JPH09236911A - 光重合性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 強固な感光層と支持体の密着力による、酸性
プレートクリーナーで版面のインキを除去しても又多量
の印刷を行ってもハイライトが飛ばず、シャドー再現性
にも優れ、耐刷性のあるレーザー書き込み可能な光重合
性平版印刷版を提供する。 【解決手段】 表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．２
０〜０．７０μｍのアルミニウム又はアルミニウム合金
からなる基板上に順次、１〜５ｇ／m²の陽極酸化皮膜、
２〜４０mg／m²（Ｓｉ元素量として）のシリケート皮膜
を設け、更にラジカルによる付加反応を起こし得る官能
基を有するシリコーン化合物を含む層を塗設した支持体
上に、活性光線により重合可能な少なくとも１個のエチ
レン性不飽和結合を有する化合物と、線状有機高分子重
合体と、光重合開始剤とを含有する光重合性組成物から
なる０．７〜２．５ｇ／m²の光重合性感光層及び酸素遮
断層を順次設けてなることを特徴とする光重合性平版印
刷版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光重合性平版印刷版
に関するものである。更に詳しくは、アルゴンレーザー
（４８８、５１４．５nm）、半導体レーザーの第２高調
波（ＳＨＧ−ＬＤ、３５０〜６００nm）、ＳＨＧ−ＹＡ
Ｇレーザー（５３２nm）等によりフィルム原稿を用いず
に直接製版可能なネガ型平版印刷版に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ネガ型平版印刷版は広く知ら
れており種々の感光層がある。ジアゾ樹脂含有型、光重
合型、光架橋型等がある。このような平版印刷版を作成
するには、これらの平版印刷版上に透明のネガフィルム
原稿をのせ、紫外線を用いて画像露光するのが一般的で
あり作業に手間暇がかかっていた。そこで感光層にある
種の高感度な光重合層を用いる事で、細くビームを絞っ
たレーザー光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像
原稿などを直接版面上に形成させ、フイルム原稿を用い
ず直接製版可能となる。しかしながら、従来こうした高
感度光重合性の平版印刷版は、印刷版として使用する時
の条件にもよるが、感光層と支持体の密着力を強力なも
のとするために支持体表面の粗面を粗くすると、確かに
画像の耐久性は向上するが、その反面印刷時の感光層の
磨耗の影響がでやすく、アルミニウムの親水面が表面に
出やすいため欠陥のある印刷物となったり、非画像部の
親水性が低下し、印刷に汚れを生じる結果となる。

【０００３】又、印刷時汚れが生じると印刷機上で版面
をプレートクリーナーで拭き、インキを除去するが、感
光層と支持体の密着力が弱いとアルカリ性のプレートク
リーナーでは問題ないが、特に酸性のプレートクリーナ
ーではハイライト部が飛ぶという問題があった。そのた
め印刷時プレートクリナーをユーザーが使用する印刷版
により数種類も準備しなければならなかった。更に印刷
枚数が多い場合、感光層と支持体の密着力が弱いと版面
を酸性のプレートクリーナーで拭いた場合と同様にハイ
ライト部が除々に飛ぶという問題があった。又、アルミ
支持体の陽極酸化皮膜が少ないと非画像部に傷が入りや
すく、また多すぎると、高輝度なレーザー露光を行うた
めハレーションのためシャドー再現性が劣化するという
問題があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、強固
な感光層と支持体の密着力による、酸性プレートクリー
ナーで版面のインキを除去しても又多量の印刷を行って
もハイライトが飛ばず、シャドー再現性にも優れ、耐刷
性のあるレーザー書き込み可能な光重合性平版印刷版を
提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記目的を達
成すべく鋭意研究を重ねた結果、表面の中心線平均粗さ
（Ｒａ）が０．２０〜０．７０μｍのアルミニウム又は
アルミニウム合金からなる基板上に順次、１〜５ｇ／m²
の陽極酸化皮膜、２〜４０mg／m²（Ｓｉ元素換算）のシ
リケート皮膜を設け、更にラジカルによる付加官能を起
こし得る官能基を有するシリコーン化合物を含む層を塗
設した支持体上に、活性光線により重合可能な少なくと
も１個のエチレン性不飽和結合を有する化合物と、線状
有機高分子重合体と、光重合開始剤とを含有する光重合
性組成物からなる０．７〜２．５ｇ／m²の光重合性感光
層及び酸素遮断層を順次設けてなることを特徴とする光
重合性平版印刷版によって、上記目的が達成できること
を見出し、本発明に到達したものである。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。本発明に使用される基板はアルミニウムまたはア
ルミニウム合金からなり、純アルミニウム板の他、アル
ミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又
はアルミニウム（合金）がラミネートもしくは蒸着され
たプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。前記
アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、
マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマ
ス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含
有量は１０重量％以下である。本発明では純アルミニウ
ム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬
技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有する
ものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニ
ウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来よ
り公知公用の素材のもの、例えばJIS A 1050、JIS A 11
00、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することが
出来る。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウ
ムまたはアルミニウム合金からなる基板をアルミニウム
基板と総称して用いる。また、本発明に用いられるアル
ミニウム基板の厚みは、およそ０．１mm〜０．６mm程度
である。

【０００７】本発明に用いられるアルミニウム基板は、
表面の中心線平均粗さＲａが０．２０〜０．７０μｍ、
好ましくは０．２５〜０．６０μｍのものである。Ｒａ
が０．７０μｍを越えると、細線、網点のエッジがぎざ
ぎざになり、また耐刷性も劣化する。一方、０．２０μ
ｍより小さいと保水性が悪くなり、印刷の際、水−イン
キバランスがとりにくくなる。更に多数枚刷り込んだと
きに汚れが発生しやすくなる。

【０００８】上記中心線平均粗さＲａは、下記の如く求
められる。表面祖さは、三次元的な凹凸をある一断面形
状から特定して代数表現するために用いられ、断面形状
に対応する断面曲線は、粗さ曲線から得られる諸性質を
示す。ここで、断面曲線とは被測定面に直角な平面で切
断した時に、その切り口に現れる輪郭である。この切断
は、特に指定がないかぎり表面粗さが最も大きく現れる
方向に切る。例えば、方向性のある被測定面では、その
方向に切る。表面粗さの測定法は、触針法、トポグラフ
ァイナ、光切断、干渉法繰り返し、シーン光沢、光散
乱、レーザスペックル、白色光スペックル、ホログラフ
ィー干渉法フリンジコントラスト、容量法等種々の測定
法により求められる。本発明に係わるアルミニウム基板
の光重合性感光層側の表面形状は、走査長および表面粗
さのレベルを考慮して、触針式の接触型装置により測定
した場合の数値を採用するものとする。

