JPH09253992A - Polishing equipment - Google Patents

Polishing equipment

Info

Publication number
JPH09253992A
JPH09253992A JP6361096A JP6361096A JPH09253992A JP H09253992 A JPH09253992 A JP H09253992A JP 6361096 A JP6361096 A JP 6361096A JP 6361096 A JP6361096 A JP 6361096A JP H09253992 A JPH09253992 A JP H09253992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
polished
rotation
polishing tool
vertical axis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6361096A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3192963B2 (en
Inventor
Shoichi Honda
昭一 本田
Katsutsune Tamiya
勝恒 田宮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanadevia Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp, Hitachi Shipbuilding and Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP06361096A priority Critical patent/JP3192963B2/en
Publication of JPH09253992A publication Critical patent/JPH09253992A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3192963B2 publication Critical patent/JP3192963B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の研磨工具を機械的に自転させながら公
転させることにより、高精度の研磨を行うとともに、労
力の低減を図る。 【解決手段】 支持台1にセットされた被研磨物2の上
面に押圧されて被研磨物2を研磨する複数の研磨工具3
が設けられ、各研磨工具3は第1の鉛直軸心4周りに自
転自在な回転軸5の下端に設けられ、各回転軸5を保持
しかつ支持台1に対して昇降自在な保持体6に、各回転
軸5を自転させる自転機構9と、自転機構9を回転駆動
させる自転用モータ10と、各回転軸5を第1の鉛直軸心
4に平行な第2の鉛直軸心11周りに公転させる公転機構
12と、公転機構12を回転駆動させる公転用モータ13とが
設けられている。
(57) [Abstract] [PROBLEMS] To perform highly accurate polishing and reduce labor by revolving a plurality of polishing tools while rotating them mechanically. SOLUTION: A plurality of polishing tools 3 for polishing the object to be polished 2 by being pressed against the upper surface of the object 2 to be polished set on a support table 1.
Each polishing tool 3 is provided at the lower end of a rotating shaft 5 which is rotatable about the first vertical axis 4 and which holds the rotating shaft 5 and is movable up and down with respect to the support 1. In addition, a rotation mechanism 9 that rotates each rotation shaft 5, a rotation motor 10 that drives the rotation mechanism 9 to rotate, and a second vertical axis 11 around each rotation axis 5 that is parallel to the first vertical axis 4. Revolution mechanism that revolves around
An orbiting motor 13 for rotating the orbiting mechanism 12 is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属,ガラス,石
材等の平板状の被研磨物を研磨する際に用いられる研磨
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus used for polishing a flat object to be polished such as metal, glass and stone.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の研磨装置としては図9,
図10に示すように、本体81内に保持された回転軸82の先
端に研磨工具83が取付けられたものがある。本体81に
は、回転軸82を回転駆動させるモータ84が設けられてお
り、研磨工具83の先端面には、研磨材や研磨パットが貼
付されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a polishing apparatus of this type, FIG.
As shown in FIG. 10, there is one in which a polishing tool 83 is attached to the tip of a rotary shaft 82 held in a main body 81. The main body 81 is provided with a motor 84 that rotationally drives the rotary shaft 82, and an abrasive material or a polishing pad is attached to the tip surface of the polishing tool 83.

【0003】これによると、モータ84を駆動させること
によって、回転軸82が回転するとともに研磨工具83が回
転する。そして、作業者は、本体81を持って研磨工具83
を被研磨物85の上面に押圧するとともに、図10に示すよ
うに、中心点Aを中心にして本体81を回動させることに
より、中心点Aの周りに研磨工具83を公転させて研磨し
ていた。
According to this, by driving the motor 84, the rotary shaft 82 rotates and the polishing tool 83 also rotates. Then, the operator holds the main body 81 and the polishing tool 83.
Is pressed against the upper surface of the object to be polished 85, and as shown in FIG. 10, the main body 81 is rotated around the center point A, so that the polishing tool 83 is revolved around the center point A for polishing. Was there.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来形式では、作業者が手動で研磨工具83を公転させる
ため、研磨精度が低いといった問題や労力を要するとい
った問題があった。
However, in the above-mentioned conventional type, since the operator manually revolves the polishing tool 83, there are problems that the polishing accuracy is low and labor is required.

【0005】そこで本発明のうち請求項1記載の発明
は、研磨工具を機械的に自転させながら公転させること
により、高精度の研磨を行うとともに、労力の低減を図
ることを目的としたものである。
Therefore, the invention according to claim 1 of the present invention is intended to perform highly accurate polishing and reduce the labor by revolving the polishing tool while rotating it mechanically. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明のうちで請求項1記載の発明は、被研磨
物を支持する支持部の上方に、この支持部にセットされ
た被研磨物の上面に押圧されて被研磨物を研磨する研磨
工具が設けられ、この研磨工具は第1の鉛直軸心周りに
自転自在な回転軸の下端に設けられ、この回転軸を保持
しかつ上記支持部に対して昇降自在な保持体に、上記回
転軸を自転させる自転機構と、この自転機構を回転駆動
させる自転用駆動装置と、上記回転軸を上記第1の鉛直
軸心に平行な第2の鉛直軸心周りに公転させる公転機構
と、この公転機構を回転駆動させる公転用駆動装置とが
設けられていることを特徴としたものである。
In order to achieve the above-mentioned object, the invention according to claim 1 of the present invention is set above a supporting portion for supporting an object to be polished, and is set to this supporting portion. A polishing tool that is pressed against the upper surface of the object to be polished to polish the object to be polished is provided, and the polishing tool is provided at the lower end of a rotary shaft that is rotatable around the first vertical axis and holds this rotary shaft. In addition, a rotation mechanism that rotates the rotation shaft, a rotation drive device that drives the rotation mechanism to rotate, and a rotation shaft that is parallel to the first vertical axis on a holder that can move up and down with respect to the support portion. It is characterized in that a revolving mechanism that revolves around the second vertical axis and a revolving drive device that rotationally drives this revolving mechanism are provided.

【0007】これによると、自転用駆動装置を作動させ
て自転機構を回転駆動させることにより、回転軸ととも
に研磨工具を第1の鉛直軸心周りに自転させ、さらに、
公転用駆動装置を作動させて公転機構を回転駆動させる
ことにより、回転軸とともに研磨工具を第2の鉛直軸心
周りに公転させる。そして、保持体を下降させて研磨工
具を支持部にセットされた被研磨物の上面に押圧するこ
とにより、研磨工具が自転しながら公転して被研磨物を
研磨する。
According to this, by operating the rotation drive device to rotate the rotation mechanism, the polishing tool is rotated around the first vertical axis together with the rotation axis, and further,
The polishing tool is revolved around the second vertical axis along with the rotation shaft by operating the revolution drive device to rotate the revolution mechanism. Then, by lowering the holding body and pressing the polishing tool against the upper surface of the object to be polished set on the support portion, the polishing tool revolves while revolving around its axis to polish the object to be polished.

