JPH0925574A - 基体保持装置 - Google Patents

基体保持装置

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JPH0925574A
JPH0925574A JP19582395A JP19582395A JPH0925574A JP H0925574 A JPH0925574 A JP H0925574A JP 19582395 A JP19582395 A JP 19582395A JP 19582395 A JP19582395 A JP 19582395A JP H0925574 A JPH0925574 A JP H0925574A
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JP
Japan
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holder
revolving shaft
shafts
oscillation
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP19582395A
Other languages
English (en)
Inventor
Satoru Nishiyama
哲 西山
Hiroshi Morino
弘 森野
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Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 凹凸形状の3次元構造物である基体の表面に
均一に成膜或いはイオン照射をできるようにする。 【解決手段】 チャンバ1内に気密に導入された回転軸
21と、裏面中央部が回転軸21の先端に自在継手23
を介して連結され,表面に基体32を保持する保持体2
2と、回転軸21にほぼ平行に設けられ,回転軸21を
中心にほぼ等間隔に位置し,先端が保持体22の裏面に
当接した複数個の揺動用軸30と、各揺動用軸30を各
揺動用軸30の軸方向に順次移動させる移動手段31と
を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、成膜或いはイオン
照射される基体を保持する基体保持装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、基体表面に成膜を行うことが、近
年PVD法(物理蒸着法)によって盛んに行われてい
る。また、クリーニングやエッチングによる加工、或い
はイオン注入や成膜のために基体の表面にイオンを照射
することも工業的に広く普及している。この際、3次元
構造の基体、例えば凹凸状の基体表面に均一に膜を形成
したり、イオンを照射するための様々な装置が提案され
ており、例えばイオン照射に対するものとしては、実開
昭64−26365号公報に記載された装置がある。
【0003】この公報に記載された装置は、図3に示す
ものであり、同図において、1は筒状のチャンバ、2は
チャンバ1の上面の開口3を気密に閉塞した蓋板、4は
蓋板2の外側に設けられたモータ、5はモータ4の回転
軸であり、回転軸5が蓋板2を気密に貫通し、チャンバ
1内に導入されている。6は回転軸5の先端に固着され
た支持台であり、端面が傾斜している。7は支持台6の
端面に垂直にボールベアリング8を介して支持された保
持体であり、回転軸5に対し偏心した位置に設けられて
いる。9は保持体7に保持された基体である。
【0004】10は蓋板2の内面に回転軸5に平行に設
けられたアイドルプーリ、11は回転軸5の回転をプー
リ10に伝達する回転ベルト、12はプーリ10の回転
を保持体7に伝達する伸縮自在のゴムベルト、13は回
転軸5の下方に位置したターゲット、14はイオン銃で
ある。
【0005】そして、回転軸5の回転により支持台6を
介して保持体7が回動するとともに、回転軸5の回転が
回転ベルト11,プーリ10,ゴムベルト12を介して
保持体7が回転し、イオン銃から射出されたイオンビー
ムがターゲット13に衝突し、スパッタされて飛び出し
たイオンが保持体7に保持された基体9に照射される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の前記基体保持装
置の場合、凹形状の基体9の表面に均一に成膜或いはイ
オン照射をすることができないという問題点がある。
【0007】本発明は、前記の点に留意し、基体が凹形
状等の3次元構造物であっても、基体表面に均一に成膜
或いはイオン照射をすることのできる簡単な機構の基体
保持装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明の基体保持装置は、チャンバ内に気密に導入
された回転軸と、回転軸の先端に自在継手を介して裏面
中央部が連結され,表面に基体を保持する保持体と、回
転軸にほぼ平行に,かつ,回転軸を中心にほぼ等間隔の
位置に設けられ,先端が保持体の裏面に当接した複数個
の揺動用軸と、各揺動用軸の軸方向に順次移動させる移
動手段とを備えたものである。
【0009】従って、基体の表面への成膜或いはイオン
照射時に、回転軸の回転により保持体が回転軸を中心と
して回転するとともに、各揺動用軸が移動手段により順
次移動して保持体が揺動し、基体が凹凸形状の3次元構
造物であっても、表面に均一に成膜或いはイオン照射を
することができ、かつ、機構が簡単である。
【0010】また、揺動用軸の軸方向の移動量の変化に
