JPH09237964A - 窒素ガス封入式半田付け装置 - Google Patents
窒素ガス封入式半田付け装置Info
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- JPH09237964A JPH09237964A JP6712096A JP6712096A JPH09237964A JP H09237964 A JPH09237964 A JP H09237964A JP 6712096 A JP6712096 A JP 6712096A JP 6712096 A JP6712096 A JP 6712096A JP H09237964 A JPH09237964 A JP H09237964A
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- carrier
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の進入・排出口を１箇所に設け、この進
入・排出口に遮蔽手段を設けることにより、酸素濃度の
上昇が最小限に抑制され、窒素ガスの使用量が少なくで
き、かつ簡単な機構で小型化が可能な窒素ガス封入式半
田付け装置を提供すること。 【解決手段】 噴流式半田槽１の上部には、搬送レール
４および窒素ガス噴射ノズル８が取り付けられており、
この搬送レール４にキャリア５が取り付けられ、この半
田槽１、搬送レール４および窒素ガス噴射ノズル８を覆
うメインカバー１０が取り付けられて、半田付け部Ａが
構成されている。メインカバー１０の前部にキャリア５
の進入・排出口となる開口部１２が形成され、この開口
部１２を遮蔽する遮蔽手段Ｃが取り付けられ、遮蔽手段
Ｃはカーテン部２０とシャッタ部２７で構成されてい
る。
入・排出口に遮蔽手段を設けることにより、酸素濃度の
上昇が最小限に抑制され、窒素ガスの使用量が少なくで
き、かつ簡単な機構で小型化が可能な窒素ガス封入式半
田付け装置を提供すること。 【解決手段】 噴流式半田槽１の上部には、搬送レール
４および窒素ガス噴射ノズル８が取り付けられており、
この搬送レール４にキャリア５が取り付けられ、この半
田槽１、搬送レール４および窒素ガス噴射ノズル８を覆
うメインカバー１０が取り付けられて、半田付け部Ａが
構成されている。メインカバー１０の前部にキャリア５
の進入・排出口となる開口部１２が形成され、この開口
部１２を遮蔽する遮蔽手段Ｃが取り付けられ、遮蔽手段
Ｃはカーテン部２０とシャッタ部２７で構成されてい
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、窒素ガス封入式半
田付け装置に関し、詳しくは窒素ガスを噴射しつつ噴流
式半田槽の噴流ノズルで半田付けを行う窒素ガス封入式
半田付け装置に関するものである。
田付け装置に関し、詳しくは窒素ガスを噴射しつつ噴流
式半田槽の噴流ノズルで半田付けを行う窒素ガス封入式
半田付け装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８（ａ）に、従来の窒素ガス封入式半
田ディップ装置の例を示している。基板搬送用のコンベ
ア４０の下方に沿ってプリヒータ部４１および噴流式半
田槽４２が配置され、このプリヒータ部４１および噴流
式半田槽４２を覆うようにフードまたはチャンバ４４が
取り付けられている。フードまたはチャンバ４４はトン
ネル構造のもので、図８（ｂ）に示すような小孔付きの
パイプからなる噴射ノズル４５をフードまたはチャンバ
４４内に配設して窒素ガスを供給している。フードまた
はチャンバ４４の基板の進入口側と排出口側とに各々入
口シャッタ４６と出口シャッタ４７とを設け、基板の進
入、排出時に酸素濃度が上昇するのを防止するようにな
っている。低酸素濃度を維持するためには、図示のよう
なシャッタ４６、４７の他、カーテンを付ける、ラビリ
ンス構造とする、空気、窒素ガス等をフードまたはチャ
ンバ４４の開口部に流す、等の手段を用いている。
田ディップ装置の例を示している。基板搬送用のコンベ
ア４０の下方に沿ってプリヒータ部４１および噴流式半
