JPH09253416A

JPH09253416A - 風呂水浄化装置

Info

Publication number: JPH09253416A
Application number: JP8069727A
Authority: JP
Inventors: Akitoshi Sugimoto; 本昭壽杉
Original assignee: Atlus Co Ltd
Current assignee: Atlus Co Ltd
Priority date: 1996-03-26
Filing date: 1996-03-26
Publication date: 1997-09-30

Abstract

(57)【要約】【課題】高度な濾過が可能で、高度に浄化された浄化済
風呂水が得られる多孔質セラミックフィルタを用いた風
呂水浄化装置であって、逆洗直後であっても装置が有す
る所定能力通りに風呂水を高度に浄化することができ、
常に清潔な２４時間風呂を実現できる風呂水浄化装置を
提供する。【解決手段】風呂水を濾過する多孔質セラミックフィル
タと、多孔質セラミックフィルタで濾過された風呂水の
殺菌手段と、殺菌された風呂水を浄化する吸着浄化手段
と、風呂水を移送するポンプと、多孔質セラミックフィ
ルタの洗浄手段と、吸着浄化手段の下部に位置する多孔
質セラミックフィルタ洗浄用の浄化済風呂水の貯槽部と
を有することにより、前記課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆる２４時間
風呂に好適に利用される風呂水浄化装置の技術分野に属
する。

【０００２】

【従来の技術】自宅でいつでも風呂に入れる快適な生活
や、水やガスの節約等を目的として、いわゆる２４時間
風呂が注目されており、これを実現するための家庭用の
風呂水浄化装置が各種開発され、販売されている。この
風呂水浄化装置は、通常、風呂水を粗濾過して髪の毛や
ごみ等を除去するプレフィルタ、風呂水を高度に濾過し
てアカや油分等を除去するフィルタ、紫外線やオゾン等
を用いる殺菌手段、脱臭や有機質等の除去を行う吸着浄
化手段、風呂水を所定温度に保つためのヒータ（加熱
器）等が適宜組み合わされて構成されており、浴槽の水
を汲み上げ、浄化装置で浄化してヒータで加熱して浴槽
に戻す、すなわち風呂水を循環して浄化・加熱すること
により、常に一定温度で清潔な風呂を実現している。

【０００３】風呂水浄化装置に用いられるフィルタに
は、前述のようにアカや油分等を風呂水から除去できる
程度の高度な性能が要求され、多孔質セラミックフィル
タや活性炭フィルタなどの高性能な濾過手段が用いられ
るのが通常であるが、当然のことながら、これらのフィ
ルタには、使用と共に風呂水から分離された不純物が堆
積し、次第に濾過能力が低減する。従って、風呂水浄化
装置では、所定の能力を安定して発揮するためには、フ
ィルタを定期的に洗浄する必要がある。また、これに応
じて、フィルタの自動洗浄機能を有する風呂水浄化装置
も多数市販されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ユーザ（サービスマ
ン）が手作業でフィルタを洗浄する場合を除き、通常
は、このようなフィルタの洗浄は逆洗、すなわち、定常
の濾過方向と逆方向に洗浄水を流すことにより、フィル
タ表面に堆積した不純物を剥して除去する方法により行
われている。ここで、洗剤等を用いて逆洗を行うと、逆
洗後に風呂水浄化装置に残存する洗剤の除去に手間がか
かるため、フィルタ逆洗の洗浄水としては、浴槽内にあ
る風呂水を汲み上げて使用するのが通常である。

【０００５】ところが、浴槽内の風呂水は必ずしも清浄
であるとはいえず、このようなフィルタの洗浄方法で
は、浄化済の風呂水が通過する経路内に、浴槽内の汚れ
た風呂水が残存し、また浴槽内の夾雑物が付着して、浄
化済の風呂水が通過する経路を汚染してしまう。そのた
め、浄化済の風呂水に未浄化の風呂水が混入し、また夾
雑物が混入して風呂水の水質が低下してしまい、特にフ
ィルタ逆洗直後には、得られる浄化済風呂水の水質低下
が大きいという問題がある。