【0008】このように、研磨工具を機械的に自転させ
ながら公転させて被研磨物の研磨を行うことが可能にな
るため、高精度の研磨が実施でき、さらに作業者の労力
を低減し得る。
As described above, since it becomes possible to polish the object to be polished by revolving the polishing tool while rotating it mechanically, it is possible to perform highly accurate polishing and further reduce the labor of the operator. .

【0009】さらに、請求項2記載の発明は、自転用駆
動装置として、回転速度を調節可能な自転用モータが使
用され、公転用駆動装置として、回転速度を調節可能な
公転用モータが使用されていることを特徴としたもので
ある。
Further, according to the second aspect of the invention, a rotation motor whose rotation speed is adjustable is used as the rotation drive device, and a revolution motor whose rotation speed is adjustable is used as the revolution drive device. It is characterized by that.

【0010】これによると、自転用モータの回転速度を
調節するとともに公転用モータの回転速度を調節するこ
とにより、研磨工具の自転速度と公転速度とを個別に変
えることが可能となり、被研磨物の上面に形成される研
磨条痕(研磨目)が自由に選定できるため、被研磨物の
材質に対して最適な研磨条痕を選定することができる。
さらに、研磨工具の自転速度と公転速度とを個別に変え
ることにより、被研磨物の中央部と周辺部あるいは研磨
条痕の重なり部等に対しても均一な研磨が可能となる。
According to this, by adjusting the rotation speed of the rotation motor and the rotation speed of the revolution motor, it becomes possible to individually change the rotation speed and the revolution speed of the polishing tool. Since the polishing scratches (polishing marks) formed on the upper surface of the can be freely selected, it is possible to select the optimum polishing scratches for the material of the object to be polished.
Further, by individually changing the rotation speed and the revolution speed of the polishing tool, it is possible to perform uniform polishing even on the central portion and the peripheral portion of the object to be polished, the overlapping portion of the polishing scratches, and the like.

【0011】さらに、請求項3記載の発明は、回転軸の
下端に、上下方向へ移動自在でかつ押圧手段の押圧力に
より下動方向へ押圧されている可動体が設けられ、この
可動体に研磨工具が設けられていることを特徴としたも
のである。
Further, according to a third aspect of the present invention, at the lower end of the rotary shaft, there is provided a movable body which is movable in the vertical direction and is pressed downward by the pressing force of the pressing means. It is characterized in that a polishing tool is provided.

【0012】これによると、研磨工具で被研磨物の上面
を研磨している際、研磨工具は、可動体を介して、押圧
手段の押圧力により下方へ押圧されている。このため、
被研磨物の上面に微妙な高低差がある場合でも、研磨工
具は、可動体を介して、被研磨物の上面の高低差に追従
して上下移動するため、研磨工具は常に被研磨物の上面
に押圧され、研磨工具の被研磨物に対する押圧力をほぼ
一定に保つことができる。したがって、被研磨物の上面
に高低差がある場合でも、スクラッチや研磨むらの発生
を防止することができ、高精度の研磨が行える。
According to this, when polishing the upper surface of the object to be polished with the polishing tool, the polishing tool is pressed downward by the pressing force of the pressing means via the movable body. For this reason,
Even if there is a slight height difference on the top surface of the work piece, the polishing tool moves up and down via the movable body to follow the height difference on the top surface of the work piece. Since the upper surface is pressed, the pressing force of the polishing tool on the object to be polished can be kept substantially constant. Therefore, even if there is a difference in height on the upper surface of the object to be polished, it is possible to prevent the occurrence of scratches and uneven polishing, and it is possible to perform highly accurate polishing.

【0013】さらに、請求項4記載の発明は、研磨工具
に研磨液を供給する供給流路が回転軸内に形成されてい
ることを特徴としたものである。これによると、研磨工
具で被研磨物を研磨している際、研磨液が供給流路を通
って研磨工具に供給されるため、被研磨物の上面の塵埃
や加工屑が研磨液で排除され、研磨工具の目詰りの防止
や研磨工具と被研磨物との間に異物がかみ込むことを防
止できる。さらに、回転軸内に供給流路を形成したこと
により、研磨装置を小型化することができる。
Further, the invention according to claim 4 is characterized in that a supply passage for supplying the polishing liquid to the polishing tool is formed in the rotary shaft. According to this, when the object to be polished is being polished by the polishing tool, the polishing liquid is supplied to the polishing tool through the supply flow path, so that the dust and processing debris on the upper surface of the object to be polished are removed by the polishing liquid. It is possible to prevent clogging of the polishing tool and prevent foreign matter from being caught between the polishing tool and the object to be polished. Further, since the supply passage is formed in the rotary shaft, the polishing device can be downsized.

【0014】さらに、請求項5記載の発明は、研磨工具
は自在継手を介して回転軸の下端に取付けられているこ
とを特徴としたものである。これによると、研磨中に、
研磨工具と被研磨物との間に異物が介入した場合、研磨
工具が第1の鉛直軸心に対し自在継手を介して揺動する
ことによって、異物が研磨工具と被研磨物との間から容
易に排除される。また、被研磨物の上面が微妙に傾斜し
ている場合でも、研磨工具は、第1の鉛直軸心に対し自
在継手を介して揺動することによって、被研磨物の上面
の傾斜に追従して傾斜する。このため、被研磨物の上面
が微妙に傾斜していても、高精度の研磨が行える。
Furthermore, the invention according to claim 5 is characterized in that the polishing tool is attached to the lower end of the rotary shaft through a universal joint. According to this, during polishing,
When a foreign matter intervenes between the polishing tool and the object to be polished, the polishing tool swings with respect to the first vertical axis through the universal joint, so that the foreign matter is removed from between the polishing tool and the object to be polished. Easily eliminated. Even if the upper surface of the object to be polished is slightly inclined, the polishing tool follows the inclination of the upper surface of the object to be polished by swinging with respect to the first vertical axis via the universal joint. Incline. Therefore, even if the upper surface of the object to be polished is slightly inclined, highly accurate polishing can be performed.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図1
〜図8に基づいて説明する。図2,図3に示すように、
1は金属やガラスまたは石材等の平板状の被研磨物2を
支持する支持台1(支持部の一例)である。この支持台
1の上方には、支持台1にセットされた被研磨物2の上
面へ押圧されて被研磨物2を研磨する3個の研磨工具3
が設けられている。これら各研磨工具3はそれぞれ、第
1の鉛直軸心4周りに自転自在な3本の回転軸5の下端
に設けられており、これら回転軸5は保持体6により保
持されている。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
This will be described with reference to FIG. As shown in FIGS. 2 and 3,
Reference numeral 1 is a support base 1 (an example of a support portion) that supports a flat object 2 to be polished such as metal, glass or stone. Above the support table 1, three polishing tools 3 are pressed against the upper surface of the object 2 to be polished set on the support table 1 to polish the object 2 to be polished.
Is provided. Each of these polishing tools 3 is provided at the lower ends of three rotating shafts 5 which are rotatable about the first vertical axis 4, and these rotating shafts 5 are held by a holder 6.