田槽４２が配置され、このプリヒータ部４１および噴流
式半田槽４２を覆うようにフードまたはチャンバ４４が
取り付けられている。フードまたはチャンバ４４はトン
ネル構造のもので、図８（ｂ）に示すような小孔付きの
パイプからなる噴射ノズル４５をフードまたはチャンバ
４４内に配設して窒素ガスを供給している。フードまた
はチャンバ４４の基板の進入口側と排出口側とに各々入
口シャッタ４６と出口シャッタ４７とを設け、基板の進
入、排出時に酸素濃度が上昇するのを防止するようにな
っている。低酸素濃度を維持するためには、図示のよう
なシャッタ４６、４７の他、カーテンを付ける、ラビリ
ンス構造とする、空気、窒素ガス等をフードまたはチャ
ンバ４４の開口部に流す、等の手段を用いている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来装置では、基板の進入口と排出口がフードまた
はチャンバ４４の両側の２箇所に設けられているため、
基板の進入、排出時にフードまたはチヤンバ４４内に酸
素が入り、酸素濃度が大きく上昇することが避けられな
かった。図９に、従来装置での窒素ガス供給量−半田槽
内酸素濃度の関係をグラフで示している。図９で明らか
なように、酸素濃度は、窒素ガス３００リットル／分で
０．１％程度、窒素ガス２００リットル／分で０．３％
程度、窒素ガス１３０リットル／分で１％程度を維持す
ることが最大能力値であり、これ以下の低酸素濃度にす
ることは困難であった。
うな従来装置では、基板の進入口と排出口がフードまた
はチャンバ４４の両側の２箇所に設けられているため、
基板の進入、排出時にフードまたはチヤンバ４４内に酸
素が入り、酸素濃度が大きく上昇することが避けられな
かった。図９に、従来装置での窒素ガス供給量−半田槽
内酸素濃度の関係をグラフで示している。図９で明らか
なように、酸素濃度は、窒素ガス３００リットル／分で
０．１％程度、窒素ガス２００リットル／分で０．３％
程度、窒素ガス１３０リットル／分で１％程度を維持す
ることが最大能力値であり、これ以下の低酸素濃度にす
ることは困難であった。
【０００４】酸素濃度が上昇すると基板の銅箔パターン
及び半田が酸化し、半田付けの品質が劣化するばかりで
なく、ドロスと呼ばれる酸化物の発生が多くなり、半田
の使用量が増加するという問題がある。低酸素濃度を維
持するため、上述のような種々の手段がとられている
が、いずれも機構が複雑で高価な設備となり、特にチャ
ンバタイプのものは、プリヒータおよび半田槽を覆って
しまう構造であるため、チャンバの長さが２〜３ｍとな
り、装置が大型となり、メンテナンス性も悪くなるとい
う問題があった。本発明は上述の点に着目してなされた
もので、基板の進入・排出口を１箇所に設け、この進入
・排出口に遮蔽手段を設けることにより、酸素濃度の上
昇が最小限に抑制され、窒素ガスの使用量が少なくで
き、かつ簡単な機構で小型化が可能な窒素ガス封入式半
田付け装置を提供することを目的とする。
及び半田が酸化し、半田付けの品質が劣化するばかりで
なく、ドロスと呼ばれる酸化物の発生が多くなり、半田
の使用量が増加するという問題がある。低酸素濃度を維
持するため、上述のような種々の手段がとられている
が、いずれも機構が複雑で高価な設備となり、特にチャ
ンバタイプのものは、プリヒータおよび半田槽を覆って
しまう構造であるため、チャンバの長さが２〜３ｍとな
り、装置が大型となり、メンテナンス性も悪くなるとい
う問題があった。本発明は上述の点に着目してなされた
もので、基板の進入・排出口を１箇所に設け、この進入
・排出口に遮蔽手段を設けることにより、酸素濃度の上
昇が最小限に抑制され、窒素ガスの使用量が少なくで
き、かつ簡単な機構で小型化が可能な窒素ガス封入式半
田付け装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は、噴流式半田槽とその上部に配置された搬
送手段を備え、当該搬送手段で搬送される基板に窒素雰
囲気で半田付けを行う装置であって、前記噴流式半田槽
と搬送手段および窒素ガスの噴射ノズルを覆うメインカ