【０００６】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解決することにあり、高度な濾過が可能で、高度に浄化
された浄化済風呂水が得られる多孔質セラミックフィル
タを用いた風呂水浄化装置であって、逆洗直後であって
も装置が有する所定能力通りに風呂水を高度に浄化する
ことができ、常に清潔な２４時間風呂を実現できる風呂
水浄化装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、風呂水を濾過する多孔質セラミックフィ
ルタと、前記多孔質セラミックフィルタで濾過された風
呂水を殺菌処理する殺菌手段と、前記殺菌手段で処理さ
れた風呂水を浄化する吸着浄化手段と、風呂水を移送す
るポンプと、前記多孔質セラミックフィルタの洗浄手段
と、前記吸着浄化手段の下部に位置する前記多孔質セラ
ミックフィルタ洗浄用の浄化済風呂水の貯槽部とを有す
ることを特徴とする風呂水浄化装置を提供する。

【０００８】また、径の大きなものが小さなものを内包
して配置された半径の異なる円筒によって仕切られた、
互いに液密に分離される少なくとも３つの空間を有し、
最内部の空間に前記ポンプが配置され、前記ポンプが配
置される空間の外側の空間に前記多孔質セラミックフィ
ルタが配置され、前記多孔質セラミックフィルタが配置
される空間の外側の空間に前記吸着浄化手段と複数の前
記殺菌手段とが配置されるのが好ましい。

【０００９】また、前記殺菌手段と吸着浄化手段とが配
置される空間が上方が開放する堰で２つに分離され、分
離された一方の空間に前記吸着浄化手段および前記貯槽
部が位置し、かつ、分離された他方の空間に前記多孔質
セラミックフィルタで濾過された風呂水が流入されるの
が好ましい。

【００１０】また、前記本発明の風呂水浄化装置におい
て、さらに、前記殺菌手段と吸着浄化手段とが配置され
る空間の一部を仕切って、風呂水の加熱手段が配置され
るのが好ましい。

【００１１】さらに、前記本発明の風呂水浄化装置にお
いて、前記多孔質セラミックフィルタの濾過助剤層を形
成する手段を有するのが好ましい。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の風呂水浄化装置に
付いて、添付の図面に示される好適実施例を基に詳細に
説明する。

【００１３】図１に示される本発明の風呂水浄化装置１
０（以下、浄化装置１０とする）は、浴槽１２内の風呂
水を循環して浄化・加熱する装置であって、基本的に、
浄化部１４と、加熱装置１６と、濾過助剤供給部１８
と、各部位を接続する配管とを有して構成される。

【００１４】浄化部１４は、図１に示されるように、互
いに分離して液密に保たれる３つの空間、すなわち図１
中左から、ポンプ部２０、濾過部２２および殺菌・吸着
部２４を有する。

【００１５】ポンプ部２０内には、浄化装置１０におけ
る水の移送を行うポンプ２６が配置されている。ポンプ
２６の入り口（吸入口）には、浴槽１２の流出口に接続
される流入ライン２８が接続されおり、ポンプ２６は、
浴槽１２の風呂水を汲み上げてポンプ部２０内に吐出す
る。流入ライン２８の途中には、髪の毛やゴミ等の大き
な不純物を取り除くためのプレフィルタ３０、およびバ
ルブ３２が配置されている。また、ポンプ部２０には、
ポンプ２６から吐出された風呂水を流出する流出ライン
３４が接続されている。なお、ポンプ部２０（後述する
殺菌・吸着部２４も同）には、必要に応じて内部の水を
排出する排出手段（図示せず）が接続されている。

【００１６】濾過部２２は、多孔質セラミックフィルタ
３６を用いて風呂水を高度に濾過する部分である。多孔
質セラミックフィルタ（以下、セラミックフィルタとす
る）は、微細な孔を３次元的に有するものであり、浮遊
金属塩類、油分、汚れなどの有機物、不純物、細菌など
の微細粒子、例えば０．２５μｍ〜１μｍ程度の微細粒
子まで濾過することができる。そのため、セラミックフ
ィルタ３６を用いる本発明の浄化装置１０は、極めて高
度な風呂水の浄化が可能である。

