JPH09243600A - 質量分析計 - Google Patents
質量分析計Info
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- JPH09243600A JPH09243600A JP8051325A JP5132596A JPH09243600A JP H09243600 A JPH09243600 A JP H09243600A JP 8051325 A JP8051325 A JP 8051325A JP 5132596 A JP5132596 A JP 5132596A JP H09243600 A JPH09243600 A JP H09243600A
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- JP
- Japan
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- spray
- capillary
- ion source
- mass spectrometer
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Abstract
(57)【要約】
【課題】キャピラリ電気泳動・質量分析計で、噴霧補助
溶液の送液ポンプを不要とし、簡単な構成でかつ安全性
の高いイオン源を提供する。 【解決手段】キャピラリ電気泳動・質量分析計のイオン
源に、溶液を噴霧する噴霧細管の外周部に高速のガス流
を流して試料をイオン化するソニックスプレー法を用い
る。
溶液の送液ポンプを不要とし、簡単な構成でかつ安全性
の高いイオン源を提供する。 【解決手段】キャピラリ電気泳動・質量分析計のイオン
源に、溶液を噴霧する噴霧細管の外周部に高速のガス流
を流して試料をイオン化するソニックスプレー法を用い
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はキャピラリ電気泳動
/質量分析計に関する。
/質量分析計に関する。
【0002】
【従来の技術】質量分析法は物質の同定能力に優れた分
析法として知られている。分析化学,医学,薬学等の分
野では、特に生体関連物質の質量分析法の開発が重要視
されている。生体関連物質は主として溶液中で混合物と
して存在するため、これを分析するためには液相の分離
手段と質量分析計とを結合した装置が有効である。この
ため、キャピラリ電気泳動装置と質量分析計とを結合し
た装置、すなわちキャピラリ電気泳動/質量分析計(Ca
pillary Electrophoresis/Mass Spectrometer、以下、
CE/MSと略する)が考案され、ペプチド・蛋白質等
の分析に用いられている。
析法として知られている。分析化学,医学,薬学等の分
野では、特に生体関連物質の質量分析法の開発が重要視
されている。生体関連物質は主として溶液中で混合物と
して存在するため、これを分析するためには液相の分離
手段と質量分析計とを結合した装置が有効である。この
ため、キャピラリ電気泳動装置と質量分析計とを結合し
た装置、すなわちキャピラリ電気泳動/質量分析計(Ca
pillary Electrophoresis/Mass Spectrometer、以下、
CE/MSと略する)が考案され、ペプチド・蛋白質等
の分析に用いられている。
【0003】従来技術の例として、アナリティカル ケ
ミストリー誌 1988年,60巻,1948頁(Analy
tical Chemistry 60 1948 (1988))に記載されているC
E/MSについて説明する。
ミストリー誌 1988年,60巻,1948頁(Analy
tical Chemistry 60 1948 (1988))に記載されているC
E/MSについて説明する。
【0004】図3に装置の構造を示す。キャピラリ1の
一端は緩衝溶液槽2内に保持され、キャピラリ1の他の
端は金属管3内に挿入される。キャピラリ1内には緩衝
溶液が充填される。電気泳動中に電気浸透流によりキャ
ピラリ内を流れる緩衝溶液の流量は一般に毎分100n
l以下と少ないため、キャピラリ1と金属管3との間に
は噴霧を補助する噴霧補助溶液4が送液ポンプ5より配
管6を介して供給される。金属管3とキャピラリ1端は
噴霧補助溶液4を介して電気的に接触する。
一端は緩衝溶液槽2内に保持され、キャピラリ1の他の
端は金属管3内に挿入される。キャピラリ1内には緩衝
溶液が充填される。電気泳動中に電気浸透流によりキャ
ピラリ内を流れる緩衝溶液の流量は一般に毎分100n
l以下と少ないため、キャピラリ1と金属管3との間に
は噴霧を補助する噴霧補助溶液4が送液ポンプ5より配
管6を介して供給される。金属管3とキャピラリ1端は
噴霧補助溶液4を介して電気的に接触する。
【0005】キャピラリ1の陽極側に導入された試料
は、高圧電源7aを用いて緩衝溶液槽内に配置された電
極8aと金属管3との間に印加される高電圧により電気
泳動分離され、かつキャピラリ1内の電気浸透流により
陰極側に送られる。キャピラリ1の陰極側の端に到達し
た試料は、噴霧補助溶液4と混合された後、金属管3と