バーで構成された半田付け部と、該メインカバーの前部
のみに形成され、前記半田付け部への進入、排出口とな
る開口部と、前記進入、排出口に設けられ、前記キャリ
アの通過時に開放される遮蔽手段とを備えたことを特徴
とする。
め、本発明は、噴流式半田槽とその上部に配置された搬
送手段を備え、当該搬送手段で搬送される基板に窒素雰
囲気で半田付けを行う装置であって、前記噴流式半田槽
と搬送手段および窒素ガスの噴射ノズルを覆うメインカ
バーで構成された半田付け部と、該メインカバーの前部
のみに形成され、前記半田付け部への進入、排出口とな
る開口部と、前記進入、排出口に設けられ、前記キャリ
アの通過時に開放される遮蔽手段とを備えたことを特徴
とする。
【０００６】本発明では、例えば、搬送手段が搬送路を
移動するキャリアを備え、基板を搭載した前記キャリア
が、進入・排出口のシャッタ部、カーテン部からメイン
カバー内の半田付け部に進入して停止し、基板は半田付
け部で予備加熱された後半田付けされ、半田付けが終わ
るとキャリアは後退して進入、排出口から排出される。
この場合、半田付けを行なう基板の両側を支持する支持
片を備えたコンベアで基板を直接搬送する方法を採用す
ることも可能である。予備加熱の工程の時間を短くする
場合は、メインカバーの後部のプリヒータ部に搬送して
ここで予備加熱を行うことができる。メインカバーの１
箇所に進入・排出口を形成して後部を閉じたボトム構造
とし、かつ進入・排出口にシャッタ部とカーテン部とか
らなる遮蔽手段を設けているので、密閉性が向上し、酸
素濃度が大幅に抑制される。
移動するキャリアを備え、基板を搭載した前記キャリア
が、進入・排出口のシャッタ部、カーテン部からメイン
カバー内の半田付け部に進入して停止し、基板は半田付
け部で予備加熱された後半田付けされ、半田付けが終わ
るとキャリアは後退して進入、排出口から排出される。
この場合、半田付けを行なう基板の両側を支持する支持
片を備えたコンベアで基板を直接搬送する方法を採用す
ることも可能である。予備加熱の工程の時間を短くする
場合は、メインカバーの後部のプリヒータ部に搬送して
ここで予備加熱を行うことができる。メインカバーの１
箇所に進入・排出口を形成して後部を閉じたボトム構造
とし、かつ進入・排出口にシャッタ部とカーテン部とか
らなる遮蔽手段を設けているので、密閉性が向上し、酸
素濃度が大幅に抑制される。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施の
形態に基づいて説明する。図１は一実施の形態の窒素ガ
ス封入式半田付け装置の全体の側面図、図２はその断面
図、図３は上部のカバー部分の外観概略斜視図である。
図１〜図３において、噴流式半田槽１の内部には溶融半
田が充填されると共に、噴流式半田槽１には１波噴流ノ
ズル２および２波噴流ノズル３が設置され、かつノズル
２、３の上部寄りにドロス溜め部９が設けられている。
噴流式半田槽１の上部には、搬送レール４（搬送路に相
当）が配置されており、この搬送レール４にキャリア５
が取り付けられ、実施例では搬送レール４とキャリア５
により搬送手段が構成されている。半田付けを行う基板
６は、このキャリア５の支持片７で両側を挟んで支持さ
れる。
形態に基づいて説明する。図１は一実施の形態の窒素ガ
ス封入式半田付け装置の全体の側面図、図２はその断面
図、図３は上部のカバー部分の外観概略斜視図である。
図１〜図３において、噴流式半田槽１の内部には溶融半
田が充填されると共に、噴流式半田槽１には１波噴流ノ
ズル２および２波噴流ノズル３が設置され、かつノズル
２、３の上部寄りにドロス溜め部９が設けられている。
噴流式半田槽１の上部には、搬送レール４（搬送路に相
当）が配置されており、この搬送レール４にキャリア５
が取り付けられ、実施例では搬送レール４とキャリア５
により搬送手段が構成されている。半田付けを行う基板
６は、このキャリア５の支持片７で両側を挟んで支持さ
れる。
【０００８】噴流式半田槽１の上部には、噴流ノズル
２、３を囲むように円錐形の窒素ガス噴射ノズル８が配
置されている。噴流式半田槽１に上部には、噴流式半田