【００１７】図示例の浄化装置１０において、セラミッ
クフィルタ３６は中心に貫通孔を有する円筒形状を有
し、貫通孔の底部が濾過部２２の床面（あるいは所定の
閉塞部材）で閉塞された状態で濾過部２２内に固定され
ている。また、セラミックフィルタ３６の上部は閉塞部
材３６ａによって閉塞されている。後に詳述するが、図
示例においては、浄化される風呂水は、外壁面から流入
して貫通孔に至るようにセラミックフィルタ３６の側壁
を通過することにより、セラミックフィルタ３６によっ
て高度に濾過され、アカや油分等の夾雑物を取り除かれ
る。

【００１８】濾過部２２内には、上方が開放する堰３８
が設置されており、セラミックフィルタ３６が配置され
る空間と、セラミックフィルタ３６が配置されていない
空間とに、濾過部２２内を分けている。堰３８で仕切ら
れたセラミックフィルタ３６が配置されていない空間に
は、前述のポンプ部２０からの流出ライン３４に接続さ
れる流入ライン４０が接続され、ポンプ２６が吐出した
水を濾過部２２内に流入する。流入ライン４０にはバル
ブ４１が配置される。また、セラミックフィルタ３６の
貫通孔内と、後述する殺菌・吸着部２４とを連通するよ
うに、移送ライン４２が形成される。さらに、堰３８で
仕切られたセラミックフィルタ３６が配置されている空
間には、後述する逆洗における排液等を排出するため
の、排出ライン４４が接続される。この排出ライン４４
に配置されるバルブ４６は、逆洗の時以外は、基本的に
閉塞している。

【００１９】殺菌・吸着部２４は、セラミックフィルタ
３６で濾過された風呂水に、殺菌ならびに吸着浄化を行
うものである。図１に示されるように、殺菌・吸着部２
４は、上方が開放する堰４８によって２つの空間に分け
られている。両空間の内、濾過部２２側の空間の上面に
は、紫外線およびオゾン生成源となる紫外線ランプ５０
が配置されており、セラミックフィルタ３６で濾過され
た風呂水は、この空間を通過しつつ、紫外線とオゾンと
によって殺菌される。もう一方の空間には、吸着浄化手
段としての活性炭層５２が配置される。なお、吸着浄化
手段としては、ゼオライトやシリカゲル、これらの混合
または複数使用も好適に利用可能である。

【００２０】図示例の浄化装置１０においては、１つの
紫外線ランプ５０によって紫外線とオゾン生成とを発生
するのに限定はされず、それぞれに専用の紫外線ランプ
を用いて、紫外線とオゾンとを生成してもよい。また、
オゾン生成源は紫外線ランプに限定はされず、公知の方
法が各種利用可能である。また、殺菌手段として紫外線
とオゾンとを併用するのにも限定はされず、いずれか一
方のみで殺菌手段としてもよく、あるいは、紫外線やオ
ゾン以外の殺菌手段を用いてもよい。

【００２１】前述のように、殺菌・吸着部２４の他方の
空間には、活性炭層５２が配置されている。活性炭層５
２は、セラミックフィルタ３６で濾過しきれなかった夾
雑物や細菌、殺菌によって生成した有機質（細菌の死骸
など）を吸着除去し、かつ風呂水を脱臭して、最終的に
浄化された風呂水とするものである。ここで、図示例の
浄化装置１０においては、水は通過するが活性炭は通過
しないフィルタ材５４を用いて、堰４８によって形成さ
れた活性炭層５２側の空間を上下に分け、このフィルタ
材５４の上に活性炭層５２を充填することにより吸着浄
化手段を形成し、フィルタ材５４の下の空間を貯槽部５
６としている。

【００２２】後に詳述するが、セラミックフィルタ３６
によって濾過された風呂水は、紫外線ランプ５０側の空
間から殺菌・吸着部２４に流入し、堰４８を超えて上方
から活性炭層５２に流入、通過して、最終的に浄化され
た風呂水となって浴槽１２に戻される。従って、活性炭
層５２の下方に位置する貯槽部５６には、常に浄化され
た水が貯槽された状態となっている。本発明の浄化装置
１０は、この活性炭層５２（すなわち吸着浄化手段）の
下方に貯槽部５６を形成し、ここに貯槽された水をセラ
ミックフィルタ３６の洗浄（図示例では逆洗）の洗浄水
として用いることにより、前記従来の風呂水浄化装置が
有している、逆洗による装置内部の汚染を防止し、逆洗
直後であっても、風呂水を所定の状態に浄化することを
可能にしたものである。また、この構成を有することに
より、装置内の空間を無駄にすること無く、洗浄用の浄
化済風呂水を貯槽することができる。

