe2O3からなる群から選ばれた1種の酸
化物を含む請求項5から7のいづれかに基づく帯電防止
性複合材。8. The photocatalyst is TiO 2 , ZnO, SnO 2 , SrTiO 2 .
The antistatic composite material according to any one of claims 5 to 7, containing one oxide selected from the group consisting of 3 , WO 3 , Bi 2 O 3 , and Fe 2 O 3 .
なる請求項8に基づく帯電防止性複合材。9. The antistatic composite material according to claim 8, wherein the photocatalyst is composed of anatase type titania.
る請求項8に基づく帯電防止性複合材。10. The antistatic composite material according to claim 8, wherein the photocatalyst is made of rutile type titania.
を含んでなる請求項8に基づく帯電防止性複合材。11. The photocatalyst-containing layer further comprises SiO 2 or SnO 2
An antistatic composite material according to claim 8 comprising:
一に分散されたシリコーンによって形成されており、前
記層の表面はシリコーン分子のケイ素原子に結合した有
機基が少なくとも部分的に水酸基に置換されたシリコー
ン誘導体で形成されている請求項5から10のいづれか
に基づく帯電防止性複合材。12. The photocatalyst-containing layer is formed of silicone in which photocatalyst particles are uniformly dispersed, and the surface of the layer has an organic group bonded to a silicon atom of a silicone molecule at least partially substituted with a hydroxyl group. 11. An antistatic composite material according to any one of claims 5 to 10 formed of a silicone derivative.
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Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49124166A (en) * | 1973-02-07 | 1974-11-27 | ||
| JPS6363726A (en) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Composition for surface treatment |
| JPS63100042A (en) * | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Glass article difficult-to be dirtied |
| JPH05302173A (en) * | 1992-04-28 | 1993-11-16 | Central Glass Co Ltd | Hydrophilic coating film and method for forming the same |
| JPH06278241A (en) * | 1992-09-22 | 1994-10-04 | Takenaka Komuten Co Ltd | Building material |
| JPH0751646A (en) * | 1993-08-12 | 1995-02-28 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | Method for cleaning off contaminant on solid matter surface |
| JPH07171408A (en) * | 1993-06-28 | 1995-07-11 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | Photocatalyst body and method for producing the same |
| JPH07233397A (en) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Kao Corp | Hydrophilizing agent and hydrophilizing method |
| JPH08119673A (en) * | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Kansai Paint Co Ltd | Hydrophilization treatment of glass |
-
1996
- 1996-06-06 JP JP8168643A patent/JPH09232096A/en active Pending
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49124166A (en) * | 1973-02-07 | 1974-11-27 | ||
| JPS6363726A (en) * | 1986-09-05 | 1988-03-22 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | Composition for surface treatment |
| JPS63100042A (en) * | 1986-10-14 | 1988-05-02 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Glass article difficult-to be dirtied |
| JPH05302173A (en) * | 1992-04-28 | 1993-11-16 | Central Glass Co Ltd | Hydrophilic coating film and method for forming the same |
| JPH06278241A (en) * | 1992-09-22 | 1994-10-04 | Takenaka Komuten Co Ltd | Building material |
| JPH07171408A (en) * | 1993-06-28 | 1995-07-11 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | Photocatalyst body and method for producing the same |
| JPH0751646A (en) * | 1993-08-12 | 1995-02-28 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | Method for cleaning off contaminant on solid matter surface |
| JPH07233397A (en) * | 1993-12-27 | 1995-09-05 | Kao Corp | Hydrophilizing agent and hydrophilizing method |
| JPH08119673A (en) * | 1994-10-21 | 1996-05-14 | Kansai Paint Co Ltd | Hydrophilization treatment of glass |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040420 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040921 |