【0016】上記保持体6は箱形状に形成されており、
上記回転軸5の下部は保持体6の底壁7に形成された開
口部8から下方へ突出している。上記保持体6には、上
記各回転軸5を自転させる自転機構9と、この自転機構
9を回転駆動させる自転用モータ10(自転用駆動装置の
一例)と、上記各回転軸5を上記第1の鉛直軸心4に平
行な第2の鉛直軸心11周りに公転させる公転機構12と、
この公転機構12を回転駆動させる公転用モータ13(公転
用駆動装置の一例)とが設けられている。尚、上記3本
の回転軸5は、第2の鉛直軸心11を中心にして、径方向
へ一定距離離れており、周方向で120°置きに振り分
けられている。
The holder 6 is formed in a box shape,
The lower portion of the rotary shaft 5 projects downward from an opening 8 formed in the bottom wall 7 of the holder 6. The holder 6 includes a rotation mechanism 9 for rotating each of the rotating shafts 5, a rotation motor 10 for rotating the rotation mechanism 9 (an example of a rotation driving device), and each of the rotation shafts 5 A revolving mechanism 12 for revolving around a second vertical axis 11 parallel to the vertical axis 4 of 1;
An orbiting motor 13 (an example of an orbiting drive device) for rotationally driving the orbiting mechanism 12 is provided. The three rotary shafts 5 are separated from each other by a fixed distance in the radial direction with the second vertical axis 11 as the center, and are distributed every 120 ° in the circumferential direction.

【0017】上記自転機構9は、上記第2の鉛直軸心11
周りに回動自在な1本の自転軸15と、上記自転用モータ
10の駆動軸に設けられた駆動プーリー16と上記自転軸15
の上端に設けられた従動プーリー17との間に巻回された
駆動ベルト18と、自転軸15の下部に設けられた太陽歯車
19と、各回転軸5の上部に設けられて上記太陽歯車19に
噛合する遊星歯車20とから構成されている。上記自転軸
15は、保持体6の上壁41に設けられたスリーブ体21に挿
通されて、ベアリング22を介してスリーブ体21に回動自
在に保持されている。
The rotation mechanism 9 includes the second vertical axis 11
One rotation shaft 15 that can rotate around and the above-mentioned rotation motor
The drive pulley 16 provided on the drive shaft 10 and the rotation shaft 15 described above.
Drive belt 18 wound between a driven pulley 17 provided at the upper end of the sun gear and a sun gear provided below the rotation shaft 15.
19 and a planetary gear 20 that is provided above each rotary shaft 5 and meshes with the sun gear 19. Above rotation axis
15 is inserted into a sleeve body 21 provided on the upper wall 41 of the holding body 6 and is rotatably held by the sleeve body 21 via a bearing 22.

【0018】上記公転機構12は、上記3本の回転軸5の
上端部同士を一体的に連結する上部回転体23と、中間部
同士を一体的に連結する中間部回転体24と、下部同士を
一体的に連結する下部回転体25と、上記第2の鉛直軸心
11に平行な第3の鉛直軸心26周りに回動自在な公転軸27
と、上記公転用モータ13の駆動軸に設けられた駆動プー
リー28と上記公転軸27の上端に設けられた従動プーリー
29との間に巻回された駆動ベルト30と、上記公転軸27の
下部に設けられた歯車31と、この歯車31に噛合しかつ上
記中間部回転体24の外周に設けられた歯車32とから構成
されている。
The revolving mechanism 12 has an upper rotating body 23 that integrally connects the upper ends of the three rotating shafts 5, an intermediate rotating body 24 that integrally connects the intermediate portions, and lower parts. Lower rotating body 25 for integrally connecting the above and the second vertical axis
A revolution shaft 27 that is rotatable around a third vertical axis 26 parallel to 11
And a drive pulley 28 provided on the drive shaft of the revolution motor 13 and a driven pulley provided on the upper end of the revolution shaft 27.
A drive belt 30 wound between 29, a gear 31 provided on the lower part of the revolution shaft 27, a gear 32 meshing with the gear 31 and provided on the outer periphery of the intermediate rotating body 24. It consists of

【0019】このうち、上記公転軸27は、保持体6の内
部に設けられた上下一対の軸受装置33で保持されてい
る。また、図2,図4に示すように、上記上部回転体23
はリング状に形成され、各回転軸5の上端部は、上部回
転体23に挿通され、ベアリング34を介して回動自在に保
持されている。
Of these, the revolution shaft 27 is held by a pair of upper and lower bearing devices 33 provided inside the holding body 6. In addition, as shown in FIGS.
Is formed in a ring shape, and the upper end portion of each rotating shaft 5 is inserted into the upper rotating body 23 and is rotatably held via a bearing 34.

【0020】また、図2,図3に示すように、上記中間
部回転体24は、円筒部24aとこの円筒部24aの上端に設
けられた円板部24bとから形成され、上記円筒部24aに
外嵌されたベアリング35を介して保持体6の内部に保持
されて、上記第2の鉛直軸心11周りに回動自在となって
いる。さらに、各回転軸5の中間部は、中間部回転体24
の円板部24bに挿通され、ベアリング36を介して回動自
在に保持されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the intermediate rotating body 24 is formed of a cylindrical portion 24a and a disc portion 24b provided at the upper end of the cylindrical portion 24a. It is held inside the holding body 6 via a bearing 35 that is fitted to the outside and is rotatable about the second vertical axis 11. Furthermore, the intermediate portion of each rotary shaft 5 is
It is inserted into the disk portion 24b of the above and is rotatably held via a bearing 36.

【0021】また、図1,図2に示すように、上記下部
回転体25は、円板状に形成され、外周面に外嵌されたベ
アリング37を介して保持体6の内部に保持され、上記第
2の鉛直軸心11周りに回動自在となっている。さらに、
各回転軸5の下部は、下部回転体25に挿通され、ベアリ
ング38を介して回動自在に保持されている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the lower rotating body 25 is formed in a disk shape and is held inside the holding body 6 via a bearing 37 fitted on the outer peripheral surface thereof. It is rotatable about the second vertical axis 11. further,
The lower portion of each rotating shaft 5 is inserted into the lower rotating body 25 and is rotatably held via a bearing 38.