【００２３】前述したセラミックフィルタ３６の貫通孔
と殺菌・吸着部２４の内部とを連通する移送ライン４２
は、殺菌・吸着部２４の内部に連通する前に、ライン４
２ａおよびライン４２ｂに分岐される。このライン４２
ａは、バルブ５８を介して殺菌・吸着部２４の紫外線ラ
ンプ側の空間に連通し、ライン４２ｂは、バルブ６０お
よび６２を介して貯槽部５６に連通する。

【００２４】また、貯槽部５６には、活性炭層５２で浄
化された風呂水を浴槽１２に戻す戻りライン６４が接続
される。ここで、戻りライン６４の途中には、バルブ６
６が配置され、戻りライン６４には、このバルブ６６と
並列に加熱装置１６が接続される。

【００２５】加熱装置１６は、コントロールバルブ６
８、熱交換器７０、バルブ７２および７４から構成さ
れ、コントロールバルブ６８によってバルブ６６よりも
貯槽部５６側で戻りライン６４から分岐し、バルブ７
２、熱交換器７０、バルブ７４を経て、バルブ６６より
も浴槽１２側で戻りライン６４に合流する。図示例の浄
化装置１０においては、コントロールバルブ６８におい
て浴槽１２に戻る風呂水の温度を測定して、加熱装置１
６に流入する水量と戻りライン６４を進行する水量とを
調節し、分岐されて加熱装置１６に流入した水を熱交換
器７０で加熱して再度戻りライン６４に合流することに
より、浄化済風呂水を所定温度として、浴槽１２内の風
呂水温度を所定温度に保つ。なお、本発明の浄化装置に
おいて、風呂水の加熱方法はこれに限定はされず、熱交
換器における加熱温度を調整して水温を所定温度に保つ
方法等、公知の水温調整方法が各種利用可能である。

【００２６】また、戻りライン６４には、加熱装置１６
よりも浴槽１２よりにバルブ７６が配置され、このバル
ブ７６と加熱装置１６との間から分岐されて、前述の流
入ライン２８に接続するバイパスライン７８が接続され
る。このバイパスライン７８には、バルブ８０が配置さ
れる。さらに、戻りライン６４は、加熱装置１６よりも
貯槽部５６よりにおいて、バルブ８２を有するライン８
４で前述の流出ライン３４に接続される。

【００２７】図示例の浄化装置１０は、好ましい態様と
して、濾過助剤供給部１８を有するものである。前述の
ように、セラミックフィルタ３６は極めて微細な濾過空
間（孔）を有するため、これを直接用いて風呂水を濾過
すると、この微細な孔が閉塞して、処理能力が次第に低
減すると共に、甚だしい場合には、高価なセラミックフ
ィルタ３６が再生不可能になってしまう。そのため、セ
ラミックフィルタ３６の外壁面に濾過助剤層を形成し
て、この濾過助剤層を通して風呂水をセラミックフィル
タ３６に流入することにより、セラミックフィルタ３６
そのものが目詰まりすることを防止すると共に、後述す
るセラミックフィルタ３６の逆洗による洗浄効果を、よ
り良好なものとする。

【００２８】濾過助剤供給部１８は、前述の移送ライン
４２のライン４２ｂに、バルブ６２と並列に接続され
る。この濾過助剤供給部１８は、助剤槽８６、供給部８
８、バルブ９０を有し供給部８８の出口とライン４２ｂ
のバルブ６２より貯槽部５６側とを接続する供給ライン
９２、およびバルブ９４を有し供給部８８の流入口とラ
イン４２ｂのバルブ６２よりバルブ６０側とを接続する
押出ライン９６を有する。

