JPH09255596A - 低級パーフルオロアルカンの製造方法 - Google Patents
低級パーフルオロアルカンの製造方法Info
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 触媒の活性低下を起こすことなく、連続し
て、FC−14、FC−116などの低級パーフルオロ
アルカンを高収率、低価格で製造できる低級パーフルオ
ロアルカンの製造方法を提供する。 【解決手段】 トリフルオロメタン(CHF3 )と酸素
の混合比(モル比:酸素/トリフルオロメタン)が0.
1〜1.0の混合ガスを500〜900℃の温度範囲で
触媒存在下、この触媒に接触させて反応させる。
て、FC−14、FC−116などの低級パーフルオロ
アルカンを高収率、低価格で製造できる低級パーフルオ
ロアルカンの製造方法を提供する。 【解決手段】 トリフルオロメタン(CHF3 )と酸素
の混合比(モル比:酸素/トリフルオロメタン)が0.
1〜1.0の混合ガスを500〜900℃の温度範囲で
触媒存在下、この触媒に接触させて反応させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、低級パーフルオロ
アルカンの製造方法に関するものであり、更に詳しく
は、近年半導体用ドライエッチングガス及びチャンバー
内クリーニングガス等に用いられるようになり、その有
用性が著しく増大しているので安定供給が求められてい
るガスであるテトラフルオロメタン(CF4 )(以下、
FC−14と称す)およびヘキサフルオロエタン(CF
3 CF3 )(以下、FC−116と称す)などの低級パ
ーフルオロアルカンの製造方法に関するものである。
アルカンの製造方法に関するものであり、更に詳しく
は、近年半導体用ドライエッチングガス及びチャンバー
内クリーニングガス等に用いられるようになり、その有
用性が著しく増大しているので安定供給が求められてい
るガスであるテトラフルオロメタン(CF4 )(以下、
FC−14と称す)およびヘキサフルオロエタン(CF
3 CF3 )(以下、FC−116と称す)などの低級パ
ーフルオロアルカンの製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来からのFC−14及びFC−116
の製造方法としては下記の(1)〜(5)の方法などが
知られている。 (1)テトラフルオロエチレンと二酸化炭素とを熱分解
反応させる方法(特開昭57−126430号公報)。 (2)トリフルオロメタン(CHF3 )(以下、HFC
−23と称す)を活性炭触媒、18族型元素周期表の1
族または2族の金属フッ化物触媒、フッ化アルミニウム
触媒の存在下で熱分解反応させる方法(特公昭39−2
1225号公報)。 (3)トリフルオロモノブロモメタン(CF3 Br)を
白金触媒の存在下で熱分解する方法(特開平5−286
874号公報)。 (4)炭化水素又はハイドロフルオロカーボン(以下、
HFCと称す)又はパーハロカーボン(例えば、CF3
Cl、C2 F5 Cl等)とフッ素ガス(以下、F2 と称
す)とを反応させる方法(J.Amer.Chem.S
oc.,77,3007(1955)、英国特許第11
16920号、ヨーロッパ特許第32210号、米国特
許第5406008号、特開昭61−134330号公
報、特開昭61−148131号公報)。 (5)パークロロカーボンあるいは部分的にフッ素化さ
れたクロロフルオロカーボンとフッ化水素(HF)を触
媒の存在下反応させる方法。
の製造方法としては下記の(1)〜(5)の方法などが
知られている。 (1)テトラフルオロエチレンと二酸化炭素とを熱分解
反応させる方法(特開昭57−126430号公報)。 (2)トリフルオロメタン(CHF3 )(以下、HFC
−23と称す)を活性炭触媒、18族型元素周期表の1
族または2族の金属フッ化物触媒、フッ化アルミニウム
触媒の存在下で熱分解反応させる方法(特公昭39−2
1225号公報)。 (3)トリフルオロモノブロモメタン(CF3 Br)を
白金触媒の存在下で熱分解する方法(特開平5−286
874号公報)。 (4)炭化水素又はハイドロフルオロカーボン(以下、
HFCと称す)又はパーハロカーボン(例えば、CF3
Cl、C2 F5 Cl等)とフッ素ガス(以下、F2 と称
す)とを反応させる方法(J.Amer.Chem.S
oc.,77,3007(1955)、英国特許第11
16920号、ヨーロッパ特許第32210号、米国特
許第5406008号、特開昭61−134330号公
報、特開昭61−148131号公報)。 (5)パークロロカーボンあるいは部分的にフッ素化さ
