JPH09251961A - 熱処理用ボート - Google Patents
熱処理用ボートInfo
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- JPH09251961A JPH09251961A JP5974296A JP5974296A JPH09251961A JP H09251961 A JPH09251961 A JP H09251961A JP 5974296 A JP5974296 A JP 5974296A JP 5974296 A JP5974296 A JP 5974296A JP H09251961 A JPH09251961 A JP H09251961A
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- Japan
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- wafer
- boat
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- wafer mounting
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱処理過程においてウェーハに生じるスリッ
プ、ＯＳＦを減少する 【解決手段】 ウェーハを水平に且つ縦方向に複数保持
する熱処理用ボートにおいて、ウェーハ２１を保持する
ボート４の載置部の載置面１４ａがウェーハ２１の撓み
に対応した傾斜角αを有し、ウェーハと面で接触する。
ウェーハの内部応力が減少してスリップが減少する。
プ、ＯＳＦを減少する 【解決手段】 ウェーハを水平に且つ縦方向に複数保持
する熱処理用ボートにおいて、ウェーハ２１を保持する
ボート４の載置部の載置面１４ａがウェーハ２１の撓み
に対応した傾斜角αを有し、ウェーハと面で接触する。
ウェーハの内部応力が減少してスリップが減少する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ウェーハを複数枚載置
するボートに関し、特に、縦型拡散炉（熱処理装置）に
使用されるボートの改良に関する。
するボートに関し、特に、縦型拡散炉（熱処理装置）に
使用されるボートの改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造には、多数のプロセス
が介在する。その一つに熱処理工程がある。熱処理工程
は、表層への無欠陥層の形成、ゲッタリング、結晶化、
酸化膜形成、不純物拡散等に用いられる、重要なプロセ
スである。この熱処理工程で用いられる炉、例えば、酸
化や不純物拡散に用いられる拡散炉（酸化・拡散装置）
には、現在、ウェーハ（シリコン基板）の大口径化に伴
い、ウェーハを水平に積層した状態で熱処理する縦型の
拡散炉が主に用いられている。この縦型拡散炉内に多数
のウェーハを搬入し、あるいは搬出するためボートを用
いる。
が介在する。その一つに熱処理工程がある。熱処理工程
は、表層への無欠陥層の形成、ゲッタリング、結晶化、
酸化膜形成、不純物拡散等に用いられる、重要なプロセ
スである。この熱処理工程で用いられる炉、例えば、酸
化や不純物拡散に用いられる拡散炉（酸化・拡散装置）
には、現在、ウェーハ（シリコン基板）の大口径化に伴
い、ウェーハを水平に積層した状態で熱処理する縦型の
拡散炉が主に用いられている。この縦型拡散炉内に多数
のウェーハを搬入し、あるいは搬出するためボートを用
いる。
【０００３】図１８は、縦型拡散炉（熱処理炉）を概略
的に説明する図であり、熱処理炉１の反応室２の内部に
搬入されたボート４に載置されたウェーハ２１は、反応
室２の周囲に設けられたヒータ３によって加熱される。
反応室２には、ガス導入管５を介してガス４０が導入さ
れ、ガス排気管６から外部に排出される。
的に説明する図であり、熱処理炉１の反応室２の内部に
搬入されたボート４に載置されたウェーハ２１は、反応
室２の周囲に設けられたヒータ３によって加熱される。
反応室２には、ガス導入管５を介してガス４０が導入さ
れ、ガス排気管６から外部に排出される。
【０００４】図１９は、ボート４の構成例を示してお
り、支持柱１１〜１４が連結部材１５によって結合され
ている。各支持柱には同じ高さにウェーハ載置部として
の溝１１ｃ〜１４ｃが形成されており、これ等の多数の
溝内に複数のウェーハが載置される。
り、支持柱１１〜１４が連結部材１５によって結合され
ている。各支持柱には同じ高さにウェーハ載置部として
の溝１１ｃ〜１４ｃが形成されており、これ等の多数の
溝内に複数のウェーハが載置される。
【０００５】図１４はボートの他の例を示している。同
図において図１９と対応する部分には同一の符号を付し
ている。同図（Ａ）はボート４の平面図、同図（Ｂ）
は、図１４のａ−ｂ方向におけるボート４の断面図であ
る。ウェーハはボート支柱１１〜１４の同一平面上とな
る複数の横溝１１ｃ〜１４ｃ内に水平に載置され、溝に
よって保持される。このような溝がボートの支柱に多数
設けられ、多数のウェーハを溝内に載置する。ボート
は、通常、石英（ＳｉＯ2 ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）
等の材料で製造されている。
図において図１９と対応する部分には同一の符号を付し
ている。同図（Ａ）はボート４の平面図、同図（Ｂ）
は、図１４のａ−ｂ方向におけるボート４の断面図であ
る。ウェーハはボート支柱１１〜１４の同一平面上とな
る複数の横溝１１ｃ〜１４ｃ内に水平に載置され、溝に
よって保持される。このような溝がボートの支柱に多数
設けられ、多数のウェーハを溝内に載置する。ボート
は、通常、石英（ＳｉＯ2 ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）
等の材料で製造されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のボートにウェー
ハを載置するとき、ウェーハはボートの支柱１１〜１４
の溝内に置かれて保持される。この溝はボートの支柱の
延在方向に対して直角に形成されている。
ハを載置するとき、ウェーハはボートの支柱１１〜１４
の溝内に置かれて保持される。この溝はボートの支柱の
延在方向に対して直角に形成されている。
【０００７】ところで、拡散のような熱処理工程は８０
０℃以上の高温で行われる。この過程でウェーハ内に温