槽１、搬送レール４および窒素ガス噴射ノズル８を覆う
メインカバー１０が取り付けられて、半田付け部Ａが構
成されている。メインカバー１０は、上部に点検用開閉
蓋１１が設けられ、前部にはキャリア５の進入・排出口
となる開口部１２が形成され、後部には後述するプリヒ
ータ部Ｂと連通する開口部１３が形成された下方開放の
箱形のものである。メインカバー１０の図２、図３の右
側壁１０ａは噴流式半田槽１上で固定され、左側壁１０
ｂの下部は噴流式半田槽１の溶融半田内に入っている。
２、３を囲むように円錐形の窒素ガス噴射ノズル８が配
置されている。噴流式半田槽１に上部には、噴流式半田
槽１、搬送レール４および窒素ガス噴射ノズル８を覆う
メインカバー１０が取り付けられて、半田付け部Ａが構
成されている。メインカバー１０は、上部に点検用開閉
蓋１１が設けられ、前部にはキャリア５の進入・排出口
となる開口部１２が形成され、後部には後述するプリヒ
ータ部Ｂと連通する開口部１３が形成された下方開放の
箱形のものである。メインカバー１０の図２、図３の右
側壁１０ａは噴流式半田槽１上で固定され、左側壁１０
ｂの下部は噴流式半田槽１の溶融半田内に入っている。
【０００９】噴流式半田槽１の後部には、プリヒータ取
付板１４（図１参照）が取り付けられ、このプリヒータ
取付板１４に搬送レール４の下方に位置するプリヒータ
１５が取り付けられている。メインカバー１０の後部に
後部カバー１６が取り付けられ、後部カバー１６の前面
の開口部１７（図３参照）がメインカバー１０の開口部
１３と連通すると共に、プリヒータ１５の上部を覆って
いる。この後部カバー１６によって搬送レール４および
プリヒータ１５は覆われ、プリヒータ部Ｂが構成されて
いる。噴流式半田槽１の前部には下カバー１８が取り付
けられ、この下カバー１８にメインカバー１０の開口部
１２（進入・排出口）を遮蔽する遮蔽手段Ｃが取り付け
られている。この遮蔽手段Ｃは、カーテン部２０とシャ
ッタ部２７とで構成されている。
付板１４（図１参照）が取り付けられ、このプリヒータ
取付板１４に搬送レール４の下方に位置するプリヒータ
１５が取り付けられている。メインカバー１０の後部に
後部カバー１６が取り付けられ、後部カバー１６の前面
の開口部１７（図３参照）がメインカバー１０の開口部
１３と連通すると共に、プリヒータ１５の上部を覆って
いる。この後部カバー１６によって搬送レール４および
プリヒータ１５は覆われ、プリヒータ部Ｂが構成されて
いる。噴流式半田槽１の前部には下カバー１８が取り付
けられ、この下カバー１８にメインカバー１０の開口部
１２（進入・排出口）を遮蔽する遮蔽手段Ｃが取り付け
られている。この遮蔽手段Ｃは、カーテン部２０とシャ
ッタ部２７とで構成されている。
【００１０】カーテン部２０は、図４に示すように、カ
ーテンケース２１とカーテン２２とから構成され、カー
テンケース２１は、上面部２１ａ、側面部２１ｂ等を残
して前後に開口部２３、２４が形成されており、側面部
２１ｂは下カバー１８上に取り付けられている。図４に
おいて、カーテン２２は、例えばガラス繊維で強化した
テフロンのシートのような耐熱性の可撓性シートで形成
され、天板部２２ａから垂下した前後の垂下部２２ｂ、
２２ｃにスリット２２ｄが形成されたものである。天板
部２２ａは、カーテンケース２１の上面部２１ａと押え
金具２５とで挟持され、止めねじ２６で固定されてい
る。
ーテンケース２１とカーテン２２とから構成され、カー
テンケース２１は、上面部２１ａ、側面部２１ｂ等を残
して前後に開口部２３、２４が形成されており、側面部
２１ｂは下カバー１８上に取り付けられている。図４に
おいて、カーテン２２は、例えばガラス繊維で強化した
テフロンのシートのような耐熱性の可撓性シートで形成
され、天板部２２ａから垂下した前後の垂下部２２ｂ、
２２ｃにスリット２２ｄが形成されたものである。天板
部２２ａは、カーテンケース２１の上面部２１ａと押え
金具２５とで挟持され、止めねじ２６で固定されてい
る。
【００１１】シャッタ部２７は、図５および図６に示す
ように、カーテンケース２１の前部に取り付けられたシ