れたクロロフルオロカーボンとフッ化水素(HF)を触
媒の存在下反応させる方法。
【0003】しかし、上記の(1)〜(5)の従来の方
法は下記のような問題点があり、商業生産の観点から有
効な製造方法とはいえない。上記(1)の方法は、10
00℃を越える温度が必要であり、また、滞留時間も約
1分間と長いため反応器が大きくなる。上記(2)の方
法は、反応の進行に伴い発生する炭素が触媒上に蓄積す
るため触媒の活性を維持することが困難である。上記
(3)の方法は、高価な白金系の触媒を使用し、経済性
に問題が有る。上記(4)の方法は、高価なF2 を用い
るため経済的に不利となる。上記(5)の方法は、塩素
とフッ素の置換によりパーフルオロ体に至るが、最後の
1つの塩素の置換段階が極めて困難である上、反応にか
なりの高温を要し触媒の寿命が短い。
法は下記のような問題点があり、商業生産の観点から有
効な製造方法とはいえない。上記(1)の方法は、10
00℃を越える温度が必要であり、また、滞留時間も約
1分間と長いため反応器が大きくなる。上記(2)の方
法は、反応の進行に伴い発生する炭素が触媒上に蓄積す
るため触媒の活性を維持することが困難である。上記
(3)の方法は、高価な白金系の触媒を使用し、経済性
に問題が有る。上記(4)の方法は、高価なF2 を用い
るため経済的に不利となる。上記(5)の方法は、塩素
とフッ素の置換によりパーフルオロ体に至るが、最後の
1つの塩素の置換段階が極めて困難である上、反応にか
なりの高温を要し触媒の寿命が短い。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】HFC−23を触媒の
存在下、加熱して、低級パーフルオロアルカンを製造す
る従来の方法は、反応の進行に伴い発生する炭素が触媒
上に炭素が析出して、触媒の活性が低下し、連続して低
級パーフルオロアルカンを製造できない問題が有る。本
発明の目的は、触媒の活性低下を起こすことなく、連続
して、FC−14、FC−116などの低級パーフルオ
ロアルカンを高収率、低価格で製造方法を提供すること
である。
存在下、加熱して、低級パーフルオロアルカンを製造す
る従来の方法は、反応の進行に伴い発生する炭素が触媒
上に炭素が析出して、触媒の活性が低下し、連続して低
級パーフルオロアルカンを製造できない問題が有る。本
発明の目的は、触媒の活性低下を起こすことなく、連続
して、FC−14、FC−116などの低級パーフルオ
ロアルカンを高収率、低価格で製造方法を提供すること
である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の課
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、HFC−23を
触媒存在下で500〜900℃に加熱してFC−14、
FC−116などの低級パーフルオロアルカンを製造す
る際に、酸素をモル比(O2 /HFC−23)0.1〜
1.0の範囲でHFC−23と同時に供給し、その触媒
に接触させて反応させることで、連続して高収率で低級
パーフルオロアルカンを製造できることを明らかにし、
本発明を完成するに至った。
題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、HFC−23を
触媒存在下で500〜900℃に加熱してFC−14、
FC−116などの低級パーフルオロアルカンを製造す
る際に、酸素をモル比(O2 /HFC−23)0.1〜
1.0の範囲でHFC−23と同時に供給し、その触媒
に接触させて反応させることで、連続して高収率で低級
パーフルオロアルカンを製造できることを明らかにし、
本発明を完成するに至った。
【0006】すなわち、本発明の請求項1の発明は、H
FC−23と酸素の混合比(モル比:酸素/HFC−2
3)が0.1〜1.0の混合ガスを500〜900℃の
温度範囲で触媒存在下、この触媒に接触させて反応させ
ることを特徴とする低級パーフルオロアルカンの製造方
法である。
FC−23と酸素の混合比(モル比:酸素/HFC−2
3)が0.1〜1.0の混合ガスを500〜900℃の
温度範囲で触媒存在下、この触媒に接触させて反応させ
ることを特徴とする低級パーフルオロアルカンの製造方
法である。
【0007】本発明の請求項2の発明は、請求項1に記
載の製造方法において、触媒が、18族型元素周期表の
8族、10族、11族、12族および13族から選ばれ
る少なくとも1つの金属の塩又は酸化物を無水フッ酸又
はフッ素ガスで処理をしたものを使用することを特徴と
する。
載の製造方法において、触媒が、18族型元素周期表の