度分布が発生する。この温度分布により応力が生じ、こ
の応力がある一定の臨界値を超えると、結晶欠陥である
スリップ（転位）が発生する。転位発生の臨界値は高温
になると急激に小さくなるため、小さい温度分布でも問
題になる。また、同一の熱応力が加わる場合、高温程ス
リップが発生し易くなる。
０℃以上の高温で行われる。この過程でウェーハ内に温
度分布が発生する。この温度分布により応力が生じ、こ
の応力がある一定の臨界値を超えると、結晶欠陥である
スリップ（転位）が発生する。転位発生の臨界値は高温
になると急激に小さくなるため、小さい温度分布でも問
題になる。また、同一の熱応力が加わる場合、高温程ス
リップが発生し易くなる。
【０００８】ボートの溝にウェーハを水平に積層する場
合、ウェーハをウェーハ外周の数点（通常４点）で保持
する。ここで、ウェーハを水平に保持した場合、ウェー
ハの自重により、下方にくぼむ撓みが生ずる。この結
果、図１５に示すように、ウェーハはボートのウェーハ
載置溝の角１１ｂ〜１４ｂと点で接触することになる。
合、ウェーハをウェーハ外周の数点（通常４点）で保持
する。ここで、ウェーハを水平に保持した場合、ウェー
ハの自重により、下方にくぼむ撓みが生ずる。この結
果、図１５に示すように、ウェーハはボートのウェーハ
載置溝の角１１ｂ〜１４ｂと点で接触することになる。
【０００９】応力は単位面積に作用する力であるから、
点接触した場合、面で接触する場合に比べ、ボートから
ウェーハに加わる応力は大きくなる。このため、熱処理
時にボート溝の接触応力によって結晶面のスリップが発
生する。従来の１５０ｍｍφのウェーハでは撓み量が小
さくて、特に問題とならなかったものが、撓み量は半径
の４条に比例するため、２００ｍｍφウェーハになる
と、撓み量が大きくなってスリップが顕著に発生する。
このスリップ発生箇所に素子を形成すると、接合リーク
等の原因となる。
点接触した場合、面で接触する場合に比べ、ボートから
ウェーハに加わる応力は大きくなる。このため、熱処理
時にボート溝の接触応力によって結晶面のスリップが発
生する。従来の１５０ｍｍφのウェーハでは撓み量が小
さくて、特に問題とならなかったものが、撓み量は半径
の４条に比例するため、２００ｍｍφウェーハになる
と、撓み量が大きくなってスリップが顕著に発生する。
このスリップ発生箇所に素子を形成すると、接合リーク
等の原因となる。
【００１０】図１７は、他の不具合を説明するためのも
ので、同図（Ａ）は、ウェーハ２１をボート支柱１１〜
１４の溝に載置している状態を示す平面図である。ま
た、同図（Ｂ）は、図（Ａ）のａ−ｂ−ｃ方向における
断面図である。
ので、同図（Ａ）は、ウェーハ２１をボート支柱１１〜
１４の溝に載置している状態を示す平面図である。ま
た、同図（Ｂ）は、図（Ａ）のａ−ｂ−ｃ方向における
断面図である。
【００１１】通常、ウェーハの熱処理は熱処理炉内にお
いて、例えば、上方から下方に向かってガス４０を流し
ながら行う。使用するガスは熱処理の目的によって異な
るが、主としてＨ2 、Ｎ2 、Ｏ2 （酸化膜形成の場合）
等が用いられる。不純物拡散の場合には、これ等のガス
を不純物化合物ガスのキャリアガスとしても使用する。
熱処理は、複数のウェーハをボートの支持柱の溝にセッ
トして行うので、ウェーハの支持柱近傍の部分とその他
の部分とでガス４０の回り込み具合が異なる。また、ウ
ェーハ相互間に回り込んだガス４０の対流が生じ、対流
の生じている部分とそうでない部分とで不純物の拡散状
態が異なる。また、ウェーハ周囲のガス流の乱れ４０ａ
は、ウェーハに温度分布を生ぜしめ、スリップやＯＳＦ
（表面積層欠陥）が生じる原因になる。
いて、例えば、上方から下方に向かってガス４０を流し
ながら行う。使用するガスは熱処理の目的によって異な
るが、主としてＨ2 、Ｎ2 、Ｏ2 （酸化膜形成の場合）
等が用いられる。不純物拡散の場合には、これ等のガス
を不純物化合物ガスのキャリアガスとしても使用する。
熱処理は、複数のウェーハをボートの支持柱の溝にセッ
トして行うので、ウェーハの支持柱近傍の部分とその他
の部分とでガス４０の回り込み具合が異なる。また、ウ
ェーハ相互間に回り込んだガス４０の対流が生じ、対流
の生じている部分とそうでない部分とで不純物の拡散状
態が異なる。また、ウェーハ周囲のガス流の乱れ４０ａ
は、ウェーハに温度分布を生ぜしめ、スリップやＯＳＦ
（表面積層欠陥）が生じる原因になる。
【００１２】よって、本発明は、縦型の熱処理装置にウ
ェーハを保持する際に、ボート溝がウェーハに与える接
触応力を緩和して熱処理時にスリップが生じないような
熱処理用ボートを提供することを目的とする。
ェーハを保持する際に、ボート溝がウェーハに与える接
触応力を緩和して熱処理時にスリップが生じないような
熱処理用ボートを提供することを目的とする。
【００１３】また、本発明は、ボートに位置されたウェ
ーハ間へガスの回り込みを抑制し、ウェーハ周辺におけ
るスリップやＯＳＦの発生を減少することを他の目的と
する。
ーハ間へガスの回り込みを抑制し、ウェーハ周辺におけ
るスリップやＯＳＦの発生を減少することを他の目的と
する。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の熱処理用ボートは、複数の支柱とこれ等の
支柱同士を連結する連結部と、各支柱の同じ高さ位置に
配設されてウェーハを載置する複数のウェーハ載置部
と、を備える熱処理用ボートにおいて、各ウェーハ載置
部は、ウェーハの撓みに対応した傾斜面を有し、この傾
斜面上にウェーハを載置する、ことを特徴とする。
め、本発明の熱処理用ボートは、複数の支柱とこれ等の
支柱同士を連結する連結部と、各支柱の同じ高さ位置に
配設されてウェーハを載置する複数のウェーハ載置部
と、を備える熱処理用ボートにおいて、各ウェーハ載置
部は、ウェーハの撓みに対応した傾斜面を有し、この傾
斜面上にウェーハを載置する、ことを特徴とする。
【００１５】また、各ウェーハ載置部は、所定の曲率を
有する曲面を有し、この曲面上に前記ウェーハを載置す
る、ことを特徴とする。
有する曲面を有し、この曲面上に前記ウェーハを載置す
る、ことを特徴とする。
【００１６】本発明の熱処理用ボートは、ウェーハを水
平に載置する環状または円弧状のウェーハ載置台を上下
方向に１つ又は複数保持する熱処理用ボートにおいて、
ウェーハ載置台は、ウェーハの撓みに対応した傾斜面を
有し、この傾斜面上にウェーハを載置する、ことを特徴
とする。