【０００９】中心線平均粗さ、単位長さ当たりの山数等
を直読する型の触針式表面粗さ測定機には、いわゆる表
面うねり成分を除去するため、断面曲線構成波長成分
中、長波長成分を除去する電気フィルターが設けられて
いる。従って、断面曲線とは異なる曲線（粗さ曲線と呼
称される）を用いて、中心線平均粗さを直示している。
中心線平均粗さＲａとは、抽出曲線より、その中心線の
方向に測定長さＬの部分を抜き取り、その抜き取り部分
の中心線をＸ軸、縦倍率の方向をＺ軸とし、抽出曲線を
Ｚ＝ｆ（ｘ）で表した時、以下の式で与えられ、μｍ単
位で表示される。 Ｒａ＝（１／Ｌ）・｜ｆ（ｘ）｜ｄｘ（μｍ） 即ち、Ｒａは抽出曲線と中心線とにより囲まれる部分の
面積を測定長さで割った値を表す。本発明における中心
線平均粗さＲａは上記の式の如くＪＩＳＢ０６０１で定
義されるもので、本発明ではカットオフ値０．０８mm、
測定長さが０．５mm、走査速度が０．０６mm/secなる条
件で測定し、測定回数１０回の平均値を採用する。尚、
測定は触針先端の曲率半径が１μｍのものを使用し、東
京精密（株）製サースコム５７０Ａで行い、解析装置と
して明伸工機（株）製Ｓ−２０１０を使用した。

【００１０】上記の如く特定された中心線平均粗さＲａ
は、以下に述べる砂目立て並びにそれに続く処理により
実現できる。本発明における砂目立て方法は塩酸または
硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂
目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひ
っかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でア
ルミニウム表面を砂目立でするボールグレイン法、ナイ
ロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイ
ン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上
記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いること
もできる。その中でも本発明に有用に使用される表面粗
さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂
目たてする電気化学的方法であり、適する電流密度は１
００Ｃ/dm²〜４００Ｃ/dm²の範囲である。さらに具体的
には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液
中、温度２０〜１００℃、時間１〜３０分、電流密度１
００Ｃ/dm²〜４００Ｃ/dm²の条件で電解を行うことが好
ましい。

【００１１】このように砂目立て処理したアルミニウム
基板は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングさ
れる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造
を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用す
るに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤と
して用いることにより改善できる。本発明において好適
に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、
アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度
の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃
であり、Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／m³となるような条
件が好ましい。エッチングのあと表面に残留する汚れ
（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。用い
られる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホ
ウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化
処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特
開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５
０〜９０℃の温度の１５〜６５重量％の硫酸と接触させ
る方法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されて
いるアルカリエッチングずる方法が挙げられる。

【００１２】以上のようにして処理されたアルミニウム
基板は、さらに陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理
はこの分野で従来より行われている方法で行うことがで
きる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ
酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいは
これらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水溶液
中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミニウ
ム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変
化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液
の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、電流密度０．５
〜６０アンペア/dm²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０
〜１００秒の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理
のうちでも特に英国特許第１，４１２，７６８号明細書
に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する
方法及び米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載
されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好
ましい。本発明においては、陽極酸化皮膜は１〜５ｇ／
m²であることが好ましく、１ｇ／m²以下であると版に傷
が入りやすく、５ｇ／m²以上は製造に多大な電力が必要
となり、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜
４．５ｇ／m²である。更に好ましくは、２〜４ｇ／m²で
ある。

【００１３】更に、本発明においては、砂目立て処理及
び陽極酸化後、アルミニウム基板に封孔処理を施するこ
とも好ましい。かかる封孔処理は、熱水及び無機塩また
は有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気
浴などによって行われる。

【００１４】陽極酸化処理が施された後、アルミニウム
基板表面は親水化処理が施される。本発明における親水
化処理はシリケート皮膜の形成であり、シリケート皮膜
はＳｉ元素量として２〜４０mg／m²、より好ましくは４
〜３０mg／m²形成される。塗布量はケイ光Ｘ線分析法に
より測定でき、Ｓｉ元素量を測定することができる。上
記の親水化処理は、例えば米国特許第２，７１４，０６
６号、第３，１８１，４６１号、第３，２８０，７３４
号および第３，９０２，７３４号に開示されているよう
なアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水
溶液）法を適用することができる。この方法に従い、ア
ルカリ金属ケイ酸塩が１〜３０重量％、好ましくは２〜
１５重量％であり、２５℃のｐＨが１０〜１３である水
溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム基板
を、例えば１５〜８０℃で０．５〜１２０秒浸漬する。

【００１５】本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩と
しては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム
などが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨを
高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。
なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IV
Ｂ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩とし
ては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩
酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性
の塩が挙げられる。第IVＢ族金属塩として、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。ア
ルカリ土類金属塩もしくは、第IVＢ族金属塩は単独又は
２以上組み合わせて使用することができる。これらの金
属塩の好ましい範囲は０．０１〜１０重量％であり、更
に好ましい範囲は０．０５〜５．０重量％である。

【００１６】このようにして陽極酸化皮膜及びシリケー
ト皮膜が形成されたアルミニウム基板は、更にその表面
にラジカルによって付加反応を起こし得る官能基（以
下、付加反応性官能基と呼ぶ）を有するシリコーン化合
物を含む層が塗設される。この付加反応性官能基を有す
るシリコーン化合物を含む層の塗設は、有機シリコーン
化合物を原料として用いる方法によるのが好ましい。具
体的には、付加反応性官能基をＲ₁と表わした時、下記
式（１）： Ｒ₁Ｓi(ＯＲ₂)₃ （１） （式中、−ＯＲ₂は加水分解可能なアルコキシ基又は−
ＯＣＯＣＨ₃基である。）で表わされる有機シリコーン
化合物（１）を用いてアルミニウム基板を処理すること
により、基板表面の金属、金属酸化物、水酸化物、−Ｏ
Ｈ基、又は基板の化成処理によって形成されたシラノー
ル基などと反応させて基板表面と共有結合を形成させ、
下記式（２）：

【００１７】

【化１】

【００１８】で示される官能基を基板表面に結合（又は
植え付け）させればよい。式中、Ｒ₃はＲ₂と同種もしく
は異種のアルキル基又は水素原子、もしくは隣接する別
のＳｉ原子との結合を表わす。上記において、付加反応
性官能基（Ｒ₁）が中央のＳｉ原子に２個以上結合した
下記式（１ａ）又は（１ｂ）：