8族、10族、11族、12族および13族から選ばれ
る少なくとも1つの金属の塩又は酸化物を無水フッ酸又
はフッ素ガスで処理をしたものを使用することを特徴と
する。
【0008】本発明の請求項3の発明は、請求項1ある
いは請求項2に記載の製造方法において、低級パーフル
オロアルカンがFC−116であることを特徴とする。
いは請求項2に記載の製造方法において、低級パーフル
オロアルカンがFC−116であることを特徴とする。
【0009】本発明の請求項4の発明は、請求項2ある
いは請求項3に記載の製造方法において、前記金属が亜
鉛および/またはニッケルであることを特徴とする。
いは請求項3に記載の製造方法において、前記金属が亜
鉛および/またはニッケルであることを特徴とする。
【0010】本発明の請求項5の発明は、請求項1ない
し請求項4に記載の製造方法において、HFC−23と
酸素の混合比を0.2〜0.5の範囲で変えることによ
り、生成物中のFC−116の比率を変えることを特徴
とする請求項1ないし請求項4に記載の製造方法。
し請求項4に記載の製造方法において、HFC−23と
酸素の混合比を0.2〜0.5の範囲で変えることによ
り、生成物中のFC−116の比率を変えることを特徴
とする請求項1ないし請求項4に記載の製造方法。
【0011】
【発明の実施の形態】本発明における反応生成ガスは、
以下に示した反応式[3]〜反応式[7]により発生し
ているものと推察される。従来のHFC−23の熱分解
反応では、以下に示した反応式[1]及び反応式[2]
に示されるように、反応の進行に伴い発生する炭素が触
媒上に蓄積し活性の維持継続が困難であったのに対し
て、本発明の第1の利点は酸素を反応ガスと共に供給す
ることで触媒活性の低下を防ぐ効果がある点である。
以下に示した反応式[3]〜反応式[7]により発生し
ているものと推察される。従来のHFC−23の熱分解
反応では、以下に示した反応式[1]及び反応式[2]
に示されるように、反応の進行に伴い発生する炭素が触
媒上に蓄積し活性の維持継続が困難であったのに対し
て、本発明の第1の利点は酸素を反応ガスと共に供給す
ることで触媒活性の低下を防ぐ効果がある点である。
【0012】
【化1】 2CHF3 → CF4 +C +2HF [1] 3CHF3 → C2 F6 +C +3HF [2] 2CHF3 +O2 → CF4 +CO2 +2HF [3] 3CHF3 +O2 → C2 F6 +CO2 +3HF [4] 2CHF3 +CO2 → CF4 +2CO+2HF [5] 3CHF3 +CO2 → C2 F6 +3CO+3HF [6] 2CHF3 +O2 →2COF2 +2HF [7]
【0013】本発明の第2の利点は、酸素を供給しない
場合に比べ、酸素を供給しながら熱分解反応を行うと触
媒表面が一部酸化されてオキシフッ化物となると考えら
れ、それにより低級パーフルオロアルカンの空間時間収
率が増加するため、使用する触媒量が少なくてすみ、反
応器のコンパクト化が可能となり、経済的である点であ
る。更に本発明の第3の利点は、触媒に使用する金属種
を選択することで、FC−14とFC−116の生成す
る比率を変化させることができる点である。
場合に比べ、酸素を供給しながら熱分解反応を行うと触
媒表面が一部酸化されてオキシフッ化物となると考えら
れ、それにより低級パーフルオロアルカンの空間時間収
率が増加するため、使用する触媒量が少なくてすみ、反
応器のコンパクト化が可能となり、経済的である点であ
る。更に本発明の第3の利点は、触媒に使用する金属種
を選択することで、FC−14とFC−116の生成す
る比率を変化させることができる点である。
【0014】上記のように、副生成物として、CO2 、
CO、COF2 が発生するが、COF2 は水と容易に反
応してCO2 とHFになるため反応ガスを洗浄すること
で容易に除去することができる。また、反応式[5]及
び反応式[6]に示されるように、CO2 も触媒上に炭
素が析出することの防止に寄与している。熱分解反応中
に酸素を供給するのと同様に、CO2 を供給しても良い
が、酸素ほどの効果は得られない。
CO、COF2 が発生するが、COF2 は水と容易に反
応してCO2 とHFになるため反応ガスを洗浄すること
で容易に除去することができる。また、反応式[5]及
び反応式[6]に示されるように、CO2 も触媒上に炭
素が析出することの防止に寄与している。熱分解反応中
に酸素を供給するのと同様に、CO2 を供給しても良い
が、酸素ほどの効果は得られない。
【0015】酸素/HFC−23のモル比は0.1〜
1.0の範囲が好ましく、より好ましくは0.2〜0.