平に載置する環状または円弧状のウェーハ載置台を上下
方向に１つ又は複数保持する熱処理用ボートにおいて、
ウェーハ載置台は、ウェーハの撓みに対応した傾斜面を
有し、この傾斜面上にウェーハを載置する、ことを特徴
とする。
【００１７】また、各ウェーハ載置台は、所定の曲率を
有する曲面を有し、この曲面上に前記ウェーハを載置す
る、ことを特徴とする。
有する曲面を有し、この曲面上に前記ウェーハを載置す
る、ことを特徴とする。
【００１８】更に、本発明の熱処理用ボートは、ウェー
ハを水平に載置する環状のウェーハ載置台を上下方向に
１つ又は複数保持する熱処理用ボートにおいて、ウェー
ハ載置台はウェーハの外縁を一周する囲み壁を有する。
ハを水平に載置する環状のウェーハ載置台を上下方向に
１つ又は複数保持する熱処理用ボートにおいて、ウェー
ハ載置台はウェーハの外縁を一周する囲み壁を有する。
【００１９】本発明のウェーハの熱処理方法は、半径Ｒ
のウェーハについてその自重による撓み量ｄを求める過
程と、 ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１ の関係より、傾
斜角度αを求める過程と、水平方向に対して傾斜角度α
若しくはこの近傍値の傾きのウェーハ載置面を持つボー
トを選択する過程と、選択されたボートにウェーハを載
置して熱処理を行う過程と、を含む。
のウェーハについてその自重による撓み量ｄを求める過
程と、 ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１ の関係より、傾
斜角度αを求める過程と、水平方向に対して傾斜角度α
若しくはこの近傍値の傾きのウェーハ載置面を持つボー
トを選択する過程と、選択されたボートにウェーハを載
置して熱処理を行う過程と、を含む。
【００２０】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態について図面
を参照して説明する。図１は、本発明の実施の形態の一
例を示している。この例ではボートの平面形状は従来例
と同様であるので、特徴が表れるボートの断面図を示し
ている。同図において図１４（Ｂ）と対応する部分には
同一符号を付している。
を参照して説明する。図１は、本発明の実施の形態の一
例を示している。この例ではボートの平面形状は従来例
と同様であるので、特徴が表れるボートの断面図を示し
ている。同図において図１４（Ｂ）と対応する部分には
同一符号を付している。
【００２１】本発明においては、ウェーハ２１の自重に
よる撓みｄに伴うボート溝の接触応力を緩和し、熱処理
時の結晶面のスリップによる転位発生を防止するため
に、ボートに半径Ｒのウェーハを保持したときのウェー
ハ中心の撓み量ｄから、 ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１ …（１） の関係によって得られる角度αを求め、ボート溝のウェ
ーハ載置面１１ａ，…，１４ａが水平方向に対し、角度
αだけ傾いているボートを使用して熱（処理）工程を行
う。
よる撓みｄに伴うボート溝の接触応力を緩和し、熱処理
時の結晶面のスリップによる転位発生を防止するため
に、ボートに半径Ｒのウェーハを保持したときのウェー
ハ中心の撓み量ｄから、 ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１ …（１） の関係によって得られる角度αを求め、ボート溝のウェ
ーハ載置面１１ａ，…，１４ａが水平方向に対し、角度
αだけ傾いているボートを使用して熱（処理）工程を行
う。
【００２２】上記式（１）の導出について図２を参照し
て説明する。同図において、ウェーハがボートに載置さ
れて円弧状に撓んでいるものとする。弧ＡＢＣはウェー
ハの撓み（断面）を表している。Ｏは円弧の中心、ｒは
円弧の曲率半径、Ｒはウェーハの半径、Ｄは線分ＡＣと
ＯＢの交点である。線分ＤＢが撓みｄに相当する。αは
接線ＡＡ’（載置面に相当する）と線分ＡＤ（水平方向
に相当する）のなす角度である。
て説明する。同図において、ウェーハがボートに載置さ
れて円弧状に撓んでいるものとする。弧ＡＢＣはウェー
ハの撓み（断面）を表している。Ｏは円弧の中心、ｒは
円弧の曲率半径、Ｒはウェーハの半径、Ｄは線分ＡＣと
ＯＢの交点である。線分ＤＢが撓みｄに相当する。αは
接線ＡＡ’（載置面に相当する）と線分ＡＤ（水平方向
に相当する）のなす角度である。
【００２３】三角形ＯＡＤにおいて、角度ＯＤＡ（＝角
度ＯＡＡ’）＝９０度であるから、角度ＡＯＤ＝α、Ａ
Ｂ＝ｒ・α＝Ｒ であるから、 ｒ＝Ｒ／α …(2) また、ＢＯ＝ＢＤ＋ＤＯ＝ｒ より、ｄ＋ｒｃｏｓα＝
ｒ であるから、 ｃｏｓα＋ｄ／ｒ＝１ …(3) (3) 式に(2) 式を代入すると、ｃｏｓα＋ｄ・α／Ｒ＝
１ となって、ウェーハが撓んだ状態における関係を示
す（１）式が導出される。この（１）式において、曲率
半径は定数であるから、撓み量ｄを測定することによっ
て角度αが求められる。ウェーハを載置する面の傾斜が
角度αあるいは後述するようにそれよりも少し大きいも
のを選択することによって、ウェーハは面接触によって
ボートで支持される。
度ＯＡＡ’）＝９０度であるから、角度ＡＯＤ＝α、Ａ
Ｂ＝ｒ・α＝Ｒ であるから、 ｒ＝Ｒ／α …(2) また、ＢＯ＝ＢＤ＋ＤＯ＝ｒ より、ｄ＋ｒｃｏｓα＝
ｒ であるから、 ｃｏｓα＋ｄ／ｒ＝１ …(3) (3) 式に(2) 式を代入すると、ｃｏｓα＋ｄ・α／Ｒ＝
１ となって、ウェーハが撓んだ状態における関係を示
す（１）式が導出される。この（１）式において、曲率
半径は定数であるから、撓み量ｄを測定することによっ
て角度αが求められる。ウェーハを載置する面の傾斜が
角度αあるいは後述するようにそれよりも少し大きいも
のを選択することによって、ウェーハは面接触によって
ボートで支持される。
【００２４】本発明の実施例について説明する。まず、
ウェーハとしていわゆるＣＺ法で育成された面方位（１
００）の２００ｍｍφ、厚さ７２５μｍ、の鏡面ウェー
ハを用いた。この熱処理では、２００ｍｍφのウェーハ
２１をボートに載置したときのウェーハ中心の撓み量ｄ
を求めると、０．０９ｍｍであるので、ボートの溝は載
置面と水平との角度αを、ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１
より求めた、０．１０度傾けたものを用いた。
ウェーハとしていわゆるＣＺ法で育成された面方位（１
００）の２００ｍｍφ、厚さ７２５μｍ、の鏡面ウェー