【００２９】濾過助剤は、助剤槽８６に充填されてい
る。濾過助剤としては、珪藻土や石灰などの粉末状濾過
助剤、セルロース、パルプ繊維、アスベスト等の繊維状
濾過助剤、タンパク質の選択的除去が可能なシリカゲル
等、公知の材料が各種利用可能である。また、繊維状濾
過助剤を下層（セラミックフィルタ３６の表面に形成）
とし、粉末状濾過助剤を上層にする等、複数の濾過助剤
を用いてもよい。供給部８８は、濾過助剤層の形成に用
いる濾過助剤の量に応じた所定容積の充填空間を有し、
前述のように、この充填空間の出口には供給ライン９２
が、流入口には押出ライン９６が、それぞれ接続されて
いる。また、この充填空間には、助剤槽８６から濾過助
剤を搬送・充填する粉末用（あるいはゲル用）ポンプが
配置される。すなわち、図示例の濾過助剤供給部１８で
は、このポンプと充填空間とによって助剤槽８６から濾
過助剤を定量切り出しする。

【００３０】図示例の浄化装置１０においては、ポンプ
部２０、濾過部２２および貯槽部５６を含む所定の経路
で風呂水を循環しておき、バルブ６２を閉塞、バルブ９
０および９４を開放することによって、供給部８８内の
濾過助剤をこの循環経路に供給し、セラミックフィルタ
３６の外壁面に濾過助剤層を形成する。この濾過助剤層
の形成方法については、後に詳述する。

【００３１】風呂水の浄化を行うにしたがって、セラミ
ックフィルタ３６（濾過助剤層）の表面には濾滓が体積
して、セラミックフィルタ３６の濾過および浄化能力が
低減する。そのため、定期的にセラミックフィルタ３６
の洗浄を行う必要があり、図示例の浄化装置１０におい
ては、洗浄水（本発明においては、貯槽部５６内の浄化
済風呂水）と空気とを混合したジェット水流を用いた逆
洗によってセラミックフィルタ３６の洗浄を行う。

【００３２】図示例の浄化装置１０においては、流出ラ
イン３４と移送ライン４２とを接続して、バルブ９８と
ジェットノズル１００を有する逆洗ライン１０２が配置
される。ジェットノズル１００は、流路が急激に絞り込
まれるノズル部分と、このノズル部分に空気導入ノズル
を有する、いわゆるエゼクタであって、ノズル部分でポ
ンプ２６によって流出ライン３４から流入された洗浄液
の流速を急激に増大すると共に、その速度変化によって
生じる吸引力によって空気導入ノズルから空気を導入し
て洗浄液に混入し、高速流のジェット水流を生成する。
図示例の装置においては、このジェット水流を移送ライ
ン４２からセラミックフィルタ３６の貫通孔内に噴射
し、壁面を通過させてセラミックフィルタ３６の外部ま
で流すことにより、外壁面に付着した濾滓を濾過助剤層
ごと除去し、セラミックフィルタ３６の洗浄を行う。

【００３３】本発明の浄化装置１０において、ジェット
水流の生成方法は上記エゼクタを用いる方法に限定はさ
れず、コンプレッサ等を用いて高速流にされた洗浄液中
に高圧空気を吹き込んでジェット水流を生成する方法
等、公知の方法が各種利用可能である。また、ジェット
水流を用いず、洗浄液のみで逆洗を行ってもよいが、洗
浄効果を考慮すると、ジェット水流を用いるのが好まし
い。さらに、より高度な洗浄を行うために、セラミック
フィルタ３６の外壁面にシャワーを吹き掛けるシャワー
ノズルを濾過部２２内に配置し、逆洗とシャワー洗浄と
を併用してもよい。あるいはシャワー洗浄のみでセラミ
ックフィルタ３６の洗浄を行ってもよいが、やはり逆洗
を併用するのが好ましい。なお、このようなセラミック
フィルタ３６の洗浄は、稼動時間等に応じて浄化装置１
０が自動的に行ってもよく、警告ランプ等の点灯やユー
ザの判断によってユーザが指示を出すことで行ってもよ
い。

【００３４】本発明にかかる浄化装置１０は、基本的に
上記構成を有するものであるが、以下、風呂水の循環浄
化、セラミックフィルタ３６の逆洗、および濾過助剤層
の形成の作用について説明する。