【００１９】

【化２】

【００２０】で表わされる有機シリコ−ン化合物（１
ａ）（１ｂ）を用いることもできる。また、付加反応性
官能基（Ｒ₁）が−Ｏ−を介して中央のＳｉ原子に結合
する官能基である場合は、

【００２１】

【化３】

【００２２】で表わされる有機シリコーン化合物（１
ｃ）を用いることもできる。有機シリコーン化合物
（１）は、中央のＳｉ原子に結合する４個のＲ₁のうち
少なくとも１個が加水分解されずに残っている状態の時
にアルミニウム基板に塗布される。有機シリコーン化合
物（１）をアルミニウム基板上に塗設する際、このもの
を単独で用いてもよく、又は適当な溶媒で希釈して用い
てもよい。アルミニウム基板上で有機シリコーン化合物
（１）をより強固に結合させるために、水及び／又は触
媒を加えることができる。溶媒としては、メタノール、
エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレ
ングリコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類
が好ましく、触媒としては塩酸、酢酸、リン酸、硫酸な
どの酸、又はアンモニア、テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシドなどの塩基が使用できる。

【００２３】アルミニウム基板上の付加反応性官能基の
量は、結合させる付加反応性官能基の種類によって異な
るが、１００Ų当り一般に０．０１〜４００個、好ま
しくは０．０５〜４０個、更に好ましくは０．１〜５個
とすることが適当である。付加反応性官能基量が１００
Ų当り０．０１個より少ないと十分な光接着強度が得
られ難い。有機シリコーン化合物（１）を厚く塗り重ね
ることによって、１００Ų当りの付加反応性官能基量
を実質的に幾らでも多くすることが可能であるが、最表
面に顔を出す付加反応性官能基量は１００Ų当り高々
１０個であるので、厚く塗り過ぎても無駄になる。付加
反応性官能基量が多過て、ＰＳ板として使用した時の非
画像部の親水性が不足しないためには、１００Ų当り
の付加反応性官能基の量は４００個以内とするのが好ま
しい。

【００２４】従って、有機シリコーン化合物を用いてア
ルミニウム基板表面に付加反応性官能基を結合する（植
え付ける）際は、有機シリコーン化合物を希釈する溶媒
の種類と量、基板表面上での加水分解用に加える水の量
（加える場合）、基板表面上での加水分解を促進するた
めの触媒の種類と量（加える場合）、有機シリコーン化
合物の溶液を基板上に施用する方法、基板に施用した後
の乾燥雰囲気、乾燥温度、乾燥時間等のプロセスパラメ
ータを種々変更し、基板表面に保持される付加反応性官
能基量が上記の量の範囲内となるように制御することが
必要である。アルミニウム基板表面に保持される付加反
応性官能基の量は、処理後の基板表面を適当な方法、例
えばケイ光Ｘ線分析法、赤外線吸収法等の方法で測定
し、表面にあるＳｉ原子量の定量、炭素−炭素の多重結
合量の定量等を行なうことによって決定することができ
る。

【００２５】上記の如くアルミニウム基板上に陽極酸化
皮膜及びシリケート皮膜を形成し、更にその表面に付加
反応性官能基を結合して、本発明の支持体が完成する。
但し、この支持体（付加反応性支持体）を用いてＰＳ版
を構成する場合、式（１）の有機シリコーン化合物のみ
を用いてアルミニウム基板の処理をしただけでは印刷汚
れを生じる場合がある。即ち、付加反応性官能基を結合
してなる支持体上に光重合性の感光性組成物を塗布して
感光層を設け、これに像様露光して画像通りの界面光接
着を起させ、現像液で未露光部を取り去ることにより、
支持体上には光のパターン通りの光重合密着膜が残る。
そして、これにインクと水を塗ると、インクは光重合接
着した像様露光部へ、水は未露光部へそれぞれ付着して
印刷版となるが、上記有機シリコーン化合物を単独で使
用した場合には、水が付着するべき未露光部に過剰の有
機官能基が存在ことがあり、水の他にインクも付着して
印刷物上に汚れとなって観察されることがある。

【００２６】そこで、この印刷汚れを防ぐために、アル
ミニウム基板表面上に付加反応性官能基（Ｒ₁）の他に
ＯＨ基を多く固定して親水性を強くすることが好まし
い。好ましくは、アルミニウム基板表面への付加反応性
官能基の結合において、式（１）：Ｒ₁Ｓi(ＯＲ₂)₃で表
わされる有機シリコーン化合物（１）の他に、式
（３）：Ｓi(ＯＲ₄)₄（式中、−ＯＲ₄は加水分解可能な
アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキ
シ基又は−ＯＣＯＣＨ₃基であり、Ｒ₄はＲ₂と同じであ
っても異なってもよい。）で表わされる有機シリコーン
化合物（３）を併用し、基板表面に式（２）：

【００２７】

【化４】

【００２８】で示される反応サイトを結合すると同時
に、式（４）：

【００２９】

【化５】

【００３０】で示される親水性サイトを結合することが
好ましい。ここで、式中、Ｒ₃はアルキル基、水素原
子、又は隣接する別のＳｉ原子との結合を表わすが、Ｒ
₃が水素原子であることが親水性の面からは最も好まし
い。なお、Ｒ₃が水素原子以外のもののときは、必要に
応じて、表面をアルカリ溶液で洗うことによって、親水
性を高めることができる。

【００３１】式（１）の有機シリコーン化合物（１）と
式（３）の有機シリコーン化合物（３）との混合比は、
支持体の性状によってそれぞれのものの支持体表面への
結合（植えつけ）効率が変動するため、一概に好適な範
囲を決めることができない。しかし、具体的には、両者
の比を種々に変えて支持体処理を行ない、付加反応性官
能基Ｒ₁に基づく光接着性と、式（４）で示される部分
構造に由来する親水性とが両立する条件を実験的に確定
して使用することになる。いずれにしても、付加反応性
官能基の密度が前記範囲内になるようにすればよい。具
体的には、有機シリコーン化合物（１）に対する有機シ
リコーン化合物（３）の混合モル比は０．０５〜２００
が適当であるが、好ましくは０．２〜１００、更に好ま
しくは１〜４０である。またこの範囲内で、式（３）の
有機シリコーン化合物（３）に由来する親水性基の量を
多くすればするほど非画像部の親水性が増す。ただし、
親水性基の密度が低い場合でも、付加反応性官能基を親
水化処理することによって親水性基の密度を向上させる
ことができる。