金属管に対向して配置された電極8bとの間に印加され
る電圧により静電噴霧される。
は、高圧電源7aを用いて緩衝溶液槽内に配置された電
極8aと金属管3との間に印加される高電圧により電気
泳動分離され、かつキャピラリ1内の電気浸透流により
陰極側に送られる。キャピラリ1の陰極側の端に到達し
た試料は、噴霧補助溶液4と混合された後、金属管3と
金属管に対向して配置された電極8bとの間に印加され
る電圧により静電噴霧される。
【0006】静電噴霧により生成した液滴中には蛋白
質,ぺプチド等の生体物質のイオンが含まれる。液滴の
気化を促進させるため、窒素等の乾燥したガスをガス噴
出口9aから金属管3に沿って流す。液滴の気化をさら
に促進させるため、対向電極8b側に設けられたガス噴
出口9bから液滴に向けて窒素等のガスを吹きつける。
質,ぺプチド等の生体物質のイオンが含まれる。液滴の
気化を促進させるため、窒素等の乾燥したガスをガス噴
出口9aから金属管3に沿って流す。液滴の気化をさら
に促進させるため、対向電極8b側に設けられたガス噴
出口9bから液滴に向けて窒素等のガスを吹きつける。
【0007】液滴を十分に乾燥させることによって得ら
れたガス状のイオンは、イオン導入細孔10a,排気系
11aにより排気された差動排気部12,イオン導入細
孔10bを介して排気系11bにより真空に排気された
真空部13に導入され、真空部13に配置された質量分
析部14で質量分析される。質量分析されたイオンはイ
オン検出器15で検出される。信号は、信号ライン16
を介してデータ処理装置17に送られ、処理される。
れたガス状のイオンは、イオン導入細孔10a,排気系
11aにより排気された差動排気部12,イオン導入細
孔10bを介して排気系11bにより真空に排気された
真空部13に導入され、真空部13に配置された質量分
析部14で質量分析される。質量分析されたイオンはイ
オン検出器15で検出される。信号は、信号ライン16
を介してデータ処理装置17に送られ、処理される。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来のCE/MSで
は、噴霧補助溶液を導入するための送液ポンプが必要と
なり、イオン源構造が複雑になる。また、金属管と送液
ポンプとは噴霧補助溶液を介して電気的に結合するた
め、金属管に高電圧を印加する静電噴霧法では、送液ポ
ンプを操作する際に操作者を感電させる危険があった。
は、噴霧補助溶液を導入するための送液ポンプが必要と
なり、イオン源構造が複雑になる。また、金属管と送液
ポンプとは噴霧補助溶液を介して電気的に結合するた
め、金属管に高電圧を印加する静電噴霧法では、送液ポ
ンプを操作する際に操作者を感電させる危険があった。
【0009】噴霧補助溶液を使用しないCE/MSはジ
ャーナル オブ クロマトグラフィA誌 1994年,
659巻,217頁(Journal of Chromatography A 659
217(1994))に記載されている。この場合、噴霧補助溶
液を送液するための送液ポンプが不要であることは自明
である。しかし、静電噴霧法では溶液中に共存するイオ
ンが試料分子のイオン化を阻害することが知られてお
り、噴霧補助溶液を使用しない方法ではキャピラリ電気
泳動における分離媒体(緩衝溶液)の組成が著しく限定
されるという欠点がある。噴霧補助溶液を導入して緩衝
溶液を希釈することは、汎用性の高い、すなわち、様々
な分析条件が使用できるCE/MSを実現するために不
可欠である。
ャーナル オブ クロマトグラフィA誌 1994年,
659巻,217頁(Journal of Chromatography A 659
217(1994))に記載されている。この場合、噴霧補助溶
液を送液するための送液ポンプが不要であることは自明
である。しかし、静電噴霧法では溶液中に共存するイオ
ンが試料分子のイオン化を阻害することが知られてお
り、噴霧補助溶液を使用しない方法ではキャピラリ電気
泳動における分離媒体(緩衝溶液)の組成が著しく限定
されるという欠点がある。噴霧補助溶液を導入して緩衝
溶液を希釈することは、汎用性の高い、すなわち、様々
な分析条件が使用できるCE/MSを実現するために不
可欠である。
【0010】以上のような観点から、CE/MSで、簡
便な噴霧補助溶液の導入方法が求められていた。
便な噴霧補助溶液の導入方法が求められていた。
【0011】本発明の目的は送液ポンプを不要とする噴
霧補助溶液の送液手段を提供することによりCE/MS
の構成を簡単にし、かつ操作者の感電の危険を低減させ
ることにある。
霧補助溶液の送液手段を提供することによりCE/MS
の構成を簡単にし、かつ操作者の感電の危険を低減させ
ることにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明では、溶液中の混
合試料を分離するキャピラリ電気泳動部,分離された前
記試料を大気中に噴霧するための噴霧細管と前記噴霧細
管が挿入されるオリフィスを持ち前記噴霧細管先端近傍
が前記オリフィスに挿入されて設置されるイオン源,噴
霧を補助する噴霧補助溶液を供給する容器,前記容器か
らの前記噴霧補助溶液を前記イオン源に送液する送液手