ャッタケース２８を備え、このシャッタケース２８にシ
ャッタ機構が設けられている。シャッタ機構は、シャッ
タ板３０と、ローラ機構３１と、エアシリンダ３２とか
らなっている。エアシリンダ３２のピストンロッド３３
に第１ローラ３１ａが取り付けられ、シャッタケース２
８に第２ローラ３１ｂおよび第３ローラ３１ｃが取り付
けられている。
ように、カーテンケース２１の前部に取り付けられたシ
ャッタケース２８を備え、このシャッタケース２８にシ
ャッタ機構が設けられている。シャッタ機構は、シャッ
タ板３０と、ローラ機構３１と、エアシリンダ３２とか
らなっている。エアシリンダ３２のピストンロッド３３
に第１ローラ３１ａが取り付けられ、シャッタケース２
８に第２ローラ３１ｂおよび第３ローラ３１ｃが取り付
けられている。
【００１２】シャッタ板３０とシャッタケース２８に
は、ワイヤ固定具３４を介してワイヤ３５が固着され、
このワイヤ３５は各ローラ３１ｂ、３１ｃに掛けられて
いる。ピストンロッド３３の上昇状態では、図６に示す
ようにシャッタ３０はその重力で垂直状態に下降してお
り、カーテン部２０に通ずる開口部３６を閉鎖してい
る。ピストンロッド３３を下降させるとワイヤ３５が第
１ローラ３１ａに引っ張られてシャッタ３０が水平状態
になり、開口部３６を開放する。図１において、シャッ
タ部２７の前方には、基板にフラックス処理を行うフラ
ックサ３７が搬送レール４の下部に設置されている。
は、ワイヤ固定具３４を介してワイヤ３５が固着され、
このワイヤ３５は各ローラ３１ｂ、３１ｃに掛けられて
いる。ピストンロッド３３の上昇状態では、図６に示す
ようにシャッタ３０はその重力で垂直状態に下降してお
り、カーテン部２０に通ずる開口部３６を閉鎖してい
る。ピストンロッド３３を下降させるとワイヤ３５が第
１ローラ３１ａに引っ張られてシャッタ３０が水平状態
になり、開口部３６を開放する。図１において、シャッ
タ部２７の前方には、基板にフラックス処理を行うフラ
ックサ３７が搬送レール４の下部に設置されている。
【００１３】上述の構成に基づいて次にその作用を説明
する。フラックサ３７の前方にあるキャリア５に基板６
をセットし、装置のスタートボタンをオンすると、窒素
ガス発生装置からの噴射ノズル８へのバルブが開き、同
時に、シャッタ板３０が上昇し、キャリア５は進入方向
（図１の右方向）に移動し、カーテン２２を押し上げつ
つメインカバー１０内に進入し、噴流式半田槽１の上方
である半田付け部Ａで停止する。シャッタ板３０は、キ
ャリア５が通過したあとすぐに下降して開口部３６を閉
鎖すると共に、カーテン２２もその自重で下降し、開口
部１２は遮蔽される。
する。フラックサ３７の前方にあるキャリア５に基板６
をセットし、装置のスタートボタンをオンすると、窒素
ガス発生装置からの噴射ノズル８へのバルブが開き、同
時に、シャッタ板３０が上昇し、キャリア５は進入方向
（図１の右方向）に移動し、カーテン２２を押し上げつ
つメインカバー１０内に進入し、噴流式半田槽１の上方
である半田付け部Ａで停止する。シャッタ板３０は、キ
ャリア５が通過したあとすぐに下降して開口部３６を閉
鎖すると共に、カーテン２２もその自重で下降し、開口
部１２は遮蔽される。
【００１４】噴流式半田槽１の噴流ノズル２、３の噴流
は半田付けのときよりも下げた状態となっており、基板
６は半田槽１の熱（約２５０度）で予備加熱される。所
定時間予備加熱した後、噴流ノズル２、３の噴流を上げ
て半田付けを行い、キャリア５を後退させる。シャッタ
板３０はキャリア５で後面をおされて上昇し、キャリア
５はそのまま通過し元のセット位置まで後退し、半田付
け工程が完了する。上記の動作は、半田槽１で予備加熱
を行う場合の工程を示しているが、予備加熱の時間を短
くしたい場合は、プリヒータ部Ｃを使用する。その場合
は、キャリア５を後部カバー１６内まで直行させ、ここ
で予備加熱を行った後、半田付け部Ａまで後退させて半
田付けを行う。但し、ある程度時間をおけば半田付け部
Ａのみで予備加熱できるので、予備加熱の時間を短くす
ることを要求されない場合はプリヒータ部Ｂは設けなく
てもよい。
は半田付けのときよりも下げた状態となっており、基板