【００３２】アルミニウム基板表面への付加反応性官能
基の結合には、大別すると、有機シリコーン化合物をそ
のまま用いることからなる上述の方法（以下、ＳＣ法と
呼ぶ）の他に、有機シリコーン化合物を加水分解すると
ともに重縮合させて得られた−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合を
含む無機高分子に付加反応性官能基が固定された形の有
機無機複合体を用いることからなる方法（以下、ＳＧ法
と呼ぶ）がある。この有機無機複合体をアルミニウム基
板に塗布して乾燥させると、無機高分子部分が基板と密
着し、付加反応性官能基はそのまま基板表面上に残る。

【００３３】ＳＣ法の場合、アルミニウム基板表面にお
ける付加反応性官能基の結合位置は基板表面上の特定の
性質をもった位置となりやすく、基板表面上に一様に分
布させるのが困難な場合がある。つまり、特定の酸点や
塩基点においてのみＳｉ原子との間の共有結合が形成さ
れ、付加反応性官能基の分布がアルミニウム基板表面の
酸点や塩基点の分布に支配されやすい。従って、光接着
強度や非画像部親水性にムラを生じる場合がある。こう
した状況の時はＳＧ法に従うのが有利である。

【００３４】細かく見れば、ＳＣ法、ＳＧ法の他に、中
間の態様、例えば式（１）の有機シリコーン化合物
（１）：Ｒ₁Ｓi(ＯＲ₂)₃中のＯＲ₂の一部もしくは全部
が加水分解して２分子又は３分子が結合した形の有機シ
リコーン化合物を出発原料として用いる処理も可能であ
る。ＳＧ法による付加反応性官能基の結合法に従えば、
式（１）の有機シリコーン化合物（１）を、場合により
式（３）の有機シリコーン化合物（３）と所望の混合比
に混合し、液中で、必要により触媒の存在下で、付加反
応性官能基Ｒ₁では反応を起さずに−ＯＲ₂及び−ＯＲ₄
で加水分解させるとともに重縮合反応を行なわせて、中
心のＳｉ原子が−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−結合でつながった無
機高分子を含む液状組成物として、これをアルミニウム
基板表面に塗布し、場合により乾燥させることによっ
て、基板上に付加反応性官能基を結合する。ＳＧ法を用
いると、アルミニウム基板表面上に結合固定される付加
反応性官能基の分布が基板表面の酸点や塩基点などの化
学的な性質の分布に左右されることが少ない。また、出
発原料として有機シリコーン化合物（１）の他に有機シ
リコーン化合物（３）を併用する場合、上記式（２）で
示される付加反応性官能基サイトと上記式（４）で示さ
れる親水性サイトとの相対比が有機シリコーン化合物
（１）及び化合物（３）の仕込み比でほぼ決められるた
め、最適表面を得るための処方決定の道筋がＳＣ法より
も整然とする利点がある。

【００３５】本発明で使用する上記式（１）で示される
有機シリコーン化合物（１）の具体例として、以下のも
のを挙げることができる。 ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓi(ＯＣＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＳi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂ＮＨ(ＣＨ₂)₃Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₄−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)ＣＯＯ−(ＣＨ₂)₅−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ−(ＣＨ₂)₄−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、

【００３６】

【化６】

【００３７】 ＣＨ₂＝ＣＨ−ＳＯ₂ＮＨ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、

【００３８】

【化７】

【００３９】ＨＣ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₃Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、

【００４０】

【化８】

【００４１】ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 （ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ)₄Ｓi、 ＨＯ−ＣＨ₂−Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＯ−Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＳ−(ＣＨ₂)₃−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｏ−(ＣＨ₂)₂−ＳＣＨ₂−Ｓi(ＯＣ
Ｈ₃)₃、 ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ₂Ｓ−(ＣＨ₂)₃−Ｓ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃、 （ＣＨ₃)₃ＣＣＯ−Ｃ≡Ｃ−Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₃、 （ＣＨ₂＝ＣＨ)₂Ｎ−(ＣＨ₂)₂−ＳＣＨ₂−Ｓi(ＯＣＨ₃)
₃、

【００４２】

【化９】

【００４３】 ＣＨ₃ＣＯＣＨ＝Ｃ(ＣＨ₃)−Ｏ−Ｓi(ＯＣＨ₃)₃。 また、式（３）で示される有機シリコーン化合物（３）
の具体例としてはテトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ（ｎ−
プロポキシ）シラン、テトラ（ｎ−ブトキシ）シラン、
テトラキス（２−エチルブトキシ）シラン、テトラキス
（２−エチルヘキシルオキシ）シラン、テトラキス（２
−メトキシエトキシ）シラン、テトラフェノキシシラ
ン、テトラアセトキシシランなどを挙げることができ、
中でもテトラエトキシシランが好ましい。

【００４４】アルミニウム基板表面へ付加反応性官能基
を結合するのにＳＣ法を用いる場合もＳＧ法を用いる場
合も、溶媒の種類、基板への施用方法、乾燥方法等は共
通であるが、ＳＧ法の場合、付加反応性官能基が保持さ
れた無機高分子組成物を予かじめ調液しておく必要があ
る。以下にその好ましい具体例を示す。式（１）及び
（３）で表わされる有機シリコーン化合物（１）及び
（３）を加水分解とともに重縮合させてＳＧ法に好適な
組成物とするのに使用できる溶媒は、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレング
リコール、ヘキシレングリコール等のアルコール類であ
る。溶媒の使用量は、使用する有機シリコーン化合物
（１）及び（３）の総重量に基づいて、一般に０．２〜
５００倍、好ましくは０．５〜５０倍、更に好ましくは
１〜３倍である。使用量が０．２倍より少ないと反応液
が経時でゲル化しやすく不安定となり好ましくない。ま
た、５００倍より多いと、反応が数日を要するようにな
り好ましくない。有機シリコーン化合物を加水分解する
ために加える水の量は、一般に有機シリコーン化合物１
モル当り０．５〜１０００モル、好ましくは１〜１００
モル、更に好ましくは１．５〜１０モルである。水の量
が有機シリコーン化合物１モル当り、０．５モルより少
ない時は、加水分解とそれに続く重縮合反応の進行が非
常に遅くなり、安定な表面処理が可能となるまでに数日
を要し好ましくない。一方、水の量が有機シリコーン化
合物１モル当り１０００モルより多くなると、生成した
組成物を金属表面に塗設した場合密着不良を起す他、組
成物の経時安定性が悪く、すぐにゲル化してしまうこと
が多いため、塗布作業を安定して行ないにくくなる。