段,前記イオン源により生成したイオンを真空部へ導入
するイオン導入細孔,導入された前記イオンを質量分析
するための質量分析部からなる質量分析計であって、前
記イオン源に導入されたガスが、前記噴霧細管の外周壁
面に沿って先端まで流れ、さらにオリフィスから流出す
るときに、前記ガスの標準状態(摂氏20度,1気圧)
換算における流量をF,前記噴霧細管と前記オリフィス
との間の断面積の最小値をSとすると、F/Sで決まる
値が毎秒200m以上であることを特徴とし、かつ前記
噴霧細管の周囲から流される前記ガスにより前記噴霧細
管の末端部周辺を減圧にし、前記容器が設置された位置
との圧力差により前記噴霧補助溶液を前記イオン源に送
液することにより前記課題を解決する。
合試料を分離するキャピラリ電気泳動部,分離された前
記試料を大気中に噴霧するための噴霧細管と前記噴霧細
管が挿入されるオリフィスを持ち前記噴霧細管先端近傍
が前記オリフィスに挿入されて設置されるイオン源,噴
霧を補助する噴霧補助溶液を供給する容器,前記容器か
らの前記噴霧補助溶液を前記イオン源に送液する送液手
段,前記イオン源により生成したイオンを真空部へ導入
するイオン導入細孔,導入された前記イオンを質量分析
するための質量分析部からなる質量分析計であって、前
記イオン源に導入されたガスが、前記噴霧細管の外周壁
面に沿って先端まで流れ、さらにオリフィスから流出す
るときに、前記ガスの標準状態(摂氏20度,1気圧)
換算における流量をF,前記噴霧細管と前記オリフィス
との間の断面積の最小値をSとすると、F/Sで決まる
値が毎秒200m以上であることを特徴とし、かつ前記
噴霧細管の周囲から流される前記ガスにより前記噴霧細
管の末端部周辺を減圧にし、前記容器が設置された位置
との圧力差により前記噴霧補助溶液を前記イオン源に送
液することにより前記課題を解決する。
【0013】すなわち、アナリティカル ケミストリー
誌 1995年 67巻 2878頁(Analytical Che
mistry 67 2878 (1995))には高速(毎秒200m以
上)のガス流により試料をイオン化するソニックスプレ
ー法の記載がある。ソニックスプレー法では、試料溶液
の導入される細管の外部に高速のガス流を流すので、噴
霧細管の末端周辺の圧力が大気圧に比べて低くなる。従
って、CE/MSのイオン化法としてソニックスプレー
法を用いれば、大気圧下に配置される噴霧補助溶液槽と
イオン源との間の圧力差により噴霧補助溶液をイオン源
に送液することが可能となるため、送液ポンプが不要と
なりイオン源の構成が簡単になる。
誌 1995年 67巻 2878頁(Analytical Che
mistry 67 2878 (1995))には高速(毎秒200m以
上)のガス流により試料をイオン化するソニックスプレ
ー法の記載がある。ソニックスプレー法では、試料溶液
の導入される細管の外部に高速のガス流を流すので、噴
霧細管の末端周辺の圧力が大気圧に比べて低くなる。従
って、CE/MSのイオン化法としてソニックスプレー
法を用いれば、大気圧下に配置される噴霧補助溶液槽と
イオン源との間の圧力差により噴霧補助溶液をイオン源
に送液することが可能となるため、送液ポンプが不要と
なりイオン源の構成が簡単になる。
【0014】また、ソニックスプレー法では、必ずしも
イオン源を加熱したり、あるいはイオン源に電圧を印加
する必要はない。従って、イオン源を電気的に接地した
状態で使用できるため、静電噴霧法に比べて安全性の高
いイオン源が可能となる。
イオン源を加熱したり、あるいはイオン源に電圧を印加
する必要はない。従って、イオン源を電気的に接地した
状態で使用できるため、静電噴霧法に比べて安全性の高
いイオン源が可能となる。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第一の実施の形態
を示す説明図である。キャピラリ1内で電気泳動分離さ
れ、キャピラリ1の陰極側の端に到達した試料は、噴霧
補助溶液4と混合された後、金属管3とオリフィス18
との間に流される高速のガス流により噴霧される。噴霧
により得られたガス状のイオンは、イオン導入細孔10
aから真空中に導入され、質量分析部14で質量分析さ
れる。噴霧補助溶液4は噴霧補助溶液槽19より配管
6,コネクタ20を介して金属管3に導入される。金属
管3の端部分の圧力は、ガス流により噴霧補助溶液槽1
9が配置される部分の圧力(大気圧)よりも低くなるた
め、圧力差により噴霧補助溶液4が送液される。本発明
により、噴霧補助溶液を送液するための送液ポンプが不
要となり、CE/MSのイオン源構造を簡略化できる。
を示す説明図である。キャピラリ1内で電気泳動分離さ
れ、キャピラリ1の陰極側の端に到達した試料は、噴霧
補助溶液4と混合された後、金属管3とオリフィス18
との間に流される高速のガス流により噴霧される。噴霧
により得られたガス状のイオンは、イオン導入細孔10
aから真空中に導入され、質量分析部14で質量分析さ
れる。噴霧補助溶液4は噴霧補助溶液槽19より配管
6,コネクタ20を介して金属管3に導入される。金属
管3の端部分の圧力は、ガス流により噴霧補助溶液槽1
9が配置される部分の圧力(大気圧)よりも低くなるた