【００３５】浄化装置１０においては、ポンプ２６によ
って浴槽１２と浄化装置１０との間で風呂水を循環しつ
つ、セラミックフィルタ３６による濾過、紫外線ランプ
５０による殺菌、活性炭層５２による吸着浄化を順次行
うことにより、風呂水を浄化して浴槽１２内の風呂水を
清浄に保つ。

【００３６】図示例の浄化装置１０においては、風呂水
の循環浄化時（すなわち、通常の作動時）には、バルブ
３２，４１，５８，６６，７２，７４および７６が開放
され、それ以外のバルブはすべて閉塞されている。この
状態で、浴槽１２内の風呂水は、ポンプ２６によって汲
み上げられ、プレフィルタ３０によって髪の毛等の大き
な異物を濾別され、流入ライン２６からポンプ部２０内
に充填される。ポンプ部２０に流入した風呂水は、流出
ライン３４および流入ライン４０を経て濾過部２２内の
セラミックフィルタ３６が配置されていない空間に流入
し、堰３８をオーバーフローしてセラミックフィルタ３
６が配置される空間に流入して濾過部２２内に充填さ
れ、セラミックフィルタ３６の外壁面（濾過助剤層）か
ら流入して側壁を通過して貫通孔に至ることにより、高
度に濾過される。

【００３７】セラミックフィルタ３６で濾過された風呂
水は、セラミックフィルタ３６の貫通孔に連通する移送
ライン４２からライン４２ａを経て殺菌・吸着部２４の
紫外線ランプ５０側に流入し、紫外線およびオゾンで殺
菌されつつ堰４８をオーバーフローして、上部から活性
炭層５２に流入し、通過することで残存する夾雑物を取
り除かれ、かつ脱臭されて、高度に浄化された風呂水と
され、貯槽部５６に充填され、戻りライン６４に流入す
る。戻りライン６４に流入した浄化済風呂水は、その水
温に応じてコントローラ６８によって加熱装置１６に流
入する水量が調整され、熱交換器７０で加熱された風呂
水と非加熱の風呂水とが合流することで所定温度の風呂
水とされ、バルブ７６を通過して浴槽１２に戻される。

【００３８】一方、セラミックフィルタの逆洗を行う際
には、まず、バルブ８２，６６および８０を開放し、そ
れ以外をすべて閉塞してポンプ２６を駆動させる。従っ
て、系内の風呂水は、ポンプ２６→流出ライン３４→ラ
イン８４→戻りライン６４→バイパスライン７８→流入
ライン２８→ポンプ２６の所定の経路を循環される。

【００３９】循環を続け、ポンプ２６による風呂水の移
送流速が最大になった時点で、バルブ８２を閉塞し、同
時に逆洗ライン１０２のバルブ９８、および排出ライン
４４のバルブ４６を開放する。これにより、前記循環が
終了すると共に貯槽部５６内の浄化済風呂水が戻りライ
ン６４に供給され、ポンプ２６によって、バイパスライ
ン７８から流入ライン２８を移送されて逆洗ライン１０
２流入し、ジェットノズル１００によって前述のように
高速流のジェット水流とされる。生成されたジェット水
流は、移送ライン４２からセラミックフィルタ３６の貫
通孔内に噴射され、側壁を通過して外部に至ることによ
り、セラミックフィルタ３６の外壁面に付着する濾滓お
よび濾過助剤を除去する。セラミックフィルタ３６から
除去された濾滓および濾過助剤、ならびに洗浄水は、排
出ライン４４から浄化装置１０の外部に排出され、排液
とされる。なお、以上の逆洗においては、洗浄液として
貯槽部５６内の浄化済風呂水を用いているので、前記従
来の装置が有する逆洗による汚染がないのは前述のとお
りである。