【0022】さらに、上記第2の鉛直軸心11上には、上
記中間部回転体24と下部回転体25とに挿通されかつ中間
部回転体24と下部回転体25と共に第2の鉛直軸心11周り
に回動自在な連結軸39が設けられている。この連結軸39
の下端には、保持体6の底壁7の開口部8を覆う円板状
の覆い板40が取付けられている。上記自転用モータ10と
公転用モータ13とはそれぞれ、保持体6の上壁41に設置
され、インバータ制御により個別に回転速度を調節可能
である。
Further, on the second vertical axis 11, the intermediate part rotating body 24 and the lower rotating body 25 are inserted and the second vertical axis center together with the intermediate rotating body 24 and the lower rotating body 25. A connecting shaft 39 that is rotatable around 11 is provided. This connecting shaft 39
A disc-shaped cover plate 40 that covers the opening 8 of the bottom wall 7 of the holder 6 is attached to the lower end of the. The rotation motor 10 and the revolution motor 13 are installed on the upper wall 41 of the holder 6, and the rotation speeds thereof can be adjusted individually by inverter control.

【0023】図1,図2に示すように、上記各回転軸5
の下端には円筒状の保持部材42が設けられ、これら各保
持部材42には、上下方向へ摺動自在な円筒状の可動体43
が嵌入されている。これら各可動体43と保持部材42との
内部には、上記各可動体43を下動方向へ押圧する圧縮コ
イルスプリング44(押圧手段の一例)が設けられてい
る。
As shown in FIGS. 1 and 2, each of the rotating shafts 5 is
A cylindrical holding member 42 is provided at the lower end of each of the holding members 42, and each of the holding members 42 has a cylindrical movable body 43 slidable in the vertical direction.
Has been inserted. Inside each of the movable bodies 43 and the holding member 42, a compression coil spring 44 (an example of a pressing unit) that presses the movable bodies 43 in the downward direction is provided.

【0024】上記各可動体43の下部にはフランジ部43a
が形成され、これら各フランジ部43aには自在継手46を
介して取付基板47が設けられている。そして、上記各研
磨工具3は、円盤状に形成され、上記第1の鉛直軸心4
に対して偏心可能に各取付基板47に取付けられている。
尚、各研磨工具3には、研磨材や研磨パットが貼付され
ている。
A flange portion 43a is provided under each movable body 43.
And a mounting board 47 is provided on each of the flange portions 43a through a universal joint 46. Each of the polishing tools 3 is formed in a disk shape and has the first vertical axis 4
It is mounted on each mounting board 47 so as to be eccentric with respect to.
An abrasive or a polishing pad is attached to each polishing tool 3.

【0025】図1,図5および図6に示すように、上記
自在継手46は、可動体43と取付基板47との間に設けられ
た環状体46aと、可動体43のフランジ部43aに設けられ
て環状体46aの外周方に位置する一対の第1連結片46b
と、取付基板47に設けられて環状体46aの外周方に位置
する一対の第2連結片46cと、環状体46aと各第1連結
片46bとを回動自在に連結する第1連結ピン46dと、環
状体46aと各第2連結片46cとを回動自在に連結する第
2連結ピン46eとから構成されている。すなわち、上記
両第1連結片46bと第1連結ピン46dとは、上記第1の
鉛直軸心4に直交する第1の水平軸心48上に配設されて
おり、上記両第2連結片46cと第2連結ピン46eとは、
上記第1の鉛直軸心4と第1の水平軸心48とに直交する
第2の水平軸心49上に配設されている。これにより、図
6に示すように、各取付基板47は、平面視で十字に交差
した上記第1の水平軸心48と第2の水平軸心49とを中心
にして揺動可能となっている。
As shown in FIGS. 1, 5 and 6, the universal joint 46 is provided on the annular body 46a provided between the movable body 43 and the mounting substrate 47 and on the flange portion 43a of the movable body 43. And a pair of first connecting pieces 46b located on the outer periphery of the annular body 46a.
And a pair of second connecting pieces 46c provided on the mounting board 47 and located on the outer peripheral side of the annular body 46a, and a first connecting pin 46d for rotatably connecting the annular body 46a and each of the first connecting pieces 46b. And a second connecting pin 46e that rotatably connects the annular body 46a and each of the second connecting pieces 46c. That is, the both first connecting pieces 46b and the first connecting pin 46d are arranged on the first horizontal axis 48 orthogonal to the first vertical axis 4, and the both second connecting pieces 46b are arranged. 46c and the second connecting pin 46e are
It is arranged on a second horizontal axis 49 that is orthogonal to the first vertical axis 4 and the first horizontal axis 48. As a result, as shown in FIG. 6, each mounting board 47 can swing about the first horizontal axis 48 and the second horizontal axis 49 that intersect in a cross shape in a plan view. There is.

【0026】図2,図3に示すように、上記各回転軸5
は、研磨工具3に研磨液を供給する供給流路50が内部に
形成された中空軸である。上記供給流路50は、回転軸5
の上下両端にわたって形成され、図1で示すように保持
部材42に形成された上部供給孔51に連通している。ま
た、上記各取付基板47には、研磨工具3に形成された研
磨液の供給口52に連通する下部供給孔53が形成され、上
記上部供給孔51と下部供給孔53とは、上記可動体43の内
部に挿通されたフレキシブルチューブ54で連通されてい
る。尚、フレキシブルチューブ54の下部は上記下部供給
孔53に嵌入されており、取付基板47は、上記可動体43と
一体的に上下移動するため、フレキシブルチューブ54に
対して上下方向へ摺動自在となっている。
As shown in FIGS. 2 and 3, each of the rotary shafts 5 is
Is a hollow shaft in which a supply passage 50 for supplying a polishing liquid to the polishing tool 3 is formed. The supply channel 50 is the rotating shaft 5.
The upper supply hole 51 is formed over both upper and lower ends and communicates with the upper supply hole 51 formed in the holding member 42 as shown in FIG. In addition, a lower supply hole 53 communicating with the polishing liquid supply port 52 formed in the polishing tool 3 is formed in each of the mounting substrates 47, and the upper supply hole 51 and the lower supply hole 53 are the movable members. It is connected by a flexible tube 54 inserted into the inside of 43. The lower part of the flexible tube 54 is fitted into the lower supply hole 53, and the mounting substrate 47 moves up and down integrally with the movable body 43, so that it can be slid vertically with respect to the flexible tube 54. Has become.