６は半田槽１の熱（約２５０度）で予備加熱される。所
定時間予備加熱した後、噴流ノズル２、３の噴流を上げ
て半田付けを行い、キャリア５を後退させる。シャッタ
板３０はキャリア５で後面をおされて上昇し、キャリア
５はそのまま通過し元のセット位置まで後退し、半田付
け工程が完了する。上記の動作は、半田槽１で予備加熱
を行う場合の工程を示しているが、予備加熱の時間を短
くしたい場合は、プリヒータ部Ｃを使用する。その場合
は、キャリア５を後部カバー１６内まで直行させ、ここ
で予備加熱を行った後、半田付け部Ａまで後退させて半
田付けを行う。但し、ある程度時間をおけば半田付け部
Ａのみで予備加熱できるので、予備加熱の時間を短くす
ることを要求されない場合はプリヒータ部Ｂは設けなく
てもよい。
【００１５】以上のように、本実施の形態によれば、メ
インカバー１０の前部の１箇所に進入・排出口１２を形
成して後部を閉じた構造とし、かつ進入・排出口１２に
シャッタ部２７とカーテン部２０とからなる遮蔽手段Ｃ
を設けているので、密閉性が向上し、酸素濃度が大幅に
抑制される。図７に、本実施の形態の窒素ガス封入式半
田付け装置で、窒素ガス供給量−半田槽内酸素濃度の関
係を実験した結果をグラフで示している。図７で明らか
なように、窒素ガス供給量を１００リットル／分まで増
加させると半田槽内酸素濃度が１００ｐｐｍ程度と急激
に低下し、２３０リットル／分で１０ｐｐｍに漸近し
て、従来装置と比較して、酸素濃度が大幅に抑制される
ことが明らかとなった。
インカバー１０の前部の１箇所に進入・排出口１２を形
成して後部を閉じた構造とし、かつ進入・排出口１２に
シャッタ部２７とカーテン部２０とからなる遮蔽手段Ｃ
を設けているので、密閉性が向上し、酸素濃度が大幅に
抑制される。図７に、本実施の形態の窒素ガス封入式半
田付け装置で、窒素ガス供給量−半田槽内酸素濃度の関
係を実験した結果をグラフで示している。図７で明らか
なように、窒素ガス供給量を１００リットル／分まで増
加させると半田槽内酸素濃度が１００ｐｐｍ程度と急激
に低下し、２３０リットル／分で１０ｐｐｍに漸近し
て、従来装置と比較して、酸素濃度が大幅に抑制される
ことが明らかとなった。
【００１６】このように低酸素濃度が維持され、半田の
酸化が抑制されるため、ドロスの発生が少なくなり、半
田の使用量が削減されると共に、窒素ガスの使用量も少
なくなるため、製造コストが低減される。また、メイン
カバー１０、シャッタ部２７およびカーテン部２０、あ
るいは必要に応じてプリヒータ部Ｂを噴流式半田槽１の
上部から組付けるだけの簡単な構造であり、また、基板
６を搬送するキャリア５の往復動式の装置であるから、
全体として小型化できると共に、点検用開閉蓋１１か
ら、あるいはシャッタ部２７およびカーテン部２０の取
り外しにより点検も容易で、メンテナンス性も向上す
る。
酸化が抑制されるため、ドロスの発生が少なくなり、半
田の使用量が削減されると共に、窒素ガスの使用量も少
なくなるため、製造コストが低減される。また、メイン
カバー１０、シャッタ部２７およびカーテン部２０、あ
るいは必要に応じてプリヒータ部Ｂを噴流式半田槽１の
上部から組付けるだけの簡単な構造であり、また、基板
６を搬送するキャリア５の往復動式の装置であるから、
全体として小型化できると共に、点検用開閉蓋１１か
ら、あるいはシャッタ部２７およびカーテン部２０の取
り外しにより点検も容易で、メンテナンス性も向上す
る。
【００１７】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、噴
流式半田槽とその上部に配置された搬送手段を備え、当
該搬送手段で搬送される基板に窒素雰囲気で半田付けを
行う装置であって、前記噴流式半田槽と搬送手段および
窒素ガスの噴射ノズルを覆うメインカバーで構成された
半田付け部と、該メインカバーの前部のみに形成され、
前記半田付け部への進入、排出口となる開口部と、前記
進入、排出口に設けられ、前記キャリアの通過時に開放
される遮蔽手段とを備えたので、半田付け部の密閉性が
向上し、酸素濃度が大幅に抑制され、低酸素濃度が維持