ハを用いた。この熱処理では、２００ｍｍφのウェーハ
２１をボートに載置したときのウェーハ中心の撓み量ｄ
を求めると、０．０９ｍｍであるので、ボートの溝は載
置面と水平との角度αを、ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１
より求めた、０．１０度傾けたものを用いた。
【００２５】このボートにウェーハを載置し、縦型の熱
処理炉に８００℃にて導入した。その後、水素（Ｈ2 ）
雰囲気中で１２００℃まで昇温し、１２００℃で１時間
熱処理を行った。その後８００℃まで降温し、熱処理炉
から取り出した。
処理炉に８００℃にて導入した。その後、水素（Ｈ2 ）
雰囲気中で１２００℃まで昇温し、１２００℃で１時間
熱処理を行った。その後８００℃まで降温し、熱処理炉
から取り出した。
【００２６】従来例のサンプルとして、実施例と同じ２
００ｍｍφのＣＺ基板（ウェーハ）を図１４に示す従来
のボートに載置し、実施例と同様の条件で熱処理を行っ
た。従来のボートは溝内のウェーハ載置面が水平方向と
なす角度は０度である。実施例、従来例共にボートの材
質は石英で同じである。
００ｍｍφのＣＺ基板（ウェーハ）を図１４に示す従来
のボートに載置し、実施例と同様の条件で熱処理を行っ
た。従来のボートは溝内のウェーハ載置面が水平方向と
なす角度は０度である。実施例、従来例共にボートの材
質は石英で同じである。
【００２７】従来例のボート、実施例のボートを用いて
熱処理を行ったウェーハをＸ線Ｌａｎｇ法（Ｍｏｋａ
（２２０）反射）にてウェーハに生じたスリップを評価
した。これを図１６に示す。同図において、１１〜１４
は、ボートの支柱１１〜１４が存在した位置を示す。
熱処理を行ったウェーハをＸ線Ｌａｎｇ法（Ｍｏｋａ
（２２０）反射）にてウェーハに生じたスリップを評価
した。これを図１６に示す。同図において、１１〜１４
は、ボートの支柱１１〜１４が存在した位置を示す。
【００２８】従来のボートを使用した場合は、ボートの
接触部（２ヶ所）からスリップ２１ａが０〜５ｃｍ程度
生じている。スリップ発生の傾向は、ウェーハ周辺の少
し内側のところにスリップ発生の起点が見られる。この
起点はウェーハとボートの溝部との接触部分１１ｂ、１
４ｂに対応している。通常、熱処理時に熱応力によって
発生するスリップはウェーハの外周（エッジ）を起点に
発生するので、ボートとの接触応力が加わってスリップ
が生じたことが判る。
接触部（２ヶ所）からスリップ２１ａが０〜５ｃｍ程度
生じている。スリップ発生の傾向は、ウェーハ周辺の少
し内側のところにスリップ発生の起点が見られる。この
起点はウェーハとボートの溝部との接触部分１１ｂ、１
４ｂに対応している。通常、熱処理時に熱応力によって
発生するスリップはウェーハの外周（エッジ）を起点に
発生するので、ボートとの接触応力が加わってスリップ
が生じたことが判る。
【００２９】これに対し、本発明に係るボートを使用し
た場合には、ウェーハへのスリップの発生は見受けられ
なかった。
た場合には、ウェーハへのスリップの発生は見受けられ
なかった。
【００３０】このように、ボートの溝のウェーハ載置面
にウェーハの撓み量に対応した角度の傾斜面を形成す
る。従来技術では熱処理中にウェーハと点接触になって
応力が一点に集中し、スリップが発生するが、本発明で
は、面接触とすることによって、応力の一点集中を回避
することができる。
にウェーハの撓み量に対応した角度の傾斜面を形成す
る。従来技術では熱処理中にウェーハと点接触になって
応力が一点に集中し、スリップが発生するが、本発明で
は、面接触とすることによって、応力の一点集中を回避
することができる。
【００３１】次に、第２の実施例について説明する。こ
の実施例では、上記実施例と同じウェーハを使用し、ボ
ートの載置面の傾斜角度αを２度に傾けたボートを使用
して１２００℃、１時間の同じ条件の熱処理を行った。
このウェーハをＸ線Ｌａｎｇ法により、同様に評価し
た。その結果、第１の実施例と同様に、スリップの発生
は見られなかった。
の実施例では、上記実施例と同じウェーハを使用し、ボ
ートの載置面の傾斜角度αを２度に傾けたボートを使用
して１２００℃、１時間の同じ条件の熱処理を行った。
このウェーハをＸ線Ｌａｎｇ法により、同様に評価し
た。その結果、第１の実施例と同様に、スリップの発生
は見られなかった。
【００３２】これは、ボート溝の載置面の傾斜角度αを
ウェーハの撓み量に応じた角度以上の角度に設定するこ
とによって、溝のエッジがウェーハに点接触することが
回避されたためと考えられる。通常、ウェーハは断面形
状が円弧状（半円）であるベベル部で溝の載置面に接触
することになる。このため、従来のボートに比し、接触
面積が増して、接触応力が減少し、スリップの発生が防
止される。
ウェーハの撓み量に応じた角度以上の角度に設定するこ
とによって、溝のエッジがウェーハに点接触することが
回避されたためと考えられる。通常、ウェーハは断面形
状が円弧状（半円）であるベベル部で溝の載置面に接触
することになる。このため、従来のボートに比し、接触
面積が増して、接触応力が減少し、スリップの発生が防
止される。
【００３３】このように、ボートの溝のウェーハ載置面
の傾斜をウェーハの撓み量ｄに対応した角度αに設定す
ることが好ましいが、実用上、ウェーハ載置面の傾斜を
角度αより大きい角度であればスリップ発生防止の効果
が得られる。
の傾斜をウェーハの撓み量ｄに対応した角度αに設定す
ることが好ましいが、実用上、ウェーハ載置面の傾斜を
角度αより大きい角度であればスリップ発生防止の効果
が得られる。
【００３４】図３に、第２の実施の形態を示す。同図に
おいて図１７と対応する部分には同一符号を付してい
る。この実施の形態では、ウェーハの縁を囲む環状のサ
セプタ（台）にウェーハを載置してボートに載せる。図
３（Ａ）は、ボートにウェーハを載せた状態の平面図、
同図（Ｂ）は、同図（Ａ）のａ−ｂ−ｃ方向における断
面図である。
おいて図１７と対応する部分には同一符号を付してい
る。この実施の形態では、ウェーハの縁を囲む環状のサ
セプタ（台）にウェーハを載置してボートに載せる。図
３（Ａ）は、ボートにウェーハを載せた状態の平面図、
同図（Ｂ）は、同図（Ａ）のａ−ｂ−ｃ方向における断
面図である。
【００３５】ウェーハ２１はサセプタ３１の内側に傾斜
した載置面３１ａ上に載置される。載置面３１ａの傾斜
角度αは前述した式（１）に基づいて定められており、
上述した実施例と同様に応力によるスリップの発生を抑