【0027】また、図2に示すように、上記回転軸5と
同様に、自転軸15も研磨液を供給する供給流路55が上下
両端にわたり内部に形成された中空軸である。この自転
軸15の上下両端と上記回転軸5の上端にはそれぞれロー
タリージョイント56,57,58が設けられている。このう
ち、自転軸15の下端に設けられた下部ロータリージョイ
ント57の出口は各回転軸5に対応して3つに分岐してお
り、下部ロータリージョイント57の出口と上記回転軸5
のロータリージョイント58の入口とが接続ホース59(図
4参照)で接続されている。また、自転軸15の上端に設
けられた上部ロータリージョイント56の入口には、タン
クからポンプで圧送された研磨液を供給する供給ホース
60が接続されている。
Further, as shown in FIG. 2, like the rotating shaft 5, the rotating shaft 15 is also a hollow shaft in which a supply passage 55 for supplying a polishing liquid is formed inside at both upper and lower ends. Rotary joints 56, 57 and 58 are provided at the upper and lower ends of the rotation shaft 15 and the upper end of the rotation shaft 5, respectively. Among these, the outlet of the lower rotary joint 57 provided at the lower end of the rotation shaft 15 is branched into three corresponding to each rotary shaft 5, and the outlet of the lower rotary joint 57 and the rotary shaft 5 are
Of the rotary joint 58 is connected by a connection hose 59 (see FIG. 4). A supply hose for supplying the polishing liquid pumped from the tank to the inlet of the upper rotary joint 56 provided at the upper end of the rotation shaft 15.
60 is connected.

【0028】また、図2に示すように、上記保持体6
は、ガイドレール61に案内されて支持台1に対して昇降
自在となっており、複数の昇降用シリンダ装置62により
昇降駆動される。
Further, as shown in FIG.
Is movable up and down with respect to the support base 1 while being guided by a guide rail 61, and is driven up and down by a plurality of lifting cylinder devices 62.

【0029】以下、上記構成における作用を説明する。
図2に示すように、自転用モータ10を駆動することによ
り、両プーリー16,17と駆動ベルト18とを介して自転軸
15が回転し、太陽歯車19と遊星歯車20とを介して3本の
回転軸5がそれぞれ第1の鉛直軸心4周りに自転するこ
とにより、上記各回転軸5と一体的に3つの研磨工具3
が第1の鉛直軸心4周りに自転する。
The operation of the above structure will be described below.
As shown in FIG. 2, by driving the rotation motor 10, the rotation shaft is driven through both pulleys 16 and 17 and the drive belt 18.
15 rotates, and the three rotary shafts 5 rotate about the first vertical axis 4 via the sun gear 19 and the planetary gear 20, respectively, so that three polishing shafts are integrally formed with the rotary shafts 5. Tool 3
Rotates about the first vertical axis 4.

【0030】さらに、公転用モータ13を駆動することに
より、両プーリー28,29と駆動ベルト30とを介して公転
軸27が回転し、両歯車31,32を介して中間部回転体24が
第2の鉛直軸心11周りに回転することにより、3本の回
転軸5が第2の鉛直軸心11周りに公転する。この際、上
記中間部回転体24と共に上部回転体23と下部回転体25と
連結軸39と覆い板40も上記各回転軸5と一体的に第2の
鉛直軸心11周りに回転する。
Further, by driving the revolution motor 13, the revolution shaft 27 rotates via both pulleys 28 and 29 and the drive belt 30, and the intermediate portion rotary body 24 moves to the first position via both gears 31 and 32. By rotating around the second vertical axis 11, the three rotary shafts 5 revolve around the second vertical axis 11. At this time, the upper rotary body 23, the lower rotary body 25, the connecting shaft 39, and the cover plate 40 together with the intermediate rotary body 24 also rotate around the second vertical axis 11 integrally with the rotary shafts 5.

【0031】そして、昇降用シリンダ装置62のピストン
ロッド62aを伸長させることにより、保持体6が下降し
て、各研磨工具3は、支持台1にセットされた被研磨物
2の上面に押圧される。これにより、各研磨工具3が各
第1の鉛直軸心4周りに自転しながら第2の鉛直軸心11
周りに公転して被研磨物2を研磨する。
Then, by extending the piston rod 62a of the lifting cylinder device 62, the holder 6 is lowered, and each polishing tool 3 is pressed against the upper surface of the workpiece 2 set on the support 1. It As a result, each polishing tool 3 rotates about each first vertical axis 4 while rotating around the second vertical axis 11.
The object 2 to be polished is revolved around and polished.

【0032】このように、各研磨工具3を機械的に自転
させながら公転させて被研磨物2の研磨を行うことが可
能になるため、高精度の研磨が実施でき、さらに作業者
の労力を低減し得る。
As described above, since it becomes possible to polish the object to be polished 2 by revolving each polishing tool 3 while rotating it mechanically, it is possible to perform highly accurate polishing and further reduce the labor of the operator. Can be reduced.

【0033】この際、上記自転用モータ10の回転速度と
公転用モータ13の回転速度とをそれぞれインバータ制御
により調節することで、各研磨工具3の自転速度と公転
速度とを個別に変えることが可能となり、図7に示され
たような被研磨物2の上面に形成される研磨条痕(研磨
目)が自由に選定できるため、被研磨物2の材質に対し
て最適な研磨条痕を選定することができる。さらに、研
磨工具3の自転速度と公転速度とを個別に変えることに
より、被研磨物2の中央部と周辺部あるいは研磨条痕の
重なり部等に対しても均一な研磨が可能となる。
At this time, the rotation speed and the revolution speed of each polishing tool 3 can be individually changed by adjusting the rotation speed of the rotation motor 10 and the rotation speed of the revolution motor 13 by inverter control. This makes it possible to freely select the polishing scratches (polishing marks) formed on the upper surface of the object to be polished 2 as shown in FIG. Can be selected. Further, by individually changing the rotation speed and the revolution speed of the polishing tool 3, it is possible to perform uniform polishing even on the central portion and the peripheral portion of the object to be polished 2, the overlapping portion of polishing scratches, and the like.