【００４０】浄化装置１０において、セラミックフィル
タ３６表面への濾過助剤層の形成は、以下のようにして
行われる。まず、バルブ６６，８０，４１，６０および
６２を開放し、これ以外のバルブをすべて閉塞して、ポ
ンプ２６を駆動する。これにより、系内の水は、貯槽部
５６→戻りライン６４→バイパスライン７８→流入ライ
ン２８→ポンプ２６→流出ライン３４→流入ライン４０
→セラミックフィルタ３６（濾過部２２）→移送ライン
４２→ライン４２ｂ→貯槽部５６の所定経路を循環す
る。一方で、濾過助剤供給部１８において、助剤層８６
から供給部８８に、所定量の濾過助剤を充填しておく。

【００４１】前記循環を行いつつ、バルブ６２を閉塞し
て、同時にバルブ９０および９４を開放する。これによ
り、貯槽部５６に戻る風呂水は、押出ライン９６から供
給部８８に流入し、供給部８８内の濾過助剤を混入して
供給ライン９２を経てライン４２ｂに流入する。すなわ
ち、風呂水は、濾過助剤と共に前述の循環経路（供給部
８８を含む）を循環する。ここで、この循環経路では、
前記循環浄化時と同様にセラミックフィルタ３６の外壁
面から貫通孔に至るように風呂水が循環しているので、
風呂水内に混入された濾過助剤はセラミックフィルタ３
６の外壁面で補足され、循環を進行するに従って濾過助
剤層が形成される。

【００４２】図２に、本発明の風呂水浄化装置の別の例
の概略上面図を示す。なお、図２に示される風呂水浄化
装置１１０においては、ポンプ２６やセラミックフィル
タ３６等の部材は図１に示される例と同様であるので、
同じ部材には同じ符号を付し、説明は異なる部分を主に
行う。また、図２に示される風呂水浄化装置１１０にお
いても、風呂水の循環浄化、セラミックフィルタ３６の
逆洗および濾過助剤層の形成、および、これらの各操作
における風呂水や洗浄液の流れは、基本的に前記浄化装
置１０と同様に行われる。従って、図２に示される風呂
水浄化装置１１０にも、基本的に図１に示される浄化装
置１０と同様に各部位を接続する配管が配置されてい
る。

【００４３】図２に示される風呂水浄化装置１１０（以
下、浄化装置１１０とする）は、３つの円筒、すなわち
最大径の円筒１１２、円筒１１２に内包される円筒１１
４、および円筒１１４に内包される円筒１１６を有し、
各円筒によって互いに液密に仕切られる空間によって、
前記図１に示される浄化装置１０と同様の、ポンプ部１
１８、濾過部１２０および殺菌・浄化部１２２を形成す
る。なお、図示例においては、好ましい態様として、各
円筒は軸線を一致させて配置されている。

【００４４】浄化装置１１０において、最小径の円筒１
１６内の空間はポンプ部１１８であって、その中心に
は、ポンプ２６が配置されており、ポンプ２６の流入口
は浴槽に接続され、浴槽内の風呂水を汲み上げて、ポン
プ部１１８内に充填する。

【００４５】また、円筒１１６と円筒１１４とによって
形成される空間は、濾過部１２０である。図示例の浄化
装置１１０においては、濾過部１２０は、前記浄化装置
１０と同様に上方が開放する堰１２４によって２つの空
間に分けられており、外側の空間を濾過される風呂水の
流入側とし、内側の空間には、４５°間隔で合計８本の
セラミックフィルタ３６が配置されている。なお、セラ
ミックフィルタ３６の数はこれに限定はされず、また、
円筒１１６を内包できる径の円筒状の一本のセラミック
フィルタを用いてもよい。

【００４６】さらに、円筒１１４と最大径の円筒１１２
とによって形成される空間は、殺菌・浄化部１２２であ
る。前記浄化装置１０と同様、殺菌・浄化部１２２は上
方が開放する堰１２６によって仕切られており、内側の
空間には、４５°間隔で合計７本の紫外線ランプ５０が
配置され、外側の空間には、活性炭層５２が形成され
る。また、浄化装置１０と同様にして、活性炭層５２
は、活性炭が通過しないフィルタに載置されており、そ
の下部には、貯槽部５６が形成されているのは言うまで
もない。図示例の浄化装置１１０においては、７本の紫
外線ランプ５０を有するが、この紫外線ランプ５０は、
全てオゾン発生および紫外線殺菌の両者を行うものであ
ってもよく、あるいは、オゾン発生用の紫外線ランプと
紫外線殺菌用の紫外線ランプとを交互に配置してもよ
い。また、図示例の浄化装置１１０においては、装置を
小型化する好ましい態様として、殺菌・浄化部１２２の
一部を仕切って加熱装置１６が配置されている。