制する効果を発揮する。
した載置面３１ａ上に載置される。載置面３１ａの傾斜
角度αは前述した式（１）に基づいて定められており、
上述した実施例と同様に応力によるスリップの発生を抑
制する効果を発揮する。
【００３６】サセプタ３１は、全体が環状に形成されて
おり、更に、その径方向における断面形状が、内周側３
１ｂに載置面があり、外周側が壁３１ｃとなるような、
内側を向く“Ｌ”字状となっている。この例では、サセ
プタの壁３１ｃは、その上端面が載置したウェーハ２１
の上面よりも高い位置になるように形成され、また、ウ
ェーハ２１の外縁を一周するように形成されている。な
お、断面形状は“Ｌ”字状に限定されるものではなく、
例えば、“逆Ｔ”字状であっても良い。ウェーハ２１を
載置した各サセプタ３１相互間の間隔は従来のボート載
置の場合に比べて狭く設定される。
おり、更に、その径方向における断面形状が、内周側３
１ｂに載置面があり、外周側が壁３１ｃとなるような、
内側を向く“Ｌ”字状となっている。この例では、サセ
プタの壁３１ｃは、その上端面が載置したウェーハ２１
の上面よりも高い位置になるように形成され、また、ウ
ェーハ２１の外縁を一周するように形成されている。な
お、断面形状は“Ｌ”字状に限定されるものではなく、
例えば、“逆Ｔ”字状であっても良い。ウェーハ２１を
載置した各サセプタ３１相互間の間隔は従来のボート載
置の場合に比べて狭く設定される。
【００３７】このような構造のサセプタを使用すること
により、ガスの回り込みや、回り込みに起因する対流が
抑制される。特に、ウェーハを反応させずに熱処理を行
う場合に都合がよい。
により、ガスの回り込みや、回り込みに起因する対流が
抑制される。特に、ウェーハを反応させずに熱処理を行
う場合に都合がよい。
【００３８】図４は、第３の実施の形態を示している。
同図において図１７と対応する部分には同一符号を付し
ている。この実施の形態も、ウェーハを環状のサセプタ
（台）に載置してボートに載せるが、サセプタ外径はウ
ェーハの外径よりも大きい。図４（Ａ）は、ボートにウ
ェーハを載せた状態の平面図、同図（Ｂ）は、同図
（Ａ）のａ−ｂ−ｃ方向における断面図である。
同図において図１７と対応する部分には同一符号を付し
ている。この実施の形態も、ウェーハを環状のサセプタ
（台）に載置してボートに載せるが、サセプタ外径はウ
ェーハの外径よりも大きい。図４（Ａ）は、ボートにウ
ェーハを載せた状態の平面図、同図（Ｂ）は、同図
（Ａ）のａ−ｂ−ｃ方向における断面図である。
【００３９】ウェーハ２１はサセプタ３１の内側に傾斜
した載置面３１ａ上に載置される。載置面３１ａの傾斜
角度αは前述した式（１）に基づいて定められており、
上述した実施例と同様に応力によるスリップの発生を抑
制する効果を発揮する。
した載置面３１ａ上に載置される。載置面３１ａの傾斜
角度αは前述した式（１）に基づいて定められており、
上述した実施例と同様に応力によるスリップの発生を抑
制する効果を発揮する。
【００４０】この例では、上述したように、サセプタ３
１の径がウェーハ２１の径よりも十分に大きく形成され
る。このため、サセプタ３１の外周側に生じ得るガスの
回り込み４０ａや、回り込みに起因する対流による影響
がウェーハ２１までは及ばない。
１の径がウェーハ２１の径よりも十分に大きく形成され
る。このため、サセプタ３１の外周側に生じ得るガスの
回り込み４０ａや、回り込みに起因する対流による影響
がウェーハ２１までは及ばない。
【００４１】上述したサセプタを使用してウェーハをボ
ートに載置する方法について図５を参照して説明する。
ここでは、２つの例について説明する。第１の例では、
図５（Ａ）に示すように、ウェーハ２１を環状のサセプ
タ３１に載置する。その後、ボートの支柱１１〜１４の
各々に一定ピッチで設けられた複数の溝や穴（図示せ
ず）を利用して、サセプタ３１を当該溝等に嵌合あるい
は係合する。これにより、図５（Ｃ）に示すように、ウ
ェーハ２１がサセプタ３１を介してボートに載置され
る。同様にして、複数のウェーハがボートに載置され
る。
ートに載置する方法について図５を参照して説明する。
ここでは、２つの例について説明する。第１の例では、
図５（Ａ）に示すように、ウェーハ２１を環状のサセプ
タ３１に載置する。その後、ボートの支柱１１〜１４の
各々に一定ピッチで設けられた複数の溝や穴（図示せ
ず）を利用して、サセプタ３１を当該溝等に嵌合あるい
は係合する。これにより、図５（Ｃ）に示すように、ウ
ェーハ２１がサセプタ３１を介してボートに載置され
る。同様にして、複数のウェーハがボートに載置され
る。
【００４２】第２の例では、図５（Ｂ）に示すように、
ボートとサセプタとを一体的に構成する。そして、サセ
プタ３１を本体側３１Ａと分割片３１Ｂとに分離可能に
形成する。この場合には、分割片３１Ｂを外して、ウェ
ーハ２１を本体側のサセプタ３１Ａに載置する。その
後、分割片３１Ｂの挿入ピン３１ｃをサセプタ３１Ａに
形成された穴（図示せず）に嵌合して閉じる。これによ
り、図５（Ｃ）に示すように、ウェーハ２１がサセプタ
３１を介してボートに載置される。同様にして、複数の
ウェーハがサセプタを介してボートに載置される。
ボートとサセプタとを一体的に構成する。そして、サセ
プタ３１を本体側３１Ａと分割片３１Ｂとに分離可能に
形成する。この場合には、分割片３１Ｂを外して、ウェ
ーハ２１を本体側のサセプタ３１Ａに載置する。その
後、分割片３１Ｂの挿入ピン３１ｃをサセプタ３１Ａに
形成された穴（図示せず）に嵌合して閉じる。これによ
り、図５（Ｃ）に示すように、ウェーハ２１がサセプタ
３１を介してボートに載置される。同様にして、複数の
ウェーハがサセプタを介してボートに載置される。
【００４３】次に、傾斜面を有するサセプタを用いた場
合の実験結果について説明する。ボートの溝ピッチは
６．３ｍｍ、ウェーハ径は２００ｍｍのものを使用し
て、従来のボートと図３及び図４記載のボートとを比較
した。各ボートにはウェーハを１００枚載置できる。
合の実験結果について説明する。ボートの溝ピッチは
６．３ｍｍ、ウェーハ径は２００ｍｍのものを使用し
て、従来のボートと図３及び図４記載のボートとを比較
した。各ボートにはウェーハを１００枚載置できる。
【００４４】図３に示すサセプタの寸法は、直径２０６
ｍｍ、高さ４ｍｍ、隣接するサセプタとの隙間２．３ｍ
ｍ、ウェーハの撓みに応じた載置面の傾斜角αを０．１
度にする。図４に示すサセプタは、直径２２０ｍｍ、高