【0034】また、各研磨工具3で被研磨物2の上面を
研磨している際、図1に示すように、各研磨工具3はそ
れぞれ、可動体43を介して、圧縮コイルスプリング44の
押圧力により下方へ押圧されている。このため、被研磨
物2の上面に微妙な高低差がある場合でも、各研磨工具
3は、可動体43の上下移動とともに、被研磨物2の上面
の高低差に追従して上下移動するため、各研磨工具3は
常に被研磨物2の上面に押圧され、各研磨工具3の被研
磨物2に対する押圧力をほぼ一定に保つことができる。
したがって、被研磨物2の上面に微妙な高低差がある場
合でも、スクラッチや研磨むらの発生を防止することが
でき、高精度の研磨が行える。
When polishing the upper surface of the object to be polished 2 with each polishing tool 3, each polishing tool 3 pushes the compression coil spring 44 via the movable body 43, as shown in FIG. It is pressed downward by pressure. Therefore, even when there is a slight height difference on the upper surface of the object to be polished 2, each polishing tool 3 moves up and down in accordance with the vertical movement of the movable body 43 and the height difference on the upper surface of the object to be polished 2. The polishing tools 3 are always pressed against the upper surface of the object to be polished 2, and the pressing force of each polishing tool 3 on the object to be polished 2 can be kept substantially constant.
Therefore, even if there is a slight height difference on the upper surface of the object to be polished 2, it is possible to prevent the occurrence of scratches and uneven polishing, and perform highly accurate polishing.

【0035】さらに、図2に示すように、供給ホース60
から上部ロータリージョイント56に供給された研磨液
は、自転軸15内の供給流路55を流れ、下部ロータリージ
ョイント57から各回転軸5のロータリージョイント58へ
流れ、さらに各回転軸5内の供給流路50を流れ、図1に
示すように、各供給流路50から上部供給孔51を経てフレ
キシブルチューブ54内を通り、下部供給孔53を経て供給
口52から各研磨工具3の研磨面63へ供給される。これに
より、各研磨工具3で被研磨物2を研磨している際、被
研磨物2の上面の塵埃や加工屑が研磨液で排除され、各
研磨工具3の目詰りの防止や各研磨工具3と被研磨物2
との間に異物がかみ込むことを防止できる。
Further, as shown in FIG.
The polishing liquid supplied from the upper rotary joint 56 to the upper rotary joint 56 flows through the supply flow path 55 in the rotation shaft 15, flows from the lower rotary joint 57 to the rotary joint 58 of each rotary shaft 5, and further supplies in the rotary shaft 5. Flowing through the passage 50, as shown in FIG. 1, each supply channel 50 passes through the upper supply hole 51, the flexible tube 54, and the lower supply hole 53 to the polishing surface 63 of each polishing tool 3 from the supply port 52. Supplied. As a result, when the object to be polished 2 is being polished by the respective polishing tools 3, dust and processing debris on the upper surface of the object to be polished 2 are removed by the polishing liquid, the clogging of the respective polishing tools 3 is prevented, and the respective polishing tools are 3 and the object to be polished 2
It is possible to prevent foreign matter from being caught between and.

【0036】さらに、研磨中に、研磨工具3と被研磨物
2との間に異物が介入した場合、図5,図6に示すよう
に、研磨工具3が取付基板47と一体的に自在継手46の第
1の水平軸心48または第2の水平軸心49を中心にして揺
動することによって、上記異物が研磨工具3と被研磨物
2との間から容易に排除される。また、被研磨物2の上
面が微妙に傾斜している場合でも、各研磨工具3は揺動
することによって被研磨物2の上面の傾斜に追従して傾
斜する。このため、被研磨物2の上面が微妙に傾斜して
いても、高精度の研磨が行える。
Further, when foreign matter intervenes between the polishing tool 3 and the object to be polished 2 during polishing, the polishing tool 3 and the mounting substrate 47 are integrated integrally with the universal joint as shown in FIGS. By swinging around the first horizontal axis 48 or the second horizontal axis 49 of 46, the foreign matter is easily removed from between the polishing tool 3 and the object to be polished 2. Even when the upper surface of the object to be polished 2 is delicately inclined, each polishing tool 3 is swung to incline following the inclination of the upper surface of the object to be polished 2. Therefore, even if the upper surface of the object to be polished 2 is slightly inclined, highly accurate polishing can be performed.

【0037】上記のような研磨においては、図2に示す
ように各研磨工具3は第1の鉛直軸心4に対して偏心し
ていないため、図7に示すように、被研磨物2の上面の
中心部に、研磨工具3が接触せず研磨されない未研磨部
分64がわずかに発生する。このような場合には、図1に
示すように、各研磨工具3をそれぞれ第1の鉛直軸心4
に対して同方向へ所定量Lだけ偏心させた後、研磨を行
うことにより、図8に示すように、上記未研磨部分64を
無くすことができる。
In the above-described polishing, since each polishing tool 3 is not eccentric with respect to the first vertical axis 4 as shown in FIG. 2, the upper surface of the workpiece 2 is polished as shown in FIG. At the center of the area, a slight amount of unpolished portion 64, which does not contact the polishing tool 3 and is not polished, is generated. In such a case, as shown in FIG. 1, each polishing tool 3 is attached to the first vertical axis 4 respectively.
By eccentricity by a predetermined amount L in the same direction and then polishing, as shown in FIG. 8, the unpolished portion 64 can be eliminated.

【0038】上記実施の形態では、各回転軸5内と自転
軸15内とにそれぞれ研磨液の供給流路50,55を形成した
ことにより、研磨装置を小型化することができる。上記
実施の形態では、図3に示すように、研磨工具3を3個
設けたが、3個以外の複数個または1個であってもよ
い。
In the above-described embodiment, since the polishing liquid supply channels 50 and 55 are formed in the rotary shafts 5 and the rotation shaft 15, the polishing apparatus can be downsized. In the above-described embodiment, as shown in FIG. 3, three polishing tools 3 are provided, but a plurality of polishing tools other than three or one may be provided.

【0039】上記実施の形態では、図1に示すように、
上部供給孔51と下部供給孔53とをフレキシブルチューブ
54で連通しているが、鋼管等の剛体のチューブを用いて
もよい。
In the above embodiment, as shown in FIG.
Flexible tube connecting the upper supply hole 51 and the lower supply hole 53
Although communicated by 54, a rigid tube such as a steel tube may be used.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のうち請求
項1記載の発明によると、自転用駆動装置を作動させて
自転機構を回転駆動させることにより、回転軸とともに
研磨工具を第1の鉛直軸心周りに自転させ、さらに、公
転用駆動装置を作動させて公転機構を回転駆動させるこ
とにより、回転軸とともに研磨工具を第2の鉛直軸心周
りに公転させる。そして、保持体を下降させて研磨工具
を支持部にセットされた被研磨物の上面に押圧すること
により、研磨工具が自転しながら公転して被研磨物を研
磨する。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the rotation driving device is actuated to drive the rotation mechanism to rotate, so that the polishing tool and the polishing tool are moved together with the first rotation tool. The polishing tool is revolved around the second vertical axis along with the rotation axis by rotating the revolving mechanism by rotating the revolving mechanism by rotating the revolving shaft around the vertical axis. Then, by lowering the holding body and pressing the polishing tool against the upper surface of the object to be polished set on the support portion, the polishing tool revolves while revolving around its axis to polish the object to be polished.