5の範囲である。モル比が0.1未満であると酸素によ
る触媒上の炭素析出防止効果が小さく触媒上に炭素が蓄
積して行くため活性の維持ができなくなる。モル比が
1.0を超えると上記反応式[7]の副反応が顕著とな
り低級パーフルオロアルカンの生成量が減少する。更に
注目すべき点は、酸素/HFC−23のモル比を変える
ことで、FC−116の生成比率を変えられることであ
る。酸素/HFC−23のモル比を0.2〜0.5の範
囲内で低くすることで、FC−116の生成比率を高く
することができる。
1.0の範囲が好ましく、より好ましくは0.2〜0.
5の範囲である。モル比が0.1未満であると酸素によ
る触媒上の炭素析出防止効果が小さく触媒上に炭素が蓄
積して行くため活性の維持ができなくなる。モル比が
1.0を超えると上記反応式[7]の副反応が顕著とな
り低級パーフルオロアルカンの生成量が減少する。更に
注目すべき点は、酸素/HFC−23のモル比を変える
ことで、FC−116の生成比率を変えられることであ
る。酸素/HFC−23のモル比を0.2〜0.5の範
囲内で低くすることで、FC−116の生成比率を高く
することができる。
【0016】反応温度は500〜900℃の範囲が望ま
しく、より望ましくは650〜800℃の範囲であり、
触媒に使用する金属のフッ化物の融点を越えない温度を
選択する。500℃未満の温度ではHFC−23の反応
率が低くなり、900℃を超える温度では反応器の材質
の腐食量が著しく増加し、また、触媒の構造変化が発生
し活性低下を生ずるため好ましくない。
しく、より望ましくは650〜800℃の範囲であり、
触媒に使用する金属のフッ化物の融点を越えない温度を
選択する。500℃未満の温度ではHFC−23の反応
率が低くなり、900℃を超える温度では反応器の材質
の腐食量が著しく増加し、また、触媒の構造変化が発生
し活性低下を生ずるため好ましくない。
【0017】本発明の反応形式は、流動床でも固定床で
も可能であり、触媒の製造方法及び形状については特に
制限されない。固定床での触媒は、金属フッ化物を成形
したものを使用しても良いし、金属酸化物の焼結体をフ
ッ化水素またはフッ素でフッ素化したものを使用しても
良いし、各触媒金属の塩化物もしくは硝酸塩もしくは硫
酸塩等の水溶液を例えばアルミナのような、そのフッ化
物が担体となり得るようなポーラスな金属酸化物に含浸
させ、乾燥、焼成したものをフッ化水素またはフッ素で
フッ素化したものを使用しても良い。金属フッ化物を触
媒として充填した場合、反応中にオキシフッ化物となる
と考えられる。
も可能であり、触媒の製造方法及び形状については特に
制限されない。固定床での触媒は、金属フッ化物を成形
したものを使用しても良いし、金属酸化物の焼結体をフ
ッ化水素またはフッ素でフッ素化したものを使用しても
良いし、各触媒金属の塩化物もしくは硝酸塩もしくは硫
酸塩等の水溶液を例えばアルミナのような、そのフッ化
物が担体となり得るようなポーラスな金属酸化物に含浸
させ、乾燥、焼成したものをフッ化水素またはフッ素で
フッ素化したものを使用しても良い。金属フッ化物を触
媒として充填した場合、反応中にオキシフッ化物となる
と考えられる。
【0018】各金属の内で特に、亜鉛、ニッケル、イン
ジウムはFC−116を選択的に生成し、銅及び鉄はH
FC−23の酸化反応(上記反応式[7])を抑制する
作用に優れ、マンガン、鉛、アルミは副生物のオクタフ
ルオロプロパン、オクタフルオロシクロブタン、ペンタ
フルオロエタン等の生成を抑制する作用がある。本発明
の触媒に用いる金属は、単独で用いても良いし、1種類
以上を混合して用いても良い。
ジウムはFC−116を選択的に生成し、銅及び鉄はH
FC−23の酸化反応(上記反応式[7])を抑制する
作用に優れ、マンガン、鉛、アルミは副生物のオクタフ
ルオロプロパン、オクタフルオロシクロブタン、ペンタ