さ２ｍｍ、傾斜角αを０．１度とした。従来型を含む三
種類のボートに、面方位（１００）、Ｐ型、抵抗ρ＝４
〜６Ωｃｍ、酸素濃度（Ｏi ）＝１２．５〜１３．５×
１０17原子／ｃｍの鏡面ウェーハを１００枚ずつ載置し
た。
ｍｍ、高さ４ｍｍ、隣接するサセプタとの隙間２．３ｍ
ｍ、ウェーハの撓みに応じた載置面の傾斜角αを０．１
度にする。図４に示すサセプタは、直径２２０ｍｍ、高
さ２ｍｍ、傾斜角αを０．１度とした。従来型を含む三
種類のボートに、面方位（１００）、Ｐ型、抵抗ρ＝４
〜６Ωｃｍ、酸素濃度（Ｏi ）＝１２．５〜１３．５×
１０17原子／ｃｍの鏡面ウェーハを１００枚ずつ載置し
た。
【００４５】ボートを縦型拡散炉に入れ、水素雰囲気中
で熱処理を行った。水素ガスの流量は１０ｌ／ｍｉｎ、
８００℃で炉に搬入し、水素ガスに置換後１０００℃ま
では１５℃／ｍｉｎ、１２００℃までは３℃／ｍｉｎで
昇温した。１２００℃で１時間熱処理を行った後、昇温
時と同じく１０００℃までは３℃／ｍｉｎ、８００℃ま
では１５℃／ｍｉｎで降温し、炉内のガスを窒素ガスに
置換した後、ウェーハを搬出した。アニール後のウェー
ハを各ボートから２０枚ずつ抜き取り、１０枚をＸ線Ｌ
ａｎｇ法でスリップの評価を行った。残りの１０枚につ
いては酸素雰囲気中で、７８０℃で３時間、１０００℃
で１０時間のアニールを行った後、ライト（Wright）液
で１分間エッチングし、ＯＳＦ（表面積層欠陥）を観察
した。
で熱処理を行った。水素ガスの流量は１０ｌ／ｍｉｎ、
８００℃で炉に搬入し、水素ガスに置換後１０００℃ま
では１５℃／ｍｉｎ、１２００℃までは３℃／ｍｉｎで
昇温した。１２００℃で１時間熱処理を行った後、昇温
時と同じく１０００℃までは３℃／ｍｉｎ、８００℃ま
では１５℃／ｍｉｎで降温し、炉内のガスを窒素ガスに
置換した後、ウェーハを搬出した。アニール後のウェー
ハを各ボートから２０枚ずつ抜き取り、１０枚をＸ線Ｌ
ａｎｇ法でスリップの評価を行った。残りの１０枚につ
いては酸素雰囲気中で、７８０℃で３時間、１０００℃
で１０時間のアニールを行った後、ライト（Wright）液
で１分間エッチングし、ＯＳＦ（表面積層欠陥）を観察
した。
【００４６】その結果、従来のボートを用いたウェーハ
の熱処理では、図１３（Ａ）に示すように、ウェーハ２
１に、ボートのロッドが接触した部分から最大３０ｍｍ
のスリップ２１ａが発生した。また、外周３〜５ｍｍの
ところに最大密度５×１０3個／ｃｍ2 のＯＳＦ２１ｂ
が帯状に発生した。
の熱処理では、図１３（Ａ）に示すように、ウェーハ２
１に、ボートのロッドが接触した部分から最大３０ｍｍ
のスリップ２１ａが発生した。また、外周３〜５ｍｍの
ところに最大密度５×１０3個／ｃｍ2 のＯＳＦ２１ｂ
が帯状に発生した。
【００４７】これに対し、図３及び４に示すサセプタを
用いたウェーハの熱処理では、図１３（Ｂ）に示すよう
に、スリップ及びＯＳＦは発生しなかった。これは、ウ
ェーハがサセプタのウェーハの撓みを考慮した傾斜面に
面接触し、ウェーハの自重が分散して内部応力が減少し
たためスリップが抑制されたと考えられる。また、ガス
の回り込みが抑制されて水素ガス中の不純物による汚染
が回避されＯＳＦが発生しなかったと考えられる。更
に、このような熱処理を行ったウェーハにＩＣを製造し
た。従来のボートを使用してウェーハの熱処理を行った
ものには、外周部のチップに不良か多発したが、本願の
ボートを使用したものにはそのように傾向は見られなか
った。
用いたウェーハの熱処理では、図１３（Ｂ）に示すよう
に、スリップ及びＯＳＦは発生しなかった。これは、ウ
ェーハがサセプタのウェーハの撓みを考慮した傾斜面に
面接触し、ウェーハの自重が分散して内部応力が減少し
たためスリップが抑制されたと考えられる。また、ガス
の回り込みが抑制されて水素ガス中の不純物による汚染
が回避されＯＳＦが発生しなかったと考えられる。更
に、このような熱処理を行ったウェーハにＩＣを製造し
た。従来のボートを使用してウェーハの熱処理を行った
ものには、外周部のチップに不良か多発したが、本願の
ボートを使用したものにはそのように傾向は見られなか
った。
【００４８】このようにウェーハを載置する面をウェー
ハの自重による撓みを考慮して傾斜面とし、面接触によ
ってウェーハを載置（保持）することによって、スリッ
プの発生を抑制することが可能となる。更に、炉内のガ
ス流を考慮したサセプタを使用してウェーハの表面近傍
でガス流の乱れが生じないようにすることでスリップの
発生とＯＳＦの発生とを同時に抑制することが可能とな
る。
ハの自重による撓みを考慮して傾斜面とし、面接触によ
ってウェーハを載置（保持）することによって、スリッ
プの発生を抑制することが可能となる。更に、炉内のガ
ス流を考慮したサセプタを使用してウェーハの表面近傍
でガス流の乱れが生じないようにすることでスリップの
発生とＯＳＦの発生とを同時に抑制することが可能とな
る。
【００４９】なお、実施の形態では、サセプタを環状と
したが、ウェーハの撓みによるスリップ発生の抑制を主
たる目的とする場合には、サセプタを円弧状とすること
ができる。
したが、ウェーハの撓みによるスリップ発生の抑制を主
たる目的とする場合には、サセプタを円弧状とすること
ができる。
【００５０】次に、第４の実施の形態について図６〜図
１２を参照して説明する。まず、ボート載置部のコーナ
（エッジ）部分１１ｂ〜１４ｂから内部応力によって２
００ｍｍφウェーハに発生する転位の抑制を実現するた
めに、ウェーハを載置する部分１１ｃ〜１４ｃを球面と
仮定した場合に、球半径とウェーハに作用する分解剪断
力との関係を調べた。この結果を図６のグラフに示す。
１２を参照して説明する。まず、ボート載置部のコーナ
（エッジ）部分１１ｂ〜１４ｂから内部応力によって２
００ｍｍφウェーハに発生する転位の抑制を実現するた
めに、ウェーハを載置する部分１１ｃ〜１４ｃを球面と
仮定した場合に、球半径とウェーハに作用する分解剪断
力との関係を調べた。この結果を図６のグラフに示す。
【００５１】同図において、白丸のプロットは１５０ｍ
ｍφウェーハの場合を、黒丸のプロットは２００ｍｍφ
ウェーハの場合を示す。これより、球半径を０．６ｍｍ
の近傍にすると、分解剪断応力値が６０ＭＰａであるこ
とが判った。そして、球半径が０．６ｍｍ以下の場合に
は、剪断応力が大きく増えるためウェーハに転位が生ず
ると推定される。球半径が０．６ｍｍ以上の場合には剪
断応力が緩和されるので転位は減少すると推定される。
ｍφウェーハの場合を、黒丸のプロットは２００ｍｍφ
ウェーハの場合を示す。これより、球半径を０．６ｍｍ
の近傍にすると、分解剪断応力値が６０ＭＰａであるこ
とが判った。そして、球半径が０．６ｍｍ以下の場合に
は、剪断応力が大きく増えるためウェーハに転位が生ず
ると推定される。球半径が０．６ｍｍ以上の場合には剪
断応力が緩和されるので転位は減少すると推定される。
【００５２】そこで、ボートのウェーハの載置溝のウェ
ーハと接触するコーナ部分１１ｂ〜１４ｂを種々の曲率
半径としたものを作成した。これを図７及び図８に示
す。両図において、図１５と対応する部分には同一符号
を付し、かかる部分の説明は省略する。これ等のボート
に２００ｍｍφのウェーハを載置し、前述した縦型熱処
理炉によってウェーハに所定の熱処理を行った。熱処理
されたウェーハの転位の発生状態をＸ線トポグラフィに
よって観察した。その結果を図１０に示す。同図におい
て、横軸はコーナの曲率半径を、縦軸は生じた転位（ス
リップ）の長さを表している。ウェーハを載置する面の
コーナ部の曲率を０．６ｍｍ以上にしてボートを形成す
るとスリップ（転位）の発生が抑制されることが確認さ
れた。また、従来のボートにおいては、ウェーハの裏面
側から発生したスリップがウェーハの表面側に至るスリ
ップも見受けられたが、曲率を０．６ｍｍ以上にした場
合には、ウェーハの裏面側にスリップが発生しても表面
側にまで至るようなことはなくなった。
ーハと接触するコーナ部分１１ｂ〜１４ｂを種々の曲率
半径としたものを作成した。これを図７及び図８に示
す。両図において、図１５と対応する部分には同一符号
を付し、かかる部分の説明は省略する。これ等のボート
に２００ｍｍφのウェーハを載置し、前述した縦型熱処
理炉によってウェーハに所定の熱処理を行った。熱処理
されたウェーハの転位の発生状態をＸ線トポグラフィに
よって観察した。その結果を図１０に示す。同図におい
て、横軸はコーナの曲率半径を、縦軸は生じた転位（ス
リップ）の長さを表している。ウェーハを載置する面の
コーナ部の曲率を０．６ｍｍ以上にしてボートを形成す
るとスリップ（転位）の発生が抑制されることが確認さ
れた。また、従来のボートにおいては、ウェーハの裏面
側から発生したスリップがウェーハの表面側に至るスリ
ップも見受けられたが、曲率を０．６ｍｍ以上にした場
合には、ウェーハの裏面側にスリップが発生しても表面
側にまで至るようなことはなくなった。
【００５３】なお、ウェーハの載置面の形状は図７及び
図８（Ａ）に示す断面方向においてのみならず、図８
（Ｂ）に示すように、ウェーハ載置面１１ａの上面から
見たコーナにも曲率を設けることとしても良い。図９
は、ウェーハ載置面１４ａのコーナ部が１４ｂが三次元
の曲面を持つ場合を示している。
図８（Ａ）に示す断面方向においてのみならず、図８
（Ｂ）に示すように、ウェーハ載置面１１ａの上面から
見たコーナにも曲率を設けることとしても良い。図９
は、ウェーハ載置面１４ａのコーナ部が１４ｂが三次元
の曲面を持つ場合を示している。
【００５４】図１１及び図１２は、それぞれ図３（Ｂ）
及び図４（Ｂ）のウェーハ２１をサセプタ３１に載置す
る前述の実施の形態に適用した例を示している。サセプ
タの載置面をウェーハの撓みに応じた傾斜面とする代わ
りに、載置面３１ａのコーナが所定の曲率半径、例え
ば、０．６ｍｍ以上の曲率半径を持つサセプタとする。
この実施の形態によっても上記実施の形態と同様に、載
置面のコーナに起因するスリップ発生の抑制、ガス流の
乱れによる温度差に起因するスリップやＯＳＦ発生等の
不具合の解消が可能となる。
及び図４（Ｂ）のウェーハ２１をサセプタ３１に載置す
る前述の実施の形態に適用した例を示している。サセプ
タの載置面をウェーハの撓みに応じた傾斜面とする代わ
りに、載置面３１ａのコーナが所定の曲率半径、例え
ば、０．６ｍｍ以上の曲率半径を持つサセプタとする。
この実施の形態によっても上記実施の形態と同様に、載
置面のコーナに起因するスリップ発生の抑制、ガス流の
乱れによる温度差に起因するスリップやＯＳＦ発生等の
不具合の解消が可能となる。
【００５５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のボートを
使用することによって、ウェーハを水平に載置して熱処
理を行う従来の場合に比べて、ウェーハの撓みとボート
溝に起因してウェーハに生じるスリップの発生を減少す
ることが可能となる。これは特にウェーハの降伏応力が
小さくなる１０００℃以上の高温熱処理で効果的であ
る。
使用することによって、ウェーハを水平に載置して熱処
理を行う従来の場合に比べて、ウェーハの撓みとボート
溝に起因してウェーハに生じるスリップの発生を減少す
ることが可能となる。これは特にウェーハの降伏応力が
小さくなる１０００℃以上の高温熱処理で効果的であ
る。
【００５６】また、本発明の載置面の傾斜あるいは曲面
によるスリップ発生の抑制とガス流の回り込み防止とが
図られたサセプタを使用するボートでは、更にウェーハ
近傍へのガスの回り込みも抑制されてＯＳＦが減少して
好ましい。
によるスリップ発生の抑制とガス流の回り込み防止とが
図られたサセプタを使用するボートでは、更にウェーハ
近傍へのガスの回り込みも抑制されてＯＳＦが減少して
好ましい。
【図１】本発明の自重により撓むウェーハを面接触で載
置するボートを説明する説明図である。
置するボートを説明する説明図である。
【図２】関係式の導出を説明する説明図である。
【図３】ウェーハの載置面がウェーハの撓みに応じた傾
斜となり、更にウェーハを囲む壁を有するサセプタを介
してウェーハをボートに載置する例を説明する説明図で
ある。
斜となり、更にウェーハを囲む壁を有するサセプタを介
してウェーハをボートに載置する例を説明する説明図で
ある。
【図４】ウェーハの載置面がウェーハの撓みに応じた傾
斜となり、更にウェーハよりも一回り径の大きいサセプ
タを介してウェーハをボートに載置する例を説明する説
明図である。
斜となり、更にウェーハよりも一回り径の大きいサセプ
タを介してウェーハをボートに載置する例を説明する説
明図である。
【図５】ウェーハを載置したサセプタをボードに組み合
わせる例を示す説明図である。
わせる例を示す説明図である。
【図６】ウェーハを載置する載置部を球状とした場合の
球半径と剪断応力との関係を示すグラフである。
球半径と剪断応力との関係を示すグラフである。
【図７】本発明の自重により撓むウェーハを曲面接触で
載置するボートの例を説明する説明図である。
載置するボートの例を説明する説明図である。
【図８】本発明の自重により撓むウェーハを曲面接触で
載置するボートの他の例を説明する説明図である。
載置するボートの他の例を説明する説明図である。
【図９】本発明の自重により撓むウェーハを曲面接触で
載置するボートの例を説明する斜視図である。
載置するボートの例を説明する斜視図である。
【図１０】ウェーハを曲面に載置した場合の載置面の曲
率半径と発生するスリップの長さとの関係を示すグラフ
である。
率半径と発生するスリップの長さとの関係を示すグラフ
である。
【図１１】ウェーハを載置する載置台の載置面のコーナ
を曲面で形成した例を示す説明図である。
を曲面で形成した例を示す説明図である。
【図１２】ウェーハを載置する載置台の載置面のコーナ
を曲面で形成した他の例を示す説明図である。
を曲面で形成した他の例を示す説明図である。
【図１３】従来のボートと本願のボートとを用いた場合
の結果を説明する説明図である。
の結果を説明する説明図である。
【図１４】従来のボートを説明する説明図である。
【図１５】従来のボートにおける不具合の発生を説明す
る説明図である。
る説明図である。
【図１６】ウェーハに発生するスリップを説明する説明
図である。
図である。
【図１７】従来のボートにおける不具合の発生を説明す
る説明図である。
る説明図である。
【図１８】縦型熱処理炉の例を説明する説明図である。
【図１９】縦型炉用熱処理ボートの例を示す説明図であ
る。
る。
１ 熱処理炉 ２ 反応室 ３ ヒータ ４ ボート ５ ガス導入管 ６ ガス排出管 １１〜１４ ボートの支柱（ロッド） １１ａ，１４ａ ウェーハ載置面 １１ｂ〜１４ｂ ウェーハ載置面のコーナ部 １１ｃ 支持柱の溝部 １５ 支持柱連結部材 ２１ ウェーハ ２１ａ スリップ ２１ｂ ＯＳＦ ３１ サセプタ ３１ｃ 囲み壁 ４０ ガス流 ４０ａ ガス流の回り込み
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｈ０１Ｌ 21/205 Ｈ０１Ｌ 21/205
Claims (12)
- 【請求項１】複数の支柱とこれ等の支柱同士を連結する
連結部と、 各支柱の同じ高さ位置に配設されてウェーハを載置する
複数のウェーハ載置部と、を備える熱処理用ボートであ
って、 各ウェーハ載置部は、前記ウェーハの撓みに対応した傾
斜面を有し、この傾斜面上に前記ウェーハを載置する、 ことを特徴とする熱処理用ボート。 - 【請求項２】複数の支柱とこれ等の支柱同士を連結する
連結部と、 各支柱の同じ高さ位置に配設されてウェーハを載置する
複数のウェーハ載置部と、を備える熱処理用ボートであ
って、 各ウェーハ載置部は、所定の曲率を有する曲面を有し、
この曲面上に前記ウェーハを載置する、 ことを特徴とする熱処理用ボート。 - 【請求項３】ウェーハを水平に載置する環状または円弧
状のウェーハ載置台を上下方向に１つ又は複数保持する
熱処理用ボートであって、 前記ウェーハ載置台は、前記ウェーハの撓みに対応した
傾斜面を有し、この傾斜面上に前記ウェーハを載置す
る、 ことを特徴とする熱処理用ボート。 - 【請求項４】ウェーハを水平に載置する環状または円弧
状のウェーハ載置台を上下方向に１つ又は複数保持する
熱処理用ボートであって、 前記ウェーハ載置台は、所定の曲率を有する曲面を有
し、この曲面上に前記ウェーハを載置する、 ことを特徴とする熱処理用ボート。 - 【請求項５】前記ウェーハ載置部または前記ウェーハ載
置台の傾斜面の傾斜角度αは、ウェーハの半径をＲ、そ
の自重による撓み量ｄから、ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝
１の関係によって定められる、ことを特長とする請求項
１または３記載の熱処理用ボート。 - 【請求項６】前記所定の曲率は、曲率半径が０．５ｍｍ
以上である、ことを特長とする請求項２または４記載の
熱処理用ボート。 - 【請求項７】前記ウェーハ載置台は、前記ウェーハの外
縁を一周する囲み壁を有する、ことを特徴とする請求項
３乃至６のいずれかに記載の熱処理用ボート。 - 【請求項８】前記ウェーハ載置台は、熱処理の際に載置
台周縁に生じるガス流の乱れが前記ウェーハの外側に位
置するように定められた、前記ウェーハよりも大きい外
径を有する、 ことを特徴とする請求項３乃至７のいずれかに記載の熱
処理用ボート。 - 【請求項９】上下に隣接するウェーハ載置台相互間の隙
間が狭く設定され、ウェーハへのガス流の回り込みが抑
制される、 ことを特徴とする請求項７または８記載の熱処理用ボー
ト。 - 【請求項１０】前記ウェーハ載置台が分割可能に形成さ
れる、 ことを特徴とする請求項３乃至８のいずれかに記載の熱
処理用ボート。 - 【請求項１１】ウェーハを水平に載置する環状のウェー
ハ載置台を上下方向に複数保持する熱処理用ボートであ
って、 前記ウェーハ載置台は、前記ウェーハの外縁を一周する
囲み壁を有する、ことを特徴とする熱処理用ボート。 - 【請求項１２】半径Ｒのウェーハについて、その自重に
よる撓み量ｄを求める過程と、 ｃｏｓα＋（ｄ／Ｒ）α＝１ の関係より、傾斜角度α
を求める過程と、 水平方向に対して傾斜角度α若しくはこの近傍値の傾き
のウェーハ載置面を持つボートを選択する過程と、 選択されたボートにウェーハを載置して熱処理を行う過
程と、 を含むウェーハの熱処理方法。
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| JP5974296A JPH09251961A (ja) | 1996-03-15 | 1996-03-15 | 熱処理用ボート |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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|---|---|
| JPH09251961A true JPH09251961A (ja) | 1997-09-22 |
Family
ID=13121995
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP5974296A Pending JPH09251961A (ja) | 1996-03-15 | 1996-03-15 | 熱処理用ボート |
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