【0041】このように、研磨工具を機械的に自転させ
ながら公転させて被研磨物の研磨を行うことが可能にな
るため、高精度の研磨が実施でき、さらに作業者の労力
を低減し得る。
As described above, since it becomes possible to polish the object to be polished by revolving the polishing tool while rotating it mechanically, it is possible to perform highly accurate polishing and further reduce the labor of the operator. .

【0042】さらに、請求項2記載の発明によると、自
転用モータの回転速度を調節するとともに公転用モータ
の回転速度を調節することにより、研磨工具の自転速度
と公転速度とを個別に変えることが可能となり、被研磨
物の上面に形成される研磨条痕(研磨目)が自由に選定
できるため、被研磨物の材質に対して最適な研磨条痕を
選定することができる。さらに、研磨工具の自転速度と
公転速度とを個別に変えることにより、被研磨物の中央
部と周辺部あるいは研磨条痕の重なり部等に対しても均
一な研磨が可能となる。
Further, according to the second aspect of the present invention, the rotation speed and the revolution speed of the polishing tool are individually changed by adjusting the rotation speed of the rotation motor and the rotation speed of the revolution motor. Since it is possible to freely select the polishing scratches (polishing marks) formed on the upper surface of the object to be polished, it is possible to select the optimum polishing scratches for the material of the object to be polished. Further, by individually changing the rotation speed and the revolution speed of the polishing tool, it is possible to perform uniform polishing even on the central portion and the peripheral portion of the object to be polished, the overlapping portion of the polishing scratches, and the like.

【0043】さらに、請求項3記載の発明によると、研
磨工具で被研磨物の上面を研磨している際、研磨工具
は、可動体を介して、押圧手段の押圧力により下方へ押
圧されている。このため、被研磨物の上面に微妙な高低
差がある場合でも、研磨工具は、可動体を介して、被研
磨物の上面の高低差に追従して上下移動するため、研磨
工具は常に被研磨物の上面に押圧され、研磨工具の被研
磨物に対する押圧力をほぼ一定に保つことができる。し
たがって、被研磨物の上面に高低差がある場合でも、ス
クラッチや研磨むらの発生を防止することができ、高精
度の研磨が行える。
Further, according to the third aspect of the invention, when the upper surface of the object to be polished is polished by the polishing tool, the polishing tool is pressed downward by the pressing force of the pressing means via the movable body. There is. Therefore, even if there is a slight height difference on the upper surface of the object to be polished, the polishing tool moves up and down by following the height difference on the upper surface of the object to be polished through the movable body, and therefore the polishing tool is always covered. The upper surface of the polishing object is pressed, and the pressing force of the polishing tool on the polishing object can be kept substantially constant. Therefore, even if there is a difference in height on the upper surface of the object to be polished, it is possible to prevent the occurrence of scratches and uneven polishing, and it is possible to perform highly accurate polishing.

【0044】さらに、請求項4記載の発明によると、研
磨工具で被研磨物を研磨している際、研磨液が供給流路
を通って研磨工具に供給されるため、被研磨物の上面の
塵埃や加工屑が研磨液で排除され、研磨工具の目詰りの
防止や研磨工具と被研磨物との間に異物がかみ込むこと
を防止できる。さらに、回転軸内に供給流路を形成した
ことにより、研磨装置を小型化することができる。
Further, according to the fourth aspect of the present invention, since the polishing liquid is supplied to the polishing tool through the supply passage when polishing the object to be polished with the polishing tool, the upper surface of the object to be polished is Dust and processing waste are removed by the polishing liquid, clogging of the polishing tool can be prevented, and foreign matter can be prevented from being caught between the polishing tool and the object to be polished. Further, since the supply passage is formed in the rotary shaft, the polishing device can be downsized.

【0045】さらに、請求項5記載の発明によると、研
磨中に、研磨工具と被研磨物との間に異物が介入した場
合、研磨工具が第1の鉛直軸心に対し自在継手を介して
揺動することによって、異物が研磨工具と被研磨物との
間から容易に排除される。また、被研磨物の上面が微妙
に傾斜している場合でも、研磨工具は、第1の鉛直軸心
に対し自在継手を介して揺動することによって、被研磨
物の上面の傾斜に追従して傾斜する。このため、被研磨
物の上面が微妙に傾斜していても、高精度の研磨が行え
る。
Further, according to the invention of claim 5, when foreign matter intervenes between the polishing tool and the object to be polished during polishing, the polishing tool is connected to the first vertical axis through the universal joint. By swinging, foreign matters are easily removed from between the polishing tool and the object to be polished. Even if the upper surface of the object to be polished is slightly inclined, the polishing tool follows the inclination of the upper surface of the object to be polished by swinging with respect to the first vertical axis via the universal joint. Incline. Therefore, even if the upper surface of the object to be polished is slightly inclined, highly accurate polishing can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態における研磨装置の研磨工
具の取付部の縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view of a mounting portion of a polishing tool of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】研磨装置の内部構成を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an internal configuration of a polishing device.

【図3】図2におけるA−A矢視図である。FIG. 3 is a view as viewed in the direction of arrows AA in FIG. 2;

【図4】回転軸の上端部の詳細図である。FIG. 4 is a detailed view of an upper end portion of a rotating shaft.

【図5】自在継手の一部切欠き側面図である。FIG. 5 is a partially cutaway side view of the universal joint.

【図6】図5におけるA−A矢視図である。6 is a view on arrow AA in FIG.

【図7】各研磨工具を第1の鉛直軸心に対して偏心させ
ていない場合の研磨条痕を示した平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing polishing scratches when each polishing tool is not eccentric with respect to the first vertical axis.

【図8】各研磨工具を第1の鉛直軸心に対して偏心させ
た場合の研磨条痕を示した平面図である。
FIG. 8 is a plan view showing polishing scratches when each polishing tool is eccentric with respect to the first vertical axis.

【図9】従来の研磨装置の側面図である。FIG. 9 is a side view of a conventional polishing apparatus.