【００４５】ＳＧ法に好適な組成物を調液するための反
応温度は室温〜１００℃程度が常用されるが、以下に述
べる触媒の種類によっては室温以下あるいは１００℃以
上の温度を用いることもできる。溶媒の沸点よりも高い
温度で反応させることも可能であり、必要に応じて反応
器に還流冷却器を付設するのがよい。必要に応じて使用
される触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢
酸、リンゴ酸、シュウ酸などの酸、又はアンモニア、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウムなどの塩基が使用できる。触媒の
添加量は、有機シリコーン化合物（１）及び場合により
追加される有機シリコーン化合物（３）の合計量を基準
として、有機シリコーン化合物１モル当り０．００１〜
１モル、好ましくは０．００２〜０．７モル、更に好ま
しくは０．００３〜０．４モルである。触媒添加量を１
モルより多くしても、その添加効果に比べて経済的に特
に利益があるわけではない。

【００４６】酢酸、リンゴ酸等の弱酸を触媒として使用
する時は、反応温度を４０℃〜１００℃の範囲とするの
が有利であるが、硫酸、硝酸等の強酸を触媒として使用
する時は１０℃〜６０℃の範囲がよい。リン酸を触媒と
して用いる場合は１０℃〜９０℃で反応を行なわせるこ
とができる。ＳＧ法に用いる組成物の調液工程、及びこ
れをアルミニウム基板に塗布し乾燥する工程で、多くの
場合熱が加えられるが、揮発性の酸を触媒として使用す
ると、周囲の装置に揮発して付着し、これを腐食させる
場合がある。主として鉄を素材として用いる工程で本方
法を使用する場合は、不揮発性の硫酸及び／又はリン酸
を触媒として用いるのが好ましい。

【００４７】以上述べたように、式（１）及び（３）で
表わされる有機シリコーン化合物と、有機溶媒、水、及
び場合により触媒からなる組成物を、適当な反応温度、
反応時間、及び場合により適当な攪拌条件を選んで反応
させると、加水分解とともに重縮合反応が起りＳｉ−Ｏ
−Ｓｉ結合を含む高分子又はコロイド状高分子が生成
し、液状組成物の粘度が上昇し、ゾル化する。式（１）
及び（３）で表わされる有機シリコーン化合物を両方使
用してゾル液を調製する場合、両方の有機シリコーン化
合物を反応の最初から反応容器内に装荷してもよく、あ
るいは一方のみで加水分解と重縮合反応をある程度進め
た後に他方の有機シリコーン化合物を加え、反応を終了
させてもよい。ＳＧ法で用いる上記ゾル液は、室温で放
置すると重縮合反応が引き続き進行しゲル化することが
ある。従って、一度上記の方法で調液したゾル液を、ア
ルミニウム基板への塗布時に希釈のために使用する予定
の溶媒で予じめ希釈して、ゾル液のゲル化を防止ないし
遅延させることができる。

【００４８】ＳＣ法及びＳＧ法のいずれにおいても、支
持体上に目的量の有機シリコーン化合物もしくは付加反
応性官能基を結合するために、また支持体上での有機シ
リコーン化合物もしくは付加反応性官能基の分布ムラが
無いようにするために、これらの処理液を支持体に塗布
する前に溶媒を加えて濃度調整を行なうことが好まし
い。この目的に使用する溶媒としてはアルコール類、殊
にメタノールが好適であるが、他の溶剤、有機化合物、
無機添加剤、界面活性剤などを加えることもできる。他
の溶剤の例としては、メチルエチルケトン、エチレング
リコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、１−
メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタ
ン、乳酸メチル、乳酸エチル、アセチルアセトン、エチ
レングリコール等を挙げることができる。添加すること
のできる有機化合物の例としては、エポキシ樹脂、アク
リル樹脂、ブチラール樹脂、ウレタン樹脂、ノボラック
樹脂、ピロガロール−アセトン樹脂、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテ
ル、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。無機添
加剤の例としては、コロイダルシリカ、コロイダルアル
ミナなどを挙げることができる。エチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル等の高沸点溶剤
は、支持体に塗布する濃度にまで希釈された液の安定性
を高め、支持体に結合された付加反応性官能基の反応再
現性を保証する働きがある。ノボラック樹脂、ピロガロ
ール−アセトン樹脂等の有機化合物も同様の効果を有す
るが、得られる支持体の表面の親水性を低下させる副作
用があり、添加量を細かく調整する必要がある。

【００４９】ＳＧ法に好適なゾル液もしくは液状組成物
は、アルミニウム基板表面に塗設後、風乾ないし加熱乾
燥させると、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合からなる無機高分子が
ゲル化すると同時に基板表面と共有結合する。乾燥は溶
媒、残留水及び場合により触媒を揮散させるために行な
うものであるが、処理後の基板の使用目的によっては工
程を省くこともできる。ＳＣ法においても、この乾燥工
程は溶媒、残留水等の揮散という意味の他に、有機シリ
コーン化合物とアルミニウム基板との密着を確実にする
という意味を有する。従って、目的によっては、乾燥終
了後にも更に温度をかけ、加熱を継続してもよい。乾燥
及び場合により継続されるその後の加熱における最高温
度は付加反応性官能基Ｒ₁が分解しない範囲にあること
が好ましい。従って、使用できる乾燥温度条件は室温〜
２００℃、好ましくは室温〜１５０℃、更に好ましくは
室温〜１２０℃である。乾燥時間は一般に３０秒〜３０
分間、好ましくは４５秒〜１０分間、更に好ましくは１
分〜３分間である。本発明において用いられる液状組成
物（有機シリコーン化合物もしくはその溶液又はゾル
液）の施工方法は、ハケ塗り、浸漬塗布、アトマイジン
グ、スピンコーティング、ドクターブレード塗布等、各
種のものも使用することができ、アルミニウム基板表面
の形状や必要とする処理膜厚等を勘案して決められる。

【００５０】上記の如くアルミニウム基板上に、陽極酸
化皮膜及びシリケート皮膜を設け、更に付加反応性官能
基を形成してなる支持体上に、後述される光重合性組成
物からなる感光層を形成することで、本発明の光重合性
平版印刷版が完成するが、感光層を塗設する前に必要に
応じて有機下塗層が設けられる。この有機下塗層に用い
られる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセ
ルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエ
チルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、
置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホ
スホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、
メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸など
の有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン
酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリ
ン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニル
ホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフ
ィン酸およびグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィ
ン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およ
びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基
を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上
混合して用いてもよい。

【００５１】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことが出来る。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム基板を浸漬して上記有
機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、
乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法で
は、上記の有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度
の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などい
ずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶
液の濃度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５
〜５重量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましく
は２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、
好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、ア
ンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩
基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを
調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。
また、光重合性平版印刷版の調子再現性改良のために、
黄色染料を添加することもできる。有機下塗層の乾燥後
の被覆量は、２〜２００mg／m²が適当であり、好ましく
は５〜１００mg／m²である。上記の被覆量が２mg／m²よ
り少ないと十分な耐刷性が得られない。また、２００mg
／m²より大きくても同様である。

【００５２】そして、上記の如く構成される支持体上
に、下記の光重合性組成物からなる感光層を形成して本
発明の光重合性平版印刷版が完成する。本発明の光重合
性組成物の主な成分は、活性光線により重合可能な少な
くとも１個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、線
状有機高分子重合体及び光重合開始剤を主成分とし、必
要に応じて有機高分子結合剤、熱重合禁止剤、着色剤、
可塑剤等の種々の化合物が添加される。

【００５３】活性光線により重合可能な少なくとも１個
のエチレン性不飽和結合を有する化合物は、末端エチレ
ン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上
有する化合物の中から任意に選択することができる。例
えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体
およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれ
らの共重合体などの化学的形態をもつものである。モノ
マーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン
酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪
族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等があげられ
る。

【００５４】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００５５】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００５６】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４ープタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。

【００５７】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物もあげることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、１，６−へキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。

【００５８】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ′）ＯＨ （Ａ） （ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００５９】また、特開昭５１−３７１９３号公報に記
載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４
８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭
５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリ
エステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アク
リル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能
のアクリレートやメタクリレートをあげることができ
る。さらに日本接着協会誌vol.２０、Ｎo.７、３００〜
３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよび
オリゴマーとして紹介されているものも使用することが
できる。なお、これらの使用量は、全成分に対して５〜
７０重量％（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜
５０％である。

【００６０】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適
宜選択して使用することができる。例えば４００nm以下
の紫外光を光源として用いる場合、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、アク
リジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用され
ている。また、４００nm以下の可視光線、アルゴンレー
ザー、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザーを光源とする場合にも、
種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許第
２，８５０，４４５号明細書に記載のある種の感光性染
料、染料とアミンの複合開始系（特公昭４４−２０１８
９号）、へキサアリールビイミダゾールとラジカル発生
剤と染料との併用系（特公昭４５−３７３７７号）、ヘ
キサアリールビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベ
ンジリデンケトンの系（特公昭４７−２５２８号、特開
昭５４−１５５２９２号）、環状シス−α−ジカルボニ
ル化合物と染料の系（特開昭４８−８４１８３号）、環
状トリアジンとメロシアニン色素の系（特開昭５４−１
５１０２４号）、３−ケトクマリンと活性剤の系（特開
昭５２−１１２６８１号、特開昭５８−１５５０３
号）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系
（特開昭５９−１４０２０３号）、有機過酸化物と色素
の系（特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１８
９３４０号）、ローダニン骨格の色素とラジカル発生剤
の系（特開平２−２４４０５０号）、チタノセンと３−
ケトクマリン色素の系（特開昭６３−２２１１１０
号）、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ基ある
いはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和
化合物を組み合わせた系（特開平４−２２１９５８号、
特開平４−２１９７５６号）、チタノセンと特定のメロ
シアニン色素の系（特開平６−２９５０６１号）等を挙
げることができる。これらの光重合開始剤の使用量は、
エチレン性不飽和化合物１００重量部に対し、０．０５
〜１００重量部、好ましくは０．１〜７０重量部、更に
好ましくは０．２〜５０重量部の範囲で用いることがで
きる。

【００６１】光重合性組成物は、通常、バインダーとし
て線状有機高分子重合体を含有するが、このような線状
有機高分子重合体としては、光重合可能なエチレン性不
飽和化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合体
である限り、どれを使用してもかまわない。好ましくは
水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは
弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重
合体が選択される。線状有機高分子重合体は、該組成物
の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或は
有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。
例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が
可能になる。この様な線状有機高分子重合体としては、
側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭
５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公
昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特
開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、
特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。

【００６２】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレー
ト／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）ア
クリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。こ
の他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリ
ドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬
化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミ
ドや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。これらの線状有機高分子重合体は全組成中に任意な
量を混和させることができる。しかし９０重量％を超え
る場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を
与えない。好ましくは３０〜８５％である。また光重合
可能なエチレン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体
は、重量比で１／９〜７／３の範囲とするのが好まし
い。より好ましい範囲は２／８〜６／４である。

【００６３】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合防止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等があげられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにべヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好
ましい。更に感光層の着色を目的として、着色剤を添加
してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレッ
ト、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料
がある。染料および顔料の添加量は全組成物の約０．５
％〜約５％が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良
するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメ
チルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤
等の添加剤を加えてもよい。これらの添加量は全組成物
の１０％以下が好ましい。

【００６４】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。

【００６５】また、本発明における光重合性組成物に
は、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加するこ
とができる。

【００６６】本発明において、光重合性組成物の被覆量
は、乾燥後の塗布量で、０．７〜２．５ｇ／m²、好まし
くは０．８〜２．２ｇ／m²、更に好ましくは１．０〜２
ｇ／m²の範囲が適当である。塗布量が大きくなるにつ
れ、露光量を必要とするが、感光皮膜は厚くなり、例え
ば印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い（高耐
刷の）印刷坂が得られる。また重合反応は、増感色素ま
たは光開始剤が光を吸収し、その後、重合開始ラジカル
を生成し重合反応が進むので、使用される光源の波長に
対し、吸光度で０．１〜１．２、好ましくは０．２〜
１．０の範囲に増感色素、光開始剤の量を調整すること
が望ましい。１．２より高くなるとフィルター効果によ
り感度が下がり、０．１より低いと基板のハレーション
により画像の周辺がぼける現象が生じる。

【００６７】このようにして支持体上に設けられた光重
合性感光層の上には、更に空気中の酸素による重合禁止
作用を防止するために、例えばポリビニルアルコール、
特にケン化度８５％以上のポリビニルアルコール、酸性
セルロース類などの酸素遮断性に優れたポリマーよりな
る酸素遮断層を設けてもよい。この様な酸素遮断層の塗
布方法については、例えば米国特許第３，４５８，３１
１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されてい
る。

【００６８】かくして得られた光重合性平版印刷版は透
明原画を通じてカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハラ
イドランプ、キセノンランプ、タングステンランプなど
を光源とする活性光線により露光されるか、Ａｒレーザ
ー、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザーにより直接露光された後、
現像処理される。かかる現像処理に使用される現像液と
しては従来より知られているアルカリ水溶液が使用でき
る。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、
同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなどの無
機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプ
ロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アル
カリ剤も用いられる。