されるため、半田の酸化が抑制され、ドロスの発生が少
なくなり、半田の使用量が削減されると共に、窒素ガス
の使用量も少なくなるため、製造コストが低減され、ま
た、構成が簡単で、小型化できると共に、メンテナンス
性も向上する。
流式半田槽とその上部に配置された搬送手段を備え、当
該搬送手段で搬送される基板に窒素雰囲気で半田付けを
行う装置であって、前記噴流式半田槽と搬送手段および
窒素ガスの噴射ノズルを覆うメインカバーで構成された
半田付け部と、該メインカバーの前部のみに形成され、
前記半田付け部への進入、排出口となる開口部と、前記
進入、排出口に設けられ、前記キャリアの通過時に開放
される遮蔽手段とを備えたので、半田付け部の密閉性が
向上し、酸素濃度が大幅に抑制され、低酸素濃度が維持
されるため、半田の酸化が抑制され、ドロスの発生が少
なくなり、半田の使用量が削減されると共に、窒素ガス
の使用量も少なくなるため、製造コストが低減され、ま
た、構成が簡単で、小型化できると共に、メンテナンス
性も向上する。
【図１】本発明の窒素ガス封入式半田付け装置の一実施
の形態を示す側面図である。
の形態を示す側面図である。
【図２】図１のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】一実施の形態のカバーおよびケース部分の外観
斜視図である。
斜視図である。
【図４】一実施の形態のカーテン部の分解斜視図であ
る。
る。
【図５】一実施の形態のシャッタ部の分解斜視図であ
る。
る。
【図６】シャッタ部の側面図である。
【図７】本発明の窒素ガス封入式半田付け装置の窒素ガ
ス供給量−半田槽内酸素濃度の関係を実験した結果のグ
ラフである。
ス供給量−半田槽内酸素濃度の関係を実験した結果のグ
ラフである。
【図８】（ａ）は従来の半田付け装置の側面図、（ｂ）
は窒素ガス噴射ノズルの斜視図である。
は窒素ガス噴射ノズルの斜視図である。
【図９】従来の半田付け装置の窒素ガス供給量−半田槽
内酸素濃度の関係を実験した結果のグラフである。
内酸素濃度の関係を実験した結果のグラフである。
１……噴流式半田槽、４……搬送レール、５……キャリ
ア、６……基板、８……噴射ノズル、１０……メインカ
バー、１２……進入・排出口（開口部）、１５……プリ
ヒータ、１６……後部カバー、２０……カーテン部、２
１……カーテンケース、２２……カーテン、２２ｄ……
スリット、２７……シャッタ部、３０……シャッタ板、
３２……駆動機構（シリンダ）、Ａ……半田付け部、Ｂ
……プリヒータ部、Ｃ……遮蔽部
ア、６……基板、８……噴射ノズル、１０……メインカ
バー、１２……進入・排出口（開口部）、１５……プリ
ヒータ、１６……後部カバー、２０……カーテン部、２
１……カーテンケース、２２……カーテン、２２ｄ……
スリット、２７……シャッタ部、３０……シャッタ板、
３２……駆動機構（シリンダ）、Ａ……半田付け部、Ｂ
……プリヒータ部、Ｃ……遮蔽部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹 英 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 噴流式半田槽とその上部に配置された搬
送手段を備え、当該搬送手段で搬送される基板に窒素雰
囲気で半田付けを行う装置であって、 前記噴流式半田槽と搬送手段および窒素ガスの噴射ノズ
ルを覆うメインカバーで構成された半田付け部と、 該メインカバーの前部のみに形成され、前記半田付け部
への進入、排出口となる開口部と、 前記進入、排出口に設けられ、前記キャリアの通過時に
開放される遮蔽手段と、 を備えたことを特徴とする窒素ガス封入式半田付け装
置。 - 【請求項２】 前記遮蔽手段は、シャッタ部と、該シャ
ッタ部に連接されたカーテン部とからなる請求項１記載
の窒素ガス封入式半田付け装置。 - 【請求項３】 前記搬送手段は搬送路を移動するキャリ
アを備え、前記シャッタ部は、揺動式のシャッタ板の前
部がワイヤで駆動機構に連結され、前記基板の進入時に
はワイヤにより開放され、前記基板の排出時には前記キ
ャリアで押されて開放されるようになっている請求項１