フルオロエタン等の生成を抑制する作用がある。本発明
の触媒に用いる金属は、単独で用いても良いし、1種類
以上を混合して用いても良い。
【0019】本発明に用いる反応器の構造及び材質に
は、特に制限を受けない。本発明による反応温度が確保
できる反応器で、反応ガス雰囲気での腐食に耐える材質
であれば良い。また、反応圧力については厳密な制限は
なく、常圧で反応は進行し、減圧、加圧でもなんら支障
はない。
は、特に制限を受けない。本発明による反応温度が確保
できる反応器で、反応ガス雰囲気での腐食に耐える材質
であれば良い。また、反応圧力については厳密な制限は
なく、常圧で反応は進行し、減圧、加圧でもなんら支障
はない。
【0020】
【実施例】以下本発明を実施例、比較例により、具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定され
るものではない。 (実施例1)比表面積が150m2 /g、嵩密度が0.
37g/cc、吸水率が1.3のアルミナ(日揮ユニバ
ーサル社製NST−3)に塩化ニッケル水溶液をNi/
Alモル比が0.3になるように含浸させ、常圧下、1
20℃で24時間乾燥し、450℃で窒素気流中5時間
焼成し、フッ化水素を用いて400℃で触媒の85%を
フッ素化し、更に750℃でフッ素ガスにてフッ素化処
理を行い触媒を調製した。調製した触媒を反応器に10
0cc充填し、反応温度750℃、接触時間2.4秒、
モル比(O2 /HFC−23)0.35で反応を行っ
た。1時間後の反応結果を表1に示した。
に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定され
るものではない。 (実施例1)比表面積が150m2 /g、嵩密度が0.
37g/cc、吸水率が1.3のアルミナ(日揮ユニバ
ーサル社製NST−3)に塩化ニッケル水溶液をNi/
Alモル比が0.3になるように含浸させ、常圧下、1
20℃で24時間乾燥し、450℃で窒素気流中5時間
焼成し、フッ化水素を用いて400℃で触媒の85%を
フッ素化し、更に750℃でフッ素ガスにてフッ素化処
理を行い触媒を調製した。調製した触媒を反応器に10
0cc充填し、反応温度750℃、接触時間2.4秒、
モル比(O2 /HFC−23)0.35で反応を行っ
た。1時間後の反応結果を表1に示した。
【0021】(実施例2)塩化亜鉛水溶液を用いZn/
Alモル比を0.3としたこと以外は実施例1と同様に
して触媒を調製し、実施例1と同じ反応条件で反応を行
った。1時間後の反応結果を表1に示した。
Alモル比を0.3としたこと以外は実施例1と同様に
して触媒を調製し、実施例1と同じ反応条件で反応を行
った。1時間後の反応結果を表1に示した。
【0022】(実施例3)塩化鉄水溶液を用いFe/A
lモル比を0.3としたこと以外は実施例1と同様にし
て触媒を調製し、実施例1と同じ反応条件で反応を行っ
た。1時間後の反応結果を表1に示した。
lモル比を0.3としたこと以外は実施例1と同様にし
て触媒を調製し、実施例1と同じ反応条件で反応を行っ
た。1時間後の反応結果を表1に示した。
【0023】(実施例4)硝酸銅水溶液を用いCu/A
lモル比を0.1としたこと以外は実施例1と同様にし
て触媒を調製し、実施例1と同じ反応条件で反応を行っ
た。1時間後の反応結果を表1に示した。
lモル比を0.1としたこと以外は実施例1と同様にし
て触媒を調製し、実施例1と同じ反応条件で反応を行っ
た。1時間後の反応結果を表1に示した。
【0024】(実施例5)実施例1に用いたアルミナを
フッ化水素を用いて400℃で触媒の85%をフッ素化
し、更に750℃でフッ素ガスにてフッ素化処理を行い
触媒を調製した。調製した触媒を反応器100cc充填
し、反応温度750℃、接触時間2.4秒、モル比0.