【００６９】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。上記のアルカリ水溶液の
内、本発明による効果が一段と発揮される現像液はアル
カリ金属ケイ酸塩を含有するｐＨ１２以上の水溶液であ
る。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂Ｏの比
率（一般に〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕のモル比で表す）と
濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開
昭５４−６２００４号公報に開示されているような、Ｓ
ｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち〔Ｓｉ
Ｏ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕が１．０〜１．５であって、ＳｉＯ
₂の含有量が１〜４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液
や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているよう
な、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即ち
〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、
ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であり、かつ該現像液が
その中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準に
して少なくとも２０％のカリウムを含有していることと
からなるアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。

【００７０】更に、自動現像機を用いて、該光重合性平
版印刷版を現像する場合に、現像液よりもアルカリ強度
の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多
量の光重合性平版印刷版を処理することができることが
知られている。本発明においてもこの補充方式が好まし
く適用される。例えば、特開昭５４−６２００４号公報
に開示されているような現像液のＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモ
ル比が１．０〜１．５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕
が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ₂の含有量が１〜
４重量％のケイ酸ナトリウムの水溶液を使用し、しかも
ポジ型感光性平版印刷版の処理量に応じて連続的または
断続的にＳｉＯ₂／Ｎａ₂Ｏのモル比が０．５〜１．５
（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｎａ₂Ｏ〕が０．５〜１．５）の
ケイ酸ナトリウム水溶液（補充液）を現像液に加える方
法、更には、特公昭５７−７４２７号公報に開示されて
いる、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即
ち、〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が１．０〜１．５）であっ
て、ＳｉＯ₂の濃度が１〜４重量％であるアルカリ金属
ケイ酸塩の現像液を用い、補充液として用いるアルカリ
金属ケイ酸塩の〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ〕が０．２５〜０．
７５（即ち〔ＳｉＯ₂〕／〔Ｍ₂Ｏ〕が０．５〜１．５）
であり、かつ該現像液および該補充液のいずれもがその
中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして
少なくとも２０％のカリウムを含有していることとから
なる現像方法が好適に用いられる。このようにして現像
処理された光重合性平版印刷版は、特開昭５４−８００
２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号
等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性
剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等
を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性平版
印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用
いることができる。このような処理によって得られた平
版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷
に用いられる。以下実施例をもって本発明を詳細に説明
する。

【００７１】〔実施例１〜４、比較例１〜２〕厚さ０．
３０mmの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラ
シと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、そ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水
酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチング
した後、流水で水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、水
洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交
番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン
/dm²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ０．４５μ（Ｒａ表示）であっ
た。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中に浸漬し、
５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ₂
ＳＯ₄水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、
電流密度５Ａ/dm²において５０秒間陽極酸化したところ
厚さが２．７ｇ／m²であった。更に３号ケイ酸ソーダ
（ＳｉＯ₂＝２８〜３０％、Ｎａ₂Ｏ＝９〜１０％、Ｆｅ
＝０．０２％以下）の２．５重量％、ｐＨ＝１１．２、
７０℃の水溶液に種々の時間浸漬し、続いて水洗、乾燥
させた。その時のシリケート量は表１に示す。測定は、
ケイ光Ｘ線分析でＳｉ元素量を求めた。次に下記の手順
によりＳＧ法の液状組成物（ゾル液）を調整した。ビー
カーに下記組成物を秤量し、２５℃で２０分間攪拌し
た。 Ｓi(ＯＣ₂Ｈ₅)₄ ３８ｇ ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン １３ｇ ８５％リン酸水溶液 １２ｇ イオン交換水 １５ｇ メタノール １００ｇ その溶液を三口フラスコに移し、還流冷却器を取り付け
三口フラスコを室温のオイルバスに浸した。三口フラス
コの内容物をマグネティックスターラーで攪拌しなが
ら、３０分間で５０℃まで上昇させた。浴温を５０℃に
保ったまま、更に１時間反応させ液組成物（ゾル液）を
得た。このゾル液をメタノール／エチレングリコール＝
２０／１（重量比）で０．５重量％になるように希釈し
て基板にホイラー塗布し、１００℃１分乾燥させた。そ
の時の塗布量は４mg／m²であった。この塗布量もケイ光
Ｘ線分析法によりＳｉ元素量を求め、それを塗布量とし
た。このように処理されたアルミニウム板上に、下記組
成の高感度光重合性組成物１を乾燥塗布重量が１．５ｇ
／m²となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させ、
感光層を形成した。光重合性組成物１ テトラメチロールメタンテトラアクリレート １．５ｇ 線状有機高分子重合体（Ｂ₁） ２．０ｇ 増感剤（Ｃ₁） ０．１５ｇ （λ_max ^THF４７９nm，ε＝６．９×１０⁴） 光開始剤（Ｄ₁） ０．２ｇ IRGACURE 907（Ｅ₁）(Ciba-Geigy社製） ０．４ｇ ε−フタロシアニン／（Ｂ₁）分散物 ０．２ｇ フッ素系ノニオン界面活性剤メガファックＦ１７７ （大日本インキ化学工業（株）製） ０．０３ｇ メチルエチルケトン ９ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７．５ｇ トルエン １１ｇ

【００７２】

【化１０】

【００７３】この感光層上にポリビニルアルコール（ケ
ン化度９８モル％、重合度５００）の３重量％の水溶液
を乾燥塗布重量が２．５ｇ／m²となるように塗布し、１
２０℃で３分間乾燥させ、光重合性平版印刷版を得た。
これらの版をオプトロニクス社製ＸＬＰ４０００（Ａｒ
レーザー７５mW）を用い版面エネルギー０．１５mJ/c
m²、４０００dpi１７５線／インチの条件で１％きざみ
で１〜９９％及びベタ部をそれぞれ２箇所づつ露光し
た。その後１２０℃に２０秒間さらし、後加熱処理を施
した。

【００７４】現像は、下記の現像液１に２５℃で、３０
秒間浸漬して行った。 （現像液１） １Ｋケイ酸カリウム ３０ｇ 水酸化カリウム １５ｇ 化合物（Ｆ） ３ｇ 水 １０００ｇ