【図10】従来の研磨装置を用いた研磨方法を示す平面
図である。
FIG. 10 is a plan view showing a polishing method using a conventional polishing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持台(支持部) 2 被研磨物 3 研磨工具 4 第1の鉛直軸心 5 回転軸 6 保持体 9 自転機構 10 自転用モータ(自転用駆動装置) 11 第2の鉛直軸心 12 公転機構 13 公転用モータ(公転用駆動装置) 43 可動体 44 圧縮コイルスプリング(押圧手段) 46 自在継手 50 供給流路 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Support base (support part) 2 Polishing object 3 Polishing tool 4 1st vertical axis 5 Rotation axis 6 Retainer 9 Rotation mechanism 10 Rotation motor (rotation drive device) 11 2nd vertical axis 12 Revolution mechanism 13 Revolution motor (revolution drive device) 43 Movable body 44 Compression coil spring (pressing means) 46 Universal joint 50 Supply flow path

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被研磨物を支持する支持部の上方に、こ
の支持部にセットされた被研磨物の上面に押圧されて被
研磨物を研磨する研磨工具が設けられ、この研磨工具は
第1の鉛直軸心周りに自転自在な回転軸の下端に設けら
れ、この回転軸を保持しかつ上記支持部に対して昇降自
在な保持体に、上記回転軸を自転させる自転機構と、こ
の自転機構を回転駆動させる自転用駆動装置と、上記回
転軸を上記第1の鉛直軸心に平行な第2の鉛直軸心周り
に公転させる公転機構と、この公転機構を回転駆動させ
る公転用駆動装置とが設けられていることを特徴とする
研磨装置。
1. A polishing tool for polishing an object to be polished by being pressed against an upper surface of the object to be polished set on the support part is provided above a supporting part supporting the object to be polished. 1. A rotation mechanism for rotating the rotation shaft on a holder provided at the lower end of a rotation shaft that is rotatable about the vertical axis of the rotation shaft 1, and which holds the rotation shaft and can be raised and lowered with respect to the support portion. A rotation drive device that rotationally drives the mechanism, a revolution mechanism that revolves the rotation shaft around a second vertical axis parallel to the first vertical axis, and a revolution drive device that rotationally drives the revolution mechanism. And a polishing device.
【請求項2】 自転用駆動装置として、回転速度を調節
可能な自転用モータが使用され、公転用駆動装置とし
て、回転速度を調節可能な公転用モータが使用されてい
ることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
2. A rotation motor capable of adjusting a rotation speed is used as the rotation drive device, and a revolution motor having a adjustable rotation speed is used as the revolution drive device. Item 1. The polishing apparatus according to Item 1.
【請求項3】 回転軸の下端に、上下方向へ移動自在で
かつ押圧手段の押圧力により下動方向へ押圧されている
可動体が設けられ、この可動体に研磨工具が設けられて
いることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
3. A movable body, which is movable in the vertical direction and is pressed downward by the pressing force of the pressing means, is provided at the lower end of the rotary shaft, and the polishing tool is provided on the movable body. The polishing apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項4】 研磨工具に研磨液を供給する供給流路が
回転軸内に形成されていることを特徴とする請求項1記
載の研磨装置。
4. The polishing apparatus according to claim 1, wherein a supply passage for supplying the polishing liquid to the polishing tool is formed in the rotation shaft.
【請求項5】 研磨工具は自在継手を介して回転軸の下
端に取付けられていることを特徴とする請求項1記載の
研磨装置。
5. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the polishing tool is attached to the lower end of the rotary shaft via a universal joint.
JP06361096A 1996-03-21 1996-03-21 Polishing equipment Expired - Fee Related JP3192963B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06361096A JP3192963B2 (en) 1996-03-21 1996-03-21 Polishing equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP06361096A JP3192963B2 (en) 1996-03-21 1996-03-21 Polishing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09253992A true JPH09253992A (en) 1997-09-30
JP3192963B2 JP3192963B2 (en) 2001-07-30

Family

ID=13234247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP06361096A Expired - Fee Related JP3192963B2 (en) 1996-03-21 1996-03-21 Polishing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3192963B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006294855A (en) * 2005-04-11 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor wafer backgrinding method and apparatus
JP2009522124A (en) * 2006-01-04 2009-06-11 ジョン クウ イェオ, Polishing head of stone polishing machine
JP2015074042A (en) * 2013-10-08 2015-04-20 株式会社ディスコ Grinding equipment
TWI482683B (en) * 2009-10-08 2015-05-01 Lg Chemical Ltd Method and system for polishing float glass
CN113084700A (en) * 2021-03-25 2021-07-09 上海智能制造功能平台有限公司 Grinding device of machine arm and machine arm

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006294855A (en) * 2005-04-11 2006-10-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor wafer backgrinding method and apparatus
JP2009522124A (en) * 2006-01-04 2009-06-11 ジョン クウ イェオ, Polishing head of stone polishing machine
TWI482683B (en) * 2009-10-08 2015-05-01 Lg Chemical Ltd Method and system for polishing float glass
JP2015074042A (en) * 2013-10-08 2015-04-20 株式会社ディスコ Grinding equipment
CN113084700A (en) * 2021-03-25 2021-07-09 上海智能制造功能平台有限公司 Grinding device of machine arm and machine arm
CN113084700B (en) * 2021-03-25 2024-05-17 上海智能制造功能平台有限公司 Grinding device of machine arm and machine arm

Also Published As

Publication number Publication date
JP3192963B2 (en) 2001-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5791976A (en) Surface machining method and apparatus
US4709513A (en) Glass scratch removal method
EP0960691A2 (en) Glass product machining apparatus
US20030129932A1 (en) Continuous polisher machine
EP0180175A2 (en) Surface grinding apparatus
US4240229A (en) Immersion type grinding apparatus
JPH09253992A (en) Polishing equipment
JP4342012B2 (en) Plane polishing method and apparatus
US20040176017A1 (en) Apparatus and methods for abrading a work piece
CN1796048A (en) Lens automatic lapping device and lens delivery organization
US20070197135A1 (en) Device for polishing the edge of a glass sheet
CN110788737A (en) A kind of grinding machine and peeling method of workpiece to be ground
JP3860901B2 (en) Coolant supply device for 2 head finishing machine
JP7841951B2 (en) CMP polishing equipment
JP2002009022A (en) Ground substrate, substrate grinding device and grinding method
JPH08243889A (en) Planet gear type polishing device
JP2003170338A (en) Grinding method and apparatus
JP2001121392A (en) Glass article finishing device
CN218697521U (en) Automatic grinding layer replacing device for grinding machine and polishing machine
JPH10291146A (en) Wafer processing method, surface grinder and work rest
JP3115213B2 (en) Double-side polishing machine
JPS62107951A (en) surface grinding equipment
JPH0818248B2 (en) Gyro polishing method and machine
JP2006200687A (en) Mobile device using planetary gear mechanism and surface polishing machine
JPH1044025A (en) Flat polishing machine

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090525

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100525

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110525

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120525

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130525

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140525

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees