JPH09255941A - 撥水処理剤およびその製造方法 - Google Patents
撥水処理剤およびその製造方法Info
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- JPH09255941A JPH09255941A JP6950796A JP6950796A JPH09255941A JP H09255941 A JPH09255941 A JP H09255941A JP 6950796 A JP6950796 A JP 6950796A JP 6950796 A JP6950796 A JP 6950796A JP H09255941 A JPH09255941 A JP H09255941A
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- water repellent
- repellent treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
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- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた撥水性、防汚性を与えることができ、
かつ処理時間も短くて済み、撥水処理の作業性に優れた
撥水処理剤およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 アルコキシ基またはアシロキシ基を有す
る有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物なら
びに有機溶媒を含有する撥水処理剤において、前記有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物が0.01
〜0.1重量%の濃度で含有され、かつ前記有機溶媒が
非極性溶媒を50〜99.95重量%含有することを特
徴とする撥水処理剤である。
かつ処理時間も短くて済み、撥水処理の作業性に優れた
撥水処理剤およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 アルコキシ基またはアシロキシ基を有す
る有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物なら
びに有機溶媒を含有する撥水処理剤において、前記有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物が0.01
〜0.1重量%の濃度で含有され、かつ前記有機溶媒が
非極性溶媒を50〜99.95重量%含有することを特
徴とする撥水処理剤である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、建築、自動車、車
両、航空機あるいは船舶などの風防ガラス、光学部品レ
ンズその他のガラス製品等の透明物品またはセラミック
スなどの不透明物品の親水性表面に優れた撥水性および
防汚性を与え、かつ、その処理作業性に優れた撥水処理
剤およびその製造方法に関する。
両、航空機あるいは船舶などの風防ガラス、光学部品レ
ンズその他のガラス製品等の透明物品またはセラミック
スなどの不透明物品の親水性表面に優れた撥水性および
防汚性を与え、かつ、その処理作業性に優れた撥水処理
剤およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】透明物品や不透明物品に表面処理を施し
て、撥水性、防汚性の機能を付加させることは、多くの
分野で重要な技術であり、ガラスやセラミックスなどの
無機質材料の表面を各種表面処理剤で処理して表面の性
質を改良し高性能化、応用範囲拡大等を図る研究が種々
行われている。その1つとして、本来親水性の表面をシ
リコーン系組成物など撥水剤で処理して撥水性表面に改
質するという方法が提案されており、特に特公昭55−
29024号公報にはパーフルオロアルキル基を含有す
るシラン、酸、および非極性有機溶媒からなるガラスの
撥水処理剤が開示され、特開平2−233535号公報
にはパーフルオロアルキル基を含有するシラン、オルガ
ノポリシロキサン、酸、および揮発性有機溶媒からなる
ガラスの表面処理が開示され、特開平4−144940
号公報には、オルガノポリシロキサン、パーフルオロア
ルキル基含有シランまたはシロキサン、および酸からな
る撥水撥油剤組成物が提案されている。
て、撥水性、防汚性の機能を付加させることは、多くの
分野で重要な技術であり、ガラスやセラミックスなどの
無機質材料の表面を各種表面処理剤で処理して表面の性
質を改良し高性能化、応用範囲拡大等を図る研究が種々
行われている。その1つとして、本来親水性の表面をシ
リコーン系組成物など撥水剤で処理して撥水性表面に改
質するという方法が提案されており、特に特公昭55−
29024号公報にはパーフルオロアルキル基を含有す
るシラン、酸、および非極性有機溶媒からなるガラスの
撥水処理剤が開示され、特開平2−233535号公報
にはパーフルオロアルキル基を含有するシラン、オルガ
ノポリシロキサン、酸、および揮発性有機溶媒からなる
ガラスの表面処理が開示され、特開平4−144940
号公報には、オルガノポリシロキサン、パーフルオロア
ルキル基含有シランまたはシロキサン、および酸からな
る撥水撥油剤組成物が提案されている。
【0003】更に特公平7−63670号公報にはフル
オロアルキル基を含有するクロロシラン化合物をヘキサ
デカン、四塩化炭素、クロロホルムなどの非水系溶媒に
溶解して調製した吸着用液にガラスを浸漬する方法など
が示されている。
オロアルキル基を含有するクロロシラン化合物をヘキサ
デカン、四塩化炭素、クロロホルムなどの非水系溶媒に
溶解して調製した吸着用液にガラスを浸漬する方法など
が示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特公昭
55−29024号、特開平2−233535号および
特開平4−144940号公報では、塗布した後に過剰
の撥水剤を除去するのに手間がかかり、作業性に劣るな
どの欠点を有していた。
55−29024号、特開平2−233535号および
特開平4−144940号公報では、塗布した後に過剰
の撥水剤を除去するのに手間がかかり、作業性に劣るな
どの欠点を有していた。
【0005】特公平7−63670号公報では溶媒中に
含まれる微量の水分によりクロロシラン化合物が自己縮
合してしまい、基材表面との反応性が低下するので、溶
媒に予め十分な脱水処理を行う必要があり、また反応工
程中は35%以下の相対湿度を有する乾燥雰囲気環境を
必要とするため、建築用、自動車用ガラスなどの大きさ
を処理する場合には大がかりな設備が必要になり、更に
クロロシラン化合物の濃度を低く保つ化学吸着方式であ
るため浸漬処理時間を大きくする必要があり、生産性が
低いものであった。
含まれる微量の水分によりクロロシラン化合物が自己縮
合してしまい、基材表面との反応性が低下するので、溶
媒に予め十分な脱水処理を行う必要があり、また反応工
程中は35%以下の相対湿度を有する乾燥雰囲気環境を
必要とするため、建築用、自動車用ガラスなどの大きさ
を処理する場合には大がかりな設備が必要になり、更に
クロロシラン化合物の濃度を低く保つ化学吸着方式であ
るため浸漬処理時間を大きくする必要があり、生産性が
低いものであった。
【0006】本発明はこのような欠点を改良し、優れた
撥水性、防汚性を与えることができ、かつ処理時間も短
く撥水処理の作業性に優れた撥水処理剤およびその製造
方法を提供することを目的とする。
撥水性、防汚性を与えることができ、かつ処理時間も短
く撥水処理の作業性に優れた撥水処理剤およびその製造
方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、アルコキシ基
またはアシロキシ基とフルオロアルキル基を有する有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物ならびに有
機溶媒を含有する撥水処理剤において、前記有機ケイ素
化合物および/またはその加水分解物が0.01〜0.
1重量%の濃度で含有され、かつ前記有機溶媒が非極性
溶媒を50〜99.95重量%含有することを特徴とす
る撥水処理剤である。
またはアシロキシ基とフルオロアルキル基を有する有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物ならびに有
機溶媒を含有する撥水処理剤において、前記有機ケイ素
化合物および/またはその加水分解物が0.01〜0.
1重量%の濃度で含有され、かつ前記有機溶媒が非極性
溶媒を50〜99.95重量%含有することを特徴とす
る撥水処理剤である。
【0008】本発明の撥水処理剤において用いられるア
ルコキシ基またはアシロキシ基とフルオロアルキル基を
有する有機ケイ素化合物としては、アルコキシ基または
アシロキシ基を含有するフルオロアルキルシラン化合
物、アルコキシ基またはアシロキシ基とフルオロアルキ
ル基を有するシロキサン化合物が挙げられる。アルコキ
シ基またはアシロキシ基を有するフルオロアルキルシラ
ン化合物としては、1分子中にフルオロアルキル基とア
ルコキシ基またはアシロキシ基を有するシランであれば
特に限定されないが、下記式(1)で示されるフルオロ
アルキルシラン化合物が好ましい。 Rf(CH2)2Si(CH3)p(Z)3-p (1)
ルコキシ基またはアシロキシ基とフルオロアルキル基を
有する有機ケイ素化合物としては、アルコキシ基または
アシロキシ基を含有するフルオロアルキルシラン化合
物、アルコキシ基またはアシロキシ基とフルオロアルキ
ル基を有するシロキサン化合物が挙げられる。アルコキ
シ基またはアシロキシ基を有するフルオロアルキルシラ
ン化合物としては、1分子中にフルオロアルキル基とア
ルコキシ基またはアシロキシ基を有するシランであれば
特に限定されないが、下記式(1)で示されるフルオロ
アルキルシラン化合物が好ましい。 Rf(CH2)2Si(CH3)p(Z)3-p (1)
【0009】式(1)中のRf は、炭素数が3〜20、
好ましくは炭素数が6から10のパーフルオロアルキル
基であり、アルコキシ基またはアシロキシ基Zは、−O
CH3、OC2H5、−OC3H6、−OC4H9、−OCO
CH3、−OCOC2H5等が例示され、好ましくは−O
CH3,−OC2H5 で表されるアルコキシ基である。p
は0、1または2であり、0、1が好ましい。このフル
オロアルキルシラン化合物としては、例えばヘプタデカ
フルオロデシルトリメトキシシラン CF3(CF2)
7(CH2)2Si(OCH3)3、 ヘプタデカフルオロデ
シルメチルジメトキシシラン CF3(CF2)7(C
H2)2SiCH3(OCH3)2 などが挙げられ、特にC
F3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3が好ましい。
好ましくは炭素数が6から10のパーフルオロアルキル
基であり、アルコキシ基またはアシロキシ基Zは、−O
CH3、OC2H5、−OC3H6、−OC4H9、−OCO
CH3、−OCOC2H5等が例示され、好ましくは−O
CH3,−OC2H5 で表されるアルコキシ基である。p
は0、1または2であり、0、1が好ましい。このフル
オロアルキルシラン化合物としては、例えばヘプタデカ
フルオロデシルトリメトキシシラン CF3(CF2)
7(CH2)2Si(OCH3)3、 ヘプタデカフルオロデ
シルメチルジメトキシシラン CF3(CF2)7(C
H2)2SiCH3(OCH3)2 などが挙げられ、特にC
F3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3が好ましい。
【0010】本発明の撥水処理剤においては、有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物が撥水処理剤中
に、0.01〜0.1重量%、好ましくは0.02〜
0.09重量%の濃度で含有することが重要であり、
0.01重量%より少なくても0.1重量%より多くて
も撥水性と作業性の両方を満足させることができない。
素化合物および/またはその加水分解物が撥水処理剤中
に、0.01〜0.1重量%、好ましくは0.02〜
0.09重量%の濃度で含有することが重要であり、
0.01重量%より少なくても0.1重量%より多くて
も撥水性と作業性の両方を満足させることができない。
【0011】本発明の撥水処理剤は、有機ケイ素化合物
および/またはその加水分解物を有機溶媒と混合するだ
けでも良いが、アルコキシ基またはアシロキシ基を有す
る有機ケイ素化合物を水、触媒と共に、これらを溶解す
ることができる溶媒中で加水分解したものを用いること
が好ましい。
および/またはその加水分解物を有機溶媒と混合するだ
けでも良いが、アルコキシ基またはアシロキシ基を有す
る有機ケイ素化合物を水、触媒と共に、これらを溶解す
ることができる溶媒中で加水分解したものを用いること
が好ましい。
【0012】加水分解を行う際の溶媒は、極性溶媒が好
ましく、例えば、メタノール、エタノール、i−プロパ
ノール、n−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタ
ノール、s−ブタノール、t−ブタノール等のアルコー
ル類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソルブ類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類などが挙げられる。使
用する極性性溶媒の量は有機ケイ素化合物1重量部に対
して通常1〜50重量部であり、有機ケイ素化合物、
水、および触媒を溶解することができる必要最小限度に
できるだけ近い少量を使用することが好ましい。
ましく、例えば、メタノール、エタノール、i−プロパ
ノール、n−プロパノール、n−ブタノール、i−ブタ
ノール、s−ブタノール、t−ブタノール等のアルコー
ル類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセ
ロソルブ、酢酸セロソルブ等のセロソルブ類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類などが挙げられる。使
用する極性性溶媒の量は有機ケイ素化合物1重量部に対
して通常1〜50重量部であり、有機ケイ素化合物、
水、および触媒を溶解することができる必要最小限度に
できるだけ近い少量を使用することが好ましい。
【0013】添加する水の量としては有機ケイ素化合物
中のアルコキシ基またはアシロキシ基のモル数に対して
0.1〜10当量、好ましくは0.5〜2当量が適当で
ある。0.1当量未満の場合は加水分解の割合が不十分
であるため被処理面との反応性が弱くなる場合があり、
10当量を越えても意味がない。
中のアルコキシ基またはアシロキシ基のモル数に対して
0.1〜10当量、好ましくは0.5〜2当量が適当で
ある。0.1当量未満の場合は加水分解の割合が不十分
であるため被処理面との反応性が弱くなる場合があり、
10当量を越えても意味がない。
【0014】本発明での加水分解反応の触媒として酸ま
たは塩基性触媒が用いられるが、酸が使用されることが
多く、酸の例としては塩酸、硫酸、硝酸、ギ酸、酢酸、
シュウ酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホ
ン酸,p−トルエンスルホン酸、トリクロロ酢酸、リン
酸等が挙げられる。触媒の使用量は前記有機ケイ素化合
物に対して0.1〜200重量%である。
たは塩基性触媒が用いられるが、酸が使用されることが
多く、酸の例としては塩酸、硫酸、硝酸、ギ酸、酢酸、
シュウ酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホ
ン酸,p−トルエンスルホン酸、トリクロロ酢酸、リン
酸等が挙げられる。触媒の使用量は前記有機ケイ素化合
物に対して0.1〜200重量%である。
【0015】加水分解反応は、特に限定されないが、通
常室温〜100℃程度の温度下で1分〜10日間程度の
時間で行う。
常室温〜100℃程度の温度下で1分〜10日間程度の
時間で行う。
【0016】本発明においては、有機ケイ素化合物およ
び/またはその加水分解物以外にフルオロアルキル基を
有さないオルガノポリシロキサン化合物を添加してもよ
い。オルガノポリシロキサン化合物としては、直鎖また
は分鎖状で、ヒドロキシ基またはアルコキシ基、アミノ
基などの加水分解性基を含有するオルガノポリシロキサ
ン化合物が用いられる。以下にその例を示す。
び/またはその加水分解物以外にフルオロアルキル基を
有さないオルガノポリシロキサン化合物を添加してもよ
い。オルガノポリシロキサン化合物としては、直鎖また
は分鎖状で、ヒドロキシ基またはアルコキシ基、アミノ
基などの加水分解性基を含有するオルガノポリシロキサ
ン化合物が用いられる。以下にその例を示す。
【0017】
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】
【0018】ただし、上記化学式中で、rは1〜100
の整数である。また、mは3〜100の整数、nは0ま
たは1〜50の整数で、かつ5≦m+n≦100であ
る。
の整数である。また、mは3〜100の整数、nは0ま
たは1〜50の整数で、かつ5≦m+n≦100であ
る。
【0019】本発明において、オルガノポリシロキサン
化合物は、被撥水処理面との反応性があまり高くないの
で、上記の有機ケイ素化合物の加水分解の際に予め添加
して有機ケイ素化合物と共加水分解することが好まし
い。共加水分解することによってオルガノポリシロキサ
ン化合物の反応性が高めることができる。
化合物は、被撥水処理面との反応性があまり高くないの
で、上記の有機ケイ素化合物の加水分解の際に予め添加
して有機ケイ素化合物と共加水分解することが好まし
い。共加水分解することによってオルガノポリシロキサ
ン化合物の反応性が高めることができる。
【0020】オルガノポリシロキサン化合物の添加量と
しては、重量比で有機ケイ素化合物100重量部に対
し、0〜200重量部の範囲が好ましい。この範囲を越
えると、有機ケイ素化合物の反応性が低下してしまい、
撥水処理すべき基材表面への吸着性能が不十分となる。
しては、重量比で有機ケイ素化合物100重量部に対
し、0〜200重量部の範囲が好ましい。この範囲を越
えると、有機ケイ素化合物の反応性が低下してしまい、
撥水処理すべき基材表面への吸着性能が不十分となる。
【0021】次に前記の方法で極性溶媒中で加水分解さ
れた有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物溶
液を非極性溶媒で希釈して撥水処理剤とする。この撥水
処理剤中の全有機溶媒中の非極性溶媒の比率が50重量
%〜99.95重量%になるように配合することが重要
である。この非極性溶媒の比率は好ましくは95重量%
〜99.95重量%、更に好ましくは99.0重量%〜
99.95重量%である。非極性溶媒が50重量%より
少ないと撥水性が不十分となることがあり、99.95
重量%より多いと被処理物への吸着性が悪くなる。非極
性溶媒の例としては、n−ペンタン、i−ペンタン、n
−ヘキサン、シクロヘキサン、n−オクタン、i−オク
タン等の炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム、C6F
14、C8F18等のハロゲン化炭化水素;トルエン、キシ
レン、ヘキサフルオロ−m−キシレン等の芳香族炭化水
素などが挙げられる。
れた有機ケイ素化合物および/またはその加水分解物溶
液を非極性溶媒で希釈して撥水処理剤とする。この撥水
処理剤中の全有機溶媒中の非極性溶媒の比率が50重量
%〜99.95重量%になるように配合することが重要
である。この非極性溶媒の比率は好ましくは95重量%
〜99.95重量%、更に好ましくは99.0重量%〜
99.95重量%である。非極性溶媒が50重量%より
少ないと撥水性が不十分となることがあり、99.95
重量%より多いと被処理物への吸着性が悪くなる。非極
性溶媒の例としては、n−ペンタン、i−ペンタン、n
−ヘキサン、シクロヘキサン、n−オクタン、i−オク
タン等の炭化水素;四塩化炭素、クロロホルム、C6F
14、C8F18等のハロゲン化炭化水素;トルエン、キシ
レン、ヘキサフルオロ−m−キシレン等の芳香族炭化水
素などが挙げられる。
【0022】また本発明において、有機ケイ素化合物の
加水分解用の触媒とは別に、非極性溶媒で希釈する際に
酸などの触媒を添加してもよい。この時の触媒は被撥水
処理材表面のOH基と有機ケイ素化合物および/または
その加水分解物の脱水縮合反応の触媒として作用する。
この場合の酸の例としては加水分解用の触媒と同様、塩
酸、硫酸、硝酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、メタンスルホ
ン酸、トリフロロメタンスルホン酸,p−トルエンスル
ホン酸、トリクロロ酢酸、リン酸等が挙げられる。この
触媒の添加量は撥水処理剤に対して10-5〜1重量%で
あるのが望ましい。
加水分解用の触媒とは別に、非極性溶媒で希釈する際に
酸などの触媒を添加してもよい。この時の触媒は被撥水
処理材表面のOH基と有機ケイ素化合物および/または
その加水分解物の脱水縮合反応の触媒として作用する。
この場合の酸の例としては加水分解用の触媒と同様、塩
酸、硫酸、硝酸、ギ酸、酢酸、シュウ酸、メタンスルホ
ン酸、トリフロロメタンスルホン酸,p−トルエンスル
ホン酸、トリクロロ酢酸、リン酸等が挙げられる。この
触媒の添加量は撥水処理剤に対して10-5〜1重量%で
あるのが望ましい。
【0023】本発明の撥水処理剤の配合およびその製造
方法の好ましい例は下記表1の通りである。ただし、
(A)〜(E)を加水分解させた後、非極性溶媒を添加
する。
方法の好ましい例は下記表1の通りである。ただし、
(A)〜(E)を加水分解させた後、非極性溶媒を添加
する。
【0024】
【表1】 (A)フルオロアルキルシラン化合物 0.01〜0.1重量部 (B)水 0.001〜0.1重量部 (C)酸または塩基性触媒 10-5〜1重量部 (D)オルガノポリシロキサン化合物 0〜0.1重量部 (E)極性溶媒 0.1〜50重量部 非極性溶媒 50〜99.9重量部 (ただし合計100重量部)
【0025】本発明において、非極性溶媒を用いること
により、短時間の浸漬処理で優れた撥水性能が得られる
理由は、以下のように推定される。加水分解された有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物は親水性を
有する部分と疎水性を有するフルオロアルキル基からな
る。この有機ケイ素化合物および/またはその加水分解
物を含有する撥水処理剤とガラスなどの親水性表面を有
する被撥水処理基材を接触させる際、もし撥水処理剤の
溶媒に親水性溶媒を用いた場合、親水性溶媒は、有機ケ
イ素化合物および/またはその加水分解物に優先して、
親水性である被撥水処理面に吸着し易く、そのため有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物と被撥水処
理面の反応が阻害される傾向がある。または、有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物は親水性溶媒中
で安定に存在するので、親水性溶媒中を移動して被撥水
処理面の方に向かう誘引力が働かないのかも知れない。
それに対して、非極性溶媒は被撥水処理面に吸着し難
く、そして親水性溶媒中であれば安定に存在する有機ケ
イ素化合物の加水分解物は多量の非極性溶媒中では安定
な状態で存在せず、より安定な状態になる被撥水処理面
の親水性表面に近づいて親水性表面と反応しやすくなる
と考えられる。親水性溶媒よりも多量に存在する非極性
溶媒は、親水性溶媒が被撥水処理面に吸着するための移
動を妨げ、被撥水処理面には有機ケイ素化合物の加水分
解物が優先して吸着することになる。
により、短時間の浸漬処理で優れた撥水性能が得られる
理由は、以下のように推定される。加水分解された有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物は親水性を
有する部分と疎水性を有するフルオロアルキル基からな
る。この有機ケイ素化合物および/またはその加水分解
物を含有する撥水処理剤とガラスなどの親水性表面を有
する被撥水処理基材を接触させる際、もし撥水処理剤の
溶媒に親水性溶媒を用いた場合、親水性溶媒は、有機ケ
イ素化合物および/またはその加水分解物に優先して、
親水性である被撥水処理面に吸着し易く、そのため有機
ケイ素化合物および/またはその加水分解物と被撥水処
理面の反応が阻害される傾向がある。または、有機ケイ
素化合物および/またはその加水分解物は親水性溶媒中
で安定に存在するので、親水性溶媒中を移動して被撥水
処理面の方に向かう誘引力が働かないのかも知れない。
それに対して、非極性溶媒は被撥水処理面に吸着し難
く、そして親水性溶媒中であれば安定に存在する有機ケ
イ素化合物の加水分解物は多量の非極性溶媒中では安定
な状態で存在せず、より安定な状態になる被撥水処理面
の親水性表面に近づいて親水性表面と反応しやすくなる
と考えられる。親水性溶媒よりも多量に存在する非極性
溶媒は、親水性溶媒が被撥水処理面に吸着するための移
動を妨げ、被撥水処理面には有機ケイ素化合物の加水分
解物が優先して吸着することになる。
【0026】本発明の撥水処理剤を用いて撥水処理を行
う被撥水処理基板は、建築、自動車、車両、航空機ある
いは船舶などの風防ガラス、光学部品レンズその他のガ
ラス製品等の透明物品またはセラミックスなどの不透明
物品の親水性表面などである。撥水処理すべき基材を上
記の撥水処理剤と所定時間、通常は1秒〜3分間接触さ
せることにより、撥水処理剤中の有機ケイ素化合物の加
水分解物が基材表面に吸着する。この接触は例えば撥水
処理剤の中に撥水処理すべき基材を浸漬させることによ
りなされる。この場合、撥水処理剤の浴の必要な容積
は、撥水処理剤中の有機ケイ素化合物の加水分解物の濃
度にも依存するが、撥水処理すべき基材の表面積1m2
あたり500〜20000cm3である。また撥水処理
剤の浴は、浴中の有機ケイ素化合物の加水分解物の濃度
がかなり低下するまで、複数回繰り返して使用すること
ができる。撥水処理剤の浴から基材を引き出し、乾燥
し、必要に応じて更に80〜300℃で1〜10分間加
熱することにより撥水性物品が得られる。ガラス基材な
どに処理する場合、その表面にSiO2膜、SiO2−Zr
O2膜などの金属酸化物薄膜をコーティングしたガラス
基板上に撥水処理することもできる。表面に微細な凹凸
形状を形成したものに処理してもよい。
う被撥水処理基板は、建築、自動車、車両、航空機ある
いは船舶などの風防ガラス、光学部品レンズその他のガ
ラス製品等の透明物品またはセラミックスなどの不透明
物品の親水性表面などである。撥水処理すべき基材を上
記の撥水処理剤と所定時間、通常は1秒〜3分間接触さ
せることにより、撥水処理剤中の有機ケイ素化合物の加
水分解物が基材表面に吸着する。この接触は例えば撥水
処理剤の中に撥水処理すべき基材を浸漬させることによ
りなされる。この場合、撥水処理剤の浴の必要な容積
は、撥水処理剤中の有機ケイ素化合物の加水分解物の濃
度にも依存するが、撥水処理すべき基材の表面積1m2
あたり500〜20000cm3である。また撥水処理
剤の浴は、浴中の有機ケイ素化合物の加水分解物の濃度
がかなり低下するまで、複数回繰り返して使用すること
ができる。撥水処理剤の浴から基材を引き出し、乾燥
し、必要に応じて更に80〜300℃で1〜10分間加
熱することにより撥水性物品が得られる。ガラス基材な
どに処理する場合、その表面にSiO2膜、SiO2−Zr
O2膜などの金属酸化物薄膜をコーティングしたガラス
基板上に撥水処理することもできる。表面に微細な凹凸
形状を形成したものに処理してもよい。
【0027】上記の撥水処理剤浴の浸漬吸着の代わり
に、撥水処理すべき基材表面に撥水処理剤を少量滴下し
て、それを刷毛を用いて基材表面全面にのばし、乾燥し
て撥水処理ガラスを得ることもできる。また基材を水
平、斜め、または鉛直方向に保持して、その表面に撥水
処理剤を流し掛けることもできる。この場合、掛けられ
た撥水処理剤中で消費される有機ケイ素化合物および/
またはその加水分解物はわずかであるので、流れ出た余
剰の撥水処理剤は回収して繰り返し再使用することもで
きる。
に、撥水処理すべき基材表面に撥水処理剤を少量滴下し
て、それを刷毛を用いて基材表面全面にのばし、乾燥し
て撥水処理ガラスを得ることもできる。また基材を水
平、斜め、または鉛直方向に保持して、その表面に撥水
処理剤を流し掛けることもできる。この場合、掛けられ
た撥水処理剤中で消費される有機ケイ素化合物および/
またはその加水分解物はわずかであるので、流れ出た余
剰の撥水処理剤は回収して繰り返し再使用することもで
きる。
【0028】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例によって更
に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。 <評価および試験方法> 1)接触角 :接触角計(協和界面科学(株)製CA−
D)を用い、静滴法により水の接触角を測定した。1サ
ンプルにつき5箇所測定し、平均値を接触角の値とし
た。 2)耐煮沸性:沸騰水中にサンプルを4時間浸漬した
後、水の接触角を測定した。 3)耐摩耗性:新東科学製HEIDON−18を用い
て、ネル布を300g/cm2 の荷重で押しつけ、72
00mm/分の速度で5000往復摩耗した後、水の接
触角を測定した。
に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。 <評価および試験方法> 1)接触角 :接触角計(協和界面科学(株)製CA−
D)を用い、静滴法により水の接触角を測定した。1サ
ンプルにつき5箇所測定し、平均値を接触角の値とし
た。 2)耐煮沸性:沸騰水中にサンプルを4時間浸漬した
後、水の接触角を測定した。 3)耐摩耗性:新東科学製HEIDON−18を用い
て、ネル布を300g/cm2 の荷重で押しつけ、72
00mm/分の速度で5000往復摩耗した後、水の接
触角を測定した。
【0029】実施例1 厚み3mm、150mm×150mmのソーダ石灰珪酸
塩系ガラス(フロート板ガラス)基板表面を酸化セリウ
ム系微粒子を含む研磨剤(HS−3、新日金化学(株)
製)で研磨洗浄し、純水ですすいで風乾し洗浄済みガラ
ス基板を得た。以下の実施例、比較例ではこの洗浄済み
ガラスを用いる。
塩系ガラス(フロート板ガラス)基板表面を酸化セリウ
ム系微粒子を含む研磨剤(HS−3、新日金化学(株)
製)で研磨洗浄し、純水ですすいで風乾し洗浄済みガラ
ス基板を得た。以下の実施例、比較例ではこの洗浄済み
ガラスを用いる。
【0030】ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシ
ラン(化学式CF3(CF2)7CH2CH2Si(OC
H3)3)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解し
た。これに0.1N塩酸0.46gを添加し、20℃で
24時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重
量部を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原
液をシクロヘキサンで重量比で100倍に希釈して撥水
処理剤を調合した。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシ
クロヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)と
の合計に対して99.68重量%含有されている。そし
て撥水処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキ
シシランの加水分解物の濃度は約0.02重量%であっ
た。
ラン(化学式CF3(CF2)7CH2CH2Si(OC
H3)3)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解し
た。これに0.1N塩酸0.46gを添加し、20℃で
24時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重
量部を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原
液をシクロヘキサンで重量比で100倍に希釈して撥水
処理剤を調合した。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシ
クロヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)と
の合計に対して99.68重量%含有されている。そし
て撥水処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキ
シシランの加水分解物の濃度は約0.02重量%であっ
た。
【0031】この撥水処理剤約800cm3 の浴中に、
洗浄済みガラスを浸漬し、約3秒後に引き上げて乾燥
後、さらに100℃,20分の加熱を行い撥水処理ガラ
スを得た。この撥水ガラスは透明性も良く、余分な撥水
剤の付着はほとんど認められなかった。このようにして
得られた撥水処理ガラスの水に対する接触角は104度
であった。またこれらの撥水処理ガラスの耐摩耗性試験
後の接触角は93度を示し、耐久性能にも優れているこ
とが示された。
洗浄済みガラスを浸漬し、約3秒後に引き上げて乾燥
後、さらに100℃,20分の加熱を行い撥水処理ガラ
スを得た。この撥水ガラスは透明性も良く、余分な撥水
剤の付着はほとんど認められなかった。このようにして
得られた撥水処理ガラスの水に対する接触角は104度
であった。またこれらの撥水処理ガラスの耐摩耗性試験
後の接触角は93度を示し、耐久性能にも優れているこ
とが示された。
【0032】実施例2 実施例1で調合した撥水処理剤原液をシクロヘキサンで
それぞれ重量比で30倍、80倍、110倍に希釈し3
種類の撥水処理剤を調合した。非極性溶媒(n−ヘキサ
ンおよびシクロヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタ
ノール)との合計に対して上記希釈度に対応してそれぞ
れ98.95重量%、99.47重量%および99.7
1重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物の
濃度は上記希釈度に対応してそれぞれ約0.07重量
%、0.03重量%および0.02重量%であった。
それぞれ重量比で30倍、80倍、110倍に希釈し3
種類の撥水処理剤を調合した。非極性溶媒(n−ヘキサ
ンおよびシクロヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタ
ノール)との合計に対して上記希釈度に対応してそれぞ
れ98.95重量%、99.47重量%および99.7
1重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物の
濃度は上記希釈度に対応してそれぞれ約0.07重量
%、0.03重量%および0.02重量%であった。
【0033】この3種類の撥水処理剤各約800cm3
の浴中に、それぞれ洗浄済みガラスを浸漬し、約3秒後
に引き上げて撥水処理ガラスを得た。この撥水ガラスは
透明性も良く、余分な撥水剤の付着はほとんど認められ
なかった。
の浴中に、それぞれ洗浄済みガラスを浸漬し、約3秒後
に引き上げて撥水処理ガラスを得た。この撥水ガラスは
透明性も良く、余分な撥水剤の付着はほとんど認められ
なかった。
【0034】このようにして得られた、シクロヘキサン
で30倍、80倍、および110倍に希釈した3種類の
撥水処理剤で処理した撥水ガラスの水に対する接触角は
それぞれ105度、105度、および104度であっ
た。またこれらの撥水処理ガラスの耐摩耗性試験後の接
触角はそれぞれ、95、93、および93度を示し、耐
久性能にも優れていることが示された。
で30倍、80倍、および110倍に希釈した3種類の
撥水処理剤で処理した撥水ガラスの水に対する接触角は
それぞれ105度、105度、および104度であっ
た。またこれらの撥水処理ガラスの耐摩耗性試験後の接
触角はそれぞれ、95、93、および93度を示し、耐
久性能にも優れていることが示された。
【0035】実施例3 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
をt−ブタノール32重量部に溶解した。これに0.1
N塩酸0.46gを添加し、20℃で24時間攪拌し加
水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部を添加し撥水
処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液を四塩化炭素、
トルエン、およびm−キシレンを用いて重量比100倍
に希釈し3種類の撥水処理剤を調合した。非極性溶媒
(n−ヘキサン、四塩化炭素、トルエン、およびm−キ
シレン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計
に対して99.68重量%含有されている。そして撥水
処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラ
ンの加水分解物の濃度は約0.02重量%であった。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
をt−ブタノール32重量部に溶解した。これに0.1
N塩酸0.46gを添加し、20℃で24時間攪拌し加
水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部を添加し撥水
処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液を四塩化炭素、
トルエン、およびm−キシレンを用いて重量比100倍
に希釈し3種類の撥水処理剤を調合した。非極性溶媒
(n−ヘキサン、四塩化炭素、トルエン、およびm−キ
シレン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計
に対して99.68重量%含有されている。そして撥水
処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラ
ンの加水分解物の濃度は約0.02重量%であった。
【0036】150mm×150mmで厚み3mmの洗
浄済みガラスに、上記の3種類の撥水処理剤を5ccず
つ滴下し、刷毛を用いてガラス全面にのばしながら乾燥
させてそれぞれ撥水処理ガラスを得た。これらの撥水処
理ガラスはいずれも透明性も良く、余分な撥水剤の付着
は認められなかった。四塩化炭素、トルエン、およびm
−キシレンを用いて希釈した3種類の撥水処理剤で処理
した撥水ガラスの接触角はそれぞれ103、104、お
よび104度を示した。
浄済みガラスに、上記の3種類の撥水処理剤を5ccず
つ滴下し、刷毛を用いてガラス全面にのばしながら乾燥
させてそれぞれ撥水処理ガラスを得た。これらの撥水処
理ガラスはいずれも透明性も良く、余分な撥水剤の付着
は認められなかった。四塩化炭素、トルエン、およびm
−キシレンを用いて希釈した3種類の撥水処理剤で処理
した撥水ガラスの接触角はそれぞれ103、104、お
よび104度を示した。
【0037】実施例4 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
と末端シラノール変性ジメチルシロキサン(平均分子量
1700)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解
した。0.1N塩酸0.46gを添加し、20℃で24
時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部
を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液を
シクロヘキサンで重量比で100倍に希釈し撥水処理剤
を得た。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサ
ン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対
して99.68重量%含有されている。そして撥水処理
剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランの
加水分解物および末端シラノール変性ジメチルシロキサ
ンの濃度はそれぞれ約0.02重量%であった。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
と末端シラノール変性ジメチルシロキサン(平均分子量
1700)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解
した。0.1N塩酸0.46gを添加し、20℃で24
時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部
を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液を
シクロヘキサンで重量比で100倍に希釈し撥水処理剤
を得た。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサ
ン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対
して99.68重量%含有されている。そして撥水処理
剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランの
加水分解物および末端シラノール変性ジメチルシロキサ
ンの濃度はそれぞれ約0.02重量%であった。
【0038】150mm×150mmで厚み3mmの洗
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、刷毛
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。この撥水処理ガラスは透明性も良く、余
分な撥水剤の付着は認められなかった。この撥水処理ガ
ラスの接触角は104度を示した。
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、刷毛
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。この撥水処理ガラスは透明性も良く、余
分な撥水剤の付着は認められなかった。この撥水処理ガ
ラスの接触角は104度を示した。
【0039】実施例5 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2.73
重量部をt−ブタノール4.66重量部に溶解した。
0.1N塩酸0.68gを添加し、20℃で4日間攪拌
し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部を添加し
撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液を、それぞ
れ重量比1/99、5/95、30/70、および50
/50で混合したt−ブタノール/シクロヘキサン溶液
で重量比で100倍に希釈し4種の撥水処理剤を得た。
非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)はこ
れと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対してそれ
ぞれ98.94重量%、94.98重量%、70.22
重量%および50.4重量%含有されている。そして撥
水処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシ
ランの加水分解物の濃度は0.04重量%であった。こ
れら各撥水処理剤に洗浄済みガラス基板をそれぞれ3秒
間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角はそれぞれ、
105、98、97、および95度であった。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2.73
重量部をt−ブタノール4.66重量部に溶解した。
0.1N塩酸0.68gを添加し、20℃で4日間攪拌
し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部を添加し
撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液を、それぞ
れ重量比1/99、5/95、30/70、および50
/50で混合したt−ブタノール/シクロヘキサン溶液
で重量比で100倍に希釈し4種の撥水処理剤を得た。
非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)はこ
れと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対してそれ
ぞれ98.94重量%、94.98重量%、70.22
重量%および50.4重量%含有されている。そして撥
水処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシ
ランの加水分解物の濃度は0.04重量%であった。こ
れら各撥水処理剤に洗浄済みガラス基板をそれぞれ3秒
間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角はそれぞれ、
105、98、97、および95度であった。
【0040】実施例6 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
と末端シラノール変性ジメチルシロキサン(平均分子量
1700)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解
した。0.1N塩酸0.46gを添加し、20℃で24
時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部
を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液1
gをシクロヘキサン100gで希釈した。さらに9重量
%のp−トルエンスルホン酸のt−ブタノール溶液を
4.7g添加し撥水処理剤を得た。非極性溶媒(n−ヘ
キサンおよびシクロヘキサン)はこれと極性溶媒(t−
ブタノール)との合計に対して95.63重量%含有さ
れている。そして撥水処理剤中のヘプタデカフルオロデ
シルトリメトキシシランの加水分解物および末端シラノ
ール変性ジメチルシロキサンの濃度はそれぞれ約0.0
2重量%であった。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
と末端シラノール変性ジメチルシロキサン(平均分子量
1700)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解
した。0.1N塩酸0.46gを添加し、20℃で24
時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重量部
を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原液1
gをシクロヘキサン100gで希釈した。さらに9重量
%のp−トルエンスルホン酸のt−ブタノール溶液を
4.7g添加し撥水処理剤を得た。非極性溶媒(n−ヘ
キサンおよびシクロヘキサン)はこれと極性溶媒(t−
ブタノール)との合計に対して95.63重量%含有さ
れている。そして撥水処理剤中のヘプタデカフルオロデ
シルトリメトキシシランの加水分解物および末端シラノ
ール変性ジメチルシロキサンの濃度はそれぞれ約0.0
2重量%であった。
【0041】150mm×150mmで厚み3mmの洗
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、綿布
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。この撥水処理ガラスは余分な撥水剤の付
着はわずかに認められたが、エタノールをしみこませた
綿布を用いて容易に取り除くことができた。
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、綿布
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。この撥水処理ガラスは余分な撥水剤の付
着はわずかに認められたが、エタノールをしみこませた
綿布を用いて容易に取り除くことができた。
【0042】この撥水処理ガラスの接触角は105度を
示した。また耐煮沸性試験後、および耐摩耗性試験後の
接触角はそれぞれ90度、および95度を示し、高耐久
性を有することが示された。
示した。また耐煮沸性試験後、および耐摩耗性試験後の
接触角はそれぞれ90度、および95度を示し、高耐久
性を有することが示された。
【0043】実施例7 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
と末端シラノール変性ジメチルシロキサン(平均分子量
1700)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解
した。0.1N塩酸0.46重量部を添加し、20℃で
24時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重
量部を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原
液1gをシクロヘキサン66gで希釈した。さらに0.
6重量%のp−トルエンスルホン酸のt−ブタノール溶
液を33g添加混合し、撥水処理剤を得た。非極性溶媒
(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)はこれと極性溶
媒(t−ブタノール)との合計に対して66.80重量
%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデカフ
ルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物および末
端シラノール変性ジメチルシロキサンの濃度はそれぞれ
約0.02重量%であった。150mm×150mmで
厚み3mmの洗浄済みガラスに、この撥水処理剤を5c
c垂らし、綿布を用いてガラス全面にのばしながら溶媒
を乾燥させ、撥水処理ガラスを得た。この撥水処理ガラ
スは余分な撥水剤の付着はなく、透明であった。この撥
水処理ガラスの接触角は105度を示した。また耐煮沸
性試験後、および耐摩耗性試験後の接触角はそれぞれ9
2度、97度を示し、高耐久性を有することが示され
た。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)2重量部
と末端シラノール変性ジメチルシロキサン(平均分子量
1700)2重量部をt−ブタノール32重量部に溶解
した。0.1N塩酸0.46重量部を添加し、20℃で
24時間攪拌し加水分解し、さらにn−ヘキサン64重
量部を添加し撥水処理剤原液を得た。この撥水処理剤原
液1gをシクロヘキサン66gで希釈した。さらに0.
6重量%のp−トルエンスルホン酸のt−ブタノール溶
液を33g添加混合し、撥水処理剤を得た。非極性溶媒
(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)はこれと極性溶
媒(t−ブタノール)との合計に対して66.80重量
%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデカフ
ルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物および末
端シラノール変性ジメチルシロキサンの濃度はそれぞれ
約0.02重量%であった。150mm×150mmで
厚み3mmの洗浄済みガラスに、この撥水処理剤を5c
c垂らし、綿布を用いてガラス全面にのばしながら溶媒
を乾燥させ、撥水処理ガラスを得た。この撥水処理ガラ
スは余分な撥水剤の付着はなく、透明であった。この撥
水処理ガラスの接触角は105度を示した。また耐煮沸
性試験後、および耐摩耗性試験後の接触角はそれぞれ9
2度、97度を示し、高耐久性を有することが示され
た。
【0044】実施例8 実施例6で調合した撥水剤原液1gをシクロヘキサン1
00gで希釈した。さらに20重量%の酢酸のt−ブタ
ノール溶液を2.0g添加し撥水処理剤を得た。非極性
溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)はこれと極
性溶媒(t−ブタノール)との合計に対して99.29
重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデ
カフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物およ
び末端シラノール変性ジメチルシロキサンの濃度はそれ
ぞれ約0.02重量%であった。
00gで希釈した。さらに20重量%の酢酸のt−ブタ
ノール溶液を2.0g添加し撥水処理剤を得た。非極性
溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)はこれと極
性溶媒(t−ブタノール)との合計に対して99.29
重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデ
カフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物およ
び末端シラノール変性ジメチルシロキサンの濃度はそれ
ぞれ約0.02重量%であった。
【0045】150mm×150mmで厚み3mmの洗
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、綿布
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、綿布
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。
【0046】この撥水処理ガラスは余分な撥水剤の付着
はわずかに認められたが、エタノールをしみこませた綿
布を用いて容易に取り除くことができた。この撥水処理
ガラスは透明性も良く、余分な撥水剤の付着は認められ
なかった。
はわずかに認められたが、エタノールをしみこませた綿
布を用いて容易に取り除くことができた。この撥水処理
ガラスは透明性も良く、余分な撥水剤の付着は認められ
なかった。
【0047】この撥水処理ガラスの接触角は103度を
示した。また耐煮沸性試験後、および耐摩耗性試験後の
接触角はそれぞれ86度、および93度を示し、高耐久
性を有することが示された。
示した。また耐煮沸性試験後、および耐摩耗性試験後の
接触角はそれぞれ86度、および93度を示し、高耐久
性を有することが示された。
【0048】実施例9 テトラエトキシシラン52.10gとイソプロパノール
383.00gを混合し20分間攪拌し、さらに水1
0.58g、1N塩酸を2.70gを加えて2時間攪拌
した。この溶液を密封容器にいれ、50℃で3時間攪拌
したのち、さらに20℃で15時間攪拌した後、コロイ
ダルシリカ(日産化学工業製「スノーテックスOL」、
粒子直径50nm、固形分20重量%)73.70g、
イソプロパノール449.80gを加え、さらに20℃
で5時間攪拌し、凹凸被膜作製用組成物を得た。
383.00gを混合し20分間攪拌し、さらに水1
0.58g、1N塩酸を2.70gを加えて2時間攪拌
した。この溶液を密封容器にいれ、50℃で3時間攪拌
したのち、さらに20℃で15時間攪拌した後、コロイ
ダルシリカ(日産化学工業製「スノーテックスOL」、
粒子直径50nm、固形分20重量%)73.70g、
イソプロパノール449.80gを加え、さらに20℃
で5時間攪拌し、凹凸被膜作製用組成物を得た。
【0049】上記で得られた撥水被膜用組成物中に洗浄
済みの150×150×3mmのフロートガラス板(ソー
ダ石灰珪酸塩ガラス)を浸漬し、引き上げ速度100m
m/分のディップ法により塗膜し、室温下で1時間乾燥
させた。さらに電気炉中で100℃/時間の割合で50
0℃まで昇温し、500℃で1時間保持した後、100
℃/時間の割合で室温まで降温して、厚みが約80nm
の凹凸被膜をガラス基板上に作製した。
済みの150×150×3mmのフロートガラス板(ソー
ダ石灰珪酸塩ガラス)を浸漬し、引き上げ速度100m
m/分のディップ法により塗膜し、室温下で1時間乾燥
させた。さらに電気炉中で100℃/時間の割合で50
0℃まで昇温し、500℃で1時間保持した後、100
℃/時間の割合で室温まで降温して、厚みが約80nm
の凹凸被膜をガラス基板上に作製した。
【0050】この凹凸被膜付きガラス基板を純水中で超
音波を5分間あて乾燥した後、UV/オゾン処理装置
(UV−300型、(株)サムコインターナショナル研
究所製)を用い主波長253.7nm、この波長での照
度15mW/cm2 において3分間照射し、凹凸被膜の
表面を洗浄した後、ただちに実施例1で使用したと同じ
撥水処理剤に浸漬し約10秒後に引き上げ凹凸形状を有
する撥水処理ガラスを作製した。
音波を5分間あて乾燥した後、UV/オゾン処理装置
(UV−300型、(株)サムコインターナショナル研
究所製)を用い主波長253.7nm、この波長での照
度15mW/cm2 において3分間照射し、凹凸被膜の
表面を洗浄した後、ただちに実施例1で使用したと同じ
撥水処理剤に浸漬し約10秒後に引き上げ凹凸形状を有
する撥水処理ガラスを作製した。
【0051】この撥水被膜の水の接触角と摩耗耐久性試
験後の変化を評価した。摩耗耐久性試験は、長さ5cm
に切断した自動車用ワイパーブレードに100gの荷重
をかけ、1分間に20ccの割合で水滴を滴下しなが
ら、撥水被膜表面を50000回往復摩耗した。摩耗試
験前の水の接触角は115.6度、摩耗試験後の水の接
触角は105.3度を示し、ワイパーゴムでの摩耗に対
しても耐久性に優れていることがわかる。
験後の変化を評価した。摩耗耐久性試験は、長さ5cm
に切断した自動車用ワイパーブレードに100gの荷重
をかけ、1分間に20ccの割合で水滴を滴下しなが
ら、撥水被膜表面を50000回往復摩耗した。摩耗試
験前の水の接触角は115.6度、摩耗試験後の水の接
触角は105.3度を示し、ワイパーゴムでの摩耗に対
しても耐久性に優れていることがわかる。
【0052】比較例1 実施例1と同じ方法により作製した撥水処理剤原液を、
実施例1でのシクロヘキサンの代わりにi−プロパノー
ルを用いて100倍に希釈し撥水処理剤を得た。非極性
溶媒(n−ヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタノー
ルおよびi−プロパノール)との合計に対して0.65
重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデ
カフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物の濃
度は約0.02重量%であった。この撥水処理剤に洗浄
済みガラス基板を3秒間浸漬して得られた撥水処理ガラ
ス接触角は50度であった。また上記浸漬時間を長くし
て10分にしたが撥水処理ガラス接触角は70度であっ
た。これより極性溶媒を用いた場合は撥水処理性能は著
しく低下することがわかる。
実施例1でのシクロヘキサンの代わりにi−プロパノー
ルを用いて100倍に希釈し撥水処理剤を得た。非極性
溶媒(n−ヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタノー
ルおよびi−プロパノール)との合計に対して0.65
重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデ
カフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物の濃
度は約0.02重量%であった。この撥水処理剤に洗浄
済みガラス基板を3秒間浸漬して得られた撥水処理ガラ
ス接触角は50度であった。また上記浸漬時間を長くし
て10分にしたが撥水処理ガラス接触角は70度であっ
た。これより極性溶媒を用いた場合は撥水処理性能は著
しく低下することがわかる。
【0053】比較例2 実施例1と同じ方法により作製した撥水処理剤原液を、
実施例1でのシクロヘキサンの代わりにそれぞれt−ブ
タノール、酢酸エチルおよびアセトンを用いて100倍
に希釈し、3種類の撥水処理剤を得た。非極性溶媒(n
−ヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール、酢酸
エチルおよびアセトン)との合計に対してそれぞれ0.
65重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプ
タデカフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物
の濃度は約0.02重量%であった。これらの撥水処理
剤に洗浄済みガラス基板を3秒間浸漬して得られた撥水
処理ガラス接触角はそれぞれ、53、43、58度であ
った。また上記浸漬時間を長くして10分にしたが撥水
処理ガラス接触角はそれぞれ75度,66度および81
度であった。これらの極性溶媒を用いた場合でも撥水処
理性能は著しく低下することがわかる。
実施例1でのシクロヘキサンの代わりにそれぞれt−ブ
タノール、酢酸エチルおよびアセトンを用いて100倍
に希釈し、3種類の撥水処理剤を得た。非極性溶媒(n
−ヘキサン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール、酢酸
エチルおよびアセトン)との合計に対してそれぞれ0.
65重量%含有されている。そして撥水処理剤中のヘプ
タデカフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物
の濃度は約0.02重量%であった。これらの撥水処理
剤に洗浄済みガラス基板を3秒間浸漬して得られた撥水
処理ガラス接触角はそれぞれ、53、43、58度であ
った。また上記浸漬時間を長くして10分にしたが撥水
処理ガラス接触角はそれぞれ75度,66度および81
度であった。これらの極性溶媒を用いた場合でも撥水処
理性能は著しく低下することがわかる。
【0054】比較例3 実施例4と同様の方法で得られた撥水処理剤原液を重量
比で60/40で混合したt−ブタノール/シクロヘキ
サン溶液で重量比で100倍に希釈し撥水処理剤を得
た。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)
はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対して
40.25重量%含有されている。そして撥水処理剤中
のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランの加水
分解物および末端シラノール変性ジメチルシロキサンの
濃度はそれぞれ約0.02重量%であった。
比で60/40で混合したt−ブタノール/シクロヘキ
サン溶液で重量比で100倍に希釈し撥水処理剤を得
た。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサン)
はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対して
40.25重量%含有されている。そして撥水処理剤中
のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランの加水
分解物および末端シラノール変性ジメチルシロキサンの
濃度はそれぞれ約0.02重量%であった。
【0055】この撥水処理剤に洗浄済みガラス基板を3
秒間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角は85度で
あり、実施例5と比較し撥水処理性能が低下したことが
わかる。
秒間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角は85度で
あり、実施例5と比較し撥水処理性能が低下したことが
わかる。
【0056】比較例4 実施例1と同じ方法により作製した撥水処理剤原液をシ
クロヘキサンで重量比で300倍に希釈し撥水処理剤を
得た。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサ
ン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対
して98.89重量%含有されている。そして撥水処理
剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランの
加水分解物の濃度は約0.007重量%であった。
クロヘキサンで重量比で300倍に希釈し撥水処理剤を
得た。非極性溶媒(n−ヘキサンおよびシクロヘキサ
ン)はこれと極性溶媒(t−ブタノール)との合計に対
して98.89重量%含有されている。そして撥水処理
剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシランの
加水分解物の濃度は約0.007重量%であった。
【0057】この撥水処理剤に洗浄済みガラス基板を3
秒間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角は61度で
あった。また上記浸漬時間を長くして10分にしたが撥
水処理ガラス接触角は65度であった。これより撥水処
理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン
の加水分解物の濃度低い場合、撥水処理性能は著しく低
下することがわかる。
秒間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角は61度で
あった。また上記浸漬時間を長くして10分にしたが撥
水処理ガラス接触角は65度であった。これより撥水処
理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン
の加水分解物の濃度低い場合、撥水処理性能は著しく低
下することがわかる。
【0058】比較例5 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)0.2重
量部をt−ブタノール40重量部に溶解した。これに1
N塩酸0.46gを添加し、20℃で24時間攪拌し加
水分解し、さらにn−ヘキサン60重量部を添加し撥水
処理剤を得た。非極性溶媒(n−ヘキサン)はこれと極
性溶媒(t−ブタノール)との合計に対して60重量%
含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデカフル
オロデシルトリメトキシシランの加水分解物の濃度は約
0.2重量%であった。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)0.2重
量部をt−ブタノール40重量部に溶解した。これに1
N塩酸0.46gを添加し、20℃で24時間攪拌し加
水分解し、さらにn−ヘキサン60重量部を添加し撥水
処理剤を得た。非極性溶媒(n−ヘキサン)はこれと極
性溶媒(t−ブタノール)との合計に対して60重量%
含有されている。そして撥水処理剤中のヘプタデカフル
オロデシルトリメトキシシランの加水分解物の濃度は約
0.2重量%であった。
【0059】150mm×150mmで厚み3mmの洗
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、綿布
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。
浄済みガラスに、この撥水処理剤を5cc滴下し、綿布
を用いてガラス全面にのばしながら乾燥させて撥水処理
ガラスを得た。
【0060】この撥水処理ガラスは余分な撥水剤が付着
し透明性が非常に悪くなりエタノールをしみこませた綿
布を用いても完全に取り除くことは困難であった。
し透明性が非常に悪くなりエタノールをしみこませた綿
布を用いても完全に取り除くことは困難であった。
【0061】比較例6 ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン(化学式
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)0.02
重量部、n−ヘキサン100重量部および0.1N塩酸
0.05gを攪拌しながら20℃で6時間加水分解し外
観が白濁した撥水処理剤を得た。全溶媒に対して非極性
溶媒(n−ヘキサン)は100重量%含有されている。
そして撥水処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメ
トキシシランの加水分解物の濃度は約0.02重量%で
あった。
CF3(CF2)7CH2CH2Si(OCH3)3)0.02
重量部、n−ヘキサン100重量部および0.1N塩酸
0.05gを攪拌しながら20℃で6時間加水分解し外
観が白濁した撥水処理剤を得た。全溶媒に対して非極性
溶媒(n−ヘキサン)は100重量%含有されている。
そして撥水処理剤中のヘプタデカフルオロデシルトリメ
トキシシランの加水分解物の濃度は約0.02重量%で
あった。
【0062】この撥水処理剤に洗浄済みガラス基板を3
秒間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角は46度で
あった。また上記浸漬時間を長くして10分にしたが撥
水処理ガラス接触角は54度であった。これより非極性
溶媒中で加水分解を行った場合、撥水処理剤中のヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物が
析出し撥水処理性能は著しく低下することがわかる。
秒間浸漬して得られた撥水処理ガラス接触角は46度で
あった。また上記浸漬時間を長くして10分にしたが撥
水処理ガラス接触角は54度であった。これより非極性
溶媒中で加水分解を行った場合、撥水処理剤中のヘプタ
デカフルオロデシルトリメトキシシランの加水分解物が
析出し撥水処理性能は著しく低下することがわかる。
【0063】
【発明の効果】従来の撥水処理剤は1日以上の接触時間
であっても90度未満の接触角しか示さないが、本発明
の撥水処理剤は、液相吸着、すなわち洗浄済みのガラス
基板のような親水性表面を有する被撥水処理基材を撥水
処理剤とわずか数秒接触させて化学吸着させた後の基材
表面は95〜105度の接触角を示し、作業性、撥水性
共に優れたものとなる。
であっても90度未満の接触角しか示さないが、本発明
の撥水処理剤は、液相吸着、すなわち洗浄済みのガラス
基板のような親水性表面を有する被撥水処理基材を撥水
処理剤とわずか数秒接触させて化学吸着させた後の基材
表面は95〜105度の接触角を示し、作業性、撥水性
共に優れたものとなる。
【0064】本発明により、優れた撥水性、防汚性を与
えることができ、かつ処理時間も短くて済み、撥水処理
の作業性に優れた撥水処理剤を得ることができる。
えることができ、かつ処理時間も短くて済み、撥水処理
の作業性に優れた撥水処理剤を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 弘一 大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本 板硝子株式会社内 (72)発明者 寺西 豊幸 大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本 板硝子株式会社内 (72)発明者 工藤 宗夫 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内 (72)発明者 浅井 光雄 群馬県碓氷郡松井田町大字人見1番地10 信越化学工業株式会社シリコーン電子材料 技術研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】 アルコキシ基またはアシロキシ基とフル
オロアルキル基を有する有機ケイ素化合物および/また
はその加水分解物ならびに有機溶媒を含有する撥水処理
剤において、前記有機ケイ素化合物および/またはその
加水分解物が0.01〜0.1重量%の濃度で含有さ
れ、かつ前記有機溶媒が非極性溶媒を50〜99.95
重量%含有することを特徴とする撥水処理剤。 - 【請求項2】 前記有機ケイ素化合物および/またはそ
の加水分解物がアルコキシ基またはアシロキシ基を有す
るフルオロアルキルシランの加水分解物である請求項1
記載の撥水処理剤。 - 【請求項3】 前記有機溶媒が前記非極性溶媒を95〜
99.90重量%含有する請求項1または2記載の撥水
処理剤。 - 【請求項4】 前記有機ケイ素化合物および/またはそ
の加水分解物が0.02〜0.09重量%の濃度で含有
される請求項1〜3のいずれかに記載の撥水処理剤。 - 【請求項5】 アルコキシ基またはアシロキシ基とフル
オロアルキル基を有する有機ケイ素化合物、触媒および
水を、これらを溶解することができる溶媒中で加水分解
した後に、非極性溶媒を添加することを特徴とする請求
項1〜4のいずれかに記載の撥水処理剤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6950796A JPH09255941A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 撥水処理剤およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6950796A JPH09255941A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 撥水処理剤およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09255941A true JPH09255941A (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=13404734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6950796A Pending JPH09255941A (ja) | 1996-03-26 | 1996-03-26 | 撥水処理剤およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09255941A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1036820A (ja) * | 1996-07-26 | 1998-02-10 | Cci Corp | 撥水処理剤及び撥水処理方法 |
| WO2002098983A1 (en) * | 2001-05-30 | 2002-12-12 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Silicone composition for water-repellent coating |
| WO2006022118A1 (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-02 | Central Glass Company, Limited | 滑水性被膜を得るための処理剤及び滑水性被膜の作製法 |
| JP2009519363A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-14 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 滑らかな無機表面に易洗浄特性を耐摩耗的及び耐候的に施与するための貯蔵安定性のコーティング組成物 |
| JP2009519362A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-14 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 滑らかな無機表面に易洗浄特性を耐摩耗的及び耐候的に施与するための貯蔵安定性のコーティング組成物 |
| JP2020158692A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 日本山村硝子株式会社 | フッ素含有縮合型オルガノポリシロキサンプレポリマーおよびその硬化体 |
| WO2025075203A1 (ja) * | 2023-10-06 | 2025-04-10 | Agc株式会社 | 物品、及び物品の製造方法 |
-
1996
- 1996-03-26 JP JP6950796A patent/JPH09255941A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1036820A (ja) * | 1996-07-26 | 1998-02-10 | Cci Corp | 撥水処理剤及び撥水処理方法 |
| WO2002098983A1 (en) * | 2001-05-30 | 2002-12-12 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | Silicone composition for water-repellent coating |
| WO2006022118A1 (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-02 | Central Glass Company, Limited | 滑水性被膜を得るための処理剤及び滑水性被膜の作製法 |
| KR100894079B1 (ko) * | 2004-08-27 | 2009-04-21 | 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드 | 활수성 피막을 얻기 위한 처리제 및 활수성 피막의 제조방법 |
| JP2009519363A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-14 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 滑らかな無機表面に易洗浄特性を耐摩耗的及び耐候的に施与するための貯蔵安定性のコーティング組成物 |
| JP2009519362A (ja) * | 2005-12-15 | 2009-05-14 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 滑らかな無機表面に易洗浄特性を耐摩耗的及び耐候的に施与するための貯蔵安定性のコーティング組成物 |
| KR101354818B1 (ko) * | 2005-12-15 | 2014-01-22 | 에보니크 데구사 게엠베하 | 내마모성 및 내후성의 세정 용이성을 갖는 무기물의 평활한표면을 제공하기 위한 저장 안정성 코팅 조성물 |
| KR101354874B1 (ko) * | 2005-12-15 | 2014-02-18 | 에보니크 데구사 게엠베하 | 내마모성 및 내후성의 세정 용이성을 갖는 무기물의 평활한표면을 제공하기 위한 저장 안정성 코팅 조성물 |
| EP1960482B1 (en) * | 2005-12-15 | 2019-01-02 | Evonik Degussa GmbH | Storage-stable coating composition for abrasion-resistantly and weathering-stably providing smooth inorganic surfaces with easy-to-clean properties |
| JP2020158692A (ja) * | 2019-03-27 | 2020-10-01 | 日本山村硝子株式会社 | フッ素含有縮合型オルガノポリシロキサンプレポリマーおよびその硬化体 |
| WO2025075203A1 (ja) * | 2023-10-06 | 2025-04-10 | Agc株式会社 | 物品、及び物品の製造方法 |
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