【００７５】

【化１１】

【００７６】次にＧＵ−７（富士写真フイルム（株）
製）ガム液を水で２倍に希釈し版面を処理した。耐刷性
測定には印刷機としてハイデルベルグ社製ＳＯＲＫＺを
使用し、インキとしては、大日本インキ社製クラフＧ
（Ｎ）を使用した。プレートクリーナーとしては、酸性
のＰＳプレートクリーナーＣＬ−２（富士写真フイルム
（株）製）を用いた。印刷スタートから５０００枚目に
ＣＬ２を印刷用スポンジにしみこませ、網点部をふき版
面のインキを洗浄した。その後１０，０００枚毎に９
５，０００枚目まで同様にＣＬ２で版面のインキを洗浄
した。１０，０００枚毎に印刷物を抜き取り、ＣＬ２で
版面を洗浄した網点と洗浄しない網点を評価した。

【００７７】

【表１】

【００７８】いずれの版もベタ部は１０万枚までもち問
題はなかった。またシャドー部もすべて９８％をスター
トから１０万枚まで維持し問題はなかった。シリケート
処理がなかったり、少ないとハイライトが飛びやすく、
更に酸性プレートクリーナーＣＬ２で洗浄するとハイラ
イト再現性が劣化することがわかった。

【００７９】〔実施例５〜１０、比較例３〜６〕実施例
２の条件において、他はすべて同条件で次の表面粗さと
陽極酸化皮膜量だけを変えた版を作成した。電解粗面化
処理の陽極時電気量を変えて表２のように表面粗さを変
化させた。更に、表２中に示すように、陽極酸化させる
時間を変えて陽極酸化皮膜量を変化させた。実施例２と
同様に製版した後、非画像部に直径０．１mmのダイヤモ
ンド針に荷重をかけ強制的に傷をつけ、１０万枚の印刷
テストを実施した。プレートクリーナー条件等すべて実
施例２と同様である。

【００８０】

【表２】

【００８１】汚れ性はブランケットやプレートクリーナ
ーで洗浄していない非画像部を目視で評価した。Ｒａが
本発明の範囲より大きいとベタ部の耐刷が少なく、少な
いと汚れ性が悪くなった。陽極酸化皮膜が本発明の範囲
より少ないと耐傷性が悪く、多いとハレーションのため
シャドー再現性が劣化した。又、Ｒａが本発明の範囲よ
り大きいと、表３に示すように、ハイライトが飛びやす
いことも明らかになった。

【００８２】

【表３】

【００８３】〔実施例１１〜１５、比較例７、８〕実施
例２と他の条件はすべて同じで、感光層の塗布量のみを
ホイラーの回転数を変化させて変えた。その時同時に１
８０μｍのＰＥＴベースに感光層を同様に塗布乾燥さ
せ、日立のＵＶ光度計にて感光層の４８８nmにおける吸
光度を測定した。又、感度を評価するために、露光機Ｘ
ＬＰ４０００の版面エネルギーを変えて１７５線１％
（４０００dpi）が再現するのに必要なエネルギーを求
めた。

【００８４】

【表４】

【００８５】感光層の塗布量が本発明の範囲より少ない
と感度は上がるが、ベタ部の耐刷性が劣化し、ハレーシ
ョンのためシャドー再現性が劣化した。又、塗布量が本
発明の範囲より多いと、吸光度が高すぎて感光層の表面
部のみが光硬化するためか感度が低下した。

【００８６】〔実施例１６〕実施例２と他の条件は同じ
で、感光液のみ下記の様に変えて同様に評価した。 ペンタエリスリトールテトラアクリレート １．５ｇ アリルメタアクリレート／メタクリル酸（80／20重量比） 光重合体、分子量３万（Ｂ₂ ） ２．０ｇ 化合物Ｃ１ ０．１５ｇ 化合物Ｄ２ ０．２０ｇ 化合物Ｅ１ ０．４０ｇ ε−フタロシアニン／（Ｂ₂ ）分散物 ０．２０ｇ メガファックＦ−１７７（大日本インキ化学工業（株）製 フッ素界面活性剤） ０．０２ｇ クペロンＡＬ（ニトロソ化合物、和光純薬製） ０．０１５ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ７．５ｇ メチルエチルケトン ９．０ｇ トルエン １１．０ｇ

【００８７】

【化１２】

【００８８】実施例２の版となんら変わらず良好なハイ
ライト、シャドー再現性、耐刷性を示した。

【００８９】〔実施例１７〕実施例２の感光液を下記に
変えて光重合性平版印刷版を得た。 （感光液） ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬製 ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ） １．５ｇ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸メ チル（60／30／10モル比）共重合体、分子量３．５万（Ｂ₃ ）２．０ｇ 化合物Ｃ２ ０．１５ｇ 化合物Ｄ２ ０．２０ｇ 化合物Ｅ２ ０．４０ｇ ε−フタロシアニン／（Ｂ₃ ）分散物 ０．２０ｇ メガファックＦ−１７７（大日本インキ化学工業（株）製 フッ素界面活性剤） ０．０２ｇ クペロンＡＬ（ニトロソ化合物、和光純薬製） ０．０１５ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ７．５ｇ メチルエチルケトン ９．０ｇ トルエン １１．０ｇ

【００９０】

【化１３】

【００９１】この様にして得られた光重合性平版印刷版
をＳＨＧ−ＹＡＧレーザー（５３２nm）オプトロニクス
社製を用い露光した。その後の処理は実施例２と同様に
行なった。その結果、０．２mJ/cm²露光量で１７５線４
０００dpi１〜９８％が再現し、耐刷テストを行なって
も１０万枚変化しなかった。その時のＣＬ２酸性プレー
トクリーナー洗浄しても問題なく、１０万枚印刷するこ
とができた。

【００９２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
感光層と支持体とが強固に密着し、酸性のプレートクリ
ーナーで版面のインキを除去しても又多量の印刷を行っ
てもハイライトが飛ばず、シャドー再現性にも優れ、耐
刷性のあるレーザー書き込み可能な光重合性平版印刷版
を提供することできる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 7/033 7/033 7/075 ５２１ 7/075 ５２１ 7/09 ５０１ 7/09 ５０１ 7/11 ５０１ 7/11 ５０１

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．２
   ０〜０．７０μｍのアルミニウム又はアルミニウム合金
   からなる基板上に順次、１〜５ｇ／m²の陽極酸化皮膜、
   ２〜４０mg／m²（Ｓｉ元素量として）のシリケート皮膜
   を設け、更にラジカルによる付加反応を起こし得る官能
   基を有するシリコーン化合物を含む層を塗設した支持体
   上に、活性光線により重合可能な少なくとも１個のエチ
   レン性不飽和結合を有する化合物と、線状有機高分子重
   合体と、光重合開始剤とを含有する光重合性組成物から
   なる０．７〜２．５ｇ／m²の光重合性感光層及び酸素遮
   断層を順次設けてなることを特徴とする光重合性平版印
   刷版。