35で反応を行った。1時間後の反応結果を表1に示し
た。
フッ化水素を用いて400℃で触媒の85%をフッ素化
し、更に750℃でフッ素ガスにてフッ素化処理を行い
触媒を調製した。調製した触媒を反応器100cc充填
し、反応温度750℃、接触時間2.4秒、モル比0.
35で反応を行った。1時間後の反応結果を表1に示し
た。
【0025】実施例1〜5より、アルミのみの触媒の場
合(実施例5)より、ニッケル及び亜鉛を担持した触媒
を用いると(実施例1、実施例2)、FC−14より、
選択的にFC−116の生成量が増加し、鉄及び銅を担
持した触媒を用いると(実施例3、実施例4)、FC−
14及びFC−116共に生成量が増加した。
合(実施例5)より、ニッケル及び亜鉛を担持した触媒
を用いると(実施例1、実施例2)、FC−14より、
選択的にFC−116の生成量が増加し、鉄及び銅を担
持した触媒を用いると(実施例3、実施例4)、FC−
14及びFC−116共に生成量が増加した。
【0026】(実施例6)モル比(O2 /HFC−2
3)を0.5とした以外は実施例1と同じ条件で反応を
行った。1時間後の反応結果を表1に示した。
3)を0.5とした以外は実施例1と同じ条件で反応を
行った。1時間後の反応結果を表1に示した。
【0027】(実施例7)反応温度を650℃とした以
外は実施例1と同じ条件で反応を行った。1時間後の反
応結果を表1に示した。
外は実施例1と同じ条件で反応を行った。1時間後の反
応結果を表1に示した。
【0028】実施例1と実施例6との比較より、モル比
(O2 /HFC−23)を変えることにより、FC−1
4とFC−116の生成比率を変えることができること
がわかる。モル比(O2 /HFC−23)を0.5(実
施例6)から0.35(実施例1)と低くすることで、
FC−116の生成比率を高くすることができることが
わかる。また、実施例1と実施例7との比較より、反応
温度を750℃から650℃に下げることにより、パー
フルオロアルカンの生成速度が低下することがわかる。
(O2 /HFC−23)を変えることにより、FC−1
4とFC−116の生成比率を変えることができること
がわかる。モル比(O2 /HFC−23)を0.5(実
施例6)から0.35(実施例1)と低くすることで、
FC−116の生成比率を高くすることができることが
わかる。また、実施例1と実施例7との比較より、反応
温度を750℃から650℃に下げることにより、パー
フルオロアルカンの生成速度が低下することがわかる。
【0029】(実施例8)実施例2の触媒を反応器に1
00cc充填し、反応温度750℃、触媒時間2.4
秒、モル比0.35で連続して反応を行った。500時
間経過しても触媒活性の低下はなかった。
00cc充填し、反応温度750℃、触媒時間2.4
秒、モル比0.35で連続して反応を行った。500時
間経過しても触媒活性の低下はなかった。
【0030】(比較例1)実施例2の触媒を反応器に1
00cc充填し、反応温度750℃、触媒時間2.4秒
で酸素を供給せずに反応を行った。反応を開始してから
1時間後のFC−14の空間時間収率は1g/hr/c
at−lであり、FC−116の空間時間収率は94g
/hr/cat−lであった。反応を継続するとFC−
14とFC−116の空間時間収率は、徐々に低下し、
50時間後のFC−14及びFC−116の空間時間収
率は0g/hr/cat−lであった。
00cc充填し、反応温度750℃、触媒時間2.4秒
で酸素を供給せずに反応を行った。反応を開始してから
1時間後のFC−14の空間時間収率は1g/hr/c
at−lであり、FC−116の空間時間収率は94g
/hr/cat−lであった。反応を継続するとFC−
14とFC−116の空間時間収率は、徐々に低下し、
50時間後のFC−14及びFC−116の空間時間収
率は0g/hr/cat−lであった。
【0031】比較例1と実施例8との比較より、HFC
−23のみの反応では、炭素の析出により触媒活性が低
下し、HFC−23と共に酸素を供給すると触媒活性の
低下がなく、触媒の活性の維持ができることが明らかで
ある。
−23のみの反応では、炭素の析出により触媒活性が低
下し、HFC−23と共に酸素を供給すると触媒活性の
低下がなく、触媒の活性の維持ができることが明らかで
ある。
【0032】
【表1】
【0033】
【発明の効果】本発明の低級パーフルオロアルカンの製
造方法により、FC−14もしくはFC−116などの
低級パーフルオロアルカンの収率が増加し、触媒の活性
低下を起こすことなく、連続して、FC−14、FC−
116などの低級パーフルオロアルカンを高収率、低価
格で製造することができる。本発明の低級パーフルオロ
アルカンの製造方法により、低級パーフルオロアルカン
の空間時間収率が増加するため、使用する触媒量が少な
くてすみ、反応器のコンパクト化が可能となり、経済的
である。更に、触媒に使用する金属種を選択すること
で、FC−14とFC−116の生成する比率を変化さ
せることができる。更に、酸素/HFC−23のモル比
を変えることで、FC−116の生成比率を変えること
ができ、酸素/HFC−23のモル比を0.2〜0.5
の範囲内で低くすることで、FC−116の生成比率を
高くすることができる。
造方法により、FC−14もしくはFC−116などの
低級パーフルオロアルカンの収率が増加し、触媒の活性
低下を起こすことなく、連続して、FC−14、FC−
116などの低級パーフルオロアルカンを高収率、低価
格で製造することができる。本発明の低級パーフルオロ
アルカンの製造方法により、低級パーフルオロアルカン
の空間時間収率が増加するため、使用する触媒量が少な
くてすみ、反応器のコンパクト化が可能となり、経済的
である。更に、触媒に使用する金属種を選択すること
で、FC−14とFC−116の生成する比率を変化さ
せることができる。更に、酸素/HFC−23のモル比
を変えることで、FC−116の生成比率を変えること
ができ、酸素/HFC−23のモル比を0.2〜0.5
の範囲内で低くすることで、FC−116の生成比率を
高くすることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300
Claims (5)
- 【請求項1】 トリフルオロメタン(CHF3 )と酸素
の混合比(モル比:酸素/トリフルオロメタン)が0.
1〜1.0の混合ガスを500〜900℃の温度範囲で
触媒存在下、この触媒に接触させて反応させることを特
徴とする低級パーフルオロアルカンの製造方法。 - 【請求項2】 触媒が、18族型元素周期表の8族、1
0族、11族、12族および13族から選ばれる少なく
とも1つの金属の塩又は酸化物を無水フッ酸又はフッ素
ガスで処理をしたものを使用することを特徴とする請求
項1に記載の製造方法。 - 【請求項3】 低級パーフルオロアルカンがヘキサフル
オロエタン(CF3CF3 )であることを特徴とする請
求項1あるいは請求項2に記載の製造方法。 - 【請求項4】 前記金属が亜鉛および/またはニッケル
であることを特徴とする請求項2あるいは請求項3に記
載の製造方法。 - 【請求項5】 トリフルオロメタン(CHF3 )と酸素
の混合比を0.2〜0.5の範囲で変えることにより、
生成物中のヘキサフルオロエタン(CF3 CF3 )の比
率を変えることを特徴とする請求項1ないし請求項4に
記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8065985A JPH09255596A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 低級パーフルオロアルカンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8065985A JPH09255596A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 低級パーフルオロアルカンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09255596A true JPH09255596A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13302824
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8065985A Pending JPH09255596A (ja) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | 低級パーフルオロアルカンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09255596A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100353491B1 (ko) * | 2000-02-22 | 2002-09-19 | 울산화학주식회사 | 퍼플르오로에탄의 제조방법 |
| WO2003014047A1 (en) * | 2001-08-06 | 2003-02-20 | Showa Denko K. K. | Production and use of hexafluoroethane |
| JP2003055277A (ja) * | 2001-08-16 | 2003-02-26 | Showa Denko Kk | ヘキサフルオロエタンの製造方法およびその用途 |
| JP2003055278A (ja) * | 2001-08-06 | 2003-02-26 | Showa Denko Kk | ヘキサフルオロエタンの製造方法およびその用途 |
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| CN113620841A (zh) * | 2021-08-03 | 2021-11-09 | 南京硕达生物科技有限公司 | 一种制备2,6-二氟苯腈的方法 |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP8065985A patent/JPH09255596A/ja active Pending
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