または２記載の窒素ガス封入式半田付け装置。 - 【請求項４】 前記カーテン部は、開口部が形成された
カーテンケースと、該カーテンケース内に取り付けられ
た耐熱性可撓性部材からなるスリット入りのカーテンと
で構成された請求項１、２、または３記載の窒素ガス封
入式半田付け装置。 - 【請求項５】 前記噴流式半田槽の後部にプリヒータが
取り付けられ、前記半田付け部と連通する後部カバーで
前記プリヒータが密閉されて構成されたプリヒータ部を
備えた請求項１、２、３または４記載の窒素ガス封入式
半田付け装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6712096A JPH09237964A (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 窒素ガス封入式半田付け装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6712096A JPH09237964A (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 窒素ガス封入式半田付け装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09237964A true JPH09237964A (ja) | 1997-09-09 |
Family
ID=13335732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6712096A Pending JPH09237964A (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 窒素ガス封入式半田付け装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09237964A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002028156A1 (en) * | 2000-09-26 | 2002-04-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and device for flow soldering |
| JP2002111194A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フローはんだ付け方法および装置 |
| KR100514353B1 (ko) * | 2003-04-02 | 2005-09-13 | 주식회사 티에스 | 질소 자급 기능을 가지는 솔더링 머신 |
-
1996
- 1996-02-28 JP JP6712096A patent/JPH09237964A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002028156A1 (en) * | 2000-09-26 | 2002-04-04 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and device for flow soldering |
| US6805282B2 (en) | 2000-09-26 | 2004-10-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Flow soldering process and apparatus |
| JP2002111194A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フローはんだ付け方法および装置 |
| KR100514353B1 (ko) * | 2003-04-02 | 2005-09-13 | 주식회사 티에스 | 질소 자급 기능을 가지는 솔더링 머신 |
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