め、圧力差により噴霧補助溶液4が送液される。本発明
により、噴霧補助溶液を送液するための送液ポンプが不
要となり、CE/MSのイオン源構造を簡略化できる。
【0016】ソニックスプレー法では金属管3を接地し
て使用できるため、イオン源の操作者が感電する危険を
防止できる。従って、本発明によりCE/MSの安全性
が向上する。
て使用できるため、イオン源の操作者が感電する危険を
防止できる。従って、本発明によりCE/MSの安全性
が向上する。
【0017】噴霧補助溶液槽19内の噴霧補助溶液の液
面の高さは、金属管3末端部分の高さとほぼ同程度に保
たれることが望ましい。これは、高低差(重力)による
不必要な送液を防止し、分析時、すなわちガス流が細管
周辺に流される場合にのみ噴霧補助溶液をイオン源に導
入するためである。
面の高さは、金属管3末端部分の高さとほぼ同程度に保
たれることが望ましい。これは、高低差(重力)による
不必要な送液を防止し、分析時、すなわちガス流が細管
周辺に流される場合にのみ噴霧補助溶液をイオン源に導
入するためである。
【0018】噴霧補助溶液の流量は、配管の内径あるい
は長さを変えることにより調節することができる。ま
た、噴霧ガスの速度(あるいは噴霧ガスの流量)を変化
させることでも調節することができる。
は長さを変えることにより調節することができる。ま
た、噴霧ガスの速度(あるいは噴霧ガスの流量)を変化
させることでも調節することができる。
【0019】図2は本発明の第二の実施例を示す図であ
る。ソニックスプレー法におけるイオンの生成効率は溶
液を噴霧する細管の外径に依存し、細い細管ほどイオン
量が増加する。細い細管を使用する場合には、図2に示
したように、キャピラリ1末端を混合槽21に挿入し、
混合槽21でキャピラリ1末端に到達した試料と噴霧補
助溶液とを混合した後、試料を噴霧細管22に導入して
も良い。混合槽21部分を接地した場合、噴霧細管22
は必ずしも金属管ではなくとも良く、フューズドシリカ
等の絶縁管を用いても良い。図2に示した構成により、
外径の細い噴霧細管が使用でき、イオン生成効率の高い
イオン源が実現できる。
る。ソニックスプレー法におけるイオンの生成効率は溶
液を噴霧する細管の外径に依存し、細い細管ほどイオン
量が増加する。細い細管を使用する場合には、図2に示
したように、キャピラリ1末端を混合槽21に挿入し、
混合槽21でキャピラリ1末端に到達した試料と噴霧補
助溶液とを混合した後、試料を噴霧細管22に導入して
も良い。混合槽21部分を接地した場合、噴霧細管22
は必ずしも金属管ではなくとも良く、フューズドシリカ
等の絶縁管を用いても良い。図2に示した構成により、
外径の細い噴霧細管が使用でき、イオン生成効率の高い
イオン源が実現できる。
【0020】
【発明の効果】CE/MSのイオン源にソニックスプレ
ー法を用い、噴霧補助溶液を圧力差により送液するた
め、送液ポンプが不要となる。CE/MSの構成が簡単
となり、安全性も向上する。
ー法を用い、噴霧補助溶液を圧力差により送液するた
め、送液ポンプが不要となる。CE/MSの構成が簡単
となり、安全性も向上する。
【図1】本発明の実施例であるキャピラリ電気泳動/質
量分析計を示す説明図。
量分析計を示す説明図。
【図2】本発明の他の実施例であるキャピラリ電気泳動
/質量分析計を示す説明図。
/質量分析計を示す説明図。
【図3】従来の静電噴霧法を用いたキャピラリ電気泳動
/質量分析計のブロック図。
/質量分析計のブロック図。
1…キャピラリ、3…金属管、4…噴霧補助溶液、6…
配管、10a…イオン導入細孔、18…オリフィス、1
9…噴霧補助溶液槽、20…コネクタ。
配管、10a…イオン導入細孔、18…オリフィス、1
9…噴霧補助溶液槽、20…コネクタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鍋島 貴之 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 坂入 実 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者 小泉 英明 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】溶液中の混合試料を分離するキャピラリ電
気泳動部,分離された前記試料を大気中に噴霧するため
の噴霧細管と前記噴霧細管が挿入されるオリフィスを持
ち前記噴霧細管先端近傍が前記オリフィスに挿入されて
設置されるイオン源,噴霧を補助する噴霧補助溶液を供
給する容器,前記容器からの前記噴霧補助溶液を前記イ
オン源に送液する送液手段,前記イオン源により生成し
たイオンを真空部へ導入するイオン導入細孔,導入され
た前記イオンを質量分析するための質量分析部からなる
質量分析計であって、前記イオン源に導入されたガス
が、前記噴霧細管の外周壁面に沿って先端まで流れ、さ
らにオリフィスから流出するときに、前記ガスの標準状
態換算における流量をF、前記噴霧細管と前記オリフィ
スとの間の断面積の最小値をSとすると、F/Sで決ま
る値が毎秒200m以上であり、かつ前記噴霧細管の周