より保持体の回転軸に対する傾きの変化量を任意に調整
でき、基体に成膜或いはイオン照射ができる。
【0011】
【発明の実施の形態】1形態について、切断正面図の図
1及び一部の平面図の図2を参照して説明する。それら
の図において、15はチャンバ1の蓋板2に形成された
開口、16は開口15を閉塞した取付板、17は蓋板2
の開口15の周縁部と取付板16との間に介在したOリ
ングであり、チャンバ1内の気密を保持している。
【0012】18は取付板16に装着されたモータ19
の支持板、20は取付板16と支持板18との間に介在
したOリング、21はモータ19の回転軸であり、支持
板18,取付板16を貫通し、チャンバ1内に導入され
ている。22は裏面中央部が回転軸21の先端に自在継
手23を介して連結された円板状の保持体、24は保持
体22の裏面に回転軸21を中心に同心円状に形成され
た環状溝である。
【0013】25は3個のエアシリンダであり、回転軸
21の同一円周上に等間隔に支持手段(図示せず)によ
り取付板16に支持されている。26は取付板16を貫
通したエアシリンダ25のシリンダ軸、27は取付板1
6を貫通して設けられたベローズであり、中央部の剛体
部分が取付板16を貫通して固着され、両端の可動部が
シリンダ軸26に固着され、チャンバ1内に導入された
シリンダ軸26の気密を維持している。
【0014】28は取付板16の内面に植設された3本
の支持杆、29は支持杆28の先端部に回動自在に支持
されたリンクであり、一端部がシリンダ軸26の先端部
に連結されている。30は3個の揺動用軸であり、回転
軸21にほぼ平行に、かつ、回転軸21の同一円周上に
ほぼ等間隔に位置し、揺動用軸30の基部がリンク29
の他端部に連結され、先端が保持体22の環状溝24に
挿入されている。
【0015】そして、エアシリンダ25,シリンダ軸2
6,ベローズ27,支持杆28,リンク29により、各
揺動用軸30が順次軸方向に移動させる移動手段31が
形成され、保持体22の表面に成膜面或いはイオン照射
面が凸状或いは凹状の基体32が保持されている。
【0016】つぎに、動作について説明する。モータ1
9の駆動による回転軸21の回転により自在継手23を
介して保持体22が回転するとともに、移動手段31に
おける各エアシリンダ25の駆動により、各シリンダ軸
26が軸方向に移動し、リンク29を介して各揺動用軸
30が順次軸方向に移動し、各揺動用軸30の先端が環
状溝24にはまった状態で保持体22を揺動し、回転軸
21に対する保持体22の面のなす角が、回転軸21の
回転速度とは関係なく変化し、基体32に成膜或いはイ
オン照射が行われる。
【0017】なお、揺動用軸30は3個に限定されるも
のではなく、また、各揺動用軸30のガイドは環状溝2
4に限定されるものではない。
【0018】
【発明の効果】本発明は、以下に記載する効果を奏す
る。本発明の基体保持装置は、チャンバ1内に気密に導
入された回転軸21の先端に、保持体22の裏面中央部
が自在継手23を介して連結され,保持体22の表面に
基体32が保持され、回転軸21とほぼ平行に、回転軸
21を中心にほぼ等間隔に設けられた揺動用軸30が保
持体22の裏面に当接し、移動手段31が各揺動用軸3
0を順次軸方向に移動させるため、基体32の表面への
成膜或いはイオン照射時に、回転軸21の回転により保
持体22が回転軸21を中心として回転するとともに、
各揺動用軸30が移動手段31により順次軸方向に移動
して保持体22が揺動し、基体32が凹凸形状の3次元
構造物であっても、表面に均一に成膜或いはイオン照射
をすることができ、かつ、機構が簡単である。
【0019】また、揺動用軸30の軸方向の移動量の変
化により保持体22の回転軸21に対する傾きの変化量
を任意に調整でき、基体32に成膜或いはイオン照射を
行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例の切断正面図である。
【図2】図1の一部の平面図である。
【図3】従来例の切断正面図である。
【符号の説明】
1 チャンバ 21 回転軸 22 保持体 23 自在継手 30 揺動用軸 31 移動手段 32 基体

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に成膜或いはイオン照射される基体
    を保持する基体保持装置において、 チャンバ内に気密に導入された回転軸と、 裏面中央部が前記回転軸の先端に自在継手を介して連結
    され表面に前記基体を保持する保持体と、 前記回転軸にほぼ平行に,かつ,前記回転軸を中心にほ
    ぼ等間隔の位置に設けられ,先端が前記保持体の裏面に
    当接した複数個の揺動用軸と、 該各揺動用軸を該各揺動用軸の軸方向に順次移動させる
    移動手段とを備えた基体保持装置。
JP19582395A 1995-07-07 1995-07-07 基体保持装置 Pending JPH0925574A (ja)

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JP19582395A JPH0925574A (ja) 1995-07-07 1995-07-07 基体保持装置

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JP19582395A JPH0925574A (ja) 1995-07-07 1995-07-07 基体保持装置

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