【００４７】上記図２に示される浄化装置１１０によれ
ば、逆洗による汚染がなく、しかも多数本のセラミック
フィルタや紫外線ランプを配置した高性能な風呂水浄化
装置を、小型かつ簡易な構成で実現することができ、狭
い浴室であっても、高品位な２４時間風呂を実現するこ
とができる。また、最外部に貯槽部を形成することによ
り、逆洗等に用いる洗浄液も十分に確保することができ
る。

【００４８】以上、本発明の風呂水浄化装置について詳
細に説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本
発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良およ
び変更を行ってもよいのはもちろんである。

【００４９】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
風呂水浄化装置によれば、多孔質セラミックフィルタを
用いた高性能な風呂水浄化装置であって、逆洗による汚
染がなく、逆洗直後であっても装置が有する所定能力通
りに風呂水を高度に浄化することができ、常に清潔な２
４時間風呂を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の風呂水浄化装置の一例の概略図であ
る。

【図２】本発明の風呂水浄化装置の別の例の概略上面図
である。

【符号の説明】

１０，１１０（風呂水）浄化装置１２浴槽１４浄化部１６加熱装置１８濾過助剤供給部２０，１１８ポンプ部２２，１２０濾過部２４，１２２殺菌・吸着部２６ポンプ２８，４０流入ライン３０プレフィルタ３２，４１，４６，５８，６０，６２，６６，７２，７
４，７６，８０，８２，９０，９４，９８バルブ３４流出ライン３６セラミックフィルタ３８，４８，１２４，１２６堰４２移送ライン４４排出ライン５０紫外線ランプ５２活性炭層５４フィルタ材５６貯槽部６４戻りライン６８コントロールバルブ７０熱交換器７８バイパスライン８４ライン８６助剤槽８８供給部９２供給ライン９６押出ライン１００ジェットノズル１０２逆洗ライン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０Ｃ０２Ｆ 1/50 ５２０Ｌ５３１５３１Ｒ５４０５４０Ａ５５０５５０Ｈ５６０５６０Ｂ５６０Ｃ５６０Ｚ 1/78 1/78

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】風呂水を濾過する多孔質セラミックフィル
タと、前記多孔質セラミックフィルタで濾過された風呂
水を殺菌処理する殺菌手段と、前記殺菌手段で処理され
た風呂水を浄化する吸着浄化手段と、風呂水を移送する
ポンプと、前記多孔質セラミックフィルタの洗浄手段
と、前記吸着浄化手段の下部に位置する前記多孔質セラ
ミックフィルタ洗浄用の浄化済風呂水の貯槽部とを有す
ることを特徴とする風呂水浄化装置。
【請求項２】径の大きなものが小さなものを内包して配
置された半径の異なる円筒によって仕切られた、互いに
液密に分離される少なくとも３つの空間を有し、最内部
の空間に前記ポンプが配置され、前記ポンプが配置され
る空間の外側の空間に前記多孔質セラミックフィルタが
配置され、前記多孔質セラミックフィルタが配置される
空間の外側の空間に前記吸着浄化手段と複数の前記殺菌
手段とが配置される請求項１に記載の風呂水浄化装置。
【請求項３】前記殺菌手段と吸着浄化手段とが配置され
る空間が上方が開放する堰で２つに分離され、分離され
た一方の空間に前記吸着浄化手段および前記貯槽部が位
置し、かつ、分離された他方の空間に前記多孔質セラミ
ックフィルタで濾過された風呂水が流入される請求項２
に記載の風呂水浄化装置。
【請求項４】請求項２または３に記載の風呂水浄化装置
において、さらに、前記殺菌手段と吸着浄化手段とが配
置される空間の一部を仕切って、風呂水の加熱手段が配
置される風呂水浄化装置。
【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載の風呂水浄
化装置において、さらに、前記多孔質セラミックフィル
タの濾過助剤層を形成する手段を有する風呂水浄化装
置。