囲から流される前記ガスにより前記噴霧細管の末端部周
辺を減圧にし、前記容器が設置された位置との圧力差に
より前記噴霧補助溶液を前記イオン源に送液することを
特徴とする質量分析計。 - 【請求項2】前記イオン源が接地される請求項1に記載
の質量分析計。 - 【請求項3】前記容器の内部の前記噴霧補助溶液の液面
が前記噴霧細管の末端部分と等しい高さに設置される請
求項1に記載の質量分析計。 - 【請求項4】前記噴霧補助溶液の流量を調整する機能を
有する請求項1に記載の質量分析計。 - 【請求項5】前記キャピラリ電気泳動部で分離された試
料が前記噴霧補助溶液と混合された後に前記噴霧細管に
導入される請求項1に記載の質量分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051325A JPH09243600A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8051325A JPH09243600A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 質量分析計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09243600A true JPH09243600A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=12883778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8051325A Pending JPH09243600A (ja) | 1996-03-08 | 1996-03-08 | 質量分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09243600A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10155775A1 (de) * | 2001-11-14 | 2003-06-26 | Carbotec Ges Fuer Instr Analyt | Fokussierte Elektrosprayvorrichtung |
| WO2011031005A3 (en) * | 2009-09-08 | 2011-06-23 | Snu R & Db Foundation | Single drop microextraction method combined with capillary electrophoresis-mass spectrometry |
| CN107833821A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-03-23 | 中国检验检疫科学研究院 | 一种敞开式双三通毛细管喷雾装置及其应用 |
| CN115318476A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-11-11 | 苏州津泽智能科技有限公司 | 一种恒定流量雾化金属液的雾化装置及雾化方法 |
-
1996
- 1996-03-08 JP JP8051325A patent/JPH09243600A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10155775A1 (de) * | 2001-11-14 | 2003-06-26 | Carbotec Ges Fuer Instr Analyt | Fokussierte Elektrosprayvorrichtung |
| DE10155775B4 (de) * | 2001-11-14 | 2006-04-06 | CARBOTEC Gesellschaft für instrumentelle Analytik mbH | Fokussierte Elektrosprayvorrichtung |
| WO2011031005A3 (en) * | 2009-09-08 | 2011-06-23 | Snu R & Db Foundation | Single drop microextraction method combined with capillary electrophoresis-mass spectrometry |
| CN107833821A (zh) * | 2017-09-26 | 2018-03-23 | 中国检验检疫科学研究院 | 一种敞开式双三通毛细管喷雾装置及其应用 |
| CN107833821B (zh) * | 2017-09-26 | 2021-09-14 | 中国检验检疫科学研究院 | 一种敞开式双三通毛细管喷雾装置及其应用 |
| CN115318476A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-11-11 | 苏州津泽智能科技有限公司 | 一种恒定流量雾化金属液的雾化装置及雾化方法 |
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